JP2010146627A - ダイナミック型半導体記憶装置およびそのリフレッシュ制御方法 - Google Patents

ダイナミック型半導体記憶装置およびそのリフレッシュ制御方法 Download PDF

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Abstract

【課題】 低電流動作のために、SCRCを適用した場合にセルフリフレッシュ電流を低減すること。
【解決手段】 スタンバイ状態と活性状態を有するサブスレショルド電流低減回路(300)を適用したコマンド+行系制御回路SCRC領域(120)を備えたダイナミック型半導体記憶装置は、セルフリフレッシュモード時において、スタンバイ状態を解除してコマンド+行系制御回路SCRC領域(120)を活性化し、N本(Nは2以上の整数)のワード線を連続して活性化してメモリセルをリフレッシュした後、スタンバイ状態にしてコマンド+行系制御回路SCRC領域(120)を非活性化するリフレッシュ制御回路(201)を備える。
【選択図】 図4

Description

本発明は、ダイナミック型半導体記憶回路に関し、特に、セルフリフレッシュ回路を備えたダイナミック型半導体記憶装置およびそのリフレッシュ制御方法に関する。
この技術分野において周知のように、ダイナミックランダムアクセスメモリ(以下「DRAM」とも略称する)は、1つのメモリセルが、1個のスイッチングトランジスタと、1個のデータ記憶キャパシタとによって構成される、ダイナミック型半導体記憶装置である。そのため、DRAMは、半導体基板における高集積化に適した半導体メモリとして広く普及している。
DRAMでは、データ信号がキャパシタによって保持されるため、周期的にキャパシタにストアされたデータ信号を増幅して再書込みするという「リフレッシュ動作」が必要である。換言すれば、キャパシタに充電された電荷は、リーク電流によって次第に放電し、ついにはデータが消えてしまう。このため、ある一定時間ごとにメモリセルに対して再書込み(リフレッシュ)を行う必要がある。この一定時間は、「リフレッシュ間隔」と呼ばれる。
DRAMにおいて、メモリセルのアドレスは、行(row)×列(column)で示されるようになっているとともに、アドレスバスを介してアドレスを指定する際には、アドレス信号を一度に送らずに行アドレスと列アドレスとに分けて送るようになっている。この際に、アドレスバスを介して行アドレスのビットをDRAMに渡すときの制御信号は、行アドレスストローブ信号/RASと呼ばれ、列アドレスのビットをDRAMに渡すときの制御信号は、列アドレスストローブ信号/CASと呼ばれる。そして、通常は行アドレスの出力に対して行アドレスストローブ信号/RASを出力した状態で、列アドレスの出力に対して列アドレスストローブ信号/CASを出力する。
リフレッシュ動作では、例えば、DRAMに対して列アドレスストローブ信号/CASを出した状態で行アドレスストローブ信号/RASを出力することにより、行アドレスで選択(指定)された行(ワード線)のメモリセルすべてが同時にリフレッシュされる。上述のようなタイミングで、列アドレスストローブ信号/CASと行アドレスストローブ信号/RASが入力されるたびに、順次、行を移動してメモリセルを順番にリフレッシュするようになっている。
通常この1サイクルのリフレッシュ動作は、リフレッシュ用の行アドレス(リフレッシュアドレス)をリフレッシュアドレスカウンタから与え、行アドレスストローブ信号/RASを立ち下げてから立ち上げるまでの期間に行われる。この期間は、「リフレッシュ期間」と呼ばれる。通常、リフレッシュ期間の後に通常の動作期間が続く。リフレッシュ期間に通常の動作期間を加えた期間が、上記「リフレッシュ間隔」である。
近年のDRAMのほとんどは、外部からのリフレッシュ制御を必要とすることなく、リフレッシュ動作を行うことができる機能を有している。この機能は、一般に、「セルフリフレッシュ機能」と呼ばれている。すなわち、セルフリフレッシュ機能では、リフレッシュアドレスだけでなく行アドレスストローブ信号/RASもチップの内部で生成する方式を採用している。この方式は、「セルフリフレッシュ方式」と呼ばれる。セルフリフレッシュ方式では、内部のリフレッシュタイマによって自動的にリフレッシュ要求信号が生成され、チップ内部で自動的にRAS系の信号を生成してメモリセルアレイのリフレッシュを行う。
尚、リフレッシュ周期とは、メモリセルアレイ内の1つの行が1回リフレッシュされてから次にリフレッシュされるまでの時間長さに相当する。
このようなセルフリフレッシュ機能を備えたダイナミック型半導体記憶装置は、従来から種々提案されている。
例えば、特開平6−124587号公報(特許文献1)は、セルフリフレッシュモードを有する改善されたダイナミックランダムアクセスメモリ(DRAM)を開示している。この特許文献1に開示されたDRAMでは、セルフリフレッシュ期間の最初の期間および/または最後の期間において、短周期を有するリフレッシュクロック信号を用いた集中リフレッシュをメモリセルアレイ内のすべての行について行っている。
