JP2009083183A - 光学薄膜積層体 - Google Patents
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Abstract
【課題】可視光の透過率が低く、反射明度および反射彩度が十分に大きい金属光沢を有し、光吸収機能の得られる光吸収層を備える光学薄膜積層体を提供する。
【解決手段】基材２上に、光学薄膜層３が設けられ、光学薄膜層３が、高屈折率薄膜層４，７と低屈折率薄膜層５と純金属薄膜層６から選択される少なくとも一種からなる光吸収層を備えていることを特徴とする光学薄膜積層体１とする。
【選択図】図１
【解決手段】基材２上に、光学薄膜層３が設けられ、光学薄膜層３が、高屈折率薄膜層４，７と低屈折率薄膜層５と純金属薄膜層６から選択される少なくとも一種からなる光吸収層を備えていることを特徴とする光学薄膜積層体１とする。
【選択図】図１
Description
本発明は、光学薄膜積層体、加飾部材、加飾成形品に関し、特に、光吸収層が備えられ、可視光の透過率が低く、反射明度および／または反射彩度の大きい金属光沢の得られる光学薄膜積層体に関する。
従来から、基材上に、高屈折率薄膜層と低屈折率薄膜層とを複数回積層してなる光学薄膜層を有する光学薄膜積層体がある（例えば、特許文献１参照）。
このような光学薄膜積層体においては、高屈折率薄膜層および低屈折率薄膜層の材料として、可視光領域の消衰係数がゼロであるものを用いることで、光学薄膜層中での可視光領域の光の吸収率を小さくすることができ、光学薄膜層中での光の損失を低減できる。
このような光学薄膜積層体においては、高屈折率薄膜層および低屈折率薄膜層の材料として、可視光領域の消衰係数がゼロであるものを用いることで、光学薄膜層中での可視光領域の光の吸収率を小さくすることができ、光学薄膜層中での光の損失を低減できる。
また、このような光学薄膜積層体は、従来から例えば、自動車部材、車両部材、家電用品部材、携帯電話部材、携帯ゲーム機部材、パーソナルコンピューター部材、ＰＤＡ（Ｐｅｒｓｏｎａｌ Ｄｉｇｉｔａｌ Ａｓｓｉｓｔａｎｔ）部材、オーディオ製品部材、カーナビゲーション部材、事務用品部材、スポーツ用品部材、雑貨部材、メガネ・サングラス部材、カメラ部材、光学用品部材、計測機器部材等の加飾部材に用いられている。
特開２００５−２４８２７６号公報
しかしながら、従来の光学薄膜積層体は、以下に示す不都合があるため、加飾部材として用いた場合における多様な表面加飾性の要求に十分に対応できない場合があった。
すなわち、可視光領域での消衰係数がゼロである材料を使用した光学薄膜積層体は、反射、透過の無彩色を黒色にすることは不可能である。可視光領域での消衰係数がゼロの材料を使用した光学薄膜積層体では、実現可能な反射、透過の無彩色は、銀色であり、反射率が高くなるにつれて鏡面光沢性が増大する。
すなわち、可視光領域での消衰係数がゼロである材料を使用した光学薄膜積層体は、反射、透過の無彩色を黒色にすることは不可能である。可視光領域での消衰係数がゼロの材料を使用した光学薄膜積層体では、実現可能な反射、透過の無彩色は、銀色であり、反射率が高くなるにつれて鏡面光沢性が増大する。
また、可視光領域での消衰係数がゼロの材料を使用した光学薄膜積層体では、ＣＩＥＬＡＢ（ＪＩＳ Ｚ ８７２９に準拠）の明度、彩度を増大させるには限界がある。なぜなら、可視光領域での消衰係数がゼロである実用的な材料の屈折率が１．４〜２．４の間にあり、低屈折率薄膜層材料と高屈折率薄膜層材料との間で屈折率の差をこれ以上大きく取れないからである。
また、可視光領域での消衰係数がゼロである材料を使用して光学薄膜積層体の明度、彩度を増大させる方法として、高屈折率薄膜層および低屈折率薄膜層の積層数を増やす方法がある。しかし、この方法では、積層数を増加させるにつれて以下に示すような様々な問題が生じる。すなわち、工程数の増加、生産コストの上昇、基材のカールの発生と膜割れ・膜剥がれ、光学特性の再現性の難易度の上昇等である。
本発明はこのような事情に鑑みてなされたものであって、可視光の透過率が低く、反射明度および／または反射彩度が大きい金属光沢を有する光学薄膜積層体を提供することを目的とする。
また、本発明は、本発明の光学薄膜積層体を備えた表面加飾性に優れた加飾部材、および本発明の光学薄膜積層体を用いた表面加飾性に優れた加飾成形品を提供することを目的とする。
また、本発明は、本発明の光学薄膜積層体を備えた表面加飾性に優れた加飾部材、および本発明の光学薄膜積層体を用いた表面加飾性に優れた加飾成形品を提供することを目的とする。
上記課題を解決するために、本発明の光学薄膜積層体は、基材上に、光学薄膜層が設けられ、前記光学薄膜層が、高屈折率薄膜層と低屈折率薄膜層と純金属薄膜層から選択される少なくとも一種からなる光吸収層を備えていることを特徴とする。
また、上記の光学薄膜積層体においては、前記光吸収層の波長５５０ｎｍでの消衰係数が０．０１以上であるものとすることができる。
また、上記の光学薄膜積層体においては、前記高屈折率薄膜層の波長５５０ｎｍでの屈折率が１．７５以上であり、前記低屈折率薄膜層の波長５５０ｎｍでの屈折率が１．７５未満であるものとすることができる。
また、上記の光学薄膜積層体においては、前記光学薄膜層が、真空成膜法により形成されたものとすることができる。
上記課題を解決するために、本発明の加飾部材は、上記のいずれかに記載の光学薄膜積層体を具備してなることを特徴とする。
また、本発明の加飾成形品は、上記のいずれかに記載の光学薄膜積層体を成形してなることを特徴とする。
また、本発明の加飾成形品は、上記のいずれかに記載の光学薄膜積層体を成形してなることを特徴とする。
本発明の光学薄膜積層体は、基材上に、光学薄膜層が設けられ、前記光学薄膜層が、高屈折率薄膜層と低屈折率薄膜層と純金属薄膜層から選択される少なくとも一種からなる光吸収層を備えているので、光吸収層の光吸収機能によって可視光の透過率を低減させて、反射明度および／または反射彩度を増大させることができる。その結果、本発明の光学薄膜積層体は、反射明度および／または反射彩度の大きい金属光沢を有する表面加飾性に優れたものとなる。
また、本発明の加飾部材および加飾成形品は、本発明の光学薄膜積層体を用いているので、表面加飾性に優れたものとなる。
また、本発明の加飾部材および加飾成形品は、本発明の光学薄膜積層体を用いているので、表面加飾性に優れたものとなる。
以下、本発明の実施形態について、図面を参照して説明する。
