JP2009105408A - ガスレーザ装置 - Google Patents
ガスレーザ装置 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2009105408A JP2009105408A JP2008272108A JP2008272108A JP2009105408A JP 2009105408 A JP2009105408 A JP 2009105408A JP 2008272108 A JP2008272108 A JP 2008272108A JP 2008272108 A JP2008272108 A JP 2008272108A JP 2009105408 A JP2009105408 A JP 2009105408A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- resonator
- free space
- waveguide
- gas laser
- gas
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Images
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
- H01S3/00—Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
- H01S3/02—Constructional details
- H01S3/03—Constructional details of gas laser discharge tubes
- H01S3/0315—Waveguide lasers
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B27/00—Optical systems or apparatus not provided for by any of the groups G02B1/00 - G02B26/00, G02B30/00
- G02B27/09—Beam shaping, e.g. changing the cross-sectional area, not otherwise provided for
- G02B27/0927—Systems for changing the beam intensity distribution, e.g. Gaussian to top-hat
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B27/00—Optical systems or apparatus not provided for by any of the groups G02B1/00 - G02B26/00, G02B30/00
- G02B27/09—Beam shaping, e.g. changing the cross-sectional area, not otherwise provided for
- G02B27/0938—Using specific optical elements
- G02B27/0988—Diaphragms, spatial filters, masks for removing or filtering a part of the beam
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
- H01S3/00—Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
- H01S3/05—Construction or shape of optical resonators; Accommodation of active medium therein; Shape of active medium
- H01S3/08—Construction or shape of optical resonators or components thereof
- H01S3/081—Construction or shape of optical resonators or components thereof comprising three or more reflectors
- H01S3/0818—Unstable resonators
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
- H01S2301/00—Functional characteristics
- H01S2301/20—Lasers with a special output beam profile or cross-section, e.g. non-Gaussian
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
- H01S3/00—Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
- H01S3/005—Optical devices external to the laser cavity, specially adapted for lasers, e.g. for homogenisation of the beam or for manipulating laser pulses, e.g. pulse shaping
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
- H01S3/00—Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
- H01S3/14—Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range characterised by the material used as the active medium
- H01S3/22—Gases
