JP2012149257A - 高分子及び該高分子を含んだ有機発光素子 - Google Patents

高分子及び該高分子を含んだ有機発光素子 Download PDF

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Abstract

【課題】高分子及び該高分子を含む有機発光素子を提供する。
【解決手段】下記化学式1で表される反復単位を含んだ高分子:

前記化学式1のうち、R〜R、R11〜R39、Ar、Ar、Ar、a、b、c及びmについては、本明細書の詳細な説明を参照する。
【選択図】図1

Description

本発明は、高分子及び該高分子を含んだ有機発光素子に関する。
能動発光型素子である有機発光素子(organic light emitting device)は、軽量であり、部品が簡素であって製作工程が簡単であるという利点を有しており、さらに、表示装置に使用すると、高画質の上、広視野角を有するという長所を備えている。また、有機発光素子は、高色純度及び動映像をほぼ完璧に実現することができ、低消費電力及び低電圧駆動が可能であり、各種電子製品に適した電気的特性を有している。
例えば、上記有機発光素子は、基板上部にアノードが形成されており、当該アノード上部に、有機層として、正孔輸送層、発光層、電子輸送層などが形成され、その上部に、カソードが順次形成された構造を採ることができる。
前記アノード及びカソードに電流を印加すれば、アノードから注入された正孔は、正孔輸送層を経由して発光層に移動し、カソードから注入された電子は電子輸送層を経由して発光層に移動する。このように移動した正孔及び電子は、発光層領域で再結合して励起子(exiton)を生成する。この励起子が放射減衰(radiative decay)しつつ、当該物質のバンドギャップに相当する波長の光が放出される。
前記有機層に用いられる物質は、有機層の製造方法によって、真空蒸着性物質と溶液塗布性物質とに分類される。前記溶液塗布性物質は、溶媒と混和されて基板上に塗布可能な組成物を構成できることが必要であり、前記組成物は、インクジェットプリンティング、スクリーンプリンティング、スピンコーティングのような公知の溶液塗布法を利用して基板上に塗布される(例えば、特許文献1)。
特開2011−49546号公報
しかしながら、特許文献1などに記載の既存の技術によって得られる有機発光素子は、なお電流密度や輝度等が十分ではないという問題があり、駆動時の電流密度が大きく、輝度が高い有機発光素子用材料の開発が求められている。
そこで、本発明の目的は、上記問題点を解決する新規構造を有する高分子を提供することにある。
また、本発明の他の目的は、前記高分子を含む有機発光素子を提供することにある。
上記課題を解決するために、本発明によれば、下記化学式1で表される反復単位を含んだ高分子が提供される:
前記化学式1のうち、R及びR、R及びR、R及びR、並びにR及びRのうち、一つ以上の組の置換基が互いに連結され、単結合または−[CQ−で表される連結基を形成するか、あるいはR〜Rは互いに独立して、水素原子、重水素原子、ハロゲン原子、ヒドロキシル基、シアノ基、ニトロ基、カルボン酸基、置換または非置換のC〜C60アルキル基、置換または非置換のC〜C60アルケニル基、置換または非置換のC〜C60アルキニル基、置換または非置換のC〜C60アルコキシ基、置換または非置換のC〜C60シクロアルキル基、置換または非置換のC〜C60シクロアルケニル基、置換または非置換のC〜C60アリール基、置換または非置換のC〜C60アリールオキシ基、置換または非置換のC〜C60アリールチオ基、置換または非置換のC〜C60ヘテロアリール基、−NQで表される基、及び−SiQで表される基からなる群から選択され、前記pは、1または2の整数であり、Ar〜Arは互いに独立して、置換または非置換のC〜C30アリーレン基、及び置換または非置換のC〜C30ヘテロアリーレン基のうち一つであり、a、b、及びcは互いに独立して、1〜10の整数であり、R11〜R39は互いに独立して、水素原子、重水素原子、ハロゲン原子、ヒドロキシル基、シアノ基、ニトロ基、カルボン酸基、置換または非置換のC〜C60アルキル基、置換または非置換のC〜C60アルケニル基、置換または非置換のC〜C60アルキニル基、置換または非置換のC〜C60アルコキシ基、置換または非置換のC〜C60シクロアルキル基、置換または非置換のC〜C60シクロアルケニル基、置換または非置換のC〜C60アリール基、置換または非置換のC〜C60アリールオキシ基、置換または非置換のC〜C60アリールチオ基、置換または非置換のC〜C60ヘテロアリール基、−NQで表される基、及び−SiQ101112で表される基からなる群から選択され、前記Q〜Q12は互いに独立して、水素原子、重水素原子、ハロゲン原子、ヒドロキシル基、シアノ基、ニトロ基、カルボン酸基、置換または非置換のC〜C60アルキル基、置換または非置換のC〜C60アルケニル基、置換または非置換のC〜C60アルキニル基、置換または非置換のC〜C60アルコキシ基、置換または非置換のC〜C60シクロアルキル基、置換または非置換のC〜C60シクロアルケニル基、置換または非置換のC〜C60アリール基、置換または非置換のC〜C60アリールオキシ基、置換または非置換のC〜C60アリールチオ基、及び置換または非置換のC〜C60ヘテロアリール基からなる群から選択され、mは、0〜5の整数である。
前記高分子は、有機発光素子の発光層において、燐光ホストとして使われてもよい。
また、基板;第1電極;第2電極;前記第1電極と前記第2電極との間に介在して前記高分子を含む第1層;を備える有機発光素子が提供される。
本発明によれば、前記化学式1で表される反復単位を含んだ高分子は、正孔及び電子をいずれも輸送することができ、高い三重項エネルギー準位を有する。そして、この高分子を含む有機発光素子は、高電流密度、高輝度などの優れた特性を発揮することができる。
本発明の一実施形態による有機発光素子の概略的な断面図である。 高分子2及び3の溶液におけるUVスペクトルをそれぞれ示すグラフである。 高分子2及び3の溶液におけるPLスペクトルをそれぞれ示すグラフである。 実施例2及び3並びに比較例1の有機発光素子の電圧−電流密度の関係をそれぞれ示すグラフである。 実施例2及び3並びに比較例1の有機発光素子の電圧−輝度の関係をそれぞれ示すグラフである。
本発明の一実施例による高分子は、下記化学式1で表される反復単位を含む。
前記化学式1のうち、R及びR、R及びR、R及びR、並びにR及びRのうち一つ以上の組の置換基が互いに連結されて単結合または−[CQ−で表される連結基を形成する。ここで、前記pは、1または2の整数である。
前記R及びR、R及びR、R及びR、並びにR及びRの組のうち、一部のみが互いに連結されていてもよく、あるいはR及びR、R及びR、R及びR、並びにR及びRの組のいずれもが互いに連結されてもよい。例えば、前記R及びRは、互いに連結されて単結合を形成(すなわち、カルバゾール環形成)し、R及びRは、互いに連結されて単結合を形成(すなわち、カルバゾール環形成)し、R及びRは、互いに連結されて単結合を形成(すなわち、カルバゾール環形成)し、R及びRは互いに連結されない構造としてもよく、多様な変形が可能である。
前記R及びR、R及びR、R及びR、並びにR及びRの組のうち、一つ以上の組は互いに連結され、互いに同一であるか、あるいは異なる形態を有することができる。例えば、前記R及びR、R及びR、並びにR及びRは、互いに連結されて単結合を形成(すなわち、カルバゾール環を形成)し、R及びRは互いに連結されて−CH−連結基を形成(すなわち、アクリジン環形成)することができるなど、多様な変形が可能である。
前記Q及びQは互いに独立して、水素原子、重水素原子、ハロゲン原子、ヒドロキシル基、シアノ基、ニトロ基、カルボン酸基、置換または非置換のC〜C10アルキル基、置換または非置換のC〜C10アルケニル基、置換または非置換のC〜C10アルコキシ基、置換または非置換のC〜C14アリール基、及び置換または非置換のC〜C14ヘテロアリール基からなる群から選択されると好ましい。
例えば、前記Q及びQは互いに独立して、水素原子、重水素原子、ハロゲン原子、ヒドロキシル基、シアノ基、ニトロ基、カルボン酸基、C〜C10アルキル基及びC〜C10アルコキシ基からなる群から選択されるとより好ましいが、これらに限定されるものではない。
一方、前記化学式1で、R〜Rは互いに独立して、水素原子、重水素原子、ハロゲン原子、ヒドロキシル基、シアノ基、ニトロ基、カルボン酸基、置換または非置換のC〜C60アルキル基、置換または非置換のC〜C60アルケニル基、置換または非置換のC〜C60アルキニル基、置換または非置換のC〜C60アルコキシ基、置換または非置換のC〜C60シクロアルキル基、置換または非置換のC〜C60シクロアルケニル基、置換または非置換のC〜C60アリール基、置換または非置換のC〜C60アリールオキシ基、置換または非置換のC〜C60アリールチオ基、置換または非置換のC〜C60ヘテロアリール基、−NQで表される基、及び−SiQで表される基からなる群から選択される。すなわち、R及びR、R及びR、R及びR、並びにR及びRのうち、いずれの組も互いに連結されなくともよい。
〜Rは互いに独立して、水素原子、重水素原子、ハロゲン原子、ヒドロキシル基、シアノ基、ニトロ基、カルボン酸基、置換または非置換のC〜C10アルキル基、置換または非置換のC〜C10アルケニル基、置換または非置換のC〜C10アルコキシ基、置換または非置換のC〜C14アリール基、及び置換または非置換のC〜C14ヘテロアリール基からなる群から選択されると好ましい。
例えば、R〜Rは互いに独立して、水素原子、重水素原子、ハロゲン原子、ヒドロキシル基、シアノ基、ニトロ基、カルボン酸基、C〜C10アルキル基及びC〜C10アルコキシ基からなる群から選択されるとより好ましいが、これらに限定されるものではない。
前記化学式1で、Ar〜Arは互いに独立して、置換または非置換のC〜C30アリーレン基、及び置換または非置換のC〜C30ヘテロアリーレン基からなる群から選択される。
