JP2012189996A - 感光性樹脂組成物、並びにそれを用いたカラーフィルタ及び表示装置 - Google Patents

感光性樹脂組成物、並びにそれを用いたカラーフィルタ及び表示装置 Download PDF

Info

Publication number
JP2012189996A
JP2012189996A JP2012028420A JP2012028420A JP2012189996A JP 2012189996 A JP2012189996 A JP 2012189996A JP 2012028420 A JP2012028420 A JP 2012028420A JP 2012028420 A JP2012028420 A JP 2012028420A JP 2012189996 A JP2012189996 A JP 2012189996A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
resin composition
photosensitive resin
meth
group
acrylate
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2012028420A
Other languages
English (en)
Other versions
JP6009774B2 (ja
Inventor
Naoto Yamaguchi
尚人 山口
Masaru Shioda
大 塩田
Keisuke Tadokoro
恵典 田所
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd
Original Assignee
Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd filed Critical Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd
Priority to JP2012028420A priority Critical patent/JP6009774B2/ja
Publication of JP2012189996A publication Critical patent/JP2012189996A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP6009774B2 publication Critical patent/JP6009774B2/ja
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Classifications

    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004Photosensitive materials
    • G03F7/027Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
    • G03F7/032Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with binders
    • G03F7/033Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with binders the binders being polymers obtained by reactions only involving carbon-to-carbon unsaturated bonds, e.g. vinyl polymers
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004Photosensitive materials
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08FMACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
    • C08F2/00Processes of polymerisation
    • C08F2/46Polymerisation initiated by wave energy or particle radiation
    • C08F2/48Polymerisation initiated by wave energy or particle radiation by ultraviolet or visible light
    • C08F2/50Polymerisation initiated by wave energy or particle radiation by ultraviolet or visible light with sensitising agents
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B1/00Optical elements characterised by the material of which they are made; Optical coatings for optical elements
    • G02B1/04Optical elements characterised by the material of which they are made; Optical coatings for optical elements made of organic materials, e.g. plastics
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B5/00Optical elements other than lenses
    • G02B5/20Filters
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B5/00Optical elements other than lenses
    • G02B5/20Filters
    • G02B5/201Filters in the form of arrays
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02FOPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/133Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
    • G02F1/1333Constructional arrangements; Manufacturing methods
    • G02F1/1335Structural association of cells with optical devices, e.g. polarisers or reflectors
    • G02F1/133509Filters, e.g. light shielding masks
    • G02F1/133514Colour filters
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/0005Production of optical devices or components in so far as characterised by the lithographic processes or materials used therefor
    • G03F7/0007Filters, e.g. additive colour filters; Components for display devices
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004Photosensitive materials
    • G03F7/027Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004Photosensitive materials
    • G03F7/027Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
    • G03F7/028Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with photosensitivity-increasing substances, e.g. photoinitiators
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004Photosensitive materials
    • G03F7/027Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
    • G03F7/028Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with photosensitivity-increasing substances, e.g. photoinitiators
    • G03F7/031Organic compounds not covered by group G03F7/029
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004Photosensitive materials
    • G03F7/027Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
    • G03F7/032Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with binders
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004Photosensitive materials
    • G03F7/09Photosensitive materials characterised by structural details, e.g. supports, auxiliary layers
    • G03F7/105Photosensitive materials characterised by structural details, e.g. supports, auxiliary layers having substances, e.g. indicators, for forming visible images

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Nonlinear Science (AREA)
  • Mathematical Physics (AREA)
  • Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Structural Engineering (AREA)
  • Architecture (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Medicinal Chemistry (AREA)
  • Polymers & Plastics (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Materials For Photolithography (AREA)
  • Polymerisation Methods In General (AREA)
  • Optical Filters (AREA)
  • Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)

Abstract

【課題】良好な感度を有し、かつ、感光性樹脂組成物が遮光剤を含んだり、露光量が不足したりするような状況にあっても、現像後のパターンにアンダーカットが生じることを抑制することのできる感光性樹脂組成物、並びにそれを用いたカラーフィルタ及び表示装置を提供すること。
【解決手段】(A)光重合性化合物、及び(B)下記一般式(1)で表されるオキシム系光重合開始剤を含み、さらに(C)前記(B)成分と異なる光重合開始剤を含む感光性樹脂組成物を使用する。
Figure 2012189996

