JP2012149257A - 高分子及び該高分子を含んだ有機発光素子 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】下記化学式1で表される反復単位を含んだ高分子:
前記化学式1のうち、R1〜R8、R11〜R39、Ar1、Ar2、Ar3、a、b、c及びmについては、本明細書の詳細な説明を参照する。
【選択図】図1
Description
下記反応式1にしたがって化合物1を合成した。
アセトン200mL中の4−ブロモフェノール(14.9g、86.2mmole)溶液に、K2CO3(17.9g、129mmole)を添加して還流温度で加熱した。30分後、2−エチルヘキシルブロミド(24mL、129mmole)を、前記反応混合物に滴加した。反応完了後、反応混合物を室温まで冷却させ、ブライン(飽和食塩水)で洗浄し、CH2Cl2で抽出した後、無水MgSO4で乾燥させて濾過し、減圧下で濃縮した。残留物をカラムクロマトグラフィで精製し、中間体1(1−ブロモ−4−((2−エチルヘキシル)オキシ)ベンゼン)を得た(23.3g、97%)。中間体1について、以下のようにNMRで同定した。
13C−NMR(CDCl3,75MHz):δ 158.5、132.1、116.3、112.4、70.7、39.3、30.5、28.8、25.1、23.8、14.1、11.6
(中間体2の合成)
窒素雰囲気下で、ジメチルホルムアミド(DMF)100mL中のカルバゾール(8.6g、49.2mmole)、CuI(281mg、1.5mmole)、1,10−フェナントロリン(541mg、3.0mmole)及びK2CO3(13.6g、98.4mmole)に、DMF 20mL中の中間体1(16.8g、49.2mmole)を滴加し、155℃に加熱して24時間撹拌した。反応完了後、反応混合物をセライトパッドで濾過し、CH2Cl2で洗浄した。濾過物をブラインで洗浄して無水MgSO4で乾燥させた後、濾過して減圧下で濃縮した。残留物をカラムクロマトグラフィで精製し、中間体2(9−(4−((2−エチルヘキシル)オキシ)フェニル)−9H−カルバゾール)(12.2g、67%)を得た。中間体2について、以下のようにNMRで同定した。
13C−NMR(CDCl3,75MHz):δ 158.7、141.4、130.0、128.5、125.8、123.0、120.2、119.6、115.6、109.7、70.8、39.4、30.6、29.1、23.9、23.1、14.1、11.1
(中間体3の合成)
CHCl3及びDMFの混合物(CHCl3とDMFとの体積比は、3:1である)50mL中の中間体2(8.0g、21.5mmole)に、N−ブロモスクシンイミド(NBS)(7.7g、43mL)を滴加し、室温で反応させた。反応完了後、反応混合物をブラインで洗浄し、CH2Cl2で抽出した後、無水MgSO4で乾燥させ、濾過して減圧下で濃縮した。残留物をカラムクロマトグラフィで精製し、中間体3(3,6−ジブロモ−9−(4−((2−エチルヘキシル)オキシ)フェニル)−9H−カルバゾール)(10.4g、94%)を収得した。中間体3について、以下のようにNMRで同定した。
13C−NMR(CDCl3,75MHz):δ 159.1、140.3、129.2、128.9、128.3、123.6、123.1、115.7、112.7、111.4、70.9、39.4、30.5、29.1、23.9、23.1、14.1、11.1
(化合物1の合成)
