JP2009149488A - 蛍光ランプに使用するランプ用ガラス管の洗浄方法 - Google Patents
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Abstract
【課題】蛍光ランプで使用するランプ用ガラス管の洗浄方法を提供する。
【解決手段】蛍光ランプ、特に背景光で使用するランプ用ガラス管の洗浄方法。洗浄方法は、中性から弱アルカリ性の、好ましくは約７〜約１２の範囲のｐＨ値で、約０°Ｃ〜約９０°Ｃの範囲の洗浄温度で水性洗浄媒体によりガラス管を洗浄するステップを有する。
【選択図】図２
【解決手段】蛍光ランプ、特に背景光で使用するランプ用ガラス管の洗浄方法。洗浄方法は、中性から弱アルカリ性の、好ましくは約７〜約１２の範囲のｐＨ値で、約０°Ｃ〜約９０°Ｃの範囲の洗浄温度で水性洗浄媒体によりガラス管を洗浄するステップを有する。
【選択図】図２
Description
本発明は、蛍光ランプ、特に背景光に使用するランプ用ガラス管の洗浄方法に関する。
例えば、ＣＣＦＬ（冷陰極蛍光ランプ）、又はＥＥＦＬ（外部電極蛍光ランプ）放電ランプなどの放電ランプには公知の方法で、ケイ酸アルカリガラス、特に、硼珪酸ガラスが使用されている。この種のガラスの主成分は、ＳｉＯ２，Ｂ２Ｏ３、及びアルカリ性酸化物及びアルカリ性土類酸化物である。これらのガラスは、ガラス基質におけるＢ２Ｏ３の含有量が、例えば、１０〜２０重量％と比較的高くなると、酸やアルカリに対する化学的耐性が相対的に劣化し、加水分解安定度も低下する。
さらに、本来のランプ製造工程に入る前に、ガラス管を洗浄処理して、クリーンにすることが知られている。この洗浄処理は、例えば、輸送時に内外に付着した汚れを洗浄するという一方で、ガラスの破片が存在する場合、これを除去することもできる。さらに好ましくは、必要な場合、輸送時又は保管時のひび割れを防止するために部分的又は全体的に塗布したひび割れ防止層を除去することもできる。
また、今日、様々な洗浄処理が知られている。
米国特許出願第２００６／０１５４８３８Ａ１号には、金属線上の半導体基板を、キレート剤、アルカリ化合物と水を含むｐＨ値８〜１３の洗浄剤で洗浄することができる洗浄方法が記載されている。キレート剤は、研磨処理、エッチ処理、及びＣＭＰ処理後に基板表面に付着した金属系の汚染物質を除去する。基板は金属又は金属含有表面を有し、好ましくは、シリコンウェーハである。
米国特許出願第２００４／０２２４８６６Ａ１号には、酸化剤、酸、フッ化化合物にアルカリ化合物を添加してｐＨ値を３〜１０の範囲とし、水分濃度を８０重量％以上とした半導体基板用の洗浄溶剤が記載されている。さらに、溶剤を用いて基板の表面に付着した物質を除去する洗浄方法も記載されている。
米国特許出願第６０３９８１５Ａ号には、オゾン水を混ぜたアルカリ性溶剤又は酸性溶剤を洗浄溶剤として使用する洗浄方法が開示されている。
欧州特許出願第１８０８４８０Ａ１号には、特に、プラズマエッチングまたは灰化処理（Ａｓｃｈｕｎｇｓｖｅｒｆａｈｒｅｎ）の後、フォトレジストの残留物を半導体基板から洗浄する洗浄剤について記載されている。この洗浄剤は、水、少なくともフッ化物、有機酸と塩基からなるｐＨ緩衝系を含み、有機酸は、アミノアルキルスルホン酸とアミノアルキル炭素酸の少なくとも何れか一方を含み、塩基はアミンと第４アルキルアンモニウムヒドロキシドの少なくとも何れか一方を含む。組成成分は、有機溶剤をほとんど含まず、５〜１２のｐＨ値を有する。
米国特許出願第２００５／０２４５４２２Ａ１号には、アルカリ成分、好ましくは６０〜９５重量％の一価または二価アルコール、および多価アルコールを含む、電子部品、金属部品またはセラミック部品用のアルカリ洗浄剤について記載されている。これらのアルコールは、窒素元素を含まず、所定の分子量を有する。
米国特許出願第５７５０４８２Ａ号は、界面活性剤と水を混合して、エチレングリコールモノヘキシルエーテルを有機溶剤として含む、ガラス表面の汚れを縞の残らないように除去するためのガラス洗浄剤について扱っている。ｐＨ値は、３．５〜６．５または７．５から１１．５の間に調節されている。