また、特開平9−7367号公報(特許文献2)は、オートモードからセルフモードへの遷移にかかる時間を短縮するとともに電力消費量を低減できるようにしたDRAMリフレッシュ装置を開示している。
一方、半導体集積回路を低電圧動作させる為に、トランジスタの閾値を下げた場合に生じるスタンバイ電流(待機時電流)の増加を低減する技術が知られている。そのような技術は、この分野において、サブスレショルド電流低減回路(Sub threshold current reduction circuit;SCRC)と呼ばれている。そのようなSCRCは、例えば、特開平5−210976号公報(特許文献3)に開示されている。
特開平6−124587号公報(図1、段落0029〜0030) 特開平9−7367号公報(図1〜3、段落0014、 0024) 特開平5−210976号公報
従来より、携帯電話等の携帯機器に用いられるDRAMでは、低電圧の動作電源回路及び低消費電力が要求されている。このような要求の下で、コマンドデコーダ、行系制御隘路、列系制御回路等について、スタンバイ時の電流低減の為に、サブスレショルド電流低減回路(SCRC)を適用していた。しかしながら、これら回路のうち、行系制御回路はセルフリフレッシュ動作時にも動作を行う。そして、行制御回路が、ワード線に接続されるメモリセルをリフレッシュするために、ワード線を1行ずつ順に活性化していく。このとき、従来のDRAMでは、行系制御回路がスタンバイ状態から活性化されてワード線を1行のみ活性化してメモリセルをリフレッシュし、そのリフレッシュが終了する度に行系制御回路はスタンバイ状態に戻っていた。その為、スタンバイ時(待機時)とアクティブ時(動作時)がワード線を1行ずつリフレッシュする度に周期的に切り替わることになる。その結果、従来のDRAMでは、行系制御回路の活性化(動作状態)/非活性化(スタンバイ状態)のスイッチングによるサブスレショルド電流低減回路(SCRC)の充放電のため、却ってセルフリフレッシュ電流が低減できないという問題があった。
本発明のダイナミック型半導体記憶装置は、スタンバイ状態と活性状態を有するサブスレショルド電流低減回路を適用した行系制御回路を備えたダイナミック型半導体記憶装置であって、セルフリフレッシュモード時に、スタンバイ状態を解除して行系制御回路を活性化し、N本(Nは2以上の整数)のワード線を連続して活性化してメモリセルをリフレッシュした後、スタンバイ状態にして行制御回路を非活性化するリフレッシュ制御回路を備える。
本発明のリフレッシュ制御方法は、スタンバイ状態と活性状態を有するサブスレショルド電流低減回路を適用した行系制御回路を備えたダイナミック型半導体記憶装置のセルフリフレッシュ動作を制御するリフレッシュ制御方法であって、セルフリフレッシュモード時に、前記スタンバイ状態を解除して前記行系制御回路を活性化し、N本(Nは2以上の整数)のワード線を連続して活性化してメモリセルをリフレッシュした後、前記スタンバイ状態にして行系制御回路を非活性化する。
セルフリフレッシュ時に、N本のワード線をまとめてリフレッシュしてから、スタンバイモードに入るようにしているので、アクティブ時とスタンバイ時の切り替わり回数が減り、行系制御回路(スタンバイ状態時にサブスレショルド電流低減回路を適用)のスイッチングによる充放電回数が減少して消費電流を減らすことができる。
以下、本発明の実施の形態について図面を参照して詳細に説明する。
図1を参照して、本発明に係るリフレッシュ制御方法が適用されるダイナミック型半導体記憶装置について説明する。ダイナミック型半導体記憶装置は、DRAM回路100と、SCRC制御信号発生回路200とを備える。
DRAM回路100は、メモリセルアレイ110と、コマンド+行系制御回路SCRC領域120と、列系制御回路SCRC領域130とを備えている。
コマンド+行系制御回路SCRC領域120および列系制御回路SCRC領域130のSCRCドライバは、SCRC制御信号発生回路200によって制御される。SCRC制御信号発生回路200に含まれるセルフリフレッシュ制御回路201の詳細については、後で図4を参照して説明する。
サブスレショルド電流低減回路(SCRC)は、SCRC制御信号発生回路200以外のコマンド+行系制御回路SCRC領域120および列系制御回路SCRC領域130に使用されている。サブスレショルド電流低減回路(SCRC)の詳細については、後で図2を参照して詳細に説明する。
SCRC制御信号発生回路200は、コマンド+行系制御回路SCRC領域120から、後述する行活性化信号ROWACTIVEおよびセルフリフレッシュ期間信号SELFREFを受ける。これら行活性化信号ROWACTIVEおよびセルフリフレッシュ期間信号SELFREFに応答して、SCRC制御信号発生回路200は、コマンド+行系制御回路SCRC制御信号および列系制御回路SCRC制御信号を、それぞれ、コマンド+行系制御回路SCRC領域120および列系制御回路SCRC領域130へ送出する。
