JP2009135281A - 半導体装置、その半導体装置を使用した半導体レーザ駆動装置及び画像形成装置 - Google Patents

半導体装置、その半導体装置を使用した半導体レーザ駆動装置及び画像形成装置 Download PDF

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Abstract

【課題】半導体レーザの個々の特性に合わせて回路構成を変えることができる半導体装置、その半導体装置を使用した半導体レーザ駆動装置及び画像形成装置を得る。
【解決手段】スイッチング電流設定端子RSW、スイッチング電流制御端子VSW、各端子RSW及びVSWのそれぞれの入力電圧が等しくなるようにスイッチング電流Iswを生成するスイッチング電流生成回路10、バイアス電流設定端子RBI、バイアス電流制御端子VBI、各端子RBI及びVBIのそれぞれの入力電圧が等しくなるようにバイアス電流Ibiを生成するバイアス電流生成回路20、所定の光量になる駆動電流値を記憶する記憶回路30と、APC出力端子APCO、及びスイッチング電流Iswとバイアス電流Ibiを加算して駆動電流を生成する電流加算回路52を備えるようにした。
【選択図】図1

Description

本発明は、半導体装置、該半導体装置を使用し、レーザプリンタの光書き込み、光データ通信及び光ディスク等に使用される半導体レーザの駆動制御を行う半導体レーザ駆動装置、及び画像形成装置に関するものである。
従来、画像形成装置の書き込みに使用されていた半導体レーザに対する光量制御は、該半導体レーザのレーザ光を、該半導体レーザの近傍に配置したフォトセンサで定期的に検出し、該検出信号を半導体レーザ駆動回路にフィードバツクすることによって、前記レーザ光の光量制御を行い、前記半導体レーザの光量が所定値になるように制御を行う、いわゆるAPC(Automatic Power Control)が一般に行われていた。
半導体レーザの駆動電流は、通常、バイアス電流とスイッチング電流の2つの電流値を合算した電流として生成される。これは、半導体レーザの光量‐駆動電流の特性が、図9及び図10に示すように非線形になっているからである。すなわち、半導体レーザは、しきい値電流Ith以下の駆動電流ではほとんど発光せず、しきい値電流Ithを超えると、超過した電流に比例して発光量が増加するという特性を備えている。しきい値電流Ithを超えた電流を発光電流Iηとする。
半導体レーザの発光制御において、半導体レーザの駆動電流をゼロから所定の光量が得られる電流までスイングさせると、該駆動電流がしきい値電流Ithに到達するまでは半導体レーザは発光しないためレーザ光の立ち上がり時間が長くなり、所定の光量が得られなくなる。そこで、バイアス電流Ibiとして、しきい値電流Ithに近い電流を半導体レーザに常時流し、前記駆動電流とバイアス電流Ibiとの差分のスイッチング電流Iswだけをオン/オフさせることで高速な発光制御を行っていた。
しかし、図9で示すように、しきい値電流Ithは、半導体レーザごとにばらつき、半導体レーザの温度変化によってもしきい値電流Ithはしきい値電流IthHまで変動するため、同じ発光量を得るためには、バイアス電流Ibiをしきい値電流IbiHまで増やさなくてはならなかった。更に、図10に示すように、発光電流Iηと発光量との関係(発光効率)も、半導体レーザごとにばらつき、半導体レーザの温度変化によっても変化するため、同じ発光量を得るためには、スイッチング電流IswをIswHまで増やさなくてはならなかった。
このため、従来のAPCでは、フォトセンサの検出信号によってバイアス電流Ibiの電流値を制御し、しきい値電流Ithの変化を吸収する第1の方式(例えば、特許文献1参照)や、フォトセンサの検出信号によってバイアス電流Ibiの電流値とスイッチング電流Iswの電流値の両方を制御する第2の方式(例えば、特許文献2参照)や、フォトセンサの検出信号によって、バイアス電流Ibiの電流値とスイッチング電流Iswの電流値が、所定の比例関係を維持するように制御する第3の方式(例えば、特許文献3参照)等、様々な方式があった。
特開平8−83950号公報 特開平5−30314号公報 特許第2644722号公報
しかし、前記第1の方式のように、バイアス電流Ibiの電流値だけを制御する場合は、図10のように発光効率が大きく変動する半導体レーザの場合は対処することができなかった。また、前記第2の方式のように、バイアス電流Ibiの電流値とスイッチング電流Iswの電流値の両方を制御するものは、回路が複雑となり高価になるという問題があった。更に、前記第3の方式のように、バイアス電流Ibiの電流値とスイッチング電流Iswの電流値が所定の比例関係を維持するように制御するものは、前記第2の方式よりも回路規模が小さくなるが、前記第1の方式よりも回路規模が大きく、しかも半導体レーザには、温度によってしきい値電流Ithが大きく変動するものや、発光効率が大きく変動するものがあるため、中途半端な制御になるという問題があった。
更に、従来の光量制御回路をICに集積した場合、半導体レーザの個々のばらつきや、個々の温度特性の違いによって回路を変更することができないため、半導体レーザの個々の特徴に合わせたきめ細かい回路構成にすることができなかった。
本発明は、このような問題を解決するためになされたものであり、半導体レーザの個々の特性に合わせて回路構成を変えることができる半導体装置、その半導体装置を使用した半導体レーザ駆動装置及び画像形成装置を得ることを目的とする。
この発明に係る半導体装置は、バイアス電流とスイッチング電流を加算した駆動電流により半導体レーザを駆動し、該半導体レーザの光量が所定の光量になるように該半導体レーザに供給する電流を自動的に制御するAPCを行うための半導体装置において、
前記スイッチング電流の電流制御を行うためのスイッチング電流制御端子と、
前記スイッチング電流の電流値を設定するためのスイッチング電流設定端を有し、該スイッチング電流設定端に入力された電圧と前記スイッチング電流制御端子に入力された電圧が等しくなるように前記スイッチング電流を生成し出力するスイッチング電流生成回路と、
前記バイアス電流の電流制御を行うためのバイアス電流制御端子と、
前記バイアス電流の電流値を設定するためのバイアス電流設定端を有し、該バイアス電流設定端に入力された電圧と前記バイアス電流制御端子に入力された電圧が等しくなるように前記バイアス電流を生成し出力するバイアス電流生成回路と、
前記半導体レーザの発光量に応じた電圧が入力され、該入力された電圧が所定の光量を示す所定の第2基準電圧と等しくなるような電圧を生成し記憶して出力する記憶回路と、
該記憶回路の出力電圧を外部に出力するためのAPC出力端子と、
前記スイッチング電流と前記バイアス電流を加算して前記駆動電流を生成する電流加算回路と、
を備えるものである。
また、所定の第1基準電圧を生成して出力する基準電圧発生回路と、
該第1基準電圧を外部に出力するための基準電圧出力端子と、
を備えるようにした。
また、前記APC出力端子は、前記バイアス電流制御端子又は前記スイッチング電流制御端子のいずれか一方に接続されるようにした。
また、前記APC出力端子は、前記バイアス電流制御端子に接続されると共に、前記基準電圧出力端子は、前記スイッチング電流制御端子に接続され、前記電流加算回路は、前記記憶回路の出力電圧によって電流値が制御される前記バイアス電流に、一定の電流値の前記スイッチング電流を加算して前記駆動電流を生成するようにした。
