JP2012104525A - 有機ｅｌ表示装置およびその製造方法 - Google Patents

Abstract

【課題】駆動電圧を抑えつつ発光効率および寿命特性を向上させることが可能な有機ＥＬ表示装置およびその製造方法を提供する。
【解決手段】下部電極１４上に正孔注入層１６ＡＲ，１６ＡＧ，１６ＡＢを形成する。赤色，緑色および青色有機ＥＬ素子１０Ｒ，１０Ｇ，１０Ｂについて、正孔輸送層１６ＢＲ，１６ＢＧ，１６ＢＢ上に低分子材料を含む赤色，緑色および青色の発光層１６ＣＲ，１６ＣＧ，１６ＣＢを塗布法により形成したのち、各発光層１６ＣＲ，１６ＣＧ，１６ＣＢの全面に電子輸送層１６Ｄを蒸着法により形成する。電子輸送層１６Ｄ上に電子注入層１６Ｅおよび上部電極１７を形成する。
【選択図】図３

Description

本発明は、有機エレクトロルミネセンス（ＥＬ；Electro Luminescence）現象を利用して発光する有機ＥＬ表示装置およびその製造方法に関する。

情報通信産業の発達が加速するにつれて、高度な性能を有する表示素子が要求されている。その中で、次世代表示素子として注目されている有機ＥＬ素子は自発発光型表示素子として視野角が広くてコントラストが優秀なだけでなく応答時間が速いという長所がある。

有機ＥＬ素子を形成する発光層等に用いられる材料は、低分子材料と高分子材料に大別される。一般に、低分子材料の方がより高い発光効率、長寿命を示すことが知られている。

また、その有機膜は低分子材料では真空蒸着法等の乾式法（蒸着法）、高分子材料ではスピンコーティング方式、インクジェット方式またはノズルコート方式等の湿式法（塗付法）やフレキソ印刷、オフセット印刷等の印刷法により成膜されている。

真空蒸着法は、有機薄膜の形成材料を溶媒に溶解させる必要がなく、成膜後に溶媒を除去する工程が不要という利点がある。但し、真空蒸着法はメタルマスクによる塗り分けが難しく、特に大型のパネルの作製における設備製造コストが高いため、大画面基板への適用が難しく、量産にも難があるなどの欠点を有していた。そこで表示画面の大面積化が比較的容易な塗布法が注目されている。

インクジェット方式を代表とした塗布方式における初期の構造は、ポリ−３，４−エチレンジオキシチオフェン（ＰＥＤＯＴ）／ポリスチレンスルホン酸（ＰＳＳ）等の正孔注入材料からなる正孔注入層上に各種発光色を呈する発光材料からなる発光層が塗布形成され、更にアルカリ金属を介してアルミニウム等からなるカソード電極が形成されていた。この初期構造の改良として、ＰＥＤＯＴ／ＰＳＳからの劣化因子の抑制および正孔注入を調整するためのインターレイヤーと呼ばれる正孔輸送性を有する高分子材料層の挿入が一般化されていた。このような有機ＥＬ素子は「アノード電極／正孔輸送層／インターレイヤー／発光層／電子注入層／カソード電極」の積層構造となっており、この積層構造のうちアノード電極から発光層までは塗付法により、電子注入層およびカソード電極は蒸着法により形成されていた。

この積層構造では、カソード電極から電子注入層を介し直接電子を発光層に注入することによって以下の問題が生じていた。まず、第１に、発光層とカソード電極が直接接することによりクエンチング等が発生するため発光層の厚みを厚くし実際の発光位置とカソード電極との距離を一定以上離す必要があったが、これにより駆動電圧が増大する。第２に、カソード電極から発光層へ直接電子を注入する際の電子注入性は、ＬｉＦ，ＭｇＦ₂，ＮａＦ，ＭｇＡｇ，ＭｇＯ，Ｌｉ₂Ｏ₃，ＳｒＦ₂，Ｃａ，Ｂａ，ＢａＯ，Ｃｓ等の無機系アルカリ金属を中心とした電子注入層で制御される。赤，緑，青等の３色で構成されるディスプレイでは、電子注入層を色ごとに塗訳することが難しいため上記無機系アルカリ金属から１材料を選択し各色の共通層として形成する。しかし、各色に最適な無機系アルカリ金属はそれぞれ異なるため、３色全てにおいて最良の特性を得ることはできず、特定の色で発光効率の低下や寿命特性等のデバイス特性が悪化するという問題があった。

これらの問題を解決するために、例えば特許文献１において、発光層上に電子輸送性の材料からなる電子輸送層を蒸着法によって形成し、上記アルカリ金属を中心とした電子注入層を電子輸送層とカソード電極との間に配置した有機ＥＬ素子が開示されている。

特開２００６−３４４８６９号公報

しかしながら、特許文献１の有機ＥＬ素子では発光効率を向上させることは困難であり、更に、発光層への電子の注入量が不足することによって寿命特性が悪化するという問題があった。

本発明はかかる問題点に鑑みてなされたもので、その目的は、駆動電圧を抑えつつ発光効率および寿命特性を向上させることが可能な有機ＥＬ表示装置およびその製造方法を提供することにある。

本発明による有機ＥＬ表示装置は、以下の（Ａ）〜（Ｅ）の構成要素を備えたものである。
（Ａ）基板に、複数の有機ＥＬ素子の各々ごとに設けられた複数の下部電極
（Ｂ）下部電極の上に有機ＥＬ素子ごとに設けられた正孔注入または正孔輸送の少なくとも一方の特性を有する複数の正孔注入・輸送層
（Ｃ）正孔注入・輸送層上に有機ＥＬ素子ごとに設けられると共に、低分子材料を含む複数の有機発光層
（Ｄ）複数の有機発光層上の全面に設けられた電子注入または電子輸送の少なくとも一方の特性を有する電子注入・輸送層
（Ｅ）電子注入・輸送層上に設けられた上部電極

本発明による有機ＥＬ表示装置の製造方法は、以下の（Ａ）〜（Ｅ）の工程を含むものである。
（Ａ）基板に複数の下部電極を複数の有機ＥＬ素子の各々ごとに形成する工程
（Ｂ）下部電極上に正孔注入または正孔輸送の少なくとも一方の特性を有する複数の正孔注入・輸送層を有機ＥＬ素子ごとに塗付法により形成する工程
（Ｃ）正孔注入・輸送層上に低分子材料を含む複数の有機発光層を有機ＥＬ素子ごとに塗付法により形成する工程
（Ｄ）複数の有機発光層の全面に電子注入または電子輸送の少なくとも一方の特性を有する電子注入・輸送層を蒸着法により形成する工程
（Ｅ）電子注入・輸送層の全面に上部電極を形成する工程

本発明の有機ＥＬ表示装置およびその製造方法では、各色の有機発光層に低分子材料を添加することにより、上部電極から有機発光層への電子の注入効率が向上する。

本発明の有機ＥＬ表示装置およびその製造方法によれば、各色の発光層に低分子材料を添加するようにしたので、上部電極から有機発光層への電子の注入効率が向上する。これにより、発光層への電子の注入量が増加するため発光効率および寿命特性が向上する。

本発明の第１の実施の形態に係る有機ＥＬ表示装置の構成を表す図である。 図１に示した画素駆動回路の一例を表す図である。 図１に示した表示領域の構成を表す断面図である。 図１に示した有機ＥＬ表示装置の製造方法の流れを表す図である。 図４に示した製造方法を工程順に表す断面図である。 図５に続く工程を表す断面図である。 本発明の第２の実施の形態に係る有機ＥＬ表示装置の構成を表す断面図である。 図７に示した有機ＥＬ表示装置の製造方法の流れを表す図である。 上記実施の形態の表示装置を含むモジュールの概略構成を表す平面図である。 上記実施の形態の表示装置の適用例１の外観を表す斜視図である。 （Ａ）は適用例２の表側から見た外観を表す斜視図であり、（Ｂ）は裏側から見た外観を表す斜視図である。 適用例３の外観を表す斜視図である。 適用例４の外観を表す斜視図である。 （Ａ）は適用例５の開いた状態の正面図、（Ｂ）はその側面図、（Ｃ）は閉じた状態の正面図、（Ｄ）は左側面図、（Ｅ）は右側面図、（Ｆ）は上面図、（Ｇ）は下面図である。

以下、本発明の実施の形態について図面を参照して以下の順に詳細に説明する。
１．第１の実施の形態
（各色発光層上に電子注入・輸送層を形成した有機ＥＬ表示装置）
２．第２の実施の形態
（各色発光層と電子注入・輸送層との間にホールブロック層を形成した有機ＥＬ表示装置）

（第１の実施の形態）
図１は、本発明の第１の実施の形態に係る有機ＥＬ表示装置１の構成を表すものである。この有機ＥＬ表示装置１は、有機ＥＬテレビジョン装置などとして用いられるものであり、例えば、基板１１の上に、表示領域１１０として、後述する複数の赤色有機ＥＬ素子１０Ｒ，緑色有機ＥＬ素子１０Ｇ，青色有機ＥＬ素子１０Ｂがマトリクス状に配置されたものである。表示領域１１０の周辺には、映像表示用のドライバである信号線駆動回路１２０および走査線駆動回路１３０が設けられている。

表示領域１１０内には画素駆動回路１４０が設けられている。図２は、画素駆動回路１４０の一例を表したものである。画素駆動回路１４０は、後述する下部電極１４の下層に形成されたアクティブ型の駆動回路である。すなわち、この画素駆動回路１４０は、駆動トランジスタＴｒ１および書き込みトランジスタＴｒ２と、これらトランジスタＴｒ１，Ｔｒ２の間のキャパシタ（保持容量）Ｃｓと、第１の電源ライン（Ｖｃｃ）および第２の電源ライン（ＧＮＤ）の間において駆動トランジスタＴｒ１に直列に接続された赤色有機ＥＬ素子１０Ｒ（または緑色有機ＥＬ素子１０Ｇ，青色有機ＥＬ素子１０Ｂ）とを有する。駆動トランジスタＴｒ１および書き込みトランジスタＴｒ２は、一般的な薄膜トランジスタ（ＴＦＴ（Thin Film Transistor））により構成され、その構成は例えば逆スタガ構造（いわゆるボトムゲート型）でもよいしスタガ構造（トップゲート型）でもよく特に限定されない。

画素駆動回路１４０において、列方向には信号線１２０Ａが複数配置され、行方向には走査線１３０Ａが複数配置されている。各信号線１２０Ａと各走査線１３０Ａとの交差点が、赤色有機ＥＬ素子１０Ｒ，緑色有機ＥＬ素子１０Ｇ，青色有機ＥＬ素子１０Ｂのいずれか一つ（サブピクセル）に対応している。各信号線１２０Ａは、信号線駆動回路１２０に接続され、この信号線駆動回路１２０から信号線１２０Ａを介して書き込みトランジスタＴｒ２のソース電極に画像信号が供給されるようになっている。各走査線１３０Ａは走査線駆動回路１３０に接続され、この走査線駆動回路１３０から走査線１３０Ａを介して書き込みトランジスタＴｒ２のゲート電極に走査信号が順次供給されるようになっている。

また、表示領域１１０には、赤色の光を発生する赤色有機ＥＬ素子１０Ｒと、緑色の光を発生する緑色有機ＥＬ素子１０Ｇと、青色の光を発生する青色有機ＥＬ素子１０Ｂとが、順に全体としてマトリクス状に配置されている。なお、隣り合う赤色有機ＥＬ素子１０Ｒ，緑色有機ＥＬ素子１０Ｇ，青色有機ＥＬ素子１０Ｂの組み合わせが一つの画素（ピクセル）を構成している。

図３は図１に示した表示領域１１０の断面構成を表したものである。赤色有機ＥＬ素子１０Ｒ，緑色有機ＥＬ素子１０Ｇ，青色有機ＥＬ素子１０Ｂは、それぞれ、基板１１の側から、上述した画素駆動回路１４０の駆動トランジスタＴｒ１および平坦化絶縁膜（図示せず）を間にして、陽極としての下部電極１４、隔壁１５、後述する発光層１６Ｃ（赤色発光層１６ＣＲ，緑色発光層１６ＣＧ，青色発光層１６ＣＢ）を含む有機層１６および陰極としての上部電極１７がこの順に積層された構成を有している。

このような赤色有機ＥＬ素子１０Ｒ，緑色有機ＥＬ素子１０Ｇ，青色有機ＥＬ素子１０Ｂは、保護層３０により被覆され、更にこの保護層３０上に熱硬化型樹脂または紫外線硬化型樹脂などの接着層（図示せず）を間にしてガラスなどよりなる封止用基板４０が全面にわたって貼り合わされることにより封止されている。

基板１１は、その一主面側に赤色有機ＥＬ素子１０Ｒ，緑色有機ＥＬ素子１０Ｇ，青色有機ＥＬ素子１０Ｂが配列形成される支持体であって、公知のものであって良く、例えば、石英、ガラス、金属箔、もしくは樹脂製のフィルムやシートなどが用いられる。この中でも石英やガラスが好ましく、樹脂製の場合には、その材質としてポリメチルメタクリレート（ＰＭＭＡ）に代表されるメタクリル樹脂類、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）、ポリブチレンナフタレート（ＰＢＮ)などのポリエステル類、もしくはポリカーボネート樹脂などが挙げられるが、透水性や透ガス性を抑える積層構造、表面処理を行うことが必要である。

