JP2010283280A - 位置認識装置及び位置認識方法、並びに、アライメント装置及びアライメント方法 - Google Patents

位置認識装置及び位置認識方法、並びに、アライメント装置及びアライメント方法 Download PDF

Info

Publication number
JP2010283280A
JP2010283280A JP2009137438A JP2009137438A JP2010283280A JP 2010283280 A JP2010283280 A JP 2010283280A JP 2009137438 A JP2009137438 A JP 2009137438A JP 2009137438 A JP2009137438 A JP 2009137438A JP 2010283280 A JP2010283280 A JP 2010283280A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
plate
outer edge
wafer
side portion
edge side
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2009137438A
Other languages
English (en)
Other versions
JP5534719B2 (ja
Inventor
Yukinori Murakami
幸範 村上
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Lintec Corp
Original Assignee
Lintec Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Lintec Corp filed Critical Lintec Corp
Priority to JP2009137438A priority Critical patent/JP5534719B2/ja
Publication of JP2010283280A publication Critical patent/JP2010283280A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP5534719B2 publication Critical patent/JP5534719B2/ja
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Landscapes

  • Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)

Abstract

【課題】板状部材の外周部分を検出して位置認識、アライメントを行う際に、板状部材を支持する支持面の外縁よりはみ出す外周部分の垂れ下がりやばたつきを防止すること。
【解決手段】ウエハWの外縁よりも内側を支持する支持面11Aを含む支持手段11と、ウエハWの外縁を検出する検出手段12と、ウエハWと検出手段12とを相対回転させる回転手段15と、支持手段11を直交2軸方向に移動させる移動手段17と、前記各手段を制御するとともに、前記検出データを基にウエハWの所定の基準位置を算出し、当該所定の基準位置を定位置に位置させる機能を含む制御手段と、支持面11Aの外縁からはみ出したウエハWの外縁側部分W1を検出手段12から一定距離隔てて非接触支持する非接触支持手段14とを備えてアライメント装置10が構成されている。
【選択図】図1