図１は、本発明の光学薄膜積層体の一例を示す断面図である。図１に示す光学薄膜積層体１は、基材２上に光学薄膜層３が設けられたものである。
図１は、本発明の光学薄膜積層体の一例を示す断面図である。図１に示す光学薄膜積層体１は、基材２上に光学薄膜層３が設けられたものである。
（基材）
基材２の材料としては、透明性を有しているものであれば特に限定されるものではなく、プラスチック、ガラス、あるいはこれらを複合した素材などが挙げられる。
プラスチック素材としては、例えば、ポリエステル、ポリアミド、ポリイミド、ポリプロピレン、ポリエチルペンテン、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリビニルアセタール、ポリビニルアルコール、ポリウレタン、ポリエチルメタクリレート、ポリカーボネート、ポリスチレン、ポリフェニレンサルファイト、ポリエーテルサルホン、ポリエーテルスルフォン、ポリオレフィン、ポリアリレート、ポリスルホン、ポリパラキシレン、ポリエーテルエーテルケトン、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリフェニルオキサイド、トリアセチルセルロース、セルロースアセテート、珪素樹脂、フッ素樹脂、アクリル樹脂、フェノール樹脂、エポキシ樹脂、ＡＢＳ樹脂、ＡＢＳアロイ等が挙げられるが、これらに限定されるものではない。また、プラスチック素材には、公知の添加剤、例えば、紫外線吸収剤、可塑剤、滑剤、着色剤、酸化防止剤、難燃剤等が含有されていてもよい。
ガラス素材としては、例えば、ソーダライムガラス、硼珪酸ガラス、石英ガラス、パイレックス（登録商標）ガラス、無アルカリガラス、鉛ガラス等が挙げられるが、これらに限定されるものではない。
基材２の材料としては、透明性を有しているものであれば特に限定されるものではなく、プラスチック、ガラス、あるいはこれらを複合した素材などが挙げられる。
プラスチック素材としては、例えば、ポリエステル、ポリアミド、ポリイミド、ポリプロピレン、ポリエチルペンテン、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリビニルアセタール、ポリビニルアルコール、ポリウレタン、ポリエチルメタクリレート、ポリカーボネート、ポリスチレン、ポリフェニレンサルファイト、ポリエーテルサルホン、ポリエーテルスルフォン、ポリオレフィン、ポリアリレート、ポリスルホン、ポリパラキシレン、ポリエーテルエーテルケトン、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリフェニルオキサイド、トリアセチルセルロース、セルロースアセテート、珪素樹脂、フッ素樹脂、アクリル樹脂、フェノール樹脂、エポキシ樹脂、ＡＢＳ樹脂、ＡＢＳアロイ等が挙げられるが、これらに限定されるものではない。また、プラスチック素材には、公知の添加剤、例えば、紫外線吸収剤、可塑剤、滑剤、着色剤、酸化防止剤、難燃剤等が含有されていてもよい。
ガラス素材としては、例えば、ソーダライムガラス、硼珪酸ガラス、石英ガラス、パイレックス（登録商標）ガラス、無アルカリガラス、鉛ガラス等が挙げられるが、これらに限定されるものではない。
また、基材２の形状は、特に限定されず、例えば、板状、ロール状等とすることができる。
基材２の厚さは、目的の用途に応じて適宜選択され、通常５μｍ以上１０ｍｍ以下とされる。
基材２の厚さは、目的の用途に応じて適宜選択され、通常５μｍ以上１０ｍｍ以下とされる。
基材２の表面は、平滑であることが好ましい。また、基材２の表面は、光学薄膜層３を形成する前に、必要に応じて表面処理を施してもよい。ここでの表面処理法としては、例えば、コロナ処理法、蒸着処理法、電子ビーム処理法、高周波放電プラズマ処理法、スパッタリング処理法、イオンビーム処理法、大気圧グロー放電プラズマ処理法、アルカリ処理法、酸処理法等が挙げられる。
（光学薄膜層）
図１に示す光学薄膜積層体１を構成する光学薄膜層３は、基材２に近い側から高屈折率薄膜層４、低屈折率薄膜層５、純金属薄膜層６、高屈折率薄膜層７の４層が順次積層されてなるものである。光学薄膜層３は、高屈折率薄膜層４、７と低屈折率薄膜層５と純金属薄膜層６から選択される少なくとも一種からなる光吸収層を備えるものである。
図１に示す光学薄膜積層体１を構成する光学薄膜層３は、基材２に近い側から高屈折率薄膜層４、低屈折率薄膜層５、純金属薄膜層６、高屈折率薄膜層７の４層が順次積層されてなるものである。光学薄膜層３は、高屈折率薄膜層４、７と低屈折率薄膜層５と純金属薄膜層６から選択される少なくとも一種からなる光吸収層を備えるものである。
図１に示す光学薄膜積層体１では、光学薄膜層３の光吸収機能は、光学薄膜層３を構成する上記４層のうち少なくとも１つを、光の波長５５０ｎｍでの消衰係数が０．０１以上である光吸収層とすることによって得られる。消衰係数が０．０１以上である場合には、十分な光吸収機能が得られる。一方、消衰係数が０．０１未満である場合には、光透過性に優れたものとなる。したがって、光学薄膜層３を構成する上記４層のそれぞれの層を光吸収機能を有する薄膜（すなわち光吸収層）とするか、あるいは、光学薄膜層３を構成する上記４層の内の何れの層を光透過性に優れた透明薄膜とするかは、使用する材料の消衰係数の値によって決定することが可能である。
また、光吸収層の波長５５０ｎｍでの消衰係数は７以下であることが好ましい。消衰係数が７を超えると、光透過性が不十分となって、多様な用途に適用できなくなる恐れがある。
また、光吸収層の波長５５０ｎｍでの消衰係数は７以下であることが好ましい。消衰係数が７を超えると、光透過性が不十分となって、多様な用途に適用できなくなる恐れがある。
なお、光学薄膜層３を構成する材料における屈折率および消衰係数の光学定数は、分光エリプソメトリー法を用い、高屈折率薄膜層４、７の試料、低屈折率薄膜層５の試料および純金属薄膜層６の試料の表面から反射してくる光の偏光状態の変化を測定することで求めることができる。
（高屈折率薄膜層）
図１に示す高屈折率薄膜層４、７は、光の波長５５０ｎｍでの屈折率が１．７５以上のものである。高屈折率薄膜層４、７を光の透過性に優れたものとする場合には、高屈折率薄膜層４、７として可視光領域での消衰係数が０．０１未満のものが用いられる。
図１に示す高屈折率薄膜層４、７は、光の波長５５０ｎｍでの屈折率が１．７５以上のものである。高屈折率薄膜層４、７を光の透過性に優れたものとする場合には、高屈折率薄膜層４、７として可視光領域での消衰係数が０．０１未満のものが用いられる。