下部電極１４は、基板１１上に、赤色有機ＥＬ素子１０Ｒ，緑色有機ＥＬ素子１０Ｇ，青色有機ＥＬ素子１０Ｂの各々ごとに設けられている。下部電極１４は、例えば、積層方向の厚み（以下、単に厚みと言う）が１０ｎｍ以上１０００ｎｍ以下であり、クロム（Ｃｒ），金（Ａｕ），白金（Ｐｔ），ニッケル（Ｎｉ），銅（Ｃｕ），タングステン（Ｗ）あるいは銀（Ａｇ）などの金属元素の単体または合金が挙げられる。また、下部電極１４は、これらの金属元素の単体または合金よりなる金属膜と、インジウムとスズの酸化物（ＩＴＯ）、ＩｎＺｎＯ（インジウム亜鉛オキシド）、酸化亜鉛（ＺｎＯ）とアルミニウム（Ａｌ）との合金などの透明導電膜との積層構造を有していてもよい。なお、下部電極１４が陽極として使われる場合には、下部電極１４は正孔注入性の高い材料により構成されていることが望ましい。但し、アルミニウム（Ａｌ）合金のように、表面の酸化皮膜の存在や、仕事関数が大きくないことによる正孔注入障壁が問題となる材料においても、適切な正孔注入層１６Ａを設けることによって下部電極１４として使用することが可能である。

隔壁１５は、下部電極１４と上部電極１７との絶縁性を確保すると共に発光領域を所望の形状にするためのものである。更に、後述する製造工程においてインクジェット方式またはノズルコート方式等による塗布を行う際の隔壁としての機能も有している。隔壁１５は、例えば、ＳｉＯ₂等の無機絶縁材料よりなる下部隔壁１５Ａの上に、ポジ型感光性ポリベンゾオキサゾール，ポジ型感光性ポリイミドなどの感光性樹脂よりなる上部隔壁１５Ｂを有している。隔壁１５には、発光領域に対応して開口が設けられている。なお、有機層１６ないし上部電極１７は、開口だけでなく隔壁１５の上にも設けられていてもよいが、発光が生じるのは隔壁１５の開口だけである。

赤色有機ＥＬ素子１０Ｒの有機層１６は、例えば、下部電極１４の側から順に、正孔注入層１６ＡＲ，正孔輸送層１６ＢＲ，赤色発光層１６ＣＲ，電子輸送層１６Ｄおよび電子注入層１６Ｅを積層した構成を有する。緑色有機ＥＬ素子１０Ｇの有機層１６は、例えば、下部電極１４の側から順に、正孔注入層１６ＡＧ，正孔輸送層１６ＢＧ，緑色発光層１６ＣＧ，電子輸送層１６Ｄおよび電子注入層１６Ｅを積層した構成を有する。青色有機ＥＬ素子１０Ｂの有機層１６は、例えば、下部電極１４の側から順に、正孔注入層１６ＡＢ，正孔輸送層１６ＢＢ，青色発光層１６ＣＢ，電子輸送層１６Ｄおよび電子注入層１６Ｅを積層した構成を有する。これらのうち電子輸送層１６Ｄおよび電子注入層１６Ｅは、赤色有機ＥＬ素子１０Ｒ，緑色有機ＥＬ素子１０Ｇ，青色有機ＥＬ素子１０Ｂの共通層として設けられている。

正孔注入層１６ＡＲ，１６ＡＧ，１６ＡＢは、各発光層１６ＣＲ，１６ＣＧ，１６ＣＢへの正孔注入効率を高めるためのものであると共に、リークを防止するためのバッファ層であり、下部電極１４の上に赤色有機ＥＬ素子１０Ｒ，緑色有機ＥＬ素子１０Ｇ，青色有機ＥＬ素子１０Ｂの各々ごとに設けられている。

正孔注入層１６ＡＲ，１６ＡＧ，１６ＡＢの厚みは例えば５ｎｍ〜１００ｎｍであることが好ましく、より好ましくは８ｎｍ〜５０ｎｍである。正孔注入層１６ＡＲ，１６ＡＧ，１６ＡＢの構成材料は、電極や隣接する層の材料との関係で適宜選択すればよく、ポリアニリン、ポリチオフェン、ポリピロール、ポリフェニレンビニレン、ポリチエニレンビニレン、ポリキノリン、ポリキノキサリンおよびそれらの誘導体、芳香族アミン構造を主鎖又は側鎖に含む重合体などの導電性高分子、金属フタロシアニン（銅フタロシアニン等）、カーボンなどが挙げられる。

正孔注入層１６ＡＲ，１６ＡＧ，１６ＡＢに用いられる材料が高分子材料である場合には、その高分子材料の重量平均分子量（Ｍｗ）は１万〜３０万の範囲であればよく、特に５０００〜２０万程度が好ましい。また、２０００〜１万程度のオリゴマーを用いてもよいが、Ｍｗが５０００未満では正孔輸送層以後の層を形成する際に、正孔注入層が溶解してしまう虞がある。また３０万を超えると材料がゲル化し、成膜が困難になる虞がある。

正孔注入層１６ＡＲ，１６ＡＧ，１６ＡＢの構成材料として使用される典型的な導電性高分子としては、例えばポリアニリン、オリゴアニリンおよびポリ（３，４−エチレンジオキシチオフェン）（ＰＥＤＯＴ）などのポリジオキシチオフェンが挙げられる。この他、エイチ・シー・スタルク製Nafion(商標)で市販されているポリマー、または商品名Liquion(商標)で溶解形態で市販されているポリマーや、日産化学製エルソース（商標）や、綜研化学製導電性ポリマーベラゾール（商標）などがある。

赤色有機ＥＬ素子１０Ｒ，緑色有機ＥＬ素子１０Ｇおよび青色有機ＥＬ素子１０Ｂの正孔輸送層１６ＢＲ，１６ＢＧ，１６ＢＢは、赤色発光層１６ＣＲ，緑色発光層１６ＣＧ，青色発光層１６ＣＢへの正孔輸送効率を高めるためのものである。正孔輸送層１６ＢＲ，１６ＢＧ，１６ＢＢは、正孔注入層１６ＡＲ，１６ＡＧ，１６ＡＢの上に赤色有機ＥＬ素子１０Ｒ，緑色有機ＥＬ素子１０Ｇ，青色有機ＥＬ素子１０Ｂの各々ごとに設けられている。

正孔輸送層１６ＢＲ，１６ＢＧ，１６ＢＢの厚みは、素子の全体構成にもよるが、例えば１０ｎｍ〜２００ｎｍであることが好ましく、さらに好ましくは１５ｎｍ〜１５０ｎｍである。正孔輸送層１６ＢＲ，１６ＢＧ，１６ＢＢを構成する高分子材料としては、有機溶媒に可溶な発光材料、例えば、ポリビニルカルバゾール、ポリフルオレン、ポリアニリン、ポリシランまたはそれらの誘導体、側鎖または主鎖に芳香族アミンを有するポリシロキサン誘導体、ポリチオフェンおよびその誘導体、ポリピロールなどを用いることができる。

更に好ましくは、それぞれ上下に接する正孔注入層１６ＡＲ，１６ＡＧ，１６ＡＢおよび各色の発光層１６ＣＲ，１６ＣＧ、１６ＣＢとの密着性が良好であり、有機溶媒に可溶な性質を有する式（１）で表わされる高分子材料が挙げられる。

（Ａ１３〜Ａ１６は、芳香族炭化水素基またはその誘導体が１〜１０個結合した基、あるいは複素環基またはその誘導体が１〜１５個結合した基である。ｎおよびｍは０〜１００００の整数であり、ｎ＋ｍは１０〜２００００の整数である。）

また、ｎ部およびｍ部の配列順序は任意であり、例えばランダム重合体、交互共重合体、周期的共重合体、ブロック共重合体のいずれであってもよい。更に、ｎおよびｍは５〜５０００の整数であることが好ましく、より好ましくは１０〜３０００の整数である。また、ｎ＋ｍは１０〜１００００の整数であることが好ましく、より好ましくは２０〜６０００の整数である。

更に、式（１）で表わされる化合物におけるＡ１３〜Ａ１６が示す芳香族炭化水素基の具体例としては、例えばベンゼン、フルオレン、ナフタレン、アントラセン、あるいはこれらの誘導体、またはフェニレンビニレン誘導体、スチリル誘導体等が挙げられる。複素環基の具体例としては、例えばチオフェン、ピリジン、ピロール、カルバゾール、あるいはこれらの誘導体が挙げられる。

また式（１）で表わされる化合物におけるＡ１３〜Ａ１６が置換基を有する場合、この置換基は、例えば炭素数１〜１２の直鎖あるいは分岐のアルキル基、アルケニル基である。具体的には、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、ノニル基、デシル基、ウンデシル基、ドデシル基、ビニル基、アリル基等であることが好ましい。

式（１）に示した化合物の具体例としては、例えば以下の式（１−１）〜式（１−３）に示した化合物、ポリ［（９，９−ジオクチルフルオレニル−２，７−ジイル）−ｃｏ−（４，４'−（Ｎ−（４−ｓｅｃ−ブチルフェニル））ジフェニルアミン）］（ＴＦＢ，式（１−１））、ポリ［（９，９−ジオクチルフルオレニル−２，７−ジイル）−ａｌｔ−ｃｏ−（Ｎ，Ｎ'−ビス｛４−ブチルフェニル｝−ベンジジンＮ，Ｎ'−｛１，４−ジフェニレン｝）］（式（１−２））、ポリ［（９，９−ジオクチルフルオレニル−２，７−ジイル）］（ＰＦＯ，式（１−３））が好ましいが、この限りではない。

赤色発光層１６ＣＲ，緑色発光層１６ＣＧおよび青色発光層１６ＣＢでは、電界をかけることにより電子と正孔との再結合が起こり発光する。赤色発光層１６ＣＲ，緑色発光層１６ＣＧ，青色発光層１６ＣＢの厚みは、素子の全体構成にもよるが、例えば１０ｎｍ〜２００ｎｍであることが好ましく、さらに好ましくは１５ｎｍ〜１５０ｎｍである。赤色発光層１６ＣＲ，緑色発光層１６ＣＧおよび青色発光層１６ＣＢは高分子（発光）材料に低分子材料が添加された混合材料により構成されている。ここで低分子材料とは、モノマーまたはこのモノマーを２〜１０個結合したオリゴマーとし、１万以下の重量平均分子量を有するものが好ましい。なお、重量平均分子量が上記範囲を超えた低分子材料を必ずしも除外するものではない。

赤色発光層１６ＣＲ，緑色発光層１６ＣＧおよび青色発光層１６ＣＢは、詳細は後述するが、例えばインクジェット等の塗付法により形成する。その際、高分子材料および低分子材料を例えばトルエン、キシレン、アニソール、シクロヘキサノン、メシチレン（１，３，５−トリメチルベンゼン）、ブサイドクメン(１，２，４−トリメチルベンゼン)、ジハイドロベンゾフラン、１，２，３，４−テトラメチルベンゼン、テトラリン、シクロヘキシルベンゼン、１−メチルナフタレン、ｐ−アニシルアルコール、ジメチルナフタレン、３-メチルビフェニル、４−メチルビフェニル、３−イソプロピルビフェニル、モノイソプロピルナフタレンなどの有機溶媒に少なくとも1種類以上使って溶解し、この混合溶液を用いて形成する。

赤色発光層１６ＣＲ，緑色発光層１６ＣＧおよび青色発光層１６ＣＢを構成する高分子材料（発光ユニット）としては、例えばポリフルオレン系高分子誘導体や、ポリフェニレンビニレン誘導体、ポリフェニレン誘導体、ポリビニルカルバゾール誘導体、ポリチオフェン誘導体等の発光性高分子が挙げられる。特に本実施の形態では、一重項励起子から発光する高分子発光層として、赤色発光層１６ＣＲにAmerican Dye Source社製の商品名ＡＤＳ１１１ＲＥ（商標；式（２−１））、緑色発光層１６ＣＧに同社製の商品名ＡＤＳ１０９ＧＥ（商標；式（２−２））、青色発光層１６ＣＢに同社製の商品名ＡＤＳ１３６ＢＥ（商標；式（２−３））が挙げられる。なお、ここで用いられる高分子材料は共役系高分子だけに限らず、ペンダント形の非共役系高分子および色素混合型の非共役系高分子も含み、近年開発が進められている、中心にコアの分子を配しデンドロンと呼ばれる側鎖から構成されるデンドリマー型の高分子発光材料であってもよい。また、高分子材料に含まれる置換基は限定されず、式（２−１），式（２−２），式（２−３）に示した主骨格に対して必要に応じて電子輸送性および／または正孔輸送性を有する置換基を含んでいてもよい。更に、発光部位に関しては、一重項励起子から発光するもの、三重項励起子から発光するものおよびこの両者から発光するものがあるが、本実施の形態の各発光層１６ＣＲ，１６ＣＧ，１６ＣＢはいずれの発光部位を含んでいてもよい。