SCRC制御信号発生回路200は、後述するようなDRAM回路100のセルフリフレッシュ制御回路(図4における符号201)を含んで構成される。
セルフリフレッシュ時は、列系制御回路SCRC領域130は動作しないので、列系制御回路SCRC領域130は、列系制御回路SCRC制御信号(ACTIVE−C、およびその反転信号/ACTIVE−C)によりスタンバイ状態となっている。一方、セルフリフレッシュ時、コマンド+行系制御回路SCRC領域120は動作するので、コマンド+行系制御回路SCRC領域120は、コマンド+行系制御回路SCRC制御信号により、後述するように、オン/オフする。
メモリセルアレイ110は、1ビットを記憶するメモリセルが行方向と列方向にマトリクス状に多数配置されたものである。外部から供給されるアドレス信号により、メモリセルアレイ110のアクセス対象となる行アドレス(Xアドレス)又は列アドレス(Yアドレス)が指定される。
コマンド+行系制御回路SCRC領域120は、コマンドデコーダ122と、Xアドレスバッファ(行アドレスバッファ)124と、Xデコーダ・センスアンプドライバ(行デコーダ・センスアンプドライバ)126と、行制御回路128とを備えて構成されている。このコマンド+行系制御回路SCRC領域120の中で、コマンドデコーダ122を除く上記部分を行系制御回路と称する。
コマンドデコーダ122は、コマンド+行系制御回路SCRC制御信号の組合せパターンに基づき規定される制御コマンドを判別し、動作内容に対応する制御信号を各部に送出する。尚、コマンド+行系制御回路SCRC制御信号については、後で図4を参照して説明する。
Xアドレスバッファ(行アドレスバッファ)124は、アドレス信号により指定されるXアドレス(行アドレス)を保持する。Xデコーダ・センスアンプドライバ(行デコーダ・センスアンプドライバ)126は、コマンドデコーダ122の出力制御信号等を受ける行制御回路128によって制御され、指定されたXアドレス(行アドレス)に対応する1本のワード線を選択すると共に、列側に配置されたセンスアンプを活性化する。
列系制御回路SCRC領域130は、Yアドレスバッファ(列アドレスバッファ)132と、Yデコーダ(列デコータ)134を備えて構成される。
Yアドレスバッファ(列アドレスバッファ)132は、アドレス信号により指定されるYアドレス(列アドレス)を保持する。Yデコータ(列デコーダ)134は、指定されたYアドレス(列アドレス)に対応する1本のビット線を選択する。
図2は、図1に示したDRAM回路100の周辺回路に使用されるサブスレショルド電流低減回路(SCRC)300の一例を示す回路図である。
なお、図2に示すサブスレショルド電流低減回路(SCRC)300は、その基本的な構成及び動作を説明するものであって、必ずしも、上記のコマンド+行系制御回路SCRC領域120および列系制御回路SCRC領域130の構成が図2の構成に限定されるものではない。
図示のサブスレショルド電流低減回路(SCRC)300は、ロジック部分310と、第1のスイッチ回路320と、第2のスイッチ回路330とから構成される。
なお、この第1のスイッチ回路320と第2のスイッチ回路330とを、まとめて、SCRCドライバと称している。
サブスレショルド電流低減回路(SCRC)300は、第1及び第2の電源線VDDおよびVSSと、第1及び第2の別電線線VDD2およびVSS2とに接続されている。第1の電源線VDDに供給される第1の電源電圧VDDは、第2の電源線VSSに供給される第2の電源電圧VSSよりも高い。すなわち、VDD>VSSである。また、第1の別電源線VDD2には、第1のスイッチ回路320を介して第1の電源電圧VDDが供給され、第2の別電源線VSS2には、第2のスイッチ回路330を介して第2の電源電圧VSSが供給される構成となっている。そして、待機時(スタンバイ時)には、第1のスイッチ回路320及び第2のスイッチ回路330(SCRCドライバ)がオフし、第1の別電源線VDD2への第1の電源電圧VDDの供給、及び第2の別電源線VSS2への第2の電源電圧VSSの供給が遮断される構成となっている。
図示のロジック部分310は、第1乃至第4のCMOSインバータ回路311、312、313、及び314が縦続接続された回路である。第1乃至第4のCMOSインバータ回路311〜314の各々は、pチャネルMOSトランジスタとnチャネルMOSトランジスタとから構成されている。ロジック部分310を構成するトランジスタには、Low Vthトランジスタ(低閾値トランジスタ)が使用される。
