JP2009268309A - 静電動作装置 - Google Patents
静電動作装置 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2009268309A JP2009268309A JP2008117244A JP2008117244A JP2009268309A JP 2009268309 A JP2009268309 A JP 2009268309A JP 2008117244 A JP2008117244 A JP 2008117244A JP 2008117244 A JP2008117244 A JP 2008117244A JP 2009268309 A JP2009268309 A JP 2009268309A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- width
- charge holding
- holding portion
- charge
- electret film
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 239000012528 membrane Substances 0.000 abstract description 5
- 230000001939 inductive effect Effects 0.000 abstract 1
- 230000006698 induction Effects 0.000 description 23
- 238000004088 simulation Methods 0.000 description 12
- 238000010248 power generation Methods 0.000 description 11
- 238000001514 detection method Methods 0.000 description 9
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 7
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 6
- 239000004020 conductor Substances 0.000 description 5
- 244000126211 Hericium coralloides Species 0.000 description 4
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 3
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 3
- 230000005684 electric field Effects 0.000 description 3
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 3
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 2
- 229920001343 polytetrafluoroethylene Polymers 0.000 description 2
- 239000004810 polytetrafluoroethylene Substances 0.000 description 2
- 229910052814 silicon oxide Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 238000005268 plasma chemical vapour deposition Methods 0.000 description 1
- -1 polytetrafluoroethylene Polymers 0.000 description 1
Images
Landscapes
- Micromachines (AREA)
Abstract
【課題】動作を最適に行うことが可能な静電動作装置を提供する。
【解決手段】この静電動作装置(静電誘導型発電装置100)は、対向電極22と、対向電極22に対して相対的に移動可能な状態で対向配置されたエレクトレット膜12とを備え、エレクトレット膜12は、電荷保持部121と電荷保持部121に隣接する非電荷保持部122とを有し、対向電極22またはエレクトレット膜12の移動方向に沿った電荷保持部121の幅W1は、移動方向に沿った非電荷保持部122の幅W2よりも大きい。
【選択図】図1
【解決手段】この静電動作装置(静電誘導型発電装置100)は、対向電極22と、対向電極22に対して相対的に移動可能な状態で対向配置されたエレクトレット膜12とを備え、エレクトレット膜12は、電荷保持部121と電荷保持部121に隣接する非電荷保持部122とを有し、対向電極22またはエレクトレット膜12の移動方向に沿った電荷保持部121の幅W1は、移動方向に沿った非電荷保持部122の幅W2よりも大きい。
