JP2012139785A - ガラス基板の製造方法 - Google Patents

Abstract

【課題】本発明の課題は、ガラス基板の研磨位置に応じて最適に研磨するガラス基板の製造方法を提供することにある。
【解決手段】本発明に係るガラス基板の製造方法は、搬送されたガラス基板の両端面を研磨する研磨工程を含むガラス基板の製造方法において、両端面を研磨する一対の研磨砥石は、回動自在に保持されると共にガラス基板方向へ第１の力が付与され、且つ、ガラス基板の幅方向の変動に対して追従可能に保持されている。また、一対の研磨砥石は、研磨工程におけるガラス基板の搬入時、及び搬出時において、回動が規制されるように第２の力が付与されていることを特徴とする。
【選択図】図５

Description

本発明は、ガラス基板の製造方法に関する。

従来から、電子機器用のガラス基板は、シート状のガラスが所望のサイズに切断されることによって製造されている。所望のサイズに切断されたシート状のガラス（ガラス基板）の側面（端面）は、微小の凹凸やクラックが形成されている。当該凹凸やクラックは、ガラス基板の割れおよび欠け等の原因となりうる。このようなガラス基板の割れおよび欠けを防止するため、例えば、特許文献１（特開２００９−２９７８６５号公報）に示すように、ガラス基板の端面は研磨部材によって研磨される。特許文献１には、研磨ホイールとガラス基板との接触時の負荷電流値を検出し、当該負荷電流値を用いてガラス基板の端面を適切に研磨する方法が提案されている。

ところで、特許文献１に開示される技術では、ガラス基板の搬送中に、ガラス基板の端面の研磨が行われる。ガラス基板の搬送中にガラス基板の端面が研磨される場合、ガラス基板の搬送状態によっては、ガラス基板の端面が適切に研磨されない場合がある。

本発明の課題は、ガラス基板の端面を搬送しながら研磨する場合に、研磨の精度を向上させるガラス基板の製造方法を提供することにある。

本発明に係るガラス基板の製造方法は、搬送されたガラス基板の両端面を研磨する研磨工程を含む。また、両端面を研磨する一対の研磨砥石は、回動自在に保持されると共にガラス基板方向へ第１の力が付与される。且つ、一対の研磨砥石は、ガラス基板の幅方向の変動に対して追従可能に保持されている。ここで、ガラス基板方向とは、ガラス基板の搬送方向に対して直交する方向である。また、ガラス基板の幅方向の変動とは、ガラス基板の搬送方向に直交する方向に沿ったガラス基板の位置の変動を意味する。さらに、一対の研磨砥石は、研磨工程におけるガラス基板の搬入時、及び搬出時において、回動が規制されるように第２の力が付与されている。ガラス基板の搬入時、及び搬出時とは、ガラス基板が研磨砥石に接触する時、及びガラス基板が研磨砥石から離れる時を意味する。

また、一対の研磨砥石の回動が規制されるように第２の力が付与されている間、ガラス基板と研磨砥石との接触による衝撃が弾性部材によって吸収されることが好ましい。

さらに、一対の研磨砥石は、ガラス基板の研磨工程における搬入時および搬出時において、ガラス基板の両端よりも内側に突出して配置されており、ガラス基板の前方端面に周縁部を当接して、ガラス基板の搬送に伴って周縁部を退避させてガラス基板を研磨することが好ましい。

本発明に係るガラス基板の製造方法では、ガラス基板の研磨位置に応じて最適に研磨し、未研磨領域をなくすことができる。

ガラス基板の製造方法に含まれる工程の概略を示す図である。 本実施形態で用いる搬送装置と、ガラス基板に対する研削ホイールおよび研磨ホイールの配置とを示す図である。 ガラス基板の端面（前端部分、中央部分、後端部分）を示す図である。 研磨装置の概略平面図である。 研磨装置の概略側面図である。 アームに取り付けられた研磨ホイールおよびブレーキ機構を示す図である。 制御ブロックを示す図である。 アームの回動に応じたスライダーシャフトの位置の変化を示す図である。 アームの回動に応じたスライダーシャフトの位置の変化を示す図である。 スライダーシャフトの適正位置を示す図である。 スライダーシャフトが適性位置からずれた状態を示す図である。 スライダーシャフトが適性位置からずれた状態を示す図である。 研磨工程における研磨装置の動きを示すフローである。 研磨ホイールとガラス基板との位置関係を示す図である。 研磨ホイールがガラス基板に接触するときに研磨ホイールとガラス基板とが適正距離である例（研磨ホイールがガラス基板に接触する前）を示す図である。 図１１Ａで示す状態の後であって、研磨ホイールがガラス基板の中央部分を研磨する状態を示す図である。 図１１Ｂで示す状態の後であって、研磨ホイールがガラス基板の後端部分を研磨する状態を示す図である。 図１１Ａにおける外力およびスライダーシャフトの状態を示す図である。 図１２Ａで示す状態の後、研磨ホイールがガラス基板に接触した時（ガラス基板の前端部分を研磨する時）の外力およびスライダーシャフトの状態を示す図である。 図１１Ｂにおける外力およびスライダーシャフトの状態を示す図である。 図１１Ｃにおける外力およびスライダーシャフトの状態を示す図である。 研磨ホイールがガラス基板に接触するとき研磨ホイールとガラス基板とが適正距離ではない例（研磨ホイールがガラス基板に接触する前）を示す図である。 図１３Ａで示す状態の後であって、研磨ホイールがガラス基板の中央部分を研磨する状態を示す図である。 図１３Ｂで示す状態の後であって、研磨ホイールがガラス基板の後端部分を研磨する状態を示す図である。 図１３Ａ（研磨ホイールとガラス基板との距離が近い場合）における外力およびスライダーシャフトの状態を示す図である。 図１４Ａで示す状態の後、研磨ホイールがガラス基板に接触した時（ガラス基板の前端部分を研磨する時）の外力およびスライダーシャフトの状態を示す図である。 図１３Ｂにおける外力およびスライダーシャフトの状態を示す図である。 図１３Ｃにおける外力およびスライダーシャフトの状態を示す図である。 図１３Ａ（研磨ホイールとガラス基板との距離が遠い場合）における外力およびスライダーシャフトの状態を示す図である。 図１５Ａで示す状態の後であって、研磨ホイールがガラス基板に接触した時（ガラス基板の前端部分を研磨する時）の外力およびスライダーシャフトの状態を示す図である。 図１３Ｂにおける外力およびスライダーシャフトの状態を示す図である。 図１３Ｃにおける外力およびスライダーシャフトの状態を示す図である。 研磨ホイールとガラス基板との接触時に、研磨ホイールとガラス基板とが適正距離とならない別の例（研磨ホイールがガラス基板に接触する前）を示す図である。 図１６Ａで示す状態の後であって、研磨ホイールがガラス基板の中央部分を研磨する状態を示す図である。 図１６Ｂで示す状態の後であって、研磨ホイールがガラス基板の後端部分を研磨する状態を示す図である。

以下、図面を参照しながら、本発明の一実施形態に係るガラス基板の製造方法で用いるガラス基板ＧＬの研磨装置１０ａについて説明する。なお、本実施形態において、「搬送方向」は、ガラス基板ＧＬの搬送方向、「幅方向」は、ガラス基板ＧＬの幅方向を意味する。また、「ガラス基板ＧＬの傾き」とは、搬送装置８０に対するガラス基板ＧＬの傾き、「ガラス基板ＧＬの幅方向の位置」とは、搬送装置８０に対するガラス基板ＧＬの幅方向の位置を意味する。さらに、「ガラス基板方向」とは、ガラス基板の搬送方向に対して直交する方向であり、「ガラス基板の幅方向の変動」とは、ガラス基板の搬送方向に直交する方向に沿ったガラス基板の位置の変動を意味する。

（１）全体構成
まず、図１を用いて、本発明に係るガラス基板の製造方法に含まれる複数の工程Ｓ１〜Ｓ７について説明する。複数の工程には、成形工程Ｓ１、切断工程Ｓ２、研削工程Ｓ３、研磨工程Ｓ４、洗浄工程Ｓ５，検査工程Ｓ６、および出荷工程Ｓ７が含まれる。

成形工程Ｓ１では、まず、ガラス原料を溶解し溶融ガラスが形成される。その後、溶融ガラスに含まれる気泡の除去等が行われる。さらに、気泡の除去等により均質化された溶融ガラスが、フュージョン法を用いてシート状のガラスへと成形される。シート状のガラスは、その後、規定寸法に裁断されて素板になる。

切断工程Ｓ２では、素板が所望の大きさに切断される。ここでは、電子機器またはフラットパネルディスプレイに用いられるガラスサイズへと素板が切断される。切断工程Ｓ２によって切断された素板（ガラス基板ＧＬ）は、図２に示すような搬送装置８０によって下流へと搬送される。本実施形態で用いる搬送装置８０は、ガラス基板ＧＬの搬送方向に延びる搬送ベルト８１，８２からなる。搬送ベルト８１，８２は、ガラス基板ＧＬの搬送方向を横切る方向（ガラス基板ＧＬの幅方向）に所定の間隔をあけて配置されている。搬送ベルト８１，８２は、ガラス基板ＧＬの下面に接触し、ガラス基板ＧＬを吸着しながら下流に搬送する。なお、本実施形態で用いる搬送装置８０は、ガラス基板ＧＬを５ｍ／ｓ〜１５ｍ／ｓの速度で下流に搬送する。より好適には、ガラス基板ＧＬが１０ｍ／ｓ〜１５ｍ／ｓの速度で下流に搬送される。また、本実施形態に係るガラス基板の製造方法において製造するガラス基板ＧＬは、０．２ｍｍ〜０．８ｍｍの厚みを有する。より好適には、ガラス基板ＧＬの厚みが、０．２ｍｍ〜０．４ｍｍである。

研削工程Ｓ３では、搬送装置８０によって下流に搬送されたガラス基板ＧＬを、研削ホイール９ａ，９ｂによって研削する。詳細には、ガラス基板ＧＬの端面が研削される。端面は、ガラス基板ＧＬの側面（切断面）である。ガラス基板ＧＬの端面は、図３に示すように、前端部分ＴＰと、後端部分ＥＰと、中央部分ＣＰとからなる。前端部分ＴＰは、搬送方向Ｄ１に対して下流側の端面である。ガラス基板ＧＬの後端部分ＥＰは、搬送方向Ｄ１に対して上流側の端面である。ガラス基板ＧＬの中央部分ＣＰは、ガラス基板ＧＬの前端部分ＴＰおよび後端部分ＥＰに挟まれた部分である。ガラス基板ＧＬの端面は、研削ホイール９ａ，９ｂによって、若干丸みを帯びた形状に加工される（Ｒ面加工）。研削ホイール９ａ，９ｂは、図２に示すように、搬送装置８０の両側に配置される。また、研削ホイール９ａ，９ｂは、図２の矢印Ｒ３方向に回転する。

研磨工程Ｓ４では、研削工程Ｓ３によって研削されたガラス基板ＧＬの端面が、研磨ホイール１１ａ，１１ｂによって研磨される。図２に示すように、研磨ホイール１１ａ，１１ｂは、研削ホイール９ａ，９ｂの下流であって、搬送装置８０の両側に配置される。また、研磨ホイール１１ａ，１１ｂは、図２の矢印Ｒ３方向に回転する。

洗浄工程Ｓ５では、ガラス基板ＧＬが洗浄される。これにより、ガラス基板ＧＬの表面に付着した微細な異物や汚れが取り除かれる。洗浄後、ガラス基板ＧＬは、乾燥される。

検査工程Ｓ６では、ガラス基板ＧＬの欠陥の有無が判定される。ここで、欠陥のあったガラス基板ＧＬは、不良品として取り除かれる。

その後、出荷工程Ｓ７において、ガラス基板ＧＬは梱包されて客先に発送される。

以下、研磨工程Ｓ４で用いる研磨装置１０ａの構成を詳細に説明する。なお、本実施形態に係るガラス基板の製造方法において、ガラス基板ＧＬは、一定の状態で、研磨工程Ｓ４に搬送されるものとする。一定の状態とは、ガラス基板ＧＬが正確に搬送されてきた場合に想定されるガラス基板ＧＬの位置に対して、実際に搬送されてくるガラス基板ＧＬの位置のズレが、一定の範囲内（±０．１ｍｍ）であることを意味する。ガラス基板ＧＬの位置のズレには、搬送装置８０の幅方向片側へのガラス基板ＧＬの片寄り、および、搬送装置８０に対するガラス基板ＧＬの傾きが含まれる。搬送装置８０の幅方向片側へのガラス基板ＧＬの寄りとは、ガラス基板ＧＬの中心線Ｃ１（図２参照）が搬送装置８０の中心線Ｃ２（図２参照）に対して、幅方向にずれていることを意味する。ガラス基板ＧＬの中心線Ｃ１および搬送装置８０の中心線Ｃ２は、ガラス基板ＧＬの搬送方向に沿った線である。したがって、搬送装置８０の幅方向片側へガラス基板ＧＬが寄っている状態とは、ガラス基板ＧＬの中心線Ｃ１が、搬送装置８０の中心線Ｃ２の幅方向右側に若干ずれた状態、またはガラス基板ＧＬの中心線Ｃ１が、搬送装置８０の中心線Ｃ２の幅方向左側に若干ずれた状態を意味する（図１３Ａ〜図１３Ｃ参照）。また、搬送装置８０に対するガラス基板ＧＬの傾きとは、ガラス基板ＧＬの前端部分ＴＰから研磨ホイール１１ａ，１１ｂまでの距離と、ガラス基板ＧＬの後端部分ＥＰから研磨ホイール１１ａ，１１ｂまでの距離とが異なる状態を意味する。したがって、搬送装置８０に対してガラス基板ＧＬが傾いている状態では、ガラス基板ＧＬの右側前端部が、ガラス基板ＧＬの左側前端部よりも搬送方向下流側にある状態、または、ガラス基板ＧＬの右側前端部が、ガラス基板ＧＬの左側前端部よりも搬送方向上流側にある状態が含まれる（図１６Ａ〜図１６Ｃ参照）。

（２）研磨装置の構成
研磨装置１０ａ，１０ｂは、研削ホイール９ａ，９ｂによって研削されたガラス基板ＧＬの端面を研磨し、端面の凹凸やクラックを低減させる。

図４Ａおよび図４Ｂに、本実施形態に係る研磨装置１０ａの概略構成を示す。図４Ａは、研磨装置１０ａの平面図であり、図４Ｂは、研磨装置１０ａの側面図である。なお、図４Ａおよび図４Ｂは、図２の右側に示す研磨ホイール１１ａを含む研磨装置１０ａを示す。以下、研磨装置１０ａの構成について詳細に説明するが、図２に示されたもう一方の研磨ホイール１１ｂを含む研磨装置１０ｂの構成も、研磨装置１０ａと同様の構成であるものとする。但し、研磨装置１０ｂの構成および動作は、搬送装置８０の中心線Ｃ２に対して、研磨装置１０ａの構成と対称であるものとする（図１１Ａ〜図１１Ｃ等参照）。

研磨装置１０ａは、主として、研磨ホイール（研磨砥石に相当）１１ａ、アーム１２ａ、基板１３ａ、ブレーキ機構１４ａ、および制御部１５を含む。

（２−１）研磨ホイール
研磨ホイール１１ａは、研削ホイール９ａによって研削されたガラス基板ＧＬの端面に接触して端面の凹凸やクラックを低減させる。研磨ホイール１１ａには、樹脂が充填された繊維が用いられている。樹脂には、ダイヤモンド砥粒、シリコンカーバイド砥粒、ＣＢＮ砥粒、あるいは酸化セリウム砥粒等の砥粒が分散されている。これにより、研磨ホイール１１ａは、弾力性のある周縁部を有する。

研磨ホイール１１ａには、ガラス端面を切り込むための溝が形成されている。溝は、ガラス基板ＧＬの端面および端面近傍を覆うようにガラス基板ＧＬに接触する。研磨ホイール１１ａは、モーター１７ａによって、ホイール回転軸１１０ａを中心に回転する。具体的には、ガラス基板ＧＬの端面に接触する研磨ホイール１１ａの研磨面である周縁部が、ガラス基板ＧＬの搬送方向Ｄ１と反対方向に進むように、研磨ホイール１１ａは回転する（図２の矢印Ｒ３）。

（２−２）アーム
アーム１２ａは、アーム回動軸１２０ａを中心に回動する構成になっている。アーム１２ａは、回動によって搬送方向Ｄ１に対する傾きを変える。研磨装置１１ａは、アーム１２ａの傾きを変えることで、研磨ホイール１１ａからガラス基板ＧＬに対して加えられる圧力を一定範囲に維持し、研磨ホイール１１ａをガラス基板の端面に追従させる。

