JP2008010643A - ステージ装置 - Google Patents

Abstract

【課題】 永久磁石の反発力を利用したステージ装置に好適なステージ反力対策機構を提供することを目的とする。
【解決手段】 ステージ装置は、第１方向に移動可能なステージと、該ステージを第１方向に加減速するために、同極が対向するように配置された複数の磁石を有する磁石ユニットと、前記ステージを第１方向に駆動するためのリニアモータとを備え、前記磁石ユニットは可動部と固定部と含み、前記固定部を支持する支持部材を移動可能にしている。
【選択図】 図１

Description

本発明は対象物をステージに搭載して位置決めするためのステージ装置に関するものであり、好ましくは露光装置用レチクルステージに適用される。

露光装置において、基板または原版（以下、基板と総称する）の位置決めにステージ装置が用いられる。このようなステージ装置において、基板を搭載するステージを加減速するために永久磁石の反発力を利用した構成が特許文献１に開示されている。

図１２を参照しつつ特許文献１に記載されたステージ装置について説明する。基板１０３を搭載したステージ１０４は、ガイド１０２上でＹ方向に移動可能に案内される。ステージ１０４にはリニアモータ可動子１０５が取り付けられ、不図示のベースに取り付けられたリニアモータ固定子１０６との間で力を発生する。このようにしてステージ１０４はＹ方向に駆動される。

ここで、ステージ１０４の移動方向前後には永久磁石１０９が設けられている。また、ガイド１０２には上下に所定距離だけ離れた一対の永久磁石１１２が固定されている。永久磁石１０９と永久磁石１１２はともにＺ方向に着磁されており、お互いに対向する面が同極となっている。ステージ１０４の移動ストロークの両端において、この永久磁石１１２間に永久磁石１０９を挿入することによって、両磁石間に反発力を発生させてステージ１０４を加減速するようにしている。
特開２００４−０７９６３９号公報

上述のように永久磁石の反発力を利用してステージを駆動した場合、ステージの駆動反力によって装置全体が振動してしまう問題がある。このような振動はステージの位置決め制御において外乱となり、位置決め精度の悪化、もしくは位置決め時間の増大につながってしまう。

本発明は上記課題に鑑みてなされたものであり、永久磁石の反発力を利用したステージ装置に好適なステージ反力対策機構を提供することを目的とする。

本発明のステージ装置は、第１方向に移動可能なステージと、該ステージを第１方向に加減速するために、同極が対向するように配置された複数の磁石を有する磁石ユニットと、前記ステージを第１方向に駆動するためのリニアモータとを備え、前記磁石ユニットは可動部と固定部と含み、前記固定部を支持する支持部材を移動可能にしたことを特徴とするステージ装置。

本発明によれば、永久磁石の反発力を利用したステージ装置において駆動反力の影響を低減することができる。

（実施例１）
図１（ａ）は本発明の実施例１におけるステージ装置の平面図であり、図１（ｂ）は図１（ａ）の矢印Ａから見た図である。

ステージ装置は、基板３を搭載して移動するステージ４と、気体軸受１４を介してステージ４を案内するベース１と、ステージ４をＹ方向に駆動するリニアモータ５，６と、ステージ４をＹ方向で加減速するための反発磁石ユニット１０ａ，１０ｂ，２８ａ，２８ｂ等を備える。以下、「移動方向」というときにはこのＹ方向をいうものとする。ベース１は案内面としてＸＹ平面を有する。気体軸受１４は、ステージに要求される精度によってはその他の軸受に置き換えてもよい。基板３はステージ４に固定された不図示のチャックによって保持される。チャックはたとえばクランプ、真空吸着、静電吸着等を用いうる。

また、ステージ４上に別途微動ステージを設けて、微動ステージ上に基板３を搭載してもよい。この場合、ステージ４に対して微動ステージを小ストロークに駆動して基板３を高精度に位置決めできる。微動ステージの駆動方向は、例えばＸ，Ｙ、Ｚ軸方向および各軸周りの回転方向としてもよく、この方向にかぎるものではない。