第1のスイッチ回路320は、第1の電源線VDDと第1の別電源線VDD2との間に接続されている。図示の第1のスイッチ回路320は、pチャネルMOSトランジスタから構成されている。このpチャネルMOSトランジスタのゲートには、反転アクティブ信号/ACTIVEが供給される。尚、記号/は反転信号を表しており、/ACTIVEはACTIVEの反転信号であることを意味する。このpチャネルMOSトランジスタのソースは、第1の電源線VDDに接続され、ドレインは第1の別電源線VDD2に接続されている。
第2のスイッチ回路330は、第2の電源線VSSと第2の別電源線VSS2との間に接続されている。図示の第2のスイッチ回路330は、nチャネルMOSトランジスタから構成されている。このnチャネルMOSトランジスタのゲートには、アクティブ信号ACTIVEが供給される。このnチャネルMOSトランジスタのソースは、第2の電源線VSSに接続され、ドレインは第2の別電源線VSS2に接続されている。
尚、図2に示したサブスレショルド電流低減回路(SCRC)300では、第1のスイッチ回路320をpチャネルMOSトランジスタで構成し、第2のスイッチ回路330をnチャネルMOSトランジスタで構成しているが、第1のスイッチ回路320をnチャネルMOSトランジスタで構成し、第2のスイッチ回路330をpチャネルMOSトランジスタで構成しても良い。この場合、第1のスイッチ回路320にはアクティブ信号ACTIVEが供給され、第2のスイッチ回路330には反転アクティブ信号/ACTIVEが供給される。
第1及び第2のスイッチ回路320、330(SCRCドライバ)を構成するトランジスタには、Normal Vthトランジスタ(通常閾値トランジスタ)が使用される。
図2に示されるように、第1及び第3のCMOSインバータ回路311及び313のpチャネルMOSトランジスタのソースは第1の電源線VDDに接続され、第2及び第4のCMOSインバータ回路312及び314のpチャネルMOSトランジスタのソースは第1の別電源線VDD2に接続されている。また、第2及び第4のCMOSインバータ回路312及び314のnチャネルMOSトランジスタのソースは第2の電源線VSSに接続され、第1及び第3のCMOSインバータ回路311及び313のnチャネルMOSトランジスタのソースは第2の別電源線VSS2に接続されている。
待機時(スタンバイ時)に、ロジック部分310の各節点が図2に図示されているようになっているとする。すなわち、第1のCMOSインバータ回路311の入力が論理“L”レベル、第1のCMOSインバータ回路311の出力(第2のCMOSインバータ回路312の入力)が論理“H”レベル、第2のCMOSインバータ回路312の出力(第3のCMOSインバータ回路313の入力)が論理“L”レベル、第3のCMOSインバータ回路313の出力(第4のCMOSインバータ回路314の入力)が論理“H”レベルであるとする。
この場合、図2に示されるように、オフするべきトランジスタが交互に生じる。Low VthトランジスタではVgs=0Vでも、リーク電流が流れる。その結果、オフするべきトランジスタが完全にオフせず、待機時電流が流れてしまう。
そこで、サブスレショルド電流低減回路(SCRC)300では、図2に示されるように、オフすべきトランジスタのソースを別電源線(VDD2、VSS2)に接続し、これをNormal Vthトランジスタで待機時に遮断することで、待機時電流を低減している。
ところで、活性時(アクティブ時)には、第1の別電源線VDD2を第1の電源線VDDに接続し、第2の別電線線VSS2を第2の電源線VSSに接続する必要がある。そこで、反転アクティブ信号/ACTIVEを論理“L”レベルにして、第1の電源線VDDと第1の別電源線VDD2とを接続する第1のスイッチ回路320をオンさせ、アクティブ信号ACTIVEを論理“H”レベルにして、第2の電源線VSSと第2の別電源線VSS2とを接続する第2のスイッチ回路330をオンさせている。
この第1及び第2のスイッチ回路320、330(SCRCドライバ)のトランジスタのサイズは、Low Vthのロジック部分310のトランジスタのサイズの総和の1/3程度ないと、このトランジスタ部での電圧降下により、ロジック部分310の動作が遅くなる。従って、待機時(スタンバイ時)と活性時(アクティブ時)の切り替わりが頻繁に起こる場合は、このトランジスタのゲートの充放電電流が大きくなり、サブスレショルド電流低減回路(SCRC)300を適用することによりかえって消費電流が増加するという問題が生じる。
特に、第1の電源線VDDに供給される第1の電源電圧VDDの低電圧化に伴い、活性時のアクティブ信号ACTIVEのレベルを第1の電源電圧VDD以上にポンプで昇圧したり、活性時の反転アクティブ信号/ACTIVEのレベルを、第2の電源線VSSに供給される第2の電源電圧VSSより負の電圧になるように、ポンプで生成することが行われる。このような場合、高電圧や負電圧を生成するのに余分の電力が必要になるので、この問題がさらに顕著となる。