前記Ar〜Arは互いに独立して、置換または非置換のフェニレン基、置換または非置換のペンタレニレン基、置換または非置換のインデニレン基、置換または非置換のナフチレン基、置換または非置換のアズレニレン基、置換または非置換のヘプタレニレン基、置換または非置換のインダセニレン基、置換または非置換のアセナフチレン基、置換または非置換のフルオレニレン基、置換または非置換のフェナレニレン基、置換または非置換のフェナントリレン基、置換または非置換のアントリレン基、置換または非置換のフルオランテニレン基、置換または非置換のトリフェニレニレン基、置換または非置換のピレニレン基、置換または非置換のクリセニレン基、置換または非置換のナフタセニレン基、置換または非置換のピセニレン基、置換または非置換のペリレニレン基、置換または非置換のペンタフェニレン基、置換または非置換のヘキサセニレン基、置換または非置換のピロリレン基、置換または非置換のピラゾリレン基、置換または非置換のイミダゾリレン基、置換または非置換のイミダゾリニレン基、置換または非置換のイミダゾピリジニレン基、置換または非置換のイミダゾピリミジニレン基、置換または非置換のピリジニレン基、置換または非置換のピラジニレン基、置換または非置換のピリミジニレン基、置換または非置換のインドリレン基、置換または非置換のプリニレン基、置換または非置換のキノリニレン基、置換または非置換のフタラジニレン基、置換または非置換のインドリジニレン基、置換または非置換のナフチリジニレン基、置換または非置換のキナゾリニレン基、置換または非置換のシンノリニレン基、置換または非置換のインダゾリレン基、置換または非置換のカルバゾリレン基、置換または非置換のフェナジニレン基、置換または非置換のフェナントリジニレン基、置換または非置換のピラニレン基、置換または非置換のクロメニレン基、置換または非置換のベンゾフラニレン基、置換または非置換のチオフェニレン基、置換または非置換のベンゾチオフェニレン基、置換または非置換のイソチアゾリレン基、置換または非置換のベンゾイミダゾリレン基、及び置換または非置換のイソキサゾリレン基からなる群から選択されると好ましい。
例えば、前記Ar〜Arは互いに独立して、フェニレン基、(C〜C10アルキル)フェニレン基、ジ(C〜C10アルキル)フェニレン基、(C〜C14アリール)フェニレン基、ジ(C〜C14アリール)フェニレン基、フルオレニレン基、(C〜C10アルキル)フルオレニレン基、ジ(C〜C10アルキル)フルオレニレン基、(C〜C14アリール)フルオレニレン基、ジ(C〜C14アリール)フルオレニレン基、フェナントリレン基、(C〜C10アルキル)フェナントリレン基、ジ(C〜C10アルキル)フェナントリレン基、(C〜C14アリール)フェナントリレン基、ジ(C〜C14アリール)フェナントリレン基、ピリジニレン基、(C〜C10アルキル)ピリジニレン基、ジ(C〜C10アルキル)ピリジニレン基、(C〜C14アリール)ピリジニレン基及びジ(C〜C14アリール)ピリジニレン基からなる群から選択されると好ましいが、これらに限定されるものではない。ここで、C〜C14アリール基の非制限的な例としては、フェニル基、ナフチル基、アントリル基などを挙げることができる。
一実施形態によれば、前記化学式1で、Ar〜Arは互いに独立して、置換または非置換のフェニレン基、置換または非置換のフルオレニレン基、置換または非置換のフェナントリレン基、及び置換または非置換のピリジニレン基のうち一つであるが、これらに限定されるものではない。
例えば、前記Ar〜Arは、いずれも互いに同一であってもよい。
前記化学式1で、a、b、及びcは、それぞれ−Ar−、−Ar−及び−Ar−の反復回数を表したものであり、互いに独立して、1〜10の整数である。前記aが2以上である場合、2以上のArは、互いに同一であるか、あるいは異なり、前記bが2以上である場合、2以上のArは、互いに同一であるか、あるいは異なり、前記cが2以上である場合、2以上のArは、互いに同一であってもよいし、あるいは異なってもよい。
例えば、前記a、b及びcは互いに独立して、1、2、3または4であるが、これらに限定されるものではない。
前記化学式1で、−(Ar−、−(Ar−及び−(Ar−は互いに同一であってもよい。例えば、前記化学式1で、−(Ar−、−(Ar−及び−(Ar−は、いずれもフェニレン基(Ar=Ar=Ar=フェニレン基、a=b=c=1)、ビフェニレン基(Ar=Ar=Ar=フェニレン基、a=b=c=2)、トリフェニレン基(Ar=Ar=Ar=フェニレン基、a=b=c=3)、テトラフェニレン基(Ar=Ar=Ar=フェニレン基、a=b=c=4)、フルオレニレン基(Ar=Ar=Ar=フルオレニレン基、a=b=c=1)、フェナントリレン基(Ar=Ar=Ar=フェナントリレン基、a=b=c=1)、ピリジニレン基(Ar=Ar=Ar=ピリジニレン基、a=b=c=1)またはフェニル−ピリジニレン基(Ar=Ar=Ar=フェニル−ピリジニレン基、a=b=c=1)であると好ましいが、これらに限定されるものではない。
前記化学式1で、R11〜R39は互いに独立して、水素原子、重水素原子、ハロゲン原子、ヒドロキシル基、シアノ基、ニトロ基、カルボン酸基、置換または非置換のC〜C60アルキル基、置換または非置換のC〜C60アルケニル基、置換または非置換のC〜C60アルキニル基、置換または非置換のC〜C60アルコキシ基、置換または非置換のC〜C60シクロアルキル基、置換または非置換のC〜C60シクロアルケニル基、置換または非置換のC〜C60アリール基、置換または非置換のC〜C60アリールオキシ基、置換または非置換のC〜C60アリールチオ基、置換または非置換のC〜C60ヘテロアリール基、−NQで表される基、及び−SiQ101112で表される基からなる群から選択される。
例えば、前記R11〜R39は互いに独立して、水素原子、重水素原子、ハロゲン原子、ヒドロキシル基、シアノ基、ニトロ基、カルボン酸基、置換または非置換のC〜C10アルキル基、置換または非置換のC〜C10アルケニル基、置換または非置換のC〜C10アルコキシ基、置換または非置換のC〜C14アリール基、及び置換または非置換のC〜C14ヘテロアリール基からなる群から選択されると好ましい。
一実施形態として、前記化学式1で、前記R11〜R39は互いに独立して、水素原子、重水素原子、ハロゲン原子、ヒドロキシル基、シアノ基、ニトロ基、カルボン酸基、C〜C10アルキル基及びC〜C10アルコキシ基からなる群から選択されるとより好ましいが、これらに限定されるものではない。
前記化学式1で、R11〜R19、R21〜R23及びR25〜R38がいずれも水素原子であり、R20、R24及びR39は互いに独立して、水素原子、重水素原子、ハロゲン原子、ヒドロキシル基、シアノ基、ニトロ基、カルボン酸基、置換または非置換のC〜C10アルキル基、置換または非置換のC〜C10アルケニル基、置換または非置換のC〜C10アルコキシ基、置換または非置換のC〜C14アリール基、及び置換または非置換のC〜C14ヘテロアリール基のうち一つであってもよい。ここで、前記R20、R24及びR39は互いに独立して、水素原子、重水素原子、ハロゲン原子、ヒドロキシル基、シアノ基、ニトロ基、カルボン酸基、C〜C10アルキル基及びC〜C10アルコキシ基からなる群から選択されると好ましいが、これらに限定されるものではない。
及びQの好ましい構造については上記で説明した通りであるが、前記Q〜Q12は互いに独立して、水素原子、重水素原子、ハロゲン原子、ヒドロキシル基、シアノ基、ニトロ基、カルボン酸基、置換または非置換のC〜C60アルキル基、置換または非置換のC〜C60アルケニル基、置換または非置換のC〜C60アルキニル基、置換または非置換のC〜C60アルコキシ基、置換または非置換のC〜C60シクロアルキル基、置換または非置換のC〜C60シクロアルケニル基、置換または非置換のC〜C60アリール基、置換または非置換のC〜C60アリールオキシ基、置換または非置換のC〜C60アリールチオ基、及び置換または非置換のC〜C60ヘテロアリール基からなる群から選択される。
前記化学式1で、mは、反復回数を表したものであり、0〜5の整数である。例えば、前記mは、0、1または2であると好ましいが、これらに限定されるものではない。
前記化学式1で、以下に示す化学部分A、化学部分C及び化学部分Dは、互いに同一であると好適である。例えば、前記化学式1で、化学部分A〜Dは、いずれも互いに同一であってもよい(化学部分A〜Dは、下記化学式1−1参照)。これにより、前記化学式1で表される反復単位を含んだ高分子を有機発光素子に用いた場合において、正孔輸送部の正孔移動度を向上させることができる(前記高分子における正孔輸送部についての詳細な説明は、後述する化学式1−2についての説明参照)。
前記化学式1で表される反復単位は、下記化学式1A(化学式1で、R及びRが互いに連結されて単結合を形成し、R及びRが互いに連結されて単結合を形成し、R及びRが互いに連結されて単結合を形成する)、化学式1B(化学式1で、R及びRが互いに連結されて−[CQ]−で表される連結基を形成し、R及びRが互いに連結されて−[CQ]−で表される連結基を形成し、R及びRが互いに連結されて−[CQ]−で表される連結基を形成する)、または化学式1C(化学式1で、R及びRが互いに連結されて−[CQ−で表される連結基を形成し、R及びRが互いに連結されて−[CQ−で表される連結基を形成し、R及びRが互いに連結されて−[CQ−で表される連結基を形成する)で表された構造であると好ましいが、これらに限定されるものではない。
前記化学式1A、1B及び1Cにおいて、R11〜R39、Q、Q、Ar〜Ar、a、b、c及びmについての詳細な説明は、前記化学式1についての説明と同様であるため、省略する。
例えば、前記化学式1A、1B及び1Cで、R11〜R39、並びにQ及びQは互いに独立して、水素原子、重水素原子、ハロゲン原子、ヒドロキシル基、シアノ基、ニトロ基、カルボン酸基、置換または非置換のC〜C10アルキル基、置換または非置換のC〜C10アルケニル基、置換または非置換のC〜C10アルコキシ基、置換または非置換のC〜C14アリール基、及び置換または非置換のC〜C14ヘテロアリール基からなる群から選択され、Ar〜Arは互いに独立して、置換または非置換のフェニレン基、置換または非置換のフルオレニレン基、置換または非置換のフェナントリレン基、及び置換または非置換のピリジニレン基のうち一つであり、a、b、及びcは互いに独立して、1〜10の整数であり、mは、0、1または2であると好ましいが、これらに限定されるものではない。