【選択図】図1
Description
本発明は、静電動作装置に関し、特に、エレクトレット膜を備える静電動作装置に関する。
従来、エレクトレット膜を備える静電動作装置が知られている(たとえば、特許文献1および2参照)。
上記特許文献1に記載の静電動作装置(微細位置検出センサー)は、検出電極と、検出電極に対向するように設けられ、検出電極に対して相対的に移動可能なエレクトレット膜と、エレクトレット膜の表面上に形成されるハシゴ状の金属膜とを備えている。この微細位置検出センサーでは、エレクトレット膜の金属膜が形成される領域には電荷が注入されず、金属膜が形成されないエレクトレット膜の領域には、電荷が注入されている。これにより、エレクトレット膜には、電荷が注入される領域(電荷保持部)と電荷が注入されない領域(非電荷保持部)とがエレクトレット膜の移動方向に対して交互に形成されている。なお、エレクトレット膜の移動方向に沿った電荷保持部の幅と非電荷保持部の幅とは、略同じになるように形成されている。この微細位置検出センサーでは、検出電極とエレクトレット膜とが相対的に移動することにより、静電誘導によって検出電極に蓄積される電荷の量が変化する。この電荷の変化量を検出することにより、検出電極またはエレクトレット膜の移動が検出される。
また、上記特許文献2に記載の静電動作装置(静電誘導型変換素子)は、複数の短冊状の導体と、複数の短冊状の導体に対向するように設けられ、複数の短冊状の導体に対して相対的に移動可能な短冊状のエレクトレット膜とを備えている。また、複数の短冊状のエレクトレット膜は、基板上に略等間隔に配置されており、複数のエレクトレット膜は、隣接するエレクトレット膜の間隔と、エレクトレット膜の短手方向の幅とが略等しくなるように配置されている。つまり、基板上には、エレクトレット膜が配置される領域(電荷保持部)とエレクトレット膜が配置されない領域(非電荷保持部)とが交互に形成される。この静電誘導型変換素子では、導体とエレクトレット膜とが相対的に移動することにより、静電誘導によって導体に蓄積される電荷の量が変化する。この電荷の変化量を電圧として取り出すことによって、発電が行われる。
しかしながら、上記特許文献1および2に記載の静電動作装置では、エレクトレット膜の電荷が注入された領域(電荷保持部)の移動方向に沿った幅と、移動方向に沿った非電荷保持部の幅とは、略等しくなるように形成されている、一方、それぞれの幅に関しては最適に規定されたものではないと考えられる。このため、静電動作装置の動作が最適に行われていないという問題点が考えられる。
この発明は、上記のような課題を解決するためになされたものであり、この発明の1つの目的は、動作を最適に行うことが可能な静電動作装置を提供することである。
上記目的を達成するために、この発明の静電動作装置は、電極と、電極に対して相対的に移動可能な状態で対向配置されたエレクトレット膜とを備え、エレクトレット膜は、電荷保持部と電荷保持部に隣接する非電荷保持部とを有し、電極またはエレクトレット膜の移動方向に沿った電荷保持部の幅は、移動方向に沿った非電荷保持部の幅よりも大きい。
本発明では、上記のように、電極またはエレクトレット膜の移動方向に沿った電荷保持部の幅を、移動方向に沿った非電荷保持部の幅よりも大きくすることによって、静電動作装置をたとえば静電誘導型発電装置に適用した場合、電荷保持部の幅と非電荷保持部の幅とを等しくする場合と異なり、静電誘導型発電装置の発電量を大きくすることができる。これにより、静電誘導型発電装置の動作を最適に行うことができる。なお、移動方向に沿った電荷保持部の幅を、移動方向に沿った非電荷保持部の幅よりも大きくすることによって、静電誘導型発電装置の発電量が大きくなる点は、後述する本願発明者のシミュレーションにより確認済みである。
以下、本発明の実施形態を図面に基づいて説明する。
(第1実施形態)
図1は、本発明の第1実施形態による静電誘導型発電装置100の断面図である。図2は、図1の200−200線に沿った断面図である。図3は、図1の210−210線に沿った断面図である。本実施形態では、静電動作装置の一例である静電誘導型発電装置100に本発明を適用した場合について説明する。
図1は、本発明の第1実施形態による静電誘導型発電装置100の断面図である。図2は、図1の200−200線に沿った断面図である。図3は、図1の210−210線に沿った断面図である。本実施形態では、静電動作装置の一例である静電誘導型発電装置100に本発明を適用した場合について説明する。
この第1実施形態による静電誘導型発電装置100は、図1に示すように、固定子1と可動子2とが対向するように所定の間隔を隔てて配置されている。なお、固定子1と可動子2とは、X方向に相対的に移動可能である。以下詳細に説明する。