米国特許出願第２００６／０２９３１９９Ａ１号は、例えば、５０重量％以上の組成成分が水で、ｐＨ値が１〜１０の範囲の、酸と塩を有する洗浄剤と洗浄方法について扱っている。
従来行われている洗浄処理には、一連の課題がある。洗浄処理の間、ガラスの化学的耐性の弱さにより、ガラス表面が洗浄溶剤と反応し、例えば、溶出などが起こることがある。これは、例えば、ガラスの溶解、すなわち、ガラスの一部、または全体が溶けて、ガラス成分が溶剤に流出することを意味する。室温でｐＨ値が中性などの通常の条件では、ガラスが部分的に腐食するのみであるが、これによって、ガラスの形状と性質も変化する。さらに、例えば、ガラス表面からアルカリイオンが溶剤に流れ、プロトン（Ｈ＋）と交換される、ガラス基質からＢ２Ｏ３が溶出するなど、ガラス表面でイオン交換が起こりうる。
これらの洗浄溶剤とガラスとの反応は、まず、続くガラスの処理工程において、例えば、いわゆる「ベーキング処理」（最大温度が、例えば、約５００°Ｃ〜約７５０°Ｃ、通常は６００°Ｃ〜７００°Ｃ）と呼ばれる蛍光層を管の内側に焼成する加熱工程で管が縮む（「収縮」または「コンパクション」）などの不利な影響を及ぼす。「コンパクション」とは、本明細書では、非可逆的で局所的な圧縮を意味し、物質の分子レベルの収縮に起因する。ガラス基質から、アルカリイオンやＢ２Ｏ３などの成分が溶脱することによって、網目構造体の「網目の幅が大きく」なり、管の加熱によって、網目構造体が収縮するようになる。
これによって、形状が変形し、特に管の長さが収縮することがある。この管の収縮は、寸法の略０．５％〜１０％のオーダーで発生しうる。最悪の場合、この収縮によって管は、目的とする用途に使用できないため、ゴミとして廃棄されることになる。
上述の課題に鑑みて、本発明は、加熱処理によって洗浄媒体がガラス表面と反応することにより、管が縮小化（「収縮」）して形状が収縮することを少なくする、または完全に防止する洗浄方法を提供することを目的とする。特に、本発明は、「収縮」のばらつきを減少する、すなわち、多数の管における長さの変化を可能な限り均一にすることを目的とする。洗浄処理がガラス表面の洗浄の本来の目的を良好に達成できるようにする。
本発明は、上述の課題を解決するため、蛍光ランプ、特に背景光に用いるランプ用ガラス管の洗浄方法を提供することを目的とする。本洗浄方法は、ガラス管を、中性から弱アルカリ性のｐＨ値、好ましくは約７〜約１２のｐＨ値で、約０°Ｃ〜約９０°Ｃ、好ましくは約２０°Ｃから８０°Ｃまでの洗浄温度で水性洗浄媒体を用いて洗浄する工程を含む。
本発明はさらに、蛍光ランプ、特に背景光に用いるランプ用ガラス管の加工方法を提供することを目的とする。本加工方法は、（１）ガラス管を、中性から弱アルカリ性のｐＨ値、好ましくは約７〜約１２のｐＨ値で、約０°Ｃ〜約９０°Ｃ、好ましくは約２０°Ｃから８０°Ｃまでの洗浄温度で水性洗浄媒体を用いて洗浄する工程を有する洗浄処理と、（２）加熱処理（Ｔｅｍｐｅｒｖｅｒｆａｈｒｅｎ）とを含む。
驚くべき事に、洗浄処理を所定の条件で実行すると、好ましくない縮小化（「収縮」）の影響を最小とする、または大幅に抑制することができることが発見された。この重大な条件とは洗浄を行う際の洗浄媒体のｐＨ値と洗浄温度である。ガラス管を洗浄媒体にどれだけ長く浸しておくかという洗浄期間または洗浄時間は、その副次的な要件に過ぎない。上述の重大な条件を考慮することによって、不良品を大幅に減らし、ガラス管の性能を高めることができ、特にこの所定を大きな規模で実行すると経済的な効果を発揮する。
洗浄媒体は水性媒体であり、洗浄媒体の主成分は水で構成される。水は、洗浄媒体において、５０％以上、好ましくは６０％以上、特に好ましくは７０％以上、さらには８０％以上が好ましい。特に、洗浄媒体は水性の溶剤であることが好ましい。