リニアモータは、ステージ４の両側に固定された永久磁石を含む可動子５と、ベース１に固定された複数のコイルを含む固定子６とを有する。複数のコイルは移動方向に沿って並べられており、これらのコイルは支持部７を介してベース１に固定される。可動子５の永久磁石はコイルと非接触で対向するように配置されており、永久磁石の磁束が通過するコイルに電流を流すことによって、ローレンツ力によってステージ４はＹ方向に非接触に駆動される。このようなリニアモータの構成については特開２００４−７９６３９号公報により公知であるため、詳細な説明は省略する。また、リニアモータはこの構成に限るものではなく、別の構成を用いてもよい。

ステージ４の位置は干渉計３０によって計測される。ステージ４に設けた反射ミラー２７に対して、ステージ外部に設けた光源からレーザ干渉計３０を介して計測光が照射される。その反射光と参照光を干渉させることで位置を計測する。ここで、位置計測はＹ方向の位置にかぎらず、複数の計測軸を用いてＸ軸周りやＺ軸周りの回転方向の位置を計測してもよい。計測されたステージ４の位置に基づいて上述のリニアモータ５，６が制御される。なお、レーザ干渉計に限らず別の位置計測手段を用いてもよい。

次に、ステージ４を加減速するための反発磁石ユニットについて図２を参照しつつ説明する。反発磁石ユニットは可動磁石ユニット（可動部）２８ａ，２８ｂと固定磁石ユニット（固定部）１０ａ，１０ｂとを備える。図２を用いて可動磁石ユニット２８ａと固定磁石ユニット１０ａについて説明するが、可動磁石ユニット２８ｂ，固定磁石ユニット１０ｂも同様の構成である。

可動磁石ユニット２８ａは永久磁石９と、永久磁石９をステージ４に支持する支持部８とを備える。永久磁石９は板状であり、鉛直方向に着磁される。本実施例では、永久磁石９は上面がＮ極で下面がＳ極の単極永久磁石である。

固定磁石ユニット１０ａは、一対の永久磁石１２ａ，１２ｂと、これらの永久磁石からの磁束を循環させるためのヨーク１１ａ，１１ｂ，１３等を備える。ここで、永久磁石１２ａ，１２ｂはそれぞれヨーク１１ａ，１１ｂに固定されている。すなわち、固定磁石ユニット１０ａは２つの磁石を組み込んだ組磁石となっている。永久磁石１２ａ，１２ｂは上下に間隔を空けて一対設けられるが、二対以上設けてもよい。永久磁石１２ａ，１２ｂも板状であり、鉛直方向に着磁される。永久磁石１２ａ，１２ｂは、永久磁石９と同じ極が対向するように着磁される。つまり、上側の永久磁石１２ａは下面がＮ極で、下側の永久磁石１２ｂは上面がＳ極の単極永久磁石である。

永久磁石１２ａ，１２ｂの間の間隔は永久磁石８の厚みよりも大きくなるようにしている。また、永久磁石１２ａ，１２ｂの両側に設けた一対のヨーク１３の間隔は永久磁石８の幅よりも大きくなるようにしている。

可動磁石ユニット２８ａ，２８ｂはステージ４の移動方向前後に設けられる。固定磁石ユニット１０ａ，１０ｂはステージ４から移動方向前後に離れた位置に配置され、さらにいうとステージのストローク両端に設けられる。すなわち、ステージ４をＹ方向に駆動すると、ステージのストローク両端の近傍で永久磁石９は一対の永久磁石１２ａ，１２ｂに非接触で挟まれた状態となる（図２における点線の状態）。

このような構成により、永久磁石９と永久磁石１２Ａ，１２ｂ間で磁気反発力が発生して、ステージに移動方向の加減速力を与えることができる。ここで、加減速力を発生させる方向（図２における矢印の方向）と永久磁石の着磁方向とが直交しているため、ステージ４がＹ方向に移動したとしても長い間反発力を発生させることができる。また、永久磁石１２ａ，１２ｂで挟み込む構成であるため、Ｚ方向に発生する反発力を相殺することができる。このような反発磁石ユニットの配置は、ステージを往復移動させる必要があるステージ装置に好適に用いられる。

