JP2009165973A - 液滴吐出ヘッド及びパターン形成装置 - Google Patents
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- B41J2/01—Ink jet
- B41J2/135—Nozzles
- B41J2/14—Structure thereof only for on-demand ink jet heads
- B41J2/1433—Structure of nozzle plates
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09D—COATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
- C09D11/00—Inks
- C09D11/30—Inkjet printing inks
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B05—SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
- B05B—SPRAYING APPARATUS; ATOMISING APPARATUS; NOZZLES
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Abstract
【課題】液滴の乾燥と液滴吐出ヘッドの冷却を実現し、部品点数の低減を図ることができ
る液滴吐出ヘッド及びパターン形成装置を提供する。
【解決手段】液滴吐出ヘッド30のノズルプレート31をペルチェ素子PTにて形成した
。そして、ノズルプレート31は、吐出ヘッド30側にペルチェ素子PTの冷却部PTa
が、グリーンシート4G側にペルチェ素子PTの発熱部PTbが向くように、吐出ヘッド
30に取着する。キャビティ32に収容された金属インクFは、ノズルプレート31が受
けるグリーンシート4Gからの放熱によって加熱されることはない。
【選択図】図4
る液滴吐出ヘッド及びパターン形成装置を提供する。
【解決手段】液滴吐出ヘッド30のノズルプレート31をペルチェ素子PTにて形成した
。そして、ノズルプレート31は、吐出ヘッド30側にペルチェ素子PTの冷却部PTa
が、グリーンシート4G側にペルチェ素子PTの発熱部PTbが向くように、吐出ヘッド
30に取着する。キャビティ32に収容された金属インクFは、ノズルプレート31が受
けるグリーンシート4Gからの放熱によって加熱されることはない。
【選択図】図4
Description
本発明は、液滴吐出ヘッド及びパターン形成装置に関する。
従来、液滴吐出装置を使用して機能液を液滴として吐出させて基板上に線状のパターン
を形成することが知られている(例えば、特許文献1)。
一般に、液滴吐出装置は、ステージに載置した基板と、機能材料を含有した機能液を液
滴として基板に吐出する液滴吐出ヘッドと、基板(ステージ)と液滴吐出ヘッドを2次元
的に相対移動させる機構を備えている。そして、液滴吐出ヘッドから吐出させた液滴を基
板表面の任意の位置に配置させる。このとき、基板表面に順次配置される各液滴について
、その液滴の濡れ拡がる範囲が互いに重なるように液滴を順次配置することにより、基板
表面に隙間無く機能液で覆われた線状パターンを形成することができる。
を形成することが知られている(例えば、特許文献1)。
一般に、液滴吐出装置は、ステージに載置した基板と、機能材料を含有した機能液を液
滴として基板に吐出する液滴吐出ヘッドと、基板(ステージ)と液滴吐出ヘッドを2次元
的に相対移動させる機構を備えている。そして、液滴吐出ヘッドから吐出させた液滴を基
板表面の任意の位置に配置させる。このとき、基板表面に順次配置される各液滴について
、その液滴の濡れ拡がる範囲が互いに重なるように液滴を順次配置することにより、基板
表面に隙間無く機能液で覆われた線状パターンを形成することができる。
ところで、高精細なパターンを短時間で形成するには、基板に着弾した液滴を短時間で
乾燥させ、次の液滴を着弾させることが好ましい。つまり、基板の温度を上げておき、着
弾した液滴の乾燥速度を上げることである。
乾燥させ、次の液滴を着弾させることが好ましい。つまり、基板の温度を上げておき、着
弾した液滴の乾燥速度を上げることである。
しかしながら、液滴吐出ヘッドのノズル形成面と基板との間の距離が非常に狭い。その
結果、上記のように基板を加熱した状態で液滴を吐出して基板上にパターンを形成する際
に、液滴吐出ヘッドは、加熱された基板からの熱で加熱される。その結果、液滴吐出ヘッ
ドから吐出される機能液は加温され粘性が低下、ノズルプレートの熱膨張により、ノズル
ピッチの変動、液滴吐出ヘッド内部に付着した溶液の乾燥等して、吐出量が変動し精度の
高いパターン形成が望めない問題を含んでいた。
結果、上記のように基板を加熱した状態で液滴を吐出して基板上にパターンを形成する際
に、液滴吐出ヘッドは、加熱された基板からの熱で加熱される。その結果、液滴吐出ヘッ
ドから吐出される機能液は加温され粘性が低下、ノズルプレートの熱膨張により、ノズル
ピッチの変動、液滴吐出ヘッド内部に付着した溶液の乾燥等して、吐出量が変動し精度の
高いパターン形成が望めない問題を含んでいた。
そこで、特許文献2では、液滴吐出ヘッド内部に付着した溶液の乾燥の乾燥を抑制する
ために、液滴吐出ヘッドをペルチェ素子にて冷却する技術が提案されている。
特開2005−34835号 公報
特開2004−223914号 公報
ために、液滴吐出ヘッドをペルチェ素子にて冷却する技術が提案されている。
しかしながら、特許文献2では、ペルチェ素子を液滴吐出ヘッドの側面に取着していた
。従って、液滴吐出ヘッドは、基板と相対向するノズルプレートを介して加熱された基板
からの熱が伝達され、ペルチェ素子による冷却では十分な効果が得られなかった。その結
果、機能液の粘性が低下する等、上記した種々の問題を依然含んでいた。
。従って、液滴吐出ヘッドは、基板と相対向するノズルプレートを介して加熱された基板
からの熱が伝達され、ペルチェ素子による冷却では十分な効果が得られなかった。その結
果、機能液の粘性が低下する等、上記した種々の問題を依然含んでいた。
本発明は、上記問題を解決するためになされたものであり、その目的は、効率のよい液
滴吐出ヘッドの冷却を実現できる液滴吐出ヘッド及びパターン形成装置を提供することに
ある。
滴吐出ヘッドの冷却を実現できる液滴吐出ヘッド及びパターン形成装置を提供することに
ある。
本発明の液滴吐出ヘッドは、機能材料を含む機能液の液滴を、液滴吐出ヘッド本体に設
けたノズルプレートに形成したノズルから、基板に向かって順次吐出させて、前記基板の
表面にパターンを形成する液滴吐出ヘッドであって、前記ノズルプレートを、ペルチェ素
子で形成した。
けたノズルプレートに形成したノズルから、基板に向かって順次吐出させて、前記基板の
表面にパターンを形成する液滴吐出ヘッドであって、前記ノズルプレートを、ペルチェ素
子で形成した。
本発明の液滴吐出ヘッドによれば、ノズルプレートを介して伝達される熱を遮断でき機
能液を外部からの熱にて加熱されない。従って、外部の温度に左右されることなく吐出量
の変動を抑えることができる。ノズルプレート自体をペルチェ素子で形成したので、構造
も簡単にでき、しかも、プラテンギャップを小さくできる。
能液を外部からの熱にて加熱されない。従って、外部の温度に左右されることなく吐出量
の変動を抑えることができる。ノズルプレート自体をペルチェ素子で形成したので、構造