- H01S3/223—Gases the active gas being polyatomic, i.e. containing two or more atoms
- H01S3/2232—Carbon dioxide (CO2) or monoxide [CO]
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
- H01S3/00—Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
- H01S3/23—Arrangements of two or more lasers not provided for in groups H01S3/02 - H01S3/22, e.g. tandem arrangements of separate active media
- H01S3/2308—Amplifier arrangements, e.g. MOPA
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Electromagnetism (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Plasma & Fusion (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Lasers (AREA)
Abstract
【解決手段】非対称複合型平面導波路共振器として、最小の曲率半径182を有している共振器ミラーと、最大の曲率半径を有する共振器ミラー192と、ミラー192に隣接して、放電に向き合う表面上に加工された球面凹形曲率半径を有している第3のミラー212があり、第3のミラー212の角度は、レーザ共振器Oの光軸に対して傾けられているレーザ共振器から出力を取り出すような角度であり、レーザ共振器Oの光軸に平行なガス放電の隣接する部分に沿って、出力ビーム222を折り戻し、放電232のこの部分は、このとき、追加の導波路ストリップとして働かせ、追加の導波路ストリップ232の出口の直後に、空間フィルタ242が配置されている。
【選択図】図2a
Description
本発明の第1の態様によると、ガスレーザ放電容器は、非対称複合型平面導波路共振器、光学集束システム/集束光学機器および追加の導波路ストリップ長で動作する。追加の導波路ストリップと集束システム/集束光学機器は、好ましくは、複合型平面導波路共振器からの出力ビームに作用し、自由空間の不安定方向に、導波路ストリップの出口でビームウェストを形成して、その導波路ストリップは、その位置で形成される直交導波路ビームウェストの寸法に整合し、円形の出力を生成する。さらに、自由空間の不安定ビームは、今、その遠視野と呼ばれる場所にあり、追加の導波路ストリップの出口の近くの点で、またはそのすぐ後に、空間的にフィルタに通され、円形の擬似回折限界ビームを生成し、そのビームが放電容器から出た後、さらなる外部補正を必要としない。
第1の態様の導波路ストリップは、その長さが集束システム/光学機器の出力と関連しており、好ましくは、自由空間の不安定方向に、導波路ストリップの端部で形成されるビームウェストの中央の突出部が、直交導波路ビームウェストの突出部と等しいように選択されることになる。
非対称複合型平面導波路共振器は、凹面曲率半径を有する共振器キャビティミラーを通過して、ビームを出力結合する2面ミラー正ブランチ共振器であってもよい。
共振器ビームを集束させ、反射させるのに動作可能な導波路を形成している2つの実質的に平行な電極板と、
ガス放電を起こすために動作可能な励起手段と、
電極板の間で互いに向き合っている第1および第2の集束/反射手段と、
共振器ビームをガスレーザの出口に向けるために動作可能な第3の集束/反射手段とを含む。
ガスレーザは、好ましくは、追加の導波路素子または導波路ストリップを含み、それらは、好ましくは、電極板により形成される導波路に隣接し、好ましくは、その導波路と同一平面上にある。第3の集束/反射手段は、好ましくは、既存の共振器ビームを集束させるために動作可能であり、好ましくは自由空間の不安定方向に、実質的には追加の導波路素子の出口またはその近くで、ビームウェストを形成する。ビームウェストは、追加の導波路素子を越えて形成されてもよい。
レーザ放電のより幅の広い平面方向の第1および第2、もしくは第1または第2の集束/反射手段は、好ましくは、準共焦点または共焦点共振器を形成するために選択される。
本発明の別の態様によると、レーザ共振器ビームを生成する方法が提供され、前記方法は、
実質的に平行な電極板を用いて、ガスの無線周波数励起によりガス内に放電を起こす工程と、
第1および第2の集束/反射手段の間で放電を反射および集束させることにより生成される光から利得を引き出す工程と、
第3の集束/反射手段を用いて、前記共振器ビームを出口に案内する工程とを含む。
本発明のさらなる理解のために、本発明のどの実施形態が実行されてもよいかを示すために、例として、付属の図面を参照する。
0≦g1・g2≦1
ここで、g1=1−L/R1、および、g2=1−L/R2であり、Lは、放電を横断するミラーの間隔であり、R1は、ミラー184に対する自由空間ミラー曲率半径であり、R2は、ミラー194に対する自由空間ミラー曲率半径である。自由空間共振器のための第2の要件は、ミラー184と194に属している自由空間曲率半径により形成される光軸が、ガス放電144の主軸Tに平行であることである。これは、ガス放電から利得を効果的に引き出すことを促進する。自由空間共振器の光軸は、ミラー184と194に対する曲率半径の2つの中心を通り抜ける軸Oとして画定されている。図4では、ミラー184に対する曲率半径の中心は、位置354にあり、ミラー194に対する曲率半径の中心は、位置364にある。自由空間共振器のための第3の要件は、自由空間共振器が、共焦点または準共焦点であることであり、この要件は、ガス放電から利得を効果的に引き出すことを促進する。この要件は、自由空間共振器ミラー184,194に属している焦点が互いに交差する場合に満たされる。図4では、共振器の共焦交点は、304であり、ミラー184と194の焦点は、それぞれ374と384であり、曲率半径の中心をそれらのミラー表面に連結させているそれぞれの線に沿っての中間である。
