JP2009058580A - 揺動体装置及びその製造方法、光偏向器、画像形成装置 - Google Patents

Abstract

【課題】共振周波数を調整するに当たり、可動部の質量を調整するための質量調整剤を、精度良く可動部に付加することが可能となる揺動体装置及びその製造方法、該揺動体装置を用いた光偏向器、画像形成装置を提供する。
【解決手段】支持基板に対し、支持部によってねじり軸まわりに揺動可能に支持された可動部を備え、該可動部を該ねじり軸まわりに共振周波数で駆動する揺動体装置であって、
前記可動部は、該可動部の質量を調整する質量調整剤を付加する付加領域を備えると共に、該付加領域の表面は周辺よりも前記質量調整剤とのぬれ性が高く構成され、
前記付加領域への質量調整剤の付加によって、前記可動部の共振周波数が調整可能に構成されている。
【選択図】 図１

Description

本発明は、揺動体装置及びその製造方法、揺動体装置を用いた光偏向器、画像形成装置に関する。
例えば、光の偏向走査によって画像を投影するプロジェクションディスプレイ、電子写真プロセスを有するレーザービームプリンタ、デジタル複写機等の画像形成装置に好適に利用可能な揺動体装置を用いた光偏向器が実現できる技術に関するものである。

従来から、半導体プロセスによってウエハから製造される微小機械部材はマイクロメータオーダの加工が可能であり、これらを用いて様々な微小機能素子が実現されている。
例えば、このような技術によって形成される可動部（マイクロ揺動体）をねじり振動し、該可動部（マイクロ揺動体）の共振現象を利用したアクチュエータ（マイクロ揺動体装置）として、種々の提案がなされている。
特に、このような可動部（マイクロ揺動体）の上に光偏向素子である反射面を配置し、該可動部（マイクロ揺動体）の共振現象を利用して光走査を行う光偏向器は、従来のポリゴンミラー等の回転多面鏡を使用した光走査光学系に比べ、次のような利点を有している。
すなわち、光偏向器を小型化することが可能であること、半導体プロセスによって製造されるシリコン単結晶からなる光偏向器は理論上金属疲労が無く耐久性にも優れていること、消費電力が少ないこと、等の特徴がある。
特に、上記可動部（マイクロ揺動体）のねじり振動の固有振動モードの周波数付近で駆動することにより、低消費電力とすることができる。

しかしながら、一方では、このような共振現象を利用した光偏向器においては、製造過程において生じる寸法誤差等により、個々のアクチュエータ間における固有振動モードの周波数である共振周波数にばらつきを生じる。
したがって、このような個々のデバイス間におけ共振周波数のばらつきは、好ましくないことから、共振周波数を調整する必要が生じる。
また、アクチュエータを使用する上で、動作（駆動）周波数である基準周波数が所定の値に定められている場合においては、固有振動モードの周波数と基準周波数との間で不一致が生じる。
したがって、このようなアクチュエータにより構成された光偏向器においては、上記固有振動モードの周波数と基準周波数との不一致が、可動部の振れ角のばらつきの原因となる。
光偏向器を用いたレーザービームプリンタ等の電子写真プロセスにおいては、レーザ光を感光体上で走査することによって画像を形成する。
したがって、画像の縦横比を安定させ、画質の劣化を抑制するためには、感光体の回転速度に対応させる上で、上記光偏向器における可動部の振れ角のばらつきをなくすため、光偏向器の共振周波数を所定の値に調整する必要が生じる。

従来において、上記のような共振周波数の調整を可能としたアクチュエータとして、特許文献１では、アクチュエータの共振周波数を調整するに際し、質量を調整するための除去部を設けたアクチュエータが提案されている。
また、特許文献２では、樹脂による質量片をミラー基板（マイクロ揺動体）に塗布して、共振周波数の調整を可能とした振動ミラーが提案されている。
特開２００６−２３００４８号公報 特開２００４−２１９８８９号公報