図1に示すように、固定子1では、約300μm以上約1000μm以下の厚みを有する固定基板11の表面上に、約0.1μm以上約100μm以下の厚みを有するエレクトレット膜12が形成されている。エレクトレット膜12の表面上には、導電性の部材からなり、約50nm以上約1000nm以下の厚みを有する複数のガード電極13が形成されている。なお、ガード電極13は、本発明の「導電層」の一例である。また、エレクトレット膜12は、ポリテトラフルオロエチレン(PTFE)に代表されるフッ素系樹脂やシリコン酸化膜から構成されている。ここで、第1実施形態では、複数のガード電極13は、図2に示すように、それぞれ電気的に接続されており、櫛歯状となっている。そして、エレクトレット膜12には、コロナ放電により電荷が注入されている。なお、電荷は、エレクトレット膜12の全面に保持されるのではなく、エレクトレット膜12のガード電極13が形成されない領域(電荷保持部121)には、電荷が注入(保持)されており、ガード電極13が形成されている領域(非電荷保持部122)には、電荷が注入(保持)されない。なお、エレクトレット膜12には、複数の電荷保持部121と複数の非電荷保持部122とが形成されており、電荷保持部121と非電荷保持部122とは交互に配置されている。
ここで、第1実施形態では、エレクトレット膜12の電荷保持部121のX方向に沿った幅W1は、非電荷保持部122のX方向に沿った幅W2よりも大きく(W1>W2)なるように構成されている。たとえば、電荷保持部121は、約113.5μmの幅W1を有し、非電荷保持部122は、約86.5μmの幅W2を有する。
また、図1に示すように、可動子2では、約300μm以上約1000μm以下の厚みを有する可動基板21の表面上に、約50nm以上約1000nm以下の厚みを有する複数の対向電極22が形成されており、対向電極22とガード電極13とは、回路3を介して電気的に接続されている。なお、対向電極22は、本発明の「電極」の一例である。また、図3に示すように、複数の対向電極22は電気的に接続されており、櫛歯状となっている。
また、第1実施形態では、エレクトレット膜12の電荷保持部121のX方向に沿った幅W1は、対向電極22のX方向に沿った幅W3以上(W1≧W3)になるように構成されている。たとえば、電荷保持部121は、約113.5μmの幅W1を有し、対向電極22は、約100μmの幅W3を有する。また、第1実施形態では、非電荷保持部122のX方向に沿った幅W2は、対向電極22のX方向に沿った幅W3以下(W2≦W3)になるように構成されている。たとえば、非電荷保持部122は、約83.5μmの幅W2を有し、対向電極22は、約100μmの幅W3を有する。なお、対向電極22のX方向に沿った幅W3と、隣接する対向電極22の間隔W4とは、略等しくなるように構成されている。
(シミュレーション)
図4は、電荷保持部が発生する電界の強さについてのシミュレーションを説明するための図である。図5〜図10は、シミュレーションの結果を説明するための図である。図4〜図10を参照して、電荷保持部311の幅W5、非電荷保持部312の幅W6および対向電極33の幅W7と電位の差(発電量)との関係について行ったシミュレーションについて説明する。なお、このシミュレーションでは、電荷保持部311の幅W5と、非電荷保持部312の幅W6との合計が200μmになるように設定し、電荷保持部311の幅W5と、非電荷保持部312の幅W6との比を、幅W5と幅W6との比が同じ従来に対応する比較例の場合と、幅W5が幅W6よりも大きい第1実施形態に対応する実施例の場合とに変化させてシミュレーションを行った。また、対向電極33の幅W7についても、幅の大きさを変化させてシミュレーションを行った。
図4は、電荷保持部が発生する電界の強さについてのシミュレーションを説明するための図である。図5〜図10は、シミュレーションの結果を説明するための図である。図4〜図10を参照して、電荷保持部311の幅W5、非電荷保持部312の幅W6および対向電極33の幅W7と電位の差(発電量)との関係について行ったシミュレーションについて説明する。なお、このシミュレーションでは、電荷保持部311の幅W5と、非電荷保持部312の幅W6との合計が200μmになるように設定し、電荷保持部311の幅W5と、非電荷保持部312の幅W6との比を、幅W5と幅W6との比が同じ従来に対応する比較例の場合と、幅W5が幅W6よりも大きい第1実施形態に対応する実施例の場合とに変化させてシミュレーションを行った。また、対向電極33の幅W7についても、幅の大きさを変化させてシミュレーションを行った。