Q=W/M
ここで、自由空間共振器の拡大率Mは、比R2/R1として定められる。最終的に、放電から利得を効果的に引き出すことを促進するために、自由空間共振器のための第5の要件は、自由空間共振器の光軸Oが放電主軸Tに対して変移することである。軸のこの変移は共振器ミラー194上に加工されている硬質エッジ204から離れた方向にある。自由空間不安定型共振器の光軸OのオフセットSは、以下の表記により与えられる共振器ミラー194の硬質エッジ204に対して定められる:
S=W/(M2+M)
図5は、本発明の正ブランチ共振器の等価な平面図を示しており、本発明の補正用第3のミラーは、図示されていない。再び、負ブランチ等価物についての場合であったように、5つの要件がある。自由空間方向では、2つのミラー185と195との間で形成される共焦点または準共焦点非対称共振器が動作し、曲率半径は、各々のミラー上で形成され、形成された表面は、レーザ放電145を横断して互いに向き合い、共振器を形成する。ミラー面の曲率半径は、共振器が自由空間方向において不安定性として描写されるように、最初に選択される。
この不安定要件は、共振器自由幾何学形状パラメータ積(g1*g2)が、次の境界条件外にある場合に満たされる:
0≦g1・g2≦1
ここで、g1=1−L/R1、および、g2=1−L/R2であり、Lは、放電を横断するミラーの間隔であり、R1は、ミラー185に対する自由空間ミラー曲率半径であり、R2は、ミラー195に対する自由空間ミラー曲率半径である。この場合、185のミラー面は、凸面であり、負の値を有するR1になる。自由空間共振器のための第2の要件は、ミラー185と195に属している自由空間曲率半径により形成される光軸が、ガス放電145の主軸Tに平行であることである。これは、ガス放電から利得を効果的に引き出すことを促進する。自由空間不安定型共振器の光軸は、ミラー185と195に対する曲率半径の2つの中心を通り抜ける軸Oとして定められる。図5では、ミラー185,195に対する曲率半径の中心は、図の左の位置にある。自由空間共振器のための第3の要件は、自由空間共振器が、焦点性または準共焦点であることであり、この要件は、さらに、ガス放電から利得を効果的に引き出すことを促進する。この要件は、自由空間不安定型共振器ミラー185と195に属している焦点が、互いに交差する場合に満たされる。図5において、共振器の共焦交点は305であり、ミラー185と195の焦点は、それぞれ375と385であり、曲率半径の中心をミラー面と連結しているそれぞれの線に沿って中間にある。
しかし、従来の設計から離脱して、本発明のレーザ共振器ビームは、自由空間不安定方向において凹面曲率半径で共振器ミラー195上に加工されている硬質エッジ205を通過して出射しており、凸面曲率半径で共振器ミラー上に加工された硬質エッジを有する従来の設計とは、全く反対である。これにより、自由空間不安定方向での共振器からの出力ビーム295は、従来の非対称正ブランチ共振器の場合のように視準されているよりはむしろわずかに発散性になり、発散しているビームの幾何学的原点は、共振器の共焦交点305になる。共振器ミラー185と195により囲まれる自由空間方向での放電の理想的な幅Qは、以下の表記により、自由空間共振器の拡大率Mと放電幅Wに関連する:
Q=W/M
式中、自由空間共振器の拡大率Mは、比R2/R1として定められる。最終的に、放電から利益を効果的に引き出すことを促進するために、自由空間共振器のための第5の要件は、自由空間共振器の光軸0が放電主軸Tに対して変位することである。軸のこの変位は、共振器ミラー195上で加工されている硬質エッジ205から離れた方向にある。自由空間不安定型共振器の光軸OのオフセットSは、光軸Oが、共振器ミラー195の硬質エッジ205から最も遠くにある放電長手方向エッジと同軸に通るようなものである。
Claims (13)
- レーザ共振器ビームを集束および反射させるように動作可能な導波路を形成する実質的に平行な2つの電極板(152)と、
ガス放電を起こすように動作可能な励起手段と、
共振器を形成するために、前記電極板(152)間で互いに対向する第1および第2の反射手段(182、192)であって、前記第1および第2の反射手段の各曲率半径および間隔は、前記電極板(152)に平行な自由空間面内の前記共振器が不安定共振器かつ実質的に共焦点共振器となるように設定されている第1および第2の反射手段と、
前記共振器ビームを前記ガスレーザの出口(282)に向けるように動作可能な前記共振器の外部にある第3の反射手段(212)とを備えるガスレーザ装置において、
前記共振器の外部にあり、前記第3の反射手段(212)と前記ガスレーザの前記出口(282)との間に配置される追加の導波路素子(232)を備え、前記第3の反射手段は前記共振器の一方の端部に隣接し、前記ガスレーザの前記出口(282)は前記共振器の反対側の端部に隣接していることを特徴とするガスレーザ装置。 - 前記第2の反射手段(192)を通過した前記共振器ビーム(292)を出力結合するように適合され、前記第2の反射手段は、前記出力ビームが発散性であり、かつ前記不安定共振器の長手軸に対して所定の角度で出射するような曲率半径を有することを特徴とする請求項1に記載のガスレーザ装置。
- 前記第3の反射手段(212)は、前記追加の導波路素子(232)の実質的に前記出口(312)において、前記共振器出力ビームを集束させるように動作可能であり、前記自由空間方向においてビームウェスト(333)を、直交する導波路の方向において形成されるビームウェストと実質的に同じ寸法に形成する請求項1または2に記載のガスレーザ装置。
- 使用のためのビームを整形するように動作可能な空間フィルタリング手段(242)を備え、同空間フィルタリング手段は、前記追加の導波路素子(232)の実質的に前記出口(312)に配置され、かつ前記自由空間方向におけるサイドローブを除去するように適合され、それにより前記レーザガス装置の内部に、円形の回折限界ビームを生成する請求項3に記載のガスレーザ装置。