DRAM回路100のセルフリフレッシュ電流の低減の為に、図2に示したようなサブスレショルド電流低減回路(SCRC)300を、DRAM回路100に適用した場合を考える。
ここで、図3を参照して、本発明の理解を容易にするために、従来のDRAM回路の動作について説明する。図3において、CKEは外部から入力されるクロックイネーブル信号であり、WLは、行アドレスに従ってメモリセルアレイ110のワード線を選択するため行制御回路が出力するタイミング信号を示し、ACTIVEはサブスレショルド電流低減回路(SCRC)300を活性化するアクティブ信号である。
前述したように、従来の低消費電力が要求されるDRAM回路では、図3に示されるように、セルフリフレッシュ動作をワード線1行ずつ周期的に行っている。このため、サブスレショルド電流低減回路(SCRC)300も、ワード線1行ずつ変化するアクティブ信号ACTIVEによって、スタンバイ時とアクティブ時が周期的に切り替わる。その結果、従来のDRAM回路では、サブスレショルド電流低減回路(SCRC)300を適用した行系制御回路のスイッチング時の充放電電流によりセルフリフレッシュ電流を低減することができないという問題がある。
次に図4を参照して、図1に示したSCRC制御信号発生回路200の一部を構成するセルフリフレッシュ制御回路201について説明する。図4は、セルフリフレッシュ制御回路201の構成例を示す回路図であり、本発明の特徴ある構成を備えるものである。
前述したように、DRAM回路100のコマンドデコータ122には、コマンド+行系制御回路SCRC制御信号が供給される。このコマンド+行系制御回路SCRC制御信号は、具体的には、後で説明する図5のアクティブ信号ACTIVE、およびその反転アクティブ信号/ACTIVEである。また、コマンドデコーダ122には、外部から入力されるクロック信号CLK、クロックイネーブル信号CKE、チップセレクト信号/CS、行アドレスストローブ信号/RAS、列アドレスストロール信号/CAS(以後、これらの信号を、コマンド信号と総称する場合がある。)が供給される。コマンドデコータ122は、ダイナミック型半導体記憶装置の現在の状態(モード)と外部から入力されるこれらコマンド信号によりコマンドを判別し、対応する制御信号を各部に送出する。ダイナミック型半導体記憶装置の現在の状態(モード)がスタンバイ状態にあるとき、入力された上記のコマンド信号がセルフリフレッシュコマンドであると判別すると、コマンドデコーダ122がコマンド結果信号ACTとセルフリフレッシュ期間信号SELFREFとを出力する。セルフリフレッシュ期間信号SELFREFは、セルフリフレッシュ期間を示す信号である。
図4におけるコマンドデコーダ122及び行制御回路128は、図1のコマンド+行系制御回路SCRC領域120の一部を構成するものである。そして、この行制御回路128は、外部信号を受けてコマンドデコーダ122から送られてくるデコード結果信号ACT又はセルフリフレッシュ制御回路201で生成した内部活性化信号ACTSに応答して、後述するような、行活性化信号ROWACTIVEとリフレッシュ終了信号REFENDとを出力する。行活性化信号ROWACTIVEは、リフレッシュ動作中、論理“H”となる信号である。リフレッシュ終了信号REFENDは、当該DRAM回路100が1行リフレッシュ終了し、次のリフレッシュコマンドを受付可となる時に出る信号である。
後で詳述するように、セルフリフレッシュ制御回路201は、セルフリフレッシュモード時にサブスレショルド電流低減回路(SCRC)300(図2)を適用して構成したコマンド+行系制御回路SCRC領域120を活性化してN本(Nは2以上の整数)のワード線を連続して活性化してメモリセルをリフレッシュした後、サブスレショルド電流低減回路(SCRC)300を適用したコマンド+行系制御回路SCRC領域120を非活性化するリフレッシュ制御手段を備えている。図示の例では、Nは4に等しい。
詳述すると、セルフリフレッシュ制御回路201は、第1のインバータ回路202と、長周期タイマ204と、第1のOR回路206と、カウンタ208と、AND回路210と、第2のOR回路212と、第2のインバータ回路214を備えて構成されている。
ダイナミック型半導体記憶装置の現在の状態(モード)がスタンバイ状態にあるとき、セルフリフレッシュコマンドが入力されると、コマンドデコーダ122よりセルフリフレッシュ期間信号SELREFが論理“H”として出力される。つまり、セルフリフレッシュモード期間中、セルフリフレッシュ期間信号SELFREFは論理“H”となる。そして、第1のインバータ回路202は、セルフリフレッシュ期間信号SELFREFを反転して、反転セルフリフレッシュ期間信号/SELFREFを出力する。