反発磁石ユニット１０ａ，１０ｂ，２８ａ，２８ｂを用いてステージを駆動する際に、固定磁石ユニット１０ａ，１０ｂは駆動反力を受けてしまう。この駆動反力がベース１に伝わってしまうと、装置全体の振動を引き起こしてしまうおそれがある。このような振動はステージの位置決め制御において外乱となり、位置決め精度の悪化、もしくは位置決め時間の増大につながってしまうため好ましくない。そこで、本実施例では以下のような反力相殺機構を設けている。

図１にもどり反力相殺機構について説明する。一対の固定磁石ユニット１０ａ，１０ｂは支持部材１９上に固定される。支持部材１９は気体軸受１４を介してベース１上に移動可能に支持される。気体軸受１４は、ステージに要求される精度によってはその他の軸受に置き換えてもよい。

反発磁石ユニットによってステージ４に加減速のための力を付与すると、固定磁石ユニット１０ａ，１０ｂはその力と反対方向の反力を受ける。固定磁石ユニット１０ａ，１０ｂは上述のように移動可能な支持部材１９に固定されているので、固定磁石ユニット１０ａ，１０ｂおよび支持部材１９は反力の方向に移動する。このようにして、支持部材１９がカウンタマスとして機能して反力を相殺することができる。ここで、固定磁石ユニット１０ａ，１０ｂの支持部材１９をカウンタマスの質量体とすることで、質量体の重量を大きくすることが容易であり、反力を相殺するためにカウンタマスを移動する距離が小さくなる。移動距離が小さくなると装置のフットプリントを小さくすることができる。

図３はステージ４の重心位置Ｇ_１と、支持部材１９および固定磁石ユニット１０ａ，１０ｂの重心位置Ｇ_２と、反発磁石ユニットの力の作用線Ｆとを示す側面図である。それぞれの重心位置の高さが異なると、駆動時に回転方向の力が発生してしまう。このような回転方向の力はステージ装置に振動を生じさせるため好ましくない。そこで、図３に示したようにステージ４の重心Ｇ_１の高さと、支持部材１９および固定磁石ユニット１０の重心Ｇ_２の高さを合わせることが好ましく、さらに反発磁石ユニットの力の作用線Ｆの高さを合わせることがより好ましい。

また、反力相殺機構は、支持部材１９を駆動する駆動手段１５と、駆動手段１５と支持部材１９を連結する連結部材１６と、支持部材１９をベース１に固定してその位置を保持する固定手段１７と、を備える。

図４は駆動手段１５の詳細を示す図である。駆動手段１５は、支持部材１９に連結された連結部材１６に固定された永久磁石２３と、ベース１に固定されたコイル２２とを備える。永久磁石２３とコイル２２は対向するように配置され、コイル２２に通電することによって永久磁石２３をＹ方向に駆動することができる。すなわち、永久磁石２３と連結された支持部材１９はＹ方向に駆動される。なお、駆動手段はこれにかぎるものではなく、支持部材１９を駆動できる機構であればよい。

支持部材１９の位置はレーザ干渉計３２によって計測することができる。支持部材１９に固定された反射鏡３１にレーザ干渉計３２からの計測光を反射させて、その反射光と参照光を用いて支持部材１９の位置を計測する。ここで、位置計測はＹ方向の位置にかぎらず、複数の計測光を用いてＸ軸周りやＺ軸周りの回転方向の位置を計測してもよい。なお、位置計測手段はレーザ干渉計にかぎらず、ほかの手段を用いて位置を計測してもよい。駆動手段１５とレーザ干渉計を用いることによって支持部材１９の位置決めを行うことができる。

固定手段１７は、接触部２１と接触部２１を駆動する駆動部（不図示）とを備える。駆動部としてエアシリンダや電磁ソレノイドを用いることができる。駆動部としては応答時間が早いものが好ましい。固定手段１７はベース１に固定される。接触部２１を駆動して、接触部２１を連結部材１６に接触させることによって摩擦力で連結部材１６をベース１に対して固定することができる。すなわち、支持部材１９をベース１に対して固定することができる。なお、固定手段は、上記構成にかぎるものではなく、ベース１に対して支持部材１９を固定することができればよい。