1,4−ジオキサン20mL中の前記中間体3(5g、9.4mmole)、ジクロロ[1,1’−ビス(ジフェニルホスフィノ)フェロセン]パラジウム(II)(PdCl2(dppf))(154mg、0.188mmole)、1,1’−ビス(ジフェニルホスフィノ)−フェロセン(dppf)(107mg、0.188mmole)及び酢酸カリウム(KOAc)(5.6g、56.4mmole)に、ビス(ピナコラート)ジボロン(6.09g、23.5mmole)を添加し、これから収得した混合物を100℃まで加熱し、窒素雰囲気下で24時間撹拌した。反応完了後、反応混合物をセライトパッドで濾過し、CH2Cl2で洗浄した。濾過物をブラインで洗浄して無水MgSO4で乾燥させた後、濾過して減圧下で濃縮した。残留物をカラムクロマトグラフィで精製し、化合物1(9−(4−((2−エチルヘキシル)オキシ)フェニル)−3,6−ビス(4,4,5,5−テトラメチル−1,3,2−ジオキサボロラン−2−イル)−9H−カルバゾール)を得た(23.3g、97%)。化合物1について、以下のようにNMRで同定した。
[合成例2:化合物2の合成]
下記反応式2にしたがって化合物2を合成した。
窒素雰囲気下で、CHCl3 50mL中の前記中間体2(2.2g、5.9mmole)の撹拌された溶液に、FeCl3(1.9g、11.7mmole)を添加した。反応完了後、H2Oを滴加した。有機層を分離し、無水MgSO4で乾燥させ、濾過して減圧下で濃縮した。残留物をカラムクロマトグラフィで精製してヘキサン媒質下で再結晶し、中間体5(9,9’−ビス(4−((2−エチルヘキシル)オキシ)フェニル)−9H,9’H−3,3’−ビカルバゾール)(1.0g、47%)を得た。中間体5について、以下のようにNMRで同定した。
13C−NMR(CDCl3,75MHz):δ 158.7、141.8、140.5、134.2、130.0、128.4、125.9、125.8、123.7、123.3、120.4、119.7、118.8、115.6、109.9、109.8、70.8、39.5、30.6、29.1、23.9、23.1、14.1、11.2
(中間体6の合成)
CHCl3とDMFとの混合物(CHCl3とDMFとの体積比は、3:1である)中の中間体5(1.0g、1.4mmole)に、NBS(498mg、2.8mmole)を滴加し、室温で反応させた。反応完了後、反応混合物をブラインで洗浄してCH2Cl2で抽出した後、無水MgSO4で乾燥させた後、濾過して減圧下で濃縮した。残留物をカラムクロマトグラフィで精製し、中間体6(6,6’−ジブロモ−9,9’−ビス(4−((2−エチルヘキシル)オキシ)フェニル)−9H,9’H−3,3’−ビカルバゾール)を得た(1.2g、93%)。
1,4−ジオキサン30mL中の中間体6(1.2g、1.36mmole)、1,1’−ビス(ジフェニルホスフィノ)フェロセン−パラジウム(II)ジクロライドジクロロメタン(PdCl2(dppf)・CH2Cl2)(22mg、0.0272mmole)、dppf(16mg、0.0272mmole)及びKOAc(809mg、8.16mmole)の混合物に、ビス(ピナコラート)ジボロン(881mg、3.4mmole)を添加し、反応混合物を100℃まで加熱し、窒素雰囲気下で24時間撹拌した。反応完了後、反応混合物をセライトパッドで濾過し、CH2Cl2で洗浄した。濾過物をブラインで洗浄して無水MgSO4で乾燥させた後、濾過して減圧下で濃縮した。残留物をカラムクロマトグラフィで精製し、化合物2(9,9’−ビス(4−((2−エチルヘキシル)オキシ)フェニル)−6,6’−ビス(4,4,5,5−テトラメチル−1,3,2−ジオキサボロラン−2−イル)−9H,9’H−3,3’−ビカルバゾール)を収得した(1.0g、75%)。化合物2について、以下のようにNMRで同定した。
13C−NMR(CDCl3,75MHz):δ 158.9、140.8、140.5、134.2、129.5、128.6、128.3、126.3、125.0、123.1、122.6、118.9、115.7、112.5、111.3、110.2、70.9、39.4、30.6、29.1、23.9、23.1、14.1、11.2