洗浄処理で遵守しなくてはならない境界条件として、洗浄媒体のｐＨ値を中性から強アルカリ性に調節することがあげられる。このｐＨ値は好ましくは７〜１２の範囲、特に好ましくは７〜９の範囲、または９〜１２の範囲である。このｐＨ値の範囲に調節すると、ガラス表面が洗浄溶剤によって腐食されることがない、または極めて僅かしか腐食されることがないため、特に有利であることが実証されている。ｐＨの範囲が７〜９であると、洗浄溶剤の腐食性が低下するという利点（作業者の保護、環境保全）があるが、洗浄効果も低下する。ｐＨの範囲が９〜１２であると、洗浄効果が極めて高くなるため、特に管の汚れがひどい場合には有利である。通常の汚れは、例えば、油脂などの有機的な汚染物質（例えば指紋）が主であるので、（酸性溶剤よりも）アルカリ性溶剤の方が除去することができる。
本発明によると、洗浄処理の全工程においてｐＨ値を一定に保つことが特に有利である。これは、ｐＨ値を常時管理して、必要に応じて、弱酸及び／又は塩基などの添加剤を付加することによって実現できる。また、洗浄時に洗浄媒体を、例えば、継続して交換する、あるいは時々交換することによって、ｐＨ値を初期の値に戻す、または初期の値に維持することもできる。
さらに、広範にｐＨ値を維持するように調節したｐＨ緩衝系に洗浄媒体を添加して、ｐＨ値の変動を僅かに保つことも可能である。ここで使用可能な緩衝系として、例えば、ＫＨ２ＰＯ４／ＮａＯＨ （ｐＨ範囲５．８〜８．０）又はＫＨ２ＰＯ４／Ｎａ２ＨＰＯ４（ｐＨ範囲５．４〜７．８）Ｎａ２ＨＰＯ４ ／ＮａＯＨ（ｐＨ範囲１０．９〜１２．０）などのリン酸緩衝液、Ｔｒｉｓ／ＨＣｌ（ｐＨ範囲７．０〜９．０）などのトリス緩衝液、ホウ砂／塩酸（ｐＨ範囲９．２〜１０．８）などのホウ砂緩衝液、炭酸／カーボネート緩衝液（ｐＨ範囲６．２〜１１．０）、アンモニア緩衝液ＮＨ３＋Ｈ２Ｏ＋ＮＨ４Ｃｌ（ｐＨ範囲８．２〜１０．２）、及びその他の当業者には公知の緩衝系などがあげられる。緩衝溶剤の成分割合を調節することによって、所望のｐＨ値を可能な範囲内で調節することができる。いくつかの例を以下の表に記す。
トリス： Ｔｒｉｓ（ヒドロキシメチル）アミノメタン
混合物の最終体積＝１００ｍｌの緩衝溶剤
混合物の最終体積＝１００ｍｌの緩衝溶剤
さらに驚くべき事に、温度範囲を用途に応じて略０°Ｃ〜略９０°Ｃ、特に略２０°Ｃ〜８０°Ｃの温度範囲と、洗浄温度は可能な限り低く保つことが好ましいことが示された。温度範囲は好ましくは略２０°Ｃ〜略７０°Ｃ、特に好ましくは略２５°Ｃ〜５０°Ｃである。ここで、「略」とは、１〜１０％前後の値、好ましくは２０％まで前後の値の数値または範囲を意味する。範囲内の全ての値については明示的に開示する。
上述の温度範囲で観察をしたところ、ガラス表面の腐食はないか、あったとしても極僅かに過ぎなかった。
これに対して、予想もしなかったことだが、洗浄時間が加熱処理におけるガラス管の縮小化（「収縮」）に対して及ぼす影響は副次的なものであることが判明した。したがって、洗浄効果を向上しながら同時に縮小化を少なくするためには、用途に応じて、低温にして洗浄する時間を長くする、または高温にして洗浄する時間を短くすることができるが、前者の方が後者より好ましい。「低温」とは、上述の範囲の下方の範囲の温度を意味し、「高温」とは、上述の範囲の上方の範囲から選択された温度を意味する。
洗浄媒体に、ガラスの洗浄を支援する一以上の化合物を添加するとさらに有利であることが実証されている。ガラスの洗浄を支援する化合物として、例えば、界面活性剤があり、これらは陰イオン性、陽イオン性、非イオン性、両性に分類できる。陰イオン性の界面活性剤として、例えば、アルキルベンゼンスルホン酸、アルカリスルホン酸、油脂アルコールスルホン酸、油脂アルコールエーテルスルホン酸、アルキルリン酸、アルキルエーテルリン酸などがあげられる。
陰イオン界面活性剤として、例えば、アルキルベンゼンスルホン酸、アルカリスルホン酸、油脂アルコールスルホン酸、油脂アルコールエーテルスルホン酸、アルキルリン酸、アルキルエーテルリン酸があげられる。石鹸は陰イオン界面活性剤に分類され、基本的に高級脂肪酸のナトリウム塩及びカリウム塩である。
非イオン界面活性剤として、例えば、油脂アルコールエトキシレート、アルキルフェノールエトキシレート、油脂アミンエトキシレート、脂肪酸エステルエトキシレート、アルカノールアミド及びアミンオキシドがあげられる。
陽イオン界面活性剤として、例えば、アルキルアンモニウム化合物又はイミダゾリニウム化合物があげられる。
両性の界面活性剤として、例えば、スルホベタイン及びタウリンがあげられる。