図５（ａ）〜（ｉ）はステージ装置をＸ方向から見た図であり、一部構成が省略されている。図５（ａ）〜（ｉ）は時系列の順となっており、この図を用いてステージの動作を説明する。本実施例におけるステージ装置は、一定速度で所定の距離だけステージを走査させるステージ装置であり、走査は複数回行われる。このようなステージ装置として、例えば露光装置のレチクルステージが挙げられるが、これについては後述する。

図５（ａ）はステージ装置の電源がオンになった状態であり、ステージ４および支持部材１９は停止している。まず、駆動手段１５を用いて支持部材１９をＰ_１から初期位置Ｐ_０まで移動させる（図５（ｂ））。ここで、初期位置は走査のための加速を開始するときの支持部材１９の位置であり、適宜設定することができる。支持部材１９が移動している間は、固定手段１５は支持部材１９を固定していない。支持部材１９が初期位置Ｐ_０に到達したところで、固定手段１５は支持部材１９を固定する（図５（ｃ））。支持部材１９が固定された状態で、リニアモータ５，６を用いてステージ４を−Ｙ方向に移動させる。ここで、ステージ４は、可動磁石ユニット２８ｂが固定磁石ユニット１０ｂの間隙内に所定量挿入されるまで駆動される。所定量についてはステージに要求される速度等により設定される。なお、可動磁石ユニット２８ａと固定磁石ユニット１０ａを用いてもよい。

なお、挿入時には可動磁石ユニット２８ｂと固定磁石ユニット１０ｂとの間で磁気反発力が作用する。しかしながら、固定手段１５が支持部材１９を固定しているので、挿入時に反発力によって支持部材が動くことを防止することができる。また、一度で可動磁石ユニット２８ｂを所定量挿入するためにはリニアモータ５，６が反発力に対向するだけの力を発生させなければならない。本実施例ではリニアモータ５，６によってステージ４を複数回往復駆動させて徐々に加速して、所定量挿入するようにしている。これにより、リニアモータ５，６の負荷を減らすことができ発熱量を抑えることができる。

可動磁石ユニット２８ｂが所定量挿入されて、反発力によってステージの速度がゼロになった状態で固定手段１５による固定を解除する（図５（ｄ））。このとき反発力によってステージ４は＋Ｙ方向に加速され、この反力を受けて支持部材１９は−Ｙ方向に移動する。ステージ４が移動するにつれて反発力は減少し、固定磁石ユニットから十分離れると反発力はゼロになる。このときステージ４は最大速度まで加速されており、そのままの速度で固定磁石ユニット１０ａがあるストローク端近傍まで移動する（図５（ｅ））。空気抵抗や軸受による減速作用があったとしてもリニアモータ５，６を用いることで速度を維持することができる。

ステージ４がストローク端近傍まで移動すると、固定磁石ユニット１０ａと可動磁石ユニット２８ａから反発力を受けてステージ４は減速する（図５（ｆ））。ここで、ステージ４の運動エネルギーは保存されているため、可動磁石ユニット２８ｂが挿入された量と同じ量だけ可動磁石ユニット２８ａが固定磁石ユニット１０ａの間隙に挿入されて速度がゼロになる。

そして、ステージ４は再び反発力によって加速されて−Ｙ方向に移動する（図５（ｇ））。このとき支持部材１９は＋Ｙ方向に反力を受ける。その後、ステージ４は定速で移動し（図５（ｈ））、反発力によって減速される（図５（ｉ））。図５（ｉ）の状態から再び図５（ｄ）の状態となり、往復移動を繰り返す。

上記実施例によれば、永久磁石の反発力を用いて加減速力を発生させるため、リニアモータの負荷を軽減することができる。このことによって、例えば、ステージ装置の省電力、低発熱、小型化などを実現することができる。また、固定磁石ユニット１０ａ，１０ｂを支持する支持部材１９をカウンタマスとして作用させてステージ４と反対方向に移動させることによって、駆動反力１をベースに伝えずに相殺することができるため、装置全体の振動を低減させることができる。