また、前記APC出力端子は、前記スイッチング電流制御端子に接続されると共に、前記基準電圧出力端子は、前記バイアス電流制御端子に接続され、前記電流加算回路は、前記記憶回路の出力電圧によって電流値が制御される前記スイッチング電流に、一定の電流値の前記バイアス電流を加算して前記駆動電流を生成するようにした。
また、前記スイッチング電流制御端子は、外部で生成された前記半導体レーザの光量を制御するための光量制御信号が入力され、前記バイアス電流制御端子は、前記基準電圧出力端子に接続されるようにした。
また、前記バイアス電流制御端子は、外部で生成された前記半導体レーザの光量を制御するための光量制御信号が入力され、前記スイッチング電流制御端子は、前記基準電圧出力端子に接続されるようにした。
また、前記スイッチング電流制御端子及びバイアス電流制御端子は、外部で生成された前記半導体レーザの光量を制御するための光量制御信号がそれぞれ入力されるようにした。
また、この発明に係る半導体装置は、バイアス電流とスイッチング電流を加算した駆動電流により半導体レーザを駆動し、該半導体レーザの光量が所定の光量になるように該半導体レーザに供給する電流を自動的に制御するAPCを行うための半導体装置において、
前記スイッチング電流の電流値を設定するためのスイッチング電流設定端、及び前記スイッチング電流の電流制御を行うためのスイッチング電流制御端をそれぞれ有し、前記スイッチング電流設定端に入力された電圧と該スイッチング電流制御端に入力された電圧が等しくなるように前記スイッチング電流を生成し出力するスイッチング電流生成回路と、
前記バイアス電流の電流値を設定するためのバイアス電流設定端、及び前記バイアス電流の電流制御を行うためのバイアス電流制御端をそれぞれ有し、前記バイアス電流設定端に入力された電圧と該バイアス電流制御端に入力された電圧が等しくなるように前記バイアス電流を生成し出力するバイアス電流生成回路と、
前記半導体レーザの発光量に応じた電圧が入力され、該入力された電圧が所定の光量を示す所定の第2基準電圧と等しくなるような電圧を生成し記憶して出力する記憶回路と、
所定の第1基準電圧を生成して出力する基準電圧発生回路と、
入力された切換信号に応じて、前記記憶回路の出力電圧を前記バイアス電流制御端と前記スイッチング電流制御端のいずれか一方に出力する第1切換手段と、
入力された切換信号に応じて、前記第1基準電圧を前記バイアス電流制御端と前記スイッチング電流制御端のいずれか一方に出力する第2切換手段と、
外部から前記切換信号が入力される切換信号入力端子と、
を備え、
前記第1切換手段及び前記第2切換手段は、前記記憶回路の出力電圧及び前記基準電圧を、前記切換信号に応じて前記バイアス電流制御端及び前記スイッチング電流制御端に対応させて出力するものである。
また、前記記憶回路の出力電圧を外部に出力するためのAPC出力端子を備えるようにした。
この場合、前記APCを行うことを示すAPC信号が外部から入力されるAPC信号入力端子を備え、前記記憶回路は、該APC信号入力端子に入力されたAPC信号に応じて前記電圧を出力し、前記APC信号入力端子に、前記記憶回路が電圧出力を停止するように前記APC信号が入力されると共に、前記APC出力端子に、前記半導体レーザの光量を制御するための光量制御信号が外部から入力されるようにしてもよい。
また、この発明に係る半導体レーザ駆動装置は、所定の光量が得られるように半導体レーザに供給する電流を自動的に制御するAPCを行って、該半導体レーザの駆動制御を行う半導体レーザ駆動装置において、
前記半導体レーザの発光量の検出を行い、該検出した発光量に応じた電圧を生成して出力する光量検出回路部と、
バイアス電流とスイッチング電流を加算した駆動電流により半導体レーザを駆動し、前記光量検出回路部で検出された前記半導体レーザの光量が所定の光量になるように前記半導体レーザに供給する電流を自動的に制御するAPCを行うための半導体装置と、
を有し、
前記半導体装置は、
前記スイッチング電流の電流制御を行うためのスイッチング電流制御端子と、
前記スイッチング電流の電流値を設定するためのスイッチング電流設定端を有し、該スイッチング電流設定端に入力された電圧と前記スイッチング電流制御端子に入力された電圧が等しくなるように前記スイッチング電流を生成し出力するスイッチング電流生成回路と、
前記バイアス電流の電流制御を行うためのバイアス電流制御端子と、
前記バイアス電流の電流値を設定するためのバイアス電流設定端を有し、該バイアス電流設定端に入力された電圧と前記バイアス電流制御端子に入力された電圧が等しくなるように前記バイアス電流を生成し出力するバイアス電流生成回路と、
前記光量検出回路部の出力電圧が前記所定の光量を示す所定の第2基準電圧と等しくなるような電圧を生成し記憶して出力する記憶回路と、
該記憶回路の出力電圧を外部に出力するためのAPC出力端子と、
前記スイッチング電流と前記バイアス電流を加算して前記駆動電流を生成する電流加算回路と、
を備えるものである。
また、前記半導体装置は、
所定の第1基準電圧を生成して出力する基準電圧発生回路と、
該第1基準電圧を外部に出力するための基準電圧出力端子と、
を備えるようにした。
また、前記APC出力端子は、前記バイアス電流制御端子又は前記スイッチング電流制御端子のいずれか一方に接続されるようにした。
また、前記APC出力端子は、前記バイアス電流制御端子に接続されると共に、前記基準電圧出力端子は、前記スイッチング電流制御端子に接続され、前記電流加算回路は、前記記憶回路の出力電圧によって電流値が制御される前記バイアス電流に、一定の電流値の前記スイッチング電流を加算して前記駆動電流を生成するようにした。
また、前記APC出力端子は、前記スイッチング電流制御端子に接続されると共に、前記基準電圧出力端子は、前記バイアス電流制御端子に接続され、前記電流加算回路は、前記記憶回路の出力電圧によって電流値が制御される前記スイッチング電流に、一定の電流値の前記バイアス電流を加算して前記駆動電流を生成するようにした。
また、前記バイアス電流制御端子は、外部で生成された前記半導体レーザの光量を制御するための光量制御信号が入力され、前記スイッチング電流制御端子は、前記基準電圧出力端子に接続されるようにした。
また、前記スイッチング電流制御端子及びバイアス電流制御端子は、外部で生成された前記半導体レーザの光量を制御するための光量制御信号がそれぞれ入力されるようにした。
また、この発明に係る半導体レーザ駆動装置は、所定の光量が得られるように半導体レーザに供給する電流を自動的に制御するAPCを行って、該半導体レーザの駆動制御を行う半導体レーザ駆動装置において、
前記半導体レーザの発光量の検出を行い、該検出した発光量に応じた電圧を生成して出力する光量検出回路部と、
バイアス電流とスイッチング電流を加算した駆動電流により半導体レーザを駆動し、前記光量検出回路部で検出された前記半導体レーザの光量が所定の光量になるように前記半導体レーザに供給する電流を自動的に制御するAPCを行うための半導体装置と、
を有し、
前記半導体装置は、
前記スイッチング電流の電流値を設定するためのスイッチング電流設定端、及び前記スイッチング電流の電流制御を行うためのスイッチング電流制御端をそれぞれ有し、前記スイッチング電流設定端に入力された電圧と該スイッチング電流制御端に入力された電圧が等しくなるように前記スイッチング電流を生成し出力するスイッチング電流生成回路と、
前記バイアス電流の電流値を設定するためのバイアス電流設定端、及び前記バイアス電流の電流制御を行うためのバイアス電流制御端をそれぞれ有し、前記バイアス電流設定端に入力された電圧と該バイアス電流制御端に入力された電圧が等しくなるように前記バイアス電流を生成し出力するバイアス電流生成回路と、
