JP2012154351A - 電磁弁および燃料噴射弁 - Google Patents
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Abstract
【課題】より小型で弁開閉の応答性の高い電磁弁および燃料噴射弁を提供する。
【解決手段】電磁弁10は、電磁コイル101と、電磁コイル101を保持し、内周側に中空部102aが設けられた磁性体からなる固定子102と、中空部102aに設置され、両端部を互いに離れる方向に向けて付勢するスプリング105と、スプリング105の両端部の一方と結合し、反対の側にニードル14が設けられた磁性体からなる第1可動子103と、スプリング105の両端部の他方と結合した磁性体からなる第2可動子104と、電磁コイル101に通電すると、固定子102と第1可動子103とを経由する第1の磁気回路を形成した後に、固定子102と第1可動子103と第2可動子104とを経由する第2の磁気回路を形成する磁気回路形成手段と、を備える。
【選択図】図2
【解決手段】電磁弁10は、電磁コイル101と、電磁コイル101を保持し、内周側に中空部102aが設けられた磁性体からなる固定子102と、中空部102aに設置され、両端部を互いに離れる方向に向けて付勢するスプリング105と、スプリング105の両端部の一方と結合し、反対の側にニードル14が設けられた磁性体からなる第1可動子103と、スプリング105の両端部の他方と結合した磁性体からなる第2可動子104と、電磁コイル101に通電すると、固定子102と第1可動子103とを経由する第1の磁気回路を形成した後に、固定子102と第1可動子103と第2可動子104とを経由する第2の磁気回路を形成する磁気回路形成手段と、を備える。
【選択図】図2
Description
本発明は、電磁弁および燃料噴射弁に関する。
従来、ソレノイドの磁気的吸引力によりニードル弁を駆動して燃料を内燃機関に噴射供給する燃料噴射弁が用いられている。これら燃料噴射弁は、内燃機関の燃費向上や排ガスエミッションの改善を図るために燃料噴射タイミングや燃料噴射時間の高精度化が求められている。そのため、燃料噴射弁の応答性、すなわちニードル弁の開弁および閉弁の応答性の向上が求められている。
燃料噴射弁の応答性を向上させる技術としては、第1アーマチャを閉弁側に付勢する第1スプリングと、第1アーマチャと第2アーマチャとを接続し、第2アーマチャを閉弁側に付勢する第2スプリングと、通電することにより第1アーマチャを開弁側に吸引する第1ソレノイドと、通電することにより第2アーマチャを開弁側に吸引する第2ソレノイドとを備えた燃料噴射弁が特許文献1に開示されている。
また、その他本発明と関連性があると考えられる技術が特許文献2および3に開示されている。
燃料噴射弁の応答性を向上させる手法としては、電磁コイル、スプリング等をより大きくすることが考えられるが、このような手法では燃料噴射弁が大型化するために内燃機関への搭載性が悪化してしまう。また、電磁コイルへ大電流を流すことで燃料噴射弁の開弁応答性を向上させることも考えられるが、電磁コイルに印加する電圧をより大きくする必要があるために、部品点数の増加・高コスト化が生じてしまう。
本発明は、かかる点に鑑みてなされたものであり、より小型で弁開閉の応答性の高い電磁弁および燃料噴射弁を提供することを目的とする。
上記目的を達成するために、本発明の電磁弁は、電磁コイルと、前記電磁コイルを保持し、前記電磁コイルの内周側に中空部が設けられた磁性体からなる固定子と、前記中空部に設置され、両端部を互いに離れる方向に向けて付勢する付勢部材と、前記付勢部材の両端部の一方と結合し、前記付勢部材と反対の側に弁体が設けられた磁性体からなる第1可動子と、前記付勢部材の両端部の他方と結合した磁性体からなる第2可動子と、前記電磁コイルに通電すると、前記固定子と前記第1可動子とを経由する第1の磁気回路を形成した後に、前記固定子と前記第1可動子と前記第2可動子とを経由する第2の磁気回路を形成する磁気回路形成手段と、を備えることを特徴とする。
上記の構成によれば、電磁コイルに通電すると、固定子と第1可動子とを経由する第1の磁気回路がより早く形成されるために、弁体が設けられた第1可動子が第2可動子よりも早く固定子側に移動する。すなわち、第1可動子が移動するときは第1可動子と第2可動子との間の距離がより大きい状態にあり、両可動子に結合した付勢部材の付勢力がより小さい状態にある。そのため、磁気的吸引力による固定子側への第1可動子の移動速度が向上する。よって、電磁コイル等の大型化を図ることなく弁体の開弁応答性を向上させることができる。
特に、本発明の電磁弁は、前記磁気回路形成手段が、前記電磁コイルへの通電を停止すると、前記固定子と前記第2可動子とを経由する第3の磁気回路を形成した後に、前記第3の磁気回路を消失させる構成とすることができる。