[合成例3:化合物3の合成]
下記反応式3にしたがって化合物3を合成した。
カルバゾール(15.3g、87.7mmole)及びZnCl2(36.6g、263.2mmole)の溶液に、2−クロロ−2−メチルプロパン(30mL、263.2mmol)を、窒素雰囲気下で撹拌しつつ滴加した。前記混合物を40℃で撹拌した後、H2Oに注いだ。生成物をCH2Cl2で抽出し、MgSO4で乾燥させた後、濾過して減圧下で濃縮し、白色固体(23g、94%)を得た。中間体7について、以下のようにNMRで同定した。
(中間体9の合成)
窒素雰囲気下で、DMF 100mL中の中間体7(10g、35.8mmole)、中間体8(Aldrich社製)(20g、71.6mole)、CuI(205mg、1.1mmole)、1,10−フェナントロリン(400mg、2.2mmole)及びK2CO3(7.4g、53.7mmole)を、155℃まで加熱して24時間撹拌した。反応完了後、反応混合物をセライトパッドで濾過してCH2Cl2で洗浄した。濾過物をブラインで洗浄し、無水MgSO4で乾燥して濾過し、減圧下で濃縮した。残留物をカラムクロマトグラフィで精製し、中間体9(9−(4−((2−エチルヘキシル)オキシ)フェニル)−9H−カルバゾール)を得た(9.6g、62%)。
テトラヒドロフラン(THF)60mL中の前記中間体9(9.5g、21.87mmole)に、n−BuLi(15mL、23.98mmole)を−78℃で滴加した。30分後、THF 40mL中の中間体10(Aldrich社製)(8.1g、43.74mmole)を、前記反応混合物に添加した。混合物を冷却バス中に置き、一晩かけて室温になるようにした。反応完了後、反応をH2Oでクエンチし、溶媒を減圧下で蒸発させた。残留物をCH2Cl2で抽出してブラインで洗浄し、MgSO4で乾燥させた後で濾過し、減圧下で濃縮した。残留物をカラムクロマトグラフィで精製した。ここから収得した結果物を、2−プロパノールに置いて固形化させ、中間体11(3,6−ジ−tert−ブチル−9−(4−(4,6−ジクロロ−1,3,5−トラジン−2−イル)フェニル)−9H−カルバゾール)を得た(5.0g、45%)。
トルエン(toluene)とH2Oとの混合物(トルエンとH2Oとの体積比は4:1である)100mL中の中間体11(5.0g、9.93mmole)、中間体12(7.3g、19.9mmole)、テトラキス(トリフェニルホスフィン)パラジウム(0)(Pd(PPh3)4)(215mg、0.186mmole)及びK2CO3(3.9g、27.9mmole)を減圧下で還流温度まで加熱した。反応完了後、混合物を室温まで冷却した後、ブラインで洗浄し、CH2Cl2で抽出し、無水MgSO4で乾燥させた後、濾過して減圧下で濃縮した。残留物をカラムクロマトグラフィで精製し、中間体13(9,9’−((6−(4−(3,6−ジ−tert−ブチル−9H−カルバゾール−9−イル)フェニル)−1,3,5−トラジン−2,4−ジイル)ビス(4,1−フェニレン))ビス(9H−カルバゾール)を得た(6.01g、66%)。中間体13について、以下のようにNMRで同定した。
13C−NMR(CDCl3,75MHz):δ 171.3、144.3、143.0、139.1、138.7、138.1、135.4、129.7、128.5、127.2、126.9、123.7、123.5、116.3、109.3、34.8、32.0
(化合物3の合成)
CHCl3とDMFとの混合物(CHCl3とDMFとの体積比は3:1である)40mL中の中間体13(1.0g、1.1mmole)の溶液に、NBS(392mg、2.2mmole)を滴加し、室温で反応させた。反応完了後、反応混合物をブラインで洗浄し、CH2Cl2で抽出して無水MgSO4で抽出した後、濾過して減圧下で濃縮した。残留物をカラムクロマトグラフィで精製し、化合物3(9,9’−((6−(4−(3,6−ジ−tert−ブチル−9H−カルバゾール−9−イル)フェニル)−1,3,5−トラジン−2,4−ジイル)ビス(4,1−フェニレン))ビス(3−ブロモ−9H−カルバゾール)を得た(1.1g、89%)。