前記光量検出回路部の出力電圧が前記所定の光量を示す所定の第2基準電圧と等しくなるような電圧を生成し記憶して出力する記憶回路と、
所定の第1基準電圧を生成して出力する基準電圧発生回路と、
入力された切換信号に応じて、前記記憶回路の出力電圧を前記バイアス電流制御端と前記スイッチング電流制御端のいずれか一方に出力する第1切換手段と、
入力された切換信号に応じて、前記第1基準電圧を前記バイアス電流制御端と前記スイッチング電流制御端のいずれか一方に出力する第2切換手段と、
外部から前記切換信号が入力される切換信号入力端子と、
を備え、
前記第1切換手段及び前記第2切換手段は、前記記憶回路の出力電圧及び前記基準電圧を、前記切換信号に応じて前記バイアス電流制御端及び前記スイッチング電流制御端に対応させて出力するものである。
また、前記半導体装置は、前記記憶回路の出力電圧を外部に出力するためのAPC出力端子を備えるようにした。
この場合、前記半導体装置は、前記APCを行うことを示すAPC信号が外部から入力されるAPC信号入力端子を備え、前記記憶回路は、該APC信号入力端子に入力されたAPC信号に応じて前記電圧を出力し、前記APC信号入力端子に、前記記憶回路が電圧出力を停止するように前記APC信号が入力されると共に、前記APC出力端子に、前記半導体レーザの光量を制御するための光量制御信号が外部から入力されるようにしてもよい。
また、この発明に係る画像形成装置は、前記いずれかの半導体装置を備えたものである。
また、この発明に係る画像形成装置は、前記いずれかの半導体レーザ駆動装置を備えたものである。
本発明の半導体装置、その半導体装置を使用した半導体レーザ駆動装置及び画像形成装置によれば、APCを行うために必要な、スイッチング電流生成回路、バイアス電流生成回路及び記憶回路、又はスイッチング電流生成回路、バイアス電流生成回路、記憶回路及び基準電圧発生回路をそれぞれ単独に使用することができるように外部端子を備えたことから、半導体装置の外部接続を変えるだけで、APCによるバイアス電流制御とスイッチング電流制御の両方の制御を行うことができ、半導体レーザの個々の特性に合わせて回路構成を変えることができる。
また、半導体装置に内蔵された記憶回路に代えて、外部の回路を使用することにより、より高精度なAPCを行うことができると共に、バイアス電流とスイッチング電流の両方を同時に制御することもできる。
更に、半導体装置に入力される切換信号によって、APCで制御される電流をバイアス電流にもスイッチング電流にも切り換えることが可能な切換手段を設けたことから、半導体装置の外部接続を変更することなく、温度変化によってしきい値電流が大きく変動する半導体レーザと、発光効率が大きく変化する半導体レーザのいずれにおいて使用することができる。
次に、図面に示す実施の形態に基づいて、本発明を詳細に説明する。
第1の実施の形態.
図1は、本発明の第1の実施の形態における半導体レーザ駆動装置の回路例を示した図である。
図1において、半導体レーザ駆動装置1は、レーザダイオード等の半導体レーザLdの順方向電流‐光出力特性(i‐L特性)が温度変化や経年劣化によって変動するため、一般的に、半導体レーザLdの光量を常に一定に保つための制御、すなわちAPCを行う。半導体レーザ駆動装置1は、半導体レーザLdの光量をフォトダイオードPdで受光し、該受光した光量に応じて前記APCを実行する。なお、以下、半導体レーザ駆動装置1がレーザプリンタやデジタル複写機等の画像形成装置に使用される場合を想定して説明する。
半導体レーザ駆動装置1は、ICをなす半導体装置2と、フォトダイオードPdと、可変抵抗Rpdと、スイッチング電流設定抵抗Rswと、バイアス電流設定抵抗Rbiと、サンプルホールドコンデンサCshとで構成されている。半導体装置2は、スイッチング電流生成回路10と、バイアス電流生成回路20と、記憶回路30と、データ信号ドライバ回路51と、電流加算回路52と、スイッチング電流制御スイッチSW51とを備えている。更に、半導体装置2は、APC出力端子APCO、スイッチング電流制御端子VSW、スイッチング電流設定端子RSW、書き込みデータ端子DATA,DATAB、バイアス電流制御端子VBI、バイアス電流設定端子RBI、半導体レーザ接続端子LD、フォトダイオード接続端子PD、基準電圧入力端子VREFI、APC信号入力端子APCI、電源端子VDD、及び接地端子GNDを備えている。なお、フォトダイオードPdと可変抵抗Rpdは光量検出回路部をなす。
APC出力端子APCOはバイアス電流制御端子VBIに接続され、APC出力端子APCと接地電圧との間にはサンプルホールドコンデンサCshが接続されている。スイッチング電流制御端子VSWには所定の第1基準電圧Vref1が入力されており、スイッチング電流設定端子RSWと接地電圧との間にはスイッチング電流設定抵抗Rswが接続され、バイアス電流設定端子RBIと接地電圧との間にはバイアス電流設定抵抗Rbiが接続されている。なお、スイッチング電流設定抵抗Rswとバイアス電流設定抵抗Rbiは、抵抗値を変える必要がなければ、半導体装置2に内蔵するようにしてもよい。
半導体レーザLdは、アノードが電源端子VDDに、カソードが半導体レーザ接続端子LDにそれぞれ接続され、フォトダイオードPdは、カソードが電源端子VDDに、アノードがフォトダイオード接続端子PDにそれぞれ接続されている。電源端子VDDには電源電圧Vddが入力されており、フォトダイオード接続端子PDと接地電圧との間には抵抗値の調整が可能な可変抵抗Rpdが接続されている。基準電圧入力端子VREFIには所定の第2基準電圧Vref2が、APC信号入力端子APCIにはAPC信号がそれぞれ入力されており、接地端子GNDは接地電圧に接続されている。
スイッチング電流生成回路10は、演算増幅回路11とPMOSトランジスタM11,M12とで構成されている。演算増幅回路11は、反転入力端がスイッチング電流制御端子VSWに、非反転入力端がスイッチング電流設定端子RSWに、出力端がPMOSトランジスタM11とM12の各ゲートにそれぞれ接続されている。PMOSトランジスタM11は、ソースが電源電圧Vddに接続され、ドレインがスイッチング電流設定端子RSWに接続されている。また、PMOSトランジスタM12は、ソースが電源電圧Vddに接続され、ドレインがスイッチング電流制御スイッチSW51の一端に接続されており、PMOSトランジスタM11とM12はそれぞれ比例したドレイン電流を出力し、PMOSトランジスタM12のドレイン電流がスイッチング電流Iswとして出力される。
バイアス電流生成回路20は、スイッチング電流生成回路10と同様の回路構成をなしており、演算増幅回路21とPMOSトランジスタM21,M22とで構成されている。演算増幅回路21は、反転入力端がバイアス電流制御端子VBIに、非反転入力端がバイアス電流設定端子RBIに、出力端がPMOSトランジスタM21とM22の各ゲートにそれぞれ接続されている。PMOSトランジスタM21は、ソースが電源電圧Vddに接続され、ドレインがバイアス電流設定端子RBIに接続されている。また、PMOSトランジスタM22は、ソースが電源電圧Vddに接続され、ドレインが電流加算回路52の一方の入力端に接続されており、PMOSトランジスタM21とM22はそれぞれ比例したドレイン電流を出力し、PMOSトランジスタM22のドレイン電流がバイアス電流Ibiとして出力される。