上記の構成によれば、電磁コイルへの通電を停止すると、固定子と第2可動子とを経由する第3の磁気回路が形成されるために、弁体が設けられた第1可動子が第2可動子よりも早く固定子と反対側に移動する。すなわち、第1可動子が移動するときは第1可動子と第2可動子との距離がより小さい状態にあるために、両可動子に結合した付勢部材の付勢力がより大きい状態にある。そのため、付勢力による固定子と反対側への第1可動子の移動速度が向上する。よって、付勢部材等の大型化を図ることなく弁体の閉弁応答性を向上させることができる。
また、本発明の電磁弁は、前記磁気回路形成手段が、前記第2可動子の透磁率よりも前記固定子の透磁率のほうが大きく、前記固定子の飽和磁束密度よりも前記第2可動子の飽和磁束密度のほうが大きく、前記固定子の比抵抗よりも前記第1可動子の比抵抗のほうが大きいことで、前記電磁コイルへの通電状態に応じて前記第1から第3の磁気回路を形成する構成とすることができる。
上記の構成によれば、第2可動子の透磁率よりも固定子の透磁率のほうが大きいために、電磁コイルに流れる電流値がより小さい通電の開始直後に固定子と第1可動子とを経由する第1の磁気回路が形成される。そのため、電磁コイルへの通電時に弁体が設けられた第1可動子を第2可動子よりも早く固定子側に移動させることができる。
また、固定子の飽和磁束密度よりも第2可動子の飽和磁束密度のほうが大きいために、電磁コイルに流れる電流値がより大きくなると固定子と第1可動子と第2可動子とを経由する第2の磁気回路が形成される。そのため、電磁コイルへの通電時に第1可動子に続いて第2可動子を固定子側に移動させることができる。
更に、固定子の比抵抗よりも第1可動子の比抵抗のほうが大きいために、電磁コイルへの通電を停止すると固定子と第2可動子とを経由する第3の磁気回路が形成された後に第3の磁気回路が消失する。そのため、電磁コイルへの通電の停止時に弁体が設けられた第1可動子を第2可動子よりも早く固定子と反対側に移動させることができる。
また、固定子の飽和磁束密度よりも第2可動子の飽和磁束密度のほうが大きいために、電磁コイルに流れる電流値がより大きくなると固定子と第1可動子と第2可動子とを経由する第2の磁気回路が形成される。そのため、電磁コイルへの通電時に第1可動子に続いて第2可動子を固定子側に移動させることができる。
更に、固定子の比抵抗よりも第1可動子の比抵抗のほうが大きいために、電磁コイルへの通電を停止すると固定子と第2可動子とを経由する第3の磁気回路が形成された後に第3の磁気回路が消失する。そのため、電磁コイルへの通電の停止時に弁体が設けられた第1可動子を第2可動子よりも早く固定子と反対側に移動させることができる。
更に、本発明は、請求項1から3のいずれか1項記載の電磁弁を備えた燃料噴射弁である。
本発明によれば、弁体の開弁時、すなわち弁体が設けられた第1可動子を固定子側に移動させる際は、第1可動子と第2可動子との距離をより大きくして付勢部材による閉弁側への付勢力をより小さくすることができる。また、弁体の閉弁時、すなわち弁体が設けられた第1可動子を固定子と反対側に移動させる際は、第1可動子と第2可動子との距離をより小さくして付勢部材による閉弁側への付勢力をより大きくすることができる。よって、より小型で弁開閉の応答性の高い電磁弁および燃料噴射弁を提供することができる。
以下、本発明を実施するための形態を図面と共に詳細に説明する。
本発明の実施例について図面を参照しつつ説明する。図1は、本発明の電磁弁10を搭載したインジェクタ1の一構成例を示した図である。なお、図1にはインジェクタ1の一部の構成のみを示している。
インジェクタ1は、ノズルボディ11、ノズルボディ11の先端部に形成された燃料噴射孔12、燃料配管を通じて高圧の燃料が供給される燃料通路13、ノズルボディ11内に摺動自在に配置されるニードル14、ニードル14の先端部が着座する弁座15、およびニードル14の基端部に設けられた電磁弁10を備えた構成となっている。
インジェクタ1は、ノズルボディ11、ノズルボディ11の先端部に形成された燃料噴射孔12、燃料配管を通じて高圧の燃料が供給される燃料通路13、ノズルボディ11内に摺動自在に配置されるニードル14、ニードル14の先端部が着座する弁座15、およびニードル14の基端部に設けられた電磁弁10を備えた構成となっている。
ノズルボディ11は、インジェクタ1の先端部に設けられている。燃料供給源より燃料配管を通じて燃料通路13に供給された高圧燃料は、ノズルボディ11内部に貯留されて、ニードル14の開弁方向への移動に従い、燃料噴射孔12より外部へ噴射される。
ニードル14は、ノズルボディ11内部にニードル軸方向に摺動自在(移動可能)に設けられている。ニードル14は、その先端部が鋭角な針形状の内開弁であり、その基端部が後述する電磁弁10の第1可動子103に連結している。ニードル14は、第1可動子103の動きに連動して燃料噴射孔12の開弁方向または閉弁方向に移動する。
なお、ニードル14は、本発明の弁体の一構成例である。
なお、ニードル14は、本発明の弁体の一構成例である。