- 前記第3の反射手段(213)は、前記自由空間方向において、前記追加の導波路素子(233)の前記出口(323)を越えて前記共振器出口ビームを集束させるように動作可能である請求項1または2に記載のガスレーザ装置。
- 実質的に前記自由空間ビームウェスト(333)に配置された空間フィルタリング手段(243)を備え、同空間フィルタリング手段は、前記自由空間方向において前記ビームの前記サイドローブを除去するように適合され、それにより回折限界ビームを生成する請求項5に記載のガスレーザ装置。
- 直交する自由空間および導波路のビームの寸法が実質的に同じである位置に配置された光学要素(343)を備え、同光学要素(343)は、直交する方向における前記異なる発散が実質的に同じであり(353)、それにより円形の回折限界ビームを生成する光出力を有する請求項5または6に記載のガスレーザ装置。
- 前記空間フィルタ手段(243)および光学素子(343)は、前記レーザガス容器の内部または外部に配置される請求項5〜7の何れか1項に記載のガスレーザ装置。
- 前記追加の導波路素子(232/233)は、前記電極板(152)により形成される前記導波路に隣接し、かつ前記導波路と同一平面上にある請求項1〜8の何れか1項に記載の請求項に記載のガスレーザ装置。
- 前記第3の反射手段(212/213)は角度調節可能である請求項1〜9の何れか1項に記載のガスレーザ装置。
- 前記第1および第2の反射手段(182/184/185、192/194/195)は曲率半径を有し、前記電極板(152)に平行な平面において、準共焦点共振器を形成する請求項1〜10の何れか1項に記載のガスレーザ装置。
- 前記実質的に平行な電極板(152)間の間隙(162)内に含まれる前記ガスの無線周波数励起により、放電が生成される請求項1〜11の何れか1項に記載のガスレーザ装置。
- ガス容器内でレーザ装置を製造する方法であって、
ガスの無線周波数励起により実質的に平行な電極板の間でガス放電を起こす工程と、
第1の反射手段(182)と第2の反射手段(192)との間で結果として生じる共振器ビームを反射させることにより、ガス放電から利得を引き出す工程と、
前記共振器の外部にある第3の反射手段(212)を使用して、前記共振器ビームを出口に案内する工程とを備える方法において、
前記ビームは、前記第3の反射手段(282)と前記ガスレーザの前記出口(282)との間に配置される追加の導波路素子(232)に沿って案内され、前記導波路素子(232)は前記共振器の外部にあり、前記第3の反射手段(212)は前記共振器の一方の端部に隣接し、前記ガスレーザの前記出口(282)は前記共振器の反対側の端部に隣接していることを特徴とする方法。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| EP07119271.0 | 2007-10-25 | ||
| EP07119271A EP2053708A1 (en) | 2007-10-25 | 2007-10-25 | Gas laser device |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2009105408A true JP2009105408A (ja) | 2009-05-14 |
| JP5517434B2 JP5517434B2 (ja) | 2014-06-11 |
Family
ID=39156116
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2008272108A Active JP5517434B2 (ja) | 2007-10-25 | 2008-10-22 | ガスレーザ装置及びレーザ生成方法 |
Country Status (5)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US8116348B2 (ja) |
| EP (2) | EP2053708A1 (ja) |
| JP (1) | JP5517434B2 (ja) |
| CN (1) | CN101420101B (ja) |
| ES (1) | ES2629987T3 (ja) |
Families Citing this family (11)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP2603958B1 (en) * | 2010-08-10 | 2019-07-24 | Dentaray Ltd. | Laser arrangement and system, and a medical laser treatment system thereof |
| CN103326223A (zh) * | 2013-05-22 | 2013-09-25 | 四川大学 | 超大束宽薄光束气体激光器 |
| US9231362B2 (en) * | 2014-06-06 | 2016-01-05 | Synrad, Inc. | Multi-pass slab laser with internal beam shaping |
| CN105375252A (zh) * | 2015-11-03 | 2016-03-02 | 北京热刺激光技术有限责任公司 | 安装有柱面准直镜的射频激光器 |
| WO2017075732A1 (zh) * | 2015-11-03 | 2017-05-11 | 徐海军 | 安装有柱面准直镜的射频激光器 |
| DE102016116779A1 (de) * | 2016-09-07 | 2018-03-08 | Rofin-Sinar Laser Gmbh | Resonatorspiegel für einen optischen Resonator einer Laservorrichtung und Laservorrichtung |
| US10985518B2 (en) | 2016-09-20 | 2021-04-20 | Iradion Laser, Inc. | Lasers with setback aperture |