このシミュレーションでは、図4に示すように、エレクトレット膜31の表面上に、1μmの厚みを有する複数のガード電極32が、W5の間隔を隔てて配置されていると仮定する。なお、ガード電極32は、W6の幅を有する。そして、エレクトレット膜31のガード電極32が形成されない領域(電荷保持部311)には、電荷が蓄積されており、300Vの電位を有する。また、エレクトレット膜31のガード電極32が形成されている領域(非電荷保持部312)には、電荷が保持されていない。また、ガード電極32は、0Vの電位に設定されている。また、ガード電極32と距離Dを隔てて対向するように、W7の幅を有する対向電極33が設けられている。なお、距離Dは、10μmに設定されている。
まず、図5に示すように、電荷保持部311に蓄積されている電荷によって形成される、対向電極33が設けられている距離Dにおける電位をシミュレーションにより求めた。なお、横軸xは、エレクトレット膜31の左端を0μmとしたときの座標を示している。また、電荷保持部311の幅W5と、非電荷保持部312の幅W6との比を、100:100(実線)または102:98(点線)としたときの電位をシミュレーションにより求めた。つまり、電荷保持部311の幅W5および非電荷保持部312の幅W6が、100μmおよび100μm(比較例)と、102μmおよび98μm(実施例)との場合について、電位をシミュレーションにより求めた。エレクトレット膜31に蓄積される電荷による電位は、エレクトレット膜31の電荷保持部311の表面上(たとえば、x=1μm以上100μm以下、201μm以上300μm以下など)では大きくなり、非電荷保持部312(ガード電極32)の表面上(たとえば、x=101μm以上200μm以下、301μm以上400μm以下など)では、小さくなっていることが判明した。また、電荷保持部311の幅W5と、非電荷保持部312の幅W6との比が100:100(実線)および102:98(点線)の両方において、電位は、同様の傾向であることが判明した。
次に、座標xの100μmの幅ごとの電位の和(たとえば、図5に示す斜線部分は、x=201μm以上300μm以下の電位の和)を求めた。なお、電荷保持部311の幅W5と、非電荷保持部312の幅W6との比が、100:100の場合と、102:98の場合とについて、電位の和を求めた。図6に示すように、エレクトレット膜31の電荷保持部311の表面上(たとえば、x=1μm以上100μm以下、201μm以上300μm以下など)では電位の和は大きくなり、非電荷保持部312(ガード電極32)の表面上(たとえば、x=101μm以上200μm以下、301μm以上400μm以下など)では、電位の和は小さくなっていることが判明した。また、電荷保持部311の幅W5と、非電荷保持部312の幅W6との比が100:100の場合(比較例)と、102:98(実施例)の場合とでは、比が102:98の場合の方が電位の和が大きくなることが判明した。
次に、電荷保持部311の表面上の電位の和と、非電荷保持部312の表面上の電位の和との差を求めた。なお、図7では、図6に示すx=101μm以上200μm以下の電位の和をBとし、x=201μm以上300μm以下の電位の和をCとして、x=101μm以上200μm以下の電位の和Bと、x=201μm以上300μm以下の電位の和Cとの差の絶対値を、|B−C|として表している。x=201μm以上300μm以下の電位の和Cと、x=301μm以上400μm以下の電位の和Dとの差の絶対値についても同様に、|C−D|として表している。なお、電位の差は、電荷保持部311の幅W5と、非電荷保持部312の幅W6との比が、100:100(比較例)の場合と、102:98(実施例)の場合とで、それぞれ求めた。図7に示すように、x=1μm以上900μm以下のすべての領域において、電荷保持部311の幅W5と、非電荷保持部312の幅W6との比が、100:100の場合よりも、102:98の場合の方が電位の差が大きいことが判明した。つまり、静電誘導型発電装置100の発電量は、電荷保持部311の表面上の電位差と非電荷保持部312の表面上の電位差に比例するので、電荷保持部311の幅W5を、非電荷保持部312の幅W6よりも大きくすることによって、発電量が大きくなることが確認された。
次に、対向電極33の幅W7を変化させたときの、x=401μm以上500μm以下の電位の和と、x=501μm以上600μm以下の電位の和との差の絶対値(図7に示す|D−E|)を求めた。なお、電荷保持部311の幅W5と、非電荷保持部312の幅W6との比は、100:100の場合と、102:98の場合との両方において、電位の差の絶対値を求めた。図8に示すように、対向電極33の幅W7を変化させたときの全ての場合において、電荷保持部311の幅W5と、非電荷保持部312の幅W6との比が102:98(実施例)の場合の方が、100:100(比較例)の場合よりも電位の差が大きくなっていることが判明した。
また、対向電極33の幅W7を、電荷保持部311の幅W5よりも大きく(W5>W7)するほど、電位の差が小さくなることが判明した。これにより、対向電極33の幅W7を電荷保持部311の幅W5以下(ただし、98μm以上)にすることが好ましいことが確認された。