高屈折率薄膜層４、７の材料としては、例えば、テルル化鉛（ＰｂＴｅ）（屈折率１．７５、消衰係数２．９０）、三酸化イットリウム（Ｙ２Ｏ３）（屈折率１．７９、消衰係数０）、二酸化トリウム（ＴｈＯ２）（屈折率１．８０、消衰係数０）、三酸化ビスマス（Ｂｉ２Ｏ３）（屈折率１．９１、消衰係数０）、三酸化ガドリニウム（Ｇｄ２Ｏ３）（屈折率１．９３、消衰係数０）、三酸化ランタン（Ｌａ２Ｏ３）（屈折率１．９５、消衰係数０）、十一酸化プラセオジム（Ｐｒ６Ｏ１１）（屈折率１．９５、消衰係数０）、二酸化ハフニウム（ＨｆＯ２）（屈折率１．９９、消衰係数０）、三酸化ネオジウム（Ｎｄ２Ｏ３）（屈折率２．００、消衰係数０）、一酸化珪素（ＳｉＯ）（屈折率２．００、消衰係数０．０３）、二酸化錫（ＳｎＯ２）（屈折率２．００、消衰係数０）、一酸化亜鉛（ＺｎＯ）（屈折率２．００、消衰係数０）、三酸化アンチモン（Ｓｂ２Ｏ３）（屈折率２．０４、消衰係数０）、三酸化インジウム（Ｉｎ２Ｏ３）と二酸化錫（ＳｎＯ２）との混合物（ＩＴＯ）（屈折率２．０５、消衰係数０．０１）、一窒化珪素（ＳｉＮ）（屈折率２．０６、消衰係数０）、二酸化ジルコニウム（ＺｒＯ２）（屈折率２．０６、消衰係数０）、五酸化タンタル（Ｔａ２Ｏ５）（屈折率２．１４、消衰係数０）、二酸化セリウム（ＣｅＯ２）（屈折率２．２０、消衰係数０）、三酸化クロム（Ｃｒ２Ｏ３）（屈折率２．２４、消衰係数０．０７）、五酸化ニオブ（Ｎｂ２Ｏ５）（屈折率２．２７、消衰係数０）、二酸化チタン（ＴｉＯ２）（屈折率２．３２、消衰係数０）、一硫化亜鉛（ＺｎＳ）（屈折率２．３５、消衰係数０）、一炭化珪素（ＳｉＣ）（屈折率２．６６、消衰係数０）、セレン化亜鉛（ＺｎＳｅ）（屈折率２．６９、消衰係数０．０２）、三硫化アンチモン（Ｓｂ２Ｓ３）（屈折率３．００、消衰係数０）、ゲルマニウム（Ｇｅ）（屈折率３．９５、消衰係数１．９８）、珪素（Ｓｉ）（屈折率４．０８、消衰係数０．０４）等、または、これらの混合物等が挙げられる。これら化合物の化学組成は、化学量論的な組成と一致していてもよいし、一致していなくてもよい。
上記の高屈折率薄膜層４、７の材料において、括弧内に記載した屈折率および消衰係数は光の波長５５０ｎｍでの値である。
上記の高屈折率薄膜層４、７の材料において、括弧内に記載した屈折率および消衰係数は光の波長５５０ｎｍでの値である。
なお、図１に示す高屈折率薄膜層４と高屈折率薄膜層７の材料は、同一であってもよいし、同一でなくてもよく、光学薄膜積層体１の用途や高屈折率薄膜層４および高屈折率薄膜層７を設ける目的などに合わせて適宜選択できる。
（低屈折率薄膜層）
図１に示す低屈折率薄膜層５は、光の波長５５０ｎｍでの屈折率が１．７５未満のものである。低屈折率薄膜層５を光の透過性に優れたものとする場合には、低屈折率薄膜層５として可視光領域での消衰係数が０．０１未満のものが用いられる。
図１に示す低屈折率薄膜層５は、光の波長５５０ｎｍでの屈折率が１．７５未満のものである。低屈折率薄膜層５を光の透過性に優れたものとする場合には、低屈折率薄膜層５として可視光領域での消衰係数が０．０１未満のものが用いられる。
低屈折率薄膜層５の材料としては、例えば、一窒化チタン（ＴｉＮ）（屈折率１．２５、消衰係数２．１０）、チオライト（Ｎａ５Ａｌ３Ｆ１４）（屈折率１．３３、消衰係数０）、一弗化ナトリウム（ＮａＦ）（屈折率１．３４、消衰係数０）、クライオライト（Ｎａ３ＡｌＦ６）（屈折率１．３５、消衰係数０）、二弗化マグネシウム（ＭｇＦ２）（屈折率１．３８、消衰係数０）、一弗化リチウム（ＬｉＦ）（屈折率１．３９、消衰係数０）、二弗化カルシウム（ＣａＦ２）（屈折率１．４３、消衰係数０）、二酸化珪素（ＳｉＯ２）（屈折率１．４６、消衰係数０）、二弗化ストロンチウム（ＳｒＦ２）（屈折率１．４６、消衰係数０）、二弗化バリウム（ＢａＦ２）（屈折率１．４８、消衰係数０）、三弗化イッテルビウム（ＹｂＦ３）（屈折率１．５２、消衰係数０）、タングステンとチタンの窒化物（ＴｉＮｘＷｙ）（屈折率１．５４、消衰係数１．５２）、四弗化トリウム（ＴｈＦ４）（屈折率１．５６、消衰係数０）、四弗化ハフニウム（ＨｆＦ４）（屈折率１．５７、消衰係数０）、三弗化ランタン（ＬａＦ３）（屈折率１．５８、消衰係数０）、三弗化ネオジウム（ＮｄＦ３）（屈折率１．６０、消衰係数０）、三弗化セリウム（ＣｅＦ３）（屈折率１．６４、消衰係数０）、三酸化アルミニウム（Ａｌ２Ｏ３）（屈折率１．６７、消衰係数０）、一酸化マグネシウム（ＭｇＯ）（屈折率１．７４、消衰係数０）等、または、これらの混合物等が挙げられる。これらの化合物の化学組成は、化学量論的な組成と一致していてもよいし、一致していなくてもよい。
上記の低屈折率薄膜層５の材料において、括弧内に記載した屈折率および消衰係数は光の波長５５０ｎｍでの値である。
上記の低屈折率薄膜層５の材料において、括弧内に記載した屈折率および消衰係数は光の波長５５０ｎｍでの値である。
（純金属薄膜層）
純金属薄膜層６の材料としては、例えば、銀（Ａｇ）（屈折率０．０５５、消衰係数３．３２）、金（Ａｕ）（屈折率０．３３１、消衰係数２．３２）、銅（Ｃｕ）（屈折率０．６７０、消衰係数２．８６）、アルミニウム（Ａｌ）（屈折率０．８３４、消衰係数６．０３）、パラジウム（Ｐｄ）（屈折率１．６４、消衰係数３．８５）、ニッケル（Ｎｉ）（屈折率１．８７、消衰係数３．３２）、ロジウム（Ｒｈ）（屈折率１．９７、消衰係数５．０２）、白金（Ｐｔ）（屈折率２．１３、消衰係数３．７１）、タンタル（Ｔａ）（屈折率２．４８、消衰係数１．８３）、チタン（Ｔｉ）（屈折率２．５４、消衰係数３．３４）、鉄（Ｆｅ）（屈折率２．８９、消衰係数３．３５）、クロム（Ｃｒ）（屈折率３．１２、消衰係数４．４２）、タングステン（Ｗ）（屈折率３．２４、消衰係数２．４９）、モリブデン（Ｍｏ）（屈折率３．７９、消衰係数３．５１）等、または、これらの混合物が挙げられる。
上記の純金属薄膜層６の材料において、括弧内に記載した屈折率および消衰係数は光の波長５５０ｎｍでの値である。
なお、純金属薄膜層材料も屈折率により、高屈折率薄膜層材料、または低屈折率薄膜層材料に便宜上分類可能であるが、材料が純金属である場合は純金属薄膜層材料に分類して区分する。