上記したように、共振現象を利用したアクチュエータにおいては、低消費電力化を図る上で可動部（マイクロ揺動体）を固有振動モードの周波数付近で駆動することが望まれることから、共振周波数を調整する必要が生じる。
また、このようなアクチュエータにより構成された光偏向器を用いた画像形成装置においては、画像の縦横比を安定させ、画質の劣化を抑制するために、光偏向器の共振周波数を所定の値に調整する必要が生じる。
しかしながら、上記従来例のものにおいては、これらの共振周波数を所定の値に調整する上で、つぎのような課題を有している。
上記特許文献１のものにおいては、質量部本体に設けられた除去部を除去することで、共振周波数の調整が行われているが、このような方法では製造過程で生じる形状のばらつき等による共振周波数を精度良く調整する上で、必ずしも十分な結果を得ることは難しい。
また、上記従来例の特許文献２のものにおいては、ミラー基板（マイクロ揺動体）に塗布する質量片が微小である場合等において、揺動軸中心に対して片寄りを生じることなく、バランス良く位置決めして塗布することは難しい。
そのため、ミラー揺動時に質量片位置が揺動軸に対して非対称である事によって慣性モーメントが発生し、ミラーの揺動特性に好ましくない結果を生じさせてしまうこととなる。

本発明は、上記課題に鑑み、共振周波数を調整するに当たり、可動部の質量を調整するための質量調整剤を、精度良く可動部に付加することが可能となる揺動体装置及びその製造方法、該揺動体装置を用いた光偏向器、画像形成装置の提供を目的とする。

本発明は、つぎのように構成した揺動体装置及びその製造方法、該揺動体装置を用いた光偏向器、画像形成装置を提供するものである。
本発明の揺動体装置は、支持基板に対し、支持部によってねじり軸まわりに揺動可能に支持された可動部を備え、該可動部を該ねじり軸まわりに共振周波数で駆動する揺動体装置であって、
前記可動部は、該可動部の質量を調整する質量調整剤を付加する付加領域を備えると共に、該付加領域の表面は周辺よりも前記質量調整剤とのぬれ性が高く構成され、
前記付加領域への質量調整剤の付加によって、前記可動部の共振周波数が調整可能に構成されていることを特徴とする。
また、本発明の揺動体装置は、前記付加領域の表面が親水性に構成され、且つ質量調整剤が親水性の部材で構成されることにより、前記ぬれ性の高い構成とされていることを特徴とする。
また、本発明の揺動体装置は、前記付加領域の表面が疎水性に構成され、且つ質量調整剤が疎水性の部材で構成されることにより、前記ぬれ性の高い構成とされていることを特徴とする。
また、本発明の揺動体装置は、前記質量調整剤が、樹脂で構成されていることを特徴とする。
また、本発明の揺動体装置は、前記付加領域がアルミで構成され、前記質量調整剤がはんだで構成されることにより、前記ぬれ性の高い構成とされていることを特徴とする。
また、本発明の揺動体装置は、前記付加領域の表面は、周辺よりも表面粗さが大きい粗さに構成されていることを特徴とする。
また、本発明の光偏向器は、上記したいずれかに記載の揺動体装置と、該揺動体装置における前記可動部に設けられた光偏向素子と、を有することを特徴とする。
また、本発明の画像形成装置は、光源と、感光体と、上記の光偏向器と、を有し、
前記光源からの光を前記光偏向器により偏向し、前記光の少なくとも一部を、前記感光体上に入射することを特徴とする。
また、本発明の揺動体装置の製造方法は、支持基板に対し、支持部によってねじり軸まわりに揺動可能に支持された可動部を備え、該可動部を該ねじり軸まわりに共振周波数で駆動する揺動体装置の製造方法であって、
前記可動部の共振周波数を調整するため、前記可動部の表面に該可動部の質量を調整する質量調整剤を付加するに際し、
前記可動部の表面に設けられた前記質量調整剤を付加する付加領域を、周辺よりも前記質量調整剤とのぬれ性が高くなるように形成し、該付加領域に前記質量調整剤を付加する工程を有することを特徴とする。
また、本発明の揺動体装置の製造方法は、前記質量調整剤を付加するに際し、ノズルから樹脂の液滴を塗布する微小塗布装置を用い、前記付加領域に樹脂による前記質量調整剤を塗布することを特徴とする。
また、本発明の揺動体装置の製造方法は、前記質量調整剤を付加するに際し、前記付加領域をアルミで形成し、レーザはんだ付け装置を用い、該アルミによる付加領域に、はんだによる前記質量調整剤を溶着することを特徴とする。

