JP2012142247A - 異方性導電材料及び接続構造体 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】本発明に係る異方性導電材料は、導電性粒子1と、バインダー樹脂とを含む。導電性粒子1は、樹脂粒子2と、該樹脂粒子2の表面2aを被覆している導電層3とを有する。導電層3の少なくとも外側の表面層が、はんだ層5である。導電性粒子1中の樹脂粒子2の30〜60℃においての線膨張係数と異方性導電材料中の導電性粒子1を除く全成分を含む材料の30〜60℃においての線膨張係数との差の絶対値は15ppm/℃以下である。
【選択図】図1
Description
図1に、本発明の一実施形態に係る異方性導電材料に含まれている導電性粒子を断面図で示す。
ρ:導電性粒子の直径の標準偏差
Dn:平均粒子径
本発明に係る異方性導電材料は、上述した導電性粒子と、バインダー樹脂とを含む。すなわち、本発明に係る異方性導電材料に含まれている導電性粒子は、樹脂粒子と、該樹脂粒子の表面を被覆している導電層とを有し、かつ該導電層の少なくとも外側の表面層が、はんだ層である。本発明に係る異方性導電材料は、液状であることが好ましく、異方性導電ペーストであることが好ましい。
本発明に係る異方性導電材料を用いて、接続対象部材を接続することにより、接続構造体を得ることができる。
平均粒子径20μmの樹脂粒子(積水化学工業社製「ミクロパールSP」、30〜60℃の線膨張係数:68ppm/℃)を無電解ニッケルめっきし、樹脂粒子の表面に厚さ0.3μmの下地ニッケルめっき層を形成した。次いで、下地ニッケルめっき層が形成された樹脂粒子を電解銅めっきし、厚さ1μmの銅層を形成した。その後、シータコンポーザ(徳寿工作所社製)を用いて、得られた粒子の銅層の表面上で、はんだ微粉末(錫42重量%とビスマス58重量%とを含む、平均粒子径3μm)を溶融させて、銅層の表面上に厚み1μmのはんだ層を形成した。このようにして、樹脂粒子の表面上に厚み1μmの銅層が形成されており、該銅層の表面上に厚み1μmのはんだ層(錫:ビスマス=42重量%:58重量%)が形成されている導電性粒子Aを作製した。
平均粒子径20μmの樹脂粒子(積水化学工業社製「ミクロパールLP」、30〜60℃の線膨張係数:85ppm/℃)を無電解ニッケルめっきし、樹脂粒子の表面に厚さ0.3μmの下地ニッケルめっき層を形成した。次いで、下地ニッケルめっき層が形成された樹脂粒子を電解銅めっきし、厚さ1μmの銅層を形成した。その後、シータコンポーザ(徳寿工作所社製)を用いて、得られた粒子の銅層の表面上で、はんだ微粉末(錫42重量%とビスマス58重量%とを含む、平均粒子径3μm)を溶融させて、銅層の表面上に厚み1μmのはんだ層を形成した。このようにして、樹脂粒子の表面上に厚み1μmの銅層が形成されており、該銅層の表面上に厚み1μmのはんだ層(錫:ビスマス=42重量%:58重量%)が形成されている導電性粒子Bを作製した。
G−0250S(日油社製)50重量部、HP−7200HH(DIC社製)50重量部、2MAOK(四国化成工業社製)10重量部、及び作製例1で得られた導電性粒子A10重量部をメチルエチルケトン中で分散し、PETフィルム上に塗膜を形成して異方性導電材料を得た。尚、導電性粒子を除く全成分を含む材料の硬化物の30〜60℃における線膨張係数は66ppm/℃であった。導電性粒子を除く全成分を含む材料の硬化物の30〜60℃における線膨張係数は、上記異方性導電材料から導電性粒子を除いたサンプルを200℃で10分間加熱した硬化物を別途用意し、熱・応力・歪測定装置(Seiko Instruments Inc.社製「EXSTAR TMA/SS120」)を用いて測定した。後述の導電性粒子を除く全成分を含む硬化物の30〜60℃における線膨張係数も同様にして測定した。
G−2050M(日油社製)50重量部、EOCN−1020−55(日本化薬社製)50重量部、YH−306(三菱化学社製)40重量部、2MAOK(四国化成工業社製)5重量部、及び作製例1で得られた導電性粒子A15重量部をメチルエチルケトン中で分散し、PETフィルム上へ塗膜して異方性導電材料を得た。尚、導電性粒子を除く全成分を含む材料の硬化物の30〜60℃における線膨張係数は75ppm/℃であった。
G−2050M(日油社製)50重量部、HP−7200HH(DIC社製)50重量部、HNA−100(新日本理化社製)50重量部、2MAOK(四国化成工業社製)5重量部、及び作製例1で得られた導電性粒子A15重量部をメチルエチルケトン中で分散し、PETフィルム上へ塗膜して異方性導電材料を得た。尚、導電性粒子を除く全成分を含む材料の硬化物の30〜60℃における線膨張係数は82ppm/℃であった。