純金属薄膜層６の材料としては、例えば、銀（Ａｇ）（屈折率０．０５５、消衰係数３．３２）、金（Ａｕ）（屈折率０．３３１、消衰係数２．３２）、銅（Ｃｕ）（屈折率０．６７０、消衰係数２．８６）、アルミニウム（Ａｌ）（屈折率０．８３４、消衰係数６．０３）、パラジウム（Ｐｄ）（屈折率１．６４、消衰係数３．８５）、ニッケル（Ｎｉ）（屈折率１．８７、消衰係数３．３２）、ロジウム（Ｒｈ）（屈折率１．９７、消衰係数５．０２）、白金（Ｐｔ）（屈折率２．１３、消衰係数３．７１）、タンタル（Ｔａ）（屈折率２．４８、消衰係数１．８３）、チタン（Ｔｉ）（屈折率２．５４、消衰係数３．３４）、鉄（Ｆｅ）（屈折率２．８９、消衰係数３．３５）、クロム（Ｃｒ）（屈折率３．１２、消衰係数４．４２）、タングステン（Ｗ）（屈折率３．２４、消衰係数２．４９）、モリブデン（Ｍｏ）（屈折率３．７９、消衰係数３．５１）等、または、これらの混合物が挙げられる。
上記の純金属薄膜層６の材料において、括弧内に記載した屈折率および消衰係数は光の波長５５０ｎｍでの値である。
なお、純金属薄膜層材料も屈折率により、高屈折率薄膜層材料、または低屈折率薄膜層材料に便宜上分類可能であるが、材料が純金属である場合は純金属薄膜層材料に分類して区分する。
図１に示す光学薄膜層３を構成する高屈折率薄膜層４、７、低屈折率薄膜層５および純金属薄膜層６の各層は、蒸着法、スパッタリング法、プラズマＣＶＤ（Ｃｈｅｍｉｃａｌ Ｖａｐｏｒ Ｄｅｐｏｓｉｔｉｏｎ）法、イオンプレーティング法、イオンビームアシスト法等の真空成膜法により形成することが好ましい。
光学薄膜層３を真空成膜法により形成する場合、基材２の表面形状を保持したまま光学薄膜層３となる薄膜を形成することが可能である。真空成膜法では、堆積される薄膜形成材料の大きさがオングストロームオーダーの原子・分子となる。このため、例えば、マイクロメーターオーダーの微細な凹凸を有する基材２上に光学薄膜層３を成膜した場合であっても、基材２上の凹凸を埋めずに基材２の表面に均一の厚さで光学薄膜層３となる薄膜が堆積される。したがって、基材２上の凹凸形状を保持した色ムラのない表面加飾性に優れた光学薄膜積層体１となる。
光学薄膜層３を真空成膜法により形成する場合、基材２の表面形状を保持したまま光学薄膜層３となる薄膜を形成することが可能である。真空成膜法では、堆積される薄膜形成材料の大きさがオングストロームオーダーの原子・分子となる。このため、例えば、マイクロメーターオーダーの微細な凹凸を有する基材２上に光学薄膜層３を成膜した場合であっても、基材２上の凹凸を埋めずに基材２の表面に均一の厚さで光学薄膜層３となる薄膜が堆積される。したがって、基材２上の凹凸形状を保持した色ムラのない表面加飾性に優れた光学薄膜積層体１となる。
図１に示す光学薄膜積層体１は、基材２上に、光学薄膜層３が設けられ、光学薄膜層３が、高屈折率薄膜層４、７と低屈折率薄膜層５と純金属薄膜層６から選択される少なくとも一種からなる光吸収層を備えているので、優れた光吸収機能が得られ、可視光の透過率を低くすることが可能である。
また、図１に示す光学薄膜積層体１は、光吸収層の波長５５０ｎｍでの消衰係数が０．０１以上とされており、加えて、高屈折率薄膜層４、７の波長５５０ｎｍでの屈折率が１．７５以上であり、低屈折率薄膜層５の波長５５０ｎｍでの屈折率が１．７５未満とすることにより、光学薄膜層３を形成する高屈折率薄膜層４、７と低屈折率薄膜層５の屈折率の差をより大きく取ることが可能になるため、反射明度および／または反射彩度をより一層増大させることができる。
また、図１に示す光学薄膜積層体１は、光学薄膜層３が、真空成膜法により形成されたものであるため、基材２の表面に均一の厚さで光学薄膜層３となる薄膜が堆積され、結果として、色ムラのない表面加飾性に優れたものとなる。
なお、本発明の光学薄膜積層体は、上述した例に限定されるものではない。
例えば、本発明を構成する光吸収層は、高屈折率薄膜層と低屈折率薄膜層と純金属薄膜層から選択される少なくとも一種からなるものであればよく、光学薄膜層のうち光吸収層を構成する層の数は、１層であってもよいし、２層以上であってもよく、層の数に制限はない。
また、本発明を構成する光学薄膜層は光吸収層を備えていればよく、光吸収層を兼ねる１層からなるものであってもよいし、２層以上が積層されてなるものであってもよく、層の数に制限はない。
例えば、本発明を構成する光吸収層は、高屈折率薄膜層と低屈折率薄膜層と純金属薄膜層から選択される少なくとも一種からなるものであればよく、光学薄膜層のうち光吸収層を構成する層の数は、１層であってもよいし、２層以上であってもよく、層の数に制限はない。
また、本発明を構成する光学薄膜層は光吸収層を備えていればよく、光吸収層を兼ねる１層からなるものであってもよいし、２層以上が積層されてなるものであってもよく、層の数に制限はない。
また、本発明の光学薄膜積層体は、自動車部材、車両部材、家電用品部材、携帯電話部材、携帯ゲーム機部材、パーソナルコンピューター部材、ＰＤＡ部材、オーディオ製品部材、カーナビゲーション部材、事務用品部材、スポーツ用品部材、雑貨部材、メガネ・サングラス部材、カメラ部材、光学用品部材、計測機器部材等の加飾部材として好ましく用いられる。
すなわち、本発明の光学薄膜積層体を成形することによって上述した種々の加飾部材となる加飾成形品が得られる。
すなわち、本発明の光学薄膜積層体を成形することによって上述した種々の加飾部材となる加飾成形品が得られる。
より具体的には、本発明の光学薄膜積層体は、例えば、携帯電話、ＰＤＡ、スマートフォン、携帯ゲーム機等に備えられた液晶などからなるディスプレイの画面上に貼り合わせて用いることができる。本発明の光学薄膜積層体をディスプレイの画面上に備えることで、例えば、ディスプレイ消灯時には光学薄膜積層体の光吸収機能によって液晶ディスプレイの画面が隠されて液晶素子が見えず、一方、ディスプレイ点灯時には光学薄膜積層体を介して液晶ディスプレイの画面に表示された画像が視認できるディスプレイとすることができる。
また、ディスプレイの画面上のみではなく、ディスプレイの周囲を構成する筐体にも本発明の光学薄膜積層体を被覆してもよい。この場合、例えば、ディスプレイ消灯時に、ディスプレイの画面の見た目の質感と筐体の見た目の質感とを近似させることができ、ディスプレイの画面のデザインと筐体のデザインとに統一感を持たせることができる。つまり、ディスプレイ点灯時にだけ、ディスプレイの画面上に画像が浮かび上がって視認できるものとすることができる。
また、ディスプレイの画面上のみではなく、ディスプレイの周囲を構成する筐体にも本発明の光学薄膜積層体を被覆してもよい。この場合、例えば、ディスプレイ消灯時に、ディスプレイの画面の見た目の質感と筐体の見た目の質感とを近似させることができ、ディスプレイの画面のデザインと筐体のデザインとに統一感を持たせることができる。つまり、ディスプレイ点灯時にだけ、ディスプレイの画面上に画像が浮かび上がって視認できるものとすることができる。