【選択図】図1

Description

本発明は、感光性樹脂組成物、並びにそれを用いたカラーフィルタ及び表示装置に関する。
液晶表示ディスプレイ等の表示装置は、互いに対向して対となる電極が形成された2枚の基板の間に、液晶層を挟みこむ構造となっている。そして、一方の基板の内側には、赤色(R)、緑色(G)、青色(B)等の各色の画素領域からなるカラーフィルタが形成されている。このカラーフィルタにおいては、通常、赤色、緑色、青色等の各画素領域を区画するように、ブラックマトリクスが形成されている。
一般に、カラーフィルタはリソグラフィ法により製造される。すなわち、まず、基板上に黒色の感光性樹脂組成物を塗布、乾燥させた後、露光、現像し、ブラックマトリクスを形成する。次いで、赤色、緑色、青色等の各色の感光性樹脂組成物ごとに、塗布、乾燥、露光、及び現像を繰り返し、各色の画素領域を特定の位置に形成してカラーフィルタを製造する。
ブラックマトリクスは、遮光剤を含む感光性樹脂組成物から作製されるパターンであり、各画素領域からの光漏れを抑制することによって、表示装置におけるコントラストの向上や良好な発色を得ることに寄与している。また、上記のように、カラーフィルタ作製の最初の段階で形成されるブラックマトリクスは、その後に各画素領域を着色する感光性樹脂組成物が埋め込まれるための凹部を形成し、特定の位置に各色の画素領域を形成させる役割も担っている。
近年、液晶表示ディスプレイの製造にあたっては、ブラックマトリクスによる遮光性を向上させて、液晶表示ディスプレイに表示させる画像のコントラストをより一層向上させる試みがなされている。このためには、ブラックマトリクスを形成させるための感光性樹脂組成物に遮光剤を多量に含ませることが必要である。しかし、このように感光性樹脂組成物に遮光剤を多量に含ませると、基板上に塗布されてなる感光性樹脂組成物の膜を露光した際に、感光性樹脂組成物を硬化させるための光が膜の底部まで到達し難くなり、硬化性樹脂組成物の著しい感度の低下にともなう硬化不良を招来することにつながる。
感光性樹脂組成物は、その成分の一部として含まれる光重合開始剤が露光によってラジカルを発生させ、このラジカルが感光性樹脂組成物に含まれる重合性の化合物を重合させることによって硬化する。そのため、感光性樹脂組成物の感度は、それに含まれる光重合開始剤の種類によって影響を受けることが知られている。また、近年、液晶表示ディスプレイの生産台数が増大するのに合わせてカラーフィルタの生産量も増大しており、より一層の生産性向上の観点から、低露光量でパターンを形成することのできる高感度の感光性樹脂組成物が要望されている。このような状況において、感光性樹脂組成物の感度を良好にすることのできる光重合開始剤として、特許文献1及び2には、シクロアルキル基を有するオキシムエステル化合物が提案されている。特許文献1及び2に記載された実施例では、下記化学式(a)及び(b)(特許文献1)、並びに下記化学式(c)及び(d)(特許文献2)で表される化合物が具体的に開示されている。
Figure 2012189996
中華人民共和国公開特許公報 第101565472号 中華人民共和国公開特許公報 第101508744号
上記化学式(a)〜(d)で表される化合物を光重合開始剤として用いることにより、高感度の感光性樹脂組成物を作製することができる。しかし、これらの化合物を光重合開始剤として使用してブラックマトリクスを形成させようとすると、感度が良好である反面、形成されたブラックマトリクスのパターン形状に下記のような問題が生じることを本発明者らは見出した。
通常、感光性樹脂組成物を使用して液晶表示ディスプレイ用のカラーフィルタのパターンを形成させた場合、図1(a)に示すように、当該パターンの幅方向の断面である断面1が、底辺1aに近いほど幅広となり、頂辺1bに近いほど幅狭となる台形形状となることが一般的である。このとき、パターンの断面1がカラーフィルタ基板(図示せず)との間でなす角θは、鋭角となる。
しかしながら、上記化学式(a)〜(d)で表される化合物を光重合開始剤として含む感光性樹脂組成物を使用してブラックマトリクスを形成させると、図1(b)に示すように、現像時にパターンの底部の一部が溶解することに伴って、当該パターンの幅方向の断面となる断面2における底辺2aの両端にアンダーカット21を生じる場合がある。このとき、パターンの断面2がカラーフィルタ基板(図示せず)との間でなす角θは、鈍角となる。このように角θが鈍角になると、ブラックマトリクスに隣接する赤色、緑色、青色等の各色の画素領域を形成させる際に、アンダーカット21の部分に気泡を生じる。すなわち、ブラックマトリクスに隣接して画素領域形成用の感光性樹脂組成物の膜を形成させた場合に、アンダーカット21として存在する空間に感光性樹脂組成物が入り込まずに、当該空間が気泡として残留する。このような気泡がカラーフィルタに存在すると、液晶表示装置の画質を大きく損なうことにつながるため、問題である。こうした問題は、ブラックマトリクスのパターン形成の際の現像が、やや過剰気味となるオーバー現像の場合に特に顕著に生じる。