アーム１２ａは、図４Ｂに示すように、第１の端部１２１および第２の端部１２２を有する。第１の端部１２１は、ガラス基板ＧＬの近くに位置する端部であり、第２の端部１２２は、ガラス基板ＧＬに対して離れた位置にある端部である。第１の端部１２１には、研磨ホイール１１ａが回動可能に取り付けられている。第２の端部１２２には、定圧シリンダー１６ａが取り付けられている。定圧シリンダー１６ａは、第２の端部１２２に対して矢印Ｆ１方向に一定の力（荷重）が加えられている（第１の力に相当）（図４Ａ参照）。アーム１２ａは、定圧シリンダー１６ａによって第２の端部１２２に力が加えられると、アーム回動軸１２０ａを中心に、矢印Ｒ１方向に回動する。アーム１２ａの第２の端部１２２の近傍には、ストッパー１５ａが配置されている。アーム１２ａの回動により、アームの第２の端部１２２とストッパー１５ａとが接触する。これにより、Ｒ１方向へのアーム１２ａの回動が抑制される。また、Ｒ１方向へのアーム１２ａの回動は、研磨ホイール１１ａとガラス基板ＧＬの端面とが接触することによっても抑制される。

なお、アーム１２ａの回動は、後述するブレーキ機構１４ａの動作によっても制限される。ブレーキ機構１４ａとアーム１２ａの回動との関係については、後述するブレーキ機構１４ａの説明と併せて行う。

（２−３）基板
図４Ｂに示すように、基板１３ａは、定圧シリンダー１６ａおよびアーム回動軸１２０ａを保持するプレートである。

（２−４）ブレーキ機構
ブレーキ機構１４ａは、ガラス基板ＧＬの搬入時および搬出時にアーム１２ａの回動範囲を制限する（第２の力に相当）。ブレーキ機構１４ａは、図５に示すように、上部機構４１と下部機構４２とからなる。上部機構４１は、上下に移動する構成になっている。具体的に、上部機構４１は、下部機構４２と接触する位置（規制位置）と、下部機構４２から離れた位置（解除位置）との間を上下に移動する。上部機構４１が規制位置で下部機構４２に接触することにより、アーム１２ａの回動が制限される。すなわち、アーム１２ａの回動にブレーキがかけられる。一方、上部機構４１が下部機構４２から離れて解除位置にあるとき、アーム１２ａの回動が自由になる。すなわち、ブレーキが解除される。これにより、ガラス基板ＧＬの傾きに応じてアーム１２ａが自由に回動する。以下、上部機構４１と下部機構４２との構成を詳細に説明する。

（２−４−１）上部機構
上部機構４１は、主として、ブレーキ用シリンダー４１１と、上部接触ユニット４１２とを有する。

ブレーキ用シリンダー４１１は、ネジ４１１ｂによって、プレート４１１ａに固定されている。また、ブレーキ用シリンダー４１１は、プレート４１１ａを介して、プッシュアンドプルロッド４１１ｃと連結されている。プッシュアンドプルロッド４１１ｃは、後述する上部接触ユニット４１２と接続されている。ブレーキ用シリンダー４１１は、上部接触ユニット４１２を上下に移動させる。上部接触ユニット４１２は、ブレーキ用シリンダー４１１によって、上方にある解除位置と、下方にある規制位置とを移動する。

上部接触ユニット４１２は、下部機構４２に接触する部材である。上部接触ユニット４１２には、挿入部４１３ａ，４１３ｂ，４１３ｃが形成されている。挿入部４１３ａ−４１３ｃには、スライダーシャフト４１４が挿入される。スライダーシャフト４１４は、プレート４１１ａの下面と、アーム回動軸１２０ａの上面との間で垂直方向に延びる。上部接触ユニット４１２は、ブレーキ用シリンダー４１１によって上下に移動する際、スライダーシャフト４１４に沿って移動する。また、挿入部４１３ａ−４１３ｃは、スライダーベアリング４１５と、弾性部材４１６とが格納可能な構成になっている。スライダーベアリング４１５は、上部接触ユニット４１２によるスライダーシャフト４１４に沿った動きをスムーズにさせる機能を有する。すなわち、上部接触ユニット４１２は、スライダーベアリング４１５を介してスライダーシャフト４１４に沿いながら上下に移動する。

弾性部材４１６は、貫通孔ｈ１を有する。貫通孔ｈ１は、弾性部材４１６の中央部に形成されている。スライダーシャフト４１４およびスライダーベアリング４１５は、貫通孔ｈ１の内側に配置される。すなわち、弾性部材４１６は、スライダーベアリング４１５の周囲に配置されている。弾性部材４１６は、ウレタン系材料、シリコン系材料、またはゴムである。ここでは、弾性部材４１６として、ウレタン系材料を用いる。弾性部材４１６は、上部接触ユニット４１２が規制位置にある時に、スライダーシャフト４１４に対して、アーム１２ａを若干動かせる程度の弾性を有する。具体的には、図７Ａおよび図７Ｂに示すように、弾性部材４１６は、アーム１２ａをＲ１方向またはＲ２方向に所定量回動させることができる程度の弾性を有する。アーム１２ａが所定量回動することにより、本実施形態では、スライダーシャフト４１４およびスライダーベアリング４１５は、中心線Ｃ３から左右に０．１ｍｍ〜０．３ｍｍずれる。ここで、所定量とは、研磨ホイール１１ａの中心からガラス基板ＧＬの端面までの距離が適正距離になることを許容する量である。また、中心線Ｃ３は、上部接触ユニット４１２の中心から挿入部４１３ａ−４１３ｃの中心に伸ばした直線である。弾性部材４１６の弾性は、ガラス基板ＧＬの種類（ガラス基板ＧＬの組成）に応じて変更することが考えられるが、本実施形態では、上部接触ユニット４１２が規制位置にある時に、アーム１２ａの回動をわずかに許容し、許容された範囲でアーム１２ａを回動させると、スライダーシャフト４１４およびスライダーベアリング４１５が、中心線Ｃ３から左右に０．２ｍｍずれる程度の弾性を有する弾性部材４１６を用いることが好ましい。

上部接触ユニット４１２の下面には、図５に示すように、固定ブレーキパッド４１７が取り付けられている。固定ブレーキパッド４１７には、所定の剛性および所定の摩擦係数を有する材料が用いられる。所定の剛性とは、弾性部材４１６の剛性と同程度、または、弾性部材４１６の剛性よりも強い剛性を意味する。また、所定の摩擦係数とは、上部機構４１が規制位置にあるとき、固定ブレーキパッド４１７が、外力Ｆ１，Ｆ２に対抗しうる程度の摩擦係数を意味する。固定ブレーキパッド４１７は、後述する下部機構４２の回転ブレーキパッド４２２と接触する。

（２−４−２）下部機構
下部機構４２は、規制位置にある上部機構４１と接触する機構である。下部機構４２は、主として、下部接触ユニット４２１を有する。下部接触ユニット４２１は、アーム１２ａの第２端部に配置されている。下部接触ユニット４２１の上面には、回転ブレーキパッド４２２が取り付けられている。具体的に、回転ブレーキパッド４２２は、規制位置にある上部機構４１の固定ブレーキパッド４１７と接触するように取り付けられている。回転ブレーキパッド４２２にもまた、上述の固定ブレーキパッド４１７と同様に、所定の剛性および所定の摩擦係数を有する材料が用いられる。

（２−５）制御部
制御部１５は、図６に示すように、研磨ホイール１１ａ、アーム回動軸１２０ａ、ブレーキ機構１４ａ、モーター１７ａ、及び各種センサ１６にそれぞれ接続されている。制御部１５は、主として、ＣＰＵ、ＲＯＭ、ＲＡＭ、およびハードディスク等から構成されている。制御部１５は、ＲＯＭ、ＲＡＭまたはハードディスク等に記憶されたプログラムや各種情報に基づいて各構成の制御を行う。なお、制御部１５は、両方の研磨装置１０ａ，１０ｂに対して制御指令を生成して送るものであってもよい。

（３）アームの回動に応じたスライダーシャフトの位置
次に、図７Ａおよび図７Ｂを参照して、ブレーキ機構１４ａ作動時のスライダーシャフト４１４の位置の変化について説明する。上述したように、ブレーキ機構１４ａは、挿入部４１３ａ−４１３ｃに弾性部材４１６を有する。ブレーキ機構１４ａが作動している場合には、アーム１２ａの回動はスライダーシャフト４１４によって阻害される。しかし、スライダーシャフト４１４の周辺の弾性部材４１６が変形することにより、アーム１２ａの若干の回動が許容される。

図７Ａおよび図７Ｂは、ブレーキ機構１４ａの作動時における、アーム１２ａの回動方向Ｒ１，Ｒ２と、アーム１２ａの回動に応じて変化するスライダーシャフト４１４の位置とを示す図である。図７Ａは、ブレーキ機構１４ａの作動時、アーム１２ａが方向Ｒ１に回動した場合に、スライダーシャフト４１４が方向Ｍ１に移動することを示す。図７Ｂは、ブレーキ機構１４ａの作動時、アーム１２ａが方向Ｒ２に回動した場合に、スライダーシャフト４１４が方向Ｍ２に移動することを示す。

図７Ａおよび図７Ｂが示すように、弾性部材４１６の変形の程度に応じて、アーム１２ａの回動量（回動範囲）が決定される。

（４）アームに加えられる外力とスライダーシャフトの位置との関係
次に、図８Ａ〜図８Ｃを用いて、アーム１２ａに加えられる外力と、挿入部４１３ａ内のスライダーシャフト４１４の位置との関係について説明する。ここで、アーム１２ａに加えられる外力とは、定圧シリンダー１６ａによって加えられる力（外力Ｆ１）と、研磨ホイール１１ａがガラス基板ＧＬと接触することにより加えられる力（外力Ｆ２）とを意味する。なお、図８Ａ〜図８Ｃは、図７Ａおよび図７Ｂの挿入部４１３ａの拡大図である。

図８Ａでは、スライダーシャフト４１４が、挿入部４１３ａの中心（適正位置）にある。スライダーシャフト４１４が適性位置にある時、スライダーシャフト４１４は、中心線Ｃ３の中心にある。スライダーシャフト４１４が適性位置にある時、外力Ｆ２によってアーム１２ａが回動しようとする力と、外力Ｆ１によってアーム１２ａが回動しようとする力とが、つりあった状態である。スライダーシャフト４１４が適正位置にある時、ガラス基板ＧＬから研磨ホイール１１ａの中心までの距離は、所定の距離間隔であると考えられる。弾性部材４１６は、スライダーシャフト４１４およびスライダーベアリング４１５の周囲で均一の厚みを有する。すなわち、弾性部材４１６は、変形しておらず、原型を保っている。

図８Ｂでは、アーム１２ａが右回りに若干回動した結果、スライダーシャフト４１４が、中心線Ｃ３から左側にずれた位置にある。ここでは、外力Ｆ２によってアーム１２ａが回動しようとする力が、外力Ｆ１によって回動しようとする力よりも大きい状態にある。ガラス基板ＧＬから研磨ホイール１１ａの中心までの距離は、所定の距離間隔よりも近いと考えられる。弾性部材４１６は、中心線Ｃ３の左側が圧縮されて変形する。弾性部材４１６が圧縮されることにより、ブレーキ機構１４ａの作動時に外力Ｆ２の過剰な上昇から研磨ホイール１１ａが守られる。

図８Ｃでは、アーム１２ａが左回りに若干回動した結果、スライダーシャフト４１４が、中心線Ｃ３から右側にずれた位置にある。ここでは、外力Ｆ１によってアーム１２ａが回動しようとする力が、外力Ｆ２によってアーム１２ａが回動しようとする力よりも大きい状態にある。ガラス基板ＧＬから研磨ホイール１１ａの中心までの距離は、所定の距離間隔よりも遠いと考えられる。弾性部材４１６は、中心線Ｃ３の右側が圧縮されて変形する。圧縮された弾性部材４１６は、原型に復元しようとするが、原型に復元しようとする力（復元力）よりも外力Ｆ１が大きい。研磨ホイール１１ａはガラス基板ＧＬの端面に対して一定範囲の圧力を加えて接触する。また、弾性部材４１６の復元力によって、ガラス基板ＧＬの加工開始時に、ガラス基板ＧＬから研磨ホイール１１ａに伝わる衝撃が低下される。すなわち、弾性部材４１６によって、ガラス基板ＧＬから研磨ホイール１１ａに伝わる衝撃が吸収される。

（５）研磨工程の概略説明
次に、図９を用いて、研磨工程の概略を説明する。なお、研磨装置１０ａは、予めブレーキ機構１４ａを作動させておき、ガラス基板ＧＬが搬送されてくるのを待つ。

まず、工程Ｓ１０１において、センサ１６によって、研磨ホイール１１ａがガラス基板ＧＬに接触したかどうかを判断する。本実施形態では、図１０に示すように、研磨ホイール１１ａの外縁（周縁部）が、ガラス基板ＧＬの端面から所定の距離Ｗ内側に位置するように、研磨ホイール１１ａとガラス基板ＧＬの端面とを接触させる。すなわち、研磨ホイール１１ａは、ガラス基板の両端部よりも内側に突出するように配置される。ここで、所定の距離Ｗとは、０より大きく１００μｍｍより小さい範囲の値であることが好ましい。より好ましくは、所定の距離Ｗは、５０μｍｍである。回転する研磨ホイール１１ａにガラス基板ＧＬの端面が接触することにより、ガラス基板ＧＬの前端部分ＴＰが、ブレーキ機構１４ａを作動させた状態で研磨される（第１研磨工程）。研磨ホイール１１ａは、弾性部材４１６の変形可能な範囲で、ガラス基板の端面に追従させながら研磨する。すなわち、研磨ホイール１１ａは、ガラス基板ＧＬの前端部分ＴＰ（前方端面）に周縁部を当接させた後ガラス基板ＧＬの下流方向への搬送に伴って、周縁部をガラス基板ＧＬから退避させてガラス基板ＧＬを研磨する。

工程Ｓ１０１において、センサ１６によって、研磨ホイール１１ａとガラス基板ＧＬとの接触が検出されると、工程Ｓ１０２において、タイマーのカウントが開始される。さらに、工程Ｓ１０３において、ブレーキ機構１４ａが解除される。すなわち、アーム１２ａは、搬送装置８０に対するガラス基板ＧＬの傾き（研磨ホイール１１ａの中心からガラス基板ＧＬの端面までの距離）に併せて自由に回動する。そして、アーム１２ａは、外力Ｆ２によりアーム１２ａがＲ２方向に回動しようとする力と、外力Ｆ１によりアーム１２ａがＲ１方向に回動しようとする力とが、つりあった位置で安定し、当該位置で、研磨ホイール１１ａがガラス基板ＧＬの端面を研磨する（第２研磨工程）。アーム１２ａがガラス基板ＧＬの傾きに併せて自由に回動することで、研磨ホイール１１ａは、ガラス基板の端面に追従しながら研磨する。

その後、工程Ｓ１０４において、タイマーで計測した時間が所定時間に達したか否かが判断される。所定時間に達していない場合には、所定時間に達するまで待機し、所定時間に達すると、工程Ｓ１０５に進む。

工程Ｓ１０５では、ブレーキ機構１４ａを作動させる。すなわち、アーム１２ａの回動を規制した状態でガラス基板ＧＬの端面を研磨する（第３研磨工程）。研磨ホイール１１ａは、弾性部材４１６の変形可能な範囲で、ガラス基板の端面に追従させながら研磨する。

（６）研磨工程の詳細説明
次に、図１１Ａ〜図１６Ｃを参照して、ガラス基板ＧＬの搬送状態に応じた研磨装置１０ａの動作について説明する。図１１Ａ〜図１１Ｃ、図１３Ａ〜図１３Ｃ、および図１６Ａ〜図１６Ｃは、ガラス基板ＧＬの搬送状態についての複数の例を示す図である。詳細には、研磨装置１０ａ，１０ｂが、ガラス基板ＧＬの傾き、ガラス基板ＧＬの幅方向の変動、および研磨ホイール１１ａの中心からガラス基板ＧＬの端面までの距離の変動に応じて、アーム１２ａを動作させ、研磨ホイール１１ａをガラス基板ＧＬの端面に追従させている様子を示す。なお、本実施形態では、研磨ホイール１１ａが、ガラス基板ＧＬに対して一定範囲の圧力を加えた状態で、ガラス基板ＧＬの端面を研磨するような構成になっている。

図１１Ａ〜図１６Ｃ中、矢印Ｄ１は、ガラス基板ＧＬの搬送方向を示す。矢印Ｆ１は、定圧シリンダー１６ａから与えられる外力を示し、矢印Ｆ２は、ガラス基板ＧＬから与えられる外力を示す。また、矢印Ｆ１および矢印Ｆ２の大きさは、外力の大小を示す。さらに、図１１Ａ〜図１６Ｄ中、図１１Ｂ、図１２Ｃ、図１３Ｂ、図１４Ｃ、図１５Ｃ、および図１６Ｂは、ブレーキ機構１４ａが解除された状態を示し、その他の図は、ブレーキ機構１４ａが作動している状態を示す。

（６−１）研磨ホイールの中心からガラス基板の端面までの距離が適正距離の場合
図１１Ａ〜図１１Ｃおよび図１２Ａ〜図１２Ｄは、研磨ホイール１１ａの中心からガラス基板ＧＬまでの距離が適正距離である場合を示す。適正距離とは、研磨ホイール１１ａがガラス基板ＧＬの端面に接触した際、スライダーシャフト４１４が適正位置にくるような距離である。図１１Ａ〜図１１Ｃでは、ガラス基板ＧＬが搬送装置８０の中央に配置されている場合を例に説明する。ここでは、ガラス基板ＧＬの中心線Ｃ１は搬送装置８０の中心線Ｃ２と一致している。すなわち、搬送ベルト８１，８２の外側からガラス基板ＧＬの端面までの距離Ｌ１は、ガラス基板ＧＬの下流側、上流側、左側、および右側で同一である。