さらに、本発明の光学薄膜積層体を、携帯電話、テレビ、ラジオ、カーナビゲーション等の電波を送信・受信する機器の筐体部分の加飾部材として用いる場合、光学薄膜積層体を構成する基材および／または光学薄膜層に誘電性を有する材料を用いることが好ましい。基材および／または光学薄膜層に誘電性を有する材料を用いることによって、電波の反射・散乱によるアンテナの送信・受信感度の減衰や乱れを避けることができ、かつ可視光の透過率が低く、反射明度および／または反射彩度の大きい金属光沢を有する光学薄膜積層体を提供できる。
以下、本発明の実施例を具体的に説明する。
［実施例１］
以下に示すように、基材２である厚さ１００μｍの無色透明なポリエチレンテレフタレートのフィルム上に、高屈折率薄膜層４、低屈折率薄膜層５、純金属薄膜層６、高屈折率薄膜層７の４層が順次積層されてなる光学薄膜層３を形成して図１に示す光学薄膜積層体１を得た。
［実施例１］
以下に示すように、基材２である厚さ１００μｍの無色透明なポリエチレンテレフタレートのフィルム上に、高屈折率薄膜層４、低屈折率薄膜層５、純金属薄膜層６、高屈折率薄膜層７の４層が順次積層されてなる光学薄膜層３を形成して図１に示す光学薄膜積層体１を得た。
まず、基材２上に、二酸化チタン（ＴｉＯ２）を電子ビームを利用した真空蒸着法によって堆積させて、物理膜厚９５ｎｍの高屈折率薄膜層４を形成した。
次いで、高屈折率薄膜層４の上に、二酸化珪素（ＳｉＯ２）を電子ビームを利用した真空蒸着法によって堆積させて、物理膜厚８５ｎｍの低屈折率薄膜層５を形成した。
その後、低屈折率薄膜層５の上に、ニッケル（Ｎｉ）を電子ビームを利用した真空蒸着法によって堆積させて、物理膜厚８．５ｎｍの光吸収層である純金属薄膜層６を形成した。
続いて、純金属薄膜層６の上に、二酸化チタン（ＴｉＯ２）を電子ビームを利用した真空蒸着法によって堆積させて、物理膜厚２０ｎｍの高屈折率薄膜層７を形成し、光学薄膜層３を完成させて図１に示す実施例１の光学薄膜積層体１を完成させた。
次いで、高屈折率薄膜層４の上に、二酸化珪素（ＳｉＯ２）を電子ビームを利用した真空蒸着法によって堆積させて、物理膜厚８５ｎｍの低屈折率薄膜層５を形成した。
その後、低屈折率薄膜層５の上に、ニッケル（Ｎｉ）を電子ビームを利用した真空蒸着法によって堆積させて、物理膜厚８．５ｎｍの光吸収層である純金属薄膜層６を形成した。
続いて、純金属薄膜層６の上に、二酸化チタン（ＴｉＯ２）を電子ビームを利用した真空蒸着法によって堆積させて、物理膜厚２０ｎｍの高屈折率薄膜層７を形成し、光学薄膜層３を完成させて図１に示す実施例１の光学薄膜積層体１を完成させた。
その後、このようにして得られた光学薄膜積層体１の反射明度および反射色相・彩度を測定した。測定手順は次に示すとおりである。
まず、光学薄膜積層体１の光学薄膜層３を形成した側と反対側の基材２の表面全面を黒い塗料でムラの出ないように塗りつぶした。そして、黒い塗料で塗りつぶした基材２を光にかざして、基材２を通して光が漏れていないか確認した。
その後、基材２の黒塗りしなかった面（基材２の光学薄膜層３を形成した側の面）側を、Ｕ−４０００形 自記分光光度計（株式会社 日立製作所製）の測定光源に向けて設置した。このとき、光学薄膜層３を形成した基材２の表面における鉛直線に対して、測定光が５°の角度を持って基材２の表面に入射するように設置した。
まず、光学薄膜積層体１の光学薄膜層３を形成した側と反対側の基材２の表面全面を黒い塗料でムラの出ないように塗りつぶした。そして、黒い塗料で塗りつぶした基材２を光にかざして、基材２を通して光が漏れていないか確認した。
その後、基材２の黒塗りしなかった面（基材２の光学薄膜層３を形成した側の面）側を、Ｕ−４０００形 自記分光光度計（株式会社 日立製作所製）の測定光源に向けて設置した。このとき、光学薄膜層３を形成した基材２の表面における鉛直線に対して、測定光が５°の角度を持って基材２の表面に入射するように設置した。
そして、基材２の表面で正反射される光の方向で、かつ、２°視野になる位置に測光器を設置して、可視光領域（３８０〜７８０ｎｍ）における分光反射率を測定し、ＪＩＳ Ｚ ８７０１に規定される三刺激値Ｘ、Ｙ、Ｚを求めた。三刺激値Ｘ、Ｙ、Ｚの計算は５ｎｍ間隔で実施した。続いて、得られた三刺激値を用いてＪＩＳ Ｚ ８７２９に規定されるＬ＊ａ＊ｂ＊表色系（ＣＩＥＬＡＢ）の明度Ｌ＊、色相・彩度ａ＊、ｂ＊をＤ６５光源に関して求めた。
その結果、表１に示すように、Ｌ＊が２９．４、ａ＊が０．１、ｂ＊が０．０であった。
その結果、表１に示すように、Ｌ＊が２９．４、ａ＊が０．１、ｂ＊が０．０であった。
次に、視感平均透過率Ｙを測定した。
まず、光学薄膜積層体１の光学薄膜層３を形成した側を、Ｕ−４０００形 自記分光光度計（株式会社 日立製作所製）の測定光源に向けて設置した。このとき、光学薄膜層３を形成した基材２の表面における鉛直線に対して、測定光が５°の角度を持って基材２の表面に入射するように設置した。
そして、基材２を透過した光の方向で、かつ、２°視野になる位置に測光器を設置して可視光領域（３８０〜７８０ｎｍ）における分光透過率を測定し、ＪＩＳ Ｚ ８７０１に規定される三刺激値Ｘ、Ｙ、Ｚを求めた。三刺激値Ｘ、Ｙ、Ｚの計算は５ｎｍ間隔で実施した。
その結果、表１に示すように、Ｄ６５光源に関する視感平均透過率Ｙは３７．３％であった。
まず、光学薄膜積層体１の光学薄膜層３を形成した側を、Ｕ−４０００形 自記分光光度計（株式会社 日立製作所製）の測定光源に向けて設置した。このとき、光学薄膜層３を形成した基材２の表面における鉛直線に対して、測定光が５°の角度を持って基材２の表面に入射するように設置した。
そして、基材２を透過した光の方向で、かつ、２°視野になる位置に測光器を設置して可視光領域（３８０〜７８０ｎｍ）における分光透過率を測定し、ＪＩＳ Ｚ ８７０１に規定される三刺激値Ｘ、Ｙ、Ｚを求めた。三刺激値Ｘ、Ｙ、Ｚの計算は５ｎｍ間隔で実施した。
その結果、表１に示すように、Ｄ６５光源に関する視感平均透過率Ｙは３７．３％であった。
さらに、以下に示す式を用いて、吸収率（％）を求めた。なお、以下に示す式において、反射率（％）とは、上記に示したような予め測定した分光反射率における波長５５０ｎｍのときの値である。吸収率を求める際に用いる分光反射率の測定は、光学薄膜積層体１の光学薄膜層３を形成した側と反対側の基材２の表面を黒く塗らずに、光学薄膜積層体１の光学薄膜層３を形成した側を、Ｕ−４０００形 自記分光光度計（株式会社 日立製作所製）の測定光源に向けて設置して行った。また、透過率（％）とは、上記に示したような予め測定した分光透過率における波長５５０ｎｍのときの値である。