下記反応式4にしたがって下記反復単位からなる高分子1を合成した。
(合成例5:高分子2の合成)
下記反応式5にしたがって、下記反復単位からなる高分子2を合成した。
(合成例6:高分子3の合成)
下記反応式6にしたがって、下記反復単位からなる高分子3を合成した。
[評価例1:高分子の発光特性評価(溶液状態)]
前記高分子1〜3のUV吸収スペクトル及びPLスペクトルを評価することによって、各高分子の発光特性を評価した。まず、高分子1をトルエンに0.2mMの濃度で希釈し、SHIMAZU UV−350スペクトロメータ(株式会社島津製作所製)を利用し、UV吸収スペクトルを測定した。高分子2及び3に関しても同様にUV吸収スペクトルを測定し、その結果を図2に示した。
酸化インジウムスズ(ITO)(150nm)をガラス基板上にコーティングさせた透明電極基板を清潔に洗浄した後、ITOを感光性樹脂とエッチング液とを利用し、所望の形態にパターニングし、再び清潔に洗浄した。前記ITO上部に、ポリエチレンジヒドロキシチオフェン(PEDOT)を含んだ正孔輸送層形成用の組成物(Bayer社製のBatron P 4083)をスピンコーティングした後、200℃で約0.5時間ベーキングし、正孔輸送層を形成した。前記正孔輸送層の上部に、クロロベンゼンに、前記高分子1及びIr(mppy)3(10wt%)を含んだ発光層形成用の組成物をスピンコーティングし、120℃の温度で30分間ベーキング処理し、高分子1及びIr(mppy)3を含んだ発光層を形成した。前記正孔輸送層形成用の組成物及び発光層形成用の組成物は、スピンコーティング前に、0.2mmフィルタで濾過した。前記正孔輸送層及び発光層の厚みは、各組成物の濃度とスピンコーティング速度とを調節することによって、それぞれ15nm及び50nmにした。前記発光層の上部に、真空度を4×10−6torr以下に維持しつつ、1,3,5−トリス(N−フェニルベンズイミダゾール−2−イル)ベンゼン(TPBI)を真空蒸着し、40nmの電子輸送層を形成した後、前記電子輸送層の上部に、LiF及びAlを順次に蒸着し、電子注入層(1nm)と第2電極(100nm)とを順次形成し、有機発光素子を製作した。蒸着時の膜厚及び膜の成長速度は、クリスタルセンサを利用して調節した。
発光層形成時、高分子1の代わりに、高分子2を使用したという点を除いては、前記実施例1と同じ方法で有機発光素子を製作した。
発光層形成時、高分子1の代わりに、高分子3を使用したという点を除いては、前記実施例1と同じ方法で有機発光素子を製作した。
発光層形成時、高分子1の代わりに、ポリ(n−ビニルカルバゾール)(PVK)(PVKの数平均分子量(Mn)は、25,000〜50,000の範囲であり、多分散指数(PDI)は、2である)と4,4’−N,N’−ジカルバゾール−ビフェニル(CBP)との混合物(PVKとCBPとの重量比は、70:30である)を使用したという点を除いては、前記実施例1と同じ方法で有機発光素子を製作した。
前記実施例2及び3、並びに比較例1の有機発光素子に対し、PR650Spectroscan(登録商標) Source Measurement Unit.(PhotoReaserch社製)を用いて電流密度及び輝度を評価し、その結果を図4及び図5に示した。
11 基板
12 第1電極
13 正孔輸送層
15 第1層
16 電子輸送層
18 電子注入層
19 第2電極
Claims (20)
- 下記化学式1で表される反復単位を含む高分子:
前記化学式1のうち、