特に好ましい界面活性剤として、石鹸などの中性から弱アルカリ性までのｐＨ値を有するものがあげられる。
１以上の界面活性剤の量は、好ましくは、略０．１〜略２０重量％まで、好ましくは略０．５〜略１０．０重量％まで、特に好ましくは略１〜略５重量％までである。
さらに、洗浄媒体に錯化剤を添加して、例えば、アルカリイオン、アルカリ土類などの開放されたイオンを錯化して、ガラスや洗浄媒体の成分などと結合したり、反応することを防止することが好ましい。好適な錯化剤については化学文献に記載されており、例えば、ＥＤＴＡ、ポリ（ヒドロキシカルボキシレート）、クラウンエーテルなどをあげることができる。
本発明のさらに好適な実施例によると、洗浄媒体のイオン濃度を高めるために中性塩をさらに追加的に添加できる。これは、ガラスにも洗浄媒体の成分にも反応しない通常の塩である。例えば、ＮａＣｌ、Ｎａ２ＳＯ４、ＣａＣｌ２、ＫＣｌ、Ｋ２ＳＯ４、ＫＢｒなどがあげあれる。
本発明の洗浄溶剤は、例えば、以下の組成成分を含んでもよい。
このような界面活性剤、緩衝剤、塩、錯化剤などの添加剤のみを洗浄媒体に添加すること、相互に好ましくない反応が発生したり、本発明の洗浄方法が阻害されることのないように適用すべきであることは言及するまでもない。
本発明は、特にガラス管のガラスに限定されるものではない。特に好ましくは、硼珪酸ガラスまたは石灰−ナトロン・ガラスをベースとしたロアガラス（Ｒｏｈｒｇｌａｓ）のガラスに使用する。公知のいかなるガラスを含んでもよい。
本方法が特に有利なガラスは、例えば、以下のガラス組成成分の一つを有する。
Ｒｈ，Ｈｆ，Ｔａ，Ｗ，Ｒｅ，Ｏｓ，Ｉｒ，Ｐｔ，Ｌａ，Ｐｒ，Ｎｄ，Ｓｍ，Ｅｕ，Ｇｄ，Ｔｂ，Ｄｙ，Ｈｏ，Ｅｒ，Ｔｍ，Ｙｂ，Ｌｕは酸化物の状態で０〜５重量％。
好ましくは、さらに、いわゆる石灰−ナトロン・ガラスは例えば、以下のガラス組成成分比である。
Ｒｈ，Ｈｆ，Ｔａ，Ｗ，Ｒｅ，Ｏｓ，Ｉｒ，Ｐｔ，Ｌａ，Ｐｒ，Ｎｄ，Ｓｍ，Ｅｕ，Ｇｄ，Ｔｂ，Ｄｙ，Ｈｏ，Ｅｒ，Ｔｍ，Ｙｂ，Ｌｕは酸化物の状態で０〜５重量％。必要な場合は、清澄剤を通常の濃度で、特に塩化物、スルホン酸、Ａｓ２Ｏ３及び／又はＳｂ２Ｏ３から選択して用いる。特に好ましくは、高い温度−清澄の用途にＳｎＯ２を用いる。
使用するガラス組成成分に、好ましくは、酸化セリウムおよび酸化亜鉛を含むことができる。これによって、酸化亜鉛の存在によって酸化セリウムの含有量が高くなることによる色むらの発生を抑制できる。
本発明は、同様に、ガラス管の形状に特に限定されるものではない。本発明の洗浄方法は、ランプに使用可能な如何なる断面形状にも適用可能である。ランプの通常の断面形状は、例えば、背景光の場合、立体的な物体に合わせる。好ましくは、円形、楕円形、四角形、及び／又は平面、四角形断面（例えば、Ｏｓｒａｍ社のＰｌａｎｏｎ（登録商標））、特に好ましくは、平面で四角形の断面形状などの背景光用のランプで使用するような断面形状である。
本発明の洗浄方法を実行するガラス管は、蛍光ランプのカバーガラス（Ｈｕｅｌｌｅｎｇｌａｅｓｅｒｎ）、好ましくは小型化した蛍光ランプなどに加工することができる。本発明の洗浄方法によると、ガラス管にさらに加熱処理を行うことが好ましい。ここで、例えば、加熱処理ステップとして、例えば、蛍光層を管の内側に焼き付ける、最大温度の範囲を、例えば、略５００°Ｃ〜略７５０°Ｃ、典型的には６００°Ｃ〜７００°Ｃとする「ベーキング処理」をあげることができる。
ガラス管から製造可能な蛍光ランプは、好ましくは、背景光、例えば、平面ディスプレイの背景光（いわゆるバックライト）、特に、ＬＣＤ−ＴＦＴディスプレイに使用することができる。かかるランプは、この用途では極めて小さいサイズとなるので、ランプのガラスも厚さが極めて薄いことのみが好ましい。例えば、ガラス管は管状で、直径は、好ましくは、１．０ｃｍを下回る、より好ましくは０．８ｃｍを下回る、特に好ましくは０．７ｃｍを下回る、さらに好ましくは０．５ｃｍを下回ってもよい。管状のカバーガラス（Ｈｕｅｌｌｇｌａｓ）の壁厚は、好ましくは１ｍｍを下回る、特に好ましくは０．７ｍｍを下回る。代替の実施例では、光源のガラス管の厚さは１ｃｍを下回ってもよい。好ましいディスプレイまたは画面は、ラップトップ型、特に平面バックライト装置などで使用する、いわゆる平面ディスプレイである。