も簡単にでき、しかも、プラテンギャップを小さくできる。
この液滴吐出ヘッドにおいて、前記ペルチェ素子よりなるノズルプレートは、冷却部を
前記液滴吐出ヘッド本体側に、発熱部を液前記基板側に向くように、前記液滴吐出ヘッド
本体に取着してもよい。
前記液滴吐出ヘッド本体側に、発熱部を液前記基板側に向くように、前記液滴吐出ヘッド
本体に取着してもよい。
この液滴吐出ヘッドによれば、液滴吐出ヘッドに供給された機能液を冷却できるととも
に、基板を加熱できる。
この液滴吐出ヘッドにおいて、前記基板は、セラミック粒子と樹脂とから構成される低
温焼成用シートであり、前記機能液は、機能材料として金属粒子を分散させた金属インク
であってもよい。
に、基板を加熱できる。
この液滴吐出ヘッドにおいて、前記基板は、セラミック粒子と樹脂とから構成される低
温焼成用シートであり、前記機能液は、機能材料として金属粒子を分散させた金属インク
であってもよい。
この液滴吐出ヘッドによれば、金属粒子を分散させた金属インクを外部からの熱にて加
熱されない。従って、吐出量の変動がない。
本発明のパターン形成装置は、機能材料を含む機能液の液滴を、液滴吐出ヘッドにて基
板に向かって順次吐出させて、前記基板の表面にパターンを形成するパターン形成装置で
あって、前記基板を加熱する加熱手段と、前記液滴吐出ヘッドに設けられ液滴を吐出する
ノズルを有したペルチェ素子よりなるノズルプレートと、前記ペルチェ素子よりなるノズ
ルプレートに駆動電流を供給するペルチェ素子駆動回路と、前記ペルチェ素子よりなるノ
ズルプレートが、前記液滴吐出ヘッド側を冷却し前記基板側を発熱するように、前記ペル
チェ素子駆動回路を駆動制御する制御手段を備えた。
熱されない。従って、吐出量の変動がない。
本発明のパターン形成装置は、機能材料を含む機能液の液滴を、液滴吐出ヘッドにて基
板に向かって順次吐出させて、前記基板の表面にパターンを形成するパターン形成装置で
あって、前記基板を加熱する加熱手段と、前記液滴吐出ヘッドに設けられ液滴を吐出する
ノズルを有したペルチェ素子よりなるノズルプレートと、前記ペルチェ素子よりなるノズ
ルプレートに駆動電流を供給するペルチェ素子駆動回路と、前記ペルチェ素子よりなるノ
ズルプレートが、前記液滴吐出ヘッド側を冷却し前記基板側を発熱するように、前記ペル
チェ素子駆動回路を駆動制御する制御手段を備えた。
本発明のパターン形成装置によれば、ノズルプレートを介して伝達される熱を遮断でき
機能液を外部からの熱にて加熱されない。従って、外部の温度に左右されることなく吐出
量の変動を抑えることができ、精度の高いパターンを形成することができる。
機能液を外部からの熱にて加熱されない。従って、外部の温度に左右されることなく吐出
量の変動を抑えることができ、精度の高いパターンを形成することができる。
このパターン形成装置において、前記基板は、回路素子を実装するとともにその実装し
た回路素子に対して電気的に接続された配線が形成される基板であり、前記液滴吐出ヘッ
ドは、前記液滴を吐出させて前記基板上に前記配線のパターンを形成するものであっても
よい。
た回路素子に対して電気的に接続された配線が形成される基板であり、前記液滴吐出ヘッ
ドは、前記液滴を吐出させて前記基板上に前記配線のパターンを形成するものであっても
よい。
このパターン形成装置によれば、基板に精度の高い配線パターンを形成することができ
る。
このパターン形成装置において、前記基板は、セラミック粒子と樹脂とから構成される
低温焼成用シートであり、前記機能液は、機能材料として金属粒子を分散させた金属イン
クであってもよい。
る。
このパターン形成装置において、前記基板は、セラミック粒子と樹脂とから構成される
低温焼成用シートであり、前記機能液は、機能材料として金属粒子を分散させた金属イン
クであってもよい。
このパターン形成装置によれば、低温焼成用シートに精度の高い配線パターンを形成す
ることができる。
ることができる。
以下、本発明を、LTCC多層基板(LTCC:Low Temperature Co-fired Ceramics
多層基板)に半導体チップを実装してなる回路モジュールであって、そのLTCC多層基
板を構成する複数の低温焼成用シート(グリーンシート)に描画する配線パターンの形成
に具体化した一実施形態を図1〜図5に従って説明する。
多層基板)に半導体チップを実装してなる回路モジュールであって、そのLTCC多層基
板を構成する複数の低温焼成用シート(グリーンシート)に描画する配線パターンの形成
に具体化した一実施形態を図1〜図5に従って説明する。
まず、LTCC多層基板に半導体チップを実装してなる回路モジュールについて説明す
る。図1は、回路モジュール1の断面図を示し、回路モジュール1は、板状に形成された
LTCC多層基板2と、そのLTCC多層基板2の上側に、ワイヤーボンディング接続さ
れた半導体チップ3とを有している。
る。図1は、回路モジュール1の断面図を示し、回路モジュール1は、板状に形成された
LTCC多層基板2と、そのLTCC多層基板2の上側に、ワイヤーボンディング接続さ
れた半導体チップ3とを有している。
LTCC多層基板2は、シート状に形成された複数の低温焼成基板4の積層体である。
各低温焼成基板4は、それぞれガラスセラミック系材料(例えば、ホウケイ酸アルカリ酸
化物などのガラス成分とアルミナなどのセラミック成分の混合物)の焼結体であって、そ
の厚みが数百μmで形成されている。
各低温焼成基板4は、それぞれガラスセラミック系材料(例えば、ホウケイ酸アルカリ酸
化物などのガラス成分とアルミナなどのセラミック成分の混合物)の焼結体であって、そ
の厚みが数百μmで形成されている。
そして、低温焼成基板4は、その焼結前のものを低温焼成用シートとしてのグリーンシ
ート4G(図2,4参照)という。グリーンシート4Gは、ガラスセラミック系材料の粉
末と分散媒をバインダ、整泡剤などとともに混合してスラリーを作成しこれを板状にした
後に乾燥した基板である。
ート4G(図2,4参照)という。グリーンシート4Gは、ガラスセラミック系材料の粉
末と分散媒をバインダ、整泡剤などとともに混合してスラリーを作成しこれを板状にした
後に乾燥した基板である。
各低温焼成基板4には、抵抗素子、容量素子、コイル素子などの各種の回路素子5と、
各回路素子5を電気的に接続する内部配線6と、スタックビア構造、サーマルビア構造を
呈する所定の孔径(例えば、20μm)を有した複数のビアホール7と、該ビアホール7
に充填されたビア配線8と、がそれぞれ回路設計に基づいて適宜形成されている。
各回路素子5を電気的に接続する内部配線6と、スタックビア構造、サーマルビア構造を
呈する所定の孔径(例えば、20μm)を有した複数のビアホール7と、該ビアホール7
に充填されたビア配線8と、がそれぞれ回路設計に基づいて適宜形成されている。
各低温焼成基板4上の各内部配線6は、それぞれ銀や銀合金などの金属微粒子の焼結体
であって、図2に示すパターン形成装置としての液滴吐出装置20を利用した配線パター
ン形成方法によって形成される。
であって、図2に示すパターン形成装置としての液滴吐出装置20を利用した配線パター
ン形成方法によって形成される。
図2は、液滴吐出装置20を説明する全体斜視図である。
図2において、液滴吐出装置20は、直方体形状に形成された基台21を有している。
基台21の上面には、その長手方向(Y矢印方向)に沿って延びる一対の案内溝22が形
成されている。案内溝22の上方には、案内溝22に沿ってY矢印方向及び反Y矢印方向
に移動するステージ23が備えられている。
図2において、液滴吐出装置20は、直方体形状に形成された基台21を有している。