また、上記以外の発光ユニットとしては、アントラセン，ナフタレン，フェナントレン，ピレン，テトラセン，コロネン，クリセン，フルオレセイン，ペリレン，フタロペリレン，ナフタロペリレン，ペリノン，フタロペリノン，ナフタロペリノン，ジフェニルブタジエン、テトラフェニルブタジエン，クマリンモキサジアゾール，アルダジン，ビスベンゾキサゾリン，ビススチリル，ピラジン，シクロペンタジエン，キノリン金属錯体，アミノキノリン金属錯体，ベンゾキノリン金属錯体，イミン，ジフェニルエチレン，ビニルアントラセン，ジアミノカルバゾール，ピラン，チオピラン，ポリメチン，メロシアニン，イミダゾールキレート化オキシノイド化合物，キナクリドン，ルブレン等の芳香族炭化水素、または複素環式化合物が挙げられる。更に、三重項励起状態を伴う発光ユニットを用いることができる。三重項励起状態を伴う発光ユニットとしては、イリジウム金属錯体等の金属錯体を含む化合物が多いが、金属錯体の含有も含めこの限りではない。三重項励起状態から発光する高分子発光材料の具体例としては、赤色りん光発光材料としてＲＰＰ（式（３−１））、緑色りん光発光材料としてＧＰＰ（式（３−２））、青色りん光発光材料としてＢＰＰ（式（３−３））等が挙げられる。

また、赤色発光層１６ＣＲ，緑色発光層１６ＣＧおよび青色発光層１６ＣＢを構成する高分子材料には低分子材料を添加することが好ましい。これにより、電子輸送層１６Ｄから赤色発光層１６ＣＲ，緑色発光層１６ＣＧおよび青色発光層１６ＣＢへの正孔および電子の注入効率が向上する。以下にその原理を説明する。

高分子材料のみから構成される赤色発光層１６ＣＲ，緑色発光層１６ＣＧおよび青色発光層１６ＣＢの上部に低分子材料からなる電子輸送層１６Ｄを形成した場合には、赤色発光層１６ＣＲ，緑色発光層１６ＣＧおよび青色発光層１６ＣＢのエネルギー準位と、電子輸送層１６Ｄのエネルギー準位との差は大きい。このため、電子輸送層１６Ｄと赤色発光層１６ＣＲ，緑色発光層１６ＣＧおよび青色発光層１６ＣＢ各々との間の正孔または電子の注入効率は非常に低く、前述のように、本来の高分子材料からなる発光層が有する特性を十分に得ることができないという問題があった。本実施の形態では、この正孔または電子の注入特性を向上させるために、赤色発光層１６ＣＲ，緑色発光層１６ＣＧおよび青色発光層１６ＣＢが有するエネルギー準位と、電子輸送層１６Ｄが有するエネルギー準位との差を小さくする低分子材料（モノマーまたはオリゴマー）を赤色発光層１６ＣＲ，緑色発光層１６ＤＧおよび青色発光層１６ＣＢに添加するものである。ここでは、赤色発光層１６ＣＲ，緑色発光層１６ＣＲおよび青色発光層１６ＣＢの最高占有分子軌道（Highest Occupied Molecular Orbital；ＨＯＭＯ）準位および最低非占有分子軌道（Lowest Unoccupied Molecular Orbital；ＬＵＭＯ）準位と、電子輸送層１６ＤのＨＯＭＯ（最高占有分子軌道）準位および最低非占有分子軌道（ＬＵＭＯ）準位と赤色発光層１６ＣＲ，緑色発光層１６ＣＧおよび青色発光層１６ＣＢに添加する低分子材料のＨＯＭＯ（最高占有分子軌道）準位および最低非占有分子軌道（ＬＵＭＯ）準位との関係を考慮する。具体的には、添加する低分子材料として、赤色発光層１６ＣＲまたは緑色発光層１６ＣＧそれぞれのＬＵＭＯより深い値を有すると共に、電子輸送層１６ＤのＬＵＭＯより浅い値を有し、かつ、赤色発光層１６ＣＲ，緑色発光層１６ＣＧおよび青色発光層１６ＣＢそれぞれのＨＯＭＯより深い値を有すると共に、電子輸送層１６ＤのＨＯＭＯより浅い値を有する化合物を選択する。

但し、赤色発光層１６ＣＲ，緑色発光層１６ＣＧおよび青色発光層１６ＣＢに用いる材料は、上記ＨＯＭＯおよびＬＵＭＯの値による基準に必ずしも制限されない。例えば発光層２６ＣＲ，２６ＣＧ，２６ＣＢと電子輸送層２６Ｄとの間に後述するホールブロック層２６Ｆを設ける場合にはこの限りではない。具体的には、電子輸送性を示すホールブロック層２６ＦのＬＵＭＯは、赤色発光層１６ＣＲ，緑色発光層１６ＣＧおよび青色発光層１６ＣＢの低分子材料より浅くても構わない。また、発光層２６Ｃに混合する低分子材料は単独で混合するとは限らず、エネルギー準位の異なる材料を複数種類混合して用いることにより、正孔および電子の輸送が円滑に行われる。

また、赤色発光層１６ＣＲ，緑色発光層１６ＣＧおよび青色発光層１６ＣＢに添加する低分子材料は、低分子化合物が同じ反応または類似の反応を連鎖的に繰り返すことにより生じた高分子量の重合体または縮合体の分子からなる化合物以外のものであって、分子量が実質的に単一であるものを指す。また、上記低分子材料は加熱による分子間の新たな化学結合は生じず、単分子で存在する。このような低分子材料の重量平均分子量（Ｍｗ）は１万以下であることが好ましい。更に、高分子材料／低分子材料の分子量比が１０以上であることが好ましい。これは分子量の大きい、例えば５万以上の材料に比べてある程度小さい分子量の材料のほうが多様な特性を有し、正孔または電子の移動度やバンドギャップあるいは溶媒への溶解度などを調整しやすいためである。また、低分子材料の添加量は、赤色発光層１６ＣＲ，緑色発光層１６ＣＧおよび青色発光層１６ＣＢに用いられる高分子材料：低分子材料の混合比率が、その重量比で２０：１以上１：１以下になるようにすることが好ましい。高分子材料：低分子材料の混合比率が２０：１未満では、低分子材料の添加による効果が低くなるためである。また、この混合比率が１：１を超える場合には、発光材料としての高分子材料が有する特性が得られにくくなるためである。

上述のように、赤色発光層１６ＣＲ，緑色発光層１６ＣＧおよび青色発光層１６ＣＢへ低分子材料を添加することにより、正孔および電子のキャリアバランスを調整することがより簡易になる。これにより、後述する電子輸送層１６Ｄを形成することによって起こる、赤色発光層１６ＣＲ，緑色発光層１６ＣＧおよび青色発光層１６ＣＢへの電子注入性の低下および正孔輸送性の低下が抑制される。即ち、赤色有機ＥＬ素子１０Ｒ，緑色有機ＥＬ素子１０Ｇおよび青色有機ＥＬ素子１０Ｂの発光効率および寿命の低下、駆動電圧の上昇が抑制される。

このような低分子材料としては、例えばベンジン、スチリルアミン、トリフェニルアミン、ポルフィリン、トリフェニレン、アザトリフェニレン、テトラシアノキノジメタン、トリアゾール、イミダゾール、オキサジアゾール、ポリアリールアルカン、フェニレンジアミン、アリールアミン、オキザゾール、アントラセン、フルオレノン、ヒドラゾン、スチルベンあるいはこれらの誘導体、または、ポリシラン系化合物、ビニルカルバゾール系化合物、チオフェン系化合物あるいはアニリン系化合物等の複素環式共役系のモノマーあるいはオリゴマーを用いることができる。

さらに具体的な材料としては、α−ナフチルフェニルフェニレンジアミン、ポルフィリン、金属テトラフェニルポルフィリン、金属ナフタロシアニン、ヘキサシアノアザトリフェニレン、７,７,８,８−テトラシアノキノジメタン（ＴＣＮＱ）、７,７,８,８−テトラシアノ−２，３，５，６-テトラフルオロキノジメタン（Ｆ４−ＴＣＮＱ）、テトラシアノ４、４、４−トリス（３−メチルフェニルフェニルアミノ）トリフェニルアミン、Ｎ、Ｎ、Ｎ’、Ｎ’−テトラキス（ｐ−トリル）ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ、Ｎ、Ｎ’、Ｎ’−テトラフェニル−４、４’−ジアミノビフェニル、Ｎ−フェニルカルバゾール、４−ジ−ｐ−トリルアミノスチルベン、ポリ（パラフェニレンビニレン）、ポリ（チオフェンビニレン）、ポリ（２、２’−チエニルピロール）などが挙げられるが、これらに限定されるものではない。

さらに好ましくは、下記の式（４）〜式（６）で表わされる低分子材料が挙げられる。

（Ａ１〜Ａ３は芳香族炭化水素基、複素環基またはそれらの誘導体である。）

（Ｚは含窒素炭化水素基あるいはその誘導体である。Ｌ１は２価の芳香族環基が１ないし４個結合した基、具体的には１〜４個の芳香族環が連結した２価の基、またはその誘導体である。Ａ４およびＡ５は、芳香族炭化水素基あるいは芳香族複素環基、またはその誘導体である。但し、Ａ４およびＡ５は互いに結合して環状構造を形成してもよい。）

（Ｌ２は２価の芳香族環基が２ないし６個結合した基である。具体的には２〜６個の芳香族環が連結した２価の基、またはその誘導体である。Ａ６〜Ａ９は、芳香族炭化水素基あるいは複素環基、またはその誘導体が１〜１０個結合した基である。）

式（４）に示した化合物の具体例としては、以下の式（４−１）〜式（４−４８）などの化合物が挙げられる。

式（５）に示した化合物の具体例としては、以下の式（５−１）〜式（５−１６６）などの化合物が挙げられる。なお、ここでＬ１に結合する含窒素炭化水素基として、例えばカルバゾール基やインドール基を有する化合物を挙げたがこれに限らない。例えばイミダゾール基を用いてもよい。

式（６）に示した化合物の具体例としては、以下の式（６−１）〜式（６−４５）などの化合物が挙げられる。

また、赤色発光層１６ＣＲ，緑色発光層１６ＣＧおよび青色発光層１６ＣＢへ添加する低分子材料としては、式（７）に表わされる化合物が挙げられるが、これに限定されるものではない。

（Ｒ２４〜Ｒ２９は、水素原子、ハロゲン原子、水酸基、または炭素数２０以下のアルキル基、アルケニル基、カルボニル基を有する基、カルボニルエステル基を有する基、アルコキシル基を有する基、シアノ基を有する基、ニトロ基を有する基、あるいはそれらの誘導体、炭素数３０以下のシリル基を有する基、アリール基を有する基、複素環基を有する基、アミノ基を有する基あるいはそれらの誘導体である。）

式（７）で表わされる化合物におけるＲ２４〜Ｒ２９が示すアリール基を有する基としては、例えば、フェニル基、１−ナフチル基、２−ナフチル基、フルオレニル基、１−アントリル基、２−アントリル基、９−アントリル基、１−フェナントリル基、２−フェナントリル基、３−フェナントリル基、４−フェナントリル基、９−フェナントリル基、１−ナフタセニル基、２−ナフタセニル基、９−ナフタセニル基、１−ピレニル基、２−ピレニル基、４−ピレニル基、１−クリセニル基、６−クリセニル基、２−フルオランテニル基、３−フルオランテニル基、２−ビフェニルイル基、３−ビフェニルイル基、４−ビフェニルイル基、ｏ−トリル基、ｍ−トリル基、ｐ−トリル基、ｐ−ｔ−ブチルフェニル基等が挙げられる。

また、Ｒ２４〜Ｒ２９が示す複素環基を有する基としては、ヘテロ原子として酸素原子（Ｏ）、窒素原子（Ｎ）、硫黄原子（Ｓ）を含有する５員環または６員環の芳香環基であり、炭素数２〜２０の縮合多環芳香環基が挙げられる。このような複素環基としては、例えばチエニル基、フリル基、ピロリル基、ピリジル基、キノリル基、キノキサリル基、イミダゾピリジル基、ベンゾチアゾール基が挙げられる。代表的なものとしては，１−ピロリル基、２−ピロリル基、３−ピロリル基、ピラジニル基、２−ピリジニル基、３−ピリジニル基、４−ピリジニル基、１−インドリル基、２−インドリル基、３−インドリル基、４−インドリル基、５−インドリル基、６−インドリル基、７−インドリル基、１−イソインドリル基、２−イソインドリル基、３−イソインドリル基、４−イソインドリル基、５−イソインドリル基、６−イソインドリル基、７−イソインドリル基、２−フリル基、３−フリル基、２−ベンゾフラニル基、３−ベンゾフラニル基、４−ベンゾフラニル基、５−ベンゾフラニル基、６−ベンゾフラニル基、７−ベンゾフラニル基、１−イソベンゾフラニル基、３−イソベンゾフラニル基、４−イソベンゾフラニル基、５−イソベンゾフラニル基、６−イソベンゾフラニル基、７−イソベンゾフラニル基、キノリル基、３−キノリル基、４−キノリル基、５−キノリル基、６−キノリル基、７−キノリル基、８−キノリル基、１−イソキノリル基、３−イソキノリル基、４−イソキノリル基、５−イソキノリル基、６−イソキノリル基、７−イソキノリル基、８−イソキノリル基、２−キノキサリニル基、５−キノキサリニル基、６−キノキサリニル基、１−カルバゾリル基、２−カルバゾリル基、３−カルバゾリル基、４−カルバゾリル基、９−カルバゾリル基、１−フェナンスリジニル基、２−フェナンスリジニル基、３−フェナンスリジニル基、４−フェナンスリジニル基、６−フェナンスリジニル基、７−フェナンスリジニル基、８−フェナンスリジニル基、９−フェナンスリジニル基、１０−フェナンスリジニル基、１−アクリジニル基、２−アクリジニル基、３−アクリジニル基、４−アクリジニル基、９−アクリジニル基、などが挙げられる。