図１１Ａは、研磨ホイール１１ａがガラス基板ＧＬの端面に接触する前の状態を示す。ここでは、図１２Ａに示すように、アーム１２ａには、外力Ｆ１のみがかかる。アーム１２ａは、矢印Ｒ１で示す方向に回動しようとする。ブレーキ機構１４ａが作動しているため、アーム１２ａは自由に回動しないが、弾性部材４１６の変形により、アーム１２ａの回動が許容される（弾性部材変形工程）。これにより、アーム１２ａは、矢印Ｒ１方向に若干回動する。このとき、スライダーシャフト４１４の位置は、適正位置からＭ１方向にずれる。

その後、ガラス基板ＧＬが研磨ホイール１１ａに接触すると、図１２Ｂに示すように、アーム１２ａには、外力Ｆ２もかけられる。アーム１２ａは、外力Ｆ２を受け、矢印Ｒ２で示す方向に回動しようとする。ブレーキ機構１４ａが作動しているため、アーム１２ａは自由に回動しないが、弾性部材４１６の変形により、アーム１２ａの回動が許容される（弾性部材変形工程）。これにより、アーム１２ａは、矢印Ｒ２方向に若干回動する。このとき、スライダーシャフト４１４の位置は、Ｍ２方向にずれる。ここでは、アーム１２ａが矢印Ｒ２方向に若干回動することにより、スライダーシャフト４１４は、適正位置に戻る。ガラス基板ＧＬに接触する前に図１１Ａの実線で示す位置にあった研磨ホイール１１ａは、ガラス基板ＧＬの前端部分ＴＰに接触すると、破線で示す位置に移動する。このように、ガラス基板ＧＬの前端部分ＴＰは、ブレーキ機構１４ａが作動した状態で研磨ホイール１１ａによって研磨される（第１研磨工程）。

図１１Ｂは、第１研磨工程の後であって、ガラス基板ＧＬの前端部分ＴＰが研磨ホイール１１ａ，１１ｂよりも下流側に位置する状態を示す。すなわち、図１１Ｂは、ガラス基板ＧＬの中央部分ＣＰが研磨されている状態を示す。研磨装置１０ａ，１０ｂは、ガラス基板ＧＬの中央部分ＣＰを研磨する際、ブレーキ機構１４ａ，１４ｂを解除する。すなわち、上部機構４１は下部機構４２から遠ざかり解除位置にある。解除位置では、上部接触ユニット４１２に対していずれの外力Ｆ１，Ｆ２もかからない。上述したように、図１１Ｂに示す研磨ホイール１１ａの中心からガラス基板ＧＬまでの距離は、適正距離であるため、アーム１２ａを回動させることなく、外力Ｆ１によりアーム１２ａがＲ１方向へ回動しようとする力と外力Ｆ２によりアーム１２ａがＲ２方向へ回動しようとする力とがつりあった状態になる（図１２Ｃ参照）。研磨ホイール１１ａは、Ｒ１方向へ回動しようとする力と、Ｒ２方向へ回動しようとする力とがつりあった状態で、ガラス基板ＧＬの端面を研磨する（第２研磨工程）。すなわち、研磨ホイール１１ａは、ガラス基板の端面に追従しながら研磨する。

図１１Ｃは、ガラス基板ＧＬが研磨ホイール１１ａから離れる直前を示す。すなわち、ガラス基板ＧＬの中央部分ＣＰの研磨が終了した後であって、ガラス基板ＧＬの後端部分ＥＰが研磨されている状態を示す。図１２Ｄに示すように、アーム１２ａには、外力Ｆ１と外力Ｆ２とがかけられる。外力Ｆ１によりアーム１２ａがＲ１方向に回動しようとする力と、外力Ｆ２によりアーム１２ａがＲ２方向に回動しようとする力とはつりあった状態である。すなわち、スライダーシャフト４１４は適正位置にある。ここで、ブレーキ機構１４ａが作動する。ガラス基板ＧＬの後端部分ＥＰは、ブレーキ機構１４ａが作動した状態で研磨ホイール１１ａによって研磨される（第３研磨工程）。この後、ガラス基板ＧＬが研磨ホイール１１ａから離れていくと、アーム１２ａには外力Ｆ１のみがかかる。これにより、図１２Ａで示したように、アーム１２ａは、外力Ｆ１によってＲ１方向に回動しようとし、弾性部材４１６が圧縮される（弾性部材変形工程）。これにより、スライダーシャフト４１４は、適性位置からＭ１方向にわずかにずれる。

（６−２）研磨ホイールの中心からガラス基板の端面までの距離が適正距離でない場合
図１３Ａ〜図１６Ｃは、研磨ホイール１１ａの中心からガラス基板ＧＬの端面までの距離が適正距離ではない場合の研磨装置１０ａ（および１０ｂ）の動きを示す。図１３Ａ〜図１３Ｃは、ガラス基板ＧＬが搬送装置８０の幅方向片側に寄った位置にある状態を示し、図１６Ａ〜図１６Ｃは、ガラス基板ＧＬが、搬送装置８０に対して傾いた状態を示す。以下、研磨ホイール１１ａの中心からガラス基板ＧＬの端面までの距離が適正距離でない場合の研磨装置１０ａの動きを、ガラス基板ＧＬが搬送装置８０の幅方向片側に寄った位置にある場合と、ガラス基板ＧＬが搬送装置８０に対して傾いている場合とに分けて説明する。

（６−２−１）ガラス基板が搬送装置の幅方向片側に寄っている場合
図１３Ａ〜図１３Ｃは、研磨ホイール１１ａの中心からガラス基板ＧＬの端面までの距離が適正距離よりも小さい場合（紙面右側の研磨ホイール１１ａ）と、研磨ホイール１１ｂの中心からガラス基板ＧＬの端面までの距離が適正距離よりも大きい場合（紙面左側の研磨ホイール１１ｂ）とを示す。搬送ベルト８１，８２の外側からガラス基板ＧＬの端面までの距離Ｌ２およびＬ３は、ガラス基板ＧＬの上流側および下流側で同一である。

まず、図１３Ａ〜図１３Ｄ（紙面右側の研磨装置１０ａ）と図１４Ａ〜１４Ｄとを用いて、研磨ホイール１１ａの中心からガラス基板ＧＬの端面までの距離が適正距離よりも小さい場合について説明する。

図１３Ａは、研磨ホイール１１ａがガラス基板ＧＬの端面に接触する前の状態を示す。ここでは、図１４Ａに示すように、アーム１２ａには、定圧シリンダー１６ａからの外力Ｆ１のみがかかる。アーム１２ａは、矢印Ｒ１で示す方向に回動しようとする。ブレーキ機構１４ａが作動しているため、アーム１２ａは自由に回動しないが、弾性部材４１６の変形により、アーム１２ａの回動が許容される（弾性部材変形工程）。これにより、アーム１２ａは、矢印Ｒ１方向に若干回動する。このとき、スライダーシャフト４１４の位置は、適正位置からＭ１方向にわずかにずれる。

その後、ガラス基板ＧＬが研磨ホイール１１ａに接触すると、アーム１２ａには、ガラス基板ＧＬからの外力Ｆ２もかけられる（図１４Ｂ参照）。ここでは、研磨ホイール１１ａの中心からガラス基板ＧＬの端面までの距離が適正距離よりも小さいため、アーム１２ａにかけられる外力Ｆ２は、図１２Ｂでアーム１２ａにかけられる外力Ｆ２よりも大きくなる。アーム１２ａは、外力Ｆ２を受けて矢印Ｒ２で示す方向に大きく回動しようとする。ブレーキ機構１４ａが作動しているため、アーム１２ａは自由に回動しないが、弾性部材４１６の大きな変形により、アーム１２ａの回動が許容される（弾性部材変形工程）。これにより、アーム１２ａは、矢印Ｒ２方向に回動する。このとき、スライダーシャフト４１４の位置は、適正位置からＭ２方向にずれる。ここでは、弾性部材４１６の大きな変形によって、ガラス基板ＧＬの切込過多が抑制される（切込過多抑制工程）。ガラス基板ＧＬに接触する前に図１３Ａの実線で示す位置にあった研磨ホイール１１ａは、ガラス基板ＧＬの前端部分ＴＰに接触すると、破線で示す位置に移動する。このように、ガラス基板ＧＬの前端部分ＴＰは、ブレーキ機構１４ａが作動した状態で研磨ホイール１１ａによって研磨される（第１研磨工程）。

図１３Ｂは、第１研磨工程の後であって、ガラス基板ＧＬの前端部分ＴＰが研磨ホイール１１ａよりも下流側に位置する状態を示す。すなわち、図１３Ｂは、ガラス基板ＧＬの中央部分ＣＰが研磨されている状態を示す。研磨装置１０ａは、ガラス基板ＧＬの中央部分ＣＰを研磨する際、ブレーキ機構１４ａを解除する。すなわち、上部機構４１は下部機構４２から遠ざかり解除位置にある。解除位置では、上部接触ユニット４１２に対していずれの外力Ｆ１，Ｆ２もかからない。これにより、圧縮されていた弾性部材４１６が元の形状に復元される（復元工程）。すなわち、図１４Ｃに示すように、スライダーシャフト４１４が実線の位置から破線の位置（適正位置）にくるように、上部接触ユニット４１２が回動する。一方、アーム１２ａは、ブレーキ機構１４ａの解除によって、外力Ｆ１と外力Ｆ２とを直接受ける。これにより、アーム１２ａは、Ｒ１方向に回動しようとする力とＲ２方向に回動しようとする力とがつりあう位置まで回動し、研磨ホイール１１ａの中心からガラス基板ＧＬの端面までの距離が適正距離になるように研磨ホイール１１ａを移動させる。研磨ホイール１１ａは、Ｒ１方向に回動しようとする力とＲ２方向に回動しようとする力とがつりあった状態で、ガラス基板ＧＬの端面を研磨する（第２研磨工程）。

図１３Ｃは、ガラス基板ＧＬが研磨ホイール１１ａから離れる直前を示す。すなわち、ガラス基板ＧＬの中央部分ＣＰの研磨が終了した後であって、ガラス基板ＧＬの後端部分が研磨されている状態を示す。図１４Ｄに示すように、アーム１２ａには、外力Ｆ１と外力Ｆ２とがかけられ、Ｒ１方向に回動しようとする力とＲ２方向に回動しようとする力とはつりあった状態である。ここで、ブレーキ機構１４ａが作動する。ブレーキ機構１４ａが作動したとき、外力Ｆ１および外力Ｆ２により発生する力がつりあっているため、上部接触ユニット４１６は、いずれの外力Ｆ１，Ｆ２の影響もうけない。したがって、弾性部材４１６は、原型を保ち、スライダーシャフト４１４を弾性部材４１６の中央（適正位置）に留める。ガラス基板ＧＬの後端部分ＥＰは、ブレーキ機構１４ａが作動した状態で研磨ホイール１１ａによって研磨される（第３研磨工程）。この後、ガラス基板ＧＬが研磨ホイール１１ａから離れていくと、アーム１２ａには外力Ｆ１のみがかかるため、図１４Ａで示したように、弾性部材４１６が変形し、アーム１２ａの回動が許容される（弾性部材変形工程）。また、スライダーシャフト４１４は、アーム１２ａの回動に伴って、適性位置からＭ１方向にわずかにずれる。

次に、図１３Ａ〜図１３Ｃ（紙面左側の研磨装置１０ｂ）と図１５Ａ〜１５Ｄとを用いて、研磨ホイール１１ａ，１１ｂの中心からガラス基板ＧＬの端面までの距離が適正距離よりも大きい場合について説明する。なお、図１５Ａ〜図１５Ｄの研磨装置１０ａの配置は、図１３Ａ〜図１３Ｃの研磨装置１０ａの配置と異なるが、動作原理は同様である。

図１３Ａは、上述したように、研磨ホイール１１ｂがガラス基板ＧＬの端面に接触する前の状態を示す。ここでは、図１５Ａに示すように、アーム１２ａには、定圧シリンダー１６ａからの外力Ｆ１のみがかかる。アーム１２ａは、矢印Ｒ１で示す方向に回動しようとする。ブレーキ機構１４ａが作動しているため、アーム１２ａは自由に回動しないが、弾性部材４１６の変形により、アーム１２ａの回動が許容される（弾性部材変形工程）。これにより、アーム１２ａは、矢印Ｒ１方向に若干回動する。このとき、スライダーシャフト４１４の位置は、適正位置からＭ１方向にわずかにずれる。

その後、ガラス基板ＧＬが研磨ホイール１１ａに接触すると、アーム１２ａには、外力Ｆ２もかけられる（図１５Ｂ参照）。ここでは、研磨ホイール１１ａの中心からガラス基板ＧＬの端面までの距離が適正距離よりも大きいため、アーム１２ａにかけられる外力Ｆ２は、図１２Ｂでアーム１２ａにかけられる外力Ｆ２よりも小さくなる。アーム１２ａは、矢印Ｒ２で示す方向に小さく回動しようとする。ブレーキ機構１４ａが作動しているため、アーム１２ａは自由に回動しないが、弾性部材４１６の形状をわずかに復元させることにより、復元させた分だけアーム１２ａの回動が許容される（復元工程）。これにより、アーム１２ａは、矢印Ｒ２方向に回動する。このとき、スライダーシャフト４１４の位置は、適正位置からＭ２方向にずれる。ガラス基板ＧＬの端面に接触する前に図１３Ａの実線で示す位置にあった研磨ホイール１１ａは、ガラス基板ＧＬに接触した後、破線で示す位置に移動する。このように、ガラス基板ＧＬの前端部分ＴＰは、ブレーキ機構１４ａが作動した状態で研磨ホイール１１ａによって研磨される（第１研磨工程）。

図１３Ｂは、上述したように、ガラス基板ＧＬの中央部分ＣＰが研磨されている状態を示す。すなわち、図１３Ｂは、第１研磨工程の後であって、ガラス基板ＧＬの前端部分ＴＰが研磨ホイール１１ｂよりも下流側に位置する状態を示す。研磨装置１０ｂは、ガラス基板ＧＬの中央部分ＣＰを研磨する際、ブレーキ機構１４ｂを解除する。すなわち、上部機構４１は下部機構４２から遠ざかり解除位置にある。解除位置では、上部接触ユニット４１２に対していずれの外力Ｆ１，Ｆ２もかからない。これにより、圧縮されていた弾性部材４１６が元の形状に復元する（復元工程）。すなわち、図１５Ｃに示すように、スライダーシャフト４１４が実線の位置から破線の位置（適正位置）にくるように、上部接触ユニット４１２が回動する。一方、アーム１２ａは、ブレーキ機構１４ａの解除によって、定圧シリンダーからの外力Ｆ１とガラス基板ＧＬからの外力Ｆ２とを直接受ける。これにより、アーム１２ａは、Ｒ１方向に回動しようとする力とＲ２方向に回動しようとする力とがつりあう位置まで回動し、研磨ホイール１１ａの中心からガラス基板ＧＬの端面までの距離が適正距離になるように研磨ホイール１１ａを移動させる。研磨ホイール１１ｂは、Ｒ１方向に回動しようとする力とＲ２方向に回動しようとする力とがつりあった状態で、ガラス基板ＧＬの端面を研磨する（第２研磨工程）。

図１３Ｃは、上述したように、ガラス基板ＧＬが研磨ホイール１１ｂから離れる直前を示す。すなわち、ガラス基板ＧＬの中央部分ＣＰの研磨が終了した後であって、ガラス基板ＧＬの後端部分が研磨されている状態を示す。図１５Ｄに示すように、アーム１２ａには、外力Ｆ１と外力Ｆ２とがかけられ、Ｒ１方向に回動しようとする力とＲ２方向に回動しようとする力とはつりあった状態である。ここで、ブレーキ機構１４ａが作動する。ブレーキ機構１４ａが作動したとき、外力Ｆ１および外力Ｆ２により発生する力がつりあっているため、上部接触ユニット４１６は、いずれの外力Ｆ１，Ｆ２の影響もうけない。したがって、弾性部材４１６は、原型を保ち、スライダーシャフト４１４を弾性部材４１６の中央（適正位置）に留める。ガラス基板ＧＬの後端部分ＥＰは、ブレーキ機構１４ａが作動した状態で研磨ホイール１１ａによって研磨される（第３研磨工程）。この後、ガラス基板ＧＬが研磨ホイール１１ａから離れていくと、アーム１２ａには外力Ｆ１のみがかかるため、図１５Ａで示したように、弾性部材４１６が変形し、アーム１２ａの回動が許容される（弾性部材変形工程）。また、スライダーシャフト４１４は、アームの回動に伴って、適性位置からＭ１方向にわずかにずれる。