（実施例２）
図６（ａ），図６（ｂ）は第２の実施例における装置を示す図である。特に言及しない箇所については実施例１と同様であるものとする。

図６（ａ）において、ステージ装置は、固定磁石ユニット１０ａ，１０ｂをＹ方向に駆動するための駆動手段２０ａ，２０ｂを備える。図６（ｂ）は駆動手段２０ａの詳細を示す図である。ここでは駆動手段２０ａのみについて説明するが、駆動手段２０ｂも同様であるものとする。駆動手段２０は、固定磁石ユニット１０に固定されたナット２６と、送りネジ２５と、送りネジ２５を支持する支持部２９と、送りネジ２５を回転させるモータ２４等を備える。送りねじ２５はモータ２４の回転軸と同軸上に設けられ、支持部２９によって支持部材１９上に支持される。固定磁石ユニット１０の位置についてはモータに内蔵されるエンコーダによって検出することができる。

このように固定磁石ユニットをＹ方向に移動可能にすることによって、加速開始位置を変更することができる。ステージのストローク端において可動磁石ユニットが挿入される量を変えることができるため、最大速度を変えることができる。

特に、露光装置のレチクルステージに適用した場合には、挿入量を変えることでドーズ量を調整することができる。また、加速開始位置を調整することで、レチクルのパターンを部分的に露光する場合にも対応することができる。

（実施例３）
図７（ａ）は第３の実施例におけるステージ装置を示す図である。特に言及しない箇所については実施例１と同様であるものとする。

実施例３では、リニアモータ固定子６がベース１に対して移動可能である点が実施例１と異なる。図７（ｂ）はステージ装置をＡから見た図である。固定磁石ユニット１０ａ，１０ｂを支持する支持部材１９は、リニアモータ固定子６を支持する。

実施例１で説明したように、ステージ４が定速移動中に空気抵抗等によって減速しないようにリニアモータ５，６が力を発生する。このときリニアモータ固定子６をベース１に固定してしまうとわずかであるが反力により振動が発生してしまう。本実施例のように、リニアモータ固定子６もベース１に対して移動可能にすることで、反力の影響を相殺することができる。

ここでリニアモータ固定子６を単独でカウンタマスとして利用することも可能であるが、上述のように支持部材１９をカウンタマスとして利用することが好ましい。なぜなら、カウンタマスが反力を相殺するために移動する距離はステージ４との重量比で決まるため、できるだけ重量を大きくした方が移動距離が短くなり、結果として装置を小型化することができるためである。

（実施例４）
図８は、第４の実施例におけるステージ動作を示す図である。実施例１では固定手段を用いて支持部材を固定していたが、本実施例では固定手段を備えていない場合のステージ動作について説明する。

図８（ａ）はステージ装置の電源がオンになった状態であり、ステージ４および支持部材１９は停止している。まず、駆動手段２９を用いて支持部材１９を初期位置Ｐ_０から−Ｙ方向に離れた位置Ｐ_２まで移動させて停止させる（図５（ｂ））。そして、ステージ４を＋Ｙ方向に移動させる。可動磁石ユニット２８ｂが固定磁石ユニット１０ｂの間隙に挿入されると、ステージ４は−Ｙ方向に加速される。このとき支持部材１９は反力を受けて＋Ｙ方向に移動する。図８（ｃ）は可動磁石ユニット２８ａが固定磁石ユニット１０ａの間隙に所定量挿入された状態である。ここで、１回の加速で所定量挿入することができない場合には、実施例１で述べたように複数回往復しながら徐々に加速してもよい。図８（ｄ）以降は実施例１と同様であるので詳細な説明は省略する。

以上のように、実施例４では固定手段を備えておらず、ステージ４と支持部材１９を初期位置まで駆動するための加速区間を確保している。この加速区間を大きくとるために、例えばＰ_２を支持部材のストローク端に設定することもできる。

実施例１のように連結部材１６に接触部２１を押し付けて摩擦力によって連結部材１６を固定する場合には発塵が多くなってしまう。本実施例のように固定手段を設けないことによって、固定手段から生じる発塵をなくすことができる。発塵を減らすことによってクリーンな環境を維持することができるため、装置のメンテナンスが容易になる。