Ｒ２４〜Ｒ２９が示すアミノ基を有する基としては、アルキルアミノ基、アリールアミノ基、アラルキルアミノ基などのいずれでもよい。これらは、炭素数１〜６個の脂肪族炭化水素基および／または１〜４個の芳香環基を有することが好ましい。このような基としては、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、ジブチルアミノ基、ジフェニルアミノ基、ジトリルアミノ基、ビスビフェニリルアミノ基、ジナフチルアミノ基が挙げられる。なお、上記置換基は２以上の置換基からなる縮合環を形成していてもよく、さらにその誘導体でもよい。

式（７）に示した化合物の具体例としては、以下の式（７−１）〜式（７−５１）などの化合物が挙げられる。

更に、赤色発光層１６ＣＲ，緑色発光層１６ＣＧおよび青色発光層１６ＣＢへ添加する低分子材料としては、電子輸送能を有する化合物を用いることができる。具体的には、下記の式（８）〜式（１０）で表わされるベンゾイミダゾール誘導体（式（８）），ピリジルフェニル誘導体（式（９）），ビピリジン誘導体（式（１０））が挙げられるが、これらに限定されるものではない。

（Ａ１０は水素原子あるいはハロゲン原子、炭素数１〜２０個のアルキル基、３〜４０個の芳香族環が縮合した多環芳香族炭化水素基を有する炭素数６〜６０個の炭化水素基または含窒素複素環基あるいはそれらの誘導体である。Ｂは単結合、２価の芳香族環基あるいはその誘導体である。Ｒ７，８は各々独立して水素原子あるいはハロゲン原子、炭素数１〜２０個のアルキル基、炭素数６〜６０個の芳香族炭化水素基、含窒素複素環基または炭素数１〜２０個のアルコキシ基あるいはそれらの誘導体である。）

（Ａ１１は芳香族環が２ないし５個縮合したｎ価の基である。具体的には３個の芳香族環が縮合したｎ価のアセン系芳香族環基、またはその誘導体である。Ｒ９〜Ｒ１３は各々独立して水素原子あるいはハロゲン原子、Ａ１１またはＲ１５〜Ｒ１９のいずれか１つに結合する遊離原子価である。Ｒ１５〜Ｒ１９は各々独立して水素原子、ハロゲン原子またはＲ９〜Ｒ１３のいずれか１つに結合する遊離原子価である。ｎは２以上の整数であり、ｎ個のピリジルフェニル基は同一でもよく、異なっていてもよい。）

（Ａ１２は芳香族環が２ないし５個縮合したｍ価の基である。具体的には３個の芳香族環が縮合したｎ価のアセン系芳香族環基、またはその誘導体である。Ｒ２０〜Ｒ２４は各々独立して水素原子あるはハロゲン原子、Ａ１２またはＲ２５〜Ｒ２９のいずれか１つに結合する遊離原子価である。Ｒ２５〜Ｒ２９は各々独立して水素原子、ハロゲン原子またはＲ２０〜Ｒ２４のいずれか１つに結合する遊離原子価である。ｍは２以上の整数であり、ｍ個のビピリジル基は同一でもよく、異なっていてもよい。）

式（８）に示した化合物の具体例としては、以下の式（８−１）〜式（８−４９）などの化合物が挙げられる。なお、式（８−１）から式（８−４３）におけるＡｒ（α）は式（８）中のＲ７，Ｒ８を含むベンゾイミダゾール骨格に、Ｂは式（８）中のＢに対応する。Ａｒ（１）およびＡｒ（２）は式（８）中のＡ１０に対応し、Ａｒ（１），Ａｒ（２）の順にＢに結合する。

式（９）に示した化合物の具体例としては、以下の式（９−１）〜式（９−８１）などの化合物が挙げられる。

式（１０）に示した化合物の具体例としては、以下の式（１０−１）〜式（１０−１７）などの化合物が挙げられる。

また、赤色発光層１６ＣＲ，緑色発光層１６ＣＧおよび青色発光層１６ＣＢへ添加する低分子材料としては、上記式（８）〜式（１０）で表わされる化合物の他に、例えば下記の式（１１）で表わされるピラゾール誘導体が挙げられる。

（Ｒ３０〜Ｒ３２は水素原子、１〜３個の芳香族環が縮合した芳香族炭化水素基あるいはそれらの誘導体、炭素数１〜６個の炭化水素基を有する１〜３個の芳香族環が縮合した芳香族炭化水素基あるいはそれらの誘導体、炭素数６〜１２個の芳香族炭化水素基を有する１〜３個の芳香族環が縮合した芳香族炭化水素基あるいはそれらの誘導体である。）

式（１１）で表わされる化合物におけるＲ３０〜Ｒ３２が示す芳香族炭化水素基を有する基としては、例えば、フェニル基、２-メチルフェニル基、３−メチルフェニル基、４−メチルフェニル基、２，４−ジメチルフェニル基、３，４−ジメチルフェニル基、２、４，５−トリメチルフェニル基、４−エチルフェニル基、４−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル基、１−ナフチル基、２−ナフチル基、１−アンスラセニル基、２−アンスラセニル基、９−アンスラセニル基、９−フェンスレニル基等が挙げられるが上記に限定されるものでもない。なお、Ｒ３０〜Ｒ３２は同一であっても、異なっていてもよい。

式（１１）に示した化合物の具体例としては、同一分子中に２個以上４個未満のピラゾール構造を含む以下の式（１１−１）〜式（１１−５）等の化合物が挙げられる。

更にまた、りん光発光材料を用いることができる。具体的には、ベリリウム（Ｂｅ），ホウ素（Ｂ），亜鉛（Ｚｎ），カドミウム（Ｃｄ），マグネシウム（Ｍｇ），金（Ａｕ），銀（Ａｇ），パラジウム（Ｐｄ），白金（Ｐｔ），アルミニウム（Ａｌ），ガドリニウム（Ｇａ），イットリウム（Ｙ），スカンジウム（Ｓｃ），ルテニウム（Ｒｕ），ロジウム（Ｒｈ），オスミウム（Ｏｓ），イリジウム（Ｉｒ）等の金属元素を少なくとも１種含む金属錯体が挙げられる。更に具体的には、式（１２−１）〜式（１２−２９）に表わされる化合物が挙げられるが、これらに限定されるものではない。

なお、赤色発光層１６ＣＲ，緑色発光層１６ＣＧおよび青色発光層１６ＣＢに添加する低分子材料は１種類だけでなく、複数種類を混合して用いてもよい。

電子輸送層１６Ｄは、赤色発光層１６ＣＲ，緑色発光層１６ＣＧ，青色発光層１６ＣＢへの電子輸送効率を高めるためのものであり、青色発光層１６ＣＢの全面に共通層として設けられている。電子輸送層１６Ｄの厚みは素子の全体構成にもよるが、例えば５ｎｍ〜３００ｎｍであることが好ましく、さらに好ましくは１０ｎｍ〜１７０ｎｍである。

電子輸送層１６Ｄの材料としては、優れた電子輸送能を有する有機材料を用いることが好ましい。発光層１６Ｃへの電子の輸送効率を高めることにより、後述する電界強度による赤色有機ＥＬ素子１０Ｒ，緑色有機ＥＬ素子１０Ｇおよび青色有機ＥＬ素子１０Ｂにおける発光色の変化が抑制される。このような有機材料としては、具体的には電子移動度が１０^-6ｃｍ²／Ｖｓ以上１．０×１０^-1ｃｍ²／Ｖｓ以下の含窒素複素環誘導体を用いることができる。

また、電子輸送層１６Ｄに用いる有機材料は１種類だけでなく、複数種類を混合または積層して用いてもよい。更にまた、上記化合物は後述する電子注入層１６Ｅに用いてもよい。

電子注入層１６Ｅは、電子注入効率を高めるためのものであり、電子輸送層１６Ｄの全面に共通層として設けられている。電子注入層１６Ｅの材料としては、例えばリチウム（Ｌｉ）の酸化物である酸化リチウム（ＬｉＯ₂）や、セシウム（Ｃｓ）の複合酸化物である炭酸セシウム（Ｃｓ₂ＣＯ₃）、さらにはこれらの酸化物及び複合酸化物の混合物を用いることができる。また、電子注入層１６Ｅは、このような材料に限定されることはなく、例えば、カルシウム（Ｃａ）、バリウム（Ｂａ）等のアルカリ土類金属、リチウム、セシウム等のアルカリ金属、さらにはインジウム（Ｉｎ）、マグネシウム（Ｍｇ）等の仕事関数の小さい金属、さらにはこれらの金属の酸化物及び複合酸化物、フッ化物等を、単体でまたはこれらの金属および酸化物及び複合酸化物、フッ化の混合物や合金として安定性を高めて使用してもよい。更に、上記電子輸送層１６Ｄの材料として挙げた式（８−１）〜式（１１−５）に示した有機材料を用いてもよい。

上部電極１７は、例えば、厚みが２ｎｍ以上１５ｎｍ以下であり、金属導電膜により構成されている。具体的には、Ａｌ，Ｍｇ，ＣａまたはＮａの合金が挙げられる。中でも、マグネシウムと銀との合金（Ｍｇ−Ａｇ合金）は、薄膜での導電性と吸収の小ささとを兼ね備えているので好ましい。Ｍｇ−Ａｇ合金におけるマグネシウムと銀との比率は特に限定されないが、膜厚比でＭｇ：Ａｇ＝２０：１〜１：１の範囲であることが望ましい。また、上部電極１７の材料は、ＡｌとＬｉとの合金（Ａｌ−Ｌｉ合金）でもよい。

更に、上部電極１７は、アルミキノリン錯体、スチリルアミン誘導体、フタロシアニン誘導体等の有機発光材料を含有した混合層でもよい。この場合には、さらに第３層としてＭｇＡｇのような光透過性を有する層を別途有していてもよい。なお、上部電極１７は、アクティブマトリックス駆動方式の場合、有機層１６と隔壁１５とによって、下部電極１４と絶縁された状態で基板１１上にベタ膜状に形成され、赤色有機ＥＬ素子１０Ｒ，緑色有機ＥＬ素子１０Ｇ，青色有機ＥＬ素子１０Ｂの共通電極として用いられる。

保護層３０は、例えば厚みが２〜３μｍであり、絶縁性材料または導電性材料のいずれにより構成されていてもよい。絶縁性材料としては、無機アモルファス性の絶縁性材料、例えばアモルファスシリコン（α−Ｓｉ）,アモルファス炭化シリコン（α−ＳｉＣ）,アモルファス窒化シリコン（α−Ｓｉ_1-xＮ_x）、アモルファスカーボン（α−Ｃ）などが好ましい。このような無機アモルファス性の絶縁性材料は、グレインを構成しないため透水性が低く、良好な保護膜となる。

封止用基板４０は、赤色有機ＥＬ素子１０Ｒ，緑色有機ＥＬ素子１０Ｇ，青色有機ＥＬ素子１０Ｂの上部電極１７の側に位置しており、接着層（図示せず）と共に赤色有機ＥＬ素子１０Ｒ，緑色有機ＥＬ素子１０Ｇ，青色有機ＥＬ素子１０Ｂを封止するものである。光を封止基板の上方から取り出すトップエミッション方式では、封止用基板４０は、赤色有機ＥＬ素子１０Ｒ，緑色有機ＥＬ素子１０Ｇ，青色有機ＥＬ素子１０Ｂで発生した光に対して透明なガラスなどの材料により構成されている。封止用基板４０には、例えば、カラーフィルタおよびブラックマトリクスとしての遮光膜（いずれも図示せず）が設けられており、赤色有機ＥＬ素子１０Ｒ，緑色有機ＥＬ素子１０Ｇ，青色有機ＥＬ素子１０Ｂで発生した光を取り出すと共に、赤色有機ＥＬ素子１０Ｒ，緑色有機ＥＬ素子１０Ｇ，青色有機ＥＬ素子１０Ｂ並びにその間の配線において反射された外光を吸収し、コントラストを改善するようになっている。なお、光を下部電極から取り出すボトムエミッション方式では、封止基板４０の可視光に対する透過性は問わない。

カラーフィルタは、赤色フィルタ，緑色フィルタおよび青色フィルタ（いずれも図示せず）を有しており、赤色有機ＥＬ素子１０Ｒ，緑色有機ＥＬ素子１０Ｇ，青色有機ＥＬ素子１０Ｂに対応して順に配置されている。赤色フィルタ，緑色フィルタおよび青色フィルタは、それぞれ例えば矩形形状で隙間なく形成されている。これら赤色フィルタ，緑色フィルタおよび青色フィルタは、顔料を混入した樹脂によりそれぞれ構成されており、顔料を選択することにより、目的とする赤，緑あるいは青の波長域における光透過率が高く、他の波長域における光透過率が低くなるように調整されている。

更に、カラーフィルタにおける透過率の高い波長範囲と、共振器構造ＭＣ１から取り出したい光のスペクトルのピーク波長λとは一致している。これにより、封止用基板４０から入射する外光のうち、取り出したい光のスペクトルのピーク波長λに等しい波長を有するもののみがカラーフィルタを透過し、その他の波長の外光が各色の有機ＥＬ素子１０Ｒ，１０Ｇ，１０Ｂに侵入することが防止される。

遮光膜は、例えば黒色の着色剤を混入した光学濃度が１以上の黒色の樹脂膜、または薄膜の干渉を利用した薄膜フィルタにより構成されている。このうち黒色の樹脂膜により構成するようにすれば、安価で容易に形成することができるので好ましい。薄膜フィルタは、例えば、金属，金属窒化物あるいは金属酸化物よりなる薄膜を１層以上積層し、薄膜の干渉を利用して光を減衰させるものである。薄膜フィルタとしては、具体的には、Ｃｒと酸化クロム（ＩＩＩ）（Ｃｒ₂Ｏ₃）とを交互に積層したものが挙げられる。