また、対向電極33の幅W7を、非電荷保持部312の幅W6よりも小さく(W5<W6)するほど、電位の差が小さくなることが判明した。これにより、対向電極22の幅W7は、非電荷保持部312の幅W6以上(ただし、102μm以下)にすることが好ましいことが確認された。
次に、対向電極33の幅W7の各点における、電荷保持部311の幅W5と、非電荷保持部312の幅W6との比が、100:100の場合の電位差と、102:98の場合の電位差との差(図8に示す差S)を求めた。図9に示すように、電荷保持部311の幅W5と、非電荷保持部312の幅W6との比が100:100の近傍で電位差は大きくなり、電荷保持部311の幅W5が大きくなる(または小さくなる)に従って、電位差が小さくなることが判明した。なお、電位差の変化は、対向電極33の幅W7が100μmの場合を中心として、正規分布のように変化することが判明した。
次に、非電荷保持部312と、対向電極33との距離Dを、130μmにした場合の、x=301μm以上400μm以下の電位の和と、x=401μm以上500μm以下の電位の和との差の絶対値(図7に示す|D−E|と同様)を求めた。また、電荷保持部311の幅W5と、非電荷保持部312の幅W6との比を、100:100(比較例)、102:98、104:96、106:94、108:92、110:90および114:86の場合について、電位差を求めた。図10に示すように、対向電極33の幅W7を変化させたすべての場合において、電荷保持部311の幅W5と、非電荷保持部312の幅W6との比が100:100、102:98、104:96、106:94、108:92、110:90および114:86の順に電位差が大きくなることが確認された。
第1実施形態では、上記のように、X方向に沿った電荷保持部121の幅W1を、X方向に沿った非電荷保持部122の幅W2よりも大きくすることによって、上記シミュレーションの結果から、電荷保持部121の幅W1と非電荷保持部122の幅W2とを等しくする場合と異なり、静電誘導型発電装置100の発電量が大きくなることが確認された。これにより、静電誘導型発電装置100の動作を最適に行うことができる。
また、第1実施形態では、上記のように、エレクトレット膜12の表面上に、ガード電極13が形成され、電荷保持部121をエレクトレット膜12の表面上のガード電極13が形成されない領域とするとともに、非電荷保持部122をエレクトレット膜12の表面上のガード電極13が形成される領域とする。これにより、エレクトレット膜12の表面上から電荷を注入した場合、ガード電極13によってエレクトレット膜12のガード電極13が形成される領域には電荷が保持されないので、エレクトレット膜12の表面上に、電荷保持部121と非電荷保持部122とを、容易に形成することができる。
また、第1実施形態では、上記のように、X方向に沿った電荷保持部121の幅W1を、X方向に沿った対向電極22の幅W3以上とすることによって、上記シミュレーションの結果から、電荷保持部121の幅W1を対向電極22の幅W3よりも小さくする場合と異なり、静電誘導型発電装置100の発電量が大きくなることが確認された。
また、第1実施形態では、上記のように、X方向に沿った非電荷保持部122の幅W2を、X方向に沿った対向電極22の幅W3以下とすることによって、上記シミュレーションの結果から、非電荷保持部122の幅W2を対向電極22の幅W3よりも大きくする場合と異なり、静電誘導型発電装置100の発電量が大きくなることが確認された。
また、第1実施形態では、上記のように、ガード電極13は、複数設けられ、複数のガード電極13を電気的に接続することによって、対向電極22とガード電極13とを回路3を介して電気的に接続する場合に、複数のガード電極13の各々に対して対向電極22と電気的に接続する必要がなくなるので、回路構成を簡略化することができる。
(第2実施形態)
図11は、本発明の第2実施形態による静電誘導型発電装置101の断面図である。図12は、図11の220−220線に沿った断面図である。この第2実施形態の静電誘導型発電装置101では、上記第1実施形態と異なり、2つの対向電極22および対向電極23が設けられている。
図11は、本発明の第2実施形態による静電誘導型発電装置101の断面図である。図12は、図11の220−220線に沿った断面図である。この第2実施形態の静電誘導型発電装置101では、上記第1実施形態と異なり、2つの対向電極22および対向電極23が設けられている。
この第2実施形態による静電誘導型発電装置101は、図11に示すように、固定子1と可動子2Aとが対向するように所定の間隔を隔てて配置されている。なお、固定子1の構造は、上記第1実施形態と同様である。