（露光装置に適用した例）
以下、本発明のステージ装置が適用される例示的な露光装置を説明する。露光装置は図９に示すように、照明装置５０１、レチクルを搭載したレチクルステージ５０２、投影光学系５０３、ウエハを搭載したウエハステージ５０４等を有する。露光装置は、レチクルに形成された回路パターンをウエハに投影露光するものであり、ステップアンドスキャン投影露光方式となっている。上述の実施例におけるステージ装置は、このレチクルステージとして好適に利用される。

照明装置５０１は回路パターンが形成されたレチクルを照明し、光源部と照明光学系とを有する。光源部は、例えば、光源としてレーザを使用する。レーザは、波長約１９３ｎｍのＡｒＦエキシマレーザ、波長約２４８ｎｍのＫｒＦエキシマレーザ、波長約１５３ｎｍのＦ２エキシマレーザなどを使用することができるが、レーザの種類はエキシマレーザに限定されず、例えば、ＹＡＧレーザを使用してもよいし、そのレーザの個数も限定されない。光源にレーザが使用される場合、レーザ光源からの平行光束を所望のビーム形状に整形する光束整形光学系、コヒーレントなレーザ光束をインコヒーレント化するインコヒーレント化光学系を使用することが好ましい。また、光源部に使用可能な光源はレーザに限定されるものではなく、一又は複数の水銀ランプやキセノンランプなどのランプも使用可能である。

照明光学系はマスクを照明する光学系であり、レンズ、ミラー、ライトインテグレーター、絞り等を含む。ここで、レチクルにはスリット状の光が照射される。スリットはＸ方向を長手方向としており、Ｙ方向を短手方向としている。レチクルステージ５０２はスリットの短手方向であるＹ方向に走査駆動され、レチクルを透過した光は投影光学系５０３に照射される。

投影光学系１０３は、複数のレンズ素子のみからなる光学系、複数のレンズ素子を少なくとも一枚の凹面鏡とを有する光学系（カタディオプトリック光学系）、複数のレンズ素子と少なくとも一枚のキノフォームなどの回折光学素子とを有する光学系、全ミラー型の光学系等を使用することができる。投影光学系５０３によって縮小投影されたレチクルのパターンはウエハステージ５０４に搭載されたウエハに露光される。

このような露光装置は、半導体集積回路等の半導体デバイスや、マイクロマシン、薄膜磁気ヘッド等の微細なパターンが形成されたデバイスの製造に利用されうる。

次に、図１０及び図１１を参照して、上述の露光装置を利用したデバイス製造方法の実施例を説明する。図は、デバイス（ＩＣやＬＳＩなどの半導体チップ、ＬＣＤ、ＣＣＤ等）の製造を説明するためのフローチャートである。ここでは、半導体チップの製造方法を例に説明する。

ステップＳ１（回路設計）では半導体デバイスの回路設計を行う。ステップＳ２（マスク製作）では設計した回路パターンに基づいてマスクを製作する。ステップＳ３（ウエハ製造）ではシリコン等の材料を用いてウエハを製造する。ステップＳ４（ウエハプロセス）は前工程と呼ばれ、マスクとウエハを用いて、上記の露光装置によりリソグラフィ技術を利用してウエハ上に実際の回路を形成する。ステップＳ５（組み立て）は、後工程と呼ばれ、ステップＳ４によって作製されたウエハを用いて半導体チップ化する工程であり、アッセンブリ工程（ダイシング、ボンディング）、パッケージング工程（チップ封入）等の組み立て工程を含む。ステップＳ６（検査）では、ステップＳ５で作製された半導体デバイスの動作確認テスト、耐久性テスト等の検査を行う。こうした工程を経て半導体デバイスが完成し、それが出荷（ステップＳ７）される。