この有機ＥＬ表示装置１は、例えば次のようにして製造することができる。

図４は、この有機ＥＬ表示装置の製造方法の流れを表したものであり、図５および図６は図４に示した製造方法を工程順に表したものである。まず、上述した材料よりなる基板１１の上に駆動トランジスタＴｒ１を含む画素駆動回路１４０を形成し、例えば感光性樹脂よりなる平坦化絶縁膜（図示せず）を設ける。

（下部電極１４を形成する工程）
次いで、基板１１の全面に例えばＩＴＯよりなる透明導電膜を形成し、この透明導電膜をパターニングすることにより、図５（Ａ）に示したように、下部電極１４を赤色有機ＥＬ素子１０Ｒ，緑色有機ＥＬ素子１０Ｇ，青色有機ＥＬ素子１０Ｂの各々ごとに形成する（ステップＳ１０１）。その際、下部電極１４を、平坦化絶縁膜（図示せず）のコンタクトホール（図示せず）を介して駆動トランジスタＴｒ１のドレイン電極と導通させる。

（隔壁１５を形成する工程）
続いて、同じく図５（Ａ）に示したように、下部電極１４上および平坦化絶縁膜（図示せず）上に、例えばＣＶＤ（Chemical Vapor Deposition；化学気相成長）法により、Ｓ
ｉＯ₂ 等の無機絶縁材料を成膜し、フォトリソグラフィ技術およびエッチング技術を用いてパターニングすることにより、下部隔壁１５Ａを形成する。

そののち、同じく図５（Ａ）に示したように、下部隔壁１５Ａの所定位置、詳しくは画素の発光領域を囲む位置に、上述した感光性樹脂よりなる上部隔壁１５Ｂを形成する。これにより、上部隔壁１５Ａおよび下部隔壁１５Ｂよりなる隔壁１５が形成される（ステップＳ１０２）。

隔壁１５を形成したのち、基板１１の下部電極１４および隔壁１５を形成した側の表面を酸素プラズマ処理し、その表面に付着した有機物等の汚染物を除去して濡れ性を向上させる。具体的には、基板１１を所定温度、例えば７０〜８０℃程度に加熱し、続いて大気圧下で酸素を反応ガスとするプラズマ処理（Ｏ₂プラズマ処理）を行う。

（撥水化処理を行う工程）
プラズマ処理を行ったのち、撥水化処理（撥液化処理）を行う（ステップＳ１０３）ことにより、特に上部隔壁１５Ｂの上面及び側面の濡れ性を低下させる。具体的には、大気圧下で４フッ化メタンを反応ガスとするプラズマ処理（ＣＦ₄プラズマ処理）を行い、その後、プラズマ処理のために加熱された基板１１を室温まで冷却することで、上部隔壁１５Ｂの上面及び側面を撥液化し、その濡れ性を低下させる。

なお、このＣＦ₄プラズマ処理においては、下部電極１４の露出面および下部隔壁１５Ａについても多少の影響を受けるが、下部電極１４の材料であるＩＴＯおよび下部隔壁１５Ａの構成材料であるＳｉＯ₂などはフッ素に対する親和性に乏しいため、酸素プラズマ処理で濡れ性が向上した面は濡れ性がそのままに保持される。

（正孔注入層１６ＡＲ，１６ＡＧ，１６ＡＢを形成する工程）
撥水化処理を行ったのち、図５（Ｂ）に示したように、上部隔壁１５Ｂに囲まれた領域内に、上述した材料よりなる正孔注入層１６ＡＲ，１６ＡＧ，１６ＡＢを形成する（ステップＳ１０４）。この正孔注入層１６ＡＲ，１６ＡＧ，１６ＡＢは、スピンコート法や液滴吐出法などの塗布法により形成する。特に、上部隔壁１５Ｂに囲まれた領域に正孔注入層１６ＡＲ，１６ＡＧ，１６ＡＢの形成材料を選択的に配する必要上、液滴吐出法であるインクジェット方式や、ノズルコート方式を用いることが好ましい。

具体的には、例えばインクジェット方式により、正孔注入層１６ＡＲ，１６ＡＧ，１６ＡＢの形成材料であるポリアニリンやポリチオフェン等の溶液または分散液を下部電極１４の露出面上に配する。その後、熱処理（乾燥処理）を行うことにより、正孔注入層１６ＡＲ，１６ＡＧ，１６ＡＢを形成する。

熱処理においては、溶媒または分散媒を乾燥後、高温で加熱する。ポリアニリンやポリチオフェン等の導電性高分子を用いる場合、大気雰囲気、もしくは酸素雰囲気が好ましい。酸素による導電性高分子の酸化により、導電性が発現しやすくなるためである。

加熱温度は、１５０℃〜３００℃が好ましく、さらに好ましくは１８０℃〜２５０℃である。時間は、温度、雰囲気にもよるが、５分〜３００分程度が好ましく、さらに好ましくは、１０分〜２４０分である。この乾燥後の膜厚みは、５ｎｍ〜１００ｎｍが好ましい。さらに好ましくは、８ｎｍ〜５０ｎｍである。

（正孔輸送層１６ＢＲ，１６ＢＧ，１６ＢＢを形成する工程）
正孔注入層１６ＡＲ，１６ＡＧ，１６ＡＢを形成したのち、図５（Ｃ）に示したように、正孔注入層１６ＡＲ，１６ＡＧ，１６ＡＢの上に、上述した高分子材料を含む正孔輸送層１６ＢＲ，１６ＢＧ，１６ＢＢを赤色有機ＥＬ素子１０Ｒ，緑色有機ＥＬ素子１０Ｇおよび青色有機ＥＬ素子１０Ｂの各々ごとに形成する（ステップＳ１０５）。この正孔輸送層１６ＢＲ，１６ＢＧ，１６ＢＢは、スピンコート法や液滴吐出法などの塗布法により形成する。特に、上部隔壁１５Ｂに囲まれた領域に正孔輸送層１６ＢＲ，１６ＢＧの形成材料を選択的に配する必要上、液滴吐出法であるインクジェット方式や、ノズルコート方式を用いることが好ましい。

具体的には、例えばインクジェット方式により、正孔輸送層１６ＢＲ，１６ＢＧ，１６ＢＢの形成材料である高分子ポリマーおよび低分子材料の混合溶液または分散液を正孔注入層１６ＡＲ，１６ＡＧ，１６ＡＢの露出面上に配する。その後、熱処理（乾燥処理）を行うことにより、赤色有機ＥＬ素子１０Ｒ，緑色有機ＥＬ素子１０Ｇの正孔輸送層１６ＢＲ，１６ＢＧ，１６ＢＢを形成する。

熱処理においては、溶媒または分散媒を乾燥後、高温で加熱する。塗布する雰囲気や溶媒を乾燥、加熱する雰囲気としては、窒素（Ｎ₂）を主成分とする雰囲気中が好ましい。酸素や水分があると、作成された有機ＥＬ表示装置の発光効率や寿命が低下する虞がある。特に、加熱工程においては、酸素や水分の影響が大きいため、注意が必要である。酸素濃度は、０．１ｐｐｍ以上１００ｐｐｍ以下が好ましく、５０ｐｐｍ以下であればより好ましい。１００ｐｐｍより多い酸素があると、形成した薄膜の界面が汚染され、得られた有機ＥＬ表示装置の発行効率や寿命が低下する虞がある。また、０．１ｐｐｍ未満の酸素濃度の場合、素子の特性は問題ないが、現状の量産のプロセスとして、雰囲気を０．１ｐｐｍ未満に保持するための装置コストが多大になる可能性がある。

また、水分については、露点が例えば−８０℃以上−４０℃以下であることが好ましい。更に、−５０℃以下であればより好ましく、−６０℃以下であれば更に好ましい。−４０℃より高い水分があると、形成した薄膜の界面が汚染され、得られた有機ＥＬ表示装置の発光効率や寿命が低下する虞がある。また、−８０℃未満の水分の場合、素子の特性は問題ないが、現状の量産のプロセスとして、雰囲気を−８０℃未満に保持するための装置コストが多大になる可能性がある。

加熱温度は、１００℃〜２３０℃が好ましく、さらに好ましくは１００℃〜２００℃である。少なくとも、正孔注入層１６ＡＲ，１６ＡＧ，１６ＡＢ形成時の温度よりも低いことが好ましい。時間は、温度、雰囲気にもよるが、５分〜３００分程度が好ましく、さらに好ましくは、１０分〜２４０分である。乾燥後の膜厚みは、素子の全体構成にもよるが、１０ｎｍ〜２００ｎｍが好ましい。さらに、１５ｎｍ〜１５０ｎｍであればより好ましい。

（赤色発光層１６ＣＲ，緑色発光層１６ＣＧおよび青色発光層１６ＣＢを形成する工程）
赤色有機ＥＬ素子１０Ｒ，緑色有機ＥＬ素子１０Ｇおよび青色有機ＥＬ素子１０Ｂの正孔輸送層１６ＢＲ，１６ＢＧ，１６ＢＢを形成したのち、図５（Ｄ）に示したように、赤色有機ＥＬ素子１０Ｒの正孔輸送層１６ＢＲの上に上述した高分子材料および低分子材料の混合材料よりなる赤色発光層１６ＣＲを形成する。また、同様に緑色有機ＥＬ素子１０Ｇおよび青色有機ＥＬ素子１０Ｂの正孔輸送層１６ＢＧ，１６ＢＢの上にそれぞれ上述した高分子材料および低分子材料の混合材料よりなる緑色発光層１６ＣＧおよび青色発光層１６ＣＢを形成する（ステップＳ１０６）。赤色発光層１６ＣＲ，緑色発光層１６ＣＧおよび青色発光層１６ＣＢは、スピンコート法や液滴吐出法などの塗布法により形成する。特に、上部隔壁１５Ｂに囲まれた領域に赤色発光層１６ＣＲおよび緑色発光層１６ＣＧの形成材料を選択的に配する必要上、液滴吐出法であるノズルコート方式や、インクジェット方式を用いることが好ましい。

具体的には、例えばインクジェット方式により、赤色発光層１６ＣＲ，緑色発光層１６ＣＧおよび青色発光層１６ＣＢの形成材料である高分子材料および低分子材料を、例えば1重量％になるように、キシレンとシクロヘキシルベンゼンを２：８に混合した溶媒に溶解した混合溶液または分散液を正孔輸送層１６ＢＲ，１６ＢＧ，１６ＢＢの露出面上に配する。その後、上記赤色有機ＥＬ素子１０Ｒ，緑色有機ＥＬ素子１０Ｇおよび青色有機ＥＬ素子１０Ｂの正孔輸送層１６ＢＲ，１６ＢＧ，１６ＢＢを形成する工程で説明した熱処理（乾燥処理）と同様の方法および条件の熱処理を行うことにより、赤色発光層１６ＣＲ，緑色発光層１６ＣＧおよび青色発光層１６ＣＢを形成する。

上記各工程において、乾燥と加熱とは別個の工程として分けて行うことが好ましい。理由として、乾燥工程では、塗布したウエット膜が、非常に流動しやすいために、膜ムラが起きやすいからである。好ましい乾燥工程は、常圧で均一に真空乾燥する方法であり、さらに、乾燥中に風などをあてずに乾燥させることが望ましい。加熱工程では、ある程度、溶媒が飛んで流動性が低下し、硬化した膜になっており、そこからゆっくりと、熱をかけることにより、微量に残存している溶媒を取り除いたり、発光材料や正孔輸送層の材料を分子レベルで再配列を起こさせることが可能となる。

（電子輸送層１６Ｄ，電子注入層１６Ｅおよび上部電極１７を形成する工程）
赤色発光層１６ＣＲ，緑色発光層１６ＣＧおよび青色発光層１６ＣＢを形成したのち、図６（Ａ），図６（Ｂ）および図６（Ｃ）に示したように、赤色発光層１６ＣＲ，緑色発光層１６ＣＧおよび青色発光層１６ＣＢの全面に、蒸着法により、上述した材料よりなる電子輸送層１６Ｄ，電子注入層１６Ｅおよび上部電極１７を形成する（ステップＳ１０７，Ｓ１０８，Ｓ１０９）。

上部電極１７を形成したのち、下地に対して影響を及ぼすことのない程度に、成膜粒子のエネルギーが小さい成膜方法、例えば蒸着法やＣＶＤ法により、保護層３０を形成する。例えば、アモルファス窒化シリコンからなる保護層３０を形成する場合には、ＣＶＤ法によって２〜３μｍの膜厚に形成する。この際、有機層１６の劣化による輝度の低下を防止するため、成膜温度を常温に設定すると共に、保護層３０の剥がれを防止するために膜のストレスが最小になる条件で成膜することが望ましい。

電子輸送層１６Ｄ，電子注入層１６Ｅ，上部電極１７および保護層３０は、マスクを用いることなく全面にベタ膜として形成される。また、電子輸送層１６Ｄ，電子注入層１６Ｅ，上部電極１７および保護層３０の形成は、望ましくは、大気に暴露されることなく同一の成膜装置内において連続して行われる。これにより大気中の水分による有機層１６の劣化が防止される。

なお、下部電極１４と同一工程で補助電極（図示せず）を形成した場合、補助電極の上部にベタ膜で形成された有機層１６を、上部電極１７を形成する前にレーザアブレーションなどの手法によって除去してもよい。これにより上部電極１７を補助電極に直接接続させることが可能となり、接触性が向上する。