本発明によれば、共振周波数を調整するに当たり、可動部の質量を調整するための質量調整剤を、精度良く可動部に付加することが可能となる揺動体装置及びその製造方法、該揺動体装置を用いた光偏向器、画像形成装置を実現することができる。

つぎに、本発明の揺動体装置の構成を適用した実施の形態におけるマイクロ揺動体装置及びその製造方法について説明する。
図１に、本実施形態のマイクロ揺動体装置について説明する図を示す。
図１（ａ）は、本実施形態のマイクロ揺動体装置の表面を示す上面図であり、図１（ｂ）は上記図１（ａ）におけるマイクロ揺動体装置の裏面を示す図である。
図１において、２は支持基板、３は支持部、５は質量調整剤、６は可動部、７は永久磁石、８は付加領域である。
本実施形態のマイクロ揺動体装置は、支持基板２に対し、ねじりバネによる支持部によってねじり軸まわりに揺動可能に支持された可動部６を備え、該可動部を該ねじり軸まわりに共振周波数で駆動するように構成されている。
具体的には、図１（ａ）に示されるように、支持基板２に可動部６が２本で１対の支持部３で支持された構造となっている。
両端の支持基板２は、固定され、２本で１対の支持部３は可動部６をＢ軸（つまり、ねじり軸）を中心に弾性的に、Ｅ方向にねじり振動自在に支持するものである。
このようなマイクロ揺動体装置において、上記可動部６の上に光偏向素子である反射面が配置された構成とすることで、このマイクロ揺動体装置を光偏向器として利用することができる。

このように構成されたマイクロ揺動体装置においては、ねじり軸Ｂまわりにねじり振動の固有振動モードを有する。
その周波数ｆは良く知られているように、つぎの（式１）で表される。

ｆ＝１／（２・π）・√（２・Ｋ／Ｉ） （式１）

ここで、Ｋは１つの支持部３のねじり軸Ｂまわりのねじりバネ定数、Ｉは可動部６のねじり軸Ｂまわりの慣性モーメントを示している。
このような、固有振動モードの周波数ｆは、例えば、後述する光偏向器での応用のように、駆動周波数をこれとほぼ一致させることで省電力な駆動を実現できる。周波数ｆが、駆動周波数を決定してしまうため、周波数ｆの製造ばらつきが小さいことが望ましい。

一方、図１（ｂ）に示されるように、マイクロ揺動体装置の裏面における可動部６には、永久磁石７が設置されている。
永久磁石７は、図の長軸方向に着磁されている。そして、図示しない電磁コイルにより、交流磁界を印加し、トルクを発生することができる。
交流磁界の周波数を固有振動モードの周波数ｆ付近とすることにより、共振現象を利用した揺動を行うことが可能となる。
また、可動部は、前記共振周波数を調整するため、該可動部の表面に該可動部の質量を調整する質量調整剤が付加される付加領域を備えている。
具体的には、付加領域８が可動部６の４角に図示のように設置されている。そして、４箇所のうち２個所には、質量調整剤５が付加されている。

本実施形態のマイクロ揺動体装置においては、質量調整剤５は付加領域８によって定められた領域に、精度よく付加するために、可動部の付加領域の表面は周辺よりも前記質量調整剤とのぬれ性が高く構成されている。
図２に、本実施形態のマイクロ揺動体装置における質量調整剤とのぬれ性が高く構成された可動部の付加領域の構成を説明するための図１（ｂ）におけるＣ−Ｃ断面を示す。
図２に示すように、本実施形態のマイクロ揺動体装置では、付加領域の表面は周辺よりも前記質量調整剤とのぬれ性が高く構成され、質量調整剤５は付加領域８によって定められた領域に付加されるように構成されている。
具体的には、質量調整剤５は付加領域８と良好なぬれ性を有する部材で形成され、これに対して付加領域８の周辺となる可動部６の面はぬれ性が低い構成とされている。