基台21の上面には、その長手方向(Y矢印方向)に沿って延びる一対の案内溝22が形
成されている。案内溝22の上方には、案内溝22に沿ってY矢印方向及び反Y矢印方向
に移動するステージ23が備えられている。
ステージ23は、その上面に焼成前の低温焼成基板4であるグリーンシート4Gを載置
する。ステージ23に載置されるグリーンシート4Gは、裏面にキャリアフィルム4Fが
剥離可能に貼着されている。
する。ステージ23に載置されるグリーンシート4Gは、裏面にキャリアフィルム4Fが
剥離可能に貼着されている。
キャリアフィルム4Fは、描画工程やその後の各種工程においてグリーンシート4Gを
支持するためのフィルムであり、例えばグリーンシート4Gとの剥離性や各工程における
機械的耐性に優れたプラスチックフィルムを用いることができる。キャリアフィルム4F
には、例えば、ポリエチレンテレフタレートフィルム、ポリエチレンナフタレートフィル
ム、ポリエチレンフィルム、ポリプロピレンフィルムを用いることができる。
支持するためのフィルムであり、例えばグリーンシート4Gとの剥離性や各工程における
機械的耐性に優れたプラスチックフィルムを用いることができる。キャリアフィルム4F
には、例えば、ポリエチレンテレフタレートフィルム、ポリエチレンナフタレートフィル
ム、ポリエチレンフィルム、ポリプロピレンフィルムを用いることができる。
グリーンシート4Gは、ガラスセラミック粉末やバインダ等を含むガラスセラミック組
成物からなる層である。グリーンシート4Gの膜厚は、回路素子5としてコンデンサ素子
を形成する場合に数十μmで形成され、他の層においては100μm〜200μmで形成
される。このグリーンシート4Gは、ドクターブレード法やリバースロールコータ法等の
シート成形法を用い、分散媒でスラリー化したガラスセラミック組成物をキャリアフィル
ム4Fの上に塗布し、該塗布膜をハンドリング可能な状態に乾燥することによって得られ
る。
成物からなる層である。グリーンシート4Gの膜厚は、回路素子5としてコンデンサ素子
を形成する場合に数十μmで形成され、他の層においては100μm〜200μmで形成
される。このグリーンシート4Gは、ドクターブレード法やリバースロールコータ法等の
シート成形法を用い、分散媒でスラリー化したガラスセラミック組成物をキャリアフィル
ム4Fの上に塗布し、該塗布膜をハンドリング可能な状態に乾燥することによって得られ
る。
分散媒としては、例えば界面活性剤やシランカップリング剤等を用いることができ、ガ
ラスセラミック粉末を均一に分散させるものであれば良い。
ガラスセラミック粉末は、0.1μm〜5μmの平均粒径を有する粉末であり、例えば
アルミナやフォルステライト等のセラミック粉末にホウ珪酸系ガラスを混合したガラス複
合セラミックを用いることができる。また、ガラスセラミック粉末としては、ZnO−M
gO−Al2O3−SiO2系の結晶化ガラスを用いた結晶化ガラスセラミック、BaO
−Al2O3−SiO2系セラミック粉末やAl2O3−CaO−SiO2−MgO−B
2O3系セラミック粉末等を用いた非ガラス系セラミックを用いても良い。
ラスセラミック粉末を均一に分散させるものであれば良い。
ガラスセラミック粉末は、0.1μm〜5μmの平均粒径を有する粉末であり、例えば
アルミナやフォルステライト等のセラミック粉末にホウ珪酸系ガラスを混合したガラス複
合セラミックを用いることができる。また、ガラスセラミック粉末としては、ZnO−M
gO−Al2O3−SiO2系の結晶化ガラスを用いた結晶化ガラスセラミック、BaO
−Al2O3−SiO2系セラミック粉末やAl2O3−CaO−SiO2−MgO−B
2O3系セラミック粉末等を用いた非ガラス系セラミックを用いても良い。
バインダは、ガラスセラミック粉末の結合剤としての機能を有し、後工程の焼成工程で
分解して容易に除去できる有機高分子である。バインダとしては、例えばブチラール系、
アクリル系、セルロース系等のバインダ樹脂を用いることができる。アクリル系のバイン
ダ樹脂としては、例えばアルキル(メタ)アクリレート、アルコキシアルキル(メタ)ア
クリレート、ポリアルキレングリコール(メタ)アクリレート、シクロアルキル(メタ)
アクリレート等の(メタ)アクリレート化合物の単独重合体を用いることができる。また
、アクリル系のバインダ樹脂としては、該(メタ)アクリレート化合物の2種以上から得
られる共重合体、あるいは(メタ)アクリレート化合物と不飽和カルボン酸類等の他の共
重合性単量体から得られる共重合体を用いることができる。
分解して容易に除去できる有機高分子である。バインダとしては、例えばブチラール系、
アクリル系、セルロース系等のバインダ樹脂を用いることができる。アクリル系のバイン
ダ樹脂としては、例えばアルキル(メタ)アクリレート、アルコキシアルキル(メタ)ア
クリレート、ポリアルキレングリコール(メタ)アクリレート、シクロアルキル(メタ)
アクリレート等の(メタ)アクリレート化合物の単独重合体を用いることができる。また
、アクリル系のバインダ樹脂としては、該(メタ)アクリレート化合物の2種以上から得
られる共重合体、あるいは(メタ)アクリレート化合物と不飽和カルボン酸類等の他の共
重合性単量体から得られる共重合体を用いることができる。
なお、バインダは、例えばアジピン酸エステル系可塑剤、ジオクチルフタレート(DO
P)、ジブチルフタレート(DBP)フタル酸エステル系可塑剤、グリコールエステル系
可塑剤等の可塑剤を含有しても良い。
P)、ジブチルフタレート(DBP)フタル酸エステル系可塑剤、グリコールエステル系
可塑剤等の可塑剤を含有しても良い。
ステージ23の上面23aには、加熱手段としてのラバーヒータHが配設されている。
ステージ23に載置されたグリーンシート4Gは、ラバーヒータHにて所定の温度に加熱
されるようになっている。そして、ステージ23に載置されたグリーンシート4Gは、同
ステージ23に対して位置決め固定されて、グリーンシート4GをY矢印方向及び反Y矢
印方向に搬送する。
ステージ23に載置されたグリーンシート4Gは、ラバーヒータHにて所定の温度に加熱
されるようになっている。そして、ステージ23に載置されたグリーンシート4Gは、同
ステージ23に対して位置決め固定されて、グリーンシート4GをY矢印方向及び反Y矢
印方向に搬送する。
図2に示すように、基台21には、Y矢印方向と直交する方向(X矢印方向)に跨ぐ門
型のガイド部材25が架設されている。ガイド部材25の上側には、X矢印方向に延びる
インクタンク26が配設されている。インクタンク26は、金属インクF(図4参照)を
貯留し、貯留する金属インクFを液滴吐出ヘッド(以下単に、吐出ヘッドという。)30
に所定の圧力で供給する。そして、吐出ヘッド30に供給された金属インクFは、吐出ヘ
ッド30から液滴Fb(図4参照)となってグリーンシート4Gに向かって吐出されるよ
うになっている。
型のガイド部材25が架設されている。ガイド部材25の上側には、X矢印方向に延びる
インクタンク26が配設されている。インクタンク26は、金属インクF(図4参照)を
貯留し、貯留する金属インクFを液滴吐出ヘッド(以下単に、吐出ヘッドという。)30
に所定の圧力で供給する。そして、吐出ヘッド30に供給された金属インクFは、吐出ヘ
ッド30から液滴Fb(図4参照)となってグリーンシート4Gに向かって吐出されるよ
うになっている。
金属インクFは、導電性微粒子としての金属微粒子、例えば粒径が数nmの金属微粒子
を溶媒に分散させた分散系金属インクを用いることができる。