Description

本発明は、位置認識装置及び位置認識方法、並びに、アライメント装置及びアライメント方法に係り、例えば、半導体ウエハ等の板状部材の位置決めを行うことに適した位置認識装置及び位置認識方法、並びに、アライメント装置及びアライメント方法に関する。
半導体ウエハ(以下、単に「ウエハ」という)等の板状部材は、種々の処理を施す際に、結晶方位を示すオリエンテーションフラット又はVノッチや、ウエハ中心位置といった所定の基準位置を定位置に位置させる位置決め(アライメント)が行われる。
このようなアライメントを行う装置としては、例えば、特許文献1に開示されるように、ウエハの外縁よりも内側で当該ウエハを支持する吸着支持面を有するウエハチャックを用い、当該ウエハを平面内で回転させてその外縁を検出するとともに、平面内で直交する2軸、すなわちX、Y軸方向に移動させて位置決めする構成のものが知られている。
特開平8−8328号公報
しかしながら、特許文献1に開示された構成では、極薄に研削されたウエハを位置決めする場合、図3中二点鎖線で示されるように、ウエハチャックの支持面から外側にはみ出したウエハ外縁側部分が垂れ下がってしまったり、外縁側部分が部分的に垂れ下がったウエハを回転させたときに、当該ウエハの外縁側部分がばたついたように見えたりして、リニアセンサがウエハ外縁の正確な位置認識ができず、その後の位置決めに狂いを生じさせてしまう、という不都合がある。また、一方の面に接着シートが貼付され、数十μmの厚みにまで研削されたウエハの場合には、接着シートの弾性復元力によって反りが発生したりしているため、外縁側部分がうねったように変形したり、前記ばたつきが一層顕著なものとなる、という不都合がある。
このような場合、ウエハの全面を吸着することのできる支持面を有するウエハチャックを採用すれば、ウエハ外縁の垂れ下がりやばたつきの不都合を解消することが可能となるが、ウエハの外縁を検出する検出手段のセンサ等がウエハとウエハチャックとの境界を区別できず、正確な位置決めができなくなる、という別異の不都合を招来する。
[発明の目的]
本発明は、このような不都合に着目して案出されたものであり、その目的は、板状部材の外縁よりも内側で当該板状部材を支持する支持面を備えた支持手段を用いた場合であっても、当該支持面からはみ出した板状部材の外縁部分の垂れ下りやばたつき等を回避して、板状部材の位置を正確に認識することのできる位置認識装置及び位置認識方法を提供することにある。
また、本発明は、板状部材の外縁を認識して、当該板状部材の所定の基準位置を定位置に正確に位置させることのできるアライメント装置及びアライメント方法を提供することにある。
前記目的を達成するため、本発明に係る位置認識装置は、板状部材の外縁よりも内側で当該板状部材を支持する支持面を含む支持手段と、前記支持面からはみ出した板状部材の外縁側部分から離れた位置に相対配置され、前記板状部材の面に沿って流体を噴出することで、前記板状部材の外縁側部分との間に負圧領域を形成する非接触支持手段と、前記板状部材の外縁を検出してその検出データを出力する検出手段とを含み、前記非接触支持手段は、前記板状部材に対して噴出する流体の力と負圧領域が吸引する力とが吊り合った位置で、前記板状部材の外縁側部分を非接触支持し、当該板状部材の外縁を前記検出手段から一定距離隔てた位置に保つ、という構成を採っている。
本発明において、前記板状部材と検出手段とを平面内で相対回転させる回転手段を含む構成が採用されている。
また、本発明に係るアライメント装置は、板状部材の外縁よりも内側で当該板状部材を支持する支持面を含む支持手段と、前記支持面からはみ出した板状部材の外縁側部分から離れた位置に相対配置され、前記板状部材の面に沿って流体を噴出することで、前記板状部材の外縁側部分との間に負圧領域を形成する非接触支持手段と、前記板状部材と検出手段とを平面内で相対回転させる回転手段と、前記板状部材の外縁を検出し、その検出データを出力する検出手段と、前記板状部材を平面内の直交2軸方向に移動させる移動手段と、前記各手段を制御するとともに、前記検出データを基に板状部材の所定の基準位置を算出し、当該所定の基準位置を定位置に位置させる機能を含む制御手段とを含み、前記非接触支持手段は、前記板状部材に対して噴出する流体の力と負圧領域が吸引する力とが吊り合った位置で、前記板状部材の外縁側部分を非接触支持し、当該板状部材の外縁を前記検出手段から一定距離隔てた位置に保つ、という構成を採っている。
更に、本発明に係る位置認識方法は、板状部材の外縁よりも内側で当該板状部材を支持する工程と、前記板状部材の外縁側部分から離れた位置から当該板状部材の面に沿って流体を噴出することで、前記板状部材の外縁側部分との間に負圧領域を形成する工程と、前記板状部材に対して噴出する流体の力と負圧領域が吸引する力とが吊り合った位置で、前記板状部材の外縁側部分を非接触支持し、当該板状部材の外縁を前記検出手段から一定距離隔てた位置に保つ工程と、前記板状部材の外縁を検出してその検出データを出力する工程とを含む手法を採っている。
また、本発明に係るアライメント方法は、板状部材の外縁よりも内側で当該板状部材を支持する工程と、前記板状部材の外縁側部分から離れた位置から当該板状部材の面に沿って流体を噴出することで、前記板状部材の外縁側部分との間に負圧領域を形成する工程と、前記板状部材に対して噴出する流体の力と負圧領域が吸引する力とが吊り合った位置で、前記板状部材の外縁側部分を非接触支持し、当該板状部材の外縁を検出手段から一定距離隔てた位置に保つ工程と、前記板状部材と検出手段とを平面内で相対回転させる工程と、前記板状部材の外縁を前記検出手段で検出し、その検出データを出力する工程と、前記検出データを基に板状部材の所定の基準位置を算出し、当該所定の基準位置を定位置に位置させる工程とを含む手法を採っている。