ノズルボディ11の先端側には、ニードル14の先端部(着座部)と嵌合する弁座15が設けられている。この弁座15にニードル14の着座部が着座することで燃料通路13と燃料噴射孔12との連通が遮断され、それにより燃料噴射孔12からの燃料の噴射が停止する。また、弁座15からニードル14の着座部が離座することで燃料通路13と燃料噴射孔12とが連通し、それにより燃料噴射孔12から燃料が噴射される。
燃料噴射孔12は、ノズルボディ11先端部の円周方向に略均等の間隔で設けられた複数の連通孔であり、ノズルボディ11外部と燃料通路13とを連通させている。燃料噴射孔12は、燃料供給源から供給される燃料の圧力によってノズルボディ11内の燃料を外部へと噴射可能に構成されている。
以下に、電磁弁10の構成について詳細に説明する。図2は、実施例の電磁弁10の概略構成を示した図である。
電磁弁10は、円筒状に形成された電磁コイル101、電磁コイル101を固定する固定子102、ニードル14の基端部と連結した第1可動子103、第2可動子104、両端がそれぞれ第1可動子103および第2可動子104と結合したスプリング105、第2可動子104の移動を規制するストッパ106、第2可動子104を収納する収納室107を備えた構成となっている。
電磁弁10は、円筒状に形成された電磁コイル101、電磁コイル101を固定する固定子102、ニードル14の基端部と連結した第1可動子103、第2可動子104、両端がそれぞれ第1可動子103および第2可動子104と結合したスプリング105、第2可動子104の移動を規制するストッパ106、第2可動子104を収納する収納室107を備えた構成となっている。
電磁コイル101は、図示しない制御装置(ECU)に接続され、通電のタイミングが管理されている。電磁コイル101の外周には固定子102が設けられている。固定子102は磁性体であって、電磁コイル101に通電すると励磁されて磁気的吸引力が発生し、それによって第1可動子103および第2可動子104を吸引する。また、固定子102は、電磁コイル101への通電を停止すると磁束が抜けて磁気的吸引力が消失し、スプリング105の付勢力によって第1可動子103および第2可動子104が離脱する。
固定子102には、後述する第2可動子104よりも透磁率が大きい磁性材料が適用される。ここで、透磁率とは、磁場(磁界)強さ(H)と磁束密度(B)との関数(B=μH)における比例定数(μ)であって、透磁率が大きい磁性材料ほどより弱い磁場でより高い磁束密度が得られる(すなわち、励磁の応答性が高い)。また、固定子102には、後述する第2可動子104よりも飽和磁束密度が小さい磁性材料が適用される。ここで、飽和磁束密度とは、磁場を加えていったときの磁束密度(すなわち、磁化する大きさ)の限界値であって、飽和磁束密度が大きい磁性材料ほどより大きな磁束が発生する。更に、固定子102には、後述する第1可動子103よりも比抵抗が小さい磁性材料が適用される。ここで、比抵抗とは、単位体積あたりの抵抗の大きさであって、比抵抗が大きい磁性材料ほど通電停止後の磁束の抜けが早い(すなわち、より早く磁気的吸引力が消失する)。
なお、固定子102は、本発明の磁気回路形成手段の一構成例である。
なお、固定子102は、本発明の磁気回路形成手段の一構成例である。
固定子102は、その内周側に後述するスプリング105が設置される中空部102aを有している。固定子102は、ニードル14と反対側の端部にストッパ106が連結しており、それによってニードル14と反対側の端部が封鎖されている。ストッパ106は非磁性体であって、固定子102と共に第2可動子104を収納する収納室107を形成している。収納室107は、ニードル14の軸方向の大きさが後述する第2可動子104の軸方向の大きさよりも大きく構成されており、それによって、第2可動子104が収納室107内部をニードル14の軸方向に移動可能になっている。固定子102内部の電磁コイル101と後述する第1可動子103との間の部分は、非磁性体からなる非磁性部102bが設けられている。
第1可動子103は、一端面がニードル14の基端部と連結し、他端面がスプリング105と結合している。第1可動子103は、その外径が燃料通路13の内径と嵌合しており、それによってニードル14が軸と直交する水平軸方向へ偏芯することを抑制している。第1可動子103は磁性体であって、電磁コイル101に通電すると励磁されて磁気的吸引力が発生し、それによって固定子102側に吸引される(固定子102側に移動する)。また、第1可動子103は、電磁コイル101への通電を停止すると磁束が抜けて磁気的吸引力が消失し、スプリング105の付勢力によって固定子102側から離脱する(固定子102と反対の側に移動する)。
前述のように、第1可動子103には、固定子102よりも比抵抗が大きい磁性材料が適用される。なお、第1可動子103は、本発明の磁気回路形成手段の一構成例である。