長周期タイマ204は、反転セルフリフレッシュ期間信号/SELFREFに応答して、セルフリフレッシュモードエントリ後に一定周期で、リフレッシュ要求信号REFREQを生成する。すなわち、長周期タイマ204は、セルフリフレッシュモード時において、アクティブ信号ACTIVE、及びその反転アクティブ信号/ACTIVEの周期を決定するためのタイマとして働く。
第1のOR回路206は、リフレッシュ要求信号REFREQと上記リフレッシュ終了信号REFENDとの論理和をとり、第1の論理和結果信号としてリフレッシュ論理和信号REFORを出力する。
カウンタ208は、反転セルフリフレッシュ期間信号/SELFREFによって活性化され、リフレッシュ要求信号REFREQが論理“H”レベルとなってから、リフレッシュ終了信号REFENDが3回((N−1)回)入力されるまで、論理“H”となる選択信号SELFPを出力する回路である。換言すれば、カウンタ208は、セルフリフレッシュ期間信号SELREFがセルフリフレッシュ期間を示している間、リフレッシュ論理和信号REFORをカウントして、そのカウント値がNになるまで論理“H”レベルの選択信号SELFPを出力する。
すなわち、第1のOR回路206とカウンタ208との組み合わせは、セルフリフレッシュ期間信号SELREFがセルフリフレッシュ期間を示している間、リフレッシュ要求信号REFREQとリフレッシュ終了信号REFENDとをカウントして、そのカウント値がNになるまで選択信号SELFPを出力する選択信号出力回路として働く。
AND回路210は、選択信号SELFPとリフレッシュ論理和信号REFORとの論理積をとり、論理積結果信号として上記内部活性化信号ACTSを生成する。すなわち、選択信号SELFPが論理“H”の期間、AND回路210は、リフレッシュ要求信号REFREQまたはリフレッシュ終了信号REFENDによって内部活性化信号ACTSを生成する。この内部活性化信号ACTSによって行制御回路128を制御し、DRAM回路100は、N行分(4行分)のリフレッシュを行う。
すなわち、AND回路210は、選択信号SELFPが出力されている間、リフレッシュ要求信号REFREQとリフレッシュ終了信号REFENDとにより、N本のワード線を連続して活性化してメモリセルをリフレッシュさせるための内部活性化信号ACTSとして生成する内部活性化回路として働く。
第2のOR回路212は、行活性化信号ROWACTIVEと反転セルフリフレッシュ期間信号/SELFREFと選択信号SELFPとの論理和をとり、第2の論理和結果信号としてアクティブ信号ACTIVEを出力する。従って、反転セルフリフレッシュ期間信号/SELFREFまたは選択信号SELFPまたは行活性化信号ROWACTIVEが論理“H”レベルの期間、アクティブ信号ACTIVEが論理“H”レベルとなる。このアクティブ信号ACTIVEは、DRAM回路100内のサブスレショルド電流低減回路(SCRC)300(図2)のSCRCドライバをオン・オフしてスタンバイ、アクティブを切り替える切替信号の1つである。つまり、アクティブ信号ACTIVEは、図1のコマンド+行系制御回路SCRC領域120のスタンバイ状態とアクティブ状態とを切り替える切替信号となる。
第2のインバータ回路214は、アクティブ信号ACTIVEを反転して、反転アクティブ信号/ACTIVEを、上記切替信号の相補信号として出力する。
したがって、第1のインバータ回路202と第2のOR回路212と第2のインバータ回路214との組み合わせは、セルフリフレッシュ期間信号SELFREFと行活性化信号ROWACTIVEと選択信号SELFPとに応答して、サブスレショルド電流低減回路(SCRC)300(図2)を適用したコマンド+行系制御回路SCRC領域120のスタンバイ、アクティブを切り替える切替信号を生成するスタンバイ/アクティブ切替回路として動作する。
上述したように、第1のインバータ回路202と第1のOR回路206とカウンタ208とAND回路210と第2のOR回路212と第2のインバータ回路214との組み合わせは、セルフリフレッシュモード時において、サブスレッショルド電流低減回路(SCRC)(図2)を適用したコマンド+行系制御回路SCRC領域120を活性化してN本のワード線を連続して活性化してメモリセルをリフレッシュした後、サブスレッショルド電流低減回路(SCRC)(図2)を適用したコマンド+行系制御回路SCRC領域120を非活性化するリフレッシュ制御手段として働く。このリフレッシュ制御手段は、サブスレッショルド電流低減回路(SCRC)(図2)を適用したコマンド+行系制御回路SCRC領域120を、連続選択されるN本のワード線の選択終了に同期して非活性化する。
尚、図示の例では、連続選択されるワード線の本数Nは4本であるが、この本数Nは、カウンタ208の構成(カウント数)を変更することによって、任意の値に容易に変えることができる。
図5は、図4に示したセルフリフレッシュ制御回路201の動作の一例を示すタイムチャートである。アクティブ信号ACTIVEが論理“H”レベルの期間に、内部活性化信号ACTSのパルスが4回出ていることが分かる。すなわち、一回のアクティブに対して、4行分のリフレッシュが行われる。