本発明によれば、位置認識若しくはアライメントを行う際に、板状部材の外縁よりも内側で板状部材を支持した状態であっても、噴出する流体の力と負圧領域が吸引する力とが吊り合った位置で、前記板状部材の外縁部分を非接触支持することができるので、板状部材の外縁部分が検出手段に対して離れたり近付いたりすることなく、それらの間隔を一定距離隔てた位置に保つことができる。これにより、板状部材の外縁部分が垂れ下がったり、ばたついたりすることを回避して、正確な位置認識とアライメントができる。また、板状部材の外縁に接して位置するもの(従来例のウエハチャックのようなもの)が何もないため、検出手段が板状部材と別のものとの境界を区別できなくなり、正確な位置認識やアライメントができなくなるという不都合を解消することができる。
実施形態に係るアライメント装置の一部断面正面図。 図1の平面図。 図1のa部詳細図。 ウエハの中心位置を認識する原理説明図。 変形例を示す一部平面図。
以下、本発明の実施形態について図面を参照しながら説明する。
図1及び図2において、アライメント装置10は、板状部材としてのウエハW(直径300mm、厚み100μm)の外縁よりも内側で当該ウエハWを支持する支持面11Aを含む支持手段11と、ウエハWの外縁を検出してその検出データを出力する検出手段12と、支持面11Aからはみ出したウエハWの外縁部分W1から離れた位置に相対配置された非接触支持手段14と、ウエハWと検出手段12とを平面内で相対回転させる回転手段15と、ウエハWを平面内の直交2軸方向に移動させる移動手段17と、これら各手段を制御する機能を含む図示しない制御手段とを備えて構成されている。なお、前記支持手段11、検出手段12、非接触支持手段14及び回転手段15により位置認識装置が構成される。
前記支持手段11は、支持面11A(直径200mm)を備えた内側テーブル20と、この内側テーブル20を受容する凹部21を備えた外側テーブル22とを含んで構成されている。内側テーブル20は平面視略円形に設けられ、図示しない減圧ポンプに接続されて支持面11A(図1中上面)を吸着支持面として作用させるように構成されている。また、外側テーブル22は、内側テーブル20を囲む円環状の周壁25と、当該周壁25の下端部に位置する底壁26とを含み、周壁25の上部には、図2に示されるように、周壁25の周方向90度間隔を隔てた4箇所に非接触支持手段14が配置されている。
前記検出手段12は、特に限定されるものではないが、本実施形態ではCCDカメラにより構成されている。この検出手段12は、外側テーブル22における周壁25の上面より所定距離上方に離れた位置で、1つの非接触支持手段14に相対配置され、これにより、ウエハWの外縁を検出できるようになっている。なお、検出手段12の検出データは制御手段に出力される。
前記非接触支持手段14は、図3にも示されるように、平面視略円形に設けられるとともに、図3中下面側と上面側とに貫通し漏斗類似の略円錐形の円錐凹部30Aが形成された本体部30と、当該本体部30に組み合わされるとともに、円錐凹部30Aと所定間隔を隔てて配置されることで断面視円環状の通路32を形成する漏斗類似の略円錐形の円錐部材33と、外側テーブル22に形成されて通路32に連通する供給路34と、当該供給路34に流体としての空気Gを供給する図示しない加圧ポンプとを備えて構成されている。通路32は、その上端に円環状の噴出口32Aを形成する。なお、円錐部材33は、通路32を全閉することのない図示しない支持部材によって本体部30に支持されている。このような構成により、通路32に空気Gが供給されると、噴出口32Aから噴出する空気GがウエハWの面に沿って流れるようになり、噴出口32Aの円環内側とウエハWのはみ出した外縁側部分W1の下面との間に負圧領域Aが形成される。そして、ウエハWに対して噴出する空気Gの力と負圧領域Aが吸引する力とが吊り合った位置で、ウエハWの外縁側部分W1が非接触で支持され、当該ウエハWの外縁を検出手段12から一定距離隔てた位置に保つことができるようになる。これにより、ウエハWの外縁側部分W1、特に、ウエハWの中心位置から検出手段12の下方に位置する外縁までの部分を垂れ下がったりうねったりすることなく、同一平面内に保って位置させることができ、正確な位置認識ができるようになる。なお、このような非接触支持手段14の場合、ウエハWは、非接触支持手段14に対して接離する方向(Z軸方向)の移動は規制されて支持されるが、非接触支持手段14に対して接離する方向に直交する方向(X−Y平面に平行な方向)の移動は規制されないようになっている。なお、本実施形態で用いられた非接触支持手段14は、株式会社コガネイ社製の非接触搬送機を採用したものであるが、図示構成は、非接触領域Aを形成する原理を解りやすく説明するために等価的に示したものである。
前記回転手段15は、内側テーブル20の下面側に連結され、当該内側テーブル20を平面内で回転させるモータM1により構成されている。なお、モータM1は、底壁26に固定された直動モータ40の出力軸40Aに固定され、内側テーブル20の高さ調整が可能となっている。
前記移動手段17は、直交2軸方向、つまり、図中X、Y方向に支持手段11を移動可能に支持するX−Yテーブル42により構成されている。X−Yテーブル42と支持手段11との間に直動モータ等の昇降手段を設けてもよく、この場合には、支持手段11の全体的な高さ調整も可能となる。
次に、ウエハWの位置認識方法について説明する。
図示しない搬送手段(例えば、ロボットアーム)を介して内側テーブル20の支持面11AにウエハWを載置する。図示しないセンサによってウエハWの載置が確認されると、支持面11AによってウエハWは吸着支持される。なお、内側テーブル20は、直動モータ40によってウエハWの下面と非接触支持手段14の上面との間隔が所定間隔となるように調整されている。