つぎに、本実施形態のマイクロ揺動体装置を製造するに際し、慣性モーメントを調整する方法について説明する。
図３に、本実施形態のマイクロ揺動体装置の製造における慣性モーメントの調整に際し、質量調整剤を付加する工程を模式的に説明するための図１（ｂ）のＣ−Ｃ断面を示す。

本実施形態において、質量調整剤５として、例えば、紫外線で硬化する付加領域８とぬれ性が良好な樹脂を用いることができる。
このような樹脂による質量調整剤５は、ディスペンサ９により、付加領域８に滴下される。滴下量は、予め測定された固有振動モードの周波数と調整目標値との差から、上記した式１の関係を用いて、必要な慣性モーメント調整量を算出することで決定される。
上記樹脂による質量調整剤５は、付加領域８とぬれ性が良好であり、一方、付加領域８の周囲は、上記樹脂による質量調整剤５とはぬれ性が良好でない。
したがって、滴下後、上記樹脂による質量調整剤５は、付加領域８内にぬれ性によりとどまる。その後、紫外線を照射し、質量調整剤５を固着することができる。
ここで、本実施形態のマイクロ揺動体装置においては、固有振動モードの周波数は、調整目標値に対して高く設定されている。
したがって、上記した、式１でのねじりバネ定数Ｋがばらつきを有していても、質量調整剤５を付加するのみで、目標値へ調整することが可能となる。

このように、本実施形態のマイクロ揺動体装置によれば、付加領域８を質量調整剤５に対するぬれ性を周囲より良好にすることにより、付加領域内に滴下された質量調整剤５を、液体の状態で正確な位置に、とどめることが可能となる。
したがって、質量調整剤５の付加位置を高精度とすることができ、これにより慣性モーメントを調整することで、マイクロ揺動体装置の固有振動モードの周波数を高精度に調整することができる。これにより、省電力で駆動することが可能となるマイクロ揺動体装置を実現することができる。
また、質量調整剤５と付加領域８のこのような性質により、ディスペンサ９の位置は、付加領域８内のいずれかの位置でよいため、滴下のための位置決め精度を緩和しても、正確に周波数調整可能となる。
また、ぬれ性がよい表面に滴下するため、固着後の密着性が強固となるため、質量調整剤５が剥離したりせず、周波数調整の耐久性、信頼性を向上させることが可能となる。

以下に、本発明の実施例について説明する。
［実施例１］
実施例１では、本発明の揺動体装置の構成を適用したマイクロ揺動体装置及びその製造方法の構成例について、図１を用いて説明する。
本実施例は、基本的な構成が実施形態１と同様であるから、実施形態１における図１の説明と重複する部分の説明については省略する。

本実施例において、マイクロ揺動体装置の可動部６は、厚さ３００μｍ、ねじり軸Ｂの方向の長さが０．８ｍｍ、幅が３．２ｍｍの可動板で形成されている。単結晶シリコンをドライエッチングにより、エッチングして支持基板２、支持部３、可動部（可動板）６を形成する。
付加領域８は、予めシリコン酸化膜をフォトリソグラフでパターニングし形成する。
付加領域８は親水性の性質を有し、その周辺はシリコン表面が露出しているため、付加領域８と比べ疎水性が高い。
そして、質量調整剤５として、親水性を有する紫外線硬化樹脂を用いる。
したがって、本実施例では、親水性の付加領域８内に、質量調整剤５を保持することが可能となる。
また、親水性を有する紫外線硬化樹脂による質量調整剤５は、親水性の性質を有する付加領域８とぬれ性が良好であるので、紫外線照射後、質量調整剤５の密着性を強固とすることができる。