前述のように、第1可動子103には、固定子102よりも比抵抗が大きい磁性材料が適用される。なお、第1可動子103は、本発明の磁気回路形成手段の一構成例である。
第2可動子104は、第1可動子103側の端面がスプリング105と結合している。第2可動子104は、収納室107内部にニードル14の軸方向に摺動自在(移動可能)に収納されている。第2可動子104は磁性体であって、電磁コイル101に通電すると励磁されて磁気的吸引力が発生し、それによって固定子102側に吸引される(固定子102側に移動する)。また、第2可動子104は、電磁コイル101への通電を停止すると磁束が抜けて磁気的吸引力が消失し、スプリング105の付勢力によって固定子102側から離脱する(固定子102と反対の側に移動する)。
前述のように、第2可動子104には、固定子102よりも透磁率が小さい磁性材料が適用される。また、第2可動子104には、固定子102よりも飽和磁束密度が大きい磁性材料が適用される。なお、第2可動子104は、本発明の磁気回路形成手段の一構成例である。
前述のように、第2可動子104には、固定子102よりも透磁率が小さい磁性材料が適用される。また、第2可動子104には、固定子102よりも飽和磁束密度が大きい磁性材料が適用される。なお、第2可動子104は、本発明の磁気回路形成手段の一構成例である。
スプリング105は、中空部102aに設置されており、その両端部がそれぞれ第1可動子103および第2可動子104と結合している。スプリング105は、金属製のつる巻きバネであって、ノズルボディ11内で第1可動子103と第2可動子104が最も離れた状態においても自然状態よりも圧縮されている。すなわち、スプリング105は、その一端部に結合した第1可動子103を弁座15側(閉弁方向)に向けて常に付勢し、他端部に結合した第2可動子104をストッパ106側に向けて常に付勢している。スプリング105は、第1可動子103と第2可動子104と間の距離が大きいほど付勢力が小さくなり、第1可動子103と第2可動子104と間の距離が小さいほど付勢力が大きくなる。この場合、スプリング105は、金属製のつる巻きバネに限られずに、両端部を互いに離れる方向に向けて付勢し得る任意の構成を採用することができる。
なお、スプリング105は、本発明の付勢部材の一構成例である。
なお、スプリング105は、本発明の付勢部材の一構成例である。
以上のように構成される電磁弁10の動作について、図3を参照しつつ説明する。図3は、電磁弁10の動作の説明図である。
図3(a)は電磁コイル101への通電開始後に第1の磁気回路が形成された状態を示している。電磁コイル101に電流を流す(通電する)と、磁性体である固定子102、第1可動子103および第2可動子104にそれぞれ磁束が発生する。電磁コイル101へ通電を開始した直後は電磁コイル101に流れる電流値がより小さいために、電磁コイル101から発生する磁場(磁界)もより弱い状態にある。ここで、固定子102の透磁率は第2可動子104の透磁率よりも大きいために、固定子102の方がより弱い磁場でより高い磁束密度が得られる(図4参照)。そのため、電磁コイル101への通電開始の直後には、固定子102と第1可動子103とを経由する磁束の流れ(第1の磁気回路)が形成される。第1の磁気回路が形成されると、磁気的吸引力により第1可動子103がスプリング105の付勢力に抗して固定子102側に吸引される。これにより、第1可動子103に連結されたニードル14が弁座15から離座(開弁)し、燃料の噴射が開始する。この時点において、第2可動子104はスプリング105の付勢力によって収納室107内部のストッパ106と当接する位置にある。すなわち、第1可動子103が固定子102側に移動を開始するときは第1可動子103と第2可動子104との間の距離がより大きい状態にあるために、スプリング105の付勢力がより小さい状態にある。そのため、磁気的吸引力による固定子102側への第1可動子103の移動速度が向上することから、ニードル14の開弁速度が向上する。
図3(a)は電磁コイル101への通電開始後に第1の磁気回路が形成された状態を示している。電磁コイル101に電流を流す(通電する)と、磁性体である固定子102、第1可動子103および第2可動子104にそれぞれ磁束が発生する。電磁コイル101へ通電を開始した直後は電磁コイル101に流れる電流値がより小さいために、電磁コイル101から発生する磁場(磁界)もより弱い状態にある。ここで、固定子102の透磁率は第2可動子104の透磁率よりも大きいために、固定子102の方がより弱い磁場でより高い磁束密度が得られる(図4参照)。そのため、電磁コイル101への通電開始の直後には、固定子102と第1可動子103とを経由する磁束の流れ(第1の磁気回路)が形成される。第1の磁気回路が形成されると、磁気的吸引力により第1可動子103がスプリング105の付勢力に抗して固定子102側に吸引される。これにより、第1可動子103に連結されたニードル14が弁座15から離座(開弁)し、燃料の噴射が開始する。この時点において、第2可動子104はスプリング105の付勢力によって収納室107内部のストッパ106と当接する位置にある。すなわち、第1可動子103が固定子102側に移動を開始するときは第1可動子103と第2可動子104との間の距離がより大きい状態にあるために、スプリング105の付勢力がより小さい状態にある。そのため、磁気的吸引力による固定子102側への第1可動子103の移動速度が向上することから、ニードル14の開弁速度が向上する。