| FR3057363B1 (fr) * | 2016-10-11 | 2019-05-24 | Commissariat A L'energie Atomique Et Aux Energies Alternatives | Cavite optique pendulaire a fort repliement. |
| AU2018364657A1 (en) * | 2017-11-10 | 2020-05-07 | Boston Scientific Scimed, Inc. | Apparatus and methodology for reshaping a laser beam |
| EP3793044B1 (en) * | 2019-09-12 | 2021-11-03 | Kern Technologies, LLC | Output coupling from unstable laser resonators |
| CN113115136B (zh) * | 2021-03-17 | 2024-01-30 | 桂林电子科技大学 | 基于单故障模型的光路由器桥接故障定位方法 |
Citations (15)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH01257382A (ja) * | 1987-08-31 | 1989-10-13 | Deutsche Forsch & Vers Luft Raumfahrt Ev | 高出力導波管レーザ |
| JPH0371683A (ja) * | 1989-08-11 | 1991-03-27 | Mitsubishi Electric Corp | 気体レーザ装置 |
| JPH03155684A (ja) * | 1989-08-11 | 1991-07-03 | Mitsubishi Electric Corp | 気体レーザ装置 |
| JPH04199583A (ja) * | 1990-11-29 | 1992-07-20 | Toshiba Corp | ガスレーザ発振器 |
| JPH04261080A (ja) * | 1991-01-25 | 1992-09-17 | Mitsubishi Electric Corp | 気体レーザ装置 |
| JPH04332182A (ja) * | 1991-05-07 | 1992-11-19 | Toshiba Corp | レーザ装置 |
| JPH05505701A (ja) * | 1990-03-21 | 1993-08-19 | ロフイン―ジナール レーザー ゲゼルシヤフト ミツト ベシユレンクテル ハフツング | ガスレーザ |
| JPH0690048A (ja) * | 1990-10-12 | 1994-03-29 | Coherent Inc | パルス波co2レーザー |
| JPH06152037A (ja) * | 1992-11-05 | 1994-05-31 | Mitsubishi Electric Corp | ガスレーザ装置 |
| JPH08512433A (ja) * | 1993-07-12 | 1996-12-24 | コヒーレント・インク | 折り返された共振器構造を持つガススラブレーザ |
| JP2000506319A (ja) * | 1996-03-13 | 2000-05-23 | ロフイン―ジナール レーザー ゲゼルシヤフト ミツト ベシユレンクテル ハフツング | ストリップレーザー |
| JP2001053362A (ja) * | 1999-08-11 | 2001-02-23 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | ガスレーザ装置 |
| JP2001168428A (ja) * | 1999-12-07 | 2001-06-22 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | ガスレーザ装置 |
| JP2002540607A (ja) * | 1999-03-19 | 2002-11-26 | ゴスダーストベンノイ プレドプリアテイ ノーチェノ−イスルドバテルスキー インステイチュート ラゼルノイ フィチキ | レーザ装置 |
| JP2006525649A (ja) * | 2003-05-07 | 2006-11-09 | フェデラルノイェ・ゴスダルストヴェンノイェ・ウニタルノイェ・プレドプリヤティエ・“ナウチノ−プロイズヴォドストヴェンナヤ・コルポラツィヤ・ゴスダルストヴェンニー・オプティチェスキー・インスティトゥト・ | ハイブリッド不安定リングレゾネータを備えたレーザ |
Family Cites Families (12)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US533524A (en) | 1895-02-05 | Attachment for animal-traps | ||
| US4719639B1 (en) * | 1987-01-08 | 1994-06-28 | Boreal Laser Inc | Carbon dioxide slab laser |
| US5048048A (en) * | 1989-08-11 | 1991-09-10 | Mitsubishi Denki K.K. | Gas laser device |
| US5335242A (en) * | 1990-10-12 | 1994-08-02 | Coherent, Inc. | Resonator for CO2 slab waveguide laser |
| JP2613831B2 (ja) * | 1991-12-27 | 1997-05-28 | 三菱電機株式会社 | レーザ装置 |
| JP3316698B2 (ja) * | 1992-10-21 | 2002-08-19 | 三菱電機株式会社 | レーザ装置 |
| DE19645093C2 (de) * | 1996-11-01 | 2000-01-27 | Deutsch Zentr Luft & Raumfahrt | Wellenleiter-Lasersystem |
