JP2010256242A - 欠陥検査装置及び欠陥検査方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】1つの検査領域内に複数の感度領域を設定して、1つの検査領域のうちDOI(Defect of interesting)が存在する領域の欠陥だけを他と区別して検出できる仕組みを提案する。具体的には、検査領域内の画像の特徴に基づいて、検査領域内に複数の感度領域を設定し、検出画像、差画像又は欠陥判定部の判定用閾値に、各感度領域の設定感度を適用する。
【選択図】図5
Description
(1−1)装置構成
図1に、形態例1に係る回路パターン検査装置の概略構成を示す。なお、図1には、回路パターン検査装置の縦断面構造と信号処理系とを示している。この回路パターン検査装置は、走査型電子顕微鏡を応用したものであり、ウェハ等の半導体基板に電子ビームを照射する。このため、その主要部は真空容器内に収納されている。
図2に、被検査対象物の一例であるウェハ106のパターン構造例を示す。ウェハ106は、例えば直径が200〜300mm、厚さが1mm程度の円盤形状である。ウェハ106の表面には、数百〜数千個の製品に対応する回路パターンが形成されている。回路パターンは、ダイ201と呼ばれる長方形状の回路パターンで構成される。ダイ201は、1個の製品に相当する。例えば一般的なメモリデバイスの場合、ダイ201のパターンレイアウトは、4個のメモリマット群202で構成される。更に、メモリマット群202は、例えば100×100個程度のメモリマット203で構成され、メモリマット203は二次元に繰り返し性を持った数100万個のメモリセル204で構成される。
図3を用いて、検査レシピの作成手順と検査手順を説明する。図3(a)が検査レシピの作成手順であり、図3(b)が検査手順である。検査レシピの作成は、検査の実行前に行われる。
図3(A)に基づいて、検査レシピの作成手順を説明する。まず、オペレータは、コンソール119から全体制御部118に対し、標準レシピの読込みと試料台109に対するウェハ106の搭載を指示する(ステップ301)。この際、ウェハ106は、不図示のローダにより、不図示のカセットから試料台109にロードされる。
図3(B)に基づいて、実際の検査手順を説明する。オペレータは、検査対象のウェハとレシピを指定して検査動作を開始する(ステップ311)。この後、指定されたウェハがロードされ(ステップ312)、電子光学系等の各部に対する光学条件が設定される(ステップ313)。引き続き、アライメント(ステップ314)、キャリブレーション(ステップ315)が実行される。以上で、検査のための準備作業が完了する。
続いて、前述した特徴検出部122と感度調整部123の動作の詳細を説明する。まず、図8(A)を使用し、試し検査時の処理動作の流れを説明する。なお、検出画像408に円形のパターン808が形成されているものとする。試し検査時には、特徴検出部122が画像408に対するノイズの除去処理とエッジの検出処理を実行する。この結果、エッジ画像803が生成される。エッジ検出により、パターン808のエッジ部分809が抽出される。この後、特徴検出部122は、エッジ画像803に対して直線ハフ変換と円形ハフ変換を適用し、エッジ画像803から円形、直線等の特徴情報を検出する。
図9を使用して、この形態例における1枚の検出画面内に複数の感度を設定できることにより効果を説明する。なお、図9(A)は、検出画像と参照画像から作成される差画像901である。また、図9(B)は、差画像901の一部分を拡大した拡大画像902である。また、図9(C)は、検出された特徴情報と特徴テーブルの特徴情報との照合により生成される感度調整用テーブル807である。また、図9(D)は、差画像901に感度調整用テーブル907を適用した後の調整後差画像jの拡大画像903である。
続いて、形態例2に係る回路パターン検査装置について説明する。なお、形態例2に係る回路パターン検査装置の基本的な装置構成と基本的な処理手順は形態例1と同じである。以下では、形態例1との相違点についてのみ説明する。
続いて、形態例3に係る回路パターン検査装置について説明する。この形態例3の場合も、回路パターン検査装置の基本的な装置構成と基本的な処理手順は形態例1と同じである。以下では、形態例1との相違点についてのみ説明する。
続いて、形態例4に係る回路パターン検査装置について説明する。この形態例4の場合も、回路パターン検査装置の基本的な装置構成と基本的な処理手順は形態例1と同じである。以下では、形態例1との相違点についてのみ説明する。
続いて、形態例5に係る回路パターン検査装置について説明する。この形態例5の場合も、回路パターン検査装置の基本的な装置構成と基本的な処理手順は形態例1と同じである。以下では、形態例1との相違点についてのみ説明する。
続いて、形態例6に係る回路パターン検査装置について説明する。この形態例7の場合も、回路パターン検査装置の基本的な装置構成と基本的な処理手順は形態例1と同じである。以下では、形態例1との相違点についてのみ説明する。
(7−1)装置構成
続いて、形態例7に係る回路パターン検査装置について説明する。この形態例6の場合も、回路パターン検査装置の基本的な装置構成と基本的な処理手順は形態例1と同じである。以下では、形態例1との相違点についてのみ説明する。