図3(b)は電磁コイル101への通電開始から所定時間経過後に第2の磁気回路が形成された状態を示している。通電開始から所定時間が経過すると、電磁コイル101に流れる電流値がより大きくなるために、電磁コイル101から発生する磁場もより強くなる。ここで、第2可動子104の飽和磁束密度は固定子102の飽和磁束密度よりも大きいために、第2可動子104の方がより大きな磁束が発生する(図4参照)。そのため、電磁コイル101への通電開始から所定時間経過後に、固定子102と第1可動子103と第2可動子104とを経由する磁束の流れ(第2の磁気回路)が形成される。
図3(c)は第1可動子103および第2可動子104が固定子102側に吸引された状態を示している。第2の磁気回路が形成されると、磁気的吸引力により第2可動子104がスプリング105の付勢力に抗して固定子102側に吸引される。この時点において、第2可動子104はスプリング105の付勢力によって収納室107内部の電磁コイル101側と当接する位置にある。すなわち、第1可動子103と第2可動子104との間の距離がより小さい状態にあることから、スプリング105の付勢力がより大きい状態にある。
図3(d)は電磁コイル101への通電を停止した後に第3の磁気回路が形成された状態を示している。電磁コイル101への通電を停止すると、電磁コイル101に流れる電流値がゼロに向かって小さくなってゆくために、電磁コイル101から発生する磁場もゼロに向かって弱まってゆく。ここで、第1可動子103の比抵抗は固定子102の比抵抗よりも大きいために、第1可動子103の方がより早く磁束が抜けてゆく。そのため、電磁コイル101への通電を停止すると、最も早く第1可動子103を経由する磁束の流れが消失し、固定子102と第2可動子104とを経由する磁束の流れ(第3の磁気回路)が形成される。第3の磁気回路が形成されると、スプリング105の付勢力により第1可動子103が磁気的吸引力に抗して固定子102側から離脱し、弁座15側に移動する。これにより、第1可動子103に連結されたニードル14が弁座15に着座(閉弁)し、燃料の噴射が停止する。この時点において、第2可動子104は第3の磁気回路の磁気的吸引力によって収納室107内部の電磁コイル101側と当接する位置にある。すなわち、第1可動子103が弁座15側に移動を開始するときは第1可動子103と第2可動子104との間の距離がより小さい状態にあるために、スプリング105の付勢力がより大きい状態にある。そのため、スプリング105の付勢力による弁座15側への第1可動子103の移動速度が向上することから、ニードル14の閉弁速度が向上する。
第3の磁気回路は、その後に電磁コイル101に流れる電流値がより小さくなる(磁場がより弱くなる)と消失する。第3の磁気回路が消失すると、スプリング105の付勢力により第2可動子104が固定子102側から離脱し、ストッパ106側に移動する。すなわち、図3(a)の状態に戻ることから、スプリング105の付勢力がより小さい状態に戻る。そのため、次回の通電時にもニードル14の開弁応答性を向上させることができる。
以上のように、本実施例のインジェクタは、電磁コイルと、電磁コイルを保持し、電磁コイルの内周側に中空部が設けられた磁性体からなる固定子と、中空部に設置され、両端部を互いに離れる方向に向けて付勢するスプリングと、スプリングの両端部の一方と結合し、スプリングと反対の側にニードルが設けられた磁性体からなる第1可動子と、スプリングの両端部の他方と結合した磁性体からなる第2可動子と、電磁コイルに通電すると、固定子と第1可動子とを経由する第1の磁気回路を形成した後に、固定子と第1可動子と第2可動子とを経由する第2の磁気回路を形成する磁気回路形成手段と、を備えた電磁弁を有する。これによって、ニードルの開弁時、すなわちニードルが設けられた第1可動子を固定子側に移動させる際は、第1可動子と第2可動子との距離をより大きくしてスプリングによる閉弁側への付勢力をより小さくすることができる。よって、電磁コイル等の大型化を図ることなくニードルの開弁応答性を向上させることができる。
また、本実施例のインジェクタは、磁気回路形成手段が、電磁弁の電磁コイルへの通電を停止すると、固定子と第2可動子とを経由する第3の磁気回路を形成した後に、第3の磁気回路を消失させる。これによって、ニードルの閉弁時、すなわちニードルが設けられた第1可動子を固定子と反対側に移動させる際は、第1可動子と第2可動子との距離をより小さくしてスプリングによる閉弁側への付勢力をより大きくすることができる。よって、スプリング等の大型化を図ることなくニードルの閉弁応答性を向上させることができる。