作製例1で得られた導電性粒子Aを、作製例2で得られた導電性粒子Bに変更したこと以外は実施例2と同様にして、異方性導電材料を得た。
作製例1で得られた導電性粒子Aを、作製例2で得られた導電性粒子Bに変更したこと以外は実施例3と同様にして、異方性導電材料を得た。
はんだ粒子(錫:ビスマス=43重量%:57重量%、平均粒子径20μm)を用意した。作製例1で得られた導電性粒子Aを、上記はんだ粒子に変更したこと以外は実施例1と同様にして、異方性導電材料を得た。
はんだ粒子(錫:ビスマス=42重量%:58重量%、平均粒子径20μm)を用意した。作製例1で得られた導電性粒子Aを、上記はんだ粒子に変更したこと以外は実施例3と同様にして、異方性導電材料を得た。
エピコート828(三菱化学社製)100重量部、MH−700(新日本理化社製)40重量部、及び作製例1で得られた導電性粒子A15重量部を攪拌することにより、異方性導電材料を得た。尚、導電性粒子を除く全成分を含む材料の硬化物の30〜60℃における線膨張係数は104ppm/℃であった。
作製例1で得られた導電性粒子Aを、作製例2で得られた導電性粒子Bに変更したこと以外は実施例1と同様にして、異方性導電材料を得た。
作製例1で得られた導電性粒子Aを、作製例2で得られた導電性粒子Bに変更したこと以外は比較例3と同様にして、異方性導電材料を得た。
(1)接続構造体の作製
L/Sが300μm/300μmの金電極パターンが上面に形成されたFR−4基板を用意した。また、L/Sが300μm/300μmの金電極パターンが下面に形成されたポリイミド基板(フレキシブル基板)を用意した。
得られた接続構造体において、隣接する電極間のリークの有無を、テスターで抵抗を測定することにより評価した。抵抗が500MΩを越える場合にリーク無として結果を「○」、抵抗が500MΩ以下である場合にリーク有として結果を「×」と判定した。
得られた接続構造体の上下の電極間の接続抵抗をそれぞれ、4端子法により測定した。2つの接続抵抗の平均値を算出した。なお、電圧=電流×抵抗の関係から、一定の電流を流した時の電圧を測定することにより接続抵抗を求めることができる。接続抵抗の平均値が2.0Ω以下である場合を「○」、接続抵抗の平均値が2Ωを超える場合を「×」と判定した。
得られた接続構造体をそれぞれ20個用意し、−30℃で30分間保持し、次に80℃まで昇温させて30分間保持した後、−30℃まで降温する過程を1サイクルとする冷熱サイクル試験を実施した。500サイクル及び1000サイクル後に、それぞれ10個の接続構造体を取り出した。
1a…表面
2…樹脂粒子
2a…表面
3…導電層
4…第1の導電層
4a…表面
5…はんだ層
5a…溶融したはんだ層部分
11…導電性粒子
12…はんだ層
21…接続構造体
22…第1の接続対象部材
22a…上面
22b…電極
23…第2の接続対象部材
23a…下面
23b…電極
24…接続部
Claims (6)
- 導電性粒子と、バインダー樹脂とを含み、
前記導電性粒子が、樹脂粒子と該樹脂粒子の表面を被覆している導電層とを有し、該導電層の少なくとも外側の表面層が、はんだ層であり、
前記導電性粒子中の上記樹脂粒子の30〜60℃においての線膨張係数と異方性導電材料中の上記導電性粒子を除く全成分を含む材料の30〜60℃においての線膨張係数との差の絶対値が15ppm/℃以下である、異方性導電材料。 - 前記バインダー樹脂が硬化性化合物であり、
異方性導電材料中の前記導電性粒子を除く全成分を含む材料の線膨張係数が、異方性導電材料中の前記導電性粒子を除く全成分を含む材料の硬化物の線膨張係数である、請求項1に記載の異方性導電材料。 - 前記バインダー樹脂がエポキシ化合物である、請求項1又は2に記載の異方性導電材料。
- 前記導電性粒子の平均粒子径が、0.1μm以上、50μm以下である、請求項1〜3のいずれか1項に記載の異方性導電材料。
- フラックスをさらに含む、請求項1〜4のいずれか1項に記載の異方性導電材料。
- 第1の接続対象部材と、
第2の接続対象部材と、
前記第1,第2の接続対象部材を接続している接続部とを備え、
前記接続部が、請求項1〜5のいずれか1項に記載の異方性導電材料により形成されている、接続構造体。
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2011
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