（６−２−２）ガラス基板が搬送装置に対して傾いている場合
図１６Ａ〜図１６Ｃは、搬送ベルト８１，８２の外側からガラス基板ＧＬの前端部分ＴＰまでの距離Ｌ２，Ｌ３と、搬送ベルト８１，８２の外側からガラス基板ＧＬの後端部分ＥＰまでの距離Ｌ３，Ｌ２とが、異なる場合を示す。言い換えると、紙面右側の研磨装置１０ａとガラス基板ＧＬとの関係については、研磨ホイール１１ａの中心からガラス基板ＧＬの前端部分ＴＰまでの距離は、適正距離よりも小さく、研磨ホイール１１ａの中心からガラス基板ＧＬの後端部分ＥＰまでの距離は、適正距離よりも大きい。また、紙面左側の研磨装置１０ｂとガラス基板ＧＬとの関係については、研磨ホイール１１ｂの中心からガラス基板ＧＬの前端部分ＴＰまでの距離は、適正距離よりも大きく、研磨ホイール１１ｂの中心からガラス基板ＧＬの後端部分ＥＰまでの距離は、適正距離よりも小さい。

この場合、図１４Ａ〜１４Ｄに示したように、研磨ホイール１１ａとガラス基板ＧＬの端面とが接触した際には、ブレーキ機構１４ａが作動しているため、アーム１２ａは、自由に回動しない。しかし、弾性部材４１６の変形によりアーム１２ａの回動が許容される（弾性部材変形工程）。アーム１２ａが回動すると、スライダーシャフト４１４の挿入部における位置が変化する。そして、ガラス基板ＧＬの前端部分ＴＰは、ブレーキ機構１４ａが作動した状態で研磨ホイール１１ａによって研磨される（第１研磨工程）。

研磨ホイール１１ａがガラス基板ＧＬに接触するとすぐに、ブレーキ機構１４ａは解除される。アーム１２ａは、Ｒ１方向に回動しようとする力とＲ２方向に回動しようとする力とがつりあうように回動し、研磨ホイール１１ａはガラス基板ＧＬの傾きに沿いながらガラス基板ＧＬの端面を研磨する（第２研磨工程）。この時、解除位置では、上部接触ユニット４１２に対していずれの外力Ｆ１，Ｆ２もかからない。これにより、弾性部材４１６は元の形状に復元する（復元工程）。

ガラス基板ＧＬの中央部分ＣＰの研磨が終了すると、ブレーキ機構１４ａが作動する。ガラス基板ＧＬの後端部分ＥＰは、ブレーキ機構１４ａを作動させた状態で研磨ホイール１１ａによって研磨される（第３研磨工程）。第３研磨工程では、弾性部材４１６に外力Ｆ１，Ｆ２がかからない状態でブレーキ機構１４ａが作動する。ブレーキ機構１４ａが作動した後のガラス基板ＧＬの傾きに対しては、外力Ｆ１または外力Ｆ２に応じて弾性部材４１６が変形する。これにより、研磨ホイール１１ａは、弾性部材４１６の変形可能な範囲において、ガラス基板ＧＬの端面に追従する。

ガラス基板ＧＬが研磨ホイール１１ａから離れた後、アーム１２ａには定圧シリンダー１６ａからの外力Ｆ１のみがかけられるため、弾性部材４１６は変形し（弾性部材変形工程）、スライダーシャフト４１４は適正位置からＭ１方向にわずかにずれる。

（７）特徴
（７−１）
上記実施形態に係るガラス基板の製造方法は、搬送されてくるガラス基板ＧＬの状態の如何にかかわらず、ガラス基板ＧＬの端面を好適に研磨することができる。

一般的なガラス基板の製造方法におけるガラス基板の研磨工程では、搬送装置によって連続的に搬送されてくるガラス基板を研磨する。ここで、ガラス基板を研磨するために用いる研磨装置として、荷重タイミング制御型の研磨装置と、待機制御型の研磨装置とが考えられる。荷重タイミング制御型の研磨装置は、研磨ホイールに荷重をかけておき、ガラス基板が搬送されてくるタイミングに併せて研磨ホイールをガラス基板に近づけ、ガラス基板の端面を研磨する。しかし、荷重タイミング制御型の研磨装置は、機械的な動作誤差および電気的制御の応答遅れ等により、ガラス基板の端面の全て（すなわち、ガラス基板の前端部分ＴＰ、中央部分ＣＰ、および後端部分ＥＰ）を好適に研磨することは困難である。特に、近年では、ガラス基板の大量生産の需要に伴い、搬送装置によるガラス基板の搬送速度も高速化している。ガラス基板の搬送速度の高速化によって、ガラス基板の前端部分ＴＰは、特に、研磨漏れが発生し易くなる。また、待機制御型の研磨装置は、搬送されてくるガラス基板に接触する位置に研磨ホイールを待機させておき、研磨ホイールに接触したガラス基板の端面を研磨する。待機制御型の研磨装置は、研磨ホイールを待機させる位置（待機位置）が適当な位置である場合には、ガラス基板の前端部分ＴＰの研磨漏れを防ぐことができるが、研磨ホイールの待機位置が適当でない場合には、ガラス基板のコーナーと研磨ホイールとが激しく接触し、ガラス基板の欠けおよび研磨ホイールの異常磨耗が発生したり、未研磨部分が発生したりすることになる。また、待機制御型の研磨装置によって、上述のような不具合を解消するためには、研磨装置に含まれる駆動部の精度や、搬送装置による搬送精度を一層向上させる必要がある。また、より精度の高い装置を採用しようとすると、コスト高になるため好ましくない。

しかし、上記実施形態に係るガラス基板の製造方法では、研磨工程Ｓ４において用いる研磨装置１０ａ，１０ｂが、ガラス基板ＧＬの幅方向の変動に追従可能な研磨ホイール１１ａ，１１ｂを備えている。ここで、ガラス基板ＧＬの幅方向の変動とは、ガラス基板ＧＬの搬送方向に交差する方向に沿ったガラス基板ＧＬの変動である。すなわち、ガラス基板ＧＬが搬送装置８０の片側に寄った状態で搬送されてきたり、ガラス基板ＧＬが搬送装置８０に対して傾いた状態で搬送されてきたりすることにより、研磨ホイール１１ａ，１１ｂからガラス基板ＧＬの端面までの距離に変化があった場合であっても、前端部分ＴＰを含むガラス基板ＧＬの端面全体を好適に研磨することができる。

（７−２）
上記実施形態に係る研磨装置１０ａ，１０ｂでは、ガラス基板ＧＬの中央部分ＣＰを研磨する際には、ブレーキ機構１４ａ，１４ｂを解除し、研磨ホイール１１ａ，１１ｂに定圧シリンダーからの外力Ｆ１をかけることによって、アーム１２ａ，１２ｂを自由に回動させ、研磨ホイール１１ａ，１１ｂをガラス基板ＧＬの端面に追従させている。また、中央部分の研磨が終了すると、ブレーキ機構１４ａ，１４ｂを作動させて、次に搬送されるガラス基板（後続のガラス基板）ＧＬを待ち受ける。ここで、ブレーキ機構１４ａ，１４ｂが作動した状態の研磨装置１０ａ，１０ｂは、研磨ホイール１１ａ，１１ｂを、後続のガラス基板ＧＬの端面を研磨するために適した位置に配置している。

一般的に、上記実施形態で用いた搬送装置８０のように、搬送装置８０が搬送ベルトから構成されるものである場合、搬送ベルトの劣化によるネジレ等が発生する。この場合、一定の周期でガラス基板ＧＬが搬送されてくる位置にズレが生じうる。しかし、上記実施形態で用いた研磨装置１０ａ，１０ｂは、後続のガラス基板ＧＬの端面を研磨するために適した位置を、先行したガラス基板ＧＬの研磨状態に応じて決定している。すなわち、先行したガラス基板ＧＬの端面の研磨が終了した位置に基づいて、後続のガラス基板ＧＬの好適な研磨位置を推定している。これにより、搬送ベルトの劣化や異常の有無に関わらず、ガラス基板ＧＬの端面を適切に研磨することができる。

（７−３）
また、上記実施形態に係る研磨装置１０ａ，１０ｂでは、挿入部４１３ａ−４１３ｃに弾性部材４１６が格納されている。上部接触ユニット４１２では、挿入部４１３ａ−４１３ｃに格納された弾性部材４１６の内側に、スライダーシャフト４１４を挿入している。研磨装置１０ａ，１０ｂによって推定された後続のガラス基板ＧＬの好適な研磨位置に多少のずれがあった場合には、弾性部材４１６を変形させることにより、研磨ホイール１１ａ，１１ｂが適切にガラス基板ＧＬの端面に接触するようアーム１２ａ，１２ｂを回動させる。これにより、後続のガラス基板ＧＬが搬送されてくる位置が推定された好適な研磨位置と異なる場合であっても、研磨ホイール１１ａ，１１ｂの位置が微調整される。これにより、ガラス基板ＧＬの前端部分ＴＰの研磨を確実に行うことができる。

また、研磨ホイール１１ａ，１１ｂが待機する位置が、ガラス基板ＧＬの端面に対して近すぎた場合であっても、ガラス基板ＧＬと研磨ホイール１１ａ，１１ｂとの接触による衝撃を弾性部材４１６が吸収するため、ガラス基板ＧＬの破損および研磨ホイール１１ａ，１１ｂの異常磨耗を防ぐことができる。

（７−４）
上記実施形態では、ブレーキ機構１４ａ，１４ｂが作動している間、上述したように、ガラス基板ＧＬの搬送状態によって弾性部材４１６を変形させることでアーム１２ａ，１２ｂの回動を許容する。弾性部材４１６はスライダーシャフト４１４によって圧縮されることにより変形する。また、上記実施形態では、ガラス基板ＧＬの中央部分ＣＰを研磨している間、ブレーキ機構１４ａ，１４ｂを解除し、ブレーキ機構１４ａ，１４ｂを解除している間に、弾性部材４１６の形状を復元させる。したがって、その後、ブレーキ機構１４ａ，１４ｂが作動して先行するガラス基板ＧＬの後端部分ＥＰを研磨し、さらに、後続のガラス基板ＧＬの研磨を開始する際、弾性部材４１６は大きく変形することができる。言い換えると、研磨ホイール１１ａが後続のガラス基板ＧＬに接触する際、弾性部材４１６は外力Ｆ１によって最も圧縮された状態である。このとき、弾性部材４１６は、外力Ｆ２に対して最も柔軟に対応できる状態（アーム１２ａ，１２ｂの回動可能範囲が最も大きい状態）である。したがって、後続のガラス基板ＧＬが搬送されてくる位置が推定された好適な研磨位置と異なる場合にも柔軟に対応することができる。

（７−５）
上記実施形態に係る研磨装置１０ａ，１０ｂは、研磨ホイール１１ａ，１１ｂの中心からガラス基板ＧＬの端面までの距離が適正距離を保つようにアーム１２ａ，１２ｂを回動させる。これによって、ガラス基板ＧＬが搬送装置８０に対して傾いていた場合およびガラス基板ＧＬが搬送装置８０の幅方向片側によっていた場合のみならず、研磨ホイール１１ａ，１１ｂの磨耗により、研磨ホイール１１ａ，１１ｂの直径に変化があった場合にも、ガラス基板ＧＬの端面を好適に研磨することができる。

（７−６）
上記実施形態では、ガラス基板ＧＬを大量生産するために、比較的早い速度でガラス基板ＧＬが搬送される。具体的に、ガラス基板ＧＬの搬送速度は、５ｍ／ｓ〜１５ｍ／ｓ（好ましくは、１０ｍ／ｓ〜１５ｍ／ｓ）である。ガラス基板ＧＬが、５ｍ／ｓ〜１５ｍ／ｓ（好ましくは、１０ｍ／ｓ〜１５ｍ／ｓ）の速度で研磨ホイール１１ａ，１１ｂに接触すると、研磨ホイール１１ａ，１１ｂが待機する位置が適当でない場合、ガラス基板ＧＬの破損が生じ易い。また、上記実施形態で製造するガラス基板ＧＬのように、非常に厚みが少ないガラス基板を製造する場合、ガラス基板ＧＬの破損は一層生じ易い。

しかし、上記実施形態では、一のガラス基板ＧＬを研磨している間に、アーム１２ａ，１２ｂを自由に回動させ、後続のガラス基板ＧＬの状態に適した位置に研磨ホイール１１ａ，１１ｂを移動させる。また、研磨装置１０ａ，１０ｂは弾性部材４１６を有するため、想定した後続のガラス基板ＧＬの搬送状態と実際に搬送されてきた後続のガラス基板ＧＬの搬送状態とが異なる場合、弾性部材４１６を圧縮させてアーム１２ａ，１２ｂの回動を許容する。

それにより、上記実施形態に係るガラス基板の製造方法では、非常に薄いガラス基板を大量生産する場合にも、研磨に係るガラス基板の破損を低減させ、ガラス基板ＧＬの生産率を向上させることができる。

（８）変形例
（８−１）変形例Ａ
上記実施形態では、ガラス基板ＧＬが研磨ホイール１１ａ，１１ｂから離れる直前にブレーキ機構１４ａ，１４ｂが作動したが、ブレーキ機構１４ａ，１４ｂは、ガラス基板ＧＬの中央部分の途中であってもよい。

（８−２）変形例Ｂ
上記実施形態では、ガラス基板ＧＬを搬送する手段として、吸着式の搬送ベルト８１，８２からなる搬送装置８０を採用したが、搬送装置８０は、他の構成を有するものであっても構わない。例えば、搬送装置８０は、ガラス基板ＧＬの幅方向両側で、ガラス基板ＧＬの表面および裏面を挟むベルトによって構成されるものであってもよい。また、搬送装置８０は、ガラス基板ＧＬを吸着して搬送するテーブルであってもよい。

（８−３）変形例Ｃ
上記実施形態では、研磨ホイール１１ａの外縁が、ガラス基板ＧＬの端面から所定の距離Ｗ内側に位置するように、研磨ホイール１１ａとガラス基板ＧＬの端面とを接触させる構成であると説明した。ここで、所定の距離Ｗは、弾性部材４１６の弾性の程度、挿入部の径の大きさ、挿入部に占める弾性部材４１６の割合、アームの回動範囲、および搬送装置８０の搬送精度等に基づいて決定されるものであり、上記実施形態で記載した距離に限られるものではない。

また、上記実施形態において、弾性部材４１６は、アーム１２ａの所定量の回動を許容し、スライダーシャフト４１４およびスライダーベアリング４１５を、中心線Ｃ３から左右に０．２ｍｍずらす程度の弾性を有することが好ましく、ガラス基板ＧＬの種類（ガラス基板ＧＬの組成）に応じて変更することが考えられると説明したが、弾性部材の弾性の程度は、その他、搬送装置８０によるガラス基板ＧＬの搬送精度や、研磨ホイール１１ａが磨耗する程度等を考慮して決定してもよい。また、弾性部材の弾性の程度は、ガラス基板ＧＬの搬送速度やガラス基板ＧＬの厚みに応じて変更してもよい。

上記実施形態では、ガラス基板ＧＬの搬送状態が如何なる状態であっても、研磨ホイール１１ａがガラス基板ＧＬに対して一定範囲の圧力を加えた状態で、ガラス基板ＧＬの端面を研磨することを特徴としている。したがって、上記ブレーキ機構１４ａ，１４ｂの構成において、ガラス基板ＧＬと接触する際に一定範囲の圧力が加わるように設計されるものであれば、上記実施形態で例示した値に限定されるものではない。

（８−４）変形例Ｄ
上記実施形態において、固定ブレーキパッド４１７は、上部接触ユニット４１２の下面に部分的に取り付けられており、回転ブレーキパッド４２２は、下部接触ユニット４２１の上面に部分的に取り付けられていたが、固定ブレーキパッド４１７は、上部接触ユニット４１２の下面全面に取り付けられてもよく、回転ブレーキパッド４２２は、下部接触ユニット４２１の上面全面に取り付けられていてもよい。

１０ａ，１０ｂ 研磨装置
１１ａ，１１ｂ 研磨ホイール
１２ａ，１２ｂ アーム
１３ａ，１３ｂ 基板
１４ａ，１４ｂ ブレーキ機構
１５ａ ストッパー
１６ａ，１６ｂ 定圧シリンダー
１７ａ モーター
４１ 上部機構
４２ 下部機構
４１１ ブレーキ用シリンダー
４１２ 上部接触ユニット
４１３ａ−４１３ｃ 挿入部
４１４ スライダーシャフト
４１５ スライダーベアリング
４１６ 弾性部材
４１７ 固定ブレーキパッド
４２１ 下部接触ユニット
４２２ 回転ブレーキパッド

特開２００９−２９７８６５号公報

本発明は、ガラス基板の製造方法に関する。

従来から、電子機器用のガラス基板は、シート状のガラスが所望のサイズに切断されることによって製造されている。所望のサイズに切断されたシート状のガラス（ガラス基板）の側面（端面）は、微小の凹凸やクラックが形成されている。当該凹凸やクラックは、ガラス基板の割れおよび欠け等の原因となりうる。このようなガラス基板の割れおよび欠けを防止するため、例えば、特許文献１（特開２００９−２９７８６５号公報）に示すように、ガラス基板の端面は研磨部材によって研磨される。特許文献１には、研磨ホイールとガラス基板との接触時の負荷電流値を検出し、当該負荷電流値を用いてガラス基板の端面を適切に研磨する方法が提案されている。

ところで、特許文献１に開示される技術では、ガラス基板の搬送中に、ガラス基板の端面の研磨が行われる。ガラス基板の搬送中にガラス基板の端面が研磨される場合、ガラス基板の搬送状態によっては、ガラス基板の端面が適切に研磨されない場合がある。