本実施例において、質量調整剤５として、樹脂を用いることにより、マイクロ構造体の周波数の調整分解能を高くすることができる。
樹脂は、密度が低いことから、質量調整剤を付加する工程で、圧力式のディスペンサやインクジェット方式により、ノズルから樹脂の液滴を塗布する微小塗布装置を用い、微小な液滴として滴下し、付加領域に塗布できるため、調整分解能を高くすることができる。
また、塗布のための装置が小型でよいため安価に調整可能となる。更に、樹脂の硬化には、２００度を大きく越えるような高温が不必要なため、マイクロ構造体の永久磁石などの構成物に熱による特性の劣化を引き起こさないで、製造可能となる。

また、本実施例によれば、質量調整剤５として、親水性の性質を有する物質を用いることにより、付加領域８を同じく親水性とし、周辺を疎水性とする構成が可能となる。
この構成により、付加領域８以外の面は疎水性であるため、空気中の汚れが付着しにくい構成とすることが可能となる。
また、シリコン表面は、特別な処理をほどこさない場合、疎水性であるため、シリコン基板に親水性の付加領域８のみ形成すれば、シリコンを用いて簡単な構成でこのような構成が容易に実施可能となる。
シリコンは、半導体製造方法を用いて微細な構造体を形成可能であり、剛性が高く、密度が小さいため、マイクロ揺動体装置を構成するのに適した材料である。さらに、疎水性の汚れが多い環境では、質量調整剤５に付着・吸収される汚れが少なくなるため、密着性の劣化や質量自体の変化を引き起こしにくくすることが可能である。

一方、本実施例において、質量調整剤５として、上記した親水性に限られず、疎水性の性質を有する紫外線硬化樹脂を用いることもできる。
この場合には、例えば、可動部（可動板）６の表面に、シリコン酸化膜を蒸着して親水性を有する構成にする。
これに対して、付加領域８は、シリコン表面を露出させて疎水性を有する構成にする。
これにより、質量調整剤５と付加領域８を同じく疎水性とし、良好なぬれ性を有する構成とすることができる。
また、質量調整剤５を疎水性の性質を有する物質とすることにより、質量調整剤５が周囲の親水性の物質、特に、水分など、を吸収することを防止することで、密着性の劣化や、質量自体の変化を引き起こすことを抑制することが可能となる。
更に、付加領域８の周囲が親水性の性質となるため、疎水性の汚れが多い環境では、可動部６への汚れの付着を減ずることが可能となる。

本実施例によれば、質量調整剤５の付加位置を高精度とすることができ、これにより慣性モーメントを調整することで、マイクロ揺動体装置の固有振動モードの周波数を高精度に調整することができる。
これにより、省電力で駆動することが可能となるマイクロ揺動体装置を実現することができる。

［実施例２］
実施例２では、本発明の揺動体装置の構成を適用した実施例１とは異なる形態のマイクロ揺動体装置及びその製造方法の構成例について説明する。
図４に、本発明の実施例２におけるマイクロ揺動体装置の構成例について説明する上面図を示す。

図４には、図１の実施例１と同じ構成に同一の符号が付されており、本実施例における支持基板２、支持部３、可動部６、永久磁石７は、実施例１と同じ寸法で形成されている。
また、支持基板２、支持部３、可動部６は、単結晶シリコンをドライエッチングにより、エッチングして形成される。
付加領域８、反射面４は、アルミを真空蒸着し、その後フォトリソグラフでパターニングし形成される。

本実施例のマイクロ揺動体装置においては、質量調整剤５は付加領域８によって定められた領域に、精度よく付加するために、可動部の付加領域の表面は周辺よりも前記質量調整剤とのぬれ性が高く、つぎのように構成されている。
図５に、本実施例のマイクロ揺動体装置における質量調整剤とのぬれ性が高く構成された可動部の付加領域の構成を説明するための図４（ｂ）におけるＣ−Ｃ断面を示す。
本実施例において、付加領域８は、アルミ表面であり、付加領域８の周囲はシリコン表面が露出している。
更に、本実施例においては、質量調整剤５として、アルミにぬれ性の高いはんだが用いられる。
したがって、付加領域８は質量調整剤５とぬれ性が高く、付加領域８の周辺部は質量調整剤５とぬれ性が低い構成となる。