ウエハWが吸着支持されると、図示しない加圧ポンプ(元圧0.49Mpa)から供給路34に空気Gが供給され、通路32を通って噴出口32Aから噴出する空気GがウエハWの面に沿って流れる。これにより、ウエハWは、その回転方向の移動は規制されることなく、検出手段12に対して接離する方向の移動が規制されて非接触支持される。
上記のような状態で、検出手段12は、ウエハWの外縁を複数個所検出して、その検出データをX−Y平面内の座標位置として制御手段に出力する。
制御手段は、例えば図4に示されるように、検出されたウエハWの外縁の複数個所の内2点を結ぶ直線(弦)Lを少なくとも2つ求め、それら直線(弦)Lの垂直二等分線の交点をウエハWの中心位置Wc(ウエハWの所定の基準位置)をX−Y平面内の座標位置として認識する。なお、回転手段15によってウエハWを所定角度回転させた位置で、ウエハWの外縁の2点を結ぶ直線(弦)Lを求めるようにしてもよい。
その後、例えば、制御手段がウエハWの中心位置Wcを図示しない搬送手段に出力する。この出力を受けた搬送手段は、ウエハWの中心位置Wcを基準として当該ウエハWを支持して他の装置に供給するようにしてもよい。
次に、ウエハWのアライメント方法について説明する。
図示しない搬送手段を介して内側テーブル20の支持面11AにウエハWを載置する。図示しないセンサによってウエハWの載置が確認されると、支持面11AによってウエハWは吸着支持される。なお、内側テーブル20は、直動モータ40によってウエハWの下面と非接触支持手段14の上面との間隔が所定間隔となるように調整されている。
ウエハWが吸着支持されると、図示しない加圧ポンプ(元圧0.49Mpa)から供給路34に空気Gが供給され、通路32を通って噴出口32Aから噴出する空気GがウエハWの面に沿って流れる。これにより、ウエハWは、その回転方向の移動は規制されることなく、検出手段12に対して接離する方向の移動が規制されて非接触支持される。
上記のような状態で、モータM1が所定の回転速度で回転することによって、ウエハWを相対回転させる。なお、モータM1の回転速度は、直径300mmのウエハWの外縁が1秒間に30mmの速度で回転するように設定されている。そして、検出手段12は、ウエハWの外縁位置を複数個所検出して、その検出データをX−Y平面内の座標位置として制御手段に出力する。
制御手段は、モータM1の回転位置(回転角)と検出手段12からの検出データとによって、ウエハWのVノッチN(ウエハWの所定の基準位置)とウエハWの中心位置Wc(ウエハWの所定の基準位置)をX−Y平面内の座標位置として記憶する。
その後、制御手段は、例えば、図2に示されるように、VノッチNがウエハWの中心位置Wcを通るY軸方向に平行な直線上に位置するように、つまり、定位置に位置するようにモータM1によって矢印方向に移動させるとともに、ウエハWの中心位置WcがX−Y平面内の架空の定位置Icに位置するようにX−Yテーブル42を駆動させる。その後、例えば、図示しない搬送手段が架空の定位置Icを基準として(このときVノッチNは、架空の定位置Icを通るY軸方向に平行な直線上に位置する)当該ウエハWを支持して他の装置に供給することとなる。
従って、このような実施形態によれば、ウエハWのように、数十μmの厚みに研削された板状部材であっても正確に位置認識することができるとともに、アライメント中にウエハWを回転させても、ウエハWがばたつくようなことなく認識された板状部材の位置情報に基づいて、ウエハWのアライメントを高精度に行うことができる、という効果を得る。
以上のように、本発明を実施するための最良の構成、方法等は、前記記載で開示されているが、本発明は、これに限定されるものではない。
すなわち、本発明は、主に特定の実施形態に関して特に図示、説明されているが、本発明の技術的思想及び目的の範囲から逸脱することなく、以上説明した実施形態に対し、形状、位置若しくは配置等に関し、必要に応じて当業者が様々な変更を加えることができるものである。
従って、上記に開示した形状などを限定した記載は、本発明の理解を容易にするために例示的に記載したものであり、本発明を限定するものではないから、それらの形状などの限定の一部若しくは全部の限定を外した部材の名称での記載は、本発明に含まれるものである。
例えば、前記実施形態は、例示的に示したものに過ぎない。すなわち、本発明は、外縁側部分が支持面の外縁よりはみ出す状態で板状部材の位置認識や、アライメントを行う場合において、外縁側部分が垂れ下がったり、ばたついたりする場合に適用することができるものであり、板状部材の大きさや支持面の大きさ、板状部材の回転速度、負圧領域を形成するための空気の供給圧力等の諸条件は、任意に決定(設定)することができる。
また、板状部材は半導体ウエハWに限定されるものではなく、ガラス板、鋼板、または、樹脂板等、その他の板状部材も対象とすることができ、半導体ウエハは、シリコンウエハや化合物ウエハであってもよい。
更に、検出手段12は、エリアセンサ、ラインセンサ等を用いることもできる。
また、非接触支持手段14は、実施形態のものに限定されることはなく、噴出する流体の力と負圧領域が吸引する力とが吊り合った位置で、板状部材の外縁部分を非接触支持し、当該板状部材の外縁を前記検出手段から一定距離隔てた位置に保つものであれば足りる。
更に、回転手段は、ウエハWと検出手段12との少なくとも一方を平面内で回転させる構成であればよい。
また、前記実施形態では検出手段12を1つの非接触支持手段14に相対配置させたが、図5のように検出手段12をウエハWの回転方向上流側と下流側とで挟むように非接触支持手段14を相対配置させてもよい。
10 アライメント装置
11 支持手段
11A 支持面
12 検出手段
14 非接触支持手段
15 回転手段
17 移動手段
A 負圧領域
G 空気(流体)
W 半導体ウエハ(板状部材)
W1 外縁部分

Claims (5)

  1. 板状部材の外縁よりも内側で当該板状部材を支持する支持面を含む支持手段と、
    前記支持面からはみ出した板状部材の外縁側部分から離れた位置に相対配置され、前記板状部材の面に沿って流体を噴出することで、前記板状部材の外縁側部分との間に負圧領域を形成する非接触支持手段と、
    前記板状部材の外縁を検出してその検出データを出力する検出手段とを含み、
    前記非接触支持手段は、前記板状部材に対して噴出する流体の力と負圧領域が吸引する力とが吊り合った位置で、前記板状部材の外縁側部分を非接触支持し、当該板状部材の外縁を前記検出手段から一定距離隔てた位置に保つことを特徴とする位置認識装置。
  2. 前記板状部材と検出手段とを平面内で相対回転させる回転手段を含むことを特徴とする請求項1記載の位置認識装置。
  3. 板状部材の外縁よりも内側で当該板状部材を支持する支持面を含む支持手段と、
    前記支持面からはみ出した板状部材の外縁側部分から離れた位置に相対配置され、前記板状部材の面に沿って流体を噴出することで、前記板状部材の外縁側部分との間に負圧領域を形成する非接触支持手段と、
    前記板状部材と検出手段とを平面内で相対回転させる回転手段と、
    前記板状部材の外縁を検出し、その検出データを出力する検出手段と、
    前記板状部材を平面内の直交2軸方向に移動させる移動手段と、
    前記各手段を制御するとともに、前記検出データを基に板状部材の所定の基準位置を算出し、当該所定の基準位置を定位置に位置させる機能を含む制御手段とを含み、
    前記非接触支持手段は、前記板状部材に対して噴出する流体の力と負圧領域が吸引する力とが吊り合った位置で、前記板状部材の外縁側部分を非接触支持し、当該板状部材の外縁を前記検出手段から一定距離隔てた位置に保つことを特徴とするアライメント装置。
  4. 板状部材の外縁よりも内側で当該板状部材を支持する工程と、
    前記板状部材の外縁側部分から離れた位置から当該板状部材の面に沿って流体を噴出することで、前記板状部材の外縁側部分との間に負圧領域を形成する工程と、
    前記板状部材に対して噴出する流体の力と負圧領域が吸引する力とが吊り合った位置で、前記板状部材の外縁側部分を非接触支持し、当該板状部材の外縁を前記検出手段から一定距離隔てた位置に保つ工程と、
    前記板状部材の外縁を検出してその検出データを出力する工程とを有することを特徴とする位置認識方法。
  5. 板状部材の外縁よりも内側で当該板状部材を支持する工程と、
    前記板状部材の外縁側部分から離れた位置から当該板状部材の面に沿って流体を噴出することで、前記板状部材の外縁側部分との間に負圧領域を形成する工程と、
    前記板状部材に対して噴出する流体の力と負圧領域が吸引する力とが吊り合った位置で、前記板状部材の外縁側部分を非接触支持し、当該板状部材の外縁を検出手段から一定距離隔てた位置に保つ工程と、
    前記板状部材と検出手段とを平面内で相対回転させる工程と、
    前記板状部材の外縁を前記検出手段で検出し、その検出データを出力する工程と、
    前記検出データを基に板状部材の所定の基準位置を算出し、当該所定の基準位置を定位置に位置させる工程とを有することを特徴とするアライメント方法。
JP2009137438A 2009-06-08 2009-06-08 位置認識装置及び位置認識方法 Active JP5534719B2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2009137438A JP5534719B2 (ja) 2009-06-08 2009-06-08 位置認識装置及び位置認識方法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2009137438A JP5534719B2 (ja) 2009-06-08 2009-06-08 位置認識装置及び位置認識方法

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2010283280A true JP2010283280A (ja) 2010-12-16
JP5534719B2 JP5534719B2 (ja) 2014-07-02

Family

ID=43539742

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2009137438A Active JP5534719B2 (ja) 2009-06-08 2009-06-08 位置認識装置及び位置認識方法

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP5534719B2 (ja)

Cited By (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2012156420A (ja) * 2011-01-28 2012-08-16 Lintec Corp アライメント装置及びアライメント方法
WO2014069291A1 (ja) * 2012-10-29 2014-05-08 ローツェ株式会社 半導体基板の位置検出装置及び位置検出方法
JP2020077758A (ja) * 2018-11-08 2020-05-21 住友重機械工業株式会社 ウエハアライメント装置
JP2020202388A (ja) * 2016-10-14 2020-12-17 株式会社日本製鋼所 レーザ照射装置、レーザ照射方法、及び半導体装置の製造方法
JP2021184470A (ja) * 2020-08-21 2021-12-02 株式会社日本製鋼所 レーザ照射装置、レーザ照射方法、及び半導体装置の製造方法
CN117116804A (zh) * 2023-08-21 2023-11-24 华海清科股份有限公司 一种晶圆装载装置

Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN108521778B (zh) * 2017-05-17 2020-10-02 深圳市柔宇科技有限公司 基板受力状况的判断方法及运输系统

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH088328A (ja) * 1994-06-16 1996-01-12 Nec Yamagata Ltd ウェーハ位置決め装置
JP2002368065A (ja) * 2001-06-08 2002-12-20 Hiroshi Akashi 位置合わせ装置
JPWO2005055315A1 (ja) * 2003-12-04 2007-06-28 平田機工株式会社 基板位置決めシステム
JP2008091770A (ja) * 2006-10-04 2008-04-17 Tatsumo Kk ウェハ位置合わせ装置、ウェハ位置合わせシステム、ウェハ位置合わせ方法