金属インクFに使用する金属微粒子としては、例えば、金(Au)、銀(Ag)、銅(
Cu)、アルミニウム(Al)、パラジウム(Pd)、マンガン(Mn)、チタン(Ti
)、タンタル(Ta)、及びニッケル(Ni)などの材料の他、これらの酸化物、並びに
超電導体の微粒子などが用いられる。金属微粒子の粒径は1nm以上0.1μm以下であ
ることが好ましい。0.1μmより大きいと吐出ヘッド30の吐出ノズルNに目詰まりが
生じるおそれがある。また、1nmより小さいと金属微粒子に対する分散剤の体積比が大
きくなり、得られる膜中の有機物の割合が過多となる。
を溶媒に分散させた分散系金属インクを用いることができる。
金属インクFに使用する金属微粒子としては、例えば、金(Au)、銀(Ag)、銅(
Cu)、アルミニウム(Al)、パラジウム(Pd)、マンガン(Mn)、チタン(Ti
)、タンタル(Ta)、及びニッケル(Ni)などの材料の他、これらの酸化物、並びに
超電導体の微粒子などが用いられる。金属微粒子の粒径は1nm以上0.1μm以下であ
ることが好ましい。0.1μmより大きいと吐出ヘッド30の吐出ノズルNに目詰まりが
生じるおそれがある。また、1nmより小さいと金属微粒子に対する分散剤の体積比が大
きくなり、得られる膜中の有機物の割合が過多となる。
分散媒としては、上記の金属微粒子を分散できるもので凝集を起こさないものであれば
特に限定されない。例えば水系溶媒のほか、メタノール、エタノール、プロパノール、ブ
タノールなどのアルコール類、n−ヘプタン、n−オクタン、デカン、ドデカン、テトラ
デカン、トルエン、キシレン、シメン、デュレン、インデン、ジペンテン、テトラヒドロ
ナフタレン、デカヒドロナフタレン、シクロヘキシルベンゼンなどの炭化水素系化合物、
またエチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、グリセリン
、1,3−プロパンジオールなどのポリオール類、ポリエチレングリコール、エチレング
リコールジメチルエーテル、エチレングリコールジエチルエーテル、エチレングリコール
メチルエチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコール
ジエチルエーテル、ジエチレングリコールメチルエチルエーテル、1,2−ジメトキシエ
タン、ビス(2−メトキシエチル)エーテル、p−ジオキサンなどのエーテル系化合物、
さらにプロピレンカーボネート、γ−ブチロラクトン、N−メチル−2−ピロリドン、ジ
メチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、シクロヘキサノン、乳酸エチルなどの極性
化合物を例示できる。これらのうち、微粒子の分散性と分散液の安定性、また液滴吐出法
への適用の容易さの点で、水、アルコール類、炭化水素系化合物、エーテル系化合物が好
ましく、より好ましい分散媒としては、水、炭化水素系化合物を挙げることができる。
特に限定されない。例えば水系溶媒のほか、メタノール、エタノール、プロパノール、ブ
タノールなどのアルコール類、n−ヘプタン、n−オクタン、デカン、ドデカン、テトラ
デカン、トルエン、キシレン、シメン、デュレン、インデン、ジペンテン、テトラヒドロ
ナフタレン、デカヒドロナフタレン、シクロヘキシルベンゼンなどの炭化水素系化合物、
またエチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、グリセリン
、1,3−プロパンジオールなどのポリオール類、ポリエチレングリコール、エチレング
リコールジメチルエーテル、エチレングリコールジエチルエーテル、エチレングリコール
メチルエチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコール
ジエチルエーテル、ジエチレングリコールメチルエチルエーテル、1,2−ジメトキシエ
タン、ビス(2−メトキシエチル)エーテル、p−ジオキサンなどのエーテル系化合物、
さらにプロピレンカーボネート、γ−ブチロラクトン、N−メチル−2−ピロリドン、ジ
メチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、シクロヘキサノン、乳酸エチルなどの極性
化合物を例示できる。これらのうち、微粒子の分散性と分散液の安定性、また液滴吐出法
への適用の容易さの点で、水、アルコール類、炭化水素系化合物、エーテル系化合物が好
ましく、より好ましい分散媒としては、水、炭化水素系化合物を挙げることができる。
グリーンシート4Gに着弾した金属インクFは、その表面側から溶媒あるいは分散媒の
一部が蒸発する。このとき、ラバーヒータHにてグリーンシート4Gが加熱されているこ
とから溶媒あるいは分散媒の蒸発は促進される。
一部が蒸発する。このとき、ラバーヒータHにてグリーンシート4Gが加熱されているこ
とから溶媒あるいは分散媒の蒸発は促進される。
そして、グリーンシート4Gに着弾した金属インクFは、乾燥とともにその表面の外縁
から増粘し、つまり、中央部に比べて外周部における固形分(粒子)濃度が速く飽和濃度
に達することから表面の外縁から増粘していく。外縁の増粘した金属インクFは、グリー
ンシート4Gの面方向に沿う自身の濡れ広がりを停止する(ピニングする)。ピニングさ
れた状態の金属インクFは、グリーンシート4Gに固定され重ね打ちされても、グリーン
シート4Gに固定状態になっており、液滴Fbの外径が変化しなくなっているため、次の
液滴Fbに引き寄せられることはない。
から増粘し、つまり、中央部に比べて外周部における固形分(粒子)濃度が速く飽和濃度
に達することから表面の外縁から増粘していく。外縁の増粘した金属インクFは、グリー
ンシート4Gの面方向に沿う自身の濡れ広がりを停止する(ピニングする)。ピニングさ
れた状態の金属インクFは、グリーンシート4Gに固定され重ね打ちされても、グリーン
シート4Gに固定状態になっており、液滴Fbの外径が変化しなくなっているため、次の
液滴Fbに引き寄せられることはない。
ガイド部材25には、そのX矢印方向略全幅にわたって、X矢印方向に延びる上下一対
のガイドレール28が形成されている。上下一対のガイドレール28には、キャリッジ2
9が取り付けられている。キャリッジ29は、ガイドレール28に案内されてX矢印方向
及び反X矢印方向に移動する。キャリッジ29には、液滴吐出ヘッド本体としての液滴吐
出ヘッド30が搭載されている。
のガイドレール28が形成されている。上下一対のガイドレール28には、キャリッジ2
9が取り付けられている。キャリッジ29は、ガイドレール28に案内されてX矢印方向
及び反X矢印方向に移動する。キャリッジ29には、液滴吐出ヘッド本体としての液滴吐
出ヘッド30が搭載されている。
図3は吐出ヘッド30をグリーンシート4G側から見た下面図を示し、図4は吐出ヘッ
ド30の要部断面図を示す。吐出ヘッド30の下側には、ノズルプレート31が備えられ
ている。
ド30の要部断面図を示す。吐出ヘッド30の下側には、ノズルプレート31が備えられ
ている。
ノズルプレート31は、その下面(ノズル形成面31a)がグリーンシート4Gの上面
(吐出面4Ga)と略平行に形成されている。ノズルプレート31は、グリーンシート4
Gが吐出ヘッド30の直下に位置するとき、ノズル形成面31aと吐出面4Gaとの間の
距離(プラテンギャップ)を所定の距離(例えば、600μm)に保持する。
(吐出面4Ga)と略平行に形成されている。ノズルプレート31は、グリーンシート4
Gが吐出ヘッド30の直下に位置するとき、ノズル形成面31aと吐出面4Gaとの間の