記憶回路30は、演算増幅回路31とスイッチSW31とで構成されている。演算増幅回路31は、反転入力端がフォトダイオード接続端子PDに、非反転入力端が基準電圧入力端子VREFIに、出力端がスイッチSW31の一端にそれぞれ接続されている。スイッチSW31の他端は、APC出力端子APCOに接続され、スイッチSW31の制御電極はAPC信号入力端子APCIに接続されている。スイッチSW31は、例えばAPC信号がローレベルのときはオンして導通状態になり、APC信号がハイレベルになるとオフして遮断状態になる。
データ信号ドライバ回路51は、2つの入力端が書き込みデータ端子DATA及びDATABに対応して接続され、出力端がスイッチング電流制御スイッチSW51の制御電極に接続されている。
スイッチング電流制御スイッチSW51は、他端が電流加算回路52の他方の入力端に接続されており、書き込みデータ端子DATAとDATABに所定の書き込み信号が入力されるとオンして導通状態になり、スイッチング電流生成回路10で生成されたスイッチング電流Iswを電流加算回路52に供給する。
電流加算回路52の各入力端には、スイッチング電流生成回路10とバイアス電流生成回路20の各出力端が対応して接続されており、電流加算回路52の出力端は半導体レーザ接続端子LDに接続されている。電流加算回路52は、入力されたスイッチング電流Iswとバイアス電流Ibiを加算して、半導体レーザLdの駆動電流をなすシンク電流として出力する。
このような構成において、まず、スイッチング電流生成回路10の動作について説明する。
スイッチング電流設定端子RSWと接地電圧との間に接続されたスイッチング電流設定抵抗Rswには、PMOSトランジスタM11のドレイン電流が供給されている。演算増幅回路11は、スイッチング電流設定抵抗Rswによる電圧降下が、第1基準電圧Vref1に等しくなるように、PMOSトランジスタM11のゲート電圧を制御して、PMOSトランジスタM11のドレイン電流を制御する。すなわち、スイッチング電流設定抵抗Rswの抵抗値をrswとすると、PMOSトランジスタM11のドレイン電流は、Vref1/rswとなり、第1基準電圧Vref1とスイッチング電流設定抵抗Rswによって電流値が設定される。
PMOSトランジスタM12のドレイン電流はPMOSトランジスタM11のドレイン電流に比例することから、PMOSトランジスタM12のドレイン電流も、第1基準電圧Vref1とスイッチング電流設定抵抗Rswによって電流値が設定される。このように、PMOSトランジスタM12のドレインから出力されるスイッチング電流Iswは、前記のように第1基準電圧Vref1とスイッチング電流設定抵抗Rswによって設定されるため一定の電流になる。スイッチング電流Iswは、スイッチング電流制御スイッチSW51を介して電流加算回路52に入力され、電流加算回路52でバイアス電流Ibiに加算され、半導体レーザ接続端子LDに接続された半導体レーザLdの駆動電流になる。
次に、バイアス電流生成回路20の動作について説明する。
バイアス電流設定端子RBIと接地電圧との間に接続されたバイアス電流設定抵抗Rbiには、PMOSトランジスタM21のドレイン電流が供給されている。演算増幅回路21は、バイアス電流設定抵抗Rbiによる電圧降下が、記憶回路30の出力電圧Vshと等しくなるように、PMOSトランジスタM21のゲート電圧を制御することによって、PMOSトランジスタM21のドレイン電流を制御する。すなわち、バイアス電流設定抵抗Rbiの抵抗値をrbiとすると、PMOSトランジスタM21のドレイン電流は、Vsh/rbiとなり記憶回路30の出力電圧Vshとバイアス電流設定抵抗Rbiによって設定される。
スイッチング電流生成回路10の場合と同様に、PMOSトランジスタM22のドレイン電流は、PMOSトランジスタM21のドレイン電流に比例しているため、PMOSトランジスタM22のドレイン電流も記憶回路30の出力電圧Vshとバイアス電流設定抵抗Rbiによって設定される。PMOSトランジスタM22のドレイン電流がバイアス電流Ibiになる。記憶回路30の出力電圧Vshは、後述するように半導体レーザLdのばらつきや温度変化等によって変動するため、該変動に応じてバイアス電流Ibiも変動する。バイアス電流Ibiは、電流加算回路52に入力され、電流加算回路52でスイッチング電流Iswに加算され、半導体レーザ接続端子LDに接続された半導体レーザLdの駆動電流になる。
次に、記憶回路30の動作について説明する。
画像書き込み前に、APC信号入力端子APCIに入力されたAPC信号がローレベルになり、スイッチ31をオンさせて導通状態にする。また、スイッチング電流制御スイッチSW51がオンして導通状態になるように、書き込みデータ端子DATA,DATABに書き込みデータ信号が入力される。このため、半導体レーザLdには前記したようにスイッチング電流Iswとバイアス電流Ibiを加算した駆動電流が供給されるため、半導体レーザLdが発光する。この半導体レーザLdの発光量は、半導体レーザLdの近傍に配置されたフォトダイオードPdによって検出される。
フォトダイオードPdには、半導体レーザLdの光量に比例した光電流が流れ、該光電流は、抵抗Rpdによって電圧に変換される。該変換された電圧は、フォトダイオード接続端子PDを介して演算増幅回路31の反転入力端に入力される。演算増幅回路31の非反転入力端には、外部から第2基準電圧Vref2が入力されており、演算増幅回路31は、抵抗Rpdによる電圧降下が第2基準電圧Vref2に等しくなるようにバイアス電流Ibiを制御して、半導体レーザLdの光量が所定値になるように制御する。このとき、サンプルホールドコンデンサCshは、演算増幅回路31の出力電圧Vshで充電される。なお、第1基準電圧Vref1と第2基準電圧Vref2は同じ電圧であってもよい。
画像書き込み直前にAPC信号がハイレベルになり、スイッチSW31がオフして遮断状態になる。このため、画像書き込み直前の演算増幅回路31の出力電圧VshがサンプルホールドコンデンサCshに記憶される。画像書き込み期間中は、APC信号がハイレベルで保持されるため、バイアス電流Ibiは画像書き込み直前の電流値のまま変化しない。画像書き込み期間中は、外部から入力される前記書き込みデータ信号に応じて、スイッチング電流制御スイッチSW51がオン/オフ動作を繰り返し、半導体レーザLdを点滅させて所望の画像が形成される。
なお、前記説明では、APC出力端子APCOをバイアス電流制御端子VBIに接続するようにしたが、APC出力端子APCOをスイッチング電流制御端子VSWに接続すると共に、バイアス電流制御端子VBIに第1基準電圧Vref1を入力するようにしてもよい。このようにした場合、バイアス電流Ibiが一定の電流になり、スイッチング電流Iswの電流値が記憶回路30の出力電圧Vshに応じて変化するようになる。このため、しきい値電流Ithより、発光効率の変化が大きい半導体レーザLdの制御に適した回路構成にすることができる。
このように、本第1の実施の形態における半導体レーザ駆動装置は、APCによってバイアス電流Ibiを制御することができるため、発光効率よりもしきい値電流Ithの変化の大きい半導体レーザLdの制御に適した回路構成を得ることができる。また、同じ半導体装置2のAPC出力端子APCOの接続先を変えるだけで、APCによりバイアス電流Ibiを制御する回路と、スイッチング電流Iswを制御する回路を構成することができるため、しきい値電流Ithの変化の大きい半導体レーザLdにも、発光効率の変化の大きい半導体レーザLdにも対応することができる。
第2の実施の形態.