図6は、DRAM回路100の動作を説明するためのタイムチャートである。図6において、CKEは外部から入力されるクロックイネーブル信号であり、WLは、行アドレスに従ってメモリセルアレイ110のワード線を選択するため行制御回路128が出力するタイミング信号を示し、ACTIVEはSCRCドライバをオンさせてサブスレショルド電流低減回路(SCRC)300(図2)を適用したコマンド+行系制御回路SCRC領域120を活性化するアクティブ信号である。タイミング信号WLは、図5に示した内部活性化信号ACTSに相当する。
図6から明らかなように、本実施の形態では、4行リフレッシュしてから、スタンバイ時に切り替わっている。これにより、アクティブ信号ACTIVEの切り替わり回数を減らして、コマンド+行系制御回路SCRC領域120に適用したサブスレショルド電流低減回路(SCRC)300(図2)自体での充放電電流(セルフリフレッシュ電流)を、従来の1/4に減らしている。
尚、一般的に、クロックイネーブル信号CKEが論理“H”レベルとなると、セルフリフレッシュ制御回路はセルフリフレッシュ動作から抜ける。本実施の形態のセルフリフレッシュ制御回路201でも、4行リフレッシュが終了するまで、セルフリフレッシュ動作が継続するのではなく、クロックイネーブル信号CKEが論理“H”レベルとなった時点で、リフレッシュしていた行のリフレッシュが終了すると、セルフリフレッシュ動作から抜ける。したがって、セルフリフレッシュ制御回路201がセルフリフレッシュ動作から抜けるタイミングは、従来と同じなので、外部からみた使い勝手に関しては従来品と同じである。
次に、最適なセルフリフレッシュ行数(ワード線数)Nについて説明する。N行単位だと、サブスレショルド電流低減回路(SCRC)300(図2)が適用されたコマンド+行系制御回路SCRC領域120の活性化/非活性化の切り替え頻度が1/Nになるので、サブスレショルド電流低減回路(SCRC)300(図2)が適用されたコマンド+行系制御回路SCRC領域120の制御電流(セルフリフレッシュ電流の一部)が1/Nになる。したがって、Nが大きいほど有利である。しかしながら、セルフリフレッシュ時は、携帯電話等の電源ICの能力を絞って低消費電力化している顧客もある。そのため、あまりバースト長(アクティブ信号ACTIVEが論理“H”レベルの期間)を長くすると、電源が容量不足となり、リフレッシュにおいて誤動作する可能性がある。このような事情から、最適なセルフリフレッシュ行数(ワード線数)Nとしては、4〜8程度が適当である。
以上、本発明について好ましい実施の形態について説明してきたが、本発明は上述した実施の形態に限定されず、本発明の趣旨(主題)を逸脱しない範囲内で種々の変形・変更が可能なのは勿論である。例えば、上述した実施の形態では、セルフリフレッシュ制御回路201が、長周期タイマ204と選択信号出力回路とスタンバイ/アクティブ切替回路と内部活性化回路とから構成されているが、このような構成に限定されないのは勿論である。
本発明に係るリフレッシュ制御方法が適用されるダイナミック型半導体記憶装置の構成を示すブロック図である。 図1に示したDRAM回路の周辺回路に使用されるサブスレショルド電流低減回路(SCRC)の一例を示す回路である。 従来のDRAM回路の動作を説明するためのタイムチャートである。 図1に示したSCRC制御信号発生回路に含まれるセルフリフレッシュ制御回路の構成例を示す回路図である。 図1に示したSCRC制御信号発生回路に含まれるセルフリフレッシュ制御回路の動作の一例を示すタイムチャートである。 本発明の一実施の形態によるDRAM回路の動作を説明するためのタイムチャートである。
符号の説明
100 RDAM回路
110 メモリセルアレイ
120 コマンド+行系制御回路SCRC領域
122 コマンドデコータ
124 Xアドレスバッファ(行アドレスバッファ)
126 Xデコーダ・センスアンプドライバ(行デコーダ・センスアンプドライバ)
128 行制御回路
130 列系制御回路SCRC領域
132 Yアドレスバッファ(列アドレスバッファ)
134 Yデコータ(列デコーダ)
200 SCRC制御信号発生回路
201 セルフリフレッシュ制御回路
202 第1のインバータ回路
204 長周期タイマ
206 第1のOR回路
208 カウンタ
210 AND回路
212 第2のOR回路
214 第2のインバータ回路
300 サブスレショルド電流低減回路(SCRC)
310 ロジック部分
311〜314 CMOSインバータ回路
320 第1のスイッチ回路
330 第2のスイッチ回路

Claims (14)

  1. スタンバイ状態と活性状態を有するサブスレショルド電流低減回路を適用した行系制御回路を備えたダイナミック型半導体記憶装置であって、