本発明の課題は、ガラス基板の端面を搬送しながら研磨する場合に、研磨の精度を向上させるガラス基板の製造方法を提供することにある。

本発明に係るガラス基板の製造方法は、搬送されたガラス基板の両端面を研磨する研磨工程を含む。また、両端面を研磨する一対の研磨砥石は、回動自在のアームにより保持されると共に、ガラス基板方向へ第１の力がアームに付与されてアームが回動することにより、一対の研磨砥石は、ガラス基板の幅方向の変動に対して両端面に追従可能に保持されている。ここで、ガラス基板方向とは、ガラス基板の搬送方向に対して直交する方向である。また、ガラス基板の幅方向の変動とは、ガラス基板の搬送方向に直交する方向に沿ったガラス基板の位置の変動を意味する。さらに、一対の研磨砥石は、研磨工程におけるガラス基板の搬入時、及び搬出時において、ブレーキ機構により、アームの回動が規制されるように第２の力がアームに付与されている。ガラス基板の搬入時、及び搬出時とは、ガラス基板が研磨砥石に接触する時、及びガラス基板が研磨砥石から離れる時を意味する。一対の研磨砥石は、第２の力がアームに付与されている状態で、ガラス基板の前端部分および後端部分を研磨する。

また、研磨工程におけるガラス基板の搬出時から、後続のガラス基板の搬入時までの間において、ブレーキ機構により第２の力がアームに付与されていることが好ましい。

また、研磨工程におけるガラス基板の搬入時、及び搬出時において、第２の力により規制されるアームの回動が弾性部材の変形によって許容されることが好ましい。

また、ブレーキ機構により第２の力がアームに付与されている間、ガラス基板と研磨砥石との接触による衝撃が弾性部材によって吸収されることが好ましい。

また、一対の研磨砥石は、ガラス基板の研磨工程における搬入時および搬出時において、ガラス基板の両端よりも内側に突出して配置されており、ガラス基板の前端部分に研磨砥石の周縁部を当接して、ガラス基板の搬送に伴って周縁部を退避させてガラス基板を研磨することが好ましい。

また、ブレーキ機構は、上下に移動する上部機構と、アームに連結されている下部機構とを有し、上部機構が下部機構と接触する位置にある時に、第２の力がアームに付与され、かつ、上部機構が下部機構から離れた位置にある時に、第２の力がアームに付与されないことが好ましい。

本発明に係るガラス基板の製造装置は、搬送されたガラス基板の両端面を研磨し、回動自在のアームと、一対の研磨砥石と、ブレーキ機構とを備える。一対の研磨砥石は、アームにより保持され、ガラス基板の両端面を研磨する。一対の研磨砥石は、ガラス基板方向へ第１の力がアームに付与されてアームが回動することにより、ガラス基板の幅方向の変動に対して両端面に追従可能に保持されている。一対の研磨砥石は、ガラス基板の搬入時、及び搬出時において、ブレーキ機構により、アームの回動が規制されるように第２の力がアームに付与されている状態で、ガラス基板の前端部分および後端部分を研磨する。

本発明に係るガラス基板の製造方法では、ガラス基板の研磨位置に応じて最適に研磨し、未研磨領域をなくすことができる。

ガラス基板の製造方法に含まれる工程の概略を示す図である。 本実施形態で用いる搬送装置と、ガラス基板に対する研削ホイールおよび研磨ホイールの配置とを示す図である。 ガラス基板の端面（前端部分、中央部分、後端部分）を示す図である。 研磨装置の概略平面図である。 研磨装置の概略側面図である。 アームに取り付けられた研磨ホイールおよびブレーキ機構を示す図である。 制御ブロックを示す図である。 アームの回動に応じたスライダーシャフトの位置の変化を示す図である。 アームの回動に応じたスライダーシャフトの位置の変化を示す図である。 スライダーシャフトの適正位置を示す図である。 スライダーシャフトが適性位置からずれた状態を示す図である。 スライダーシャフトが適性位置からずれた状態を示す図である。 研磨工程における研磨装置の動きを示すフローである。 研磨ホイールとガラス基板との位置関係を示す図である。 研磨ホイールがガラス基板に接触するときに研磨ホイールとガラス基板とが適正距離である例（研磨ホイールがガラス基板に接触する前）を示す図である。 図１１Ａで示す状態の後であって、研磨ホイールがガラス基板の中央部分を研磨する状態を示す図である。 図１１Ｂで示す状態の後であって、研磨ホイールがガラス基板の後端部分を研磨する状態を示す図である。 図１１Ａにおける外力およびスライダーシャフトの状態を示す図である。 図１２Ａで示す状態の後、研磨ホイールがガラス基板に接触した時（ガラス基板の前端部分を研磨する時）の外力およびスライダーシャフトの状態を示す図である。 図１１Ｂにおける外力およびスライダーシャフトの状態を示す図である。 図１１Ｃにおける外力およびスライダーシャフトの状態を示す図である。 研磨ホイールがガラス基板に接触するとき研磨ホイールとガラス基板とが適正距離ではない例（研磨ホイールがガラス基板に接触する前）を示す図である。 図１３Ａで示す状態の後であって、研磨ホイールがガラス基板の中央部分を研磨する状態を示す図である。 図１３Ｂで示す状態の後であって、研磨ホイールがガラス基板の後端部分を研磨する状態を示す図である。 図１３Ａ（研磨ホイールとガラス基板との距離が近い場合）における外力およびスライダーシャフトの状態を示す図である。 図１４Ａで示す状態の後、研磨ホイールがガラス基板に接触した時（ガラス基板の前端部分を研磨する時）の外力およびスライダーシャフトの状態を示す図である。 図１３Ｂにおける外力およびスライダーシャフトの状態を示す図である。 図１３Ｃにおける外力およびスライダーシャフトの状態を示す図である。 図１３Ａ（研磨ホイールとガラス基板との距離が遠い場合）における外力およびスライダーシャフトの状態を示す図である。 図１５Ａで示す状態の後であって、研磨ホイールがガラス基板に接触した時（ガラス基板の前端部分を研磨する時）の外力およびスライダーシャフトの状態を示す図である。 図１３Ｂにおける外力およびスライダーシャフトの状態を示す図である。 図１３Ｃにおける外力およびスライダーシャフトの状態を示す図である。 研磨ホイールとガラス基板との接触時に、研磨ホイールとガラス基板とが適正距離とならない別の例（研磨ホイールがガラス基板に接触する前）を示す図である。 図１６Ａで示す状態の後であって、研磨ホイールがガラス基板の中央部分を研磨する状態を示す図である。 図１６Ｂで示す状態の後であって、研磨ホイールがガラス基板の後端部分を研磨する状態を示す図である。

以下、図面を参照しながら、本発明の一実施形態に係るガラス基板の製造方法で用いるガラス基板ＧＬの研磨装置１０ａについて説明する。なお、本実施形態において、「搬送方向」は、ガラス基板ＧＬの搬送方向、「幅方向」は、ガラス基板ＧＬの幅方向を意味する。また、「ガラス基板ＧＬの傾き」とは、搬送装置８０に対するガラス基板ＧＬの傾き、「ガラス基板ＧＬの幅方向の位置」とは、搬送装置８０に対するガラス基板ＧＬの幅方向の位置を意味する。さらに、「ガラス基板方向」とは、ガラス基板の搬送方向に対して直交する方向であり、「ガラス基板の幅方向の変動」とは、ガラス基板の搬送方向に直交する方向に沿ったガラス基板の位置の変動を意味する。

（１）全体構成
まず、図１を用いて、本発明に係るガラス基板の製造方法に含まれる複数の工程Ｓ１〜Ｓ７について説明する。複数の工程には、成形工程Ｓ１、切断工程Ｓ２、研削工程Ｓ３、研磨工程Ｓ４、洗浄工程Ｓ５，検査工程Ｓ６、および出荷工程Ｓ７が含まれる。

成形工程Ｓ１では、まず、ガラス原料を溶解し溶融ガラスが形成される。その後、溶融ガラスに含まれる気泡の除去等が行われる。さらに、気泡の除去等により均質化された溶融ガラスが、フュージョン法を用いてシート状のガラスへと成形される。シート状のガラスは、その後、規定寸法に裁断されて素板になる。

切断工程Ｓ２では、素板が所望の大きさに切断される。ここでは、電子機器またはフラットパネルディスプレイに用いられるガラスサイズへと素板が切断される。切断工程Ｓ２によって切断された素板（ガラス基板ＧＬ）は、図２に示すような搬送装置８０によって下流へと搬送される。本実施形態で用いる搬送装置８０は、ガラス基板ＧＬの搬送方向に延びる搬送ベルト８１，８２からなる。搬送ベルト８１，８２は、ガラス基板ＧＬの搬送方向を横切る方向（ガラス基板ＧＬの幅方向）に所定の間隔をあけて配置されている。搬送ベルト８１，８２は、ガラス基板ＧＬの下面に接触し、ガラス基板ＧＬを吸着しながら下流に搬送する。なお、本実施形態で用いる搬送装置８０は、ガラス基板ＧＬを５ｍ／ｓ〜１５ｍ／ｓの速度で下流に搬送する。より好適には、ガラス基板ＧＬが１０ｍ／ｓ〜１５ｍ／ｓの速度で下流に搬送される。また、本実施形態に係るガラス基板の製造方法において製造するガラス基板ＧＬは、０．２ｍｍ〜０．８ｍｍの厚みを有する。より好適には、ガラス基板ＧＬの厚みが、０．２ｍｍ〜０．４ｍｍである。

研削工程Ｓ３では、搬送装置８０によって下流に搬送されたガラス基板ＧＬを、研削ホイール９ａ，９ｂによって研削する。詳細には、ガラス基板ＧＬの端面が研削される。端面は、ガラス基板ＧＬの側面（切断面）である。ガラス基板ＧＬの端面は、図３に示すように、前端部分ＴＰと、後端部分ＥＰと、中央部分ＣＰとからなる。前端部分ＴＰは、搬送方向Ｄ１に対して下流側の端面である。ガラス基板ＧＬの後端部分ＥＰは、搬送方向Ｄ１に対して上流側の端面である。ガラス基板ＧＬの中央部分ＣＰは、ガラス基板ＧＬの前端部分ＴＰおよび後端部分ＥＰに挟まれた部分である。ガラス基板ＧＬの端面は、研削ホイール９ａ，９ｂによって、若干丸みを帯びた形状に加工される（Ｒ面加工）。研削ホイール９ａ，９ｂは、図２に示すように、搬送装置８０の両側に配置される。また、研削ホイール９ａ，９ｂは、図２の矢印Ｒ３方向に回転する。

研磨工程Ｓ４では、研削工程Ｓ３によって研削されたガラス基板ＧＬの端面が、研磨ホイール１１ａ，１１ｂによって研磨される。図２に示すように、研磨ホイール１１ａ，１１ｂは、研削ホイール９ａ，９ｂの下流であって、搬送装置８０の両側に配置される。また、研磨ホイール１１ａ，１１ｂは、図２の矢印Ｒ３方向に回転する。

洗浄工程Ｓ５では、ガラス基板ＧＬが洗浄される。これにより、ガラス基板ＧＬの表面に付着した微細な異物や汚れが取り除かれる。洗浄後、ガラス基板ＧＬは、乾燥される。

検査工程Ｓ６では、ガラス基板ＧＬの欠陥の有無が判定される。ここで、欠陥のあったガラス基板ＧＬは、不良品として取り除かれる。

その後、出荷工程Ｓ７において、ガラス基板ＧＬは梱包されて客先に発送される。

以下、研磨工程Ｓ４で用いる研磨装置１０ａの構成を詳細に説明する。なお、本実施形態に係るガラス基板の製造方法において、ガラス基板ＧＬは、一定の状態で、研磨工程Ｓ４に搬送されるものとする。一定の状態とは、ガラス基板ＧＬが正確に搬送されてきた場合に想定されるガラス基板ＧＬの位置に対して、実際に搬送されてくるガラス基板ＧＬの位置のズレが、一定の範囲内（±０．１ｍｍ）であることを意味する。ガラス基板ＧＬの位置のズレには、搬送装置８０の幅方向片側へのガラス基板ＧＬの片寄り、および、搬送装置８０に対するガラス基板ＧＬの傾きが含まれる。搬送装置８０の幅方向片側へのガラス基板ＧＬの寄りとは、ガラス基板ＧＬの中心線Ｃ１（図２参照）が搬送装置８０の中心線Ｃ２（図２参照）に対して、幅方向にずれていることを意味する。ガラス基板ＧＬの中心線Ｃ１および搬送装置８０の中心線Ｃ２は、ガラス基板ＧＬの搬送方向に沿った線である。したがって、搬送装置８０の幅方向片側へガラス基板ＧＬが寄っている状態とは、ガラス基板ＧＬの中心線Ｃ１が、搬送装置８０の中心線Ｃ２の幅方向右側に若干ずれた状態、またはガラス基板ＧＬの中心線Ｃ１が、搬送装置８０の中心線Ｃ２の幅方向左側に若干ずれた状態を意味する（図１３Ａ〜図１３Ｃ参照）。また、搬送装置８０に対するガラス基板ＧＬの傾きとは、ガラス基板ＧＬの前端部分ＴＰから研磨ホイール１１ａ，１１ｂまでの距離と、ガラス基板ＧＬの後端部分ＥＰから研磨ホイール１１ａ，１１ｂまでの距離とが異なる状態を意味する。したがって、搬送装置８０に対してガラス基板ＧＬが傾いている状態では、ガラス基板ＧＬの右側前端部が、ガラス基板ＧＬの左側前端部よりも搬送方向下流側にある状態、または、ガラス基板ＧＬの右側前端部が、ガラス基板ＧＬの左側前端部よりも搬送方向上流側にある状態が含まれる（図１６Ａ〜図１６Ｃ参照）。

（２）研磨装置の構成
研磨装置１０ａ，１０ｂは、研削ホイール９ａ，９ｂによって研削されたガラス基板ＧＬの端面を研磨し、端面の凹凸やクラックを低減させる。

図４Ａおよび図４Ｂに、本実施形態に係る研磨装置１０ａの概略構成を示す。図４Ａは、研磨装置１０ａの平面図であり、図４Ｂは、研磨装置１０ａの側面図である。なお、図４Ａおよび図４Ｂは、図２の右側に示す研磨ホイール１１ａを含む研磨装置１０ａを示す。以下、研磨装置１０ａの構成について詳細に説明するが、図２に示されたもう一方の研磨ホイール１１ｂを含む研磨装置１０ｂの構成も、研磨装置１０ａと同様の構成であるものとする。但し、研磨装置１０ｂの構成および動作は、搬送装置８０の中心線Ｃ２に対して、研磨装置１０ａの構成と対称であるものとする（図１１Ａ〜図１１Ｃ等参照）。

研磨装置１０ａは、主として、研磨ホイール（研磨砥石に相当）１１ａ、アーム１２ａ、基板１３ａ、ブレーキ機構１４ａ、および制御部１５を含む。

（２−１）研磨ホイール
研磨ホイール１１ａは、研削ホイール９ａによって研削されたガラス基板ＧＬの端面に接触して端面の凹凸やクラックを低減させる。研磨ホイール１１ａには、樹脂が充填された繊維が用いられている。樹脂には、ダイヤモンド砥粒、シリコンカーバイド砥粒、ＣＢＮ砥粒、あるいは酸化セリウム砥粒等の砥粒が分散されている。これにより、研磨ホイール１１ａは、弾力性のある周縁部を有する。

研磨ホイール１１ａには、ガラス端面を切り込むための溝が形成されている。溝は、ガラス基板ＧＬの端面および端面近傍を覆うようにガラス基板ＧＬに接触する。研磨ホイール１１ａは、モーター１７ａによって、ホイール回転軸１１０ａを中心に回転する。具体的には、ガラス基板ＧＬの端面に接触する研磨ホイール１１ａの研磨面である周縁部が、ガラス基板ＧＬの搬送方向Ｄ１と反対方向に進むように、研磨ホイール１１ａは回転する（図２の矢印Ｒ３）。

（２−２）アーム
アーム１２ａは、アーム回動軸１２０ａを中心に回動する構成になっている。アーム１２ａは、回動によって搬送方向Ｄ１に対する傾きを変える。研磨装置１１ａは、アーム１２ａの傾きを変えることで、研磨ホイール１１ａからガラス基板ＧＬに対して加えられる圧力を一定範囲に維持し、研磨ホイール１１ａをガラス基板の端面に追従させる。

アーム１２ａは、図４Ｂに示すように、第１の端部１２１および第２の端部１２２を有する。第１の端部１２１は、ガラス基板ＧＬの近くに位置する端部であり、第２の端部１２２は、ガラス基板ＧＬに対して離れた位置にある端部である。第１の端部１２１には、研磨ホイール１１ａが回動可能に取り付けられている。第２の端部１２２には、定圧シリンダー１６ａが取り付けられている。定圧シリンダー１６ａは、第２の端部１２２に対して矢印Ｆ１方向に一定の力（荷重）が加えられている（第１の力に相当）（図４Ａ参照）。アーム１２ａは、定圧シリンダー１６ａによって第２の端部１２２に力が加えられると、アーム回動軸１２０ａを中心に、矢印Ｒ１方向に回動する。アーム１２ａの第２の端部１２２の近傍には、ストッパー１５ａが配置されている。アーム１２ａの回動により、アームの第２の端部１２２とストッパー１５ａとが接触する。これにより、Ｒ１方向へのアーム１２ａの回動が抑制される。また、Ｒ１方向へのアーム１２ａの回動は、研磨ホイール１１ａとガラス基板ＧＬの端面とが接触することによっても抑制される。