図は、ステップ４のウエハプロセスの詳細なフローチャートである。ステップＳ１１（酸化）では、ウエハの表面を酸化させる。ステップＳ１２（ＣＶＤ）では、ウエハの表面に絶縁膜を形成する。ステップＳ１３（電極形成）では、ウエハ上に電極を蒸着によって形成する。ステップＳ１４（イオン打ち込み）では、ウエハにイオンを打ち込む。ステップＳ１５（レジスト処理）では、ウエハに感光剤を塗布する。ステップＳ１６（露光）では、露光装置によってマスクの回路パターンをウエハに露光する。ステップＳ１７（現像）では、露光したウエハを現像する。ステップＳ１８（エッチング）では、現像したレジスト像以外の部分を削り取る。ステップＳ１９（レジスト剥離）では、エッチングが済んで不要となったレジストを取り除く。これらのステップを繰り返し行うことによってウエハ上に多重に回路パターンが形成される。

ステージ装置を示す図である。 反発磁石ユニットを示す図である。 ステージ装置をＹ方向から見た図である。 支持部材を駆動する駆動手段を示す図である。 ステージ動作を示す図である。 第２実施例におけるステージ装置を示す図である。 第３実施例におけるステージ装置を示す図である。 第４実施例におけるステージ動作を示す図である。 ステージ装置を使用した露光装置の概略を示す図である。 露光装置を使用したデバイスの製造を説明するためのフローチャートである。 図１０に示すフローチャートのステップ４のウェハプロセスの詳細なフローチャートである。 従来例の反発加速手段を備えたステージ装置の平面図である。

符号の説明

１ ベース
３ 基板
４ ステージ
５ リニアモータ可動子
６ リニアモータ固定子
７ 支持部
８ 支持部
９ 永久磁石
１０ａ，１０ｂ 固定磁石ユニット
１１ａ，１１ｂ，１３ ヨーク
１２ａ，１２ｂ 永久磁石
１４ 気体軸受
１５ 駆動手段
１６ 連結部材
１７ 保持手段
１９ 支持部材
２０ａ，２０ｂ 駆動手段
２１ 接触部
２２ コイル
２３ 永久磁石
２４ モータ
２５ 送りネジ
２６ ナット
２７，３１ 反射鏡
３０，３２ レーザ干渉計
２８ａ，２８ｂ 可動磁石ユニット
２９ 支持部
５０１ 照明光学系
５０２ レチクルステージ
５０３ 投影光学系
５０４ ウエハステージ

Claims (10)

1. 第１方向に移動可能なステージと、
   該ステージを第１方向に加減速するために、同極が対向するように配置された複数の磁石を有する磁石ユニットと、
   前記ステージを第１方向に駆動するためのリニアモータとを備え、
   前記磁石ユニットは可動部と固定部と含み、
   前記固定部を支持する支持部材を移動可能にしたことを特徴とするステージ装置。
2. 前記磁石ユニットは、
   第１方向と直交する方向に沿って異なる極を互いに対面させ間隙を空けて複数の磁石を組み込んだ組磁石と、該組磁石の前記間隙に挿脱自在に挿入され該組磁石に対し同じ極を対面させて配置される挿入磁石を有することを特徴とする請求項１に記載のステージ装置。
3. 前記組磁石が前記固定部に設けられ、前記挿入磁石が前記可動部に設けられることを特徴とする請求項１または２に記載のステージ装置。
4. 前記磁石ユニットは前記ステージの移動方向の前後に設けられることを特徴とする請求項１から３のいずれかに記載のステージ装置。
5. 前記支持部材を駆動するための駆動手段と、
   前記支持部材を固定するための固定手段と、を備えることを特徴とする請求項１から４のいずれかに記載のステージ装置。
6. 前記固定部を前記支持部材に対して移動するための固定部駆動手段を備えることを特徴とする請求項１から５のいずれかに記載のステージ装置。
7. 前記リニアモータは可動子と固定子とを備え、前記固定子が前記支持部材に支持されることを特徴とする請求項１から６のいずれかに記載のステージ装置。
8. 前記磁石ユニットが発生する力の作用点の高さと、前記ステージの重心の高さと、前記支持部材の重心の高さが略一致することを特徴とする請求項１から７のいずれかに記載のステージ装置。
9. 原版のパターンを基板に露光する露光装置であって、
   請求項１から８のいずれかに記載のステージ装置を用いて前記原版を位置決めすることを特徴とする露光装置。
10. 請求項９に記載の露光装置を用いて基板を露光する工程と、
    露光された基板を現像する工程と、を備えることを特徴とするデバイス製造方法。

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