距離(プラテンギャップ)を所定の距離(例えば、600μm)に保持する。
また、ノズルプレート31は、ペルチェ素子PTにて形成されている。ノズルプレート
31は、冷却部PTaと発熱部PTbを備えたペルチェ素子PTから構成されている。そ
して、吐出ヘッド30側に冷却部PTaが、グリーンシート4G側に発熱部PTbが向く
ように、ノズルプレート31(ペルチェ素子PT)は、吐出ヘッド30に取着されている
。
31は、冷却部PTaと発熱部PTbを備えたペルチェ素子PTから構成されている。そ
して、吐出ヘッド30側に冷却部PTaが、グリーンシート4G側に発熱部PTbが向く
ように、ノズルプレート31(ペルチェ素子PT)は、吐出ヘッド30に取着されている
。
従って、ペルチェ素子PTよりなるノズルプレート31は、冷却部PTaにて吐出ヘッ
ド30を冷却する。また、ノズルプレート31は、発熱部PTbからの発熱がグリーンシ
ート4G(吐出面4Ga)に放熱される。
ド30を冷却する。また、ノズルプレート31は、発熱部PTbからの発熱がグリーンシ
ート4G(吐出面4Ga)に放熱される。
図3において、ノズル形成面31aには、Y矢印方向に沿って配列された複数のノズル
Nからなる一対のノズル列NLが形成されている。一対のノズル列NLには、それぞれ1
インチ当たりに180個のノズルNが形成されている。なお、図3では、説明の都合上、
一列当りに10個のノズルNのみを記載している。
Nからなる一対のノズル列NLが形成されている。一対のノズル列NLには、それぞれ1
インチ当たりに180個のノズルNが形成されている。なお、図3では、説明の都合上、
一列当りに10個のノズルNのみを記載している。
一対のノズル列NLでは、Y矢印方向から見て、一方のノズル列NLの各ノズルNが、
他方のノズル列NLの各ノズルNの間を補間する。すなわち、吐出ヘッド30は、Y矢印
方向に、1インチ当りに180個×2=360個のノズルNを有する(最大解像度が36
0dpiである)。
他方のノズル列NLの各ノズルNの間を補間する。すなわち、吐出ヘッド30は、Y矢印
方向に、1インチ当りに180個×2=360個のノズルNを有する(最大解像度が36
0dpiである)。
図4において、吐出ヘッド30の上側には、供給チューブ30Tが連結されている。供
給チューブ30Tは、Z矢印方向に延びるように配設されて、インクタンク26からの金
属インクFを吐出ヘッド30に供給する。
給チューブ30Tは、Z矢印方向に延びるように配設されて、インクタンク26からの金
属インクFを吐出ヘッド30に供給する。
各ノズルNの上側には、供給チューブ30Tに連通するキャビティ32が形成されてい
る。キャビティ32は、供給チューブ30Tからの金属インクFを収容して、対応するノ
ズルNに金属インクFを供給する。このキャビティ32に収容された金属インクFは、ペ
ルチェ素子PTよりなるノズルプレート31が配置されるため、ペルチェ素子PTの冷却
部PTaにて冷却される。
る。キャビティ32は、供給チューブ30Tからの金属インクFを収容して、対応するノ
ズルNに金属インクFを供給する。このキャビティ32に収容された金属インクFは、ペ
ルチェ素子PTよりなるノズルプレート31が配置されるため、ペルチェ素子PTの冷却
部PTaにて冷却される。
キャビティ32の上側には、上下方向に振動してキャビティ32内の容積を拡大及び縮
小する振動板33が貼り付けられている。振動板33の上側には、ノズルNに対応する圧
電素子PZが配設されている。圧電素子PZは、上下方向に収縮及び伸張して振動板33
を上下方向に振動させる。上下方向に振動する振動板33は、金属インクFを所定サイズ
の液滴Fbにして対応するノズルNから吐出させる。吐出された液滴Fbは、対応するノ
ズルNの反Z矢印方向に飛行して、グリーンシート4Gの吐出面4Gaに着弾する。
小する振動板33が貼り付けられている。振動板33の上側には、ノズルNに対応する圧
電素子PZが配設されている。圧電素子PZは、上下方向に収縮及び伸張して振動板33
を上下方向に振動させる。上下方向に振動する振動板33は、金属インクFを所定サイズ
の液滴Fbにして対応するノズルNから吐出させる。吐出された液滴Fbは、対応するノ
ズルNの反Z矢印方向に飛行して、グリーンシート4Gの吐出面4Gaに着弾する。
次に、上記のように構成した液滴吐出装置20の電気的構成を図5に従って説明する。
図5において、制御手段としての制御装置50は、CPU50A、ROM50B、RA
M50Cなどを有している。制御装置50は、格納された各種データ及び各種制御プログ
ラムに従って、ステージ23の搬送処理、キャリッジ29の搬送処理、吐出ヘッド30の
液滴吐出処理、ラバーヒータHの加熱処理、ペルチェ素子PT(ノズルプレート31)の
駆動処理などを実行する。
図5において、制御手段としての制御装置50は、CPU50A、ROM50B、RA
M50Cなどを有している。制御装置50は、格納された各種データ及び各種制御プログ
ラムに従って、ステージ23の搬送処理、キャリッジ29の搬送処理、吐出ヘッド30の
液滴吐出処理、ラバーヒータHの加熱処理、ペルチェ素子PT(ノズルプレート31)の
駆動処理などを実行する。
制御装置50には、各種操作スイッチとディスプレイを有した入出力装置51が接続さ
れている。入出力装置51は、液滴吐出装置20が実行する各種処理の処理状況を表示す
る。入出力装置51は、内部配線6を形成するためのビットマップデータBDを生成し、
そのビットマップデータBDを制御装置50に入力する。
れている。入出力装置51は、液滴吐出装置20が実行する各種処理の処理状況を表示す
る。入出力装置51は、内部配線6を形成するためのビットマップデータBDを生成し、
そのビットマップデータBDを制御装置50に入力する。
ビットマップデータBDは、各ビットの値(0あるいは1)に応じて各圧電素子PZの
オンあるいはオフを規定したデータである。ビットマップデータBDは、吐出ヘッド30
(各ノズルN)の通過する描画平面(吐出面4Ga)上の各位置に、配線用の液滴Fbを
吐出するか否かを規定したデータである。すなわち、ビットマップデータBDは、吐出面
4Gaに規定された内部配線6の目標形成位置に配線用の液滴Fbを吐出させるためのデ
ータである。
オンあるいはオフを規定したデータである。ビットマップデータBDは、吐出ヘッド30
(各ノズルN)の通過する描画平面(吐出面4Ga)上の各位置に、配線用の液滴Fbを
吐出するか否かを規定したデータである。すなわち、ビットマップデータBDは、吐出面
4Gaに規定された内部配線6の目標形成位置に配線用の液滴Fbを吐出させるためのデ
ータである。
制御装置50には、X軸モータ駆動回路52が接続されている。制御装置50は、駆動
制御信号をX軸モータ駆動回路52に出力する。X軸モータ駆動回路52は、制御装置5
0からの駆動制御信号に応答して、キャリッジ29を移動させるためのX軸モータMXを
正転又は逆転させる。制御装置50には、Y軸モータ駆動回路53が接続されている。制
御装置50は、駆動制御信号をY軸モータ駆動回路53に出力する。Y軸モータ駆動回路
53は、制御装置50からの駆動制御信号に応答して、ステージ23を移動させるための
Y軸モータMYを正転又は逆転させる。
制御信号をX軸モータ駆動回路52に出力する。X軸モータ駆動回路52は、制御装置5
0からの駆動制御信号に応答して、キャリッジ29を移動させるためのX軸モータMXを
正転又は逆転させる。制御装置50には、Y軸モータ駆動回路53が接続されている。制
御装置50は、駆動制御信号をY軸モータ駆動回路53に出力する。Y軸モータ駆動回路