保護層３０を形成したのち、例えば、上述した材料よりなる封止用基板４０に、上述した材料よりなる遮光膜を形成する。続いて、封止用基板４０に赤色フィルタ（図示せず）の材料をスピンコートなどにより塗布し、フォトリソグラフィ技術によりパターニングして焼成することにより赤色フィルタを形成する。続いて、赤色フィルタ（図示せず）と同様にして、青色フィルタ（図示せず）および緑色フィルタ（図示せず）を順次形成する。

そののち、保護層３０の上に、接着層（図示せず）を形成し、この接着層を間にして封止用基板４０を貼り合わせる。以上により図１ないし図３に示した有機ＥＬ表示装置１が完成する。

この有機ＥＬ表示装置１では、各画素に対して走査線駆動回路１３０から書き込みトランジスタＴｒ２のゲート電極を介して走査信号が供給されると共に、信号線駆動回路１２０から画像信号が書き込みトランジスタＴｒ２を介して保持容量Ｃｓに保持される。すなわち、この保持容量Ｃｓに保持された信号に応じて駆動トランジスタＴｒ１がオンオフ制御され、これにより、赤色有機ＥＬ素子１０Ｒ，緑色有機ＥＬ素子１０Ｇ，青色有機ＥＬ素子１０Ｂに駆動電流Ｉｄが注入され、正孔と電子とが再結合して発光が起こる。この光は、下面発光（ボトムエミッション）の場合には下部電極１４および基板１１を透過して、上面発光（トップエミッション）の場合には上部電極１７，カラーフィルタ（図示せず）および封止用基板４０を透過して取り出される。

従来の有機ＥＬ素子では、発光層は高分子材料を用いて塗布方式により、また、電子輸送層は低分子材料を用いて蒸着法式により形成されており、電子輸送層から各色の発光層への電子注入効率が低かった。これは、前述のように高分子材料と低分子材料とのエネルギー準位の差、あるいは形成方法の違いによって塗布方式で形成した発光層界面に環境汚染等が発生し、電子の輸送に大きな障壁ができてしまうためである。これにより、従来の有機ＥＬ素子は発光効率が低く、寿命も短かった。これは有機ＥＬディスプレイの基本性能として大きな問題となる。

これに対して本実施の形態では、各色の発光層１６Ｃに低分子材料を添加しているため、発光層１６Ｃと電子輸送層１６Ｄとのエネルギー準位の差が小さくなり、上部電極１７から発光層１６Ｃへの電子の注入効率が向上する。これにより、各色の発光層１６Ｃに注入される正孔と電子のキャリアバランスが最適になり、発光効率および寿命特性の向上が可能となる。

このように本実施の形態の有機ＥＬ表示装置１では、各色の発光層１６Ｃに低分子材料を添加するようにしたので、上部電極１７から発光層１６Ｃへの電子の注入効率が向上する。従って、発光層１６Ｃへの電子の注入量が向上すると共に、形成方法の違いによる発光層１６Ｃと電子輸送層１６Ｄとの界面の環境汚染等による障壁の発生が抑制される。即ち、従来用いられている印刷方式の有機ＥＬ素子の課題であった、発光層１６Ｃへの安定且つ効率的な電子の注入が可能となるため、発光効率および寿命特性が向上する。これにより、発光効率や寿命等のデバイス特性が良好な有機ＥＬディスプレイを作製することが可能となる。

（第２の実施の形態）
以下、第２の実施の形態について説明する。なお、第１の実施の形態と同一の構成要素については同一符号を付してその説明は省略する。本発明の第２の実施の形態に係る有機ＥＬ表示装置の全体構成は図示しないが、第１の実施の形態と同様に、例えば基板１１の上に複数の赤色有機ＥＬ素子２０Ｒ，緑色有機ＥＬ素子２０Ｇ，青色有機ＥＬ素子２０Ｂがマトリクス状に配置された表示領域が形成されている。表示領域内には画素駆動回路が設けられている。

また、表示領域には、赤色の光を発生する赤色有機ＥＬ素子２０Ｒと、緑色の光を発生する緑色有機ＥＬ素子２０Ｇと、青色の光を発生する青色有機ＥＬ素子２０Ｂとが、順に全体としてマトリクス状に配置されている。なお、隣り合う赤色有機ＥＬ素子２０Ｒ，緑色有機ＥＬ素子２０Ｇ，青色有機ＥＬ素子２０Ｂの組み合わせが一つの画素（ピクセル）を構成している。

また、表示領域の周辺には第１の実施の形態と同様に、映像表示用のドライバである信号線駆動回路および走査線駆動回路が設けられている。

図７は第２の実施の形態における有機ＥＬ表示装置２の表示領域の断面構成を表したものである。赤色有機ＥＬ素子２０Ｒ，緑色有機ＥＬ素子２０Ｇ，青色有機ＥＬ素子２０Ｂは、第１の実施の形態と同様に、それぞれ、基板１１の側から、画素駆動回路の駆動トランジスタＴｒ１および平坦化絶縁膜（図示せず）を間にして、陽極としての下部電極１４、隔壁１５、後述する発光層２６Ｃを含む有機層２６および陰極としての上部電極１７がこの順に積層された構成を有している。有機層２６を除く基板１１，下部電極１４，隔壁１５，上部電極１７，保護層３０および封止用基板４０は第１の実施の形態と同様の構成である。

本実施の形態における有機ＥＬ表示装置２は、赤色発光層２６ＣＲ，緑色発光層２６ＣＧおよび青色発光層２６ＣＢと、これら各発光層２６ＣＲ，２６ＣＧ，２６ＣＢの全面に設けられた電子輸送層２６Ｄとの間にホールブロック層２６Ｆが設けられている点が第１の実施の形態と異なる。

具体的には、赤色有機ＥＬ素子２０Ｒの有機層２６は、例えば、第１の実施の形態における赤色有機ＥＬ素子１０Ｒと同様に下部電極１４の側から順に、正孔注入層２６ＡＲ，正孔輸送層２６ＢＲ，赤色発光層２６ＣＲ，ホールブロック層２６Ｆ，電子輸送層２６Ｄおよび電子注入層２６Ｅを積層した構成を有する。緑色有機ＥＬ素子２０Ｇ（および青色有機ＥＬ素子２０Ｂ）の有機層２６も赤色有機ＥＬ素子２０Ｒと同様に、例えば、下部電極１４の側から順に、正孔注入層２６ＡＧ（２６ＡＢ），正孔輸送層２６Ｂ（２６ＢＢ）Ｇ，緑色発光層２６ＣＧ（青色発光層２６ＣＢ），ホールブロック層２６Ｆ，電子輸送層２６Ｄおよび電子注入層２６Ｆを積層した構成を有する。これらのうちホールブロック層２６Ｆ，電子輸送層２６Ｄおよび電子注入層２６Ｅは、赤色有機ＥＬ素子２０Ｒ，緑色有機ＥＬ素子２０Ｇ，青色有機ＥＬ素子２０Ｂの共通層として設けられている。

ホールブロック層２６Ｆは、発光層２６Ｃから電子輸送層２６Ｄへの正孔の透過を抑え、発光層２６Ｃでの正孔と電子の再結合の確率を向上させるものである。このホールブロック層２６Ｆは、赤色発光層２６ＣＲ，緑色発光層２６ＣＧおよび青色発光層２６ＣＢの全面に共通層として設けられている。ホールブロック層２６Ｆの厚みは、素子全体の構成にもよるが、例えば１ｎｍ〜３０ｎｍであることが好ましく、さらに好ましくは５ｎｍ〜１０ｎｍである。

ホールブロック層２６Ｆは蒸着法を用いて形成するため、低分子材料、特にモノマーを用いることが好ましい。オリゴマーまたは高分子材料のような重合された分子は蒸着中分解が起こる虞があるためである。なお、ホールブロック層２６Ｆに用いる低分子材料は分子量の異なる２種以上の材料を混合して用いてもよい。

ホールブロック層２６Ｆに用いられる低分子材料としては、第１の実施の形態において説明した電子輸送層１６Ｄに用いた低分子材料と同様に、電子移動度が１０^-6ｃｍ²／Ｖｓ以上１．０×１０^-1ｃｍ²／Ｖｓ以下の含窒素複素環誘導体を用いることができる。具体的には、上記の式（８）〜式（１０）で表わされるベンゾイミダゾール誘導体（式（８）），ピリジルフェニル誘導体（式（９）），ビピリジン誘導体（式（１０））または、カルバゾール誘導体（式（５））、ピラゾール誘導体（式（１１））等が挙げられる。特に、発光層２６Ｃから電子輸送層２６Ｄへの正孔の透過を効果的に抑えるために、ＨＯＭＯとＬＵＭＯとの準位間のギャップが電子注入・輸送層２６Ｄよりも大きな、具体的には２．８以上３．５以下となる材料を用いることが好ましい。

有機ＥＬ表示装置２は、図８に示した流れ図のように上記第１の実施の形態で記載したステップＳ１０６とステップＳ１０７との間に後述するホールブロック層２６Ｆを形成する工程（ステップＳ２０１）を加えることにより製造することができる。

（ホールブロック層２６Ｆを形成する工程）
赤色発光層２６ＣＲ，緑色発光層２６ＣＧおよび青色発光層２６ＣＢまで形成したのち、蒸着法により、これら各色の発光層２６ＣＲ，２６ＣＧ，２６ＣＢの全面に、上述した低分子材料よりなるホールブロック層２６Ｆを共通層として形成する（ステップＳ２０１）。

なお、ホールブロック層２６Ｆは上記第１の実施の形態における電子輸送層１６Ｄ，電子注入層１６Ｅ，上部電極１７および保護層３０と同様にマスクを用いることなく全面にベタ膜として形成される。また、ホールブロック層２６Ｆの形成条件も上記第１の実施の形態における上記各層１６Ｄ，１６Ｅ，１７，３０と同様に、望ましくは、大気に暴露されることなく同一の成膜装置内において連続して行われる。これにより大気中の水分による有機層２６の劣化が防止される。

本実施の形態の有機ＥＬ表示装置２では、第１の実施の形態の効果に加えて以下の効果を奏する。各色の発光層２６ＣＲ，２６ＣＧ，２６ＣＢと電子輸送層２６Ｄとの間にＨＯＭＯとＬＵＭＯとの準位間のギャップが大きい材料からなるホールブロック層２６Ｆを形成するようにした。これにより、各色の発光層２６ＣＲ，２６ＣＧ，２６ＣＢから電子輸送層２６Ｄへの正孔の透過が抑制され、発光層２６Ｃでの正孔と電子との再結合の確率が向上する。即ち、赤色有機ＥＬ素子２０Ｒ，緑色有機ＥＬ素子２０Ｇおよび青色有機ＥＬ素子２０Ｂの発光効率が向上するため、これら有機ＥＬ素子２０Ｒ，２０Ｇ，２０Ｂを配列形成してなるカラー有機ＥＬ表示装置のさらなる発光効率の向上が可能になる。

（モジュールおよび適用例）
以下、上記実施の形態で説明した有機ＥＬ表示装置の適用例について説明する。上記実施の形態の有機ＥＬ表示装置は、テレビジョン装置，デジタルカメラ，ノート型パーソナルコンピュータ、携帯電話等の携帯端末装置あるいはビデオカメラなど、外部から入力された映像信号あるいは内部で生成した映像信号を、画像あるいは映像として表示するあらゆる分野の電子機器の表示装置に適用することが可能である。

（モジュール）
上記実施の形態の有機ＥＬ表示装置は、例えば、図９に示したようなモジュールとして、後述する適用例１〜５などの種々の電子機器に組み込まれる。このモジュールは、例えば、基板１１の一辺に、保護層３０および封止用基板４０から露出した領域２１０を設け、この露出した領域２１０に、信号線駆動回路１２０および走査線駆動回路１３０の配線を延長して外部接続端子（図示せず）を形成したものである。外部接続端子には、信号の入出力のためのフレキシブルプリント配線基板（ＦＰＣ；Flexible Printed Circuit）２２０が設けられていてもよい。

（適用例１）
図１０は、上記実施の形態の有機ＥＬ表示装置が適用されるテレビジョン装置の外観を表したものである。このテレビジョン装置は、例えば、フロントパネル３１０およびフィルターガラス３２０を含む映像表示画面部３００を有しており、この映像表示画面部３００は、上記実施の形態に係る有機ＥＬ表示装置により構成されている。

（適用例２）
図１１は、上記実施の形態の有機ＥＬ表示装置が適用されるデジタルカメラの外観を表したものである。このデジタルカメラは、例えば、フラッシュ用の発光部４１０、表示部４２０、メニュースイッチ４３０およびシャッターボタン４４０を有しており、その表示部４２０は、上記実施の形態に係る有機ＥＬ表示装置により構成されている。

（適用例３）
図１２は、上記実施の形態の有機ＥＬ表示装置が適用されるノート型パーソナルコンピュータの外観を表したものである。このノート型パーソナルコンピュータは、例えば、本体５１０，文字等の入力操作のためのキーボード５２０および画像を表示する表示部５３０を有しており、その表示部５３０は、上記実施の形態に係る有機ＥＬ表示装置により構成されている。

（適用例４）
図１３は、上記実施の形態の有機ＥＬ表示装置が適用されるビデオカメラの外観を表したものである。このビデオカメラは、例えば、本体部６１０，この本体部６１０の前方側面に設けられた被写体撮影用のレンズ６２０，撮影時のスタート／ストップスイッチ６３０および表示部６４０を有しており、その表示部６４０は、上記実施の形態に係る有機ＥＬ表示装置により構成されている。

