JP2007248202A - 表示用基板の検査に用いるセンサ基板及びこれを用いる表示用基板の検査方法 - Google Patents

表示用基板の検査に用いるセンサ基板及びこれを用いる表示用基板の検査方法 Download PDF

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Abstract

【課題】 入力容量を小さくして、交流信号をスイッチング素子に作用させることを可能にすることにある。
【解決手段】 センサ基板は、可撓性基板と、それぞれが前記画素電極に一対一の形に対向可能に前記可撓性基板の一方の面に形成された薄膜の複数のセンサ電極と、前記可撓性基板に形成された薄膜の複数の検出素子であってそれぞれが前記センサ電極に一対一の形に接続された検出素子とを含む。
【選択図】図7

Description

本発明は、表示用基板、特に画素要素の良否の検査に用いるセンサ基板及びこれを用いて表示用基板、特に画素要素を検査する方法に関する。
液晶表示パネルのガラス基板のような表示用基板は、一般に、それぞれが少なくとも第1,第2及び第3の電極を有する複数のスイッチング素子と、該スイッチング素子に一対一の形に対応されて対応するスイッチング素子の第1の電極に接続された複数の画素電極とを備える。
そのような表示用基板は、それぞれがスイッチング素子と画素電極とを含む画素要素の良否を検査される。そのような検査を行う検査方法の1つとして、特許文献1に記載された技術がある。
特開平7−152353号公報
特許文献1に記載された従来技術は、棒状のプローブを検出素子として用い、そのプローブの端面を画素電極に対向させた状態で、交流信号をスイッチング素子の第2及び第3の電極のいずれか一方に作用させると共に、直流信号をスイッチング素子の第2及び第3の電極の他方に作用させ、そのときプローブに流れる電流を検出し、検出した電流を用いて、各画素要素の良否を判定している。
しかし、上記の従来技術では、スイッチング素子の第2及び第3の電極の一方に交流信号を作用させるにもかかわらず、プローブが長く、プローブの端面(画素電極に対向される面)とプローブに接続された信号検出用の検出素子との間の距離が長くなるから、プローブとアースとの間に生じるいわゆる入力容量(寄生容量)が大きくなりすぎない。その結果、大きな検出信号を得ることができず、画素要素の良否を正確に検査することができない。
本発明は、入力容量を小さくして、交流信号をスイッチング素子に作用させることを可能にすることにある。
本発明に係るセンサ基板は、それぞれが少なくとも第1,第2及び第3の電極を有する複数のスイッチング素子と、該スイッチング素子に一対一の形に対応されて対応するスイッチング素子の第1の電極に接続された複数の画素電極とを備える表示用基板の検査、特にスイッチング素子の検査に用いられる。
そのようなセンサ基板は、可撓性基板と、それぞれが前記画素電極に一対一の形に対向可能に前記可撓性基板の一方の面に形成された薄膜の複数のセンサ電極と、前記可撓性基板に形成された薄膜の複数の検出素子であってそれぞれが前記センサ電極に一対一の形に接続された検出素子とを含む。
前記複数のセンサ電極は少なくとも一列に配置されていてもよい。また、各センサ電極は、円形、矩形及び長円形のいずれかの形状を有することができる。
各スイッチング素子は薄膜トランジスタを含むことができる。
本発明に係る検査方法は、上記のようなセンサ基板を用いて、上記のような表示用基板、特にスイッチング素子の検査する技術に適用される。
そのような検査方法は、前記センサ電極を前記画素電極に対向させる第1のステップと、少なくとも前記センサ電極を前記画素電極に対向させる間に、前記第2及び第3の電極のいずれか一方に交流信号を作用させると共に、前記第2及び第3の他方に電極に直流信号を作用させる第2のステップと、前記交流信号及び直流信号をそれぞれ前記第2及び第3の電極に作用させる間に、前記センサ電極に得られる電気信号を前記検出素子で検出する第3のステップとを含む。
前記交流信号は高周波信号であってもよい。
前記センサ基板は、前記複数のセンサ電極を電気絶縁性基板の一方の面に少なくとも一列に配列しており、前記第1、第2及び第3のステップの少なくとも1つは、前記センサ電極を前記画素電極に対向させた状態で、前記表示用基板と前記センサ基板とを前記センサ電極の配列方向と交差する方向に相対的に移動させることを含むことができる。
前記第2のステップは、矩形波状の前記直流信号を前記複数のスイッチング素子に順次供給すると共に、交流信号を前記複数のスイッチング素子に順次又は連続して供給することを含むことができる。
センサ基板は、センサ電極を画素電極に対向させ、その状態で、第2及び第3の電極のいずれか一方に交流信号を作用させると共に、第2及び第3の電極の他方に直流信号を作用させる。これにより、交流信号が画素電極に発生し、その交流信号がセンサ電極に誘起されるから、センサ電極に得られる電気信号が検出素子で検出される。
本発明によれば、センサ基板が、表示用基板の画素電極に一対一の形に対向可能に形成された可撓性基板の一方の面に薄膜の複数のセンサ電極と、センサ電極に一対一の形に接続された薄膜の複数の検出素子とを備えているから、センサ電極と検出素子の距離が短くなり、交流信号を表示用基板のスイッチング素子に作用させても、センサ電極とアースとの間に生じる入力容量が小さくなる。その結果、検出素子の得られる信号が大きくなるから、画素要素の良否を正確に検査することができる。