例えば、前記化学式1A、1B及び1Cで、前記R11〜R19、R21〜R23及びR25〜R38がいずれも水素原子であり、R20、R24及びR39は互いに独立して、水素原子、重水素原子、ハロゲン原子、ヒドロキシル基、シアノ基、ニトロ基、カルボン酸基、置換または非置換のC〜C10アルキル基、置換または非置換のC〜C10アルケニル基、置換または非置換のC〜C10アルコキシ基、置換または非置換のC〜C14アリール基、及び置換または非置換のC〜C14ヘテロアリール基からなる群から選択されると好ましい。
また、前記化学式1A、1B及び1Cで、前記Ar〜Arは互いに独立して、フェニレン基、フルオレニレン基、フェナントリレン基、ピリジニレン基及びフェニル−ピリジニレン基のうち一つであり、前記a、b及びcは互いに独立して、1、2、3または4であると好ましいが、これらに限定されるものではない。
一実施形態によれば、前記化学式1で表される反復単位は、下記化学式1A−1で表される構造であってもよいが、これに限定されるものではない。
前記化学式1A−1で、R20、R24、R39、Ar〜Ar、a、b、c及びmについての詳細な説明は、前記化学式1についての説明と同様であるため、省略する。
例えば、前記化学式1A−1で、R20、R24及びR39は互いに独立して、水素原子、重水素原子、ハロゲン原子、ヒドロキシル基、シアノ基、ニトロ基、カルボン酸基、C〜C10アルキル基及びC〜C10アルコキシ基からなる群から選択され、Ar〜Arは互いに独立して、置換または非置換のフェニレン基、置換または非置換のフルオレニレン基、置換または非置換のフェナントリレン基、及び置換または非置換のピリジニレン基からなる群から選択され、a、b、及びcは互いに独立して、1、2、3または4であり、mは、0、1または2であると好ましいが、これらに限定されるものではない。
一実施形態によれば、前記化学式1A−1で、R20及びR24は互いに独立して、C〜C10アルキル基であり、R39は、C〜C10アルコキシ基、またはC〜C14アリール基のいずれかであり、Ar〜Arは互いに独立して、フェニレン基、フルオレニレン基、フェナントリレン基、ピリジニレン基及びフェニル−ピリジニレン基のうち一つであり、a、b、及びcは互いに独立して、1、2、3または4であり、mは、0、1または2であると好ましく、m=1,2であると特に好ましいが、これらに限定されるものではない。
一方、前記R〜Rは、いずれも互いに同一であってもよい。
また、前記R〜Rが互いに独立して、水素原子、重水素原子、ハロゲン原子、ヒドロキシル基、シアノ基、ニトロ基、カルボン酸基、C〜C10アルキル基及びC〜C10アルコキシ基からなる群から選択されると好ましいが、これらに限定されるものではない。
前記化学式1で表される反復単位を含んだ高分子の重量平均分子量は、ポリスチレンを基準にして、2,000〜1,000,000であり、より好ましくは8,000〜400,000であり、8,000〜10,000であると特に好ましい。重量平均分子量をこのような範囲とすると、塗布用溶液に高分子が分散しやすくなる。また、多分散指数(PDI)は、1.5〜5であると好ましく、特に2〜3であると好ましいが、これらに限定されるものではない。前記重量平均分子量及び多分散指数は、例えば、GPC(ゲル浸透クロマトグラフィ)を利用して測定することができ、ポリスチレン換算で求められる。そして、重量平均分子量及び多分散指数は、例えば、前記高分子を含む有機発光素子の構造や、実現しようとする特性などを考慮して選択される。
本明細書で、「置換または非置換のX(Xは任意の置換基)」という用語において「置換されたX」という用語は、「前記Xの一つ以上の水素原子が、重水素原子、ハロゲン原子、ヒドロキシル基、ニトロ基、シアノ基、アミジノ基、ヒドラジニル基、カルボン酸基またはその塩誘導体、スルホン酸基またはその塩誘導体、リン酸基またはその塩誘導体、C〜C60アルキル基、C〜C60アルケニル基、C〜C60アルキニル基、C〜C60アルコキシ基、C〜C60シクロアルキル基、C〜C60シクロアルケニル基、C〜C60アリール基、C〜C60アリールオキシ基、C〜C60ヘテロアリール基、−NQ101102で表される基、及び−SiQ103104105で表される基からなる群から選択された置換基または原子で置換されたX」を意味する。ここで、前記Q101〜Q105は互いに独立して、水素原子、ハロゲン原子、ヒドロキシル基、シアノ基、置換または非置換のC〜C60アルキル基、置換または非置換のC〜C60アルケニル基、置換または非置換のC〜C60アルキニル基、置換または非置換のC〜C60アルコキシ基、置換または非置換のC〜C60シクロアルキル基、置換または非置換のC〜C60シクロアルケニル基、置換または非置換のC〜C60アリール基、置換または非置換のC〜C60アリールオキシ基、または置換または非置換のC〜C60ヘテロアリール基であってもよい。2以上の置換基が存在する場合、それらは、互いに同一であってもよく、異なっていてもよい。
例えば、前記「置換されたX」とは、「前記Xの一つ以上の水素原子が、重水素原子、ハロゲン原子、ヒドロキシル基、シアノ基、C〜C10アルキル基、C〜C10アルコキシ基、C〜C20アリール基、C〜C20ヘテロアリール基、−NQ101102で表される基、及び−SiQ103104105で表される基からなる群から選択された置換基または原子で置換されたX」を意味するが、前記Q101〜Q105は互いに独立して、水素原子、ハロゲン原子、ヒドロキシル基、シアノ基、置換または非置換のC〜C10アルキル基、置換または非置換のC〜C10アルコキシ基、置換または非置換のC〜C20アリール基、または置換または非置換のC〜C20ヘテロアリール基であってもよい。
例えば、前記「置換されたX」とは、「前記Xの一つ以上の水素原子が、重水素原子、ハロゲン原子、ヒドロキシル基、シアノ基、C〜C10アルキル基、C〜C10アルコキシ基、C〜C20アリール基、C〜C20ヘテロアリール基、−NQ101102で表される基及び−SiQ103104105で表される基からなる群から選択された置換基または原子で置換されたX」を意味するが、前記Q101〜Q105は互いに独立して、水素原子、ハロゲン原子、ヒドロキシル基、シアノ基、C〜C10アルキル基、C〜C10アルコキシ基、C〜C20アリール基またはC〜C20ヘテロアリール基であってもよい。
例えば、前記「置換されたX」とは、「前記Xの一つ以上の水素原子が、重水素原子、ハロゲン原子、ヒドロキシル基、シアノ基、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ペントキシ基、フェニル基、ナフチル基またはアントリル基からなる群から選択された置換基または原子で置換されたX」を意味することができる。
本明細書で、非置換のC〜C60アルキル基は、線形及び分枝型の構造を有し、その具体的な例としては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソブチル基、sec−ブチル基、ペンチル基、iso−アミル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、ノニル基などを挙げることができる。置換されたC〜C60アルキル基の置換基は、前記「置換されたX」についての説明を参照する。
本明細書で、非置換のC〜C60アルケニル基は、前記非置換のC〜C60アルキル基の中間や末端に、一つ以上の炭素二重結合を含有している末端基を意味する。非置換のC〜C60アルケニル基の例としては、エテニル基、プロペニル基、ブテニル基、ペンテニル基、ヘキセニル基、ヘプテニル基、オクテニル基、プロパジエニル基、イソプレニル基、アリル基などを挙げることができる。置換されたC〜C60アルケニル基の置換基は、前記「置換されたX」についての説明を参照する。
本明細書で、非置換のC〜C60アルキニル基は、前記非置換のC〜C60アルキル基の中間や末端に、一つ以上の炭素三重結合を含有している末端基を意味する。非置換のC〜C60アルキニル基の例としては、アセチレニル基などを挙げることができる。置換されたC〜C60アルキニル基の置換基は、前記「置換されたX」についての説明を参照する。
本明細書で、非置換のC〜C60アルコキシ基は、−OY(ただし、Yは、前述のような非置換のC〜C60アルキル基である)の化学式を有し、その具体的な例として、メトキシ基、エトキシ基、イソプロピルオキシ基、ブトキシ基、ペントキシ基などを挙げることができる。置換されたC〜C60アルコキシ基の置換基は、前記「置換されたX」についての説明を参照する。
本明細書で、非置換のC〜C60シクロアルキル基は、環状飽和炭化水素原子基を指すものであり、その具体例としては、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロオクチル基などを挙げることができる。置換されたC〜C60シクロアルキル基の置換基は、前記「置換されたX」についての説明を参照する。
本明細書で、非置換のC〜C60シクロアルケニル基は、一つ以上の炭素二重結合を有するが、芳香族環ではない環状不飽和炭化水素原子基を指すものであり、その具体例としては、シクロプロペニル基、シクロブテニル基、シクロペンテニル基、シクロヘキセニル基、シクロヘプテニル基、1,3−シクロヘキサジエニル基、1,4−シクロヘキサジエニル基、2,4−シクロヘプタジエニル基、1,5−シクロオクタジエニル基などを挙げることができる。置換されたC〜C60シクロアルケニル基の置換基は、前記「置換されたX」についての説明を参照する。
本明細書で、非置換のC〜C60アリール基は、C〜C60炭環芳香族系を有する一価基であり、単環基または多環基である。多環基である場合、これに含まれた2以上の環は、互いに縮合されてもよい。非置換のC〜C60アリール基の例としては、フェニル基、ペンタレニル基、インデニル基、ナフチル基、アズレニル基、ヘプタレニル基、インダセニル基、アセナフチル基、フルオレニル基、スピロ−フルオレニル基、フェナレニル基、フェナントリル基、アントリル基、フルオランテニル基、トリフェニレニル基、ピレニル基、クリセニル基、ナフタセニル基、ピセニル基、ペリレニル基、ペンタフェニル基、ヘキサセニル基などを挙げることができる。置換されたC〜C60アリール基の置換基は、前記「置換されたX」についての説明を参照する。