本発明は、以上の状況に鑑みてなされたものであり、良好な感度を有し、かつ、感光性樹脂組成物が遮光剤を含んだり、露光量が不足したりするような状況にあっても、現像後のパターンにアンダーカットが生じることを抑制することのできる感光性樹脂組成物、並びにそれを用いたカラーフィルタ及び表示装置を提供することを目的とする。
本発明者らは、上記課題を解決するために鋭意検討を重ねた結果、下記一般式(1)で表されるオキシムエステル化合物と他の光重合開始剤とを組み合わせて使用することにより、オキシムエステル化合物を使用することによる良好な感度を維持したまま、パターンのアンダーカットが抑制されることを見出し、本発明を完成するに至った。
本発明の第一の態様は、(A)光重合性化合物、及び(B)下記一般式(1)で表されるオキシム系光重合開始剤を含み、さらに(C)前記(B)成分と異なる光重合開始剤を含む感光性樹脂組成物である。
Figure 2012189996
(上記一般式(1)中、lは1〜5の整数であり、mは0〜(l+3)の整数であり、nは1〜8の整数であり、Rは、置換基を有してもよい炭素数1〜11のアルキル基、又は置換基を有してもよいアリール基であり、Rは下記一般式(2)〜(4)で表される置換基のいずれかであり、Rは炭素数1〜11のアルキル基、又はアリール基である。)
Figure 2012189996
(上記一般式(2)及び(3)中、Rは置換基を有してもよいアリール基であり、Rは水素原子、置換基を有してもよい炭素数1〜10のアルキル基、又はアリール基である。上記一般式(4)中、Rは置換基を有してもよいアリール基である。)
また本発明の第二の態様は、上記感光性樹脂組成物を用いて形成されたカラーフィルタである。
また本発明の第三の態様は、上記カラーフィルタが使用された表示装置である。
本発明によれば、良好な感度を有し、かつ、感光性樹脂組成物が遮光剤を含んだり、露光量が不足したりするような状況にあっても、現像後のパターンにアンダーカットが生じることを抑制することのできる感光性樹脂組成物、並びにそれを用いたカラーフィルタ及び表示装置が提供される。
感光性樹脂組成物から形成されたパターンの幅方向の断面形状を示す模式図であり、(a)は通常のパターンの断面形状を示す図であり、(b)はアンダーカット21を生じたパターンの断面形状を示す図である。
《感光性樹脂組成物》
本発明に係る感光性樹脂組成物は、(A)光重合性化合物、(B)オキシム系光重合開始剤、及び(C)上記(B)成分とは異なる光重合開始剤を少なくとも含有する。以下、本発明の感光性樹脂組成物に含有される各成分について詳細に説明する。
<(A)光重合性化合物>
本発明に係る感光性樹脂組成物に含有される(A)光重合性化合物(以下、「(A)成分」とも呼ぶ。)としては、特に限定されず、従来公知の光重合性化合物を用いることができる。その中でも、エチレン性不飽和基を有する樹脂又はモノマーが好ましく、これらを組み合わせることがより好ましい。エチレン性不飽和基を有する樹脂とエチレン性不飽和基を有するモノマーとを組み合わせることにより、感光性樹脂組成物の硬化性を向上させ、パターン形成を容易にすることができる。
[エチレン性不飽和基を有する樹脂]
エチレン性不飽和基を有する樹脂としては、(メタ)アクリル酸、フマル酸、マレイン酸、フマル酸モノメチル、フマル酸モノエチル、2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、エチレングリコールモノメチルエーテル(メタ)アクリレート、エチレングリコールモノエチルエーテル(メタ)アクリレート、グリセロール(メタ)アクリレート、(メタ)アクリルアミド、アクリロニトリル、メタクリロニトリル、メチル(メタ)アクリレート、エチル(メタ)アクリレート、イソブチル(メタ)アクリレート、2−エチルヘキシル(メタ)アクリレート、ベンジル(メタ)アクリレート、エチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ジエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、トリエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、テトラエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ブチレングリコールジ(メタ)アクリレート、プロピレングリコールジ(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、テトラメチロールプロパンテトラ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート、1,6−ヘキサンジオールジ(メタ)アクリレート、カルドエポキシジアクリレート