第2実施形態の可動子2Aでは、図11に示すように、可動基板21の表面上に複数の対向電極22と複数の対向電極23とが形成されており、対向電極22と対向電極23とは、回路3を介して電気的に接続されている。また、図12に示すように、複数の対向電極22および複数の対向電極23は、それぞれ、電気的に接続されており、櫛歯状となっている。また、複数の対向電極22と複数の対向電極23とは、ぞれぞれ、交互に配置されている。このように、対向電極22と対向電極23とを設けることにより、対向電極が1つの場合と異なり、2つの対向電極によって発電を行うことができるので、静電誘導型発電装置101の発電量を大きくすることが可能となる。なお、X方向に沿った対向電極22の幅W8および対向電極23の幅W9は、エレクトレット膜12の電荷保持部121の幅W1よりも小さいとともに、ガード電極13の幅W2と略同じである。また、第2実施形態のその他の構成は、上記第1実施形態と同様である。
また、第2実施形態の効果は、上記第1実施形態と同様である。
(第3実施形態)
図13は、本発明の第3実施形態による固定子1Aの断面図である。この第3実施形態の固定子1Aでは、上記第1および第2実施形態と異なり、エレクトレット膜12Aに凸部121Aが設けられている。
図13は、本発明の第3実施形態による固定子1Aの断面図である。この第3実施形態の固定子1Aでは、上記第1および第2実施形態と異なり、エレクトレット膜12Aに凸部121Aが設けられている。
この第3実施形態による固定子1Aは、図13に示すように、約300μm以上約1000μm以下の厚みを有する固定基板11の表面上に、約0.1μm以上約100μm以下の厚みを有するエレクトレット膜12Aが形成されている。また、エレクトレット膜12Aの表面上には、約1nm以上約500μm以下の厚みを有する凸部121Aが設けられており、凸部121Aの表面上には、約50nm以上約1000nm以下の厚みを有するガード電極13が形成されている。なお、凸部121Aの形状は、平面的に見て、電気的に接続される複数のガード電極13と同じ櫛歯状に形成されている。そして、電荷は、エレクトレット膜12Aの凸部121Aが形成されないエレクトレット膜12Aの電荷保持部122Aに蓄積されている。また、エレクトレット膜12Aの凸部121A(非電荷保持部123A)には、電荷は蓄積されない。そして、エレクトレット膜12Aの表面上に凸部121Aを設けることにより、電荷保持部122Aから、ガード電極13に向かって電荷が流出するのを抑制することが可能となる。ここで、第3実施形態では、電荷保持部122AのX方向に沿った幅W10は、非電荷保持部123Aの幅W11よりも大きくなるように構成されている。なお、第3実施形態のその他の構成は、上記第1または第2実施形態と同様である。
また、第3実施形態の効果は、上記第1または第2実施形態と同様である。
(第4実施形態)
図14は、本発明の第4実施形態による固定子1Bの断面図である。この第4実施形態の固定子1Bでは、上記第1および第2実施形態と異なり、エレクトレット膜12とガード電極13との間に絶縁膜14が設けられている。
図14は、本発明の第4実施形態による固定子1Bの断面図である。この第4実施形態の固定子1Bでは、上記第1および第2実施形態と異なり、エレクトレット膜12とガード電極13との間に絶縁膜14が設けられている。
この第4実施形態による固定子1Bでは、図14に示すように、約300μm以上約1000μm以下の厚みを有する固定基板11の表面上には、約0.1μm以上約100μm以下の厚みを有するエレクトレット膜12が形成されている。また、エレクトレット膜12の表面上には、約1nm以上約500μm以下の厚みを有する絶縁膜14が形成されており、絶縁膜14の表面上には、約50nm以上約1000nm以下の厚みを有するガード電極13が形成されている。なお、絶縁膜14は、シリコン酸化膜(プラズマCVD、HDP)、SiOCまたはSiNから構成されている。また、絶縁膜14の形状は、平面的に見て、電気的に接続される複数のガード電極13と同じ櫛歯状に形成されている。そして、電荷は、絶縁膜14が形成されないエレクトレット膜12の電荷保持部121に蓄積されている。また、エレクトレット膜12の絶縁膜14が形成される非電荷保持部122には、電荷は蓄積されない。そして、エレクトレット膜12の表面上に絶縁膜14を形成することにより、電荷保持部121から、ガード電極13に向かって電荷が流出するのを抑制することが可能となる。ここで、第4実施形態では、電荷保持部121のX方向に沿った幅W12は、非電荷保持部122の幅W13よりも大きくなるように構成されている。なお、第4実施形態のその他の構成は、上記第1または第2実施形態と同様である。
また、第4実施形態の効果は、上記第1または第2実施形態と同様である。