（適用例５）
図１４は、上記実施の形態の有機ＥＬ表示装置が適用される携帯電話機の外観を表したものである。この携帯電話機は、例えば、上側筐体７１０と下側筐体７２０とを連結部（ヒンジ部）７３０で連結したものであり、ディスプレイ７４０，サブディスプレイ７５０，ピクチャーライト７６０およびカメラ７７０を有している。そのディスプレイ７４０またはサブディスプレイ７５０は、上記実施の形態に係る有機ＥＬ表示装置により構成されている。

（実施例１）
赤色有機ＥＬ素子１０Ｒ，緑色有機ＥＬ素子１０Ｇおよび青色有機ＥＬ素子１０Ｂを２５ｍｍ×２５ｍｍの基板１１上に作製した。

まず、基板１１としてガラス基板（２５ｍｍ×２５ｍｍ）を用意し、この基板１１に、下部電極１４として、厚み１２０ｎｍのＩＴＯよりなる透明導電膜との２層構造を形成した（ステップＳ１０１）。

続いて、ＳｉＯ₂等の無機材料を用いて隔壁１５Ａを、ポリイミド・アクリル・ノボラック等の樹脂材料を用いて隔壁１５Ｂを形成し、隔壁１５を形成した（ステップＳ１０２）。次に、隔壁１５をプラズマ電源と電極を備えた装置に導入し、ＣＦ₄等のフッ素系のガスを用いてプラズマ処理をすることにより隔壁１５の表面を撥水処理した（ステップＳ１０３）。

次に、正孔注入層１６ＡＲ，１６ＡＧ，１６ＡＢとして、大気中でノズルコート法により、ＮＤ１５０１(日産化学製ポリアニリン)を１５ｎｍの厚みで塗布したのち、２２０℃、３０分間、ホットプレート上で熱硬化させた（ステップＳ１０４）。

そののち、正孔注入層１６ＡＲ、１６ＡＧ、１６ＡＢの上に、キシレンおよびテトラヒドロフラン（ＴＨＦ）の各溶媒を重量比１：２で混合した混合溶媒に式（１−１）に示した化合物を１ｗｔ％の比率で溶解させた溶液を正孔輸送層１６ＢＲ、１６ＢＧ、１６ＢＢとしてノズルコート法により塗布した。厚みは、赤色有機ＥＬ素子１０Ｒ用の正孔輸送層１６ＢＲは５０ｎｍ、緑色有機ＥＬ素子１０Ｇ用の正孔輸送層１６ＢＧは３０ｎｍ、青色有機ＥＬ素子１０Ｂ用の正孔輸送層１８ＢＢは２０ｎｍとした。次に、基板１１を負圧の状態まで排気し、溶媒を真空乾燥させた後、１８０℃、３０分で加熱処理した（ステップＳ１０５）。

続いて、正孔輸送層１６ＢＲ，１６ＢＧ，１６ＢＢを形成したのち、赤色有機ＥＬ素子１０Ｒの正孔輸送層１０ＢＲの上に赤色発光層１６ＣＲを形成した。具体的にはイリジウム錯体を含む赤色発色の高分子材料ＲＰＰ（式３−１）に、例えば式（４−２３）に示した低分子材料を重量比２：１で添加し、キシレンもしくはキシレンより高い沸点の溶媒に溶解させた溶液もしくはインクで、６０ｎｍの厚みでノズルコート法により塗訳印刷した。また、緑色有機ＥＬ素子１０Ｇおよび青色有機ＥＬ素子１０Ｂの正孔輸送層１６ＢＧ，１６ＢＢの上に緑色発光層１６ＣＧ，青色発光層１６ＣＢを形成した。具体的には、それぞれイリジウム錯体を含む赤色発色の高分子材料ＧＰＰ（式３−２）またはＢＰＰ（式３−３）に例えば式（４−２３）に示した低分子材料を重量比２：１で添加し、キシレンもしくはキシレンより高い沸点の溶媒に溶解させた溶液もしくはインクで、５０ｎｍの厚みでノズルコート法により塗訳印刷した。続いて、負圧の状態まで排気し、溶媒を真空乾燥させた後、１３０℃、３０分で加熱処理した（ステップＳ１０６）。

次に、基板１１を真空蒸着機に移動させ電子輸送層１６Ｄ以降の層を蒸着した。

まず、赤色発光層１６ＣＲ，緑色発光層１６ＣＧ，青色発光層１６ＣＢを形成したのち、電子輸送層１６Ｄとして、例えば式（８−１７）に示した有機材料を真空蒸着法により、１５ｎｍの厚みで蒸着させた（ステップＳ１０７）。続いて、同じく蒸着法により、電子注入層１６ＥとしてＬｉＦを０．３ｎｍの厚みで成膜し（ステップＳ１０８）、上部電極１７としてＡｌを１００ｎｍの厚みで形成した（ステップＳ１０９）。最後に、ＣＶＤ法によりＳｉＮよりなる保護層３０を３μｍ形成し、エポキシ樹脂を用いて固体封止を行った。このようにして得られた赤色有機ＥＬ素子１０Ｒ，緑色有機ＥＬ素子１０Ｇ，青色有機ＥＬ素子１０Ｂを組み合わせることによりフルカラー有機ＥＬ表示装置（実施例１−１〜１−１０）を得た。また、各色の発光層１６ＣＲ，１６ＣＧ，１６ＣＢに低分子材料を添加しない有機ＥＬ表示装置を作製し比較例１−１〜１−３とした。

（実施例２）
赤色有機ＥＬ素子２０Ｒ，緑色有機ＥＬ素子２０Ｇおよび青色有機ＥＬ素子２０Ｂを２５ｍｍ×２５ｍｍの基板１１上に作製した。

まず、基板１１としてガラス基板（２５ｍｍ×２５ｍｍ）を用意し、この基板１１に、下部電極１４として、厚み１２０ｎｍのＩＴＯよりなる透明導電膜との２層構造を形成した（ステップＳ１０１）。

続いて、ＳｉＯ₂等の無機材料を用いて隔壁１５Ａを、ポリイミド・アクリル・ノボラック等の樹脂材料を用いて隔壁１５Ｂを形成し、隔壁１５を形成した（ステップＳ１０２）。次に、隔壁１５をプラズマ電源と電極を備えた装置に導入し、ＣＦ₄等のフッ素系のガスを用いてプラズマ処理をすることにより隔壁１５の表面を撥水処理した（ステップＳ１０３）。

次に、正孔注入層２６ＡＲ，２６ＡＧ，２６ＡＢとして、大気中でノズルコート法により、ＮＤ１５０１(日産化学製ポリアニリン)を１５ｎｍの厚みで塗布したのち、２２０℃、３０分間、ホットプレート上で熱硬化させた（ステップＳ１０４）。

そののち、正孔注入層２６ＡＲ、２６ＡＧ、２６ＡＢの上に、キシレンおよびテトラヒドロフラン（ＴＨＦ）の各溶媒を重量比１：２で混合した混合溶媒に式（１−１）に示した化合物を１ｗｔ％の比率で溶解させた溶液を正孔輸送層２６ＢＲ、２６ＢＧ、２６ＢＢとしてノズルコート法により塗布した。厚みは、赤色有機ＥＬ素子２０Ｒ用の正孔輸送層２６ＢＲは５０ｎｍ、緑色有機ＥＬ素子２０Ｇ用の正孔輸送層２６ＢＧは３０ｎｍ、青色有機ＥＬ素子２０Ｂ用の正孔輸送層２６ＢＢは２０ｎｍとした。次に、基板１１を負圧の状態まで排気し、溶媒を真空乾燥させた後、１８０℃、３０分で加熱処理した（ステップＳ１０５）。

続いて、正孔輸送層２６ＢＲ，２６ＢＧ，２６ＢＢを形成したのち、赤色有機ＥＬ素子２０Ｒの正孔輸送層２０ＢＲの上に赤色発光層２６ＣＲを形成した。具体的にはイリジウム錯体を含む赤色発色の高分子材料ＲＰＰ（式３−１）に、例えば式（４−１３）に示した低分子材料を重量比２：１で添加し、キシレンもしくはキシレンより高い沸点の溶媒に溶解させた溶液もしくはインクで、６０ｎｍの厚みでノズルコート法により塗訳印刷した。また、緑色有機ＥＬ素子１０Ｇおよび青色有機ＥＬ素子１０Ｂの正孔輸送層１６ＢＧ，１６ＢＢの上に緑色発光層１６ＣＧ，青色発光層１６ＣＢを形成した。具体的には、それぞれイリジウム錯体を含む赤色発色の高分子材料ＧＰＰ（式３−２）またはＢＰＰ（式３−３）に例えば式（４−１３）に示した低分子材料を重量比２：１で添加し、キシレンもしくはキシレンより高い沸点の溶媒に溶解させた溶液もしくはインクで、５０ｎｍの厚みでノズルコート法により塗訳印刷した。続いて、負圧の状態まで排気し、溶媒を真空乾燥させた後、１３０℃、３０分で加熱処理した（ステップＳ１０６）。

次に、基板１１を真空蒸着機に移動させホールブロック層２６Ｆ以降の層を蒸着した。

まず、赤色発光層２６ＣＲ，緑色発光層２６ＣＧ，青色発光層２６ＣＢを形成したのち、蒸着法により、ホールブロック層２６Ｆとして、フェナンスロリン誘導体である２，９−ジメチル−４，７−ジフェニル−１，１０−フェナンスロリン（ＢＣＰ；式（１３））を用いて真空蒸着法により１０ｎｍの厚みで蒸着させた（ステップＳ２０１）。続いて、同じく蒸着法により、電子輸送層２６Ｄとして、例えば式（７−１７）に示した有機材料を真空蒸着法により、１５ｎｍの厚みで蒸着させた（ステップＳ１０７）。更に、同じく蒸着法により、電子注入層２６ＥとしてＬｉＦを０．３ｎｍの厚みで成膜し（ステップＳ１０８）、上部電極１７としてＡｌを１００ｎｍの厚みで形成した（ステップＳ１０９）。最後に、ＣＶＤ法によりＳｉＮよりなる保護層３０を３μｍ形成し、エポキシ樹脂を用いて固体封止を行った。このようにして得られた赤色有機ＥＬ素子１０Ｒ，緑色有機ＥＬ素子１０Ｇ，青色有機ＥＬ素子１０Ｂを組み合わせることによりフルカラー有機ＥＬ表示装置（実施例２−１）を得た。

実施例１，２として作製した有機ＥＬ表示装置１，２の赤色有機ＥＬ素子１０Ｒ，２０Ｒ，緑色有機ＥＬ素子１０Ｇ，２０Ｇおよび青色有機ＥＬ素子１０Ｂ，２０Ｂについて、電流密度１０ｍＡ／ｃｍ²で定電流駆動させた際の駆動電圧（Ｖ）、発光効率（ｃｄ／Ａ）および色度座標（ｘ，ｙ）を測定した。また、電流密度２０ｍＡ／ｃｍ²で直流駆動させた際の輝度半減寿命（ｈ）を測定した。なお、上記測定は２３±０．５℃で管理された環境下で行った。

表１は実施例実施例１−１〜１−１０，２，および比較例１−１〜１−３における各層の組成の一覧を示したものである。表２は上記実施例１−１〜１−１０，２および比較例１−１〜１−３の測定結果の一覧である。

表２からわかるように、各色の発光層が高分子材料のみから構成され、且つ電子輸送層が設けられていない従来の有機ＥＬ素子である比較例１−１に対して、Ａｌｑ３からなる電子輸送層を設けた比較例１−２では発光効率および寿命が著しく低下した。これは、上部電極から発光層へ注入される電子が不足したためと考えられる。また、比較例１−３では、比較例１−２の結果を省みて、Ａｌｑ３に替えて電子注入性が高い電子輸送材料（式（８−１７））からなる電子輸送層を設けることにより発光効率および寿命特性が改善された。しかしながら、比較例１−１の結果には及ばず、電子輸送層を設けた効果は全く見られなかった。

これに対して、実施例１−１〜１−１０では、比較例１−１と比較して発光効率および寿命特性が大幅に改善されていることがわかる。これは、高分子材料からなる各色の発光層１６ＣＲ，１６ＣＧ，１６ＣＢに低分子材料を添加したことにより、低分子材料からなる電子輸送層１６Ｄから各色の発光層１６ＣＲ，１６ＣＧ，１６ＣＢへの電子注入障壁が軽減されたことによる。また、発光効率および寿命特性が改善されただけでなく駆動電圧も低減した。

更に、実施例２では、ホールブロック層２６Ｆを設けることにより、さらなる発光効率の向上と、比較例１−１と比較して２倍以上寿命特性が向上した。

なお、以上のような効果は実施例１−１〜１−１０，２において用いた低分子材料に限らず、式（４−１）〜式（１２−２９）に示したその他の低分子材料においても同様の効果が得られた。また、本実施例１−１〜１−１０，２−１，２−２では正孔注入層１６ＡＲ，１６ＡＧ，１６ＡＢ，２６ＡＲ，２６ＡＧ，２６ＡＢ、正孔輸送層１６ＢＲ，１６ＢＧ，１６ＢＢ，２６ＢＲ，２６ＢＧ，２６ＢＢおよび発光層１６ＣＲ，１６ＣＧ，１６ＣＢ，２６ＣＲ，２６ＣＧ，２６ＣＢをノズルコート方式を用いて形成したが、塗付方式は限定しない。インクジェット方式、スピンコート方式、スリットコート方式等の塗布方式に限らず、オフセット印刷方式、フレキソ印刷方式、グラビア印刷方式または凸版印刷方式等の各種印刷方式だけでなく、にスプレイコート等によって有機ＥＬ材料を噴霧し、高精細のマスク等で塗訳を行う噴霧方式を用いて形成した有機ＥＬ表示装置でも本実施例の結果と同様の結果が得られた。