53は、制御装置50からの駆動制御信号に応答して、ステージ23を移動させるための
Y軸モータMYを正転又は逆転させる。
制御装置50には、ヘッド駆動回路54が接続されている。制御装置50は、所定の吐
出周波数に同期させた吐出タイミング信号LTをヘッド駆動回路54に出力する。制御装
置50は、各圧電素子PZを駆動するための駆動電圧COMを吐出周波数に同期させてヘ
ッド駆動回路54に出力する。
出周波数に同期させた吐出タイミング信号LTをヘッド駆動回路54に出力する。制御装
置50は、各圧電素子PZを駆動するための駆動電圧COMを吐出周波数に同期させてヘ
ッド駆動回路54に出力する。
制御装置50は、ビットマップデータBDを利用して所定の周波数に同期したパターン
形成用制御信号SIを生成し、パターン形成用制御信号SIをヘッド駆動回路54にシリ
アル転送する。ヘッド駆動回路54は、制御装置50からのパターン形成用制御信号SI
を各圧電素子PZに対応させて順次シリアル/パラレル変換する。ヘッド駆動回路54は
、制御装置50からの吐出タイミング信号LTを受けるたびに、シリアル/パラレル変換
したパターン形成用制御信号SIをラッチし、パターン形成用制御信号SIによって選択
される圧電素子PZにそれぞれ駆動電圧COMを供給する。
形成用制御信号SIを生成し、パターン形成用制御信号SIをヘッド駆動回路54にシリ
アル転送する。ヘッド駆動回路54は、制御装置50からのパターン形成用制御信号SI
を各圧電素子PZに対応させて順次シリアル/パラレル変換する。ヘッド駆動回路54は
、制御装置50からの吐出タイミング信号LTを受けるたびに、シリアル/パラレル変換
したパターン形成用制御信号SIをラッチし、パターン形成用制御信号SIによって選択
される圧電素子PZにそれぞれ駆動電圧COMを供給する。
制御装置50には、ラバーヒータ駆動回路55が接続されている。制御装置50は、駆
動制御信号をラバーヒータ駆動回路55に出力する。ラバーヒータ駆動回路55は、制御
装置50からの駆動制御信号に応答して、ラバーヒータHを駆動してステージ23に載置
したグリーンシート4Gを予め定めた温度になるように加熱制御する。
動制御信号をラバーヒータ駆動回路55に出力する。ラバーヒータ駆動回路55は、制御
装置50からの駆動制御信号に応答して、ラバーヒータHを駆動してステージ23に載置
したグリーンシート4Gを予め定めた温度になるように加熱制御する。
本実施形態では、予め定めたグリーンシート4Gの温度(吐出面4Gaの温度)は、吐
出ヘッド30から吐出される時の金属インクFの温度以上かつ金属インクFに含まれる液
体組成の沸点未満(液体組成中の最も沸点の低い温度未満)の温度となるように制御され
ている。つまり、グリーンシート4Gを吐出ヘッド30から吐出される時の金属インクF
の温度以上に加熱して、吐出される時は吐出ヘッド30で乾燥せず、着弾した液滴Fbは
それ以上の温度で速やかに加熱し乾燥するとともに、グリーンシート4Gを液滴Fbの沸
点未満に加熱して、着弾した液滴Fbをグリーンシート4G上で突沸しないようにする。
出ヘッド30から吐出される時の金属インクFの温度以上かつ金属インクFに含まれる液
体組成の沸点未満(液体組成中の最も沸点の低い温度未満)の温度となるように制御され
ている。つまり、グリーンシート4Gを吐出ヘッド30から吐出される時の金属インクF
の温度以上に加熱して、吐出される時は吐出ヘッド30で乾燥せず、着弾した液滴Fbは
それ以上の温度で速やかに加熱し乾燥するとともに、グリーンシート4Gを液滴Fbの沸
点未満に加熱して、着弾した液滴Fbをグリーンシート4G上で突沸しないようにする。
制御装置50には、ペルチェ素子駆動回路56が接続されている。制御装置50は、ペ
ルチェ素子駆動回路56に対応する駆動制御信号をペルチェ素子駆動回路56に出力する
。ペルチェ素子駆動回路56は、制御装置50からの駆動制御信号に応答して、ペルチェ
素子PT(ノズルプレート31)に駆動電流を流し駆動制御する。
ルチェ素子駆動回路56に対応する駆動制御信号をペルチェ素子駆動回路56に出力する
。ペルチェ素子駆動回路56は、制御装置50からの駆動制御信号に応答して、ペルチェ
素子PT(ノズルプレート31)に駆動電流を流し駆動制御する。
本実施形態では、吐出ヘッド30が液滴Fbを加熱されているグリーンシート4Gに吐
出しているとき、ペルチェ素子PTを駆動制御するようになっている。
つまり、吐出ヘッド30が液滴Fbをグリーンシート4Gに吐出しているとき、吐出ヘ
ッド30をペルチェ素子PTよりなるノズルプレート31にて冷却して、キャビティ32
に収容された金属インクFの温度上昇を抑えるようになっている。
出しているとき、ペルチェ素子PTを駆動制御するようになっている。
つまり、吐出ヘッド30が液滴Fbをグリーンシート4Gに吐出しているとき、吐出ヘ
ッド30をペルチェ素子PTよりなるノズルプレート31にて冷却して、キャビティ32
に収容された金属インクFの温度上昇を抑えるようになっている。
次に、上記液滴吐出装置20を利用したグリーンシート4Gの配線パターンの形成方法
について説明する。
図2に示すように、吐出面4Gaが上側になるようにグリーンシート4Gをステージ2
3に載置する。このとき、ステージ23は、グリーンシート4Gをキャリッジ29の反Y
矢印方向に配置する。このグリーンシート4Gは、ビアホール7が形成され、そのビアホ
ール7にビア配線8がなされていて、その吐出面4Gaに内部配線6を形成するものとす
る。
について説明する。
図2に示すように、吐出面4Gaが上側になるようにグリーンシート4Gをステージ2
3に載置する。このとき、ステージ23は、グリーンシート4Gをキャリッジ29の反Y
矢印方向に配置する。このグリーンシート4Gは、ビアホール7が形成され、そのビアホ
ール7にビア配線8がなされていて、その吐出面4Gaに内部配線6を形成するものとす
る。
この状態から、内部配線6を形成するためのビットマップデータBDが入出力装置51
から制御装置50に入力される。制御装置50は、入出力装置51からの内部配線6を形
成するためのビットマップデータBDを格納する。
から制御装置50に入力される。制御装置50は、入出力装置51からの内部配線6を形
成するためのビットマップデータBDを格納する。
次いで、制御装置50は、吐出ヘッド30がグリーンシート4Gの所定の直上位置をX
矢印方向に通過するように、Y軸モータ駆動回路53を介してY軸モータMYを駆動して
ステージ23を搬送する。そして、制御装置50は、X軸モータ駆動回路52を介してX
軸モータMXを駆動して吐出ヘッド30の走査(往動)を開始させる。このとき、制御装
置50は、ラバーヒータ駆動回路55を介してステージ23に設けたラバーヒータHを駆
動しステージ23に載置されたグリーンシート4Gが所定の温度になるように加熱制御し
ている。
矢印方向に通過するように、Y軸モータ駆動回路53を介してY軸モータMYを駆動して
ステージ23を搬送する。そして、制御装置50は、X軸モータ駆動回路52を介してX
軸モータMXを駆動して吐出ヘッド30の走査(往動)を開始させる。このとき、制御装
置50は、ラバーヒータ駆動回路55を介してステージ23に設けたラバーヒータHを駆
動しステージ23に載置されたグリーンシート4Gが所定の温度になるように加熱制御し
ている。
制御装置50は、吐出ヘッド30の走査(往動)を開始させると、ビットマップデータ
BDに基づいて吐出制御信号SIを生成して、吐出制御信号SIと駆動電圧COMをヘッ
ド駆動回路54に出力する。すなわち、制御装置50は、ヘッド駆動回路54を介して各