このような構成により、図５に示されるように、付加領域８に質量調整剤５を精度良く付加することが可能となる。
また、はんだを用いることにより、密度の大きい金属材料を質量調整剤５として用いることができるため、少ない体積の質量調整剤を用いて大きな周波数変化を調整することが可能となる。
また、密度が大きいことにより、質量調整剤を塗布する付加領域の面積を小さくでき、可動部６を小型とすることができる。
そのため、駆動時の空気抵抗を低減可能であるため、駆動の不安定性を低減できる。

つぎに、本実施例のマイクロ揺動体装置の製造に際し、慣性モーメントの調整方法について説明する。
この方法で慣性モーメントを調整することで、周波数を高精度に調整することが可能となる。
図６に、本実施例のマイクロ揺動体装置の製造での慣性モーメントの調整に際し、質量調整剤を付加する工程を模式的に説明するための図４（ｂ）におけるＣ−Ｃ断面を示す。

本実施例において、質量調整剤５としてのはんだは、レーザはんだ付け装置１０により、非接触で付加領域８に溶着される。
はんだを溶着される位置の精度が高精度でなくとも、付加領域８の位置精度によって、はんだの溶着位置の精度を決定することができる。
そのため、調整のための装置を簡便な装置とすることができるため、安価に周波数調整が可能となる。
また、付加領域８の表面は、更に、周辺よりも表面粗さが大きい粗さとすることにより、はんだとのぬれ性を上げることができる。
例えば、付加領域８のみサンドブラスト加工を施す。はんだは表面があらい面にぬれ性が良好なため、質量調整剤５が剥離したりせず、周波数の耐久性、信頼性が向上する。
本実施例では、反射面４により、光を走査する光偏向器として機能する。
質量調整剤５により固有振動モードの周波数が良好に調整されるため、個々の光偏向器における、可動部の振れ角のばらつきを抑制することが可能となる。

［実施例３］
実施例３では、本発明の揺動体装置を適用して構成した光偏向器を用いた画像形成装置の構成例について説明する。
図７に、本実施例における画像形成装置の構成例を説明する概略斜視図を示す。
図７に示す本実施例の画像形成装置において、７０３は本発明の揺動体装置を適用して構成した光偏向器であり、本実施例では入射光を１次元に走査する。
７０１はレーザ光源、７０２はレンズ或いはレンズ群、７０４は書き込みレンズ或いはレンズ群、７０５はドラム状の感光体である。

本実施例の画像形成装置は、光源と、感光体と、上記の光偏向器と、を有し、前記光源からの光を前記光偏向器により偏向し、前記光の少なくとも一部を、前記感光体上に入射するように構成されている。
さらに具体的に説明すると、レーザ光源７０１から射出されたレーザ光は、光の偏向走査のタイミングと関係した所定の強度変調を受けている。
この強度変調光は、レンズ或いはレンズ群７０２を通って、光走査系（光偏向器）７０３により１次元的に走査される。この走査されたレーザ光は、書き込みレンズ或いはレンズ群７０４により、感光体７０５上に画像を形成する。
ここで、走査方向と直角な方向に回転軸の回りに回転される感光体７０５は、図示しない帯電器により一様に帯電されており、この上に光を走査することによりその走査部分に静電潜像が形成される。
次に、図示しない現像器により静電潜像の画像部分にトナー像が形成され、これを、例えば、図示しない用紙に転写・定着することで用紙上に画像が形成される。
本実施例によれば、本発明の揺動体装置を適用して構成した上記光偏向器７０３を用いることで、所定の周波数に良好に調整され、良好な画像を形成することが可能となる。