[用語について]
以下、図1において、左右方向をX方向又は左右方向(すなわち、表示用基板の搬送方向)といい、紙面に垂直の方向を前後方向又はY方向といい、上下方向を上下方向又はZ方向という。しかし、それらの方向は、検査すべき表示用基板を検査装置に配置する姿勢、すなわち検査装置に配置された表示用基板の姿勢により異なる。
したがって、上記の方向は、実際の検査装置に応じて、X方向及びY方向が、水平面、水平面に対し傾斜する傾斜面、及び水平面に垂直の垂直面のいずれかの面内となるように決定してもよいし、それらの面の組み合わせとなるように決定してもよい。
図1から図3を参照するに、検査装置10は、液晶表示パネルに用いられるガラス基板のような矩形の表示用基板12の通電試験に用いられる。
[表示用基板の説明]
表示用基板12は、それぞれが液晶表示パネルに分割される複数の表示用基板領域を一方の面に備える複数個取りのガラス基板である。各表示用基板領域は、図9に示すように、それぞれが矩形をした画素電極14とこの画素電極14に接続されたスイッチング素子16とを備える多数の画素領域(すなわち、セル領域)をマトリクス状に有している。
各画素電極14は、表示用基板12と平行の薄膜状をした電極であり、また図9に示す例では、対応する画素領域とほぼ同じ大きさを有する矩形の平面形状を有している。
各スイッチング素子16は、図9に示す例では、ソース電極、ドレイン電極及びゲート電極を有する電界効果型の薄膜トランジスタであり、またソース電極及びドレイン電極のいずれか一方が対応する画素電極14に接続されている。
X方向に整列するスイッチング素子16のゲート電極は共通のゲート配線18に接続されており、Y方向に整列するスイッチング素子16のソース電極及びドレイン電極の他方は共通の配線20に接続されている。
以下、説明を容易にするために、ドレイン電極が画素電極14に接続され、ソース電極が配線20に接続されているものとする。したがって、配線20は、ソース配線として作用する。
図5及び図9に示すように、表示用基板12に形成された全てのゲート配線18及び全てのソース配線20は、それぞれ、第1及び第2の端子22及び24に共通に接続されている。図5及び図9は、理解を容易にするために、多くのゲート配線18及びソース配線20を省略して示している。
第1及び第2の端子22及び24は、検査のための又は表示用基板12の静電気を除去するためのショートリングであり、最終的には各表示用基板領域から切り離される。
[検査装置の説明]
図1から図7を参照するに、検査装置10は、当該検査装置の各種の機械装置を支持する支持台として作用するフレーム30と、表示用基板12を左右方向に搬送する搬送装置32と、表示用基板12からの電気信号を検出する検出ヘッドすなわちセンサ基板34と、表示用基板12の受け渡しをする一対の受け渡し装置36と、一方の受け渡し装置36に受けた表示用パネル12のセンターリングを行うセンターリング装置38とを含む。
フレーム30は、センサ基板34からの電気信号を基に、画素要素の良否、不良画素要素を含む画素(不良画素)の位置(座標位置)、その不良画素を含む表示用基板領域の位置(座標位置)等を確認して記憶するテスタ部40と、検査装置10に備えられた各種の機械装置を制御する制御部42とを収納している。テスタ部40と制御部42とは電気的に接続されている。
搬送装置32は、上下方向(Z方向)に間隔をおいて左右方向(X方向)へ平行に伸びる一対の第1の搬送部材44と、上下方向に間隔をおいて左右方向へ平行に伸びる一対の第2の搬送部材46とを含む。第1及び第2の搬送部材44及び46は、それぞれ、第1及び第2の基板搬送路を形成する。
第1及び第2の搬送部材44及び46のそれぞれは、空気の噴射及び吸引により平板状部材を所定の高さ位置に、維持する又は維持しつつ搬送する周知の装置である。そのような搬送部材は、プレッシャー・バキューム・プレート(PVプレート)のような商品名で市販されている。
第1の搬送部材44は、空気を表示用基板12に向けて噴射すると共に表示用基板12の搬送空間の空気を吸引することにより表示用基板12をセンサ基板34から下方に離間した第1の搬送位置に維持しつつ搬送するように、搬送装置32による表示用基板12の搬送方向における上流側に配置されている。
第2の搬送部材46は、空気を表示用基板12に向けて噴射すると共に表示用基板12の搬送空間の空気を吸引することにより表示用基板12をセンサ基板34から下方にわずかに離間した第2の搬送位置に維持しつつ搬送するように、表示用基板12の搬送方向における下流側に配置されている。
第1の搬送位置は、搬送される表示用基板12がセンサ基板34から大きく離間されて、表示用基板12がセンサ基板34の下面と平行に搬送される位置である。センサ基板34の下面と第1の搬送位置との間隔は、センサ基板34から第2の搬送位置までの寸法に、後に説明するフラットケーブル84の厚さ寸法に50μmを加えた値以上の寸法、例えば100μm以上とすることができる。