なお、アーム１２ａの回動は、後述するブレーキ機構１４ａの動作によっても制限される。ブレーキ機構１４ａとアーム１２ａの回動との関係については、後述するブレーキ機構１４ａの説明と併せて行う。

（２−３）基板
図４Ｂに示すように、基板１３ａは、定圧シリンダー１６ａおよびアーム回動軸１２０ａを保持するプレートである。

（２−４）ブレーキ機構
ブレーキ機構１４ａは、ガラス基板ＧＬの搬入時および搬出時にアーム１２ａの回動範囲を制限する（第２の力に相当）。ブレーキ機構１４ａは、図５に示すように、上部機構４１と下部機構４２とからなる。上部機構４１は、上下に移動する構成になっている。具体的に、上部機構４１は、下部機構４２と接触する位置（規制位置）と、下部機構４２から離れた位置（解除位置）との間を上下に移動する。上部機構４１が規制位置で下部機構４２に接触することにより、アーム１２ａの回動が制限される。すなわち、アーム１２ａの回動にブレーキがかけられる。一方、上部機構４１が下部機構４２から離れて解除位置にあるとき、アーム１２ａの回動が自由になる。すなわち、ブレーキが解除される。これにより、ガラス基板ＧＬの傾きに応じてアーム１２ａが自由に回動する。以下、上部機構４１と下部機構４２との構成を詳細に説明する。

（２−４−１）上部機構
上部機構４１は、主として、ブレーキ用シリンダー４１１と、上部接触ユニット４１２とを有する。

ブレーキ用シリンダー４１１は、ネジ４１１ｂによって、プレート４１１ａに固定されている。また、ブレーキ用シリンダー４１１は、プレート４１１ａを介して、プッシュアンドプルロッド４１１ｃと連結されている。プッシュアンドプルロッド４１１ｃは、後述する上部接触ユニット４１２と接続されている。ブレーキ用シリンダー４１１は、上部接触ユニット４１２を上下に移動させる。上部接触ユニット４１２は、ブレーキ用シリンダー４１１によって、上方にある解除位置と、下方にある規制位置とを移動する。

上部接触ユニット４１２は、下部機構４２に接触する部材である。上部接触ユニット４１２には、挿入部４１３ａ，４１３ｂ，４１３ｃが形成されている。挿入部４１３ａ−４１３ｃには、スライダーシャフト４１４が挿入される。スライダーシャフト４１４は、プレート４１１ａの下面と、アーム回動軸１２０ａの上面との間で垂直方向に延びる。上部接触ユニット４１２は、ブレーキ用シリンダー４１１によって上下に移動する際、スライダーシャフト４１４に沿って移動する。また、挿入部４１３ａ−４１３ｃは、スライダーベアリング４１５と、弾性部材４１６とが格納可能な構成になっている。スライダーベアリング４１５は、上部接触ユニット４１２によるスライダーシャフト４１４に沿った動きをスムーズにさせる機能を有する。すなわち、上部接触ユニット４１２は、スライダーベアリング４１５を介してスライダーシャフト４１４に沿いながら上下に移動する。

弾性部材４１６は、貫通孔ｈ１を有する。貫通孔ｈ１は、弾性部材４１６の中央部に形成されている。スライダーシャフト４１４およびスライダーベアリング４１５は、貫通孔ｈ１の内側に配置される。すなわち、弾性部材４１６は、スライダーベアリング４１５の周囲に配置されている。弾性部材４１６は、ウレタン系材料、シリコン系材料、またはゴムである。ここでは、弾性部材４１６として、ウレタン系材料を用いる。弾性部材４１６は、上部接触ユニット４１２が規制位置にある時に、スライダーシャフト４１４に対して、アーム１２ａを若干動かせる程度の弾性を有する。具体的には、図７Ａおよび図７Ｂに示すように、弾性部材４１６は、アーム１２ａをＲ１方向またはＲ２方向に所定量回動させることができる程度の弾性を有する。アーム１２ａが所定量回動することにより、本実施形態では、スライダーシャフト４１４およびスライダーベアリング４１５は、中心線Ｃ３から左右に０．１ｍｍ〜０．３ｍｍずれる。ここで、所定量とは、研磨ホイール１１ａの中心からガラス基板ＧＬの端面までの距離が適正距離になることを許容する量である。また、中心線Ｃ３は、上部接触ユニット４１２の中心から挿入部４１３ａ−４１３ｃの中心に伸ばした直線である。弾性部材４１６の弾性は、ガラス基板ＧＬの種類（ガラス基板ＧＬの組成）に応じて変更することが考えられるが、本実施形態では、上部接触ユニット４１２が規制位置にある時に、アーム１２ａの回動をわずかに許容し、許容された範囲でアーム１２ａを回動させると、スライダーシャフト４１４およびスライダーベアリング４１５が、中心線Ｃ３から左右に０．２ｍｍずれる程度の弾性を有する弾性部材４１６を用いることが好ましい。

上部接触ユニット４１２の下面には、図５に示すように、固定ブレーキパッド４１７が取り付けられている。固定ブレーキパッド４１７には、所定の剛性および所定の摩擦係数を有する材料が用いられる。所定の剛性とは、弾性部材４１６の剛性と同程度、または、弾性部材４１６の剛性よりも強い剛性を意味する。また、所定の摩擦係数とは、上部機構４１が規制位置にあるとき、固定ブレーキパッド４１７が、外力Ｆ１，Ｆ２に対抗しうる程度の摩擦係数を意味する。固定ブレーキパッド４１７は、後述する下部機構４２の回転ブレーキパッド４２２と接触する。

（２−４−２）下部機構
下部機構４２は、規制位置にある上部機構４１と接触する機構である。下部機構４２は、主として、下部接触ユニット４２１を有する。下部接触ユニット４２１は、アーム１２ａの第２端部に配置されている。下部接触ユニット４２１の上面には、回転ブレーキパッド４２２が取り付けられている。具体的に、回転ブレーキパッド４２２は、規制位置にある上部機構４１の固定ブレーキパッド４１７と接触するように取り付けられている。回転ブレーキパッド４２２にもまた、上述の固定ブレーキパッド４１７と同様に、所定の剛性および所定の摩擦係数を有する材料が用いられる。

（２−５）制御部
制御部１５は、図６に示すように、研磨ホイール１１ａ、アーム回動軸１２０ａ、ブレーキ機構１４ａ、モーター１７ａ、及び各種センサ１６にそれぞれ接続されている。制御部１５は、主として、ＣＰＵ、ＲＯＭ、ＲＡＭ、およびハードディスク等から構成されている。制御部１５は、ＲＯＭ、ＲＡＭまたはハードディスク等に記憶されたプログラムや各種情報に基づいて各構成の制御を行う。なお、制御部１５は、両方の研磨装置１０ａ，１０ｂに対して制御指令を生成して送るものであってもよい。

（３）アームの回動に応じたスライダーシャフトの位置
次に、図７Ａおよび図７Ｂを参照して、ブレーキ機構１４ａ作動時のスライダーシャフト４１４の位置の変化について説明する。上述したように、ブレーキ機構１４ａは、挿入部４１３ａ−４１３ｃに弾性部材４１６を有する。ブレーキ機構１４ａが作動している場合には、アーム１２ａの回動はスライダーシャフト４１４によって阻害される。しかし、スライダーシャフト４１４の周辺の弾性部材４１６が変形することにより、アーム１２ａの若干の回動が許容される。

図７Ａおよび図７Ｂは、ブレーキ機構１４ａの作動時における、アーム１２ａの回動方向Ｒ１，Ｒ２と、アーム１２ａの回動に応じて変化するスライダーシャフト４１４の位置とを示す図である。図７Ａは、ブレーキ機構１４ａの作動時、アーム１２ａが方向Ｒ１に回動した場合に、スライダーシャフト４１４が方向Ｍ１に移動することを示す。図７Ｂは、ブレーキ機構１４ａの作動時、アーム１２ａが方向Ｒ２に回動した場合に、スライダーシャフト４１４が方向Ｍ２に移動することを示す。

図７Ａおよび図７Ｂが示すように、弾性部材４１６の変形の程度に応じて、アーム１２ａの回動量（回動範囲）が決定される。

（４）アームに加えられる外力とスライダーシャフトの位置との関係
次に、図８Ａ〜図８Ｃを用いて、アーム１２ａに加えられる外力と、挿入部４１３ａ内のスライダーシャフト４１４の位置との関係について説明する。ここで、アーム１２ａに加えられる外力とは、定圧シリンダー１６ａによって加えられる力（外力Ｆ１）と、研磨ホイール１１ａがガラス基板ＧＬと接触することにより加えられる力（外力Ｆ２）とを意味する。なお、図８Ａ〜図８Ｃは、図７Ａおよび図７Ｂの挿入部４１３ａの拡大図である。

図８Ａでは、スライダーシャフト４１４が、挿入部４１３ａの中心（適正位置）にある。スライダーシャフト４１４が適性位置にある時、スライダーシャフト４１４は、中心線Ｃ３の中心にある。スライダーシャフト４１４が適性位置にある時、外力Ｆ２によってアーム１２ａが回動しようとする力と、外力Ｆ１によってアーム１２ａが回動しようとする力とが、つりあった状態である。スライダーシャフト４１４が適正位置にある時、ガラス基板ＧＬから研磨ホイール１１ａの中心までの距離は、所定の距離間隔であると考えられる。弾性部材４１６は、スライダーシャフト４１４およびスライダーベアリング４１５の周囲で均一の厚みを有する。すなわち、弾性部材４１６は、変形しておらず、原型を保っている。

図８Ｂでは、アーム１２ａが右回りに若干回動した結果、スライダーシャフト４１４が、中心線Ｃ３から左側にずれた位置にある。ここでは、外力Ｆ２によってアーム１２ａが回動しようとする力が、外力Ｆ１によって回動しようとする力よりも大きい状態にある。ガラス基板ＧＬから研磨ホイール１１ａの中心までの距離は、所定の距離間隔よりも近いと考えられる。弾性部材４１６は、中心線Ｃ３の左側が圧縮されて変形する。弾性部材４１６が圧縮されることにより、ブレーキ機構１４ａの作動時に外力Ｆ２の過剰な上昇から研磨ホイール１１ａが守られる。

図８Ｃでは、アーム１２ａが左回りに若干回動した結果、スライダーシャフト４１４が、中心線Ｃ３から右側にずれた位置にある。ここでは、外力Ｆ１によってアーム１２ａが回動しようとする力が、外力Ｆ２によってアーム１２ａが回動しようとする力よりも大きい状態にある。ガラス基板ＧＬから研磨ホイール１１ａの中心までの距離は、所定の距離間隔よりも遠いと考えられる。弾性部材４１６は、中心線Ｃ３の右側が圧縮されて変形する。圧縮された弾性部材４１６は、原型に復元しようとするが、原型に復元しようとする力（復元力）よりも外力Ｆ１が大きい。研磨ホイール１１ａはガラス基板ＧＬの端面に対して一定範囲の圧力を加えて接触する。また、弾性部材４１６の復元力によって、ガラス基板ＧＬの加工開始時に、ガラス基板ＧＬから研磨ホイール１１ａに伝わる衝撃が低下される。すなわち、弾性部材４１６によって、ガラス基板ＧＬから研磨ホイール１１ａに伝わる衝撃が吸収される。

（５）研磨工程の概略説明
次に、図９を用いて、研磨工程の概略を説明する。なお、研磨装置１０ａは、予めブレーキ機構１４ａを作動させておき、ガラス基板ＧＬが搬送されてくるのを待つ。

まず、工程Ｓ１０１において、センサ１６によって、研磨ホイール１１ａがガラス基板ＧＬに接触したかどうかを判断する。本実施形態では、図１０に示すように、研磨ホイール１１ａの外縁（周縁部）が、ガラス基板ＧＬの端面から所定の距離Ｗ内側に位置するように、研磨ホイール１１ａとガラス基板ＧＬの端面とを接触させる。すなわち、研磨ホイール１１ａは、ガラス基板の両端部よりも内側に突出するように配置される。ここで、所定の距離Ｗとは、０より大きく１００μｍｍより小さい範囲の値であることが好ましい。より好ましくは、所定の距離Ｗは、５０μｍｍである。回転する研磨ホイール１１ａにガラス基板ＧＬの端面が接触することにより、ガラス基板ＧＬの前端部分ＴＰが、ブレーキ機構１４ａを作動させた状態で研磨される（第１研磨工程）。研磨ホイール１１ａは、弾性部材４１６の変形可能な範囲で、ガラス基板の端面に追従させながら研磨する。すなわち、研磨ホイール１１ａは、ガラス基板ＧＬの前端部分ＴＰ（前方端面）に周縁部を当接させた後ガラス基板ＧＬの下流方向への搬送に伴って、周縁部をガラス基板ＧＬから退避させてガラス基板ＧＬを研磨する。

工程Ｓ１０１において、センサ１６によって、研磨ホイール１１ａとガラス基板ＧＬとの接触が検出されると、工程Ｓ１０２において、タイマーのカウントが開始される。さらに、工程Ｓ１０３において、ブレーキ機構１４ａが解除される。すなわち、アーム１２ａは、搬送装置８０に対するガラス基板ＧＬの傾き（研磨ホイール１１ａの中心からガラス基板ＧＬの端面までの距離）に併せて自由に回動する。そして、アーム１２ａは、外力Ｆ２によりアーム１２ａがＲ２方向に回動しようとする力と、外力Ｆ１によりアーム１２ａがＲ１方向に回動しようとする力とが、つりあった位置で安定し、当該位置で、研磨ホイール１１ａがガラス基板ＧＬの端面を研磨する（第２研磨工程）。アーム１２ａがガラス基板ＧＬの傾きに併せて自由に回動することで、研磨ホイール１１ａは、ガラス基板の端面に追従しながら研磨する。

その後、工程Ｓ１０４において、タイマーで計測した時間が所定時間に達したか否かが判断される。所定時間に達していない場合には、所定時間に達するまで待機し、所定時間に達すると、工程Ｓ１０５に進む。

工程Ｓ１０５では、ブレーキ機構１４ａを作動させる。すなわち、アーム１２ａの回動を規制した状態でガラス基板ＧＬの端面を研磨する（第３研磨工程）。研磨ホイール１１ａは、弾性部材４１６の変形可能な範囲で、ガラス基板の端面に追従させながら研磨する。

（６）研磨工程の詳細説明
次に、図１１Ａ〜図１６Ｃを参照して、ガラス基板ＧＬの搬送状態に応じた研磨装置１０ａの動作について説明する。図１１Ａ〜図１１Ｃ、図１３Ａ〜図１３Ｃ、および図１６Ａ〜図１６Ｃは、ガラス基板ＧＬの搬送状態についての複数の例を示す図である。詳細には、研磨装置１０ａ，１０ｂが、ガラス基板ＧＬの傾き、ガラス基板ＧＬの幅方向の変動、および研磨ホイール１１ａの中心からガラス基板ＧＬの端面までの距離の変動に応じて、アーム１２ａを動作させ、研磨ホイール１１ａをガラス基板ＧＬの端面に追従させている様子を示す。なお、本実施形態では、研磨ホイール１１ａが、ガラス基板ＧＬに対して一定範囲の圧力を加えた状態で、ガラス基板ＧＬの端面を研磨するような構成になっている。

図１１Ａ〜図１６Ｃ中、矢印Ｄ１は、ガラス基板ＧＬの搬送方向を示す。矢印Ｆ１は、定圧シリンダー１６ａから与えられる外力を示し、矢印Ｆ２は、ガラス基板ＧＬから与えられる外力を示す。また、矢印Ｆ１および矢印Ｆ２の大きさは、外力の大小を示す。さらに、図１１Ａ〜図１６Ｄ中、図１１Ｂ、図１２Ｃ、図１３Ｂ、図１４Ｃ、図１５Ｃ、および図１６Ｂは、ブレーキ機構１４ａが解除された状態を示し、その他の図は、ブレーキ機構１４ａが作動している状態を示す。

（６−１）研磨ホイールの中心からガラス基板の端面までの距離が適正距離の場合
図１１Ａ〜図１１Ｃおよび図１２Ａ〜図１２Ｄは、研磨ホイール１１ａの中心からガラス基板ＧＬまでの距離が適正距離である場合を示す。適正距離とは、研磨ホイール１１ａがガラス基板ＧＬの端面に接触した際、スライダーシャフト４１４が適正位置にくるような距離である。図１１Ａ〜図１１Ｃでは、ガラス基板ＧＬが搬送装置８０の中央に配置されている場合を例に説明する。ここでは、ガラス基板ＧＬの中心線Ｃ１は搬送装置８０の中心線Ｃ２と一致している。すなわち、搬送ベルト８１，８２の外側からガラス基板ＧＬの端面までの距離Ｌ１は、ガラス基板ＧＬの下流側、上流側、左側、および右側で同一である。