本明細書で、非置換のC〜C60アリーレン基は、C〜C60炭環芳香族系を有する二価基であり、単環基または多環基であり、その具体例は、前述の非置換のC〜C60アリール基の例と同様である。置換されたC〜C60アリーレン基の置換基は、前記「置換されたX」についての説明を参照する。
本明細書で、非置換のC〜C60ヘテロアリール基は、N、O、PまたはSのうちから選択された1個以上のヘテロ原子を含んだ環を一つ以上含んだ、単環基または多環基である。多環基である場合、これに含まれた2以上の環は、互いに縮合されてもよい。非置換のC〜C60複素環基の具体例としては、ピロリル基、イミダゾリル基、ピラゾリル基、ピリジニル基、ピラジニル基、ピリミジニル基、ピリダジニル基、イソインドリル基、インドリル基、インダゾリル基、プリニル基、キノリニル基、ベンゾキノリニル基、フタラジニル基、ナフチリジニル基、キノキサリニル基、キナゾリニル基、シンノリニル基、カルバゾリル基、フェナントリジニル基、アクリジニル基、フェナントロリニル基、フェナジニル基、ベンゾオキサゾリル基、ベンゾイミダゾリル基、フラニル基、ベンゾフラニル基、チオフェニル基、ベンゾチオフェニル基、チアゾリル基、イソチアゾリル基、ベンゾチアゾリル基、イソキサゾリル基、オキサゾリル基、トリアゾリル基、テトラゾール基、オキサジアゾリル基、トリアジニル基、ベンゾオキサゾリル基などを挙げることができる。置換されたC〜C60ヘテロアリール基の置換基は、前記「置換されたX」についての説明を参照する。
本明細書で、非置換のC〜C60ヘテロアリーレン基は、O、PまたはSのうちから選択された1個以上のヘテロ原子を含んだ環を一つ以上含んだ、単環二価基あるいは多環二価基である。その具体例は、前述の非置換のC〜C60ヘテロアリール基の例を参照する。置換されたC〜C60ヘテロアリーレンの置換基は、前記「置換されたX」についての説明を参照する。
本明細書(特に化学式中)で、「*」は、隣接する化学部分との結合サイトを表したものであり、当業者に容易に認識されるものである。
前記化学式1で表される反復単位を含んだ高分子は、公知の有機合成方法、例えば、鈴木カップリング反応または山本カップリング反応などを利用して合成することができる。前記高分子の合成方法は、後述する実施例を参照することにより、当業者によって容易に認識されるものである。
前記化学式1で表される反復単位を含んだ高分子は、下記化学式1−2(化学式1で表される反復単位2個を連結して表した化学式である)で示すように、電子輸送部(electron transporting part、「E」と表記)及び正孔輸送部(hole transporting part、「H」と表記)を、主鎖上にいずれも有する両極性の高分子であり、正孔および電子の輸送の均衡を効果的に実現及び維持することができる:
また、前記高分子において、正孔輸送部(H)のベンゼン環は、それぞれ3位及び6位が互いに連結されており、前記高分子の共役長(conjugation length)が長くなっても、バンドギャップエネルギー(Eg)と三重項エネルギー(E)とを高いレベルに保持するのに寄与することができる。
また、前記高分子において、mを調節することによって、高分子の共役長を容易に調節することができるので、選択された正孔輸送部(H)の化学部分によって、高分子の正孔及び電子の注入能及び移動能を最適化することができる。
従って、前記高分子は、有機発光素子、より詳細には、有機発光素子の発光層において、燐光ドーパントと共に使われる燐光ホストとして使われてもよい。
一重項エネルギー準位(singlet state energy)のみが発光に寄与し、最大内部量子効率が25%である蛍光物質に比べ、一重項エネルギー準位と三重項エネルギー準位との項間交差(inter system crossing)が可能な燐光物質は、三重項エネルギー準位の励起子も発光に寄与するので、理論的には100%の内部量子効率が可能である。従って、燐光物質を採用することによって、高効率の有機発光素子を実現することができるが、公知の燐光ドーパントは、一般的に高準位の三重項エネルギーを有しているという点と、前述のような本発明の前記高分子の特性(つまり、本発明の高分子は、電子輸送部及び正孔輸送部を併せ持つ両極性の高分子であること)とを考慮すると、本発明の前記高分子は、有機発光素子において、発光層の燐光ホストとして用いることが適当である。
例えば、前記高分子は、有機発光素子の発光層において、赤色、緑色及び/または青色の燐光ホストとして用いることができる。一具体例として、前記高分子は、有機発光素子の発光層において、赤色及び/または緑色の燐光ホストとして用いられるが、これらに限定されるものではない。
従って、基板;第1電極;第2電極;前記第1電極と前記第2電極との間に介在されて前記化学式1で表される反復単位を含む高分子を有する第1層;を備える有機発光素子が提供される。
前記第1層は、例えば、発光層の役割を担うことができる。
前記第1層が発光層である場合、前記第1層は、燐光ドーパントをさらに含むことができる。前記燐光ドーパントとしては、任意の公知の燐光ドーパントを使用することができる。例えば、前記燐光ドーパントは、Ir、Pt、Os、Re、Ti、Zr、Hf、及びこれらのうち2以上の組み合わせからなる群から選択された有機金属錯体であると好ましいが、これらに限定されるものではない。
前記燐光ドーパントの例として、ビスチエニルピリジンアセチルアセトネートイリジウム、ビス(ベンゾチエニルピリジン)アセチルアセトネートイリジウム、ビス(2−フェニルベンゾチアゾール)アセチルアセトネートイリジウム、ビス(1−フェニルイソキノリン)イリジウムアセチルアセトネート、トリス(1−フェニルイソキノリン)イリジウム、トリス(フェニルピリジン)イリジウム、トリス(2−ビフェニルピリジン)イリジウム、トリス(3−ビフェニルピリジン)イリジウム、トリス(4−ビフェニルピリジン)イリジウム、Ir(pq)(acac)(ここで、pqは、2−フェニルキノリンの略語であり、acacは、アセチルアセトンの略語であり、下記化合物10参照)、Ir(ppy)(ppyは、フェニルピリジンの略語であり、下記化合物11参照)、白金(II)オクタエチルポルフィリン(PtOEP;下記化学式参照)、下記化合物12、Firpic(下記化合物13参照)、Ir(piq)(下記化学式参照)、Ir(piq)acac(piqは、フェニルイソキノリンの略語であり、下記化合物14参照)、Ir(mppy)(下記化合物15参照)、BtpIr(acac)(下記化学式参照)、FIrpic(下記化学式参照)、(Fppy)Ir(tmd)(下記化学式参照)及びIr(dfppz)(下記化学式参照)を挙げることができるが、これらに限定されるものではない:
前記有機発光素子は、第1電極と第2電極との間に、前述のような第1層(例えば、発光層の役割を担う)以外に、正孔注入層、正孔輸送層、正孔阻止層、電子輸送層、電子注入層、またはこれらのうち任意の組み合わせをさらに含むことができる。
図1は、前記有機発光素子の一実施形態を概略的に図示したものであり、前記有機発光素子10は、基板11、第1電極12、正孔輸送層13、第1層15、電子輸送層16、電子注入層18及び第2電極19を含む。前記第1層15は、発光層としての役割を担うことができる。前記有機発光素子10及びその製造方法については、次の通りである。
まず、基板11の上部に、大きな仕事関数を有する第1電極用物質を、蒸着法、イオンプレーティング法、メッキ法、スパッタリング法などによって形成し、第1電極12を形成する。前記第1電極12は、正孔を注入することができるアノード、または電子を注入することができるカソードである。ここで、基板11としては、一般的な有機発光素子で使われる基板を使用することができるが、機械的強度、熱的安定性、透明性、表面平滑性、取扱容易性及び防水性に優れるガラス基板または透明プラスチック基板を使用すると好ましい。第1電極用物質としては、電気伝導度の高い金属酸化物、金属硫化物または金属を使用することができ、通常、それらを薄膜として利用する。前記第1電極用物質としては、例えば、酸化インジウム、酸化亜鉛、酸化スズ、及びそれらの複合体である酸化インジウムスズ(ITO)・酸化インジウム亜鉛(IZO)のような酸化物、または金、白金、銀、銅などを利用することができる。また、ポリアニリンまたはその誘導体、ポリチオフェンまたはその誘導体なども第1電極用物質として使用することができる。前記第1電極は、1層であるか2層以上の多層構造を有することができ、2種以上の互いに異なる物質を含むことができる。前記第1電極の厚みは、光の透過性と電気伝導度とを考慮し、適切に調整することができるが、例えば、10nm〜10μmであってもよい。
次に、図1には図示されていないが、前記第1電極12がアノードである場合、必要に応じて、前記第1電極12上に、正孔注入層をさらに形成することができる。前記正孔注入層は、真空蒸着法、スピンコーティング法、キャスト法、インクジェットプリンティング法、LB(Langmuir-Blodgett)法のような多様な方法を利用して形成することができる。
真空蒸着法によって正孔注入層を形成する場合、その蒸着条件は、正孔注入層の材料として使用する化合物や、目的とする正孔注入層の構造及び熱的特性などによって異なるが、例えば、蒸着温度100〜500℃、真空度10−8〜10−3torr、蒸着速度0.01〜100Å/secの範囲で適宜選択することができる。
スピンコーティング法によって正孔注入層を形成する場合、そのコーティング条件は、正孔注入層の材料として使用する化合物や、目的とする正孔注入層の構造及び熱的特性によって異なるが、約2,000rpm〜5,000rpmのコーティング速度、コーティング後の溶媒除去のための熱処理温度は、約80℃〜300℃の温度範囲で適宜選択することができる。