製造可能な蛍光ランプは、好ましくは、小型バックライト・ランプである。このようなランプは、好ましくは広範に透明であり、カバーガラスからなる中央部分と、金属または合金配線を差し込む接続部を装着できる二つの端部に分類される。金属または金属配線は加熱処理ステップでカバーガラスに溶接してもよい。金属または合金配線は電極導線、及び／又は電極である。これらの電極導線は、好ましくはタングステン金属またはモリブデン金属、またはコバール（Ｋｏｖａｒ）合金である。カバーガラスの熱膨張係数（ＣＴＥ）は電極導線の熱膨張係数（ＣＴＥ）と広範に一致させて、導線の部分では、テンションが存在しない、または発生するテンションは所定の範囲にとどまるようにすることが好ましい。非電極ＥＥＦＬバックライトでは、電界により結合が行われるので、バックライト・ランプは、特に好ましくは、電極配線のないＥＥＦＬ（外部電極蛍光ランプ）である。内部に配置した電極を介してプラズマを点火するＣＣＦＬシステム（冷陰極蛍光ランプ）も知られている。
以下、本発明の理解を容易にするため、本発明の実施例を用いて説明するが、本発明はこれに限定されるものではない。
以下の硼珪酸ガラスの組成成分からガラス管を製造した。
管の形状は以下の通りであった。
外径：３．４ｍｍ
内径：２．４ｍｍ
壁厚：０．５ｍｍ及び
管の長さ：５００ｍｍ
外径：３．４ｍｍ
内径：２．４ｍｍ
壁厚：０．５ｍｍ及び
管の長さ：５００ｍｍ
上記の組成成分と上述の寸法を有するガラス管に本発明の洗浄方法を実施した。ここで、それぞれのガラス管の縮小化（「収縮」）をｍｍ単位で、様々なｐＨ値に対して洗浄時間と洗浄温度に応じて測定した。その結果を添付の図１〜図３に示す。各図面が示す内容は以下の通りである。
図１は、ｐＨ値が４．５の場合の洗浄時間と洗浄温度に応じたガラス管の縮小化（「収縮」）をｍｍ単位で示している。図２は、ｐＨ値が７の場合の洗浄時間と洗浄温度に応じたガラス管の縮小化（「収縮」）をｍｍ単位で示している。図３は、ｐＨ値が９の場合の洗浄時間と洗浄温度に応じたガラス管の縮小化（「収縮」）をｍｍ単位で示している。
図４は、ベーキング処理における温度と時間の代表的な関係の例を示す。
図４は、ベーキング処理における温度と時間の代表的な関係の例を示す。
図１に、ｐＨ値が４．５の場合の洗浄処理を示す。ｐＨ値は、本発明のｐＨ値の範囲の外で、酸性に調節されており、高温になると縮小化が明確に進んでいる。４５°Ｃを超えると既に、ガラス管の形状変化という不利益な影響が明確に観察され、背景光用のランプとしての意図した用途でガラスが使用できなくなった。
図２に、ｐＨ値を７として実行した本発明の洗浄方法を示す。図１に示した様々な縮小化が発生した範囲は、明らかに分散し、好ましくは７０°Ｃまでの温度で加熱処理が可能となっている。
図３に、ｐＨ値を９として実行した本発明の洗浄方法を示す。図３に示すように、ｐＨ値は８〜９が特に好ましい。処理時間を１２０分と長くしても、７０°Ｃを超える温度まで縮小化がほとんど発生せず、洗浄したガラスに形状の変化はほとんどなかった。
図４に、ベーキング処理における温度と時間の代表的な関係の例を示す。他の関係でも調節可能であることは自明である。
本発明によると、第１に、縮小化（「収縮」）を大幅に減少する、または完全に解消できる、ガラス管、特に硼珪酸ガラスまたは石灰−ナトロン・ガラスの洗浄方法を提供する。これによって、ガラス管製造時に発生する不良品が減少するので、本方法は経済性を大幅に向上することができる。
Claims (27)
- 蛍光ランプ、特に背景光で使用するランプ用ガラス管の洗浄方法であって、該洗浄方法は、
中性から弱アルカリ性の、好ましくは略７〜略１２の範囲のｐＨ値で、略０°Ｃ〜略９０°Ｃ、特に、略２０°Ｃ〜略８０°Ｃ未満の範囲の洗浄温度で水性洗浄媒体によりガラス管を洗浄する、方法。 - 特に背景光用の蛍光ランプに使用するランプ用ガラス管の加工方法であって、
（１）中性から弱アルカリ性の、好ましくは略７〜略１２の範囲のｐＨ値で、略０°Ｃ〜略９０°Ｃ、特に、略２０°Ｃ〜略８０°Ｃ未満の範囲の洗浄温度で水性洗浄媒体によりガラス管を洗浄する処理と、