前記第1の実施の形態では、第1基準電圧Vref1を外部から入力するようにしたが、第1基準電圧Vref1を生成する回路を半導体装置2の内部に設けるようにしてもよく、このようにしたものを本発明の第2の実施の形態とする。
図2は、本発明の第2の実施の形態における半導体レーザ駆動装置の回路例を示した図である。なお、図2では、図1と同じもの又は同様のものは同じ符号で示し、ここではその説明を省略すると共に図1との相違点のみ説明する。
図2における図1との相違点は、図1の半導体装置2に、第1基準電圧Vref1を生成して出力する基準電圧発生回路40と、第1基準電圧Vref1を出力する基準電圧出力端子VREFOを設けたことにあり、これに伴って、図1の半導体装置2を半導体装置2aにし、図1の半導体レーザ駆動装置1を半導体レーザ駆動装置1aにした。
図2において、半導体レーザ駆動装置1aは、ICをなす半導体装置2aと、フォトダイオードPdと、可変抵抗Rpdと、スイッチング電流設定抵抗Rsw、バイアス電流設定抵抗Rbiと、サンプルホールドコンデンサCshとで構成されている。半導体装置2aは、スイッチング電流生成回路10と、バイアス電流生成回路20と、記憶回路30と、基準電圧発生回路40と、データ信号ドライバ回路51と、電流加算回路52と、スイッチング電流制御スイッチSW51とを備えている。更に、半導体装置2aは、APC出力端子APCO、スイッチング電流制御端子VSW、スイッチング電流設定端子RSW、書き込みデータ端子DATA,DATAB、バイアス電流制御端子VBI、バイアス電流設定端子RBI、半導体レーザ接続端子LD、フォトダイオード接続端子PD、基準電圧入力端子VREFI、APC信号入力端子APCI、電源端子VDD、接地端子GND及び基準電圧出力端子VREFOを備えている。
基準電圧出力端子VREFOは、スイッチング電流制御端子VSWに接続されている。なお、第2基準電圧Vref2として、基準電圧発生回路40で生成した第1基準電圧Vref1を使用してもよい。
半導体レーザ駆動装置1aの動作は、スイッチング電流制御端子VSWに入力される第1基準電圧Vref1を半導体装置2a内で生成するようにした以外は、前記第1の実施の形態と同様であるのでその説明を省略する。
このように、半導体装置2a内の基準電圧発生回路40で生成した第1基準電圧Vref1をスイッチング電流制御端子VSWに入力し、記憶回路30の出力電圧Vshに応じて、バイアス電流Ibiが制御されると共に、スイッチング電流Iswが一定の電流になることから、発光効率よりもしきい値電流Ithの変化の大きい半導体レーザLdの制御に適した回路構成をなし、前記第1の実施の形態と同様の効果を得ることができる。
ここで、図2において、APC出力端子APCOをスイッチング電流制御端子VSWに接続し、基準電圧出力端子VREFOをバイアス電流制御端子VBIに接続するようにしてもよく、このようにした場合、図2は図3のようになる。なお、図3では、図2と同じもの又は同様のものは同じ符号で示しており、図3においても、第2基準電圧Vref2として、基準電圧発生回路40で生成した第1基準電圧Vref1を使用してもよい。
図3の半導体レーザ駆動装置1aは、記憶回路30の出力電圧Vshに応じてスイッチング電流Iswが制御され、バイアス電流Ibiは一定の電流になるため、しきい値電流Ithよりも発光効率の変化の大きい半導体レーザLdの制御に適した回路構成をなし、図2の場合と同様の効果を得ることができる。
このように、本第2の実施の形態の半導体レーザ駆動装置によれば、半導体装置2a内に基準電圧発生回路40を設けたことから、前記第1の実施の形態と同様の効果を得ることできると共に、外部からの基準電圧が不要になり、より小型化とローコスト化を図ることができる。更に、外部接続を変えるだけで、APCによりバイアス電流Ibiを制御する回路と、スイッチング電流Iswを制御する回路を構成することができるため、しきい値電流Ithの変化の大きい半導体レーザLdにも、発光効率の変化の大きい半導体レーザLdにも対応することができる。
第3の実施の形態.
前記第2の実施の形態において、半導体装置2a内に第1切換スイッチSW1及び第2切換スイッチSW2をそれぞれ設け、演算増幅回路11及び21の各反転入力端に入力される電圧の切り換えを行って、図2のような動作及び図3のような動作を行えるようにしてもよく、このようにしたものを本発明の第3の実施の形態とする。
図4は、本発明の第3の実施の形態における半導体レーザ駆動装置の回路例を示した図である。なお、図4では、図2と同じもの又は同様のものは同じ符号で示し、ここではその説明を省略すると共に図2との相違点のみ説明する。
図4における図2との相違点は、図2の半導体装置2a内に第1切換スイッチSW1及び第2切換スイッチSW2を設けると共に、図2の半導体装置2a内の記憶回路30に図2のサンプルホールドコンデンサCshを設けるようにしたことにあり、これに伴って、図2の記憶回路30を記憶回路30bに、図2の半導体装置2aを半導体装置2bに、図2の半導体レーザ駆動装置1aを半導体レーザ駆動装置1bにそれぞれした。
図4において、半導体レーザ駆動装置1bは、ICをなす半導体装置2bと、フォトダイオードPdと、可変抵抗Rpdと、スイッチング電流設定抵抗Rswと、バイアス電流設定抵抗Rbiとで構成されている。半導体装置2bは、スイッチング電流生成回路10と、バイアス電流生成回路20と、記憶回路30bと、基準電圧発生回路40と、データ信号ドライバ回路51と、電流加算回路52と、スイッチング電流制御スイッチSW51と、第1切換スイッチSW1と、第2切換スイッチSW2とを備えている。更に、半導体装置2bは、切換信号入力端子CHSW、スイッチング電流設定端子RSW、書き込みデータ端子DATA,DATAB、バイアス電流設定端子RBI、半導体レーザ接続端子LD、フォトダイオード接続端子PD、基準電圧入力端子VREFI、APC信号入力端子APCI、電源端子VDD、接地端子GND及び基準電圧出力端子VREFOを備えている。
記憶回路30bは、演算増幅回路31、スイッチSW31及びサンプルホールドコンデンサCshで構成されている。スイッチSW31の一端は演算増幅回路31の出力端に接続され、スイッチSW31の他端は第1切換スイッチSW1の共通端子Cに接続され、該接続部と接地電圧との間にサンプルホールドコンデンサCshが接続されている。第1切換スイッチSW1において、端子Aが演算増幅回路21の非反転入力端に、端子Bが演算増幅回路11の反転入力端にそれぞれ接続され、共通端子Cには記憶回路30bの出力電圧Vshが入力されている。第2切換スイッチSW2において、端子Aが演算増幅回路11の反転入力端に、端子Bが演算増幅回路21の非反転入力端にそれぞれ接続され、共通端子Cには第1基準電圧Vref1が入力されている。