圧電素子PZを駆動制御し、内部配線6を形成するための着弾位置に吐出ヘッド30が位
置するたびに、選択されたノズルNから液滴Fbを吐出させる。図4に示すように、吐出
される各液滴Fbは、対応する内部配線6を形成するための着弾位置に順次着弾する。
BDに基づいて吐出制御信号SIを生成して、吐出制御信号SIと駆動電圧COMをヘッ
ド駆動回路54に出力する。すなわち、制御装置50は、ヘッド駆動回路54を介して各
圧電素子PZを駆動制御し、内部配線6を形成するための着弾位置に吐出ヘッド30が位
置するたびに、選択されたノズルNから液滴Fbを吐出させる。図4に示すように、吐出
される各液滴Fbは、対応する内部配線6を形成するための着弾位置に順次着弾する。
吐出ヘッド30をX矢印方向に往動させているとき、制御装置50は、吐出ヘッド30
のペルチェ素子PTよりなるノズルプレート31を駆動させる。従って、X矢印方向に往
動しながら液滴Fbを吐出させているときの吐出ヘッド30は、ペルチェ素子PTよりな
るノズルプレート31の冷却部PTaによって冷却される。つまり、加熱されたグリーン
シート4Gからの放熱を、ノズルプレート31は遮断する。従って、キャビティ32に収
容された金属インクFは、ノズルプレート31が受ける加熱されたグリーンシート4Gか
らの放熱によって加熱されることはない。
のペルチェ素子PTよりなるノズルプレート31を駆動させる。従って、X矢印方向に往
動しながら液滴Fbを吐出させているときの吐出ヘッド30は、ペルチェ素子PTよりな
るノズルプレート31の冷却部PTaによって冷却される。つまり、加熱されたグリーン
シート4Gからの放熱を、ノズルプレート31は遮断する。従って、キャビティ32に収
容された金属インクFは、ノズルプレート31が受ける加熱されたグリーンシート4Gか
らの放熱によって加熱されることはない。
一方、グリーンシート4Gに着弾した液滴Fbは、ペルチェ素子PTよりなるノズルプ
レート31の発熱部PTbからの放熱によって加熱され乾燥が促進される。つまり、グリ
ーンシート4Gは、ラバーヒータHとペルチェ素子PT(ノズルプレート31)によって
加熱されているため、着弾した液滴Fbは直ちに乾燥する。
レート31の発熱部PTbからの放熱によって加熱され乾燥が促進される。つまり、グリ
ーンシート4Gは、ラバーヒータHとペルチェ素子PT(ノズルプレート31)によって
加熱されているため、着弾した液滴Fbは直ちに乾燥する。
制御装置50は、吐出ヘッド30が、グリーンシート4Gの端から端までの走査を完了
すると、すなわち、吐出ヘッド30をX矢印方向に走査(往動)させて、1回目の液滴F
bの動作が完了すると、内部配線6を形成するためのグリーンシート4G上の新たな位置
に液滴Fbを吐出させるべく、Y軸モータ駆動回路53を介してY軸モータMYを駆動し
てステージ23をY方向に所定の量搬送させた後、吐出ヘッド30を反X矢印方向に走査
(復動)させる。
すると、すなわち、吐出ヘッド30をX矢印方向に走査(往動)させて、1回目の液滴F
bの動作が完了すると、内部配線6を形成するためのグリーンシート4G上の新たな位置
に液滴Fbを吐出させるべく、Y軸モータ駆動回路53を介してY軸モータMYを駆動し
てステージ23をY方向に所定の量搬送させた後、吐出ヘッド30を反X矢印方向に走査
(復動)させる。
吐出ヘッド30の走査(復動)を開始させると、制御装置50は、前記と同様にビット
マップデータBDに基づいてヘッド駆動回路54を介して各圧電素子PZを駆動制御し、
内部配線6を形成するための着弾位置に吐出ヘッド30が位置するたびに、選択されたノ
ズルNから液滴Fbを吐出させる。
マップデータBDに基づいてヘッド駆動回路54を介して各圧電素子PZを駆動制御し、
内部配線6を形成するための着弾位置に吐出ヘッド30が位置するたびに、選択されたノ
ズルNから液滴Fbを吐出させる。
この吐出ヘッド30を反X矢印方向に復動させているとき、制御装置50は、吐出ヘッ
ド30のペルチェ素子PTよりなるノズルプレート31を駆動させている。従って、反X
矢印方向に往動しながら液滴Fbを吐出させているときも同様に、吐出ヘッド30は、ペ
ルチェ素子PT(ノズルプレート31)の冷却部PTaによって冷却されるとともに、グ
リーンシート4Gに着弾した液滴Fbは、ペルチェ素子PT(ノズルプレート31)の発
熱部PTbから放熱によって加熱され乾燥が促進される。
ド30のペルチェ素子PTよりなるノズルプレート31を駆動させている。従って、反X
矢印方向に往動しながら液滴Fbを吐出させているときも同様に、吐出ヘッド30は、ペ
ルチェ素子PT(ノズルプレート31)の冷却部PTaによって冷却されるとともに、グ
リーンシート4Gに着弾した液滴Fbは、ペルチェ素子PT(ノズルプレート31)の発
熱部PTbから放熱によって加熱され乾燥が促進される。
以後、吐出ヘッド30を、X矢印方向及び反X矢印方向に往復動させるとともに、ステ
ージ23をY矢印方向に搬送させ、吐出ヘッド30の往復動中に液滴Fbをビットマップ
データBDに基づくタイミングで吐出させる動作を繰り返す。これによって、グリーンシ
ート4G上には、着弾した液滴Fbによる内部配線6の配線パターンが描画される。
ージ23をY矢印方向に搬送させ、吐出ヘッド30の往復動中に液滴Fbをビットマップ
データBDに基づくタイミングで吐出させる動作を繰り返す。これによって、グリーンシ
ート4G上には、着弾した液滴Fbによる内部配線6の配線パターンが描画される。
次に、上記のように構成した実施形態の効果を以下に記載する。
(1)上記実施形態によれば、ステージ23にラバーヒータHを設け、ステージ23に
載置したグリーンシート4Gを所定の温度に加熱した。従って、吐出ヘッド30から吐出
されグリーンシート4Gに着弾された液滴Fbは、速やかに乾燥される。
(1)上記実施形態によれば、ステージ23にラバーヒータHを設け、ステージ23に
載置したグリーンシート4Gを所定の温度に加熱した。従って、吐出ヘッド30から吐出
されグリーンシート4Gに着弾された液滴Fbは、速やかに乾燥される。
(2)上記実施形態によれば、ノズルプレート31をペルチェ素子PTにて形成した。
そして、吐出ヘッド30側にペルチェ素子PTの冷却部PTaが、グリーンシート4G側
にペルチェ素子PTの発熱部PTbが向くように、ノズルプレート31(ペルチェ素子P
T)は、吐出ヘッド30に取着した。そして、キャビティ32に収容された金属インクF
が、ノズルプレート31が受ける加熱されたグリーンシート4Gからの放熱によって加熱
されることはないようにした。従って、液滴吐出ヘッド30から吐出される金属インクF
は加温され粘性が低下して吐出量が変動することがなく精度の高いパターンを描画するこ
とができる。
そして、吐出ヘッド30側にペルチェ素子PTの冷却部PTaが、グリーンシート4G側
にペルチェ素子PTの発熱部PTbが向くように、ノズルプレート31(ペルチェ素子P
T)は、吐出ヘッド30に取着した。そして、キャビティ32に収容された金属インクF
が、ノズルプレート31が受ける加熱されたグリーンシート4Gからの放熱によって加熱
されることはないようにした。従って、液滴吐出ヘッド30から吐出される金属インクF
は加温され粘性が低下して吐出量が変動することがなく精度の高いパターンを描画するこ
とができる。
また、ノズルプレート31自体をペルチェ素子PTにて形成したので、部品点数を増加
させない。従って、構造も簡単にでき、しかも、プラテンギャップを短くすることができ
る。
させない。従って、構造も簡単にでき、しかも、プラテンギャップを短くすることができ
る。