なお、今回開示された実施形態は、すべての点で例示であって制限的なものではないと考えられるべきである。本発明の範囲は、上記した実施形態の説明ではなく特許請求の範囲によって示され、さらに特許請求の範囲と均等の意味および範囲内でのすべての変更が含まれる。
たとえば、上記第1〜第4実施形態では、電荷保持部の幅を約113.5μmにするとともに、非電荷保持部の幅を約86.5μmにする例を示したが、本発明はこれに限らず、電荷保持部の幅が非電荷保持部の幅よりも大きくなっていればよい。
また、上記第1〜第4実施形態では、非電荷保持部の幅を約86.5μmにするとともに、対向電極の幅を約100μmにする例を示したが、本発明はこれに限らず、非電荷保持部の幅が対向電極の幅以下であればよい。
また、上記第1〜第4実施形態では、櫛歯状に接続される複数の対向電極およびガード電極を用いる例を示したが、本発明はこれに限らず、複数の短冊状の対向電極およびガード電極を用いてもよい。
また、上記第1〜第4実施形態では、エレクトレット膜に電荷保持部と非電荷保持部とを設ける例を示したが、本発明はこれに限らず、複数の短冊状のエレクトレット膜を電荷保持部とするとともに、隣接する短冊状のエレクトレット膜の間を非電荷保持部としてもよい。
また、上記第1〜第4実施形態では、静電動作装置として静電誘導型発電装置に本発明を適用する例を示したが、本発明はこれに限らず、静電動作装置として静電アクチュエータなどに本発明を適用してもよい。
また、上記第1〜第4実施形態では、対向電極およびガード電極の長辺方向が移動方向に対して直線で、垂直に交わる例を示したが、本発明はこれに限らず、対向電極およびガード電極の長辺方向が移動方向に対して曲がっていたり、曲線であったり、斜めであったりしてもよい。
12、12A、31 エレクトレット膜
13、32 ガード電極(導電層)
22、23、33 対向電極(電極)
121、122A、311 電荷保持部
122、123A、312 非電荷保持部
13、32 ガード電極(導電層)
22、23、33 対向電極(電極)
121、122A、311 電荷保持部
122、123A、312 非電荷保持部
Claims (5)
- 電極と、
前記電極に対して相対的に移動可能な状態で対向配置されたエレクトレット膜とを備え、
前記エレクトレット膜は、電荷保持部と前記電荷保持部に隣接する非電荷保持部とを有し、
前記電極または前記エレクトレット膜の移動方向に沿った前記電荷保持部の幅は、前記移動方向に沿った前記非電荷保持部の幅よりも大きい、静電動作装置。 - 前記エレクトレット膜の表面上には、導電層が形成され、
前記電荷保持部は、前記エレクトレット膜の表面上の前記導電層が形成されない領域を含み、前記非電荷保持部は、前記エレクトレット膜の表面上の前記導電層が形成される領域を含む、請求項1に記載の静電動作装置。 - 前記移動方向に沿った前記電荷保持部の幅は、前記移動方向に沿った前記電極の幅以上である、請求項1または2に記載の静電動作装置。
- 前記移動方向に沿った前記非電荷保持部の幅は、前記移動方向に沿った前記電極の幅以下である、請求項1〜3のいずれか1項に記載の静電動作装置。
- 前記導電層は、複数設けられ、
前記複数の導電層は電気的に接続されている、請求項2〜4のいずれか1項に記載の静電動作装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2008117244A JP2009268309A (ja) | 2008-04-28 | 2008-04-28 | 静電動作装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2008117244A JP2009268309A (ja) | 2008-04-28 | 2008-04-28 | 静電動作装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2009268309A true JP2009268309A (ja) | 2009-11-12 |
Family
ID=41393428
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2008117244A Pending JP2009268309A (ja) | 2008-04-28 | 2008-04-28 | 静電動作装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2009268309A (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2012110178A (ja) * | 2010-11-19 | 2012-06-07 | Seiko Epson Corp | 発電装置及び電子機器 |