本発明の実施の形態におけるマイクロ揺動体装置の構成を説明する図である。図１（ａ）は、本実施形態のマイクロ揺動体装置の表面を示す上面図であり、図１（ｂ）は上記図１（ａ）におけるマイクロ揺動体装置の裏面を示す図である。 本発明の実施の形態のマイクロ揺動体装置における質量調整剤とのぬれ性が高く構成された可動部の付加領域の構成を説明するための図１（ｂ）におけるＣ−Ｃ断面を示す図である。 本発明の実施の形態のマイクロ揺動体装置の製造での慣性モーメントの調整に際し、質量調整剤を付加する工程を模式的に説明するための図１（ｂ）のＣ−Ｃ断面を示す図である。 本発明の実施例２におけるマイクロ揺動体装置の構成を説明する上面図である。 本発明の実施例２のマイクロ揺動体装置における質量調整剤とのぬれ性が高く構成された可動部の付加領域の構成を説明するための図４（ｂ）におけるＣ−Ｃ断面を示す図である。 本発明の実施例２のマイクロ揺動体装置の製造での慣性モーメントの調整に際し、質量調整剤を付加する工程を模式的に説明するための図４（ｂ）におけるＣ−Ｃ断面を示す図である。 本発明の実施例３における画像形成装置の構成例を説明する概略斜視図である。

符号の説明

２：支持基板
３：支持部
４：反射面
５：質量調整剤
６：可動部
７：永久磁石
８：付加領域
９：ディスペンサ
１０：レーザはんだ付け装置
７０１：光源（レーザ光源）
７０２：レンズ或はレンズ群
７０３：光偏向器（光走査系）
７０４：書き込みレンズ或はレンズ群
７０５：感光体

Claims (11)

1. 支持基板に対し、支持部によってねじり軸まわりに揺動可能に支持された可動部を備え、該可動部を該ねじり軸まわりに共振周波数で駆動する揺動体装置であって、
   前記可動部は、該可動部の質量を調整する質量調整剤を付加する付加領域を備えると共に、該付加領域の表面は周辺よりも前記質量調整剤とのぬれ性が高く構成され、
   前記付加領域への質量調整剤の付加によって、前記可動部の共振周波数が調整可能に構成されていることを特徴とする揺動体装置。
2. 前記付加領域の表面が親水性に構成され、且つ質量調整剤が親水性の部材で構成されることにより、前記ぬれ性の高い構成とされていることを特徴とする請求項１に記載の揺動体装置。
3. 前記付加領域の表面が疎水性に構成され、且つ質量調整剤が疎水性の部材で構成されることにより、前記ぬれ性の高い構成とされていることを特徴とする請求項１に記載の揺動体装置。
4. 前記質量調整剤が、樹脂で構成されていることを特徴とする請求項２または請求項３に記載の揺動体装置。
5. 前記付加領域がアルミで構成され、前記質量調整剤がはんだで構成されることにより、前記ぬれ性の高い構成とされていることを特徴とする請求項１に記載の揺動体装置。
6. 前記付加領域の表面は、周辺よりも表面粗さが大きい粗さに構成されていることを特徴とする請求項５に記載の揺動体装置。
7. 請求項１から６のいずれか１項に記載の揺動体装置と、
   該揺動体装置における前記可動部に設けられた光偏向素子と、
   を有することを特徴とする光偏向器。
8. 光源と、感光体と、請求項７に記載の光偏向器と、を有し、
   前記光源からの光を前記光偏向器により偏向し、前記光の少なくとも一部を、前記感光体上に入射することを特徴とする画像形成装置。
9. 支持基板に対し、支持部によってねじり軸まわりに揺動可能に支持された可動部を備え、該可動部を該ねじり軸まわりに共振周波数で駆動する揺動体装置の製造方法であって、
   前記可動部の共振周波数を調整するため、前記可動部の表面に該可動部の質量を調整する質量調整剤を付加するに際し、
   前記可動部の表面に設けられた前記質量調整剤を付加する付加領域を、周辺よりも前記質量調整剤とのぬれ性が高くなるように形成し、該付加領域に前記質量調整剤を付加する工程を有することを特徴とする揺動体装置の製造方法。
10. 前記質量調整剤を付加するに際し、ノズルから樹脂の液滴を塗布する微小塗布装置を用い、前記付加領域に樹脂による前記質量調整剤を塗布することを特徴とする請求項９に記載の揺動体装置の製造方法。
11. 前記質量調整剤を付加するに際し、前記付加領域をアルミで形成し、レーザはんだ付け装置を用い、該アルミによる付加領域に、はんだによる前記質量調整剤を溶着することを特徴とする請求項９に記載の揺動体装置の製造方法。

Images