第1切換スイッチSW1及び第2切換スイッチSW2は、切換信号入力端子CHSWに入力された切換信号Schによってそれぞれ動作制御される。例えば、第1切換スイッチSW1及び第2切換スイッチSW2は、切換信号Schがローレベルの場合、それぞれ共通端子Cを端子Aに接続し、切換信号Schがハイレベルのときは、それぞれ共通端子Cを端子Bに接続する。切換信号Schがローレベルで、第1切換スイッチSW1と第2切換スイッチSW2において、それぞれ共通端子Cが端子Aに接続されている場合、記憶回路30bの出力電圧Vshがバイアス電流生成回路20における演算増幅回路21の反転入力端に入力されると共に、基準電圧発生回路40からの第1基準電圧Vref1がスイッチング電流生成回路10における演算増幅回路11の反転入力端に入力されている。この状態は、図2とまったく同じ回路になっているため、APCによりバイアス電流Ibiが制御される。
これに対して、切換信号Schがハイレベルで、第1切換スイッチSW1と第2切換スイッチSW2において、それぞれ共通端子Cが端子Bに接続されている場合、記憶回路30bの出力電圧Vshがスイッチング電流生成回路10における演算増幅回路11の反転入力端に入力されると共に、基準電圧発生回路40からの第1基準電圧Vref1がバイアス電流生成回路20における演算増幅回路21の反転入力端に入力されている。この状態は、図3とまったく同じ回路になっているため、APCによりスイッチング電流Iswが制御される。
このように、本第3の実施の形態における半導体レーザ駆動装置は、前記第2の実施の形態と同様の効果を得ることができると共に、切換信号Schによって、制御する電流を切り換えることができるため、半導体装置の外部接続を変更することなく、しきい値電流Ithが大きく変動する半導体レーザLdと、発光効率が大きく変化する半導体レーザLdのいずれの場合においても使用することができる。
第4の実施の形態.
前記第2及び第3の各実施の形態において、半導体装置内の記憶回路を使用せずに、外部に設けた外部APC制御回路5の出力電圧を使用するようにしてもよく、このようにしたものを本発明の第4の実施の形態とする。
図5は、本発明の第4の実施の形態における半導体レーザ駆動装置の回路例を示した図である。なお、図5では、図2と同じもの又は同様のものは同じ符号で示し、ここではその説明を省略すると共に図2との相違点のみ説明する。
図5における図2との相違点は、図2の記憶回路30を使用せずに、該記憶回路30の動作を外部の外部APC制御回路5で行うようにして、図2のサンプルホールドコンデンサCshをなくすと共に、APC信号及び第2基準電圧Vref2の入力を不要にし、フォトダイオード接続端子PDの接続を遮断したことにあり、これに伴って、図2の半導体レーザ駆動装置1aを半導体レーザ駆動装置1cにした。
図5において、半導体レーザ駆動装置1cは、半導体装置2aと、フォトダイオードPdと、可変抵抗Rpdと、スイッチング電流設定抵抗Rsw及びバイアス電流設定抵抗Rbiで構成されている。図5では、半導体装置2aに記憶回路30が設けられているが、記憶回路30はなくてもよい。
抵抗Rpdによって変換された電圧は、外部APC制御回路5に入力される。APC信号入力端子APCIをオープンにするか、又はAPC信号入力端子APCIにハイレベルの信号を入力するようにして、スイッチSW31を常時オフさせて遮断状態にし記憶回路30の動作を停止させている。外部APC制御回路5は、図2の記憶回路30と同様の動作を行い、記憶回路30の出力電圧Vshに相当する電圧を生成して半導体装置2aのバイアス電流制御端子VBIに出力する。その他の動作は、図2の場合と同様であるのでその説明を省略する。
また、図5では、図2の構成の半導体レーザ駆動装置を例にして説明したが、図3の構成の半導体レーザ駆動装置の場合は図6のようになる。
図6の場合、抵抗Rpdによって変換された電圧は、外部APC制御回路5に入力される。APC信号入力端子APCIをオープンにするか、又はAPC信号入力端子APCIにハイレベルの信号を入力するようにして、スイッチSW31を常時オフさせて遮断状態にし記憶回路30の動作を停止させている。外部APC制御回路5は、図3の記憶回路30と同様の動作を行い、記憶回路30の出力電圧Vshに相当する電圧を生成して半導体装置2aのスイッチング電流制御端子VSWに出力する。その他の動作は、図3の場合と同様であるのでその説明を省略する。
また、図6において、第1基準電圧Vref1を外部APC制御回路5で生成するようにしてもよく、このようにした場合、図6は図7のようになる。図7では、半導体装置2aに基準電圧発生回路40が設けられているが、基準電圧発生回路40はなくてもよい。図7では、外部APC制御回路5で生成された電圧がバイアス電流制御端子VBIに入力されている以外は図6と同じであることからその説明を省略する。図7のようにすることにより、APCによって、バイアス電流Ibiとスイッチング電流Iswの両方を同時に制御することが可能になる。
また、図5及び図6では、前記第2の実施の形態の場合を例にして説明したが、第3の実施の形態における図4の構成の半導体レーザ駆動装置の場合は図8のようになる。なお、図8では、図4と同じもの又は同様のものは同じ符号で示し、ここではその説明を省略すると共に図4との相違点のみ説明する。
図8における図4との相違点は、図4の記憶回路30bを使用せずに、該記憶回路30bの動作を外部の外部APC制御回路5で行うようにすると共に、APC信号及び第2基準電圧Vref2の入力を不要にし、フォトダイオード接続端子PDの接続を遮断したことにあり、これに伴って、図4の半導体レーザ駆動装置1bを半導体レーザ駆動装置1cにした。
図8において、半導体レーザ駆動装置1cは、半導体装置2bと、フォトダイオードPdと、可変抵抗Rpdと、スイッチング電流設定抵抗Rsw及びバイアス電流設定抵抗Rbiで構成されている。図8では、半導体装置2bに記憶回路30bが設けられているが、記憶回路30bはなくてもよい。
抵抗Rpdによって変換された電圧は、外部APC制御回路5に入力される。APC信号入力端子APCIをオープンにするか、又はAPC信号入力端子APCIにハイレベルの信号を入力するようにして、スイッチSW31を常時オフさせて遮断状態にし記憶回路30bの動作を停止させている。外部APC制御回路5は、図4の記憶回路30bと同様の動作を行い、記憶回路30bの出力電圧Vshに相当する電圧を生成してAPC出力端子APCOに出力する。その他の動作は、図4の場合と同様であるのでその説明を省略する。
このように、本第4の実施の形態の半導体レーザ駆動装置は、前記第2及び第3の各実施の形態において、記憶回路30,30bの動作、又は記憶回路30と基準電圧発生回路40の各動作を外部の外部APC制御回路5で行うようにしたことから、より高精度なAPCを行うことができる。
なお、前記第1から第4の各実施の形態における半導体レーザ駆動装置を、レーザプリンタやデジタル複写機等の画像形成装置に使用するようにしてもよい。