第2の搬送位置は、第1の搬送位置よりセンサ基板34に近い位置であって表示用基板12がセンサ基板34の下面と平行に搬送される位置である。センサ基板34の下面と第2の搬送位置との間隔は、表示用基板12がセンサ基板34から50μm程度離間される位置とすることができる。
表示用基板12を第1の搬送位置から第2の搬送位置に搬送する搬送路は、表示用基板12自体が湾曲される湾曲搬送路として作用する。
上記のように表示用基板12を第1又は第2の搬送位置に維持しつつ搬送するには、例えば空気の噴射量及び吸引量を上下の搬送部材で異なるようにすればよい。
上側の第1の搬送部材44の下流端部の下面と、下側の第2の搬送部材46の上流端部の上面とは、対向されている。また、上側の第1及び第2の搬送部材44及び46は、センサ基板34が両者の間に位置するように、左右方向に間隔をおいている。
上記の結果、表示用基板12は、これが第1の搬送部材44による第1の基板搬送路から第2の搬送部材46による第2の基板搬送路に移行するとき、図4に示すように、第1の搬送位置から第2の搬送位置に、すなわちセンサ基板34から大きく離れた位置からセンサ基板34に接近した位置に湾曲される。
下側の第1及び第2の搬送部材44及び46は、表示用基板12の搬送方向へ伸びるようにフレーム30の上に取り付けられたベース板48に取り付けられている。これに対し、上側の第1及び第2の搬送部材44及び46は、フレーム30の上に取り付けられた門型の組み付け装置50に取り付けられている。
組み付け装置50は、センサ基板34を間にして前後方向に間隔をおいて左右方向に伸びる一対の支持部材52と両支持部材52を連結する複数の連結部材54と、それら連結部材54に個々に結合された複数の結合部材56とを備えている。
図示の例では、連結部材54は5つ設けられており、結合部材56は3つ設けている。上側の第1及び第2の搬送部材44及び46のそれぞれは、結合部材56に取り付けられている。残りの結合部材56には、センサ基板34が取り付けられている。
搬送装置32は、また、表示用基板12をこれの側縁部に当接して共同して把持する一対のホルダ機構と、これらホルダ機構に個々に対応されて、対応するホルダ機構を左右方向に同期して移動させる一対のホルダ移動機構と含む。
ホルダ機構及びホルダ移動機構からなる2組の機構は、表示用基板12の搬送路を間にして前後方向に間隔をおいており、またフレーム30の上に配置されている。これらホルダ機構及びホルダ移動機構は、第1及び第2の搬送部材44及び46による表示用基板12の搬送を補助する搬送補助装置58を構成している。
図2及び図3並びに図5及び図6に示すように、各ホルダ機構は、表示用基板12の搬送路の外側を左右方向に伸びる支持部材60と、表示用基板12の前後方向における側縁部に当接可能に支持部材60に左右方向に間隔をおいて支持された複数の基板ホルダ62と、基板ホルダ62を表示用基板12の側縁部の移動路に対し出入りさせるように支持部材60を前後方向に移動させるアクチュエータ64とを含む。
一方のホルダ機構の各基板ホルダ62は、他方のホルダ機構の基板ホルダ62の1つと前後方向に対向されて、他方のホルダ機構の基板ホルダ62の1つと共に前後方向に対向する基板ホルダの組又は対を形成している。
各基板ホルダ60は、これを上下方向に移動させる上下移動機構66により支持部材66に取り付けられている。図示の例では、上下移動機構66は、上下方向へ伸びる状態に支持部材60に取り付けられたリニアレール66aと、リニアレール66aに上下動可能に結合された可動体66bとを備えるリニアモータである。
各基板ホルダ60は、リニアモータの可動体66bに取り付けられている。各基板ホルダ60の最下端位置は、リニアモータのリニアガイド66aに取り付けられたストッパ68(図6参照)により制限される。各基板ホルダ60は、前後方向への移動にともなって表示用基板12の側縁部を受け入れる横V字状の凹所70(図6参照)を有している。
アクチュエータ64は、図示の例では、前後方向に伸縮する空気圧式又は油圧式のシリンダ機構である。アクチュエータ64は、そのシリンダ本体においてホルダ移動機構に支持されており、またピストンロッドにおいて支持部材60に結合されている。
各ホルダ機構は、また、支持部材60から表示用基板の側縁部と反対側に伸びる複数のロッド72と、このロッド72が前後方向に移動可能に貫通するブッシュ74とを含む。各ホルダ機構は、ブッシュ74においてホルダ移動機構に支持されて、そのホルダ移動機構により左右方向に移動される。
ホルダ移動機構は、表示用基板12の搬送路を間にして前後方向に間隔をおいた一対のアクチュエータ76を備える。アクチュエータ76は、図示の例では、左右方向へ伸びる状態にフレーム30に取り付けられたリニアレール(すなわち、固定子)76aと、リニアレール76aに左右方向に移動可能に結合されたリニアガイド(すなわち、可動子)76bとを備えるリニアモータである。アクチュエータ64及びブッシュ74は、リニアガイド76bに支持されている。
搬送補助装置58は、図1において左端部の待機位置で待機する。この待機位置において、基板ホルダ62は表示用基板12の搬送路から離間されている。
上記待機位置において、搬送補助装置58は、アクチュエータ64により支持部材60を表示用基板12に向けて移動させる。これにより、基板ホルダ62は、表示用基板12の搬送路に向けて移動されて、受け渡し装置36上の表示用基板12を把持し、その表示用基板12を受ける。