続いて、この形態例に特有の処理動作部分を説明する。従って、背景特徴解析部1001と背景特徴付加部1002の動作を中心に説明する。勿論、その他の回路部分では、形態例1と同様の処理が実行されている。
続いて、形態例8に係る回路パターン検査装置について説明する。なお、形態例8に係る回路パターン検査装置の基本的な装置構成と基本的な処理手順は形態例7(又は形態例1)と類似する。すなわち、この形態例8は、形態例7の変形例に対応する。
続いて、形態例9に係る回路パターン検査装置について説明する。なお、形態例9に係る回路パターン検査装置の基本的な装置構成と基本的な処理手順は形態例1と同じである。以下では、形態例1との相違点についてのみ説明する。
続いて、形態例10に係る回路パターン検査装置について説明する。なお、形態例10に係る回路パターン検査装置の基本的な装置構成と基本的な処理手順は形態例1と同じである。以下では、形態例1との相違点についてのみ説明する。この形態例10と形態例1の違いは、検出画像から調整後差画像を生成するまでの処理内容である。
続いて、形態例11に係る回路パターン検査装置について説明する。なお、形態例11に係る回路パターン検査装置の基本的な装置構成と基本的な処理手順は形態例1と同じである。以下では、形態例1との相違点についてのみ説明する。この形態例11と形態例1の違いは、感度調整用テーブルlの適用先である。形態例1の場合には、感度調整用テーブルlを感度補正部125に与える場合について説明した。また、前述した形態例10の場合には、感度調整用テーブルlを感度補正部1401に与える場合について説明した。しかし、この形態例11の場合には、感度調整用テーブルlを欠陥判定部117の閾値の補正に使用する。
続いて、形態例12に係る回路パターン検査装置について説明する。なお、形態例12に係る回路パターン検査装置の基本的な装置構成と基本的な処理手順は形態例1と同じである。以下では、形態例1との相違点についてのみ説明する。
前述した形態例の場合には、専ら、検査対象をウェハ、薄膜トランジスタ(TFT:Thin Film Transistor)、フォトマスク等の薄膜デバイスを対象とする場合について説明した。しかし、発明に係る技術は必ずしも電子線式の検査装置に限定されるものではなく、ランプ光又はレーザ光等を用いた外観検査装置にも適用できる。また、発明は、本来同一であるべきパターン同士を比較して欠陥を検査する装置であれば、被検査対象を限定することなく適用することができる。
Claims (12)
- 検査領域から検出画像を取得する画像取得部と、
前記検出画像と参照画像との差画像を生成する差画像生成部と、
前記差画像に基づいて欠陥を判定する欠陥判定部と、
検査領域内の画像の特徴に基づいて、前記検査領域内に複数の感度領域を設定する感度調整部と、
前記検出画像、前記差画像又は前記欠陥判定部の判定用閾値に、各感度領域の設定感度を適用する感度補正部と
を有することを特徴とする欠陥検査装置。 - 前記差画像を構成するパターンを輝度レベルに応じて分別し、輝度レベル別の分別情報を生成する背景特徴解析部を更に有する
ことを特徴とする請求項1に記載の欠陥検査装置。 - 前記複数の感度領域は、オペレータによる画面上での操作入力を通じて設定される
ことを特徴とする請求項1又は2に記載の欠陥検査装置。 - 前記画像の特徴は、オペレータによる画面上での操作入力を通じて設定される
ことを特徴とする請求項1〜3のいずれか1項に記載の欠陥検査装置。 - 前記画像の特徴は、各検査領域に対応する画像を画像処理することによって検出される
ことを特徴とする請求項1〜3のいずれか1項に記載の欠陥検査装置。 - 前記画像の特徴は、各検査領域内における輝度又は色の違いを通じて検出される
ことを特徴とする請求項5に記載の欠陥検査装置。 - 画像取得部を通じ、検査領域から検出画像を取得する処理と、
記憶領域から前記検出画像と参照画像を読み出し、前記検出画像と前記参照画像の差画像を生成する処理と、
前記差画像に対して判定用閾値を適用し、欠陥を判定する処理と、
検査領域内の画像の特徴に基づいて、前記検査領域内に複数の感度領域を設定する処理と、
前記検出画像、前記差画像又は前記判定用閾値に、各感度領域の設定感度を適用する処理と
を有することを特徴とする欠陥検査方法。 - 前記差画像を構成するパターンを輝度レベルに応じて分別し、輝度レベル別の分別情報を生成する処理を更に有する
ことを特徴とする請求項7に記載の欠陥検査方法。 - 前記複数の感度領域は、オペレータによる画面上での操作入力を通じて設定される
ことを特徴とする請求項7又は8に記載の欠陥検査方法。 - 前記画像の特徴は、オペレータによる画面上での操作入力を通じて設定される
ことを特徴とする請求項7〜9のいずれか1項に記載の欠陥検査方法。 - 前記画像の特徴は、各検査領域に対応する画像を画像処理することにより検出される
ことを特徴とする請求項7〜9のいずれか1項に記載の欠陥検査方法。 - 前記画像の特徴は、各検査領域内における輝度又は色の違いを通じて検出される
ことを特徴とする請求項11に記載の欠陥検査方法。
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