吸収率（％）＝１００％−透過率（％）−反射率（％）
表１に示すように、光学薄膜積層体１の吸収率は５６．２％であった。
吸収率（％）＝１００％−透過率（％）−反射率（％）
表１に示すように、光学薄膜積層体１の吸収率は５６．２％であった。
［実施例２］
以下に示すように、基材２である厚さ１００μｍの無色透明なポリエチレンテレフタレートのフィルム上に、純金属薄膜層６が積層されてなる光学薄膜層３を形成して図２に示す光学薄膜積層体１を得た。
以下に示すように、基材２である厚さ１００μｍの無色透明なポリエチレンテレフタレートのフィルム上に、純金属薄膜層６が積層されてなる光学薄膜層３を形成して図２に示す光学薄膜積層体１を得た。
すなわち、基材２上に、ニッケル（Ｎｉ）を電子ビームを利用した真空蒸着法によって堆積させて、物理膜厚７ｎｍの光吸収層である純金属薄膜層６を形成し、光学薄膜層３を完成させて図２に示す実施例２の光学薄膜積層体１を完成させた。
その後、このようにして得られた光学薄膜積層体１の反射明度および反射色相・彩度を、実施例１と同様にして測定した。その結果、表１に示すように、Ｌ＊が５５．８、ａ＊が０．５、ｂ＊が３．２であった。
また、実施例１と同様にして視感平均透過率Ｙを測定した。その結果、表１に示すように、視感平均透過率Ｙは４３．９％であった。
さらに、実施例１と同様にして吸収率を求めた。その結果、表１に示すように、光学薄膜積層体１の吸収率は３１．１％であった。
また、実施例１と同様にして視感平均透過率Ｙを測定した。その結果、表１に示すように、視感平均透過率Ｙは４３．９％であった。
さらに、実施例１と同様にして吸収率を求めた。その結果、表１に示すように、光学薄膜積層体１の吸収率は３１．１％であった。
［実施例３］
以下に示すように、基材２である厚さ１００μｍの無色透明なポリエチレンテレフタレートのフィルム上に、純金属薄膜層６、高屈折率薄膜層４、低屈折率薄膜層５、高屈折率薄膜層７の４層が順次積層されてなる光学薄膜層３を形成して図３に示す光学薄膜積層体１を得た。
以下に示すように、基材２である厚さ１００μｍの無色透明なポリエチレンテレフタレートのフィルム上に、純金属薄膜層６、高屈折率薄膜層４、低屈折率薄膜層５、高屈折率薄膜層７の４層が順次積層されてなる光学薄膜層３を形成して図３に示す光学薄膜積層体１を得た。
まず、基材２上に、ニッケル（Ｎｉ）を電子ビームを利用した真空蒸着法によって堆積させて、物理膜厚１８．５ｎｍの光吸収層である純金属薄膜層６を形成した。
続いて、純金属薄膜層６の上に、二酸化チタン（ＴｉＯ２）を電子ビームを利用した真空蒸着法によって堆積させて、物理膜厚１４０ｎｍの高屈折率薄膜層４を形成した。
次いで、高屈折率薄膜層４の上に、二酸化珪素（ＳｉＯ２）を電子ビームを利用した真空蒸着法によって堆積させて、物理膜厚１２５ｎｍの低屈折率薄膜層５を形成した。
その後、低屈折率薄膜層５の上に、二酸化チタン（ＴｉＯ２）を電子ビームを利用した真空蒸着法によって堆積させて、物理膜厚６０ｎｍの高屈折率薄膜層７を形成し、光学薄膜層３を完成させて図３に示す実施例３の光学薄膜積層体１を完成させた。
続いて、純金属薄膜層６の上に、二酸化チタン（ＴｉＯ２）を電子ビームを利用した真空蒸着法によって堆積させて、物理膜厚１４０ｎｍの高屈折率薄膜層４を形成した。
次いで、高屈折率薄膜層４の上に、二酸化珪素（ＳｉＯ２）を電子ビームを利用した真空蒸着法によって堆積させて、物理膜厚１２５ｎｍの低屈折率薄膜層５を形成した。
その後、低屈折率薄膜層５の上に、二酸化チタン（ＴｉＯ２）を電子ビームを利用した真空蒸着法によって堆積させて、物理膜厚６０ｎｍの高屈折率薄膜層７を形成し、光学薄膜層３を完成させて図３に示す実施例３の光学薄膜積層体１を完成させた。
その後、このようにして得られた光学薄膜積層体１の反射明度および反射色相・彩度を、実施例１と同様にして測定した。その結果、表１に示すように、Ｌ＊が７０．７、ａ＊が４２．０、ｂ＊が−０．７であった。
また、実施例１と同様にして視感平均透過率Ｙを測定した。その結果、表１に示すように、視感平均透過率Ｙは１９．０％であった。
さらに、実施例１と同様にして吸収率を求めた。その結果、表１に示すように、光学薄膜積層体１の吸収率は４１．６％であった。
また、実施例１と同様にして視感平均透過率Ｙを測定した。その結果、表１に示すように、視感平均透過率Ｙは１９．０％であった。
さらに、実施例１と同様にして吸収率を求めた。その結果、表１に示すように、光学薄膜積層体１の吸収率は４１．６％であった。
［実施例４］
以下に示すように、基材２である厚さ１００μｍの無色透明なポリエチレンテレフタレートのフィルム上に、高屈折率薄膜層４、低屈折率薄膜層５、高屈折率薄膜層７の３層が順次積層されてなる光学薄膜層３を形成して図４に示す光学薄膜積層体１を得た。
以下に示すように、基材２である厚さ１００μｍの無色透明なポリエチレンテレフタレートのフィルム上に、高屈折率薄膜層４、低屈折率薄膜層５、高屈折率薄膜層７の３層が順次積層されてなる光学薄膜層３を形成して図４に示す光学薄膜積層体１を得た。
まず、基材２上に、二酸化チタン（ＴｉＯ２）を電子ビームを利用した真空蒸着法によって堆積させて、物理膜厚１５０ｎｍの高屈折率薄膜層４を形成した。
次いで、高屈折率薄膜層４の上に、一窒化チタン（ＴｉＮ）を電子ビームを利用した真空蒸着法によって堆積させて、物理膜厚７０ｎｍの光吸収層である低屈折率薄膜層５を形成した。
その後、低屈折率薄膜層５の上に、二酸化チタン（ＴｉＯ２）を電子ビームを利用した真空蒸着法によって堆積させて、物理膜厚１４５ｎｍの高屈折率薄膜層７を形成し、光学薄膜層３を完成させて図４に示す実施例４の光学薄膜積層体１を完成させた。
次いで、高屈折率薄膜層４の上に、一窒化チタン（ＴｉＮ）を電子ビームを利用した真空蒸着法によって堆積させて、物理膜厚７０ｎｍの光吸収層である低屈折率薄膜層５を形成した。
その後、低屈折率薄膜層５の上に、二酸化チタン（ＴｉＯ２）を電子ビームを利用した真空蒸着法によって堆積させて、物理膜厚１４５ｎｍの高屈折率薄膜層７を形成し、光学薄膜層３を完成させて図４に示す実施例４の光学薄膜積層体１を完成させた。