    セルフリフレッシュモード時に、前記スタンバイ状態を解除して前記行系制御回路を活性化し、N本(Nは2以上の整数)のワード線を連続して活性化してメモリセルをリフレッシュした後、前記スタンバイ状態にして前記行系制御回路を非活性化するリフレッシュ制御回路を備えることを特徴とするダイナミック型半導体記憶装置。
  2. 前記リフレッシュ制御回路は、前記行系制御回路を、連続選択される前記N本のワード線の選択終了に同期して非活性化する、請求項1に記載のダイナミック型半導体記憶装置。
  3. 前記リフレッシュ制御回路は、前記行系制御回路と共にコマンドデコーダの活性化及び非活性化を制御する請求項1又は請求項2に記載のダイナミック型半導体記憶装置。
  4. 前記Nは4から8の間にある、請求項1乃至3のいずれか1つに記載のダイナミック型半導体記憶装置。
  5. 前記リフレッシュ制御回路は、前記セルフリフレッシュモード時に、前記スタンバイ状態を解除する周期を決定するためのタイマを更に備える、請求項1乃至4のいずれか1つに記載のダイナミック型半導体記憶装置。
  6. 前記ダイナミック型半導体記憶装置は、リフレッシュ動作中を示す行活性化信号と、1本のワード線のリフレッシュ終了後に生成されるリフレッシュ終了信号と、セルフリフレッシュ期間を示すセルフリフレッシュ期間信号とを生成し、
    前記タイマは、前記リフレッシュ期間信号に応答して、一定周期でリフレッシュ要求信号を生成し、
    前記リフレッシュ制御回路は、
    前記セルフリフレッシュ期間信号が前記セルフリフレッシュ期間を示している間、前記リフレッシュ要求信号と前記リフレッシュ終了信号とをカウントして、カウント値が前記Nになるまで選択信号を出力する選択信号出力回路と、
    前記セルフリフレッシュ期間信号と前記行活性化信号と前記選択信号とに応答して、前記行系制御回路のスタンバイとアクティブとを切り替える切替信号を生成するスタンバイ/アクティブ切替回路と、
    前記選択信号が出力されている間、前記リフレッシュ要求信号と前記リフレッシュ終了信号とを、前記N本のワード線を連続してリフレッシュさせるための内部活性化信号として生成する内部活性化回路と、
    を有する請求項5に記載のダイナミック型半導体記憶装置。
  7. 前記選択信号出力回路は、
    前記リフレッシュ要求信号と前記リフレッシュ終了信号との論理和をとって、リフレッシュ論理和信号を出力するOR回路と、
    前記セルフリフレッシュ期間信号が前記セルフリフレッシュ期間を示している間、前記リフレッシュ論理和信号をカウントして、前記カウント値が前記Nになるまで前記選択信号を出力するカウンタと、
    から構成される、請求項6に記載のダイナミック型半導体記憶装置。
  8. 前記内部活性化回路は、前記選択信号と前記リフレッシュ論理和信号との論理積をとって、論理積結果信号を前記内部活性化信号として出力するAND回路から構成される、請求項7に記載のダイナミック型半導体記憶装置。
  9. 前記スタンバイ/アクティブ切替回路は、
    前記セルフリフレッシュ期間信号を反転して、反転セルフリフレッシュ期間信号を出力する第1のインバータ回路と、
    前記反転セルフリフレッシュ期間信号と前記行活性化信号と前記選択信号との論理和をとって、論理和結果信号を前記切替信号であるアクティブ信号として出力するOR回路と、
    前記アクティブ信号を反転して、反転アクティブ信号を前記切替信号の相補信号として出力する第2のインバータ回路と、
    から構成される、請求項6乃至8のいずれか1つに記載のダイナミック型半導体記憶装置。
  10. スタンバイ状態と活性状態を有するサブスレショルド電流低減回路を適用した行系制御回路を備えたダイナミック型半導体記憶装置のセルフリフレッシュ動作を制御するリフレッシュ制御方法であって、
    セルフリフレッシュモード時に、前記スタンバイ状態を解除して前記行系制御回路を活性化し、
    N本(Nは2以上の整数)のワード線を連続して活性化してメモリセルをリフレッシュした後、前記スタンバイ状態にして前記行系制御回路を非活性化する、
    リフレッシュ制御方法。
  11. 前記行系制御回路の前記非活性化を、連続選択される前記N本のワード線の選択終了に同期して行う、請求項10に記載のリフレッシュ制御方法。
  12. 前記リフレッシュ制御方法は、前記行系制御回路と共にコマンドデコーダの活性化及び非活性化を制御する請求項10又は請求項11に記載のリフレッシュ制御方法。
  13. 前記Nは4から8の間にある、請求項10乃至12のいずれか1つに記載のリフレッシュ制御方法。
  14. 前記セルフリフレッシュモード時に、前記スタンバイ状態を解除する周期をタイマを用いて決定する、請求項10乃至13のいずれか1つに記載のリフレッシュ制御方法。
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