表示用基板12を受けると、搬送補助装置58は、表示用基板12を基板ホルダ62で把持した状態で、アクチュエータ76により図1において左方から右方へ移動され、それにより表示用基板12を図1において右端部に搬送する。この位置において、基板ホルダ62は、表示用基板12の搬送路の外に移動されて、表示用基板12を解放する。
搬送補助装置58による表示用基板12の把持及びその解除は、両ホルダ機構の対向する基板ホルダ62の組を表示用基板12の側縁部の移動路に対し出入りさせるように相寄り合い離れる方向へ移動させることにより、行われる。これにより、基板ホルダ62による表示用基板の把持及びその解除が確実に行われる。
表示用基板12の搬送終了後、補助搬送装置58は待機位置に戻される。
表示用基板12の搬送途中において、各基板ホルダ62は、これが第1の搬送部材44による基板搬送路から第2の搬送部材46による基板搬送路に移行するとき、第1の搬送位置から第2の搬送位置への表示用基板12の湾曲に応じて、上下動機構66により上昇される。これにより、表示用基板12は確実に湾曲される。
図7に示すように、センサ基板34は、複数のセンサ回路78と各センサ回路78から伸びる複数の配線80とをガラス基板や樹脂基板のような電気絶縁性の可撓性基板82の下面に形成しており、またそれらの配線80をフレキシブルチューブのように可撓性を有する複数のフラットケーブル84の配線86に接続している。図7は、理解を容易にするために、多くのセンサ回路78並びに多くの配線80及び86を省略している。
それらのセンサ回路78は、表示用基板12の画素電極14のうち、Y方向にジグザグ状に整列された複数の画素電極に一対一の形で対応するようにY方向に2列に、及び可撓性基板82の下面の下流側に形成されている。
図8に示すように、各センサ回路78は、電界効果型のトランジスタ88と、トランジスタ88のゲート電極に接続された平板状の検出電極すなわちセンサ電極90と、トランジスタ88の出力端子(ソース電極及びドレイン電極のいずれか一方)に接続された増幅器91と、増幅器91の出力端子に接続された出力ダイオード92と、トランジスタ88の出力端子に配置された負荷抵抗器93とを備える。
各トランジスタ88の各電極は、配線80の1つ及びフラットケーブル84の配線86の1つを介して電源回路(図示せず)に接続される。出力ダイオード92の出力端子は、配線80の他の1つ及びフラットケーブル84の配線86の他の1つを介して図1に示すテスタ部40に接続される。
図1に示すテスタ部40は、表示用基板12の各スイッチング素子16、各センサ回路78、各センサ回路78による検出信号の読み込み、検出信号の処理、画素要素の良否の判定、検査装置10に備えられた各種の回路等の制御をする。
トランジスタ88のソース電極及びドレイン電極のいずれか一方(出力端子)には、直流電圧Vccが負荷抵抗器93を介して印加される。これに対し、ソース電極及びドレイン電極の他方は、残りの配線80により他のトランジスタ88の対応する電極と共通にアースに接続される。寄生容量としての入力容量95は、トランジスタ88のゲート電極とアースとの間に形成される。
トランジスタ88、センサ電極90、増幅器91、出力ダイオード92及び負荷抵抗器93は、それぞれ、可撓性基板82の下面に設けられた半導体の薄膜に形成された薄膜トランジスタ、薄膜電極、薄膜の抵抗器、薄膜ダイオード及び薄膜の抵抗器であり、またセンサ電極90がこれに対応する画素電極16と対向するように、半導体集積回路の製造技術により製作することができる。
トランジスタ88は、信号検出用及びインピーダンス変換用のトランジスタとして作用する。各センサ回路78は、また、バイアス抵抗及び接続用配線等を備えていてもよい。
図4に示すように、各フラットケーブル84は、その一端部において可撓性基板82の下面の最上流側の端部に固着されており、また他端部をセンサ基板34とこれの上流側に位置する上側の搬送部材44との間を介してセンサ基板34の上方に引き出されている。各フラットケーブル84の他端部は、図1に示すテスタ部40に接続される。
図8に示すように、表示用基板12のスイッチング素子16のゲート電極には、ゲートパルス発生器94で発生された直流のゲートパルス(すなわちスキャンニングパルス)が供給される。表示用基板12のスイッチング素子16のドレイン電極には、高周波発生器96で発生された交流信号が供給される。
上記のようなセンサ基板34は、センサ電極90がY方向にジグザグの配列となるように、結合部材56に取り付けられている。
一方の受け渡し装置36とセンターリング装置38とは、搬送装置32による基板搬送路の最上流側に配置されており、他方の受け渡し装置36は、搬送装置32による基板搬送路の最下流側に配置されている。
各受け渡し装置36は、搬送装置32及び搬送用ロボット(図示せず)に対する表示用基板12の受け渡しをするように、複数の昇降ピン98を昇降機構(図示せず)により昇降させて、表示用基板12を昇降させる公知の装置である。
各受け渡し装置36は、昇降ピン98を下降させた状態で待機し、昇降ピン98を上昇させることにより、ロボット、作業者又は搬送装置32から表示用基板12を受け、昇降ピン98を下降させることにより表示用基板12を搬送装置32、ロボット又は作業者に渡す。