その後、このようにして得られた光学薄膜積層体１の反射明度および反射色相・彩度を、実施例１と同様にして測定した。その結果、表１に示すように、Ｌ＊が６０．８、ａ＊が４４．０、ｂ＊が３．７であった。
また、実施例１と同様にして視感平均透過率Ｙを測定した。その結果、表１に示すように、視感平均透過率Ｙは６．９％であった。
さらに、実施例１と同様にして吸収率を求めた。その結果、表１に示すように、光学薄膜積層体１の吸収率は６９．１％であった。
また、実施例１と同様にして視感平均透過率Ｙを測定した。その結果、表１に示すように、視感平均透過率Ｙは６．９％であった。
さらに、実施例１と同様にして吸収率を求めた。その結果、表１に示すように、光学薄膜積層体１の吸収率は６９．１％であった。
［実施例５］
以下に示すように、基材２である厚さ１００μｍの無色透明なポリエチレンテレフタレートのフィルム上に、純金属薄膜層６、高屈折率薄膜層４、低屈折率薄膜層５、高屈折率薄膜層７の４層が順次積層されてなる光学薄膜層３を形成して図３に示す光学薄膜積層体１を得た。
以下に示すように、基材２である厚さ１００μｍの無色透明なポリエチレンテレフタレートのフィルム上に、純金属薄膜層６、高屈折率薄膜層４、低屈折率薄膜層５、高屈折率薄膜層７の４層が順次積層されてなる光学薄膜層３を形成して図３に示す光学薄膜積層体１を得た。
まず、基材２上に、アルミニウム（Ａｌ）を電子ビームを利用した真空蒸着法によって堆積させて、物理膜厚８ｎｍの光吸収層である純金属薄膜層６を形成した。
続いて、純金属薄膜層６の上に、二酸化チタン（ＴｉＯ２）を電子ビームを利用した真空蒸着法によって堆積させて、物理膜厚９０ｎｍの高屈折率薄膜層４を形成した。
次いで、高屈折率薄膜層４の上に、二酸化珪素（ＳｉＯ２）を電子ビームを利用した真空蒸着法によって堆積させて、物理膜厚６０ｎｍの低屈折率薄膜層５を形成した。
その後、低屈折率薄膜層５の上に、二酸化チタン（ＴｉＯ２）を電子ビームを利用した真空蒸着法によって堆積させて、物理膜厚３０ｎｍの高屈折率薄膜層７を形成し、光学薄膜層３を完成させて図３に示す実施例５の光学薄膜積層体１を完成させた。
続いて、純金属薄膜層６の上に、二酸化チタン（ＴｉＯ２）を電子ビームを利用した真空蒸着法によって堆積させて、物理膜厚９０ｎｍの高屈折率薄膜層４を形成した。
次いで、高屈折率薄膜層４の上に、二酸化珪素（ＳｉＯ２）を電子ビームを利用した真空蒸着法によって堆積させて、物理膜厚６０ｎｍの低屈折率薄膜層５を形成した。
その後、低屈折率薄膜層５の上に、二酸化チタン（ＴｉＯ２）を電子ビームを利用した真空蒸着法によって堆積させて、物理膜厚３０ｎｍの高屈折率薄膜層７を形成し、光学薄膜層３を完成させて図３に示す実施例５の光学薄膜積層体１を完成させた。
その後、このようにして得られた光学薄膜積層体１の反射明度および反射色相・彩度を、実施例１と同様にして測定した。その結果、表１に示すように、Ｌ＊が６３．６、ａ＊が−２．９、ｂ＊が−４２．３であった。
また、実施例１と同様にして視感平均透過率Ｙを測定した。その結果、表１に示すように、視感平均透過率Ｙは３８．４％であった。
さらに、実施例１と同様にして吸収率を求めた。その結果、表１に示すように、光学薄膜積層体１の吸収率は２７．９％であった。
また、実施例１と同様にして視感平均透過率Ｙを測定した。その結果、表１に示すように、視感平均透過率Ｙは３８．４％であった。
さらに、実施例１と同様にして吸収率を求めた。その結果、表１に示すように、光学薄膜積層体１の吸収率は２７．９％であった。
［実施例６］
以下に示すように、基材２である厚さ１００μｍの無色透明なポリエチレンテレフタレートのフィルム上に、純金属薄膜層６、高屈折率薄膜層４、低屈折率薄膜層５、高屈折率薄膜層７の４層が順次積層されてなる光学薄膜層３を形成して図３に示す光学薄膜積層体１を得た。
以下に示すように、基材２である厚さ１００μｍの無色透明なポリエチレンテレフタレートのフィルム上に、純金属薄膜層６、高屈折率薄膜層４、低屈折率薄膜層５、高屈折率薄膜層７の４層が順次積層されてなる光学薄膜層３を形成して図３に示す光学薄膜積層体１を得た。
まず、基材２上に、クロム（Ｃｒ）を電子ビームを利用した真空蒸着法によって堆積させて、物理膜厚９ｎｍの光吸収層である純金属薄膜層６を形成した。
続いて、純金属薄膜層６の上に、一硫化亜鉛（ＺｎＳ）を電子ビームを利用した真空蒸着法によって堆積させて、物理膜厚６５ｎｍの高屈折率薄膜層４を形成した。
次いで、高屈折率薄膜層４の上に、二弗化マグネシウム（ＭｇＦ２）を電子ビームを利用した真空蒸着法によって堆積させて、物理膜厚８５ｎｍの低屈折率薄膜層５を形成した。
その後、低屈折率薄膜層５の上に、一硫化亜鉛（ＺｎＳ）を電子ビームを利用した真空蒸着法によって堆積させて、物理膜厚５０ｎｍの高屈折率薄膜層７を形成し、光学薄膜層３を完成させて図３に示す実施例５の光学薄膜積層体１を完成させた。
続いて、純金属薄膜層６の上に、一硫化亜鉛（ＺｎＳ）を電子ビームを利用した真空蒸着法によって堆積させて、物理膜厚６５ｎｍの高屈折率薄膜層４を形成した。
次いで、高屈折率薄膜層４の上に、二弗化マグネシウム（ＭｇＦ２）を電子ビームを利用した真空蒸着法によって堆積させて、物理膜厚８５ｎｍの低屈折率薄膜層５を形成した。
その後、低屈折率薄膜層５の上に、一硫化亜鉛（ＺｎＳ）を電子ビームを利用した真空蒸着法によって堆積させて、物理膜厚５０ｎｍの高屈折率薄膜層７を形成し、光学薄膜層３を完成させて図３に示す実施例５の光学薄膜積層体１を完成させた。
その後、このようにして得られた光学薄膜積層体１の反射明度および反射色相・彩度を、実施例１と同様にして測定した。その結果、表１に示すように、Ｌ＊が６５．０、ａ＊が−２．１、ｂ＊が−４０．９であった。
また、実施例１と同様にして視感平均透過率Ｙを測定した。その結果、表１に示すように、視感平均透過率Ｙは２２．８％であった。
さらに、実施例１と同様にして吸収率を求めた。その結果、表１に示すように、光学薄膜積層体１の吸収率は４４．８％であった。
また、実施例１と同様にして視感平均透過率Ｙを測定した。その結果、表１に示すように、視感平均透過率Ｙは２２．８％であった。
さらに、実施例１と同様にして吸収率を求めた。その結果、表１に示すように、光学薄膜積層体１の吸収率は４４．８％であった。
［実施例７］
以下に示すように、基材２である厚さ１００μｍの無色透明なポリエチレンテレフタレートのフィルム上に、低屈折率薄膜層５、高屈折率薄膜層４、低屈折率薄膜層８、高屈折率薄膜層７の４層が順次積層されてなる光学薄膜層３を形成して図５に示す光学薄膜積層体１を得た。