（２）加熱する処理と、を含む方法。 - ｐＨ値を７〜９の範囲または９〜１２の範囲として、前記ガラス管を水性洗浄媒体で洗浄する、請求項１または請求項２に記載の方法。
- 前記洗浄温度を略２０°Ｃ〜７０°Ｃ未満、特に好ましくは、略２５°Ｃ〜５０°Ｃ未満の温度範囲として実行することを特徴とする、請求項１から請求項３迄の何れか１項に記載の方法。
- 前記洗浄処理の全工程において前記ｐＨ値は一定に保たれる、請求項１から請求項４迄の何れか１項に記載の方法。
- 前記洗浄の間、ｐＨ値の管理を常時実行する、請求項１から請求項５迄の何れか１項に記載の方法。
- 前記洗浄の間変更するｐＨ値を上げる、または下げるため弱酸又は塩基を付加する、請求項５または請求項６記載の方法。
- 前記洗浄の間洗浄媒体を継続してまたは随時交換して元のｐＨ値に戻す、または元のｐＨ値を保持する、請求項５または請求項６記載の方法。
- 前記洗浄媒体にｐＨ緩衝系を付加する、請求項５または請求項６に記載の方法。
- 前記緩衝系は、リン酸緩衝液、トリス緩衝液、ホウ砂緩衝液、炭酸−カーボネート−緩衝液、アンモニア緩衝液などから選択する、請求項９記載の方法。
- 前記洗浄時間は略１０分から略１２０分である、請求項１から請求項１０迄の何れか１項に記載の方法。
- 前記洗浄媒体に、前記ガラスの洗浄を補助する１以上の化合物を付加する、請求項１から請求項１１迄の何れか１項に記載の方法。
- 前記ガラスの洗浄を補助する１以上の化合物は、界面活性剤、特に、陰イオン性、陽イオン性、非イオン性、または両性の界面活性剤から選択する、請求項１２記載の方法。
- 前記洗浄媒体に、イオン濃度を上げるために１以上の中性塩を付加する、請求項１から請求項１３迄の何れか１項に記載の方法。
- 前記洗浄媒体に、１以上の錯化剤を付加する、請求項１から請求項１４迄の何れか１項に記載の方法。
- 温度を下げて洗浄時間を長くする、または温度を高くして洗浄時間を短くすることを前記洗浄に組み合わせる、請求項１から請求項１５迄の何れか１項に記載の方法。
- 洗浄媒体として水性の溶剤を使用する、請求項１から請求項１６迄の何れか１項に記載の方法。
- 洗浄媒体として、５０％を上回る、好ましくは６０％を上回る、特に好ましくは７０％を上回る、特に８０％を上回る水を有する水性の媒体を使用する、請求項１から請求項１７迄の何れか１項に記載の方法。
- 略０．１〜略２０重量％、好ましくは略０．５〜略１０．０重量％、特に好ましくは１〜５重量％の界面活性剤の量を用いる、請求項１２または請求項１３の何れか１項に記載の方法。
- 前記洗浄媒体は以下の組成成分、
- 前記ガラス管のガラスとして硼珪酸ガラスまたはナトロン−石灰−ガラスを使用する、請求項１から請求項２０迄の何れか１項に記載の方法。
- 以下のガラス組成成分の一つ、
必要な場合は、通常の濃度で、特に塩化物、スルホン酸、Ａｓ２Ｏ３及び／又はＳｂ２Ｏ３から選択した清澄剤、
を有する硼珪酸ガラスを、ガラスとして使用する、請求項１から請求項２１迄の何れか１項に記載の方法。 - 以下のガラス組成成分の一つ、
を有する、石灰−ナトロン・ガラスを、ガラスとして使用する、請求項１から請求項２２迄の何れか１項に記載の方法。 - 前記ガラス管の形状は円形、楕円形、四角形、及び／又は平面、四角形の断面形状から選択される、請求項１から請求項２３迄の何れか１項に記載の方法。
- 前記ガラス管は洗浄後、蛍光ランプ、好ましくは背景光用の小型蛍光ランプに加工される、請求項１から請求項２４迄の何れか１項に記載の方法。
- 前記加熱する処理は最大で略約５００°Ｃ〜約７５０°Ｃ、特に略６００°Ｃ〜７００°Ｃの範囲の温度で実行する、請求項２記載の方法。
- 前記加熱で、蛍光層を管の内側に焼成する、請求項２または請求項２６の何れか１項に記載の方法。
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Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE102009029086B4 (de) * | 2009-09-02 | 2015-03-12 | Schott Ag | Solarisationsbeständiges Glas, Verfahren zu seiner Herstellung und seine Verwendung |