| US8716916B2 (en) | 2011-06-10 | 2014-05-06 | Panasonic Corporation | Vibration generator, vibration generation device, and electronic equipment and communication device provided with vibration generation device |
| JP2015126556A (ja) * | 2013-12-25 | 2015-07-06 | 株式会社リコー | 静電電動機 |
| WO2017057317A1 (ja) * | 2015-10-02 | 2017-04-06 | 国立大学法人 東京大学 | 振動発電素子 |
| CN114759826A (zh) * | 2021-01-08 | 2022-07-15 | 荆门市探梦科技有限公司 | 一种换能组件以及一种库伦循环发电机 |
-
2008
- 2008-04-28 JP JP2008117244A patent/JP2009268309A/ja active Pending
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2012110178A (ja) * | 2010-11-19 | 2012-06-07 | Seiko Epson Corp | 発電装置及び電子機器 |
| US8716916B2 (en) | 2011-06-10 | 2014-05-06 | Panasonic Corporation | Vibration generator, vibration generation device, and electronic equipment and communication device provided with vibration generation device |
| JP2015126556A (ja) * | 2013-12-25 | 2015-07-06 | 株式会社リコー | 静電電動機 |
| WO2017057317A1 (ja) * | 2015-10-02 | 2017-04-06 | 国立大学法人 東京大学 | 振動発電素子 |
| US10840827B2 (en) | 2015-10-02 | 2020-11-17 | The University Of Tokyo | Vibration energy harvester |
| CN114759826A (zh) * | 2021-01-08 | 2022-07-15 | 荆门市探梦科技有限公司 | 一种换能组件以及一种库伦循环发电机 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP5028185B2 (ja) | 静電発電装置 | |
| JP5081832B2 (ja) | 静電動作装置 | |
| JP5033561B2 (ja) | 静電発電装置 | |
| JP5216590B2 (ja) | 静電動作装置 | |
| JP5205193B2 (ja) | 静電誘導型発電装置 | |
| JP2009268309A (ja) | 静電動作装置 | |
| JP2013105327A (ja) | タッチパネル | |
| JP4390796B2 (ja) | エレクトレット素子および静電動作装置 | |
| JP2019201263A (ja) | Memsマイクロフォン | |
| JP2009044949A (ja) | 動作装置 | |
| JP5172198B2 (ja) | エレクトレット素子および静電動作装置 | |
| JP7181653B2 (ja) | プラズマアクチュエータ | |
| JP2009240058A (ja) | 動作装置 | |
| CN107037903A (zh) | 寻址式感测元件及其制造方法 | |
| JP7285193B2 (ja) | プラズマアクチュエータ | |
| JP2009089476A (ja) | 静電動作装置 | |
| JP5521159B2 (ja) | エレクトレット、静電誘導型変換素子及びエレクトレットの荷電方法 | |
| WO2019216237A1 (ja) | 振動発電装置 | |
| US20140111061A1 (en) | Vibration power generator | |
| CN101606096B (zh) | 带有帕邢堆叠的充电防护装置 | |
| US20140070664A1 (en) | Vibration power generator | |
| TW202130109A (zh) | 靜電致動器 | |
| JP6031886B2 (ja) | 静電アクチュエータの制御方法 | |
| WO2022130744A1 (ja) | 発電素子、及び、発電装置 | |
| JP2021125985A (ja) | 発電装置、及び、整流回路 |