前記正孔注入層物質としては、公知の正孔注入材料を使用することができる。例えば、銅フタロシアニンなどのフタロシアニン化合物、4,4’,4”−トリス(3−メチルフェニルフェニルアミノ)トリフェニルアミン(m−MTDATA;下記化学式参照)、N,N’−ジ(1−ナフチル)−N,N’−ジフェニルベンジジン(NPB)、4,4’,4”−トリス{N,Nジフェニルアミノ}トリフェニルアミン(TDATA)(下記化学式参照)、4,4’,4”−トリス(N−(2−ナフチル)−n−フェニル−アミノ)−トリフェニルアミン(2T−NATA)(下記化学式参照)などを使用することができるが、これらに限定されるものではない。
前記正孔注入層の厚みは、約100Å〜10,000Å、より好適には、100Å〜1,000Åであるとよい。前記正孔注入層の厚みが前述の範囲である場合、駆動電圧を上昇させることなく、満足すべき正孔注入特性を得ることができる。
前記第1電極12または正孔注入層の上部には、蒸着法、スピンコーティング法、キャスト法、インクジェットプリンティング法、LB法のような方法を利用することにより、正孔輸送層13を形成してもよい。
真空蒸着法及びスピンコーティング法によって正孔輸送層13を形成する場合、その蒸着条件及びコーティング条件は、使用する化合物によって異なるが、一般的に、正孔注入層の形成とほぼ同じ条件範囲から選択される。
正孔輸送層13の形成用物質としては、公知の正孔輸送物質を使用することができる。例えば、N,N’−ビス(3−メチルフェニル)−N,N’−ジフェニル−[1,1−ビフェニル]−4,4’−ジアミン(TPD;下記化学式参照)などの芳香族縮合環を有するアミン誘導体;ポリアニリン/ドデシルベンゼンスルホン酸(Pani/DBSA;下記化学式参照)、ポリ(3,4−エチレンジオキシチオフェン)/ポリ(4−スチレンスルホネート)(PEDOT/PSS;下記化学式参照)、ポリアニリン/カンファースルホン酸(Pani/CSA)またはポリアニリン/ポリ(4−スチレンスルホネート)(Pani/PSS)などを使用できるが、これらに限定されるものではない。
前記正孔輸送層13の厚みは、約50Å〜1,000Å、より好適には100Å〜600Åであるとよい。前記正孔輸送層の厚みが前述の範囲である場合、駆動電圧を上昇させることなく、満足すべき程度の正孔輸送特性を得ることができる。
前記正孔輸送層13上には、発光層の役割を担う第1層15が形成されてもよい。前記第1層15は、スピンコーティング法、キャスト法、インクジェットプリンティング法、LB法のような方法を利用して形成される。スピンコーティング法によって第1層15を形成する場合、その成膜条件は、使用する高分子及び/または化合物によって異なるが、一般的に、正孔注入層の形成とほぼ同じ条件範囲から選択される。
前記第1層15は、前述のような化学式1で表される反復単位を含んだ高分子を、ホストとして含むことができる。また、前記第1層15は、化学式1で表される反復単位を含んだ高分子以外に、燐光ドーパントをさらに含むと好ましい。前記燐光ドーパントの具体例は、前述を参照する。
前記第1層15が、化学式1で表される反復単位を含んだ高分子及び燐光ドーパントを含む場合、前記第1層15において、前記燐光ドーパントの含有量は、1重量%〜10重量%(前記第1層15の総重量を100重量%としたとき)であってもよい。前記範囲内である場合、濃度消光などの現象を実質的に防止することができる。
前記第1層15は、前述のような化学式1で表される反復単位を含んだ高分子のみを単独で含んでいてもよく、または、前記化学式1で表される反復単位を含んだ高分子以外に、公知の蛍光ドーパントを含んでいてもよいなど、多様な変形例が可能である。
前記発光層の役割を担うことができる第1層15の厚みは、約100Å〜1,000Å、好ましくは、200Å〜900Åであるとよい。前記第1層15の厚みが前述のような範囲を満足する場合、駆動電圧を上昇させることなく、満足すべき発光特性を得ることができる。
一方、図1には図示されていないが、第1層15の上部には、必要に応じて正孔阻止層(HBL)がさらに備えられていてもよい。
正孔阻止層は発光層の役割を担う第1層15の三重項励起子または正孔が、第2電極19などに拡散する現象を防止する役割を担うことができる。前記正孔阻止層は、真空蒸着法、スピンコーティング法、キャスト法、LB法のような方法を利用して形成することができる。真空蒸着法及びスピンコーティング法によって正孔阻止層を形成する場合、その条件は、使用する化合物によって異なるが、一般的に、正孔注入層の形成とほぼ同じ条件範囲から選択される。使用可能な公知の正孔阻止材料、例えば、オキサジアゾール誘導体、トリアゾール誘導体、フェナントロリン誘導体、TAZ(下記化学式参照)などを挙げることができるが、これらに限定されるものではない。
前記正孔阻止層の厚みは、約50Å〜1,000Å、好ましくは100Å〜300Åであるとよい。前記正孔阻止層の厚みが前述の範囲内である場合、満足すべき正孔阻止特性を得ることができる。
次に、電子輸送層(ETL)16は、第1層15または正孔阻止層の上部に、真空蒸着法、スピンコーティング法、キャスト法などの多様な方法を利用して形成することができる。真空蒸着法及びスピンコーティング法によって電子輸送層を形成する場合、その条件は、使用する化合物によって異なるが、一般的に、正孔注入層の形成とほぼ同じ条件範囲から選択されうる。前記電子輸送層材料は、電子注入電極(カソード)から注入された電子を安定して輸送する機能を果たすものであり、キノリン誘導体、4,7−ジフェニル−1,10−フェナントロリン(Bphen)、ビス(2−メチル−8−キノリノラト)−(p−フェニルフェノラート)−アルミニウム(BAlq;下記化学式参照)、トリス(8−キノリノラト)アルミニウム(Alq3)、ベリリウムビス(ベンゾキノリン−10−オラート)(Bebq)、TPBi(下記化学式参照)のような公知の材料を使用することもできる。
前記電子輸送層16の厚みは、約100Å〜1,000Å、好ましくは、200Å〜500Åであるとよい。前記電子輸送層16の厚みが前述のような範囲である場合、駆動電圧を上昇させることなく、満足すべき電子輸送特性を得ることができる。
次に、前記電子輸送層16の上部に、電子注入層18が形成されてもよい。電子注入層としては、LiF、NaCl、CsF、LiO、BaO、BaFのような電子注入層の形成材料として公知の物質を任意で利用することができる。前記電子注入層の蒸着条件は、使用する化合物によって異なるが、一般的に、正孔注入層の形成とほぼ同じ条件範囲から選択されうる。
前記電子注入層18の厚みは、約1Å〜100Å、例えば、5Å〜50Åであってもよい。前記電子注入層18の厚みが前述のような範囲である場合、駆動電圧を上昇させることなく、満足すべき程度の電子注入特性を得ることができる。
最後に、電子注入層18の上部に、第2電極19を形成することができる。前記第2電極の形成方法は、第1電極12の形成方法と同様である。第2電極19は、カソードまたはアノードとして使われる。前記第2電極19がカソードとして使われる場合、仕事関数の小さい物質が選択される。例えば、リチウム、ナトリウム、カリウム、ルビジウム、セシウムなどのアルカリ金属;ベリリウム、マグネシウム、カルシウム、ストロンチウム、バリウムなどのアルカリ土類金属;アルミニウム、スカンジウム、バナジウム、亜鉛、イットリウム、インジウム、セリウム、サマリウム、ユーロピウム、テルビウム、イッテルビウムなどの金属;それらのうち2個以上の合金;またはそれらのうち1個以上と、金、銀、白金、銅、マンガン、チタン、コバルト、ニッケル、タングステン、スズのうち1個以上との合金;黒鉛;黒鉛層間化合物などが利用される。合金としては、例えば、マグネシウム−銀合金、マグネシウム−インジウム合金、マグネシウム−アルミニウム合金、インジウム−銀合金、リチウム−アルミニウム合金、リチウム−マグネシウム合金、リチウム−インジウム合金、カルシウム−アルミニウム合金などを挙げることができる。また、前記第2電極19は、1層であるか2層以上でもある。また、前記第2電極19の材料は、1種を単独で利用したり、あるいは2種以上を併用することもできる。前記第2電極19は、透明、半透明または反射電極として備わるなど、多様な変形が可能である。前記第2電極19の厚みは、例えば、10nm〜10μmとすると好ましいが、これに限定されるものではない。
以下、下記実施例を挙げて説明するが、下記実施例のみに限定されるものではない。
[合成例1:化合物1の合成]
下記反応式1にしたがって化合物1を合成した。
(中間体1の合成)
アセトン200mL中の4−ブロモフェノール(14.9g、86.2mmole)溶液に、KCO(17.9g、129mmole)を添加して還流温度で加熱した。30分後、2−エチルヘキシルブロミド(24mL、129mmole)を、前記反応混合物に滴加した。反応完了後、反応混合物を室温まで冷却させ、ブライン(飽和食塩水)で洗浄し、CHClで抽出した後、無水MgSOで乾燥させて濾過し、減圧下で濃縮した。残留物をカラムクロマトグラフィで精製し、中間体1(1−ブロモ−4−((2−エチルヘキシル)オキシ)ベンゼン)を得た(23.3g、97%)。中間体1について、以下のようにNMRで同定した。
H−NMR(CDCl,300MHz):δ 7.40−7.37(d,2H)、6.82、6.79(d,2H)、3.84−3.82(d,2H)、1.74(m,1H)、1.57−1.34(m,10H)、0.98−0.84(m,6H)
13C−NMR(CDCl,75MHz):δ 158.5、132.1、116.3、112.4、70.7、39.3、30.5、28.8、25.1、23.8、14.1、11.6
(中間体2の合成)
窒素雰囲気下で、ジメチルホルムアミド(DMF)100mL中のカルバゾール(8.6g、49.2mmole)、CuI(281mg、1.5mmole)、1,10−フェナントロリン(541mg、3.0mmole)及びKCO(13.6g、98.4mmole)に、DMF 20mL中の中間体1(16.8g、49.2mmole)を滴加し、155℃に加熱して24時間撹拌した。反応完了後、反応混合物をセライトパッドで濾過し、CHClで洗浄した。濾過物をブラインで洗浄して無水MgSOで乾燥させた後、濾過して減圧下で濃縮した。残留物をカラムクロマトグラフィで精製し、中間体2(9−(4−((2−エチルヘキシル)オキシ)フェニル)−9H−カルバゾール)(12.2g、67%)を得た。中間体2について、以下のようにNMRで同定した。