図１１Ａは、研磨ホイール１１ａがガラス基板ＧＬの端面に接触する前の状態を示す。ここでは、図１２Ａに示すように、アーム１２ａには、外力Ｆ１のみがかかる。アーム１２ａは、矢印Ｒ１で示す方向に回動しようとする。ブレーキ機構１４ａが作動しているため、アーム１２ａは自由に回動しないが、弾性部材４１６の変形により、アーム１２ａの回動が許容される（弾性部材変形工程）。これにより、アーム１２ａは、矢印Ｒ１方向に若干回動する。このとき、スライダーシャフト４１４の位置は、適正位置からＭ１方向にずれる。

その後、ガラス基板ＧＬが研磨ホイール１１ａに接触すると、図１２Ｂに示すように、アーム１２ａには、外力Ｆ２もかけられる。アーム１２ａは、外力Ｆ２を受け、矢印Ｒ２で示す方向に回動しようとする。ブレーキ機構１４ａが作動しているため、アーム１２ａは自由に回動しないが、弾性部材４１６の変形により、アーム１２ａの回動が許容される（弾性部材変形工程）。これにより、アーム１２ａは、矢印Ｒ２方向に若干回動する。このとき、スライダーシャフト４１４の位置は、Ｍ２方向にずれる。ここでは、アーム１２ａが矢印Ｒ２方向に若干回動することにより、スライダーシャフト４１４は、適正位置に戻る。ガラス基板ＧＬに接触する前に図１１Ａの実線で示す位置にあった研磨ホイール１１ａは、ガラス基板ＧＬの前端部分ＴＰに接触すると、破線で示す位置に移動する。このように、ガラス基板ＧＬの前端部分ＴＰは、ブレーキ機構１４ａが作動した状態で研磨ホイール１１ａによって研磨される（第１研磨工程）。

図１１Ｂは、第１研磨工程の後であって、ガラス基板ＧＬの前端部分ＴＰが研磨ホイール１１ａ，１１ｂよりも下流側に位置する状態を示す。すなわち、図１１Ｂは、ガラス基板ＧＬの中央部分ＣＰが研磨されている状態を示す。研磨装置１０ａ，１０ｂは、ガラス基板ＧＬの中央部分ＣＰを研磨する際、ブレーキ機構１４ａ，１４ｂを解除する。すなわち、上部機構４１は下部機構４２から遠ざかり解除位置にある。解除位置では、上部接触ユニット４１２に対していずれの外力Ｆ１，Ｆ２もかからない。上述したように、図１１Ｂに示す研磨ホイール１１ａの中心からガラス基板ＧＬまでの距離は、適正距離であるため、アーム１２ａを回動させることなく、外力Ｆ１によりアーム１２ａがＲ１方向へ回動しようとする力と外力Ｆ２によりアーム１２ａがＲ２方向へ回動しようとする力とがつりあった状態になる（図１２Ｃ参照）。研磨ホイール１１ａは、Ｒ１方向へ回動しようとする力と、Ｒ２方向へ回動しようとする力とがつりあった状態で、ガラス基板ＧＬの端面を研磨する（第２研磨工程）。すなわち、研磨ホイール１１ａは、ガラス基板の端面に追従しながら研磨する。

図１１Ｃは、ガラス基板ＧＬが研磨ホイール１１ａから離れる直前を示す。すなわち、ガラス基板ＧＬの中央部分ＣＰの研磨が終了した後であって、ガラス基板ＧＬの後端部分ＥＰが研磨されている状態を示す。図１２Ｄに示すように、アーム１２ａには、外力Ｆ１と外力Ｆ２とがかけられる。外力Ｆ１によりアーム１２ａがＲ１方向に回動しようとする力と、外力Ｆ２によりアーム１２ａがＲ２方向に回動しようとする力とはつりあった状態である。すなわち、スライダーシャフト４１４は適正位置にある。ここで、ブレーキ機構１４ａが作動する。ガラス基板ＧＬの後端部分ＥＰは、ブレーキ機構１４ａが作動した状態で研磨ホイール１１ａによって研磨される（第３研磨工程）。この後、ガラス基板ＧＬが研磨ホイール１１ａから離れていくと、アーム１２ａには外力Ｆ１のみがかかる。これにより、図１２Ａで示したように、アーム１２ａは、外力Ｆ１によってＲ１方向に回動しようとし、弾性部材４１６が圧縮される（弾性部材変形工程）。これにより、スライダーシャフト４１４は、適性位置からＭ１方向にわずかにずれる。

（６−２）研磨ホイールの中心からガラス基板の端面までの距離が適正距離でない場合
図１３Ａ〜図１６Ｃは、研磨ホイール１１ａの中心からガラス基板ＧＬの端面までの距離が適正距離ではない場合の研磨装置１０ａ（および１０ｂ）の動きを示す。図１３Ａ〜図１３Ｃは、ガラス基板ＧＬが搬送装置８０の幅方向片側に寄った位置にある状態を示し、図１６Ａ〜図１６Ｃは、ガラス基板ＧＬが、搬送装置８０に対して傾いた状態を示す。以下、研磨ホイール１１ａの中心からガラス基板ＧＬの端面までの距離が適正距離でない場合の研磨装置１０ａの動きを、ガラス基板ＧＬが搬送装置８０の幅方向片側に寄った位置にある場合と、ガラス基板ＧＬが搬送装置８０に対して傾いている場合とに分けて説明する。

（６−２−１）ガラス基板が搬送装置の幅方向片側に寄っている場合
図１３Ａ〜図１３Ｃは、研磨ホイール１１ａの中心からガラス基板ＧＬの端面までの距離が適正距離よりも小さい場合（紙面右側の研磨ホイール１１ａ）と、研磨ホイール１１ｂの中心からガラス基板ＧＬの端面までの距離が適正距離よりも大きい場合（紙面左側の研磨ホイール１１ｂ）とを示す。搬送ベルト８１，８２の外側からガラス基板ＧＬの端面までの距離Ｌ２およびＬ３は、ガラス基板ＧＬの上流側および下流側で同一である。

まず、図１３Ａ〜図１３Ｄ（紙面右側の研磨装置１０ａ）と図１４Ａ〜１４Ｄとを用いて、研磨ホイール１１ａの中心からガラス基板ＧＬの端面までの距離が適正距離よりも小さい場合について説明する。

図１３Ａは、研磨ホイール１１ａがガラス基板ＧＬの端面に接触する前の状態を示す。ここでは、図１４Ａに示すように、アーム１２ａには、定圧シリンダー１６ａからの外力Ｆ１のみがかかる。アーム１２ａは、矢印Ｒ１で示す方向に回動しようとする。ブレーキ機構１４ａが作動しているため、アーム１２ａは自由に回動しないが、弾性部材４１６の変形により、アーム１２ａの回動が許容される（弾性部材変形工程）。これにより、アーム１２ａは、矢印Ｒ１方向に若干回動する。このとき、スライダーシャフト４１４の位置は、適正位置からＭ１方向にわずかにずれる。

その後、ガラス基板ＧＬが研磨ホイール１１ａに接触すると、アーム１２ａには、ガラス基板ＧＬからの外力Ｆ２もかけられる（図１４Ｂ参照）。ここでは、研磨ホイール１１ａの中心からガラス基板ＧＬの端面までの距離が適正距離よりも小さいため、アーム１２ａにかけられる外力Ｆ２は、図１２Ｂでアーム１２ａにかけられる外力Ｆ２よりも大きくなる。アーム１２ａは、外力Ｆ２を受けて矢印Ｒ２で示す方向に大きく回動しようとする。ブレーキ機構１４ａが作動しているため、アーム１２ａは自由に回動しないが、弾性部材４１６の大きな変形により、アーム１２ａの回動が許容される（弾性部材変形工程）。これにより、アーム１２ａは、矢印Ｒ２方向に回動する。このとき、スライダーシャフト４１４の位置は、適正位置からＭ２方向にずれる。ここでは、弾性部材４１６の大きな変形によって、ガラス基板ＧＬの切込過多が抑制される（切込過多抑制工程）。ガラス基板ＧＬに接触する前に図１３Ａの実線で示す位置にあった研磨ホイール１１ａは、ガラス基板ＧＬの前端部分ＴＰに接触すると、破線で示す位置に移動する。このように、ガラス基板ＧＬの前端部分ＴＰは、ブレーキ機構１４ａが作動した状態で研磨ホイール１１ａによって研磨される（第１研磨工程）。

図１３Ｂは、第１研磨工程の後であって、ガラス基板ＧＬの前端部分ＴＰが研磨ホイール１１ａよりも下流側に位置する状態を示す。すなわち、図１３Ｂは、ガラス基板ＧＬの中央部分ＣＰが研磨されている状態を示す。研磨装置１０ａは、ガラス基板ＧＬの中央部分ＣＰを研磨する際、ブレーキ機構１４ａを解除する。すなわち、上部機構４１は下部機構４２から遠ざかり解除位置にある。解除位置では、上部接触ユニット４１２に対していずれの外力Ｆ１，Ｆ２もかからない。これにより、圧縮されていた弾性部材４１６が元の形状に復元される（復元工程）。すなわち、図１４Ｃに示すように、スライダーシャフト４１４が実線の位置から破線の位置（適正位置）にくるように、上部接触ユニット４１２が回動する。一方、アーム１２ａは、ブレーキ機構１４ａの解除によって、外力Ｆ１と外力Ｆ２とを直接受ける。これにより、アーム１２ａは、Ｒ１方向に回動しようとする力とＲ２方向に回動しようとする力とがつりあう位置まで回動し、研磨ホイール１１ａの中心からガラス基板ＧＬの端面までの距離が適正距離になるように研磨ホイール１１ａを移動させる。研磨ホイール１１ａは、Ｒ１方向に回動しようとする力とＲ２方向に回動しようとする力とがつりあった状態で、ガラス基板ＧＬの端面を研磨する（第２研磨工程）。

図１３Ｃは、ガラス基板ＧＬが研磨ホイール１１ａから離れる直前を示す。すなわち、ガラス基板ＧＬの中央部分ＣＰの研磨が終了した後であって、ガラス基板ＧＬの後端部分が研磨されている状態を示す。図１４Ｄに示すように、アーム１２ａには、外力Ｆ１と外力Ｆ２とがかけられ、Ｒ１方向に回動しようとする力とＲ２方向に回動しようとする力とはつりあった状態である。ここで、ブレーキ機構１４ａが作動する。ブレーキ機構１４ａが作動したとき、外力Ｆ１および外力Ｆ２により発生する力がつりあっているため、上部接触ユニット４１６は、いずれの外力Ｆ１，Ｆ２の影響もうけない。したがって、弾性部材４１６は、原型を保ち、スライダーシャフト４１４を弾性部材４１６の中央（適正位置）に留める。ガラス基板ＧＬの後端部分ＥＰは、ブレーキ機構１４ａが作動した状態で研磨ホイール１１ａによって研磨される（第３研磨工程）。この後、ガラス基板ＧＬが研磨ホイール１１ａから離れていくと、アーム１２ａには外力Ｆ１のみがかかるため、図１４Ａで示したように、弾性部材４１６が変形し、アーム１２ａの回動が許容される（弾性部材変形工程）。また、スライダーシャフト４１４は、アーム１２ａの回動に伴って、適性位置からＭ１方向にわずかにずれる。

次に、図１３Ａ〜図１３Ｃ（紙面左側の研磨装置１０ｂ）と図１５Ａ〜１５Ｄとを用いて、研磨ホイール１１ａ，１１ｂの中心からガラス基板ＧＬの端面までの距離が適正距離よりも大きい場合について説明する。なお、図１５Ａ〜図１５Ｄの研磨装置１０ａの配置は、図１３Ａ〜図１３Ｃの研磨装置１０ａの配置と異なるが、動作原理は同様である。

図１３Ａは、上述したように、研磨ホイール１１ｂがガラス基板ＧＬの端面に接触する前の状態を示す。ここでは、図１５Ａに示すように、アーム１２ａには、定圧シリンダー１６ａからの外力Ｆ１のみがかかる。アーム１２ａは、矢印Ｒ１で示す方向に回動しようとする。ブレーキ機構１４ａが作動しているため、アーム１２ａは自由に回動しないが、弾性部材４１６の変形により、アーム１２ａの回動が許容される（弾性部材変形工程）。これにより、アーム１２ａは、矢印Ｒ１方向に若干回動する。このとき、スライダーシャフト４１４の位置は、適正位置からＭ１方向にわずかにずれる。

その後、ガラス基板ＧＬが研磨ホイール１１ａに接触すると、アーム１２ａには、外力Ｆ２もかけられる（図１５Ｂ参照）。ここでは、研磨ホイール１１ａの中心からガラス基板ＧＬの端面までの距離が適正距離よりも大きいため、アーム１２ａにかけられる外力Ｆ２は、図１２Ｂでアーム１２ａにかけられる外力Ｆ２よりも小さくなる。アーム１２ａは、矢印Ｒ２で示す方向に小さく回動しようとする。ブレーキ機構１４ａが作動しているため、アーム１２ａは自由に回動しないが、弾性部材４１６の形状をわずかに復元させることにより、復元させた分だけアーム１２ａの回動が許容される（復元工程）。これにより、アーム１２ａは、矢印Ｒ２方向に回動する。このとき、スライダーシャフト４１４の位置は、適正位置からＭ２方向にずれる。ガラス基板ＧＬの端面に接触する前に図１３Ａの実線で示す位置にあった研磨ホイール１１ａは、ガラス基板ＧＬに接触した後、破線で示す位置に移動する。このように、ガラス基板ＧＬの前端部分ＴＰは、ブレーキ機構１４ａが作動した状態で研磨ホイール１１ａによって研磨される（第１研磨工程）。

図１３Ｂは、上述したように、ガラス基板ＧＬの中央部分ＣＰが研磨されている状態を示す。すなわち、図１３Ｂは、第１研磨工程の後であって、ガラス基板ＧＬの前端部分ＴＰが研磨ホイール１１ｂよりも下流側に位置する状態を示す。研磨装置１０ｂは、ガラス基板ＧＬの中央部分ＣＰを研磨する際、ブレーキ機構１４ｂを解除する。すなわち、上部機構４１は下部機構４２から遠ざかり解除位置にある。解除位置では、上部接触ユニット４１２に対していずれの外力Ｆ１，Ｆ２もかからない。これにより、圧縮されていた弾性部材４１６が元の形状に復元する（復元工程）。すなわち、図１５Ｃに示すように、スライダーシャフト４１４が実線の位置から破線の位置（適正位置）にくるように、上部接触ユニット４１２が回動する。一方、アーム１２ａは、ブレーキ機構１４ａの解除によって、定圧シリンダーからの外力Ｆ１とガラス基板ＧＬからの外力Ｆ２とを直接受ける。これにより、アーム１２ａは、Ｒ１方向に回動しようとする力とＲ２方向に回動しようとする力とがつりあう位置まで回動し、研磨ホイール１１ａの中心からガラス基板ＧＬの端面までの距離が適正距離になるように研磨ホイール１１ａを移動させる。研磨ホイール１１ｂは、Ｒ１方向に回動しようとする力とＲ２方向に回動しようとする力とがつりあった状態で、ガラス基板ＧＬの端面を研磨する（第２研磨工程）。

図１３Ｃは、上述したように、ガラス基板ＧＬが研磨ホイール１１ｂから離れる直前を示す。すなわち、ガラス基板ＧＬの中央部分ＣＰの研磨が終了した後であって、ガラス基板ＧＬの後端部分が研磨されている状態を示す。図１５Ｄに示すように、アーム１２ａには、外力Ｆ１と外力Ｆ２とがかけられ、Ｒ１方向に回動しようとする力とＲ２方向に回動しようとする力とはつりあった状態である。ここで、ブレーキ機構１４ａが作動する。ブレーキ機構１４ａが作動したとき、外力Ｆ１および外力Ｆ２により発生する力がつりあっているため、上部接触ユニット４１６は、いずれの外力Ｆ１，Ｆ２の影響もうけない。したがって、弾性部材４１６は、原型を保ち、スライダーシャフト４１４を弾性部材４１６の中央（適正位置）に留める。ガラス基板ＧＬの後端部分ＥＰは、ブレーキ機構１４ａが作動した状態で研磨ホイール１１ａによって研磨される（第３研磨工程）。この後、ガラス基板ＧＬが研磨ホイール１１ａから離れていくと、アーム１２ａには外力Ｆ１のみがかかるため、図１５Ａで示したように、弾性部材４１６が変形し、アーム１２ａの回動が許容される（弾性部材変形工程）。また、スライダーシャフト４１４は、アームの回動に伴って、適性位置からＭ１方向にわずかにずれる。

（６−２−２）ガラス基板が搬送装置に対して傾いている場合
図１６Ａ〜図１６Ｃは、搬送ベルト８１，８２の外側からガラス基板ＧＬの前端部分ＴＰまでの距離Ｌ２，Ｌ３と、搬送ベルト８１，８２の外側からガラス基板ＧＬの後端部分ＥＰまでの距離Ｌ３，Ｌ２とが、異なる場合を示す。言い換えると、紙面右側の研磨装置１０ａとガラス基板ＧＬとの関係については、研磨ホイール１１ａの中心からガラス基板ＧＬの前端部分ＴＰまでの距離は、適正距離よりも小さく、研磨ホイール１１ａの中心からガラス基板ＧＬの後端部分ＥＰまでの距離は、適正距離よりも大きい。また、紙面左側の研磨装置１０ｂとガラス基板ＧＬとの関係については、研磨ホイール１１ｂの中心からガラス基板ＧＬの前端部分ＴＰまでの距離は、適正距離よりも大きく、研磨ホイール１１ｂの中心からガラス基板ＧＬの後端部分ＥＰまでの距離は、適正距離よりも小さい。

この場合、図１４Ａ〜１４Ｄに示したように、研磨ホイール１１ａとガラス基板ＧＬの端面とが接触した際には、ブレーキ機構１４ａが作動しているため、アーム１２ａは、自由に回動しない。しかし、弾性部材４１６の変形によりアーム１２ａの回動が許容される（弾性部材変形工程）。アーム１２ａが回動すると、スライダーシャフト４１４の挿入部における位置が変化する。そして、ガラス基板ＧＬの前端部分ＴＰは、ブレーキ機構１４ａが作動した状態で研磨ホイール１１ａによって研磨される（第１研磨工程）。

研磨ホイール１１ａがガラス基板ＧＬに接触するとすぐに、ブレーキ機構１４ａは解除される。アーム１２ａは、Ｒ１方向に回動しようとする力とＲ２方向に回動しようとする力とがつりあうように回動し、研磨ホイール１１ａはガラス基板ＧＬの傾きに沿いながらガラス基板ＧＬの端面を研磨する（第２研磨工程）。この時、解除位置では、上部接触ユニット４１２に対していずれの外力Ｆ１，Ｆ２もかからない。これにより、弾性部材４１６は元の形状に復元する（復元工程）。

ガラス基板ＧＬの中央部分ＣＰの研磨が終了すると、ブレーキ機構１４ａが作動する。ガラス基板ＧＬの後端部分ＥＰは、ブレーキ機構１４ａを作動させた状態で研磨ホイール１１ａによって研磨される（第３研磨工程）。第３研磨工程では、弾性部材４１６に外力Ｆ１，Ｆ２がかからない状態でブレーキ機構１４ａが作動する。ブレーキ機構１４ａが作動した後のガラス基板ＧＬの傾きに対しては、外力Ｆ１または外力Ｆ２に応じて弾性部材４１６が変形する。これにより、研磨ホイール１１ａは、弾性部材４１６の変形可能な範囲において、ガラス基板ＧＬの端面に追従する。

ガラス基板ＧＬが研磨ホイール１１ａから離れた後、アーム１２ａには定圧シリンダー１６ａからの外力Ｆ１のみがかけられるため、弾性部材４１６は変形し（弾性部材変形工程）、スライダーシャフト４１４は適正位置からＭ１方向にわずかにずれる。

（７）特徴
（７−１）
上記実施形態に係るガラス基板の製造方法は、搬送されてくるガラス基板ＧＬの状態の如何にかかわらず、ガラス基板ＧＬの端面を好適に研磨することができる。

一般的なガラス基板の製造方法におけるガラス基板の研磨工程では、搬送装置によって連続的に搬送されてくるガラス基板を研磨する。ここで、ガラス基板を研磨するために用いる研磨装置として、荷重タイミング制御型の研磨装置と、待機制御型の研磨装置とが考えられる。荷重タイミング制御型の研磨装置は、研磨ホイールに荷重をかけておき、ガラス基板が搬送されてくるタイミングに併せて研磨ホイールをガラス基板に近づけ、ガラス基板の端面を研磨する。しかし、荷重タイミング制御型の研磨装置は、機械的な動作誤差および電気的制御の応答遅れ等により、ガラス基板の端面の全て（すなわち、ガラス基板の前端部分ＴＰ、中央部分ＣＰ、および後端部分ＥＰ）を好適に研磨することは困難である。特に、近年では、ガラス基板の大量生産の需要に伴い、搬送装置によるガラス基板の搬送速度も高速化している。ガラス基板の搬送速度の高速化によって、ガラス基板の前端部分ＴＰは、特に、研磨漏れが発生し易くなる。また、待機制御型の研磨装置は、搬送されてくるガラス基板に接触する位置に研磨ホイールを待機させておき、研磨ホイールに接触したガラス基板の端面を研磨する。待機制御型の研磨装置は、研磨ホイールを待機させる位置（待機位置）が適当な位置である場合には、ガラス基板の前端部分ＴＰの研磨漏れを防ぐことができるが、研磨ホイールの待機位置が適当でない場合には、ガラス基板のコーナーと研磨ホイールとが激しく接触し、ガラス基板の欠けおよび研磨ホイールの異常磨耗が発生したり、未研磨部分が発生したりすることになる。また、待機制御型の研磨装置によって、上述のような不具合を解消するためには、研磨装置に含まれる駆動部の精度や、搬送装置による搬送精度を一層向上させる必要がある。また、より精度の高い装置を採用しようとすると、コスト高になるため好ましくない。

しかし、上記実施形態に係るガラス基板の製造方法では、研磨工程Ｓ４において用いる研磨装置１０ａ，１０ｂが、ガラス基板ＧＬの幅方向の変動に追従可能な研磨ホイール１１ａ，１１ｂを備えている。ここで、ガラス基板ＧＬの幅方向の変動とは、ガラス基板ＧＬの搬送方向に交差する方向に沿ったガラス基板ＧＬの変動である。すなわち、ガラス基板ＧＬが搬送装置８０の片側に寄った状態で搬送されてきたり、ガラス基板ＧＬが搬送装置８０に対して傾いた状態で搬送されてきたりすることにより、研磨ホイール１１ａ，１１ｂからガラス基板ＧＬの端面までの距離に変化があった場合であっても、前端部分ＴＰを含むガラス基板ＧＬの端面全体を好適に研磨することができる。

（７−２）
上記実施形態に係る研磨装置１０ａ，１０ｂでは、ガラス基板ＧＬの中央部分ＣＰを研磨する際には、ブレーキ機構１４ａ，１４ｂを解除し、研磨ホイール１１ａ，１１ｂに定圧シリンダーからの外力Ｆ１をかけることによって、アーム１２ａ，１２ｂを自由に回動させ、研磨ホイール１１ａ，１１ｂをガラス基板ＧＬの端面に追従させている。また、中央部分の研磨が終了すると、ブレーキ機構１４ａ，１４ｂを作動させて、次に搬送されるガラス基板（後続のガラス基板）ＧＬを待ち受ける。ここで、ブレーキ機構１４ａ，１４ｂが作動した状態の研磨装置１０ａ，１０ｂは、研磨ホイール１１ａ，１１ｂを、後続のガラス基板ＧＬの端面を研磨するために適した位置に配置している。

一般的に、上記実施形態で用いた搬送装置８０のように、搬送装置８０が搬送ベルトから構成されるものである場合、搬送ベルトの劣化によるネジレ等が発生する。この場合、一定の周期でガラス基板ＧＬが搬送されてくる位置にズレが生じうる。しかし、上記実施形態で用いた研磨装置１０ａ，１０ｂは、後続のガラス基板ＧＬの端面を研磨するために適した位置を、先行したガラス基板ＧＬの研磨状態に応じて決定している。すなわち、先行したガラス基板ＧＬの端面の研磨が終了した位置に基づいて、後続のガラス基板ＧＬの好適な研磨位置を推定している。これにより、搬送ベルトの劣化や異常の有無に関わらず、ガラス基板ＧＬの端面を適切に研磨することができる。

（７−３）
また、上記実施形態に係る研磨装置１０ａ，１０ｂでは、挿入部４１３ａ−４１３ｃに弾性部材４１６が格納されている。上部接触ユニット４１２では、挿入部４１３ａ−４１３ｃに格納された弾性部材４１６の内側に、スライダーシャフト４１４を挿入している。研磨装置１０ａ，１０ｂによって推定された後続のガラス基板ＧＬの好適な研磨位置に多少のずれがあった場合には、弾性部材４１６を変形させることにより、研磨ホイール１１ａ，１１ｂが適切にガラス基板ＧＬの端面に接触するようアーム１２ａ，１２ｂを回動させる。これにより、後続のガラス基板ＧＬが搬送されてくる位置が推定された好適な研磨位置と異なる場合であっても、研磨ホイール１１ａ，１１ｂの位置が微調整される。これにより、ガラス基板ＧＬの前端部分ＴＰの研磨を確実に行うことができる。

また、研磨ホイール１１ａ，１１ｂが待機する位置が、ガラス基板ＧＬの端面に対して近すぎた場合であっても、ガラス基板ＧＬと研磨ホイール１１ａ，１１ｂとの接触による衝撃を弾性部材４１６が吸収するため、ガラス基板ＧＬの破損および研磨ホイール１１ａ，１１ｂの異常磨耗を防ぐことができる。

（７−４）
上記実施形態では、ブレーキ機構１４ａ，１４ｂが作動している間、上述したように、ガラス基板ＧＬの搬送状態によって弾性部材４１６を変形させることでアーム１２ａ，１２ｂの回動を許容する。弾性部材４１６はスライダーシャフト４１４によって圧縮されることにより変形する。また、上記実施形態では、ガラス基板ＧＬの中央部分ＣＰを研磨している間、ブレーキ機構１４ａ，１４ｂを解除し、ブレーキ機構１４ａ，１４ｂを解除している間に、弾性部材４１６の形状を復元させる。したがって、その後、ブレーキ機構１４ａ，１４ｂが作動して先行するガラス基板ＧＬの後端部分ＥＰを研磨し、さらに、後続のガラス基板ＧＬの研磨を開始する際、弾性部材４１６は大きく変形することができる。言い換えると、研磨ホイール１１ａが後続のガラス基板ＧＬに接触する際、弾性部材４１６は外力Ｆ１によって最も圧縮された状態である。このとき、弾性部材４１６は、外力Ｆ２に対して最も柔軟に対応できる状態（アーム１２ａ，１２ｂの回動可能範囲が最も大きい状態）である。したがって、後続のガラス基板ＧＬが搬送されてくる位置が推定された好適な研磨位置と異なる場合にも柔軟に対応することができる。

（７−５）
上記実施形態に係る研磨装置１０ａ，１０ｂは、研磨ホイール１１ａ，１１ｂの中心からガラス基板ＧＬの端面までの距離が適正距離を保つようにアーム１２ａ，１２ｂを回動させる。これによって、ガラス基板ＧＬが搬送装置８０に対して傾いていた場合およびガラス基板ＧＬが搬送装置８０の幅方向片側によっていた場合のみならず、研磨ホイール１１ａ，１１ｂの磨耗により、研磨ホイール１１ａ，１１ｂの直径に変化があった場合にも、ガラス基板ＧＬの端面を好適に研磨することができる。

（７−６）
上記実施形態では、ガラス基板ＧＬを大量生産するために、比較的早い速度でガラス基板ＧＬが搬送される。具体的に、ガラス基板ＧＬの搬送速度は、５ｍ／ｓ〜１５ｍ／ｓ（好ましくは、１０ｍ／ｓ〜１５ｍ／ｓ）である。ガラス基板ＧＬが、５ｍ／ｓ〜１５ｍ／ｓ（好ましくは、１０ｍ／ｓ〜１５ｍ／ｓ）の速度で研磨ホイール１１ａ，１１ｂに接触すると、研磨ホイール１１ａ，１１ｂが待機する位置が適当でない場合、ガラス基板ＧＬの破損が生じ易い。また、上記実施形態で製造するガラス基板ＧＬのように、非常に厚みが少ないガラス基板を製造する場合、ガラス基板ＧＬの破損は一層生じ易い。

しかし、上記実施形態では、一のガラス基板ＧＬを研磨している間に、アーム１２ａ，１２ｂを自由に回動させ、後続のガラス基板ＧＬの状態に適した位置に研磨ホイール１１ａ，１１ｂを移動させる。また、研磨装置１０ａ，１０ｂは弾性部材４１６を有するため、想定した後続のガラス基板ＧＬの搬送状態と実際に搬送されてきた後続のガラス基板ＧＬの搬送状態とが異なる場合、弾性部材４１６を圧縮させてアーム１２ａ，１２ｂの回動を許容する。

それにより、上記実施形態に係るガラス基板の製造方法では、非常に薄いガラス基板を大量生産する場合にも、研磨に係るガラス基板の破損を低減させ、ガラス基板ＧＬの生産率を向上させることができる。

（８）変形例
（８−１）変形例Ａ
上記実施形態では、ガラス基板ＧＬが研磨ホイール１１ａ，１１ｂから離れる直前にブレーキ機構１４ａ，１４ｂが作動したが、ブレーキ機構１４ａ，１４ｂは、ガラス基板ＧＬの中央部分の途中であってもよい。

（８−２）変形例Ｂ
上記実施形態では、ガラス基板ＧＬを搬送する手段として、吸着式の搬送ベルト８１，８２からなる搬送装置８０を採用したが、搬送装置８０は、他の構成を有するものであっても構わない。例えば、搬送装置８０は、ガラス基板ＧＬの幅方向両側で、ガラス基板ＧＬの表面および裏面を挟むベルトによって構成されるものであってもよい。また、搬送装置８０は、ガラス基板ＧＬを吸着して搬送するテーブルであってもよい。

（８−３）変形例Ｃ
上記実施形態では、研磨ホイール１１ａの外縁が、ガラス基板ＧＬの端面から所定の距離Ｗ内側に位置するように、研磨ホイール１１ａとガラス基板ＧＬの端面とを接触させる構成であると説明した。ここで、所定の距離Ｗは、弾性部材４１６の弾性の程度、挿入部の径の大きさ、挿入部に占める弾性部材４１６の割合、アームの回動範囲、および搬送装置８０の搬送精度等に基づいて決定されるものであり、上記実施形態で記載した距離に限られるものではない。

また、上記実施形態において、弾性部材４１６は、アーム１２ａの所定量の回動を許容し、スライダーシャフト４１４およびスライダーベアリング４１５を、中心線Ｃ３から左右に０．２ｍｍずらす程度の弾性を有することが好ましく、ガラス基板ＧＬの種類（ガラス基板ＧＬの組成）に応じて変更することが考えられると説明したが、弾性部材の弾性の程度は、その他、搬送装置８０によるガラス基板ＧＬの搬送精度や、研磨ホイール１１ａが磨耗する程度等を考慮して決定してもよい。また、弾性部材の弾性の程度は、ガラス基板ＧＬの搬送速度やガラス基板ＧＬの厚みに応じて変更してもよい。

上記実施形態では、ガラス基板ＧＬの搬送状態が如何なる状態であっても、研磨ホイール１１ａがガラス基板ＧＬに対して一定範囲の圧力を加えた状態で、ガラス基板ＧＬの端面を研磨することを特徴としている。したがって、上記ブレーキ機構１４ａ，１４ｂの構成において、ガラス基板ＧＬと接触する際に一定範囲の圧力が加わるように設計されるものであれば、上記実施形態で例示した値に限定されるものではない。

（８−４）変形例Ｄ
上記実施形態において、固定ブレーキパッド４１７は、上部接触ユニット４１２の下面に部分的に取り付けられており、回転ブレーキパッド４２２は、下部接触ユニット４２１の上面に部分的に取り付けられていたが、固定ブレーキパッド４１７は、上部接触ユニット４１２の下面全面に取り付けられてもよく、回転ブレーキパッド４２２は、下部接触ユニット４２１の上面全面に取り付けられていてもよい。

１０ａ，１０ｂ 研磨装置
１１ａ，１１ｂ 研磨ホイール
１２ａ，１２ｂ アーム
１３ａ，１３ｂ 基板
１４ａ，１４ｂ ブレーキ機構
１５ａ ストッパー
１６ａ，１６ｂ 定圧シリンダー
１７ａ モーター
４１ 上部機構
４２ 下部機構
４１１ ブレーキ用シリンダー
４１２ 上部接触ユニット
４１３ａ−４１３ｃ 挿入部
４１４ スライダーシャフト
４１５ スライダーベアリング
４１６ 弾性部材
４１７ 固定ブレーキパッド
４２１ 下部接触ユニット
４２２ 回転ブレーキパッド

特開２００９−２９７８６５号公報

Claims (3)

1. 搬送されたガラス基板の両端面を研磨する研磨工程を含むガラス基板の製造方法において、
   前記両端面を研磨する一対の研磨砥石は、回動自在に保持されると共に前記ガラス基板方向へ第１の力が付与され、且つ、前記ガラス基板の幅方向の変動に対して追従可能に保持されており、
   前記一対の研磨砥石は、前記研磨工程におけるガラス基板の搬入時、及び搬出時において、回動が規制されるように第２の力が付与されていることを特徴とする
   製造方法。
2. 前記一対の研磨砥石の回動が規制されるように前記第２の力が付与されている間、前記ガラス基板と前記研磨砥石との接触による衝撃が弾性部材によって吸収される、
   請求項１に記載の製造方法。
3. 前記一対の研磨砥石は、ガラス基板の前記研磨工程における搬入時および搬出時において、ガラス基板の両端よりも内側に突出して配置されており、
   前記ガラス基板の前方端面に周縁部を当接して、前記ガラス基板の搬送に伴って前記周縁部を退避させて前記ガラス基板を研磨する
   請求項１に記載の製造方法。

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