センターリング装置38は、複数のセンターリングピン100を移動機構(図示せず)により、一方の受け渡し装置36に受けられた表示用基板12の中心に向けて移動させ、それにより表示用基板12のセンターリングをする公知の装置である。このセンターリング装置38により表示用基板12はプリアライメントをされる。
センターリング装置38は、受け渡し装置36が表示用基板12の受け渡しをするとき、センターリングピン100を広げ(待機し)ており、表示用基板12のセンターリングをするとき、センターリングピン100を中心側に移動させる。
図5及び図6に示すように、検査装置10は、さらに、支持部材60に支持されたプローブ装置102を含む。
プローブ装置102は、プローブアーム104を、支持部材60に取り付けられたブラケット106及びこのブラケット106に回転可能に支持された回動軸108により支持部材60に左右方向(又は、前後方向)に伸びる軸線の周りに回転可能に取り付け、表示用基板12の第1の端子22に当接可能の第1のプローブ110と表示用基板12の第2の端子24に当接可能の第2のプローブ112とをプローブアーム104の先端部に取り付け、プローブアーム104をアクチュエータ114及び連結片116により回転させる。
プローブアーム104は、これの他端部において回動軸108に取り付けられており、またブラケット106、回動軸108、アクチュエータ114及び連結片116と共に、第1及び第2のプローブ110及び112をそれぞれ第1及び第2の端子22及び24に対し変位させるプローブ変位機構を形成している。
第1及び第2のプローブ110及び112は、ポゴピンであり、またプローブアーム104に設けられた接続基板118に電気的に接続されている。接続基板118は、図示しないケーブルにより、図1に示すテスタ部40に電気的に接続される。
アクチュエータ114は、図示の例では、油圧式又は空気圧式のシリンダ機構であり、ピストンロッドが上下動するようにシリンダ本体において支持部材60に取り付けられている。
連結片116は、回動軸108に相対的移動不能に取り付けられていると共に、アクチュエータ114のピストンロッドに連結ピン120により連結されている。
プローブ装置102は、プローブ110及び112を図6に点線で示すように上昇させた状態で待機しており、表示用基板12を搬送装置32により搬送するとき、回動軸108がアクチュエータ114及び連結片116により回動されて、プローブ110及び112をそれぞれ端子22及び24に接触させる。
プローブ110及び112がそれぞれ端子22及び24に接触された状態で、プローブ110及び112のそれぞれに所定の電気信号が供給される。これにより、表示用基板12の各スイッチング素子16に所定の電気信号が供給されて、対応する画素電極14のような画素要素の情報、すなわち画素要素情報を含む電気信号が生じる。
上記のように画素要素情報を含む電気信号は、画素電極14がセンサヘッド78のセンサ電極90と対向することにより、センサ回路78に検出されて、センサ部40において対応する画素の正否を判定することに用いられる。
センサ基板34のトランジスタ88のオン・オフ制御、表示用基板12のスイッチング素子16のオン・オフ制御、並びにプローブ110及び112への通電制御は、テスタ部40により行われる。これに対し、搬送装置32、受け渡し装置36、センターリング装置38及びプローブ装置102の駆動制御は、制御部42により行われる。
テスタ部40及び制御部42は、CPUを用いたコンピュータを備えており、また割り当てられた機械装置や電気回路を互いに関連づけて相互に同期して制御する。
検査装置10は、以下のように作動する。
各基板ホルダ62及びプローブ110,112は、表示用基板12の受け渡し及びセンターリングを妨げない位置に退避されている。
上記状態において、示用基板12が、ロボット又は人手により、図1における左端部に配置された受け渡し装置36の上方に搬送される。この状態で、その受け渡し装置36が、昇降ピン98を上昇させて、基板12を昇降ピン98に受ける。
次いで、センターリング装置38が、センターリングピン100を相寄る方向に移動させて表示用基板12のセンターリングをした後、センターリングピン100を相離れる方向に移動させた状態で待機する。
次いで、搬送装置32が補助搬送装置58の表示用基板12に向けて移動させて、その表示用基板12を基板ホルダ62で把持する。このときまでに、基板ホルダ62は、所定の高さ位置、例えばストッパ68に当接する位置に移動されている。
基板ホルダ62が表示用基板12に向けて移動されると同時に又はその後、プローブ110及び112がアクチュエータ114により、それぞれ、図6に示す実線のように変位されて、第1及び第2の端子22及び24に押圧される。そのようなプローブ110及び112の状態は、表示用基板12の搬送が終了するまで、維持される。
上記の結果、表示用基板12を連続して搬送させつつ、第1及び第2のプローブ110及び112を介してスイッチング素子16に電気信号を作用させることができる。
次いで、搬送装置32が、上記状態で表示用基板12を搬送補助装置58により図1において左方から右方へ搬送する。