H−NMR(CDCl,300MHz):δ 8.17(d,2H)、7.49−7.12(m,8H)、7.11(d,2H)、3.99(d,2H)、1.86−1.82(m,1H)、1.80−1.42(m,8H)、1.08−0.94(m,6H)
13C−NMR(CDCl,75MHz):δ 158.7、141.4、130.0、128.5、125.8、123.0、120.2、119.6、115.6、109.7、70.8、39.4、30.6、29.1、23.9、23.1、14.1、11.1
(中間体3の合成)
CHCl及びDMFの混合物(CHClとDMFとの体積比は、3:1である)50mL中の中間体2(8.0g、21.5mmole)に、N−ブロモスクシンイミド(NBS)(7.7g、43mL)を滴加し、室温で反応させた。反応完了後、反応混合物をブラインで洗浄し、CHClで抽出した後、無水MgSOで乾燥させ、濾過して減圧下で濃縮した。残留物をカラムクロマトグラフィで精製し、中間体3(3,6−ジブロモ−9−(4−((2−エチルヘキシル)オキシ)フェニル)−9H−カルバゾール)(10.4g、94%)を収得した。中間体3について、以下のようにNMRで同定した。
H−NMR(CDCl,300MHz):δ 8.20(s,2H)、7.51−7.48(d,2H)、7.37−7.32(d,2H)、7.20−7.08(dd,4H)、3.98(d,2H)、1.84(m,1H)、1.80−1.40(m,8H)、1.09−0.93(m,6H)
13C−NMR(CDCl,75MHz):δ 159.1、140.3、129.2、128.9、128.3、123.6、123.1、115.7、112.7、111.4、70.9、39.4、30.5、29.1、23.9、23.1、14.1、11.1
(化合物1の合成)
1,4−ジオキサン20mL中の前記中間体3(5g、9.4mmole)、ジクロロ[1,1’−ビス(ジフェニルホスフィノ)フェロセン]パラジウム(II)(PdCl(dppf))(154mg、0.188mmole)、1,1’−ビス(ジフェニルホスフィノ)−フェロセン(dppf)(107mg、0.188mmole)及び酢酸カリウム(KOAc)(5.6g、56.4mmole)に、ビス(ピナコラート)ジボロン(6.09g、23.5mmole)を添加し、これから収得した混合物を100℃まで加熱し、窒素雰囲気下で24時間撹拌した。反応完了後、反応混合物をセライトパッドで濾過し、CHClで洗浄した。濾過物をブラインで洗浄して無水MgSOで乾燥させた後、濾過して減圧下で濃縮した。残留物をカラムクロマトグラフィで精製し、化合物1(9−(4−((2−エチルヘキシル)オキシ)フェニル)−3,6−ビス(4,4,5,5−テトラメチル−1,3,2−ジオキサボロラン−2−イル)−9H−カルバゾール)を得た(23.3g、97%)。化合物1について、以下のようにNMRで同定した。
H−NMR(CDCl,300MHz):δ 8.73(s,2H)、7.82(d,2H)、7.41(d,2H)、7.25(d,2H)、7.09(d,2H)、3.98(d,2H)、1.79(m,1H)、1.65−1.27(m,34H)、0.98(m,6H)
[合成例2:化合物2の合成]
下記反応式2にしたがって化合物2を合成した。
(中間体5の合成)
窒素雰囲気下で、CHCl 50mL中の前記中間体2(2.2g、5.9mmole)の撹拌された溶液に、FeCl(1.9g、11.7mmole)を添加した。反応完了後、HOを滴加した。有機層を分離し、無水MgSOで乾燥させ、濾過して減圧下で濃縮した。残留物をカラムクロマトグラフィで精製してヘキサン媒質下で再結晶し、中間体5(9,9’−ビス(4−((2−エチルヘキシル)オキシ)フェニル)−9H,9’H−3,3’−ビカルバゾール)(1.0g、47%)を得た。中間体5について、以下のようにNMRで同定した。
H−NMR(CDCl,300MHz):δ 8.57(s,2H)、8.27(d,2H)、7.83(d,2H)、7.54−7.28(m,12H)、7.19−7.16(d,4H)、4.01−3.99(d,4H)、1.88−1.84(m,2H)、1.64−1.44(m,20H)、1.08−0.99(m,12H)
13C−NMR(CDCl,75MHz):δ 158.7、141.8、140.5、134.2、130.0、128.4、125.9、125.8、123.7、123.3、120.4、119.7、118.8、115.6、109.9、109.8、70.8、39.5、30.6、29.1、23.9、23.1、14.1、11.2
(中間体6の合成)
CHClとDMFとの混合物(CHClとDMFとの体積比は、3:1である)中の中間体5(1.0g、1.4mmole)に、NBS(498mg、2.8mmole)を滴加し、室温で反応させた。反応完了後、反応混合物をブラインで洗浄してCHClで抽出した後、無水MgSOで乾燥させた後、濾過して減圧下で濃縮した。残留物をカラムクロマトグラフィで精製し、中間体6(6,6’−ジブロモ−9,9’−ビス(4−((2−エチルヘキシル)オキシ)フェニル)−9H,9’H−3,3’−ビカルバゾール)を得た(1.2g、93%)。
(化合物2の合成)
1,4−ジオキサン30mL中の中間体6(1.2g、1.36mmole)、1,1’−ビス(ジフェニルホスフィノ)フェロセン−パラジウム(II)ジクロライドジクロロメタン(PdCl(dppf)・CHCl)(22mg、0.0272mmole)、dppf(16mg、0.0272mmole)及びKOAc(809mg、8.16mmole)の混合物に、ビス(ピナコラート)ジボロン(881mg、3.4mmole)を添加し、反応混合物を100℃まで加熱し、窒素雰囲気下で24時間撹拌した。反応完了後、反応混合物をセライトパッドで濾過し、CHClで洗浄した。濾過物をブラインで洗浄して無水MgSOで乾燥させた後、濾過して減圧下で濃縮した。残留物をカラムクロマトグラフィで精製し、化合物2(9,9’−ビス(4−((2−エチルヘキシル)オキシ)フェニル)−6,6’−ビス(4,4,5,5−テトラメチル−1,3,2−ジオキサボロラン−2−イル)−9H,9’H−3,3’−ビカルバゾール)を収得した(1.0g、75%)。化合物2について、以下のようにNMRで同定した。
H−NMR(CDCl,300MHz):δ 8.37−8.36(d,4H)、7.79−7.76(d,2H)、7.53−7.50(d,2H)、7.47−7.41(m,6H)、7.28−7.16(d,2H)、7.13(d,4H)、3.99(d,4H)、1.86(m,2H)、1.80−1.41(m,20H)、1.08−0.98(m,12H)
13C−NMR(CDCl,75MHz):δ 158.9、140.8、140.5、134.2、129.5、128.6、128.3、126.3、125.0、123.1、122.6、118.9、115.7、112.5、111.3、110.2、70.9、39.4、30.6、29.1、23.9、23.1、14.1、11.2
[合成例3:化合物3の合成]
下記反応式3にしたがって化合物3を合成した。




(中間体7の合成)
カルバゾール(15.3g、87.7mmole)及びZnCl(36.6g、263.2mmole)の溶液に、2−クロロ−2−メチルプロパン(30mL、263.2mmol)を、窒素雰囲気下で撹拌しつつ滴加した。前記混合物を40℃で撹拌した後、HOに注いだ。生成物をCHClで抽出し、MgSOで乾燥させた後、濾過して減圧下で濃縮し、白色固体(23g、94%)を得た。中間体7について、以下のようにNMRで同定した。
HNMR(CDCl,300MHz):δ 8.07(d,2H)、7.83(b、1H)、7.49(dd,2H)、7.33(dd,2H)、1.44(s,18H)
(中間体9の合成)
窒素雰囲気下で、DMF 100mL中の中間体7(10g、35.8mmole)、中間体8(Aldrich社製)(20g、71.6mole)、CuI(205mg、1.1mmole)、1,10−フェナントロリン(400mg、2.2mmole)及びKCO(7.4g、53.7mmole)を、155℃まで加熱して24時間撹拌した。反応完了後、反応混合物をセライトパッドで濾過してCHClで洗浄した。濾過物をブラインで洗浄し、無水MgSOで乾燥して濾過し、減圧下で濃縮した。残留物をカラムクロマトグラフィで精製し、中間体9(9−(4−((2−エチルヘキシル)オキシ)フェニル)−9H−カルバゾール)を得た(9.6g、62%)。
(中間体11の合成)
テトラヒドロフラン(THF)60mL中の前記中間体9(9.5g、21.87mmole)に、n−BuLi(15mL、23.98mmole)を−78℃で滴加した。30分後、THF 40mL中の中間体10(Aldrich社製)(8.1g、43.74mmole)を、前記反応混合物に添加した。混合物を冷却バス中に置き、一晩かけて室温になるようにした。反応完了後、反応をHOでクエンチし、溶媒を減圧下で蒸発させた。残留物をCHClで抽出してブラインで洗浄し、MgSOで乾燥させた後で濾過し、減圧下で濃縮した。残留物をカラムクロマトグラフィで精製した。ここから収得した結果物を、2−プロパノールに置いて固形化させ、中間体11(3,6−ジ−tert−ブチル−9−(4−(4,6−ジクロロ−1,3,5−トラジン−2−イル)フェニル)−9H−カルバゾール)を得た(5.0g、45%)。
(中間体13の合成)
トルエン(toluene)とHOとの混合物(トルエンとHOとの体積比は4:1である)100mL中の中間体11(5.0g、9.93mmole)、中間体12(7.3g、19.9mmole)、テトラキス(トリフェニルホスフィン)パラジウム(0)(Pd(PPh)(215mg、0.186mmole)及びKCO(3.9g、27.9mmole)を減圧下で還流温度まで加熱した。反応完了後、混合物を室温まで冷却した後、ブラインで洗浄し、CHClで抽出し、無水MgSOで乾燥させた後、濾過して減圧下で濃縮した。残留物をカラムクロマトグラフィで精製し、中間体13(9,9’−((6−(4−(3,6−ジ−tert−ブチル−9H−カルバゾール−9−イル)フェニル)−1,3,5−トラジン−2,4−ジイル)ビス(4,1−フェニレン))ビス(9H−カルバゾール)を得た(6.01g、66%)。中間体13について、以下のようにNMRで同定した。
