JP2010164591A - ガスセンサ素子及びガスセンサ - Google Patents
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Abstract
【解決手段】積層体Aの先端側からスプレー装置701によってスプレーし、次に積層体Aを回転させつつ側方からスプレーして積層体Aに多孔質保護層をとなるコート液(セラミック原料粉末を揮発性溶媒中に分散させたもの)を被着させ、この後、熱処理する。
【選択図】図6
Description
Claims (11)
- 被測定ガス中の所定ガスの濃度に応じて電気的特性が変化するガスセンサ素子本体と、このガスセンサ素子本体を加熱するためのヒータとを積層させた軸線方向に延びる板状の積層体を有し、この積層体のうち少なくとも前記被測定ガスと接触することとなる先端面及び側周面を覆うように多孔質保護層が形成されたガスセンサ素子の製造方法であって、
セラミック原料粉末を揮発性溶媒中に分散させたコート液を前記積層体にスプレーして未処理多孔質保護層を形成するスプレー工程と、
この未処理多孔質保護層が形成された前記積層体を熱処理し、多孔質保護層を形成する熱処理工程とを含むことを特徴とするガスセンサ素子の製造方法。 - 前記揮発性溶媒に、エタノール及びメタノールの少なくともいずれか一方が含まれていることを特徴とする請求項1記載のガスセンサ素子の製造方法。
- 前記スプレー工程では、前記積層体が軸線を中心として回転しつつ、前記積層体から所定間隔離れた位置から前記積層体の前記側周面に向かって一方向にスプレーを行うことを特徴とする請求項1又は2記載のガスセンサ素子の製造方法。
- 前記スプレー工程は、前記積層体の先端面に向かってスプレーを行う第1スプレー工程と、第1スプレー工程の後、前記積層体の側周面に向かってスプレーを行う第2スプレー工程を有することを特徴とする請求項1又は2記載のガスセンサ素子の製造方法。
- 前記スプレー工程では、前記積層体が軸線を中心として回転しつつ、前記積層体から所定間隔離れた位置から前記積層体の前記先端面及び前記側周面に向かって一方向にスプレーを行うことを特徴とする請求項1又は2記載のガスセンサ素子の製造方法。
- 前記スプレー工程では、前回までのスプレー工程時に前記多孔質保護層の形成部位に付着しなかったセラミック粉末を、前記セラミック原料粉末と共に前記揮発性溶媒中に分散させることを特徴とする請求項1〜5いずれか1項記載のガスセンサ素子の製造方法。
- 請求項1〜6いずれか1項記載のガスセンサ素子の製造方法を用いて製造したことを特徴とするガスセンサ素子。
- 被測定ガス中の所定ガスの濃度に応じて電気的特性が変化するガスセンサ素子本体と、このガスセンサ素子本体を加熱するためのヒータとを積層させた軸線方向に延びる板状の積層体を有し、この積層体のうち少なくとも前記被測定ガスと接触することとなる先端面及び側周面を覆うように多孔質保護層が形成されたガスセンサ素子であって、
前記多孔質保護層の厚みは、前記積層体の各角部から20μm以上で、且つ該多孔質保護層の最大厚みをA(単位はμm)とし、該各角部のうち最小厚みをB(単位はμm)としたときB+400≧Aであることを特徴とするガスセンサ素子。 - 前記多孔質保護層の空孔率が30%以上であることを特徴とする請求項8記載のガスセンサ素子。
- 前記多孔質保護層の厚みは600μm未満であることを特徴とする請求項8又は9記載のガスセンサ素子。
- 請求項8〜10いずれか1項記載のガスセンサ素子を、主体金具に組み込んだことを特徴とするガスセンサ。
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