そして、本実施例のインジェクタは、磁気回路形成手段が、第2可動子の透磁率よりも固定子の透磁率のほうが大きく、固定子の飽和磁束密度よりも第2可動子の飽和磁束密度のほうが大きく、固定子の比抵抗よりも第1可動子の比抵抗のほうが大きいことで、電磁コイルへの通電状態に応じて第1から第3の磁気回路を形成する。このように、電磁弁の固定子、第1可動子および第2可動子の透磁率、飽和磁束密度、比抵抗をそれぞれ規定することによって、より小型で弁開閉の応答性の高い電磁弁および燃料噴射弁を提供することができる。
つづいて、本発明の実施例2について説明する。本実施例のインジェクタ2は、電磁弁10に代えて、第3可動子208を備えた電磁弁20を有している点でインジェクタ1と相違している。
電磁弁20の構造について詳細に説明する。図5は、実施例2の電磁弁20の概略構成を示した図である。なお、実施例1と同様の構成要素については、図面中、同一の参照番号を付し、その詳細な説明は省略する。
電磁弁20は、電磁コイル101の内周側に第3可動子208を備えている。第3可動子208は、固定子202内部にニードル14の軸方向に摺動自在(移動可能)に設けられており、その内周側にスプリング105が設置される中空部208aを有している。第3可動子208は、ニードル14の軸方向の大きさが固定子202の第1可動子103側の端部から収納室207までの距離よりも大きく構成されている。すなわち、第3可動子208の第1可動子103側の端部が固定子202の端部の位置とそろったときに、第3可動子208の他端部側が収納室207内にはみ出る構成となっている。
第3可動子208は磁性体であって、電磁コイル101に通電すると励磁されて磁気的吸引力が発生し、それによって第1可動子103および第2可動子104を吸引する。また、固定子102は、電磁コイル101への通電を停止すると磁束が抜けて磁気的吸引力が消失し、スプリング105の付勢力によって第1可動子103および第2可動子104が離脱する。
第3可動子208には、固定子202と同じか近い透磁率、飽和磁束密度および比抵抗を有する磁性材料が適用される。なお、第3可動子208は、本発明の磁気回路形成手段の一構成例である。
第3可動子208には、固定子202と同じか近い透磁率、飽和磁束密度および比抵抗を有する磁性材料が適用される。なお、第3可動子208は、本発明の磁気回路形成手段の一構成例である。
また、第3可動子208は、第1可動子103側の端部が固定子202の端部の位置とそろったときの電磁コイル101と収納室207との間の位置に、非磁性体からなる非磁性部208bが設けられている。
以上のように構成される電磁弁20の動作について、図6を参照しつつ説明する。図6は、電磁弁20の動作の説明図である。
図6(a)は電磁コイル101への通電開始後に第1の磁気回路が形成された状態を示している。電磁コイル101に電流を流す(通電する)と、磁性体である固定子202、第1可動子103、第2可動子104および第3可動子208にそれぞれ磁束が発生する。電磁コイル101へ通電を開始した直後は電磁コイル101に流れる電流値がより小さいために、電磁コイル101から発生する磁場(磁界)もより弱い状態にある。ここで、固定子102および第3可動子208の透磁率は第2可動子104の透磁率よりも大きいために、固定子102および第3可動子208の方がより弱い磁場でより高い磁束密度が得られる(図4参照)。そのため、電磁コイル101への通電開始直後には、固定子202と第1可動子103と第3可動子208を経由する磁束の流れ(第1の磁気回路)が形成される。第1の磁気回路が形成されると、磁気的吸引力により第1可動子103がスプリング105の付勢力に抗して固定子202側に吸引される。これにより、第1可動子103に連結されたニードル14が弁座15から離座(開弁)し、燃料の噴射が開始する。この時点において、第2可動子104はスプリング105の付勢力によって収納室207内部のストッパ106と当接する位置にある。すなわち、第1可動子103が固定子202側に移動を開始するときは第1可動子103と第2可動子104との間の距離がより大きい状態にあるために、スプリング105の付勢力がより小さい状態にある。そのため、磁気的吸引力による固定子202側への第1可動子103の移動速度が向上することから、ニードル14の開弁速度が向上する。