| DE19734641A1 (de) * | 1997-08-11 | 1999-02-18 | Rofin Sinar Laser Gmbh | Bandleiterlaser mit einem optischen Abbildungssystem zur Strahlformung |
| US6442186B1 (en) * | 1998-09-21 | 2002-08-27 | Peter Vitruk | Stable multi-fold telescopic laser resonator |
| US6463086B1 (en) * | 1999-02-10 | 2002-10-08 | Lambda Physik Ag | Molecular fluorine laser with spectral linewidth of less than 1 pm |
| JP2002016304A (ja) * | 2000-06-28 | 2002-01-18 | Mitsubishi Heavy Ind Ltd | 不安定型共振器 |
| WO2004049524A1 (en) * | 2002-11-28 | 2004-06-10 | Gosudarstvennoye Predpriyatie Nauchnoissledovatelsky Institut Lazernoy Fiziki | High power slab type gas laser |
-
2007
- 2007-10-25 EP EP07119271A patent/EP2053708A1/en not_active Withdrawn
-
2008
- 2008-10-21 US US12/255,236 patent/US8116348B2/en active Active
- 2008-10-22 JP JP2008272108A patent/JP5517434B2/ja active Active
- 2008-10-23 ES ES08167352.7T patent/ES2629987T3/es active Active
- 2008-10-23 EP EP08167352.7A patent/EP2053707B1/en active Active
- 2008-10-24 CN CN200810171210.1A patent/CN101420101B/zh active Active
Patent Citations (15)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH01257382A (ja) * | 1987-08-31 | 1989-10-13 | Deutsche Forsch & Vers Luft Raumfahrt Ev | 高出力導波管レーザ |
| JPH0371683A (ja) * | 1989-08-11 | 1991-03-27 | Mitsubishi Electric Corp | 気体レーザ装置 |
| JPH03155684A (ja) * | 1989-08-11 | 1991-07-03 | Mitsubishi Electric Corp | 気体レーザ装置 |
| JPH05505701A (ja) * | 1990-03-21 | 1993-08-19 | ロフイン―ジナール レーザー ゲゼルシヤフト ミツト ベシユレンクテル ハフツング | ガスレーザ |
| JPH0690048A (ja) * | 1990-10-12 | 1994-03-29 | Coherent Inc | パルス波co2レーザー |
| JPH04199583A (ja) * | 1990-11-29 | 1992-07-20 | Toshiba Corp | ガスレーザ発振器 |
| JPH04261080A (ja) * | 1991-01-25 | 1992-09-17 | Mitsubishi Electric Corp | 気体レーザ装置 |
| JPH04332182A (ja) * | 1991-05-07 | 1992-11-19 | Toshiba Corp | レーザ装置 |
| JPH06152037A (ja) * | 1992-11-05 | 1994-05-31 | Mitsubishi Electric Corp | ガスレーザ装置 |
| JPH08512433A (ja) * | 1993-07-12 | 1996-12-24 | コヒーレント・インク | 折り返された共振器構造を持つガススラブレーザ |
| JP2000506319A (ja) * | 1996-03-13 | 2000-05-23 | ロフイン―ジナール レーザー ゲゼルシヤフト ミツト ベシユレンクテル ハフツング | ストリップレーザー |
| JP2002540607A (ja) * | 1999-03-19 | 2002-11-26 | ゴスダーストベンノイ プレドプリアテイ ノーチェノ−イスルドバテルスキー インステイチュート ラゼルノイ フィチキ | レーザ装置 |
| JP2001053362A (ja) * | 1999-08-11 | 2001-02-23 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | ガスレーザ装置 |
| JP2001168428A (ja) * | 1999-12-07 | 2001-06-22 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | ガスレーザ装置 |
| JP2006525649A (ja) * | 2003-05-07 | 2006-11-09 | フェデラルノイェ・ゴスダルストヴェンノイェ・ウニタルノイェ・プレドプリヤティエ・“ナウチノ−プロイズヴォドストヴェンナヤ・コルポラツィヤ・ゴスダルストヴェンニー・オプティチェスキー・インスティトゥト・ | ハイブリッド不安定リングレゾネータを備えたレーザ |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| US8116348B2 (en) | 2012-02-14 |
| EP2053708A1 (en) | 2009-04-29 |
| US20090110016A1 (en) | 2009-04-30 |