以上、第１および第２の実施の形態および実施例を挙げて本発明を説明したが、本発明は上記実施の形態等に限定されるものではなく、種々変形が可能である。

例えば、上記実施の形態および実施例において説明した各層の材料および厚み、または成膜方法および成膜条件などは限定されるものではなく、他の材料および厚みとしてもよく、または他の成膜方法および成膜条件としてもよい。

また、上記実施の形態等では赤色発光層２６ＣＲ，緑色発光層２６ＣＧおよび青色発光層２６ＣＢに低分子材料を添加して電子の注入効率を向上させたが、これら各発光層２６ＣＲ，２６ＣＧ，２６ＣＢに低分子材料を添加せず、各発光層２６ＣＲ，２６ＣＧ，２６ＣＢと電子輸送層２６Ｄとの間にホールブロック層２６Ｆが設けることでも上記効果を得ることができる。

更に、上記実施の形態および実施例では、有機ＥＬ素子１０Ｒ，１０Ｇ，１０Ｂ（２０Ｒ，２０Ｇ，２０Ｂ）の構成を具体的に挙げて説明したが、全ての層を備える必要はなく、また、他の層を更に備えていてもよい。例えば、正孔注入層１６Ａ（２６Ａ）上に正孔輸送層１６Ｂ（２６Ｂ）を形成せず、直接発光層１６Ｃ（２６Ｃ）を塗布方式により形成してもよい。

また、上記実施の形態等では、赤色発光層１６ＣＲ（２６ＣＲ），緑色発光層１６ＣＧ（２６ＣＧ）および青色発光層１６ＣＢ（２６ＣＢ）をそれぞれ対応する有機ＥＬ素子１０Ｒ，１０Ｇ，１０Ｂ（２０Ｒ，２０Ｇ，２０Ｂ）に塗布方式により形成したが、青色発光層１６ＣＢ（２６ＣＢ）を共通層として赤色発光層１６ＣＲ（２６ＣＲ），緑色発光層１６ＣＧ（２６ＣＧ）および青色の正孔輸送層１６ＢＢ（２６ＢＢ）上の全面に蒸着により形成してもよい。

更に、上記実施の形態等では、電子輸送層１６Ｄ（２６Ｄ）を１種類の材料からなる単層として形成したが、これに限らず、例えば２種類以上の材料からなる混合層、または異なる材料からなる層を積層した多層構造としてもよい。また、上記実施の形態等では、赤色，緑色および青色の有機ＥＬ素子を備えた表示装置について説明したが、例えば本発明は青色有機ＥＬ素子と黄色有機ＥＬ素子からなる表示装置への適用も可能である。また、白色発光の有機ＥＬ素子への適用も可能であり、発光色についての限定はない。

更にまた、上記実施の形態では、アクティブマトリクス型の表示装置の場合について説明したが、本発明はパッシブマトリクス型の表示装置への適用も可能である。更にまた、アクティブマトリクス駆動のための画素駆動回路の構成は、上記実施の形態で説明したものに限られず、必要に応じて容量素子やトランジスタを追加してもよい。その場合、画素駆動回路の変更に応じて、上述した信号線駆動回路１２０や走査線駆動回路１３０のほかに、必要な駆動回路を追加してもよい。

１，２…有機ＥＬ表示装置、１０Ｒ，２０Ｒ…赤色有機ＥＬ素子、１０Ｇ，２０Ｇ…緑色有機ＥＬ素子、１０Ｂ，２０Ｂ…青色有機ＥＬ素子、１１…基板、１４…下部電極、１５…隔壁、１５Ａ…上部隔壁、１５Ｂ…下部隔壁、１６，２６…有機層、１６ＡＲ，１６ＡＧ，１６ＡＢ，２６ＡＲ，２６ＡＧ，２６ＡＢ…正孔注入層、１６ＢＲ，１６ＢＧ，１６ＢＢ，２６ＢＲ，２６ＢＧ，２６ＢＢ…正孔輸送層、１６ＣＲ，２６ＣＲ…赤色発光層、１６ＣＧ，２６ＣＧ…緑色発光層、１６ＣＢ，２６ＣＢ…青色発光層、１６Ｄ，２６Ｄ…電子輸送層、１６Ｅ，２６Ｅ…電子注入層、２６Ｆ…ホールブロック層、１７…上部電極、３０…保護層、４０…封止用基板

Claims (19)

1. 基板に、複数の有機ＥＬ素子の各々ごとに設けられた複数の下部電極と、
   前記下部電極の上に前記有機ＥＬ素子ごとに設けられた正孔注入または正孔輸送の少なくとも一方の特性を有する複数の正孔注入・輸送層と、
   前記正孔注入・輸送層上に前記有機ＥＬ素子ごとに設けられると共に、低分子材料を含む複数の有機発光層と、
   前記複数の有機発光層上の全面に設けられた電子注入または電子輸送の少なくとも一方の特性を有する電子注入・輸送層と、
   前記電子注入・輸送層上に設けられた上部電極と
   を備えた有機ＥＬ表示装置。
2. 前記複数の有機発光層と前記電子注入・輸送層との間に設けられると共に、ホールブロック特性を有するホールブロック層を備えた、請求項１に記載の有機ＥＬ表示装置。
3. 前記有機発光層は前記低分子材料と共に高分子材料を含み、前記低分子材料は分子量が３００以上１万以下の化合物である、請求項１に記載の有機ＥＬ表示装置。
4. 前記有機発光層に含まれる前記高分子材料と前記低分子材料との分子量比（高分子材料／低分子材料）は１０以上である、請求項３に記載の有機ＥＬ表示装置
5. 前記低分子材料は、式（１）で表わされる化合物である、請求項１に記載の有機ＥＬ表示装置。
   

   

   
   （Ａ１〜Ａ３は芳香族炭化水素基、複素環基またはそれらの誘導体である。）
6. 前記低分子材料は、式（２）で表される（但し、式（１）に含まれる化合物を除く）化合物である、請求項１に記載の有機ＥＬ表示装置。
   

   

   
   （Ｚは含窒素炭化水素基あるいはその誘導体である。Ｌ１は２価の芳香族環基が１ないし４個結合した基、具体的には１〜４個の芳香族環が連結した２価の基、またはその誘導体である。Ａ４およびＡ５は、芳香族炭化水素基あるいは芳香族複素環基、またはその誘導体である。但し、Ａ４およびＡ５は互いに結合して環状構造を形成してもよい。）
7. 前記低分子材料は、式（３）で表わされる（但し、式（１）に含まれる化合物を除く）化合物である、請求項１記載の有機ＥＬ表示装置。
   

   

   
   （Ｌ２は２価の芳香族環基が２ないし６個結合した基である。具体的には２〜６個の芳香族環が連結した２価の基、またはその誘導体である。Ａ６〜Ａ９は、芳香族炭化水素基あるいは複素環基、またはその誘導体が１〜１０個結合した基である。）
8. 前記低分子材料は、式（４）で表わされる化合物により構成されている、請求項１に記載の有機ＥＬ表示装置。
   

   

   
   （Ｒ２４〜Ｒ２９は、水素原子、ハロゲン原子、水酸基、シアノ基、ニトロ基、または炭素数２０以下のカルボニル基を有する基、カルボニルエステル基を有する基、アルキル基、アルケニル基、アルコキシル基あるいはそれらの誘導体、炭素数３０以下のシリル基を有する基、アリール基を有する基、複素環基を有する基、アミノ基を有する基あるいはそれらの誘導体である。）
9. 前記低分子材料は、式（５）で表わされる化合物により構成されている、請求項１に記載の有機ＥＬ表示装置。
   

   

   
   （Ａ１０は水素原子あるはハロゲン原子、炭素数１〜２０個のアルキル基、３〜４０個の芳香族環が縮合した多環芳香族炭化水素基を有する炭素数６〜６０個の炭化水素基または含窒素複素環基あるいはそれらの誘導体である。Ｂは単結合、２価の芳香族環基あるいはその誘導体である。Ｒ７，８は各々独立して水素原子あるいはハロゲン原子、炭素数１〜２０個のアルキル基、炭素数６〜６０個の芳香族炭化水素基、含窒素複素環基または炭素数１〜２０個のアルコキシ基あるいはそれらの誘導体である。）
10. 前記低分子材料は、式（６）で表わされる化合物により構成されている、請求項１に記載の有機ＥＬ表示装置。
    

    

    
    （Ａ１１は芳香族環が２ないし５個縮合したｎ価の基である。具体的には３個の芳香族環が縮合したｎ価のアセン系芳香族環基、またはその誘導体である。Ｒ９〜Ｒ１４は各々独立して水素原子あるはハロゲン原子、Ａ２またはＲ１５〜Ｒ１９のいずれか１つに結合する遊離原子価である。Ｒ１５〜Ｒ１９は各々独立して水素原子、ハロゲン原子またはＲ９〜１４のいずれか１つに結合する遊離原子価である。ｎは２以上の整数であり、ｎ個のピリジルフェニル基は同一でもよく、異なっていてもよい。）
11. 前記低分子材料は、式（７）で表わされる化合物により構成されている、請求項１に記載の有機ＥＬ表示装置。
    

    

    
    （Ａ３は芳香族環が２ないし５個縮合したｍ価の基である。具体的には３個の芳香族環が縮合したｎ価のアセン系芳香族環基、またはその誘導体である。Ｒ２０〜Ｒ２４は各々独立して水素原子あるいはハロゲン原子、Ａ３またはＲ２５〜Ｒ２９のいずれか１つに結合する遊離原子価である。Ｒ２５〜Ｒ２９は各々独立して水素原子、ハロゲン原子またはＲ２０〜２４のいずれか１つに結合する遊離原子価である。ｍは２以上の整数であり、ｍ個のビピリジル基は同一でもよく、異なっていてもよい。）
12. 前記低分子材料は、式（８）で表わされる化合物により構成されている、請求項１に記載の有機ＥＬ表示装置。
    

    

    
    （Ｒ３０〜Ｒ３２は水素原子、１〜３個の芳香族環が縮合した芳香族炭化水素基あるいはそれらの誘導体、炭素数１〜６個の炭化水素基を有する１〜３個の芳香族環が縮合した芳香族炭化水素基あるいはそれらの誘導体、炭素数６〜１２個の芳香族炭化水素基を有する１〜３個の芳香族環が縮合した芳香族炭化水素基あるいはそれらの誘導体である。）
13. 前記低分子材料は、錯体形成可能な金属元素としてベリリウム（Ｂｅ），ホウ素（Ｂ），亜鉛（Ｚｎ），カドミウム（Ｃｄ），マグネシウム（Ｍｇ），金（Ａｕ），銀（Ａｇ），パラジウム（Ｐｄ），白金（Ｐｔ），アルミニウム（Ａｌ），ガドリニウム（Ｇａ），イットリウム（Ｙ），スカンジウム（Ｓｃ），ルテニウム（Ｒｕ），ロジウム（Ｒｈ），オスミウム（Ｏｓ），イリジウム（Ｉｒ）のうちの少なくとも１種を含む、請求項１に記載の有機ＥＬ表示装置。
14. 前記ホールブロック層に用いられる化合物は、電子移動度が１．０×１０^-6ｃｍ²／Ｖｓ以上１．０×１０^-1ｃｍ²／Ｖｓ以下である、請求項１または９乃至１１のいずれか１項に記載の有機ＥＬ表示装置。
15. 前記ホールブロック層は、ＨＯＭＯ（最高被占軌道）とＬＵＭＯ（最低空軌道）との準位間のギャップが３．０以上３．８以下である、請求項２に記載の有機ＥＬ表示装置。
16. 前記有機ＥＬ素子は、赤色有機ＥＬ素子、緑色有機ＥＬ素子、青色有機ＥＬ素子、黄色有機ＥＬ素子または白色有機ＥＬ素子のうちの少なくとも１種である、請求項１または２に記載の有機ＥＬ表示装置。
17. 基板に複数の下部電極を複数の有機ＥＬ素子の各々ごとに形成する工程と、
    前記下部電極上に正孔注入または正孔輸送の少なくとも一方の特性を有する複数の正孔注入・輸送層を前記有機ＥＬ素子ごとに塗付法により形成する工程と、
    前記正孔注入・輸送層上に低分子材料を含む複数の有機発光層を前記有機ＥＬ素子ごとに塗付法により形成する工程と、
    前記複数の有機発光層の全面に電子注入または電子輸送の少なくとも一方の特性を有する電子注入・輸送層を蒸着法により形成する工程と、
    前記電子注入・輸送層の全面に上部電極を形成する工程と
    を含む有機ＥＬ表示装置の製造方法。
18. 前記複数の有機発光層と前記電子注入・輸送層との間に設けられると共に、ホールブロック特性を有するホールブロック層を蒸着法により形成する、請求項１７に記載の有機ＥＬ表示装置の製造方法。
19. 前記塗付法として、吐出方式、印刷方式または噴霧方式を用いる、請求項１７に記載の有機ＥＬ表示装置の製造方法。

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