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH088328A (ja) * 1994-06-16 1996-01-12 Nec Yamagata Ltd ウェーハ位置決め装置
JP2002368065A (ja) * 2001-06-08 2002-12-20 Hiroshi Akashi 位置合わせ装置
JPWO2005055315A1 (ja) * 2003-12-04 2007-06-28 平田機工株式会社 基板位置決めシステム
JP2008091770A (ja) * 2006-10-04 2008-04-17 Tatsumo Kk ウェハ位置合わせ装置、ウェハ位置合わせシステム、ウェハ位置合わせ方法

Cited By (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2012156420A (ja) * 2011-01-28 2012-08-16 Lintec Corp アライメント装置及びアライメント方法
WO2014069291A1 (ja) * 2012-10-29 2014-05-08 ローツェ株式会社 半導体基板の位置検出装置及び位置検出方法
US9275886B2 (en) 2012-10-29 2016-03-01 Rorze Corporation Device and method for detecting position of semiconductor substrate
JP2020202388A (ja) * 2016-10-14 2020-12-17 株式会社日本製鋼所 レーザ照射装置、レーザ照射方法、及び半導体装置の製造方法
JP2020077758A (ja) * 2018-11-08 2020-05-21 住友重機械工業株式会社 ウエハアライメント装置
JP7203575B2 (ja) 2018-11-08 2023-01-13 住友重機械工業株式会社 ウエハアライメント装置
JP2021184470A (ja) * 2020-08-21 2021-12-02 株式会社日本製鋼所 レーザ照射装置、レーザ照射方法、及び半導体装置の製造方法
JP7095166B2 (ja) 2020-08-21 2022-07-04 Jswアクティナシステム株式会社 レーザ照射装置、レーザ照射方法、及び半導体装置の製造方法
CN117116804A (zh) * 2023-08-21 2023-11-24 华海清科股份有限公司 一种晶圆装载装置

Also Published As

Publication number Publication date
JP5534719B2 (ja) 2014-07-02

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP5534719B2 (ja) 位置認識装置及び位置認識方法
JP5581713B2 (ja) ウェーハ表面測定装置
JP4408351B2 (ja) アライメント装置
US9455175B2 (en) Conveying apparatus
KR101960854B1 (ko) 웨이퍼 정렬 장치 및 웨이퍼 이송 장치
CN107785297B (zh) 板状物搬送装置和加工装置
JP2016015438A (ja) アライメント方法
CN109300833B (zh) 一种运输晶圆的末端执行器及控制方法
WO2007123007A1 (ja) シート切断装置及び切断方法
US8297568B2 (en) Sucking and holding device
JP5721453B2 (ja) アライメント装置及びアライメント方法
JP2009130011A (ja) 基板位置決め装置
JP2015099814A (ja) ウェーハのidマーク読取装置
TWM468508U (zh) 吸附裝置及可吸附軟性物件之真空吸附設備
JP5316172B2 (ja) ウェハ吸引パッド及びそれを備えたプリアライナ
JP5356803B2 (ja) ウエーハの加工装置
CN105914164B (zh) 加工装置
JP2016002597A (ja) 研削方法
JP2014194991A (ja) 板状物の搬送装置
JP2009253091A (ja) アライメント装置
JP2008091770A (ja) ウェハ位置合わせ装置、ウェハ位置合わせシステム、ウェハ位置合わせ方法
JP2020077758A (ja) ウエハアライメント装置
JP6195484B2 (ja) ウエーハの加工方法
CN209321999U (zh) 一种用于片状物的搬运装置
JP5758993B2 (ja) アライメント装置およびアライメント方法

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20120302

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20130227

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20130423

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20130619

A02 Decision of refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02

Effective date: 20130806

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20131105

A911 Transfer to examiner for re-examination before appeal (zenchi)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A911

Effective date: 20131113

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20140121

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20140320

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20140415

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20140422

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 5534719

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250