H−NMR(CDCl,300MHz):δ 8.99−7.28(m,34H)、1.54(s,18H)
13C−NMR(CDCl,75MHz):δ 171.3、144.3、143.0、139.1、138.7、138.1、135.4、129.7、128.5、127.2、126.9、123.7、123.5、116.3、109.3、34.8、32.0
(化合物3の合成)
CHClとDMFとの混合物(CHClとDMFとの体積比は3:1である)40mL中の中間体13(1.0g、1.1mmole)の溶液に、NBS(392mg、2.2mmole)を滴加し、室温で反応させた。反応完了後、反応混合物をブラインで洗浄し、CHClで抽出して無水MgSOで抽出した後、濾過して減圧下で濃縮した。残留物をカラムクロマトグラフィで精製し、化合物3(9,9’−((6−(4−(3,6−ジ−tert−ブチル−9H−カルバゾール−9−イル)フェニル)−1,3,5−トラジン−2,4−ジイル)ビス(4,1−フェニレン))ビス(3−ブロモ−9H−カルバゾール)を得た(1.1g、89%)。
[合成例4:高分子1の合成]
下記反応式4にしたがって下記反復単位からなる高分子1を合成した。
反応器内で、ビス(1,5−シクロオクタジエン)ニッケル((Ni(cod)))(640mg、2.325mmol)、2,2’−ビピリジル(363mg、2.325mmole)、化合物3(1g、0.93mmole)及び無水THF 30mLを添加し、窒素でパージングした。窒素雰囲気下、65℃で24時間重合させた後、末端封止剤としてブロモベンゼンを添加し、24時間連続して反応させた。その結果として収得した高分子をフロリジルで精製し、アセトン及びメタノールで沈殿させ、24時間真空下で乾燥させ、高分子1を得た。高分子1の重量平均分子量(Mw)、数平均分子量(Mn)、PDIを測定したところ、以下の通りであった。
GPC:Mw=3.6x10、Mn=1.2x10、PDI=3.0
(合成例5:高分子2の合成)
下記反応式5にしたがって、下記反復単位からなる高分子2を合成した。
フラスコに、化合物3(500mg、0.465mmole)、化合物1(348mg、0.558mmole)、酢酸パラジウム(Pd(OAc))(21mg、0.093mmole)、トリシクロヘキシルホスフィン(P(Cy))(81mg、0.279mmole)及びKCO(HO中に2.0M、1.2mL、2.33mmole)を、トルエン30mL中のAliquat(登録商標)336及びガスを除去した水と共に添加した(窒素下、シリンジによる)。混合物を撹拌し、100℃で24時間加熱した。この後、ここから収得した高分子に、2−フェニル−1,3,2−ジオキサポリナンを添加して24時間加熱し、ブロモベンゼンを添加した後、24時間さらに加熱することによって、前記高分子の末端を封止した。ここから得た高分子をフロリジルで精製し、アセトン及びメタノールで沈殿させた後、最終的に、24時間真空下で乾燥させた。高分子2の重量平均分子量(Mw)、数平均分子量(Mn)、PDIを測定したところ、以下の通りであった。
GPC:Mw=9.9x10、Mn=5.0x10、PDI=2.0
(合成例6:高分子3の合成)
下記反応式6にしたがって、下記反復単位からなる高分子3を合成した。
フラスコに、化合物3(500mg、0.465mmole)、化合物2(554mg、0.558mmole)、Pd(OAc)(21mg、0.093mmole)、P(Cy)(81mg、0.279mmole)及びKCO(HO中で2.0M、1.2mL、2.33mmole)を、トルエン30mL中のAliquat(登録商標)336及びガスを除去した水と共に添加した(窒素下、シリンジによる)。混合物を撹拌し、100℃で24時間加熱した。この後、ここから得た高分子に、2−フェニル−1,3,2−ジオキサポリナンを添加し、24時間加熱した後、ブロモベンゼンを添加し、24時間さらに加熱することによって、前記高分子の末端を封止した。ここから得た高分子をフロリジルで精製し、アセトン及びメタノールで沈殿させた後、最終的に24時間真空下で乾燥させた。高分子3の重量平均分子量(Mw)、数平均分子量(Mn)、PDIを測定したところ、以下の通りであった。
GPC:Mw=8.0x10、Mn=4.2x10、PDI=2.0
[評価例1:高分子の発光特性評価(溶液状態)]
前記高分子1〜3のUV吸収スペクトル及びPLスペクトルを評価することによって、各高分子の発光特性を評価した。まず、高分子1をトルエンに0.2mMの濃度で希釈し、SHIMAZU UV−350スペクトロメータ(株式会社島津製作所製)を利用し、UV吸収スペクトルを測定した。高分子2及び3に関しても同様にUV吸収スペクトルを測定し、その結果を図2に示した。
一方、高分子1をトルエンに10mM濃度で希釈させ、キセノンランプが装着されているISC PC1スペクトロフルオロメータを利用し、PLスペクトルを測定した。高分子2及び3に関しても同様にPLスペクトルを測定し、その結果を図3に示した。
図2及び図3から、溶液における高分子2及び3は、優秀な発光特性を示すことを確認した。
[実施例1]
酸化インジウムスズ(ITO)(150nm)をガラス基板上にコーティングさせた透明電極基板を清潔に洗浄した後、ITOを感光性樹脂とエッチング液とを利用し、所望の形態にパターニングし、再び清潔に洗浄した。前記ITO上部に、ポリエチレンジヒドロキシチオフェン(PEDOT)を含んだ正孔輸送層形成用の組成物(Bayer社製のBatron P 4083)をスピンコーティングした後、200℃で約0.5時間ベーキングし、正孔輸送層を形成した。前記正孔輸送層の上部に、クロロベンゼンに、前記高分子1及びIr(mppy)(10wt%)を含んだ発光層形成用の組成物をスピンコーティングし、120℃の温度で30分間ベーキング処理し、高分子1及びIr(mppy)を含んだ発光層を形成した。前記正孔輸送層形成用の組成物及び発光層形成用の組成物は、スピンコーティング前に、0.2mmフィルタで濾過した。前記正孔輸送層及び発光層の厚みは、各組成物の濃度とスピンコーティング速度とを調節することによって、それぞれ15nm及び50nmにした。前記発光層の上部に、真空度を4×10−6torr以下に維持しつつ、1,3,5−トリス(N−フェニルベンズイミダゾール−2−イル)ベンゼン(TPBI)を真空蒸着し、40nmの電子輸送層を形成した後、前記電子輸送層の上部に、LiF及びAlを順次に蒸着し、電子注入層(1nm)と第2電極(100nm)とを順次形成し、有機発光素子を製作した。蒸着時の膜厚及び膜の成長速度は、クリスタルセンサを利用して調節した。
[実施例2]
発光層形成時、高分子1の代わりに、高分子2を使用したという点を除いては、前記実施例1と同じ方法で有機発光素子を製作した。
[実施例3]
発光層形成時、高分子1の代わりに、高分子3を使用したという点を除いては、前記実施例1と同じ方法で有機発光素子を製作した。
[比較例1]
発光層形成時、高分子1の代わりに、ポリ(n−ビニルカルバゾール)(PVK)(PVKの数平均分子量(Mn)は、25,000〜50,000の範囲であり、多分散指数(PDI)は、2である)と4,4’−N,N’−ジカルバゾール−ビフェニル(CBP)との混合物(PVKとCBPとの重量比は、70:30である)を使用したという点を除いては、前記実施例1と同じ方法で有機発光素子を製作した。
前記実施例1〜3及び比較例1から製作された有機発光素子の構造を整理すると、下記表1の通りである。
[評価例2:有機発光素子特性の評価]
前記実施例2及び3、並びに比較例1の有機発光素子に対し、PR650Spectroscan(登録商標) Source Measurement Unit.(PhotoReaserch社製)を用いて電流密度及び輝度を評価し、その結果を図4及び図5に示した。
図4及び図5によれば、高分子2及び3を採用したそれぞれ実施例2及び3の有機発光素子は、比較例1の有機発光素子に比べて、電流密度及び輝度がきわめて高く、優秀な電流密度及び輝度特性を有するということが確認された。
以上、添付図面を参照しながら本発明の好適な実施形態について詳細に説明したが、本発明はかかる例に限定されない。本発明の属する技術の分野における通常の知識を有する者であれば、特許請求の範囲に記載された技術的思想の範囲内において、各種の変更例または修正例に想到し得ることは明らかであり、これらについても、当然に本発明の技術的範囲に属するものと解される。
10 有機発光素子
11 基板
12 第1電極
13 正孔輸送層
15 第1層
16 電子輸送層
18 電子注入層
19 第2電極

Claims (20)

  1. 下記化学式1で表される反復単位を含む高分子:
    前記化学式1のうち、
    及びR、R及びR、R及びR、並びにR及びRのうち、一つ以上の組の置換基が互いに連結されて単結合または−[CQ−で表される連結基を形成するか、あるいはR〜Rは互いに独立して、水素原子、重水素原子、ハロゲン原子、ヒドロキシル基、シアノ基、ニトロ基、カルボン酸基、置換または非置換のC〜C60アルキル基、置換または非置換のC〜C60アルケニル基、置換または非置換のC〜C60アルキニル基、置換または非置換のC〜C60アルコキシ基、置換または非置換のC〜C60シクロアルキル基、置換または非置換のC〜C60シクロアルケニル基、置換または非置換のC〜C60アリール基、置換または非置換のC〜C60アリールオキシ基、置換または非置換のC〜C60アリールチオ基、置換または非置換のC〜C60ヘテロアリール基、−NQで表される基、及び−SiQで表される基からなる群から選択され、
    前記pは、1または2の整数であり、
    Ar〜Arは互いに独立して、置換または非置換のC〜C30アリーレン基、及び置換または非置換のC〜C30ヘテロアリーレン基のうち一つであり、
    a、b、及びcは互いに独立して、1〜10の整数であり、