本発明の第1の実施の形態における半導体レーザ駆動装置の回路例を示した図である。 本発明の第2の実施の形態における半導体レーザ駆動装置の回路例を示した図である。 本発明の第2の実施の形態における半導体レーザ駆動装置の他の回路例を示した図である。 本発明の第3の実施の形態における半導体レーザ駆動装置の回路例を示した図である。 本発明の第4の実施の形態における半導体レーザ駆動装置の回路例を示した図である。 本発明の第4の実施の形態における半導体レーザ駆動装置の他の回路例を示した図である。 本発明の第4の実施の形態における半導体レーザ駆動装置の他の回路例を示した図である。 本発明の第4の実施の形態における半導体レーザ駆動装置の他の回路例を示した図である。 半導体レーザの光量‐駆動電流の特性例を示した図である。 半導体レーザの光量‐駆動電流の他の特性例を示した図である。
符号の説明
1,1a,1b 半導体レーザ駆動装置
2,2a,2b 半導体装置
5 外部APC制御回路
10 スイッチング電流生成回路
11,21,31 演算増幅回路
20 バイアス電流生成回路
30,30b 記憶回路
40 基準電圧発生回路
51 データ信号ドライバ回路
52 電流加算回路
Pd フォトダイオード
Ld 半導体レーザ
Rpd 可変抵抗
Rsw スイッチング電流設定抵抗
Rbi バイアス電流設定抵抗
Csh サンプルホールドコンデンサ
SW1 第1切換スイッチ
SW2 第2切換スイッチ
SW31 スイッチ
SW51 スイッチング電流制御スイッチ
M11,M12,M21,M22 PMOSトランジスタ

Claims (24)

  1. バイアス電流とスイッチング電流を加算した駆動電流により半導体レーザを駆動し、該半導体レーザの光量が所定の光量になるように該半導体レーザに供給する電流を自動的に制御するAPCを行うための半導体装置において、
    前記スイッチング電流の電流制御を行うためのスイッチング電流制御端子と、
    前記スイッチング電流の電流値を設定するためのスイッチング電流設定端を有し、該スイッチング電流設定端に入力された電圧と前記スイッチング電流制御端子に入力された電圧が等しくなるように前記スイッチング電流を生成し出力するスイッチング電流生成回路と、
    前記バイアス電流の電流制御を行うためのバイアス電流制御端子と、
    前記バイアス電流の電流値を設定するためのバイアス電流設定端を有し、該バイアス電流設定端に入力された電圧と前記バイアス電流制御端子に入力された電圧が等しくなるように前記バイアス電流を生成し出力するバイアス電流生成回路と、
    前記半導体レーザの発光量に応じた電圧が入力され、該入力された電圧が所定の光量を示す所定の第2基準電圧と等しくなるような電圧を生成し記憶して出力する記憶回路と、
    該記憶回路の出力電圧を外部に出力するためのAPC出力端子と、
    前記スイッチング電流と前記バイアス電流を加算して前記駆動電流を生成する電流加算回路と、
    を備えることを特徴とする半導体装置。
  2. 所定の第1基準電圧を生成して出力する基準電圧発生回路と、
    該第1基準電圧を外部に出力するための基準電圧出力端子と、
    を備えることを特徴とする請求項1記載の半導体装置。
  3. 前記APC出力端子は、前記バイアス電流制御端子又は前記スイッチング電流制御端子のいずれか一方に接続されることを特徴とする請求項1記載の半導体装置。
  4. 前記APC出力端子は、前記バイアス電流制御端子に接続されると共に、前記基準電圧出力端子は、前記スイッチング電流制御端子に接続され、前記電流加算回路は、前記記憶回路の出力電圧によって電流値が制御される前記バイアス電流に、一定の電流値の前記スイッチング電流を加算して前記駆動電流を生成することを特徴とする請求項2記載の半導体装置。
  5. 前記APC出力端子は、前記スイッチング電流制御端子に接続されると共に、前記基準電圧出力端子は、前記バイアス電流制御端子に接続され、前記電流加算回路は、前記記憶回路の出力電圧によって電流値が制御される前記スイッチング電流に、一定の電流値の前記バイアス電流を加算して前記駆動電流を生成することを特徴とする請求項2記載の半導体装置。
  6. 前記スイッチング電流制御端子は、外部で生成された前記半導体レーザの光量を制御するための光量制御信号が入力され、前記バイアス電流制御端子は、前記基準電圧出力端子に接続されることを特徴とする請求項2記載の半導体装置。
  7. 前記バイアス電流制御端子は、外部で生成された前記半導体レーザの光量を制御するための光量制御信号が入力され、前記スイッチング電流制御端子は、前記基準電圧出力端子に接続されることを特徴とする請求項2記載の半導体装置。
  8. 前記スイッチング電流制御端子及びバイアス電流制御端子は、外部で生成された前記半導体レーザの光量を制御するための光量制御信号がそれぞれ入力されることを特徴とする請求項2記載の半導体装置。
  9. バイアス電流とスイッチング電流を加算した駆動電流により半導体レーザを駆動し、該半導体レーザの光量が所定の光量になるように該半導体レーザに供給する電流を自動的に制御するAPCを行うための半導体装置において、
    前記スイッチング電流の電流値を設定するためのスイッチング電流設定端、及び前記スイッチング電流の電流制御を行うためのスイッチング電流制御端をそれぞれ有し、前記スイッチング電流設定端に入力された電圧と該スイッチング電流制御端に入力された電圧が等しくなるように前記スイッチング電流を生成し出力するスイッチング電流生成回路と、
    前記バイアス電流の電流値を設定するためのバイアス電流設定端、及び前記バイアス電流の電流制御を行うためのバイアス電流制御端をそれぞれ有し、前記バイアス電流設定端に入力された電圧と該バイアス電流制御端に入力された電圧が等しくなるように前記バイアス電流を生成し出力するバイアス電流生成回路と、
    前記半導体レーザの発光量に応じた電圧が入力され、該入力された電圧が所定の光量を示す所定の第2基準電圧と等しくなるような電圧を生成し記憶して出力する記憶回路と、
    所定の第1基準電圧を生成して出力する基準電圧発生回路と、
    入力された切換信号に応じて、前記記憶回路の出力電圧を前記バイアス電流制御端と前記スイッチング電流制御端のいずれか一方に出力する第1切換手段と、
    入力された切換信号に応じて、前記第1基準電圧を前記バイアス電流制御端と前記スイッチング電流制御端のいずれか一方に出力する第2切換手段と、
    外部から前記切換信号が入力される切換信号入力端子と、
    を備え、
    前記第1切換手段及び前記第2切換手段は、前記記憶回路の出力電圧及び前記基準電圧を、前記切換信号に応じて前記バイアス電流制御端及び前記スイッチング電流制御端に対応させて出力することを特徴とする半導体装置。
  10. 前記記憶回路の出力電圧を外部に出力するためのAPC出力端子を備えることを特徴とする請求項9記載の半導体装置。
  11. 前記APCを行うことを示すAPC信号が外部から入力されるAPC信号入力端子を備え、前記記憶回路は、該APC信号入力端子に入力されたAPC信号に応じて前記電圧を出力し、前記APC信号入力端子に、前記記憶回路が電圧出力を停止するように前記APC信号が入力されると共に、前記APC出力端子に、前記半導体レーザの光量を制御するための光量制御信号が外部から入力されることを特徴とする請求項10記載の半導体装置。