| JP5517434B2 (ja) | 2014-06-11 |
| CN101420101A (zh) | 2009-04-29 |
| EP2053707A2 (en) | 2009-04-29 |
| ES2629987T3 (es) | 2017-08-17 |
| EP2053707B1 (en) | 2016-12-28 |
| EP2053707A3 (en) | 2011-01-12 |
| CN101420101B (zh) | 2013-11-06 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP5517434B2 (ja) | ガスレーザ装置及びレーザ生成方法 | |
| JP3265173B2 (ja) | 固体レーザ装置 | |
| JP5657139B2 (ja) | Co2レーザ装置およびco2レーザ加工装置 | |
| CN106125312A (zh) | 高功率激光器的波导光束调节 | |
| EP2628218B1 (en) | Ceramic gas laser having an integrated beam shaping waveguide | |
| EP1583185A2 (en) | Laser with axially symmetric laser beam profile | |
| US5260964A (en) | Graded reflectivity mirror resonators for lasers with a gain medium having a non-circular cross-section | |
| US20040105477A1 (en) | High power slab type gas laser | |
| CN105870770B (zh) | 平直折叠式陶瓷板条激光器 | |
| EP2362502B1 (en) | Mode selection technique for a waveguide laser | |
| US5848091A (en) | Laser resonator with improved output beam characteristics | |
| JP3621623B2 (ja) | レーザ共振器 | |
| US8009715B2 (en) | Mode selection technique for a laser | |
| US20130235894A1 (en) | Gas laser device | |
| US5764680A (en) | Folded internal beam path for gas stable/unstable resonator laser | |
| US11942753B2 (en) | Folded slab laser | |
| JP2002016304A (ja) | 不安定型共振器 | |
| US20240372313A1 (en) | Excimer laser with improved beam uniformity and stability | |
| US11251578B2 (en) | Output coupling from unstable laser resonators | |
| US20190267768A1 (en) | Lasers with setback aperture | |
| CN119812909A (zh) | 一种混合腔激光装置 | |
| JPH06334244A (ja) | エキシマーレーザー発振器 | |
| JPH0491483A (ja) | ガスレーザ発振装置 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20111020 |
|
| RD04 | Notification of resignation of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7424 Effective date: 20120106 |
|
| A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20130226 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20130305 |
|
| A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20130605 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20130827 |
|
| A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20131127 |
|
| TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20140325 |
|
| A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20140401 |
|
| R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 5517434 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| S531 | Written request for registration of change of domicile |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313531 |
|
| S533 | Written request for registration of change of name |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313533 |
|
| R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |