JP2010010683A - 情報保存装置及びその動作方法 - Google Patents

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Abstract

【課題】情報保存装置及びその動作方法を提供する。
【解決手段】複数の磁区領域及びそれらの間に磁区壁領域を有する磁性層と、複数の磁区領域のうち一つである第1領域に設けられ、第1領域に情報を記録するための第1ユニットと、第1ユニットに連結されたものであって、第1領域に情報を記録するための磁場を誘導する第2ユニットと、を備える情報保存装置である。
【選択図】図1

Description

本発明は、情報保存装置に係り、特に磁区壁の移動を利用した情報保存装置及びその動作方法に関する。
電源が遮断されても記録された情報が保持される不揮発性の情報保存装置は、HDD(Hard Disk Drive)及び不揮発性RAM(Random Access Memory)などがある。
一般的に、HDDは、回転する部分を有する保存装置であって磨耗される傾向があり、動作時にフェイル(failure)が発生する可能性が大きいために信頼性が低下する。
一方、不揮発性RAMの代表的な例としてフラッシュメモリが挙げられる。フラッシュメモリは、回転する機械装置を使用しないが、読み取り/書き込み動作速度が遅く、寿命が短く、HDDに比べて相対的に非常に小さい保存容量を有する。また、フラッシュメモリの生産コストは相対的に高い。
これにより、最近には、従来の不揮発性の情報保存装置の問題点を克服するための方案として、磁性物質の磁区壁移動原理を利用する新たな情報保存装置に関する研究及び開発がなされている。強磁性体を構成する磁気的な微小領域を磁気区域(以下、磁区という)とし、相異なる磁化方向を有する磁区の境界部分を磁区壁という。かかる磁区及び磁区壁は、磁性層に印加される電流により移動する。
しかし、磁区壁の移動を利用した情報保存装置は、まだ開発初期段階にあり、その実用化のためには、幾つかの問題点が解決されねばならない。特に、磁区壁の移動を利用した情報保存装置の実用化のためには、情報を記録する方法の改善が要求される。
米国特許第7236386号明細書 米国特許第6834005号明細書 大韓民国特許第10−695171号明細書 大韓民国特許第10−785026号明細書 米国特許出願公開第2004/252538号明細書 米国特許出願公開第2006/221677号明細書
本発明の目的は、情報の記録が容易な情報保存装置及びその動作方法を提供することである。
前記目的を達成するために、本発明の一実施形態は、複数の磁区領域及びそれらの間に磁区壁領域を有する磁性層と、前記複数の磁区領域のうちの一つである第1領域に設けられ、前記第1領域に情報を記録するための第1ユニットと、前記第1ユニットに連結されたものであって、前記第1領域に情報を記録するための磁場を誘導する第2ユニットと、を備える情報保存装置を提供する。
前記第2ユニットを通じて前記第1ユニットに電流が印加され、前記第2ユニットを通過する電流により前記磁場が発生する。
前記第1ユニットは、スピン転移トルクを利用して情報を記録する装置でありうる。
前記第1ユニットは、前記第1領域の下面及び上面のうち一つに設けられた第1固定層と、前記第1固定層と前記第1領域との間に介在する第1分離層と、を備える。
この場合、前記第1ユニットは、前記第1領域の下面及び上面のうち他の一つに設けられ、前記第1固定層と逆の磁化方向を有する第2固定層と、前記第2固定層と前記第1領域との間に介在する第2分離層と、をさらに備える。
または、前記第1ユニットは、前記第1領域の下面及び上面のうち他の一つに設けられた電極層と、前記電極層と前記第1領域との間に介在し、前記磁性層より電気抵抗が高い抵抗性層と、をさらに備える。
前記第2ユニットは、前記第1ユニットに連結された少なくとも一つの導線を備える。
前記第1ユニットは、前記第1領域の下面及び上面にそれぞれ設けられた下部ユニットと上部ユニットとを備え、前記下部ユニット及び前記上部ユニットのうちいずれか一つは第1導線に連結され、他の一つは第2導線に連結され、前記第1及び第2導線のうち少なくとも一つは、前記第2ユニットに設けられる。
前記第1導線は、前記第1ユニットから延びた第1部分を備え、前記第1導線の前記第1部分は、前記磁性層と平行した第1平面に設けられる。
前記第2導線は、前記第1ユニットから延びた第1部分を備え、前記第2導線の前記第1部分は、前記磁性層と平行した第2平面に設けられる。
前記第1導線の前記第1部分と前記第2導線の前記第1部分とは、同じ方向に延びる。
前記第1導線は、前記第1導線の前記第1部分から延びたものであって、前記第1平面上で前記第1ユニットの少なくとも一部を取り囲むように形成された第2部分をさらに備える。
前記第2導線は、前記第2導線の前記第1部分から延びたものであって、前記第2平面上で前記第1ユニットの少なくとも一部を取り囲むように形成された第2部分をさらに備える。
前記第1導線の前記第2部分が延びる方向と前記第2導線の前記第2部分が延びる方向とは、互いに逆でありうる。
本実施形態による情報保存装置は、前記磁性層と平行した第1配線と、前記第1配線と交差する第2及び第3配線と、前記第1配線と前記第2配線との交差点に設けられたスイッチング素子と、を備え、前記スイッチング素子及び前記第3配線は、それぞれ前記第1導線及び前記第2導線に連結される。
前記第2配線は、前記第1ユニットの上側を過ぎるように儲けられ、前記第3配線は、前記第2配線と所定間隔ほど離隔して設けられる。
前記第2及び第3配線は、前記第1ユニットの一側に前記第1ユニットと所定間隔ほど離隔して設けられる。
前記磁性層の一端及び他端とそれぞれ連結された第4及び第5配線をさらに備える。
前記磁性層の一端と前記第4配線との間及び前記磁性層の他端と前記第5配線との間のうち少なくとも一つに設けられた他のスイッチング素子をさらに備える。
前記他のスイッチング素子に連結され、前記第4及び第5配線と交差する第6配線をさらに備える。
前記第1及び第6配線はワードラインであり、前記第2ないし第5配線はビットラインでありうる。
前記第1ユニットは、情報再生機能を有する装置でありうる。
前記第1ユニットは、前記磁性層の中央部に設けられる。
前記磁性層、前記第1ユニット、前記第1導線及び前記第2導線は、一つの単位メモリ領域に設けられ、本実施形態による情報保存装置は、前記単位メモリ領域と等価の複数の単位メモリ領域を備える。
本発明の他の実施形態は、前述した情報保存装置の動作方法を提供する。前記動作方法は、前記第2ユニットを通じて前記第1ユニットに書き込み電流を印加して、前記第1領域に情報を記録するステップを含む。
本実施形態の動作方法は、前記磁性層の一端と他端との間に電流を印加して、前記磁性層内で磁区及び磁区壁をビット単位ほど移動させるステップをさらに含む。
また、本実施形態の動作方法は、前記磁性層に記録された情報を再生するステップをさらに含む。
前記情報の再生のために、前記磁性層の両端のうち一つと前記第1ユニットとの間に読み取り電流を印加できる。
本発明の実施形態による情報保存装置を示す斜視図である。 本発明の実施形態による情報保存装置を示す斜視図である。 本発明の実施形態による情報保存装置を示す斜視図である。 本発明の実施形態による情報保存装置を利用した書き込み動作を説明するための断面図である。 本発明の実施形態による情報保存装置を利用した書き込み動作を説明するための断面図である。 本発明の実施形態による情報保存装置に書き込み電流を印加した時に発生する磁場を説明するための斜視図である。 図5Aの磁性層に印加される磁場の強度を成分別に示す図面である。 本発明の実施形態による情報保存装置に書き込み電流を印加した時に発生する磁場を説明するための斜視図である。 図6Aの磁性層に印加される磁場の強度を成分別に示す図面である。 本発明の実施形態による情報保存装置に書き込み電流を印加した時に発生する磁場を説明するための斜視図である。 図7Aの磁性層に印加される磁場の強度を成分別に示す図面である。 本発明の他の実施形態による情報保存装置を示す斜視図である。 本発明の実施形態による情報保存装置及び比較例による情報保存装置の磁性層の磁化反転特性を示すグラフである。 本発明の実施形態による情報保存装置の単位メモリの構成を示す回路図である。 図10の情報保存装置の動作方法を説明するための回路図である。 図10の情報保存装置の動作方法を説明するための回路図である。 図10の情報保存装置の動作方法を説明するための回路図である。 本発明の実施形態による情報保存装置のレイアウト図である。 図14のI−I′線の断面図である。 本発明の他の実施形態による情報保存装置のレイアウト図である。 図16のII−II′線の断面図である。
以下、本発明の実施形態による情報保存装置及びその動作方法を、添付した図面を参照して詳細に説明する。この過程で図面に示した層や領域の厚さは、明細書の明確性のために多少誇張されて示したものである。詳細な説明の全体にわたって、同じ参照番号は同じ構成要素を表す。
図1は、本発明の一実施形態による情報保存装置を示す。
図1に示すように、所定の方向、例えばX軸方向に延びている磁性層100が存在する。磁性層100は、連続した複数の磁区領域Dを有する。隣接した二つの磁区領域Dの間には、磁区壁領域DWが設けられる。磁区領域Dに位置する磁区及び磁区壁領域DWに位置する磁区壁は、磁性層100に印加される電流により所定の方向に移動する。すなわち、磁性層100は、磁区壁移動特性を有する。かかる磁性層100は、強磁性物質で形成された情報保存層でありうる。
磁性層100の磁区領域Dのうち一つである第1領域R1に、書き込みユニット200を備える。書き込みユニット200は、スピン転移トルクを利用して第1領域R1に情報を記録する装置でありうる。例えば、書き込みユニット200は、TMR(Tunnel Magneto Resistance)効果を利用した装置(以下、TMR装置)またはGMR(Giant Magneto Resistance)効果を利用する装置(以下、GMR装置)でありうる。さらに具体的に説明すれば、書き込みユニット200は、第1領域R1の下面及び上面のうち一つ、例えば下面に設けられた第1固定層40aを備え、第1固定層40aと第1領域R1との間に介在された第1分離層20aを備える。このように、第1領域R1の下面に設けられた第1分離層20aと第1固定層40aとは、書き込みユニット200の下部ユニットといえる。また、書き込みユニット200は、第1領域R1の下面及び上面のうち他の一つ、例えば上面に設けられた第2固定層40bをさらに備え、第2固定層40bと第1領域R1との間に介在された第2分離層20bをさらに備える。第1領域R1の上面に設けられた第2分離層20bと第2固定層40bとは、書き込みユニット200の上部ユニットといえる。第1分離層20aと第2分離層20bとは、絶縁層または導電層でありうる。第1分離層20aと第2分離層20bとが絶縁層である場合、書き込みユニット200はTMR装置であり、第1分離層20aと第2分離層20bとが導電層である場合、書き込みユニット200はGMR装置である。第1分離層20aと第2分離層20bとが導電層である場合、第1領域R1と第1分離層20aとの間及び第1領域R1と第2分離層20bとの間に、磁性層100より電気抵抗が高い抵抗性層(図示せず)がさらに設けられることが望ましい。前記抵抗性層は、磁性層100に磁区及び磁区壁の移動のための電流を印加したとき、前記電流の書き込みユニット200への漏れを防止する電気的バリヤーのような役割を行い、第1導線300aと第2導線300bとの間に電流を印加したときは、その流れをほとんど妨害しない。このために、前記抵抗性層は、適切な電気抵抗を有する物質で適当に薄い厚さに形成することが望ましい。例えば、前記抵抗性層の比抵抗は、磁性層100の比抵抗の500ないし10000倍、望ましくは、1000ないし3000倍でありうる。かかる比抵抗差のために、磁性層100は、NiFe,Co,CoNi,CoFe,CoCr,CoCu,NiCu,FePt,FePd,CoCrPt,CoFeTb,CoFeGd,CoTb及びCoFeNiのうちいずれか一つで形成し、前記抵抗性層は、非晶質のCoZrNb及びCoFeBのうちいずれか一つで形成するか、またはSi,Bなどの不純物を含んで高い比抵抗を有する磁性物質で形成することもできる。第1固定層40aと第2固定層40bとは、磁化方向が固定された強磁性層であり、それら40a,40bの磁化方向は互いに逆でありうる。図1の第1固定層40a、第2固定層40b及び第1領域R1に示した矢印は、それらのそれぞれが磁化方向を表す。図示した矢印の方向は、Z軸方向またはその逆方向である。すなわち、この矢印は、第1固定層40a、第2固定層40b及び第1領域R1が垂直磁気異方性を有する場合、それらの磁化方向の一例を表す。第1固定層40aと第2固定層40bとの磁化方向は互いに変わり、第1領域R1の磁化方向も図示したものの逆方向に変わりうる。第1領域R1は、特定の方向に磁化されていない状態であることもある。磁性層100、第1固定層40a及び第2固定層40bが水平磁気異方性を有する場合、第1領域R1、第1固定層40a及び第2固定層40bは、X軸(または、Y軸)と平行した磁化方向を有する。また、図1に示していないが、磁性層100から第1領域R1を除いた他の磁区領域Dも、第1領域R1と同じ方向またはその逆方向に磁化されうる。
書き込みユニット200の下面及び上面にそれぞれ第1導線300a及び第2導線300bが設けられる。換言すれば、書き込みユニット200の前記下部ユニットの下面に第1導線300aが設けられ、書き込みユニット200の前記上部ユニットの上面に第2導線300bが設けられる。第1導線300a及び第2導線300bを通じて、書き込みユニット200に所定の書き込み電流が印加される。第1導線300aは、書き込みユニット200の下面から所定の方向に延びた第1部分1aを備える。これと同様に、第2導線300bは、書き込みユニット200の上面から所定の方向に延びた第1部分1bを備える。第1導線300aの第1部分1a及び第2導線300bの第1部分1bは、書き込みユニット200と垂直した方向に延びる。換言すれば、第1導線300aの第1部分1a及び第2導線300bの第1部分1bは、磁性層100が形成された面と平行した相異なる平面(以下、第1XY面及び第2XY面)(図示せず)に設けられる。第1導線300aの第1部分1a及び第2導線300bの第1部分1bは、同じ方向に延びることが望ましい。本実施形態では、第1導線300aの第1部分1a及び第2導線300bの第1部分1bがY軸方向に延びているが、これは一例に過ぎず、それら1a,1bの延長方向は多様に変化する。すなわち、第1導線300aの第1部分1a及び第2導線300bの第1部分1bの延長方向は、それら1a,1bのそれぞれが設けられた前記第1XY面及び前記第2XY面内で任意に決定される。
図1に示していないが、第1固定層40aと第1導線300aとの間に、第1固定層40aの磁化方向を固定させるための少なくとも一つの層がさらに設けられ、これと同様に、第2固定層40bと第2導線300bとの間にも、第2固定層40bの磁化方向を固定させるための少なくとも一つの層がさらに設けられる。前記第1固定層40aまたは第2固定層40bの磁化方向を固定させるための少なくとも一つの層は、反強磁性層を備え、多様な構成を有するが、その構成については当業者ならば容易に分かるであろう。そして、当業者ならば、第1導線300aと書き込みユニット200との間及び第2導線300bと書き込みユニット200との間それぞれにコンタクト電極層がさらに設けられることが分かるであろう。
本発明の他の実施形態によれば、図1の装置において第1導線300a及び/または第2導線300bの形態は多様に変形する。その例が図2及び図3に示されている。
図2の斜視図及び部分平面図に示すように、第1導線300a′は、書き込みユニット200の下面から延びた第1部分1a、及び第1部分1aから延びた第2部分2aをさらに備える。第2部分2aは、第1部分1aが形成された面、すなわち前記第1XY面上で書き込みユニット200の少なくとも一部を取り囲む形態を有する。第2部分2aは、少なくとも一つの直線成分が連結された角のある形態を有する。本実施形態において、第2部分2aは、第1部分1aからX軸方向に延びた第1成分2aa、第1成分2aaからY軸の逆方向に延びた第2成分2ab、第2成分2abからX軸の逆方向に延びた第3成分2ac、及び第3成分2acからY軸方向に延びた第4成分2adを備える。しかし、本発明はこれに限定されない。例えば、第2部分2aで第4成分2ad、または第3成分2acと第4成分2ad、または第2成分2abないし第4成分2adは設けられず、第2部分2aの端部に他の導線成分がさらに設けられる。また、第2部分2aは、角のある形態ではない曲線形態であることもある。
図2の第2導線300bも、第1導線300a′と同様に変形させる。その例が図3に示されている。
図3に示すように、第2導線300b′は、書き込みユニット200の上面から延びた第1部分1b、及び第1部分1bから延びた第2部分2bをさらに備える。第2部分2bは、第1部分1bが形成された面、すなわち前記第2XY面上で書き込みユニット200の少なくとも一部を取り囲む形態を有する。第2導線300b′の第2部分2bが第1部分1bから延びる方向は、第1導線300a′の第2部分2aが第1部分1aから延びる方向と逆であることが望ましい。第2導線300b′の第2部分2bも、第1導線300a′の第2部分2aと同様に多様な変形構造を有し、第1導線300a′の第2部分2aの延長方向と第2導線300b′の第2部分2bの延長方向とは互いに変わりうる。また、図3において、第1導線300a′は、図1の第1導線300aのように変形する。そして、図1ないし図3において、第1導線300a,300a′及び第2導線300b,300b′は、第1領域R1に近接して形成されることが望ましい。
図1ないし図3の情報保存装置において、第1導線300a,300a′及び第2導線300b,300b′は、書き込み動作時に第1領域R1に所定の磁場を印加するように形成されている。前記磁場は、前記書き込み動作を助ける方向に第1領域R1に印加される。すなわち、第1導線300a,300a′及び第2導線300b,300b′は、それらを通過する電流により第1領域R1に情報を記録するための磁場を誘導できる。したがって、第1導線300a,300a′及び第2導線300b,300b′は、第1領域R1に情報の記録のための磁場を印加する手段の一例であって、情報の記録のための“第2ユニット”といえる。さらに詳細に説明すれば、第1導線300a,300a′及び第2導線300b,300b′を通じて書き込みユニット200に書き込み電流を印加して、第1領域R1に情報を記録する書き込み動作を行うとき、前記書き込み電流により第1導線300a,300a′及び第2導線300b,300b′で前記書き込み動作を助ける磁場が発生する。もちろん、前記書き込み電流により書き込みユニット200から第1領域R1にスピン転移トルクが印加される。換言すれば、本発明の実施形態では、書き込みユニット200のスピン転移トルク、及び第1導線300a,300a′及び第2導線300b,300b′で発生する磁場を利用して書き込み動作を行える。したがって、本発明の実施形態によれば、低い密度の電流でも書き込み動作を容易に行える。このように書き込み電流の密度を低くすれば、消費電力を低減できることはいうまでもなく、書き込みユニット200の信頼性を高めることができる。従来のように書き込み電流の密度が高い場合、書き込みユニット200の特性が劣化しやすく、また、第1及び第2分離層20a,20bが絶縁層である場合、それら20a,20bが絶縁破壊されることもある。
以下、本発明の実施形態による情報保存装置を利用した情報の記録方法をさらに詳細に説明する。
図4A及び図4Bは、本発明の実施形態による情報保存装置の書き込み方法を示す。図4A及び図4Bは、本発明の実施形態による情報保存装置の部分断面構造を示し、かかる断面構造は、図1ないし図3で同一でありうる。
図4Aに示すように、第1導線300aまたは300a′から第2導線300bまたは300b′に第1書き込み電流を印加して、第2導線300bまたは300b′から第1導線300aまたは300a′に電子が移動する場合、第2固定層40bの磁化方向と同じ磁化方向(以下、第1方向)M1を有する電子E1が第2導線300bまたは300b′から第1領域R1に移動する。かかる電子E1が第1領域R1を第1方向M1に磁化させる役割を行う。一方、第1固定層40aの部分では、第1固定層40aの磁化方向と同じ磁化方向(以下、第2方向)M2を有する電子は、第1固定層40aを通じて第1導線300aまたは300a′に抜け出すが、第1固定層40aの磁化方向と逆の磁化方向を有する電子E2は、第1固定層40aを通じて抜け出せずに第1領域R1に戻って溜まる。かかる電子E2が第1領域R1を第1方向M1に磁化させる役割を行う。
このように、第1固定層40a及び第2固定層40bから第1領域R1に印加されるスピン転移トルクにより、第1領域R1は第1方向M1に磁化される。前記第1書き込み電流の印加前に、第1領域R1が第2方向M2に磁化されたならば、前記第1書き込み電流により、第1領域R1の磁化方向は、第2方向M2から第1方向M1に反転される。
図4Bに示すように、第2導線300bまたは300b′から第1導線300aまたは300a′に第2書き込み電流を印加して、第1導線300aまたは300a′から第2導線300bまたは300b′に電子が移動する場合、第2方向M2に磁化された電子E3が第1導線300aまたは300a′から第1領域R1に移動する。かかる電子E3が第1領域R1を第2方向M2に磁化させる役割を行う。一方、第2固定層40bの部分では、第1方向M1に磁化された電子は、第2固定層40bを通じて第2導線300bまたは300b′に抜け出すが、第2方向M2に磁化された電子E4は、第2固定層40bを通じて抜け出せずに第1領域R1に戻って溜まる。かかる電子E4が第1領域R1を第2方向M2に磁化させる役割を行う。
前記第2書き込み電流の印加前に、第1領域R1が第1方向M1に磁化されたならば、前記第2書き込み電流により、第1領域R1の磁化方向は、第1方向M1から第2方向M2に反転される。
図4Aのステップと図4Bのステップとの間に、または図4Aのステップ転移や図4Bのステップ後、磁性層100に所定の電流を印加して、磁性層100内で磁区及び磁区壁を1ビット距離ほど所定の方向に移動させうる。磁性層100内で磁区及び磁区壁をビット単位で移動させつつ、図4Aまたは図4Bの方法で第1領域R1に位置する磁区を所望の方向に磁化させれば、磁性層100の一部または全体に所定の情報を記録できる。
このように、本発明の実施形態による情報保存装置では、磁性層100の下面及び上面に互いに逆方向に磁化された第1固定層40a及び第2固定層40bがあるため、それら40a,40bから誘導されるスピン転移トルクによる情報記録が行われる。したがって、一つの固定層を使用する場合に比べて、書き込み電流密度を低めることができ、書き込み動作を速く行える。
また、本発明の実施形態による情報保存装置では、前述したように、書き込み電流(前記第1及び第2書き込み電流)により、第1導線300aまたは300a′及び第2導線300bまたは300b′で書き込み動作に助けになる磁場が発生する。したがって、前記磁場により書き込み電流はさらに低くなり、書き込み動作速度はさらに速くなる。これについては、図5Aないし図7Bを参照してさらに詳細に説明する。
図5Aは、図1の第1導線300aから第2導線300bに書き込み電流を印加したとき、前記書き込み電流により、第1導線300aから誘発される第1磁場F1及び第2導線300bから誘発される第2磁場F2を表す。かかる第1及び第2磁場F1,F2の発生は、右ねじの法則による。図5Aに示していないが、書き込みユニット200を通過する書き込み電流によっても、書き込みユニット200の周囲に磁場が発生する。これは、図6A及び図7Aで同一である。
図5Bは、図5Aの磁性層100に印加された磁場の強度を成分別に示す。図5Bにおいて、(X),(Y)及び(Z)は、それぞれ磁場のX軸成分、Y軸成分及びZ軸成分を表す。これは、図6B及び図7Bでも同一である。
図5Bの(X)に示すように、第1領域R1の第1地点p1に約−47OeのX軸磁場が印加される。これは、第1地点p1にX軸の逆方向に比較的強い磁場が印加されるということを意味する。第1地点p1は、第1領域R1のY軸方向への一端の中央地点である。第1地点p1にX軸の逆方向に比較的強い磁場が印加される理由は、図5Aの第1及び第2導線300a,300bがY軸方向に延びており、それら300a,300bから発生した第1及び第2磁場F1,F2が第1地点p1でX軸の逆方向を有するためである。図5Bの(X)で第1地点p1の周囲の色及び明暗の変化から、第1地点p1を中心としてほとんどの第1領域R1にX軸の逆方向に磁場が印加されるということが分かる。かかるX軸成分の磁場は、図4Aのような書き込み動作で第1領域R1の磁化反転を助ける役割を行う。すなわち、図4Aの第1領域R1を第2方向M2からその逆方向である第1方向M1に反転させるとき、前記X軸成分の磁場が第1領域R1の磁化反転に非常に有利に作用できる。
図5Bの(Y)に示すように、第1領域R1の両側の二つの地点(以下、第2及び第3地点)p2,p3にそれぞれ約20Oe及び−20OeのY軸磁場が印加される。これは、図5Aの書き込みユニット200により、第2地点p2にY軸方向に磁場が印加され、第3地点p3にY軸方向の逆方向に磁場が印加されるためである。しかし、第1領域R1のほとんどには、Y軸成分の磁場が印加されない。したがって、第1領域R1の磁化反転にY軸成分の磁場は大きい影響を与えない。
図5Bの(Z)に示すように、磁性層100に印加されるZ軸成分の磁場は、0Oeである。これは、Z軸方向またはその逆方向に磁性層100に印加される有効な磁場成分がないということを意味する。
図6Aは、図2の第1導線300a′から第2導線300bに書き込み電流を印加したとき、前記書き込み電流により、第1導線300a′から誘発される第1磁場F1′及び第2導線300bから誘発される第2磁場F2を示す。第1磁場F1′は、第1部分1aから誘発される第1部分磁場F1aと、第2部分2aから誘発される第2部分磁場F2aa+F2ab+F2ac+F2adとに区分される。第1部分磁場F1aは、図5Aの第1磁場F1と等価でありうる。
図6Bは、図6Aの磁性層100に印加された磁場の強度を成分別に示す。
図6Bの(X)及び(Y)は、それぞれ図5Bの(X)及び(Y)と非常に類似している。しかし、図6Bの(Z)に示すように、図5Bの(Z)とは異なり、第1領域R1にZ軸方向に約6.6Oeの磁場が印加されるということが分かる。これは、主に図6Aの第2部分磁場F2aa+F2ab+F2ac+F2adによることでありうる。かかるZ軸成分の磁場は、図4Aのような書き込み動作で第1領域R1の磁化反転を助ける役割を行う。さらに詳細に説明すれば、図4Aの第1領域R1を第2方向M2からその逆方向である第1方向M1に反転させるとき、前記Z軸成分の磁場が第1領域R1に印加されることが前記磁化反転に非常に有利である。すなわち、前記Z軸成分の磁場は、図4Aの第1方向M1に印加されるため、それにより、第1領域R1は、第1方向M1にさらによく反転される。
図6Aの実施形態では、X軸及びZ軸成分の磁場が第1領域R1の磁化反転に寄与するので、Z軸成分の磁場が第1領域R1に印加されていない図5Aの場合より第1領域R1の磁化反転が容易である。
図7Aは、図3の第1導線300a′から第2導線300b′に書き込み電流を印加したとき、前記書き込み電流により第1導線300a′から第1磁場(図示せず)が誘発され、第2導線300b′から第2磁場F2′が誘発される。前記第1磁場は、図6Aの第1磁場F1′と同一でありうる。第2磁場F2′は、第1部分1bから誘発される第1部分磁場F1bと、第2部分2bから誘発される第2部分磁場F2ba+F2bb+F2bc+F2bdとに区分される。
図7Bは、図7Aの磁性層100に印加された磁場の強度を成分別に示す。
図7Bの(X)及び(Y)は、それぞれ図5Bの(X)及び(Y)と類似している。一方、図7Bの(Z)に示すように、第1領域R1にZ軸方向に約13Oeの磁場が印加されるということが分かる。これは、図6BのZ軸成分の磁場の強度の約2倍である。かかるZ軸成分の磁場は、主に図7Aの第1導線300aの第2部分2aで発生する磁場(図6AのF2aa+F2ab+F2ac+F2adと同一)、及び第2導線300bの第2部分2bで発生する第2部分磁場F2ba+F2bb+F2bc+F2bdによるものでありうる。このように、図7BのZ軸成分の磁場は、図6BのZ軸成分の磁場より強いため、図7Aで第1領域R1の磁化反転はさらに容易である。
図5Aないし図7Bでは、第1導線300a,300a′から第2導線300b,300b′に書き込み電流を印加して、第1領域R1をZ軸方向に磁化させる場合について示したが、第2導線300b,300b′から第1導線300a,300a′に書き込み電流を印加して、第1領域R1をZ軸の逆方向に磁化させる場合についても、前述した磁場の効果は同様である。すなわち、図5A、図6A及び図7Aの第2導線300b,300b′から第1導線300a,300a′に書き込み電流を印加する場合、図5A、図6A及び図7Aの第1領域R1にX軸方向の磁場が印加され、図6A及び図7Aの第1領域R1にZ軸方向と逆方向の磁場が印加される。かかる磁場により、第1領域R1をZ軸の逆方向に磁化させる書き込み動作が容易になる。
また、図5Aないし図7Bでは、第1導線300a,300a′及び第2導線300b,300b′いずれもから前記書き込み動作に助けになる磁場が発生するが、本発明の他の実施形態によれば、第1導線300a,300a′及び第2導線300b,300b′のうちいずれか一つは、前記書き込み動作に実質的に助けになる磁場を発生しない構造に変形されることもある。すなわち、本発明の効果のために、必ずしも第1導線300a,300a′及び第2導線300b,300b′いずれもから発生する磁場が必要なものではない。換言すれば、第1導線300a,300a′及び第2導線300b,300b′のうちいずれか一つから発生する磁場のみでも本発明の効果が得られる。
図1ないし図3の情報保存装置は、磁性層100の第1領域R1の下面及び上面にそれぞれ第1固定層40a及び第2固定層40bを有するが、本発明の他の実施形態では、固定層を一つのみ使用してもよい。その一例が図8に示されている。
図8に示すように、第1領域R1上に抵抗性層30及び電極層50が順次に設けられており、電極層50上に第2導線300bが設けられる。抵抗性層30は、磁性層100より電気抵抗が高い層であって、磁区壁の移動のための電流を磁性層100に流すとき、前記電流の電極層50側への漏れを防止する電気的バリヤーのように作用できる。しかし、第1導線300aから第2導線300bに、またはその逆方向に書き込み電流を印加する場合、抵抗性層30は、前記書き込み電流の流れを妨害しない。抵抗性層30の物性及び具体的な物質構成は、図1で説明した抵抗性層のものと同一である。場合によっては、電極層50なしに抵抗性層30上に第2導線300bが直接形成されることもある。第1領域R1の下部の構造は、図1のものと同一である。すなわち、第1領域R1の下面に第1分離層20a、第1固定層40a及び第1導線300aが順次に設けられる。第1分離層20aが導電層である場合、第1領域R1と第1分離層20aとの間に他の抵抗性層(図示せず)を備えることが望ましい。前記他の抵抗性層は、前述した抵抗性層30と類似した役割を行える。図示していないが、図8の第1導線300a及び/または第2導線300bが図3の第1導線300a′及び/または第2導線300b′のように変形する。
図9は、本発明の実施形態による情報保存装置及び比較例による情報保存装置の磁性層の磁化反転特性を示すグラフである。図9において、第1グラフG1は、図1の構造を有する情報保存装置を利用した第1領域R1の磁化反転特性を示し、第2グラフG2は、図1で第1及び第2導線300a,300bが除去された構造で第1固定層40aと第2固定層40bとの間に書き込み電流を印加した場合、第1領域R1の磁化反転特性を示す。すなわち、第2グラフG2の結果は、図1の第1及び第2導線300a,300bから誘発される磁場が影響を除去した場合に対応する。図9の結果を得るのに使用した磁性層100のダンピング定数は約0.1、磁気異方性エネルギー密度は約10erg/cc、飽和磁化量Msは約200emu/cc、交換定数は約10erg/cmであった。そして、磁化反転のために使われた書き込み電流の密度は、約3.8×10A/cmであった。
図9に示すように、第1グラフG1のZ軸磁化量Mzの変化時点は、第2グラフG2のZ軸磁化量Mzの変化時点より約5ns速いということが分かる。これは、本発明の実施形態による情報保存装置の第1及び第2導線300a,300bから誘発される磁場により、磁化反転(すなわち、情報の記録)が速くて容易になされることを意味する。
図10は、本発明の実施形態による情報保存装置の単位メモリ領域を示す回路図である。図10において、XY座標を表す方向表示器は、第1及び第2ワードラインWL1,WL2及び第1ないし第4ビットラインBL1ないしBL4の方向を表すものであり、磁性層100と第1ユニット200との方向は、図1に示した方向表示器による。
図10に示すように、所定の方向、例えばX軸方向に延びた第1及び第2ワードラインWL1,WL2、及びそれらWL1,WL2と交差する第1ないし第4ビットラインBL1ないしBL4を備える。第1ワードラインWL1と第1ビットラインBL1との交差点に第1トランジスタT1を備え、第1ワードラインWL1と第4ビットラインBL4との交差点に第2トランジスタT2を備える。第1及び第2トランジスタT1,T2のゲートが第1ワードラインWL1に連結されている。第1及び第2トランジスタT1,T2の間には、それらT1,T2とそれぞれ一端及び他端が連結された磁性層100を備える。磁性層100の所定の領域、望ましくは、中央部(以下、第1領域)R1に第1ユニット200を備える。磁性層100及び第1ユニット200の構成は、図1ないし図3の磁性層100及び書き込みユニット200と同一である。第1ユニット200の一端、例えば上面は、第3ビットラインBL3に連結され、他端、例えば下面は、第2ワードラインWL2と第2ビットラインBL2との交差点に設けられた第3トランジスタT3に連結される。第3トランジスタT3のゲートが第2ワードラインWL2に連結されている。第1ユニット200の前記他端と第3トランジスタT3とを連結する導線W1、及び第1ユニット200の前記一端と第3ビットラインBL3とを連結する導線W2は、図1ないし図3の第1導線300a,300a′及び第2導線300b,300b′と同じ構造またはそれから変形された構造を含む。
図10において、第1ないし第3トランジスタT1ないしT3は、一種のスイッチング素子であって、他の構造のスイッチング素子、例えばダイオードに代替され、第1及び第2トランジスタT1,T2のうち少なくとも一つは設けられず、第2トランジスタT2の位置は変更される。例えば、第3トランジスタT3は、第2ワードラインWL2と第2ビットラインBL2との交差点でない第2ワードラインWL2と第3ビットラインBL3との交差点に設けられる。また、図10の第1ユニット200の構造は、図8の書き込みユニットの構造に代替される。
以下、図11ないし図13を参照して、図10の構造を有する情報保存装置の動作方法を説明する。
<書き込み動作>
図11に示すように、第2ワードラインWL2に所定の電圧V2を印加して第3トランジスタT3のゲートを開けた状態で、第2ビットラインBL2及び第3ビットラインBL3のうちいずれか一つの所定の正(+)の電圧を印加し、他の一つに0V電圧を印加する。これにより、第1ユニット200を通じて第1領域R1に所定の方向の書き込み電流が流れる。前記書き込み電流の方向により、第1領域R1の磁化方向が変わりうる。また、前述したように、前記書き込み電流により第1ユニット200の上下の導線のうち少なくともいずれか一つから発生する磁場が、第1領域R1の磁化方向を反転させるのに助けになる。
図12に示すように、第1ワードラインWL1に所定の電圧V1を印加して第1及び第2トランジスタT1,T2のゲートを開けた状態で、第1ビットラインBL1及び第4ビットラインBL4のうちいずれか一つの所定の正(+)のパルス電圧を印加し、他の一つに0V電圧を印加する。これにより、前記パルス電圧により磁性層100内にパルス電流が流れ、これにより磁区及び磁区壁が所定の方向に単位ビットほど移動する。
図11及び図12の動作を反復して交互に行えば、第1ユニット200の一側、例えば左側にある磁区領域Dを第1ユニット200の他側、例えば右側に移動させつつそれらDに所定の情報を記録できる。
<読み取り動作>
図13に示すように、第1及び第2ワードラインWL1,WL2に所定の電圧V1,V2を印加して第1ないし第3トランジスタT1ないしT3のゲートを開けた状態で、第1ビットラインBL1と第2ビットラインBL2との間に所定の読み取り電流を印加できる。前記読み取り電流は、第1ユニット200の一部(例えば、第1領域R1の下部分)及び第1領域R1を経由して流れるが、前記読み取り電流の大きさは、第1領域R1の磁化方向に大きい影響を受ける。すなわち、第1領域R1の磁化方向によって、第1ビットラインBL1と第2ビットラインBL2との間の電気抵抗が大きく変りうる。したがって、前記読み取り電流を印加することによって、第1領域R1に記録された情報がいかなるものであるか判別できる。前記読み取り電流は、前述した書き込み電流より相対的に小さいため、第1領域R1の磁化状態を変化させない。第1ビットラインBL1と第2ビットラインBL2との間に所定の読み取り電流を印加する代わりに、第2ビットラインBL2と第4ビットラインBL4との間に所定の読み取り電流を印加して読み取り動作を行うこともできる。また、第3トランジスタT3が、第2ワードラインWL2と第2ビットラインBL2との交差点でない第2ワードラインWL2と第3ビットラインBL3との交差点に設けられた場合、第3ビットラインBL3と第1ビットラインBL1、または第3ビットラインBL3と第4ビットラインBL4との間に読み取り電流を印加して情報再生を行える。したがって、本発明の実施形態によれば、第1ユニット200の両端のうちいずれか一つと磁性層100の両端のうちいずれか一つとの間に読み取り電流を印加することによって、第1領域R1に記録された情報を再生できる。このように、本発明の実施形態では、第1ユニット200の少なくとも一部が情報を再生するための装置として利用される。したがって、第1ユニット200は、書き込み機能と読み取り機能とを同時に有する読み取り/書き込みユニットといえる。しかし、第1ユニット200を書き込みユニットとしてのみ使用し、読み取りユニットを別途に設置することもできる。この場合、前記読み取りユニットは、TMRセンサー、GMRセンサーまたはその他のセンサーでありうる。
図13の情報を読み取るステップと、図12の磁区及び磁区壁を単位ビットほど移動させるステップとを交互に反復して行える。かかる方法により、第1ユニット200の一側、例えば左側にある磁区領域Dを第1ユニット200の他側、例えば右側に移動させつつ、それらDに記録された情報を再生できる。
本発明の他の実施形態による情報保存装置は、図10の単位メモリ領域を複数備える。その例が図14及び図16に示されている。
図14は、本発明の実施形態による情報保存装置のレイアウト図である。
図14に示すように、第1ないし第4ワードラインWL1ないしWL4、及びそれらWL1ないしWL4と交差する第1ないし第4ビットラインBL1ないしBL4を備えている。第1ワードラインWL1と第1ビットラインBL1との交差点付近に第1トランジスタT1を備えており、第1ワードラインWL1と第4ビットラインBL4との交差点付近に第2トランジスタT2を備えている。第1トランジスタT1は、第1ワードラインWL1の両側に第1ソースS1及び第1ドレインD1を有し、第2トランジスタT2は、第1ワードラインWL1の両側に第2ソースS2及び第2ドレインD2を有する。第1及び第2ワードラインWL1,WL2の間に、一端及び他端がそれぞれ第1及び第2トランジスタT1,T2に連結された第1磁性層100を備えている。第1トランジスタT1の第1ソースS1及び第1ドレインD1は、第1ビットラインBL1及び第1磁性層100の一端にそれぞれ連結され、第2トランジスタT2の第2ソースS2及び第2ドレインD2は、第4ビットラインBL4及び第1磁性層100の他端にそれぞれ連結される。第1磁性層100の所定の領域、例えば中央部に第1ユニット200を備え、第2ビットラインBL2は、前記第1ユニット200の上側を過ぎ、第3ビットラインBL3は、第2ビットラインBL2と所定の間隔ほど離隔して配置される。第1ユニット200の上面は、第3ビットラインBL3及び第2導線300bbにより電気的に連結される。第1ユニット200の上面と第3ビットラインBL3との連結関係及び第1ユニット200の下面と第3ソースS3との連結関係は、図15を参照して詳細に説明する。第2ワードラインWL2と第2ビットラインBL2との交差点付近に第3トランジスタT3を備えている。第3トランジスタT3は、第2ワードラインWL2の両側にそれぞれ第3ソースS3及び第3ドレインD3を有する。第3ソースS3は、第1ユニット200の下面に電気的に連結され、第3ドレインD3は、第2ビットラインBL2に電気的に連結されている。第1ないし第3トランジスタT1ないしT3それぞれでソースS1ないしS3及びドレインD1ないしD3の役割が互いに変わりうる。
図14において、単位メモリ領域CB1は、図10の構造に対応する。図14では、単位メモリ領域CB1がY軸方向に反復配置された場合について示したが、単位メモリ領域CB1は、X軸及びY軸方向に複数の列及び行をなすように複数配列される。
図15は、図14のI−I′線の断面図である。
図15に示すように、第1ユニット200の下面は、第3ソースS3及び第1導線300aaにより連結されており、第1ユニット200の上面は、第3ビットラインBL3及び第2導線300bbにより連結されている。第2導線300bbは、図1の第2導線300bと類似した構造を含む。したがって、第2導線300bbから発生する磁場及び第1ユニット200のスピン転移トルクにより情報の記録が行われる。図15において、10は基板を表し、第3ソースS3が基板10内に設けられる。これは、図17でも同一である。
図16は、本発明の他の実施形態による情報保存装置のレイアウト図である。本実施形態は、図14から変形されたものであって、反復説明は排除し、変形された部分についてのみ説明する。
図16に示すように、第2及び第3ビットラインBL2,BL3が図14でより図面の右側に移動している。すなわち、第2及び第3ビットラインBL2,BL3が第1ユニット200の一側、例えば右側に第1ユニット200と所定の間隔ほど離隔して配置されている。第1ユニット200の上面は、第3ビットラインBL3及び第2導線300bb′により電気的に連結される。第1ユニット200、第3ビットラインBL3及び第3ソースS3の連結関係は、図17を参照して詳細に説明する。
図17は、図16のII−II′線の断面図である。
図17に示すように、第1ユニット200の下面は、第3ソースS3及び第1導線300aa′により連結されており、第1ユニット200の上面は、第3ビットラインBL3及び第2導線300bb′により連結されている。第1導線300aa′及び第2導線300bb′は、図1の第1導線300a及び第2導線300bと類似した構造を含む。したがって、第1導線300aa′及び第2導線300bb′から発生する磁場及び第1ユニット200のスピン転移トルクにより情報の記録が行われる。
図14ないし図17で示した第1ユニット200、第3ビットラインBL3及び第3ソースS3の連結構造は、一例に過ぎない。すなわち、第1導線300aa,300aa′及び第2導線300bb,300bb′の形態は、一例に過ぎない。素子のレイアウトを変更すれば、第1導線300aa,300aa′及び/または第2導線300bb,300bb′は、図3の第1導線300a′及び/または第2導線300b′と類似した形態またはそれから変形された形態を有する。
前記した説明で多くの事項が具体的に記載されているが、それらは発明の範囲を限定するというより、望ましい実施形態の例示として解釈されねばならない。例えば、当業者ならば、図1ないし図3、図8、図10及び図14ないし図17の構造は多様に変形され、図11ないし図13の動作方法も多様に変形されるということが分かるであろう。また、本発明の思想は、磁区壁の移動を利用した情報保存装置だけでなく、その他の情報保存装置にも適用されることが分かるであろう。したがって、本発明の範囲は、説明された実施形態により決められるものではなく、特許請求の範囲に記載された技術的思想により決められねばならない。
本発明は、情報保存装置関連の技術分野に適用可能である。
100・・・磁性層
20a・・・第1分離層
20b・・・第2分離層
40a・・・第1固定層
40b・・・第2固定層
200・・・書き込みユニット
300a・・・第1導線
300b・・・第2導線
D・・・磁区領域
DW・・・磁区壁領域
R1・・・第1領域

Claims (25)

  1. 複数の磁区領域及びそれらの間に磁区壁領域を有する磁性層と、
    前記複数の磁区領域のうちの一つである第1領域に設けられ、前記第1領域に情報を記録するための第1ユニットと、
    前記第1ユニットに連結されたものであって、前記第1領域に情報を記録するための磁場を誘導する第2ユニットと、を備えることを特徴とする情報保存装置。
  2. 前記第2ユニットを通じて前記第1ユニットに電流が印加され、
    前記第2ユニットを通過する電流により前記磁場が発生することを特徴とする請求項1に記載の情報保存装置。
  3. 前記第1ユニットは、スピン転移トルクを利用して情報を記録することを特徴とする請求項1に記載の情報保存装置。
  4. 前記第1ユニットは、
    前記第1領域の下面及び上面のうち一つに設けられた第1固定層と、
    前記第1固定層と前記第1領域との間に介在する第1分離層と、を備えることを特徴とする請求項3に記載の情報保存装置。
  5. 前記第1ユニットは、
    前記第1領域の下面及び上面のうち他の一つに設けられ、前記第1固定層と逆の磁化方向を有する第2固定層と、
    前記第2固定層と前記第1領域との間に介在する第2分離層と、をさらに備えることを特徴とする請求項4に記載の情報保存装置。
  6. 前記第1ユニットは、
    前記第1領域の下面及び上面のうち他の一つに設けられた電極層と、
    前記電極層と前記第1領域との間に介在し、前記磁性層より電気抵抗が高い抵抗性層と、をさらに備えることを特徴とする請求項4に記載の情報保存装置。
  7. 前記第2ユニットは、前記第1ユニットに連結された少なくとも一つの導線を備えることを特徴とする請求項1に記載の情報保存装置。
  8. 前記第1ユニットは、前記第1領域の下面及び上面にそれぞれ設けられた下部ユニットと上部ユニットとを備え、
    前記下部ユニット及び前記上部ユニットのうちいずれか一つは第1導線に連結され、他の一つは第2導線に連結され、
    前記第1及び第2導線のうち少なくとも一つは、前記第2ユニットに設けられることを特徴とする請求項7に記載の情報保存装置。
  9. 前記第1導線は、前記第1ユニットから延びた第1部分を備え、
    前記第1導線の前記第1部分は、前記磁性層と平行した第1平面に設けられたことを特徴とする請求項8に記載の情報保存装置。
  10. 前記第2導線は、前記第1ユニットから延びた第1部分を備え、
    前記第2導線の前記第1部分は、前記磁性層と平行した第2平面に設けられたことを特徴とする請求項9に記載の情報保存装置。
  11. 前記第1導線の前記第1部分と前記第2導線の前記第1部分とは、同じ方向に延びたことを特徴とする請求項10に記載の情報保存装置。
  12. 前記第1導線は、前記第1部分から延びたものであって、前記第1平面上で前記第1ユニットの少なくとも一部を取り囲むように形成された第2部分をさらに備えることを特徴とする請求項9に記載の情報保存装置。
  13. 前記第1導線は、前記第1導線の前記第1部分から延びたものであって、前記第1平面上で前記第1ユニットの少なくとも一部を取り囲むように形成された第2部分をさらに備えることを特徴とする請求項11に記載の情報保存装置。
  14. 前記第2導線は、前記第2導線の前記第1部分から延びたものであって、前記第2平面上で前記第1ユニットの少なくとも一部を取り囲むように形成された第2部分をさらに備えることを特徴とする請求項13に記載の情報保存装置。
  15. 前記第1導線の前記第2部分が延びる方向と前記第2導線の前記第2部分が延びる方向とは、互いに逆であることを特徴とする請求項14に記載の情報保存装置。
  16. 前記磁性層と平行した第1配線と、
    前記第1配線と交差する第2及び第3配線と、
    前記第1配線と前記第2配線との交差点に設けられたスイッチング素子と、を備え、
    前記スイッチング素子及び前記第3配線は、それぞれ前記第1導線及び前記第2導線に連結されたことを特徴とする請求項8に記載の情報保存装置。
  17. 前記磁性層の一端及び他端とそれぞれ連結された第4及び第5配線を備えることを特徴とする請求項16に記載の情報保存装置。
  18. 前記磁性層の一端と前記第4配線との間及び前記磁性層の他端と前記第5配線との間のうち少なくとも一つに設けられた他のスイッチング素子をさらに備えることを特徴とする請求項17に記載の情報保存装置。
  19. 前記他のスイッチング素子に連結され、前記第4及び第5配線と交差する第6配線をさらに備えることを特徴とする請求項18に記載の情報保存装置。
  20. 前記第1ユニットは、情報再生機能をさらに有することを特徴とする請求項1に記載の情報保存装置。
  21. 前記第1ユニットは、前記磁性層の中央部に設けられたことを特徴とする請求項1に記載の情報保存装置。
  22. 前記磁性層、前記第1ユニット、前記第1導線及び前記第2導線は、一つの単位メモリ領域に設けられ、
    前記単位メモリ領域と等価の複数の単位メモリ領域を備えることを特徴とする請求項8に記載の情報保存装置。
  23. 請求項1に記載の情報保存装置の動作方法において、
    前記第2ユニットを通じて前記第1ユニットに書き込み電流を印加して、前記第1領域に情報を記録するステップを含むことを特徴とする情報保存装置の動作方法。
  24. 前記磁性層の一端と他端との間に電流を印加して、前記磁性層内で磁区及び磁区壁をビット単位ほど移動させるステップをさらに含むことを特徴とする請求項23に記載の情報保存装置の動作方法。
  25. 前記磁性層の両端のうち一つと前記第1ユニットとの間に読み取り電流を印加して、前記磁性層に記録された情報を再生するステップをさらに含むことを特徴とする請求項23に記載の情報保存装置の動作方法。
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