Citations (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH05503547A (ja) * | 1990-01-29 | 1993-06-10 | ザ、プロクター、エンド、ギャンブル、カンパニー | 双性洗剤界面活性剤とモノエタノールアミンおよび／またはβ―アミノアルカノールとを含有する液体硬質表面用洗剤組成物 |
| JPH05302099A (ja) * | 1991-08-09 | 1993-11-16 | Bristol Myers Squibb Co | ガラス清浄組成物 |
| JPH11329241A (ja) * | 1998-05-06 | 1999-11-30 | Matsushita Electron Corp | ランプ用管体の洗浄方法 |
| JP2000262991A (ja) * | 1999-03-16 | 2000-09-26 | Nippon Sheet Glass Co Ltd | 多成分系ガラス基板の洗浄方法 |
| JP2006188422A (ja) * | 2005-01-04 | 2006-07-20 | Schott Ag | ガラス、特にホウケイ酸塩ガラスを濁らせるための方法、濁り度を有する発光手段、ガラスから製造されるガラス管及びガラスから製造される平板ガラス |
| JP2006268969A (ja) * | 2005-03-24 | 2006-10-05 | Hoya Corp | 磁気ディスク用ガラス基板の製造方法及び磁気ディスクの製造方法 |
| JP2008010401A (ja) * | 2006-05-29 | 2008-01-17 | Nippon Electric Glass Co Ltd | 照明用ガラス容器およびその製造方法 |
Family Cites Families (14)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| GB719269A (en) * | 1952-07-11 | 1954-12-01 | British Thomson Houston Co Ltd | Improvements relating to the manufacture of electric discharge lamps |
| CA1178160A (en) * | 1981-09-10 | 1984-11-20 | Donald B. Compton | Liquid hard-surface cleaner |
| FR2624519A1 (fr) * | 1987-12-09 | 1989-06-16 | Rhone Poulenc Chimie | Composition de polissage perfectionnee a base de cerium et son procede de preparation |
| JPH02276132A (ja) * | 1989-04-17 | 1990-11-13 | Nec Home Electron Ltd | 蛍光ランプ用ガラス管の洗浄方法 |
| US5108660A (en) * | 1990-01-29 | 1992-04-28 | The Procter & Gamble Company | Hard surface liquid detergent compositions containing hydrocarbyl amidoalkylenesulfobetaine |
| JPH06251699A (ja) * | 1993-02-26 | 1994-09-09 | Toshiba Lighting & Technol Corp | 蛍光体膜の形成方法 |
| JP3590470B2 (ja) * | 1996-03-27 | 2004-11-17 | アルプス電気株式会社 | 洗浄水生成方法および洗浄方法ならびに洗浄水生成装置および洗浄装置 |