    11〜R39は互いに独立して、水素原子、重水素原子、ハロゲン原子、ヒドロキシル基、シアノ基、ニトロ基、カルボン酸基、置換または非置換のC〜C60アルキル基、置換または非置換のC〜C60アルケニル基、置換または非置換のC〜C60アルキニル基、置換または非置換のC〜C60アルコキシ基、置換または非置換のC〜C60シクロアルキル基、置換または非置換のC〜C60シクロアルケニル基、置換または非置換のC〜C60アリール基、置換または非置換のC〜C60アリールオキシ基、置換または非置換のC〜C60アリールチオ基、置換または非置換のC〜C60ヘテロアリール基、−NQで表される基、及び−SiQ101112で表される基からなる群から選択され、
    前記Q〜Q12は互いに独立して、水素原子、重水素原子、ハロゲン原子、ヒドロキシル基、シアノ基、ニトロ基、カルボン酸基、置換または非置換のC〜C60アルキル基、置換または非置換のC〜C60アルケニル基、置換または非置換のC〜C60アルキニル基、置換または非置換のC〜C60アルコキシ基、置換または非置換のC〜C60シクロアルキル基、置換または非置換のC〜C60シクロアルケニル基、置換または非置換のC〜C60アリール基、置換または非置換のC〜C60アリールオキシ基、置換または非置換のC〜C60アリールチオ基、及び置換または非置換のC〜C60ヘテロアリール基からなる群から選択され、
    mは、0〜5の整数である。
  2. 及びR、R及びR、R及びR、並びにR及びRのうち、一つ以上の組の置換基が互いに連結されて単結合または−[CQ−で表される連結基を形成し、
    前記Q及びQは互いに独立して、水素原子、重水素原子、ハロゲン原子、ヒドロキシル基、シアノ基、ニトロ基、カルボン酸基、置換または非置換のC〜C10アルキル基、置換または非置換のC〜C10アルケニル基、置換または非置換のC〜C10アルコキシ基、置換または非置換のC〜C14アリール基、及び置換または非置換のC〜C14ヘテロアリール基からなる群から選択された、請求項1に記載の高分子。
  3. 前記Ar〜Arが互いに独立して、置換または非置換のフェニレン基、置換または非置換のペンタレニレン基、置換または非置換のインデニレン基、置換または非置換のナフチレン基、置換または非置換のアズレニレン基、置換または非置換のヘプタレニレン基、置換または非置換のインダセニレン基、置換または非置換のアセナフチレン基、置換または非置換のフルオレニレン基、置換または非置換のフェナレニレン基、置換または非置換のフェナントリレン基、置換または非置換のアントリレン基、置換または非置換のフルオランテニレン基、置換または非置換のトリフェニレニレン基、置換または非置換のピレニレン基、置換または非置換のクリセニレン基、置換または非置換のナフタセニレン基、置換または非置換のピセニレン基、置換または非置換のペリレニレン基、置換または非置換のペンタフェニレン基、置換または非置換のヘキサセニレン基、置換または非置換のピロリレン基、置換または非置換のピラゾリレン基、置換または非置換のイミダゾリレン基、置換または非置換のイミダゾリニレン基、置換または非置換のイミダゾピリジニレン基、置換または非置換のイミダゾピリミジニレン基、置換または非置換のピリジニレン基、置換または非置換のピラジニレン基、置換または非置換のピリミジニレン基、置換または非置換のインドリレン基、置換または非置換のプリニレン基、置換または非置換のキノリニレン基、置換または非置換のフタラジニレン基、置換または非置換のインドリジニレン基、置換または非置換のナフチリジニレン基、置換または非置換のキナゾリニレン基、置換または非置換のシンノリニレン基、置換または非置換のインダゾリレン基、置換または非置換のカルバゾリレン基、置換または非置換のフェナジニレン基、置換または非置換のフェナントリジニレン基、置換または非置換のピラニレン基、置換または非置換のクロメニレン基、置換または非置換のベンゾフラニレン基、置換または非置換のチオフェニレン基、置換または非置換のベンゾチオフェニレン基、置換または非置換のイソチアゾリレン基、置換または非置換のベンゾイミダゾリレン基、及び置換または非置換のイソキサゾリレン基からなる群から選択された、請求項1または2に記載の高分子。
  4. 前記Ar〜Arが互いに独立して、フェニレン基、(C〜C10アルキル)フェニレン基、ジ(C〜C10アルキル)フェニレン基、(C〜C14アリール)フェニレン基、ジ(C〜C14アリール)フェニレン基、フルオレニレン基、(C〜C10アルキル)フルオレニレン基、ジ(C〜C10アルキル)フルオレニレン基、(C〜C14アリール)フルオレニレン基、ジ(C〜C14アリール)フルオレニレン基、フェナントリレン基、(C〜C10アルキル)フェナントリレン基、ジ(C〜C10アルキル)フェナントリレン基、(C〜C14アリール)フェナントリレン基、ジ(C〜C14アリール)フェナントリレン基、ピリジニレン基、(C〜C10アルキル)ピリジニレン基、ジ(C〜C10アルキル)ピリジニレン基、(C〜C14アリール)ピリジニレン基及びジ(C〜C14アリール)ピリジニレン基からなる群から選択された、請求項1〜3のいずれかに記載の高分子。
  5. 前記a、b、及びcが互いに独立して、1、2、3または4である、請求項1〜4のいずれかに記載の高分子。
  6. 前記R11〜R39が互いに独立して、水素原子、重水素原子、ハロゲン原子、ヒドロキシル基、シアノ基、ニトロ基、カルボン酸基、置換または非置換のC〜C10アルキル基、置換または非置換のC〜C10アルケニル基、置換または非置換のC〜C10アルコキシ基、置換または非置換のC〜C14アリール基、及び置換または非置換のC〜C14ヘテロアリール基からなる群から選択された、請求項1〜5のいずれかに記載の高分子。
  7. 11〜R19、R21〜R23及びR25〜R38がいずれも水素原子であり、R20、R24及びR39は互いに独立して、重水素原子、ハロゲン原子、ヒドロキシル基、シアノ基、ニトロ基、カルボン酸基、置換または非置換のC〜C10アルキル基、置換または非置換のC〜C10アルケニル基、置換または非置換のC〜C10アルコキシ基、置換または非置換のC〜C14アリール基、及び置換または非置換のC〜C14ヘテロアリール基からなる群から選択された、請求項1〜6のいずれかに記載の高分子。
  8. 前記mが、0、1、または2である、請求項1〜7のいずれかに記載の高分子。
  9. 前記反復単位が、下記化学式1A、1Bまたは1Cで表される、請求項1〜8のいずれかに記載の高分子:
    前記化学式1A、1B及び1Cのうち、
    11〜R39及びQ及びQは互いに独立して、水素原子、重水素原子、ハロゲン原子、ヒドロキシル基、シアノ基、ニトロ基、カルボン酸基、置換または非置換のC〜C10アルキル基、置換または非置換のC〜C10アルケニル基、置換または非置換のC〜C10アルコキシ基、置換または非置換のC〜C14アリール基、及び置換または非置換のC〜C14ヘテロアリール基からなる群から選択され、
    Ar〜Arは互いに独立して、置換または非置換のフェニレン基、置換または非置換のフルオレニレン基、置換または非置換のフェナントリレン基、及び置換または非置換のピリジニレン基からなる群から選択され、
    前記a、b、及びcは互いに独立して、1〜10の整数であり、
    mは、0、1または2である。
  10. 前記R11〜R19、R21〜R23及びR25〜R38がいずれも水素原子であり、R20、R24及びR39は互いに独立して、重水素原子、ハロゲン原子、ヒドロキシル基、シアノ基、ニトロ基、カルボン酸基、置換または非置換のC〜C10アルキル基、置換または非置換のC〜C10アルケニル基、置換または非置換のC〜C10アルコキシ基、置換または非置換のC〜C14アリール基、及び置換または非置換のC〜C14ヘテロアリール基からなる群から選択された、請求項9に記載の高分子。
  11. 前記Ar〜Arは互いに独立して、フェニレン基、フルオレニレン基、フェナントリレン基、ピリジニレン基及びフェニル−ピリジニレン基からなる群から選択され、
    前記a、b及びcは互いに独立して、1、2、3または4である、請求項9または10に記載の高分子。
  12. 前記反復単位が下記化学式1A−1で表される、請求項1〜11のいずれかに記載の高分子:
    前記化学式1A−1のうち、
    20、R24及びR39は互いに独立して、重水素原子、ハロゲン原子、ヒドロキシル基、シアノ基、ニトロ基、カルボン酸基、C〜C10アルキル基、C〜C10アルコキシ基、及び置換または非置換のC〜C14アリール基からなる群から選択され、
    Ar〜Arは互いに独立して、置換または非置換のフェニレン基、置換または非置換のフルオレニレン基、置換または非置換のフェナントリレン基、及び置換または非置換のピリジニレン基からなる群から選択され、
    前記a、b、及びcは互いに独立して、1、2、3または4であり、
    前記mは、0、1または2である。
  13. 前記R〜Rがいずれも同じである、請求項1〜12のいずれかに記載の高分子。
  14. 前記R〜Rが互いに独立して、水素原子、重水素原子、ハロゲン原子、ヒドロキシル基、シアノ基、ニトロ基、カルボン酸基、C〜C10アルキル基及びC〜C10アルコキシ基からなる群から選択された、請求項1〜13のいずれかに記載の高分子。
  15. 重量平均分子量が、2,000〜1,000,000範囲である、請求項1〜14のいずれかに記載の高分子。
  16. 前記高分子は、両極性の特性を有し、燐光ホストとして使われる、請求項1〜15のいずれかに記載の高分子。
  17. 基板;第1電極;第2電極;前記第1電極と前記第2電極との間に介在して請求項1〜16のいずれかに記載の高分子を含む第1層を備える、有機発光素子。
  18. 前記第1層が発光層であり、前記第1層が燐光ドーパントをさらに含む、請求項17に記載の有機発光素子。
  19. 前記燐光ドーパントが、Ir、Pt、Os、Re、Ti、Zr、Hf、及びこれらのうち2以上の組み合わせからなる群から選択された有機金属錯体である、請求項18に記載の有機発光素子。
  20. 前記第1層に含まれる前記燐光ドーパントの含有量が、1重量%〜10重量%である、請求項18または19に記載の有機発光素子。
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