表示用基板12は、補助搬送装置58による搬送途中から、第1の搬送部材44によっても搬送される。これにより、表示用基板12は、センサ基板34から大きく離間した第1の搬送位置に維持された状態で搬送される。
次いで、表示用基板12による表示用基板12の搬送は、補助搬送装置58及び第1の搬送部材44による搬送から、補助搬送装置58並びに第1及び第2の搬送部材44及び46による搬送を経て、補助搬送装置58及び第2の搬送部材46による搬送に移行される。
これにより、表示用基板12は、既に述べた湾曲搬送路において湾曲されつつ、補助搬送装置58及び第2の搬送部材46によりセンサ基板34に接近された第2の搬送位置に維持された状態で搬送される。
上記湾曲搬送路は、左右方向におけるセンサ基板34の配置位置に対応する領域の少なくとも一部を含む箇所であってセンサ回路78の配置位置より上流側の箇所に形成されているから、フラットケーブル84がセンサ回路78の配置位置より上流側のセンサ基板34の箇所に接続されていることと相まって、表示用基板12は、これがフラットケーブル84に接触することなく、湾曲搬送路及びそれ以降の搬送路を搬送される。
各基板ホルダ62は、これが上記湾曲搬送路を移動するとき、表示用基板12の湾曲変形に追従するように、上下動機構66により上昇される。これにより、表示用基板12は、湾曲搬送路において確実に湾曲される。
基板ホルダ62と同様に、プローブ110及び112を、これらが上記湾曲搬送路を移動するとき、表示用基板12の湾曲変形に追従するように、リニアモータのようなアクチュエータを用いて、上昇させてもよい。表示用基板12は、湾曲搬送路においてより確実に湾曲される。
第2の搬送位置は、表示用基板12をセンサ回路78と平行に搬送する平行搬送路を形成している。この平行搬送路は、表示用基板12の画素電極14がセンサ回路78特にそのセンサ電極90の下方に達する位置より前の位置から形成される。
平行搬送路が上記の位置に形成されるため、表示用基板12の各画素電極14は、これがセンサ基板34のセンサ電極90の下方に達する前に、センサ回路78特にそのセンサ電極90と平行に変位されて、その状態でセンサ電極90の下方を移動される。これにより、表示用基板12の各画素電極14は、これがセンサ基板34のセンサ電極90の下方を移動するとき、センサ回路78のセンサ画素90に正確に対向する。
スイッチング素子16のソース電極には、表示用基板12がセンサ基板78の下方を移動されている間、高周波信号が連続して供給される。しかし、スイッチング素子16のゲート電極には、画素電極14がセンサ電極90と対向しているとき、直流のゲートパルスが供給される。
これにより、高周波信号がセンサ電極14に作用し、その高周波信号がセンサ電極に誘起されてセンサ回路78により検出される。センサ回路78による高周波信号の検出は、トランジスタ88をセンサ電極90に作用する高周波信号によりオン・オフさせ、出力信号を増幅器で増幅してダイオード92で整流することにより行われる。
上記のような薄膜のセンサ回路78によれば、特許文献1の技術に比べ、トランジスタ88とセンサ電極90との距離が著しく短くなるから、入力容量95の値が著しく小さくなる。その結果、トランジスタ88に流れる電流(検出電流)に比べ、入力容量に流れる電流が小さく、検出感度が高くなる。また、画素電極114とセンサ電極90との間隔を大きくしても、大きい検出電流を得ることができる。
センサ回路78による検出信号は、画素電極14、スイッチング素子16、それらを接続する配線等の画素要素の断線、短絡等の故障原因を表す画素要素情報を含む。センサ回路78による検出信号は、センサ部40において対応する画素要素の正否の判定に用いられる。
次いで、表示用基板12が図1において右端部に配置された受け渡し装置36の上方に搬送されると、搬送装置32による搬送が停止され、プローブ装置102が待機状態に戻され、その受け渡し装置36が昇降ピン98を上昇させて搬送された表示用基板12を受け取る。
その後、搬送装置32及びプローブ装置102は、それぞれ、待機位置及び待機状態に戻される。受け渡し装置36に受けられた表示用基板12は、その後、ロボット又は人手により、その受け渡し装置36から取り去られる。
搬送装置32により表示用基板12を搬送する間、基板ホルダ62の各組は、表示用基板12をこれの側縁部に当接して共同して把持する。これにより、少なくともセンサ基板34の配置位置に対応する箇所において、表示用基板12の移動位置が変化することや、表示用基板12の側縁部が中央領域に対し変位することが防止される。
図示の例では、センサ電極90がY方向にジグザグに配置されているから、最初は、X方向に間隔をおいた画素電極14の列のうち、Y方向において最初の列の奇数番目の画素電極14を含む画素要素の同時検査が行われる。
その後は、X方向における画素電極14の列番号をnとしたとき、(1)n列の奇数番目の画素電極14を含む画素要素と、n+1列の偶数番目の画素電極14を含む画素要素との同時検査、(2)n+1列の奇数番目の画素電極14を含む画素要素と、n列の偶数番目の画素電極14を含む画素要素との同時検査が交互に行われる。
上記検査装置10において、第1及び第2の搬送部材44及び46は表示用基板12を所定の高さ位置に維持した状態でその表示用基板12を搬送し、前後方向に対向する基板ホルダ62は表示用基板12を把持した状態でその表示用基板12を搬送する。
しかし、第1及び第2の搬送部材44,46は、表示用基板12を所定の高さ位置に維持する機能を備えるのみで、その表示用基板12に搬送力を付与する機能を備えていなくてもよい。この場合、表示用基板12への搬送力は、基板ホルダ62により付与される。
したがって、第1及び第2の搬送部材44及び58と補助搬送装置58とを用いる搬送装置32の代わりに、第1、第2の搬送部材44,46及び補助搬送装置58のいずれか一方を用いる搬送装置のように、他の構造及び機能を有する搬送装置であってもよい。
例えば、表示用基板12を、第1及び第2の搬送部材44及び46により所定の高さ位置に維持する代わりに、複数のローラ、1以上の無端ベルト等を用いた維持手段又は搬送手段により所定の高さ位置に維持してもよい。
表示用基板12が湾曲搬送路を経ることに起因する基板ホルダ62の高さ位置を、アクチュエータ66により強制的に変化させる代わりに、第1及び第2のプローブ110及び112の弾性変形により吸収させてもよい。この場合、リニアレール66aとリニアガイド66bとを備えるアクチュエータ66を用いる代わりに、ガイドレールとそれに移動可能に組み合わされたガイドとを備える上下動機構を用いてもよい。
[検査方法の説明]
既に述べたように、表示用基板12がセンサ電極90を画素電極14に対向するようにX方向へ連続的に搬送されつつ、高周波信号がスイッチング素子16のソース電極に作用された状態で、画素電極14がセンサ電極に対向されているとき、ゲートパルスがスイッチング素子14のゲート電極に作用されると共に、センサ電極に得られる電気信号がトランジスタ88で検出される。
各画素要素の良否の判定は、センサ回路78による検出信号をテスタ部40に読み取り、検査部40においてスイッチング素子16のゲート電極へのゲートパルスの供給時及びその前後にセンサ回路78による検出信号の有無をセンサ部40において判定することにより、行われる。
具体的には、画素要素が正常であると、センサ回路78による検出信号は、図10(A)に示す高周波信号がスイッチング素子16のソース電極に供給されている状態において、図10(C)に示すように、図10(B)に示すゲートパルスがスイッチング素子16のゲート電極に要求されたときのみに存在する。センサ部40は、そのような場合にのみ「その画素要素は正常である」旨判定する。
しかし、画素要素が断線していると、センサ回路78による検出信号は、図10(A)に示す高周波信号がスイッチング素子16のソース電極に供給されている状態において、図10(D)に示すように、図10(B)に示すゲートパルスがスイッチング素子16のゲート電極に要求されたときに存在しないのみならず、その前後にも存在しない。センサ部40は、そのような場合に「その画素要素は断線している」旨判定する。
また、画素要素が短絡していると、センサ回路78による検出信号は、図10(A)に示す高周波信号がスイッチング素子16のソース電極に供給されている状態において、図10(E)に示すように、図10(B)に示すゲートパルスがスイッチング素子16のゲート電極に要求されたときのみに存在するのみならず、その前後にも存在する。センサ部40は、そのような場合に「その画素要素は短絡している」旨判定する。
センサ部40における上記のような判定を、図11を参照して説明する。
先ず、センサ部40は、センサ電極16が対応するセンサ電極90に対向されている画素要素のスイッチング素子16のソース電極への高周波信号の印加を開始する(ステップ201)。
次いで、センサ部40は、その画素要素のスイッチング素子16のソゲート電極にゲートパルスを供給して、そのスイッチング素子16をオンにし(ステップ202)、その画素要素に対応するセンサ回路78が検出信号を出力しているか否かを判定する(ステップ203)。
ステップ203における判定の結果、センサ回路78が検出信号を出力している(YES)と、センサ部40は、そのスイッチング素子16のゲート電極へのゲートパルスの供給を停止し(ステップ204)、その画素要素に対応するセンサ回路78が検出信号を出力しているか否かを判定する(ステップ205)。
ステップ203における判定の結果、センサ回路78が検出信号を出力していない(NO)と、センサ部40は、「その画素要素正常である」と判定して、その旨をその座標位置と共に内部メモリ記憶した後(ステップ206)、試験が終了しているか否かを判定する(ステップ207)。
ステップ207における判定の結果、試験が終了していない(YES)と、制御部40は、次の画素要素の良否の判定のためにステップ202に戻る。
ステップ203における判定の結果、センサ回路78が検出信号を出力していないと(NO)と、制御部40は、「その画素要素は断線している」と判定して、その旨をその座標位置と共に内部メモリ記憶した後(ステップ208)、ステップ207に戻る。
ステップ205における判定の結果、センサ回路78が検出信号を出力していると(YES)と、制御部40は、「その画素要素は短絡している」と判定して、その旨をその座標位置と共に内部メモリ記憶した後(ステップ209)、ステップ207に戻る。
ステップ207における判定の結果、試験が終了している(YES)と、センサ部40は動作を終了する。