| US5798324A (en) * | 1996-04-05 | 1998-08-25 | S.C. Johnson & Son, Inc. | Glass cleaner with adjustable rheology |
| US7700532B2 (en) * | 2002-11-08 | 2010-04-20 | Wako Pure Chemical Industries, Ltd. | Cleaning composition and method of cleaning therewith |
| SG129274A1 (en) * | 2003-02-19 | 2007-02-26 | Mitsubishi Gas Chemical Co | Cleaaning solution and cleaning process using the solution |
| EP1638138A1 (en) * | 2003-06-04 | 2006-03-22 | Kao Corporation | Removing agent composition and removing/cleaning method using same |
| KR100617855B1 (ko) * | 2004-04-30 | 2006-08-28 | 산요가세이고교 가부시키가이샤 | 알칼리 세정제 |
| US7879782B2 (en) * | 2005-10-13 | 2011-02-01 | Air Products And Chemicals, Inc. | Aqueous cleaning composition and method for using same |
| US7534753B2 (en) * | 2006-01-12 | 2009-05-19 | Air Products And Chemicals, Inc. | pH buffered aqueous cleaning composition and method for removing photoresist residue |
-
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|---|---|---|---|---|
| JPH05503547A (ja) * | 1990-01-29 | 1993-06-10 | ザ、プロクター、エンド、ギャンブル、カンパニー | 双性洗剤界面活性剤とモノエタノールアミンおよび／またはβ―アミノアルカノールとを含有する液体硬質表面用洗剤組成物 |
| JPH05302099A (ja) * | 1991-08-09 | 1993-11-16 | Bristol Myers Squibb Co | ガラス清浄組成物 |
| JPH11329241A (ja) * | 1998-05-06 | 1999-11-30 | Matsushita Electron Corp | ランプ用管体の洗浄方法 |
| JP2000262991A (ja) * | 1999-03-16 | 2000-09-26 | Nippon Sheet Glass Co Ltd | 多成分系ガラス基板の洗浄方法 |
| JP2006188422A (ja) * | 2005-01-04 | 2006-07-20 | Schott Ag | ガラス、特にホウケイ酸塩ガラスを濁らせるための方法、濁り度を有する発光手段、ガラスから製造されるガラス管及びガラスから製造される平板ガラス |
| JP2006268969A (ja) * | 2005-03-24 | 2006-10-05 | Hoya Corp | 磁気ディスク用ガラス基板の製造方法及び磁気ディスクの製造方法 |
| JP2008010401A (ja) * | 2006-05-29 | 2008-01-17 | Nippon Electric Glass Co Ltd | 照明用ガラス容器およびその製造方法 |
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