(3)上記実施形態によれば、グリーンシート4G側にペルチェ素子PTの発熱部PT
bが向くように、ノズルプレート31(ペルチェ素子PT)は、吐出ヘッド30に取着し
た。従って、グリーンシート4Gに着弾した液滴Fbは、ペルチェ素子PTよりなるノズ
ルプレート31の発熱部PTbからの放熱によって加熱され乾燥が促進させることができ
る。
bが向くように、ノズルプレート31(ペルチェ素子PT)は、吐出ヘッド30に取着し
た。従って、グリーンシート4Gに着弾した液滴Fbは、ペルチェ素子PTよりなるノズ
ルプレート31の発熱部PTbからの放熱によって加熱され乾燥が促進させることができ
る。
尚、上記実施形態は以下のように変更してもよい。
・上記実施形態では、ラバーヒータHでグリーンシート4Gを加熱したが、赤外線ヒー
タ等、その他加熱手段にて加熱してもよい。
・上記実施形態では、ラバーヒータHでグリーンシート4Gを加熱したが、赤外線ヒー
タ等、その他加熱手段にて加熱してもよい。
・上記実施形態では、機能液を、金属インクFとして具体化した。これに限らず、例え
ば、液晶材料を含有した機能液に具体化してもよい。つまり、パターンを形成するための
吐出させる機能液であればよい。
ば、液晶材料を含有した機能液に具体化してもよい。つまり、パターンを形成するための
吐出させる機能液であればよい。
・上記実施形態では、基板を、グリーンシート4Gに具体化した。これに限らず、例え
は、基板を、ガラス基板、ポリイミド基板、ガラエポ基板などに具体化してもよい。
・上記実施形態では、液滴吐出手段を、圧電素子駆動方式の液滴吐出ヘッド30に具体
化した。これに限らず、液滴吐出ヘッドを、抵抗加熱方式や静電駆動方式の吐出ヘッドに
具体化してもよい。
は、基板を、ガラス基板、ポリイミド基板、ガラエポ基板などに具体化してもよい。
・上記実施形態では、液滴吐出手段を、圧電素子駆動方式の液滴吐出ヘッド30に具体
化した。これに限らず、液滴吐出ヘッドを、抵抗加熱方式や静電駆動方式の吐出ヘッドに
具体化してもよい。
・上記実施形態では、液滴吐出手段を、圧電素子駆動方式の液滴吐出ヘッド30に具体
化した。これに限らず、液滴吐出ヘッドを、抵抗加熱方式や静電駆動方式の吐出ヘッドに
具体化してもよい。
化した。これに限らず、液滴吐出ヘッドを、抵抗加熱方式や静電駆動方式の吐出ヘッドに
具体化してもよい。
4G…基板としてのグリーンシート、5…回路素子、20…液滴吐出装置、30…液滴
吐出ヘッド、31…ノズルプレート、50…制御装置、56…ペルチェ素子駆動回路、F
…金属インク、Fb…液滴、H…ラバーヒータ、PT…ペルチェ素子、PTa…冷却部、
PTb…発熱部。
吐出ヘッド、31…ノズルプレート、50…制御装置、56…ペルチェ素子駆動回路、F
…金属インク、Fb…液滴、H…ラバーヒータ、PT…ペルチェ素子、PTa…冷却部、
PTb…発熱部。
Claims (6)
- 機能材料を含む機能液の液滴を、液滴吐出ヘッド本体に設けたノズルプレートに形成した
ノズルから、基板に向かって順次吐出させて、前記基板の表面にパターンを形成する液滴
吐出ヘッドであって、
前記ノズルプレートを、ペルチェ素子で形成したことを特徴とする液滴吐出ヘッド。 - 請求項1に記載の液滴吐出ヘッドにおいて、
前記ペルチェ素子よりなるノズルプレートは、冷却部を前記液滴吐出ヘッド本体側に、
発熱部を液前記基板側に向くように、前記液滴吐出ヘッド本体に取着したことを特徴とす
る液滴吐出ヘッド。 - 請求項1又は2に記載の液滴吐出ヘッドにおいて、
前記基板は、セラミック粒子と樹脂とから構成される低温焼成用シートであり、
前記機能液は、機能材料として金属粒子を分散させた金属インクであることを特徴とす
る液滴吐出ヘッド。 - 機能材料を含む機能液の液滴を、液滴吐出ヘッドにて基板に向かって順次吐出させて、前
記基板の表面にパターンを形成するパターン形成装置であって、
前記基板を加熱する加熱手段と、
前記液滴吐出ヘッドに設けられ液滴を吐出するノズルを有したペルチェ素子よりなるノ
ズルプレートと、
前記ペルチェ素子よりなるノズルプレートに駆動電流を供給するペルチェ素子駆動回路
と、
前記ペルチェ素子よりなるノズルプレートが、前記液滴吐出ヘッド側を冷却し前記基板
側を発熱するように、前記ペルチェ素子駆動回路を駆動制御する制御手段と
を備えたことを特徴とするパターン形成装置。 - 請求項4に記載のパターン形成装置において、
前記基板は、回路素子を実装するとともにその実装した回路素子に対して電気的に接続
された配線が形成される基板であり、
前記液滴吐出ヘッドは、前記液滴を吐出させて前記基板上に前記配線のパターンを形成
するものであることを特徴とするパターン形成装置。 - 請求項5に記載のパターン形成装置において、
前記基板は、セラミック粒子と樹脂とから構成される低温焼成用シートであり、
前記機能液は、機能材料として金属粒子を分散させた金属インクであることを特徴とす
るパターン形成装置。
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2008007660A JP2009165973A (ja) | 2008-01-17 | 2008-01-17 | 液滴吐出ヘッド及びパターン形成装置 |
| US12/353,291 US20090185004A1 (en) | 2008-01-17 | 2009-01-14 | Droplet discharge head and pattern forming device |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2008007660A JP2009165973A (ja) | 2008-01-17 | 2008-01-17 | 液滴吐出ヘッド及びパターン形成装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2009165973A true JP2009165973A (ja) | 2009-07-30 |
Family
ID=40876143
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2008007660A Withdrawn JP2009165973A (ja) | 2008-01-17 | 2008-01-17 | 液滴吐出ヘッド及びパターン形成装置 |
Country Status (2)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US20090185004A1 (ja) |
| JP (1) | JP2009165973A (ja) |
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2008
- 2008-01-17 JP JP2008007660A patent/JP2009165973A/ja not_active Withdrawn
-
2009
- 2009-01-14 US US12/353,291 patent/US20090185004A1/en not_active Abandoned
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| Publication number | Publication date |
|---|---|
| US20090185004A1 (en) | 2009-07-23 |
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