上記のように、表示用基板12の画素電極に一対一の形に対向可能に形成された可撓性基板82の一方の面に薄膜の複数のセンサ電極90と、センサ電極14に一対一の形に接続された薄膜の複数のトランジスタ88とを備えたセンサ基板34を用いると、高周波信号を表示用基板12のスイッチング素子16に作用させても、センサ電極14とアースとの間に生じる入力容量が小さくなる。その結果、画素要素の良否を正確に検査することができる。
上記のように交流信号を表示用基板12のスイッチング素子16に作用させることが可能であると、センサ基板34を画素要素検査用のものから給電路検査用のものに、又はその逆に交換することにより、スイッチング素子16に交流信号を作用させて、各画素要素の検査装置の各種の機構及び各種の回路と、スイッチング素子への給電路に交流信号を作用させて、各給電路(すなわち、配線)を検査する検査装置の各種の機構及び各種の回路とを共用にすることができる。
本発明は、上記実施例に限定されず、その趣旨を逸脱しない限り、種々に変更することができる。
本発明に係る検査装置の一実施例を示す正面図である。 図1に示す検査装置の平面図であってセンサ基板及び搬送装置の一部並びにそれらを支持する部材の一部を省略した平面図である。 図1に示す検査装置の右側面図である。 搬送装置及びセンサヘッドの関係を示す拡大正面図である。 ホルダ機構及びホルダ搬送機構並びにプローブ装置の一実施例を拡大して示す平面図である。 図5における6-6線に沿って得た断面図である。 センサ基板の一実施例を示す底面図である。 センサ回路の一実施例を示す図である。 表示用基板の一部を拡大して示す図である。 検査方法を説明するための信号は径を示す図である。 検査方法を説明するための流れ図である。
符号の説明
10 検査装置
12 表示用基板
14 画素電極
16 スイッチング素子
18 ゲート配線
20 ソース配線
22,24 第1及び第2の端子
30 フレーム
32 搬送装置
34 センサ基板
36 受け渡し装置
38 センターリング装置
44,46 第1及び第2の搬送部材
48 ベース板
50 組み付け装置
58 搬送補助装置
60 支持部材
62 基板ホルダ
64,76 アクチュエータ
66 上下移動機構
68 ストッパ
70 凹所
72 ロッド
74 ブッシュ
78 センサ回路
80,86 配線
82 センサ基板
84 フラットケーブル
88 トランジスタ
90 センサ電極
91 増幅器
92 出力ダイオード
93 負荷抵抗器
94 ゲートパルス発生器
95 入力容量
96 高周波発生器
98 昇降ピン
100 センターリングピン
102 プローブ装置
104 プローブアーム
106 ブラケット
108 回動軸
110,112 第1及び第2のプローブ
116 連結片

Claims (8)

  1. それぞれが少なくとも第1,第2及び第3の電極を有する複数のスイッチング素子と、該スイッチング素子に一対一の形に対応されて対応するスイッチング素子の第1の電極に接続された複数の画素電極とを備える表示用基板の検査に用いるセンサ基板であって、
    可撓性基板と、それぞれが前記画素電極に一対一の形に対向可能に前記可撓性基板の一方の面に形成された薄膜の複数のセンサ電極と、前記可撓性基板に形成された薄膜の複数の検出素子であってそれぞれが前記センサ電極に一対一の形に接続された検出素子とを含む、表示用基板の検査に用いるセンサ基板。
  2. 前記複数のセンサ電極は少なくとも一列に配置されている、請求項1に記載の表示用基板の検査に用いるセンサ基板。
  3. 各センサ電極は、円形、矩形及び長円形のいずれかの形状を有する、請求項1に記載の表示用基板の検査に用いるセンサ基板。
  4. 各スイッチング素子は薄膜トランジスタを含む、請求項1に記載の表示用基板の検査に用いるセンサ基板。
  5. 請求項1に記載のセンサ基板を用いて、請求項1に記載の表示用基板を検査する検査方法であって、
    前記センサ電極を前記画素電極に対向させる第1のステップと、
    少なくとも前記センサ電極を前記画素電極に対向させる間に、交流信号を前記第2及び第3の電極のいずれか一方に作用させると共に、直流信号を前記第2及び第3の電極の他方に作用させる第2のステップと、
    前記交流信号及び直流信号をそれぞれ前記第2及び第3の電極に作用させる間に、前記センサ電極に得られる電気信号を前記検出素子で検出する第3のステップとを含む、表示用基板の検査方法。
  6. 前記交流信号は高周波信号である、請求項5に記載の表示用基板の検査方法。
  7. 前記センサ基板は、前記複数のセンサ電極を電気絶縁性基板の一方の面に少なくとも一列に配列しており、前記第1、第2及び第3のステップの少なくとも1つは、前記センサ電極を前記画素電極に対向させた状態で、前記表示用基板と前記センサ基板とを前記センサ電極の配列方向と交差する方向に相対的に移動させることを含む、請求項5に記載の表示用基板の検査方法。
  8. 前記第2のステップは、矩形波状の前記直流信号を前記複数のスイッチング素子に順次供給すると共に、交流信号を前記複数のスイッチング素子に順次又は連続して供給することを含む、請求項5に記載の表示用基板の検査方法。
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