以下に示すように、基材２である厚さ１００μｍの無色透明なポリエチレンテレフタレートのフィルム上に、低屈折率薄膜層５、高屈折率薄膜層４、低屈折率薄膜層８、高屈折率薄膜層７の４層が順次積層されてなる光学薄膜層３を形成して図５に示す光学薄膜積層体１を得た。
まず、基材２上に、一窒化チタン（ＴｉＮ）を電子ビームを利用した真空蒸着法によって堆積させて、物理膜厚３０ｎｍの光吸収層である低屈折率薄膜層５を形成した。
続いて、低屈折率薄膜層５の上に、二酸化チタン（ＴｉＯ２）を電子ビームを利用した真空蒸着法によって堆積させて、物理膜厚９５ｎｍの高屈折率薄膜層４を形成した。
次いで、高屈折率薄膜層４の上に、一窒化チタン（ＴｉＮ）を電子ビームを利用した真空蒸着法によって堆積させて、物理膜厚２０ｎｍの光吸収層である低屈折率薄膜層８を形成した。
その後、低屈折率薄膜層８の上に、二酸化チタン（ＴｉＯ２）を電子ビームを利用した真空蒸着法によって堆積させて、物理膜厚９０ｎｍの高屈折率薄膜層７を形成し、光学薄膜層３を完成させて図５に示す実施例５の光学薄膜積層体１を完成させた。
続いて、低屈折率薄膜層５の上に、二酸化チタン（ＴｉＯ２）を電子ビームを利用した真空蒸着法によって堆積させて、物理膜厚９５ｎｍの高屈折率薄膜層４を形成した。
次いで、高屈折率薄膜層４の上に、一窒化チタン（ＴｉＮ）を電子ビームを利用した真空蒸着法によって堆積させて、物理膜厚２０ｎｍの光吸収層である低屈折率薄膜層８を形成した。
その後、低屈折率薄膜層８の上に、二酸化チタン（ＴｉＯ２）を電子ビームを利用した真空蒸着法によって堆積させて、物理膜厚９０ｎｍの高屈折率薄膜層７を形成し、光学薄膜層３を完成させて図５に示す実施例５の光学薄膜積層体１を完成させた。
その後、このようにして得られた光学薄膜積層体１の反射明度および反射色相・彩度を、実施例１と同様にして測定した。その結果、表１に示すように、Ｌ＊が７１．７、ａ＊が−３３．３、ｂ＊が−１．４であった。
また、実施例１と同様にして視感平均透過率Ｙを測定した。その結果、表１に示すように、視感平均透過率Ｙは１６．７％であった。
さらに、実施例１と同様にして吸収率を求めた。その結果、表１に示すように、光学薄膜積層体１の吸収率は３４．０％であった。
また、実施例１と同様にして視感平均透過率Ｙを測定した。その結果、表１に示すように、視感平均透過率Ｙは１６．７％であった。
さらに、実施例１と同様にして吸収率を求めた。その結果、表１に示すように、光学薄膜積層体１の吸収率は３４．０％であった。
［実施例８］
以下に示すように、基材２である厚さ１００μｍの無色透明なポリエチレンテレフタレートのフィルム上に、純金属薄膜層６、高屈折率薄膜層４、低屈折率薄膜層５、高屈折率薄膜層７の４層が順次積層されてなる光学薄膜層３を形成して図３に示す光学薄膜積層体１を得た。
以下に示すように、基材２である厚さ１００μｍの無色透明なポリエチレンテレフタレートのフィルム上に、純金属薄膜層６、高屈折率薄膜層４、低屈折率薄膜層５、高屈折率薄膜層７の４層が順次積層されてなる光学薄膜層３を形成して図３に示す光学薄膜積層体１を得た。
まず、基材２上に、ニッケル（Ｎｉ）を電子ビームを利用した真空蒸着法によって堆積させて、物理膜厚８．５ｎｍの光吸収層である純金属薄膜層６を形成した。
続いて、純金属薄膜層６の上に、二酸化チタン（ＴｉＯ２）を電子ビームを利用した真空蒸着法によって堆積させて、物理膜厚１３０ｎｍの高屈折率薄膜層４を形成した。
次いで、高屈折率薄膜層４の上に、二酸化珪素（ＳｉＯ２）を電子ビームを利用した真空蒸着法によって堆積させて、物理膜厚８０ｎｍの低屈折率薄膜層５を形成した。
その後、低屈折率薄膜層５の上に、二酸化チタン（ＴｉＯ２）を電子ビームを利用した真空蒸着法によって堆積させて、物理膜厚８０ｎｍの高屈折率薄膜層７を形成し、光学薄膜層３を完成させて図３に示す実施例５の光学薄膜積層体１を完成させた。
続いて、純金属薄膜層６の上に、二酸化チタン（ＴｉＯ２）を電子ビームを利用した真空蒸着法によって堆積させて、物理膜厚１３０ｎｍの高屈折率薄膜層４を形成した。
次いで、高屈折率薄膜層４の上に、二酸化珪素（ＳｉＯ２）を電子ビームを利用した真空蒸着法によって堆積させて、物理膜厚８０ｎｍの低屈折率薄膜層５を形成した。
その後、低屈折率薄膜層５の上に、二酸化チタン（ＴｉＯ２）を電子ビームを利用した真空蒸着法によって堆積させて、物理膜厚８０ｎｍの高屈折率薄膜層７を形成し、光学薄膜層３を完成させて図３に示す実施例５の光学薄膜積層体１を完成させた。
その後、このようにして得られた光学薄膜積層体１の反射明度および反射色相・彩度を、実施例１と同様にして測定した。その結果、表１に示すように、Ｌ＊が７６．３、ａ＊が−０．６、ｂ＊が５０．８であった。
また、実施例１と同様にして視感平均透過率Ｙを測定した。その結果、表１に示すように、視感平均透過率Ｙは２６．４％であった。
さらに、実施例１と同様にして吸収率を求めた。その結果、表１に示すように、光学薄膜積層体１の吸収率は２１．５％であった。
また、実施例１と同様にして視感平均透過率Ｙを測定した。その結果、表１に示すように、視感平均透過率Ｙは２６．４％であった。
さらに、実施例１と同様にして吸収率を求めた。その結果、表１に示すように、光学薄膜積層体１の吸収率は２１．５％であった。
１…光学薄膜積層体、２…基材、３…光学薄膜層、４…高屈折率薄膜層、５…低屈折率薄膜層、６…純金属薄膜層、７…高屈折率薄膜層、８…低屈折率薄膜層。
Claims (6)
- 基材上に、光学薄膜層が設けられ、
前記光学薄膜層が、高屈折率薄膜層と低屈折率薄膜層と純金属薄膜層から選択される少なくとも一種からなる光吸収層を備えていることを特徴とする光学薄膜積層体。 - 前記光吸収層の波長５５０ｎｍでの消衰係数が０．０１以上であることを特徴とする請求項１に記載の光学薄膜積層体。
- 前記高屈折率薄膜層の波長５５０ｎｍでの屈折率が１．７５以上であり、
前記低屈折率薄膜層の波長５５０ｎｍでの屈折率が１．７５未満であることを特徴とする請求項１または請求項２に記載の光学薄膜積層体。 - 前記光学薄膜層が、真空成膜法により形成されたものであることを特徴とする請求項１ないし請求項３のいずれかに記載の光学薄膜積層体。
- 請求項１ないし請求項４のいずれかに記載の光学薄膜積層体を具備してなることを特徴とする加飾部材。
- 請求項１ないし請求項４のいずれかに記載の光学薄膜積層体を成形してなることを特徴とする加飾成形品。
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