図6(a)は電磁コイル101への通電開始後に第1の磁気回路が形成された状態を示している。電磁コイル101に電流を流す(通電する)と、磁性体である固定子202、第1可動子103、第2可動子104および第3可動子208にそれぞれ磁束が発生する。電磁コイル101へ通電を開始した直後は電磁コイル101に流れる電流値がより小さいために、電磁コイル101から発生する磁場(磁界)もより弱い状態にある。ここで、固定子102および第3可動子208の透磁率は第2可動子104の透磁率よりも大きいために、固定子102および第3可動子208の方がより弱い磁場でより高い磁束密度が得られる(図4参照)。そのため、電磁コイル101への通電開始直後には、固定子202と第1可動子103と第3可動子208を経由する磁束の流れ(第1の磁気回路)が形成される。第1の磁気回路が形成されると、磁気的吸引力により第1可動子103がスプリング105の付勢力に抗して固定子202側に吸引される。これにより、第1可動子103に連結されたニードル14が弁座15から離座(開弁)し、燃料の噴射が開始する。この時点において、第2可動子104はスプリング105の付勢力によって収納室207内部のストッパ106と当接する位置にある。すなわち、第1可動子103が固定子202側に移動を開始するときは第1可動子103と第2可動子104との間の距離がより大きい状態にあるために、スプリング105の付勢力がより小さい状態にある。そのため、磁気的吸引力による固定子202側への第1可動子103の移動速度が向上することから、ニードル14の開弁速度が向上する。
ここで、第3可動子208は、磁気的吸引力による固定子202側への第1可動子103の移動に伴って第2可動子104側に移動する。すなわち、固定子202の端面と第3可動子208の端面が第1可動子103に当接する。
図6(b)は電磁コイル101への通電開始から所定時間経過後に第2の磁気回路が形成された状態を示している。通電開始から所定時間が経過すると、電磁コイル101に流れる電流値がより大きくなるために、電磁コイル101から発生する磁場もより強くなる。ここで、第2可動子104の飽和磁束密度は固定子202および第3可動子208の飽和磁束密度よりも大きいために、第2可動子104の方がより大きな磁束が発生する(図4参照)。そのため、電磁コイル101への通電開始から所定時間経過後に、固定子202と第1可動子103と第2可動子104と第3可動子208とを経由する磁束の流れ(第2の磁気回路)が形成される。
図6(c)は第1可動子103および第2可動子104が固定子202側に吸引された状態を示している。第2の磁気回路が形成されると、磁気的吸引力により第2可動子104がスプリング105の付勢力に抗して固定子202側に吸引される。この時点において、第2可動子104はスプリング105の付勢力によって収納室107内部の第3可動子208と当接する位置にある。すなわち、第1可動子103と第2可動子104との間の距離がより小さい状態にあることから、スプリング105の付勢力がより大きい状態にある。そのため、電磁コイル101への通電を停止したときにスプリング105の付勢力による弁座15側への第1可動子103の移動速度が向上することから、ニードル14の閉弁速度が向上する。
なお、電磁弁20の電磁コイル101への通電を停止した後の動作は実施例1の電磁弁10と同じであるために、その説明は省略する。
以上のように、本実施例のインジェクタは、固定子内部にニードルの軸方向に摺動自在に設けられた磁性体からなる第3可動子を備えた電磁弁を有し、磁気回路形成手段が、電磁コイルに通電すると、固定子と第1可動子と第3可動子とを経由する第1の磁気回路を形成した後に、固定子と第1可動子と第2可動子と第3可動子とを経由する第2の磁気回路を形成する。これによって、ニードルの開弁時、すなわちニードルが設けられた第1可動子を固定子側に移動させる際は、第1可動子と第2可動子との距離をより大きくしてスプリングによる閉弁側への付勢力をより小さくすることができる。よって、電磁コイル等の大型化を図ることなくニードルの開弁応答性を向上させることができる。
また、本実施例のインジェクタは、磁気回路形成手段が、電磁コイルへの通電を停止すると、固定子と第2可動子と第3可動子を経由する第3の磁気回路を形成した後に、第3の磁気回路を消失させる。これによって、ニードルの閉弁時、すなわちニードルが設けられた第1可動子を固定子と反対側に移動させる際は、第1可動子と第2可動子との距離をより小さくしてスプリングによる閉弁側への付勢力をより大きくすることができる。よって、スプリング等の大型化を図ることなくニードルの閉弁応答性を向上させることができる。
そして、本実施例のインジェクタは、磁気回路形成手段が、第2可動子の透磁率よりも固定子および第3可動子の透磁率のほうが大きく、固定子および第3可動子の飽和磁束密度よりも第2可動子の飽和磁束密度のほうが大きく、固定子および第3可動子の比抵抗よりも第1可動子の比抵抗のほうが大きいことで、磁気コイルへの通電状態に応じて第1から第3の磁気回路を形成する。このように、電磁弁の固定子、第1可動子、第2可動子および第3可動子の透磁率、飽和磁束密度、比抵抗をそれぞれ規定することによって、より小型で弁開閉の応答性の高い電磁弁および燃料噴射弁を提供することができる。
上記実施例は本発明を実施するための一例にすぎない。よって本発明はこれらに限定されるものではなく、特許請求の範囲に記載された本発明の要旨の範囲内において、種々の変形・変更が可能である。
例えば、本実施例の電磁弁をニードルの基端側に設けられた制御室への高圧燃料の流入制御に用いることでニードルを移動(弁開閉)させる構成のインジェクタであってもよい。
1,2 インジェクタ
10,20 電磁弁
12 燃料噴射孔
14 ニードル
15 弁座
101 電磁コイル
102,202 固定子(磁気回路形成手段)
102b,208b 非磁性部
103 第1可動子(磁気回路形成手段)
104 第2可動子(磁気回路形成手段)
105 スプリング(付勢部材)
106 ストッパ
107,207 収納室
208 第3可動子(磁気回路形成手段)
10,20 電磁弁
12 燃料噴射孔
14 ニードル
15 弁座
101 電磁コイル
102,202 固定子(磁気回路形成手段)
102b,208b 非磁性部
103 第1可動子(磁気回路形成手段)
104 第2可動子(磁気回路形成手段)
105 スプリング(付勢部材)
106 ストッパ
107,207 収納室
208 第3可動子(磁気回路形成手段)
Claims (4)
- 電磁コイルと、
前記電磁コイルを保持し、前記電磁コイルの内周側に中空部が設けられた磁性体からなる固定子と、
前記中空部に設置され、両端部を互いに離れる方向に向けて付勢する付勢部材と、
前記付勢部材の両端部の一方と結合し、前記付勢部材と反対の側に弁体が設けられた磁性体からなる第1可動子と、
前記付勢部材の両端部の他方と結合した磁性体からなる第2可動子と、
前記電磁コイルに通電すると、前記固定子と前記第1可動子とを経由する第1の磁気回路を形成した後に、前記固定子と前記第1可動子と前記第2可動子とを経由する第2の磁気回路を形成する磁気回路形成手段と、
を備えることを特徴とする電磁弁。 - 前記磁気回路形成手段は、前記電磁コイルへの通電を停止すると、前記固定子と前記第2可動子とを経由する第3の磁気回路を形成した後に、前記第3の磁気回路を消失させることを特徴とする請求項1記載の電磁弁。
- 前記磁気回路形成手段は、前記第2可動子の透磁率よりも前記固定子の透磁率のほうが大きく、前記固定子の飽和磁束密度よりも前記第2可動子の飽和磁束密度のほうが大きく、前記固定子の比抵抗よりも前記第1可動子の比抵抗のほうが大きいことで、前記電磁コイルへの通電状態に応じて前記第1から第3の磁気回路を形成することを特徴とする請求項1または2記載の電磁弁。
- 請求項1から3のいずれか1項記載の電磁弁を備えた燃料噴射弁。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2011011146A JP2012154351A (ja) | 2011-01-21 | 2011-01-21 | 電磁弁および燃料噴射弁 |
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| JP2012154351A true JP2012154351A (ja) | 2012-08-16 |
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ID=46836298
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| JP (1) | JP2012154351A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2015063901A (ja) * | 2013-09-24 | 2015-04-09 | 日立オートモティブシステムズ株式会社 | 電磁式燃料噴射弁 |
| JP2016109024A (ja) * | 2014-12-05 | 2016-06-20 | 株式会社デンソー | 燃料噴射制御装置 |
| JP2017207071A (ja) * | 2017-07-28 | 2017-11-24 | 日立オートモティブシステムズ株式会社 | 燃料噴射装置 |
-
2011
- 2011-01-21 JP JP2011011146A patent/JP2012154351A/ja active Pending
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
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| JP2016109024A (ja) * | 2014-12-05 | 2016-06-20 | 株式会社デンソー | 燃料噴射制御装置 |
| DE102015224292B4 (de) | 2014-12-05 | 2019-10-10 | Denso Corporation | Kraftstoffinjektionscontroller |
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