  12. 所定の光量が得られるように半導体レーザに供給する電流を自動的に制御するAPCを行って、該半導体レーザの駆動制御を行う半導体レーザ駆動装置において、
    前記半導体レーザの発光量の検出を行い、該検出した発光量に応じた電圧を生成して出力する光量検出回路部と、
    バイアス電流とスイッチング電流を加算した駆動電流により半導体レーザを駆動し、前記光量検出回路部で検出された前記半導体レーザの光量が所定の光量になるように前記半導体レーザに供給する電流を自動的に制御するAPCを行うための半導体装置と、
    を有し、
    前記半導体装置は、
    前記スイッチング電流の電流制御を行うためのスイッチング電流制御端子と、
    前記スイッチング電流の電流値を設定するためのスイッチング電流設定端を有し、該スイッチング電流設定端に入力された電圧と前記スイッチング電流制御端子に入力された電圧が等しくなるように前記スイッチング電流を生成し出力するスイッチング電流生成回路と、
    前記バイアス電流の電流制御を行うためのバイアス電流制御端子と、
    前記バイアス電流の電流値を設定するためのバイアス電流設定端を有し、該バイアス電流設定端に入力された電圧と前記バイアス電流制御端子に入力された電圧が等しくなるように前記バイアス電流を生成し出力するバイアス電流生成回路と、
    前記光量検出回路部の出力電圧が前記所定の光量を示す所定の第2基準電圧と等しくなるような電圧を生成し記憶して出力する記憶回路と、
    該記憶回路の出力電圧を外部に出力するためのAPC出力端子と、
    前記スイッチング電流と前記バイアス電流を加算して前記駆動電流を生成する電流加算回路と、
    を備えることを特徴とする半導体レーザ駆動装置。
  13. 前記半導体装置は、
    所定の第1基準電圧を生成して出力する基準電圧発生回路と、
    該第1基準電圧を外部に出力するための基準電圧出力端子と、
    を備えることを特徴とする請求項12記載の半導体レーザ駆動装置。
  14. 前記APC出力端子は、前記バイアス電流制御端子又は前記スイッチング電流制御端子のいずれか一方に接続されることを特徴とする請求項12記載の半導体レーザ駆動装置。
  15. 前記APC出力端子は、前記バイアス電流制御端子に接続されると共に、前記基準電圧出力端子は、前記スイッチング電流制御端子に接続され、前記電流加算回路は、前記記憶回路の出力電圧によって電流値が制御される前記バイアス電流に、一定の電流値の前記スイッチング電流を加算して前記駆動電流を生成することを特徴とする請求項13記載の半導体レーザ駆動装置。
  16. 前記APC出力端子は、前記スイッチング電流制御端子に接続されると共に、前記基準電圧出力端子は、前記バイアス電流制御端子に接続され、前記電流加算回路は、前記記憶回路の出力電圧によって電流値が制御される前記スイッチング電流に、一定の電流値の前記バイアス電流を加算して前記駆動電流を生成することを特徴とする請求項13記載の半導体レーザ駆動装置。
  17. 前記スイッチング電流制御端子は、外部で生成された前記半導体レーザの光量を制御するための光量制御信号が入力され、前記バイアス電流制御端子は、前記基準電圧出力端子に接続されることを特徴とする請求項13記載の半導体レーザ駆動装置。
  18. 前記バイアス電流制御端子は、外部で生成された前記半導体レーザの光量を制御するための光量制御信号が入力され、前記スイッチング電流制御端子は、前記基準電圧出力端子に接続されることを特徴とする請求項13記載の半導体レーザ駆動装置。
  19. 前記スイッチング電流制御端子及びバイアス電流制御端子は、外部で生成された前記半導体レーザの光量を制御するための光量制御信号がそれぞれ入力されることを特徴とする請求項13記載の半導体レーザ駆動装置。
  20. 所定の光量が得られるように半導体レーザに供給する電流を自動的に制御するAPCを行って、該半導体レーザの駆動制御を行う半導体レーザ駆動装置において、
    前記半導体レーザの発光量の検出を行い、該検出した発光量に応じた電圧を生成して出力する光量検出回路部と、
    バイアス電流とスイッチング電流を加算した駆動電流により半導体レーザを駆動し、前記光量検出回路部で検出された前記半導体レーザの光量が所定の光量になるように前記半導体レーザに供給する電流を自動的に制御するAPCを行うための半導体装置と、
    を有し、
    前記半導体装置は、
    前記スイッチング電流の電流値を設定するためのスイッチング電流設定端、及び前記スイッチング電流の電流制御を行うためのスイッチング電流制御端をそれぞれ有し、前記スイッチング電流設定端に入力された電圧と該スイッチング電流制御端に入力された電圧が等しくなるように前記スイッチング電流を生成し出力するスイッチング電流生成回路と、
    前記バイアス電流の電流値を設定するためのバイアス電流設定端、及び前記バイアス電流の電流制御を行うためのバイアス電流制御端をそれぞれ有し、前記バイアス電流設定端に入力された電圧と該バイアス電流制御端に入力された電圧が等しくなるように前記バイアス電流を生成し出力するバイアス電流生成回路と、
    前記光量検出回路部の出力電圧が前記所定の光量を示す所定の第2基準電圧と等しくなるような電圧を生成し記憶して出力する記憶回路と、
    所定の第1基準電圧を生成して出力する基準電圧発生回路と、
    入力された切換信号に応じて、前記記憶回路の出力電圧を前記バイアス電流制御端と前記スイッチング電流制御端のいずれか一方に出力する第1切換手段と、
    入力された切換信号に応じて、前記第1基準電圧を前記バイアス電流制御端と前記スイッチング電流制御端のいずれか一方に出力する第2切換手段と、
    外部から前記切換信号が入力される切換信号入力端子と、
    を備え、
    前記第1切換手段及び前記第2切換手段は、前記記憶回路の出力電圧及び前記基準電圧を、前記切換信号に応じて前記バイアス電流制御端及び前記スイッチング電流制御端に対応させて出力することを特徴とする半導体レーザ駆動装置。
  21. 前記半導体装置は、前記記憶回路の出力電圧を外部に出力するためのAPC出力端子を備えることを特徴とする請求項20記載の半導体レーザ駆動装置。
  22. 前記半導体装置は、前記APCを行うことを示すAPC信号が外部から入力されるAPC信号入力端子を備え、前記記憶回路は、該APC信号入力端子に入力されたAPC信号に応じて前記電圧を出力し、前記APC信号入力端子に、前記記憶回路が電圧出力を停止するように前記APC信号が入力されると共に、前記APC出力端子に、前記半導体レーザの光量を制御するための光量制御信号が外部から入力されることを特徴とする請求項21記載の半導体レーザ駆動装置。
  23. 請求項1から11のいずれかに記載の半導体装置を備えた画像形成装置。
  24. 請求項12から22のいずれかに記載の半導体レーザ駆動装置を備えた画像形成装置。
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