R1及びR2、R3及びR4、R5及びR6、並びにR7及びR8のうち、一つ以上の組の置換基が互いに連結されて単結合または−[CQ6Q7]p−で表される連結基を形成するか、あるいはR1〜R8は互いに独立して、水素原子、重水素原子、ハロゲン原子、ヒドロキシル基、シアノ基、ニトロ基、カルボン酸基、置換または非置換のC1〜C60アルキル基、置換または非置換のC2〜C60アルケニル基、置換または非置換のC2〜C60アルキニル基、置換または非置換のC1〜C60アルコキシ基、置換または非置換のC3〜C60シクロアルキル基、置換または非置換のC3〜C60シクロアルケニル基、置換または非置換のC6〜C60アリール基、置換または非置換のC6〜C60アリールオキシ基、置換または非置換のC6〜C60アリールチオ基、置換または非置換のC2〜C60ヘテロアリール基、−NQ1Q2で表される基、及び−SiQ3Q4Q5で表される基からなる群から選択され、
前記pは、1または2の整数であり、
Ar1〜Ar3は互いに独立して、置換または非置換のC6〜C30アリーレン基、及び置換または非置換のC3〜C30ヘテロアリーレン基のうち一つであり、
a、b、及びcは互いに独立して、1〜10の整数であり、
R11〜R39は互いに独立して、水素原子、重水素原子、ハロゲン原子、ヒドロキシル基、シアノ基、ニトロ基、カルボン酸基、置換または非置換のC1〜C60アルキル基、置換または非置換のC2〜C60アルケニル基、置換または非置換のC2〜C60アルキニル基、置換または非置換のC1〜C60アルコキシ基、置換または非置換のC3〜C60シクロアルキル基、置換または非置換のC3〜C60シクロアルケニル基、置換または非置換のC6〜C60アリール基、置換または非置換のC6〜C60アリールオキシ基、置換または非置換のC6〜C60アリールチオ基、置換または非置換のC2〜C60ヘテロアリール基、−NQ8Q9で表される基、及び−SiQ10Q11Q12で表される基からなる群から選択され、
前記Q1〜Q12は互いに独立して、水素原子、重水素原子、ハロゲン原子、ヒドロキシル基、シアノ基、ニトロ基、カルボン酸基、置換または非置換のC1〜C60アルキル基、置換または非置換のC2〜C60アルケニル基、置換または非置換のC2〜C60アルキニル基、置換または非置換のC1〜C60アルコキシ基、置換または非置換のC3〜C60シクロアルキル基、置換または非置換のC3〜C60シクロアルケニル基、置換または非置換のC6〜C60アリール基、置換または非置換のC6〜C60アリールオキシ基、置換または非置換のC6〜C60アリールチオ基、及び置換または非置換のC2〜C60ヘテロアリール基からなる群から選択され、
mは、0〜5の整数である。 - R1及びR2、R3及びR4、R5及びR6、並びにR7及びR8のうち、一つ以上の組の置換基が互いに連結されて単結合または−[CQ6Q7]p−で表される連結基を形成し、
前記Q6及びQ7は互いに独立して、水素原子、重水素原子、ハロゲン原子、ヒドロキシル基、シアノ基、ニトロ基、カルボン酸基、置換または非置換のC1〜C10アルキル基、置換または非置換のC2〜C10アルケニル基、置換または非置換のC1〜C10アルコキシ基、置換または非置換のC6〜C14アリール基、及び置換または非置換のC2〜C14ヘテロアリール基からなる群から選択された、請求項1に記載の高分子。 - 前記Ar1〜Ar3が互いに独立して、置換または非置換のフェニレン基、置換または非置換のペンタレニレン基、置換または非置換のインデニレン基、置換または非置換のナフチレン基、置換または非置換のアズレニレン基、置換または非置換のヘプタレニレン基、置換または非置換のインダセニレン基、置換または非置換のアセナフチレン基、置換または非置換のフルオレニレン基、置換または非置換のフェナレニレン基、置換または非置換のフェナントリレン基、置換または非置換のアントリレン基、置換または非置換のフルオランテニレン基、置換または非置換のトリフェニレニレン基、置換または非置換のピレニレン基、置換または非置換のクリセニレン基、置換または非置換のナフタセニレン基、置換または非置換のピセニレン基、置換または非置換のペリレニレン基、置換または非置換のペンタフェニレン基、置換または非置換のヘキサセニレン基、置換または非置換のピロリレン基、置換または非置換のピラゾリレン基、置換または非置換のイミダゾリレン基、置換または非置換のイミダゾリニレン基、置換または非置換のイミダゾピリジニレン基、置換または非置換のイミダゾピリミジニレン基、置換または非置換のピリジニレン基、置換または非置換のピラジニレン基、置換または非置換のピリミジニレン基、置換または非置換のインドリレン基、置換または非置換のプリニレン基、置換または非置換のキノリニレン基、置換または非置換のフタラジニレン基、置換または非置換のインドリジニレン基、置換または非置換のナフチリジニレン基、置換または非置換のキナゾリニレン基、置換または非置換のシンノリニレン基、置換または非置換のインダゾリレン基、置換または非置換のカルバゾリレン基、置換または非置換のフェナジニレン基、置換または非置換のフェナントリジニレン基、置換または非置換のピラニレン基、置換または非置換のクロメニレン基、置換または非置換のベンゾフラニレン基、置換または非置換のチオフェニレン基、置換または非置換のベンゾチオフェニレン基、置換または非置換のイソチアゾリレン基、置換または非置換のベンゾイミダゾリレン基、及び置換または非置換のイソキサゾリレン基からなる群から選択された、請求項1または2に記載の高分子。
- 前記Ar1〜Ar3が互いに独立して、フェニレン基、(C1〜C10アルキル)フェニレン基、ジ(C1〜C10アルキル)フェニレン基、(C6〜C14アリール)フェニレン基、ジ(C6〜C14アリール)フェニレン基、フルオレニレン基、(C1〜C10アルキル)フルオレニレン基、ジ(C1〜C10アルキル)フルオレニレン基、(C6〜C14アリール)フルオレニレン基、ジ(C6〜C14アリール)フルオレニレン基、フェナントリレン基、(C1〜C10アルキル)フェナントリレン基、ジ(C1〜C10アルキル)フェナントリレン基、(C6〜C14アリール)フェナントリレン基、ジ(C6〜C14アリール)フェナントリレン基、ピリジニレン基、(C1〜C10アルキル)ピリジニレン基、ジ(C1〜C10アルキル)ピリジニレン基、(C6〜C14アリール)ピリジニレン基及びジ(C6〜C14アリール)ピリジニレン基からなる群から選択された、請求項1〜3のいずれかに記載の高分子。
- 前記a、b、及びcが互いに独立して、1、2、3または4である、請求項1〜4のいずれかに記載の高分子。
- 前記R11〜R39が互いに独立して、水素原子、重水素原子、ハロゲン原子、ヒドロキシル基、シアノ基、ニトロ基、カルボン酸基、置換または非置換のC1〜C10アルキル基、置換または非置換のC2〜C10アルケニル基、置換または非置換のC1〜C10アルコキシ基、置換または非置換のC6〜C14アリール基、及び置換または非置換のC2〜C14ヘテロアリール基からなる群から選択された、請求項1〜5のいずれかに記載の高分子。
- R11〜R19、R21〜R23及びR25〜R38がいずれも水素原子であり、R20、R24及びR39は互いに独立して、重水素原子、ハロゲン原子、ヒドロキシル基、シアノ基、ニトロ基、カルボン酸基、置換または非置換のC1〜C10アルキル基、置換または非置換のC2〜C10アルケニル基、置換または非置換のC1〜C10アルコキシ基、置換または非置換のC6〜C14アリール基、及び置換または非置換のC2〜C14ヘテロアリール基からなる群から選択された、請求項1〜6のいずれかに記載の高分子。
- 前記mが、0、1、または2である、請求項1〜7のいずれかに記載の高分子。
- 前記反復単位が、下記化学式1A、1Bまたは1Cで表される、請求項1〜8のいずれかに記載の高分子:
前記化学式1A、1B及び1Cのうち、
R11〜R39及びQ6及びQ7は互いに独立して、水素原子、重水素原子、ハロゲン原子、ヒドロキシル基、シアノ基、ニトロ基、カルボン酸基、置換または非置換のC1〜C10アルキル基、置換または非置換のC2〜C10アルケニル基、置換または非置換のC1〜C10アルコキシ基、置換または非置換のC6〜C14アリール基、及び置換または非置換のC2〜C14ヘテロアリール基からなる群から選択され、
Ar1〜Ar3は互いに独立して、置換または非置換のフェニレン基、置換または非置換のフルオレニレン基、置換または非置換のフェナントリレン基、及び置換または非置換のピリジニレン基からなる群から選択され、
前記a、b、及びcは互いに独立して、1〜10の整数であり、
mは、0、1または2である。 - 前記R11〜R19、R21〜R23及びR25〜R38がいずれも水素原子であり、R20、R24及びR39は互いに独立して、重水素原子、ハロゲン原子、ヒドロキシル基、シアノ基、ニトロ基、カルボン酸基、置換または非置換のC1〜C10アルキル基、置換または非置換のC2〜C10アルケニル基、置換または非置換のC1〜C10アルコキシ基、置換または非置換のC6〜C14アリール基、及び置換または非置換のC2〜C14ヘテロアリール基からなる群から選択された、請求項9に記載の高分子。
- 前記Ar1〜Ar3は互いに独立して、フェニレン基、フルオレニレン基、フェナントリレン基、ピリジニレン基及びフェニル−ピリジニレン基からなる群から選択され、
前記a、b及びcは互いに独立して、1、2、3または4である、請求項9または10に記載の高分子。 - 前記反復単位が下記化学式1A−1で表される、請求項1〜11のいずれかに記載の高分子:
前記化学式1A−1のうち、
R20、R24及びR39は互いに独立して、重水素原子、ハロゲン原子、ヒドロキシル基、シアノ基、ニトロ基、カルボン酸基、C1〜C10アルキル基、C1〜C10アルコキシ基、及び置換または非置換のC6〜C14アリール基からなる群から選択され、
Ar1〜Ar3は互いに独立して、置換または非置換のフェニレン基、置換または非置換のフルオレニレン基、置換または非置換のフェナントリレン基、及び置換または非置換のピリジニレン基からなる群から選択され、
前記a、b、及びcは互いに独立して、1、2、3または4であり、
前記mは、0、1または2である。 - 前記R1〜R8がいずれも同じである、請求項1〜12のいずれかに記載の高分子。
- 前記R1〜R8が互いに独立して、水素原子、重水素原子、ハロゲン原子、ヒドロキシル基、シアノ基、ニトロ基、カルボン酸基、C1〜C10アルキル基及びC1〜C10アルコキシ基からなる群から選択された、請求項1〜13のいずれかに記載の高分子。
- 重量平均分子量が、2,000〜1,000,000範囲である、請求項1〜14のいずれかに記載の高分子。
- 前記高分子は、両極性の特性を有し、燐光ホストとして使われる、請求項1〜15のいずれかに記載の高分子。
- 基板;第1電極;第2電極;前記第1電極と前記第2電極との間に介在して請求項1〜16のいずれかに記載の高分子を含む第1層を備える、有機発光素子。
- 前記第1層が発光層であり、前記第1層が燐光ドーパントをさらに含む、請求項17に記載の有機発光素子。
- 前記燐光ドーパントが、Ir、Pt、Os、Re、Ti、Zr、Hf、及びこれらのうち2以上の組み合わせからなる群から選択された有機金属錯体である、請求項18に記載の有機発光素子。
- 前記第1層に含まれる前記燐光ドーパントの含有量が、1重量%〜10重量%である、請求項18または19に記載の有機発光素子。
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