等が重合したオリゴマー類;多価アルコール類と一塩基酸又は多塩基酸とを縮合して得られるポリエステルプレポリマーに(メタ)アクリル酸を反応させて得られるポリエステル(メタ)アクリレート;ポリオールと2個のイソシアネート基を持つ化合物とを反応させた後、(メタ)アクリル酸を反応させて得られるポリウレタン(メタ)アクリレート;ビスフェノールA型エポキシ樹脂、ビスフェノールF型エポキシ樹脂、ビスフェノールS型エポキシ樹脂、フェノール又はクレゾールノボラック型エポキシ樹脂、レゾール型エポキシ樹脂、トリフェノールメタン型エポキシ樹脂、ポリカルボン酸ポリグリシジルエステル、ポリオールポリグリシジルエステル、脂肪族又は脂環式エポキシ樹脂、アミンエポキシ樹脂、ジヒドロキシベンゼン型エポキシ樹脂等のエポキシ樹脂と、(メタ)アクリル酸とを反応させて得られるエポキシ(メタ)アクリレート樹脂等が挙げられる。さらに、エポキシ(メタ)アクリレート樹脂に多塩基酸無水物を反応させた樹脂を好適に用いることができる。なお、本明細書において、「(メタ)アクリル」は、「アクリル又はメタクリル」を意味する。
また、エチレン性不飽和基を有する樹脂としては、エポキシ化合物と不飽和基含有カルボン酸化合物との反応物を、さらに多塩基酸無水物と反応させることにより得られる樹脂を好適に用いることができる。
その中でも、下記式(a1)で表される化合物が好ましい。この式(a1)で表される化合物は、それ自体が、光硬化性が高い点で好ましい。
Figure 2012189996
上記式(a1)中、Xは、下記式(a2)で表される基を表す。
Figure 2012189996
上記式(a2)中、R1aは、それぞれ独立に水素原子、炭素数1〜6の炭化水素基、又はハロゲン原子を表し、R2aは、それぞれ独立に水素原子又はメチル基を表し、Wは、単結合又は下記式(a3)で表される基を表す。
Figure 2012189996
また、上記式(a1)中、Yは、ジカルボン酸無水物から酸無水物基(−CO−O−CO−)を除いた残基を表す。ジカルボン酸無水物の例としては、無水マレイン酸、無水コハク酸、無水イタコン酸、無水フタル酸、無水テトラヒドロフタル酸、無水ヘキサヒドロフタル酸、無水メチルエンドメチレンテトラヒドロフタル酸、無水クロレンド酸、メチルテトラヒドロ無水フタル酸、無水グルタル酸等が挙げられる。
また、上記式(a1)中、Zは、テトラカルボン酸二無水物から2個の酸無水物基を除いた残基を表す。テトラカルボン酸二無水物の例としては、無水ピロメリット酸、ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物、ビフェニルテトラカルボン酸二無水物、ビフェニルエーテルテトラカルボン酸二無水物等が挙げられる。
また、上記式(a1)中、mは、0〜20の整数を表す。
エチレン性不飽和基を有する樹脂の酸価は、樹脂固形分で、10〜150mgKOH/gであることが好ましく、70〜110mgKOH/gであることがより好ましい。酸価を10mgKOH/g以上とすることにより、現像液に対する十分な溶解性が得られるので好ましい。また、酸価を150mgKOH/g以下とすることにより、十分な硬化性を得ることができ、表面性を良好にすることができるので好ましい。
また、エチレン性不飽和基を有する樹脂の質量平均分子量は、1000〜40000であることが好ましく、2000〜30000であることがより好ましい。質量平均分子量を1000以上とすることにより、良好な耐熱性、膜強度を得ることができるので好ましい。また、質量平均分子量を40000以下とすることにより、良好な現像性を得ることができるので好ましい。
[エチレン性不飽和基を有するモノマー]
エチレン性不飽和基を有するモノマーには、単官能モノマーと多官能モノマーとがある。
単官能モノマーとしては、(メタ)アクリルアミド、メチロール(メタ)アクリルアミド、メトキシメチル(メタ)アクリルアミド、エトキシメチル(メタ)アクリルアミド、プロポキシメチル(メタ)アクリルアミド、ブトキシメトキシメチル(メタ)アクリルアミド、N−メチロール(メタ)アクリルアミド、N−ヒドロキシメチル(メタ)アクリルアミド、(メタ)アクリル酸、フマル酸、マレイン酸、無水マレイン酸、イタコン酸、無水イタコン酸、シトラコン酸、無水シトラコン酸、クロトン酸、2−アクリルアミド−2−メチルプロパンスルホン酸、tert−ブチルアクリルアミドスルホン酸、メチル(メタ)アクリレート、エチル(メタ)アクリレート、ブチル(メタ)アクリレート、2−エチルヘキシル(メタ)アクリレート、シクロヘキシル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシブチル(メタ)アクリレート、2−フェノキシ−2−ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、2−(メタ)アクリロイルオキシ−2−ヒドロキシプロピルフタレート、グリセリンモノ(メタ)アクリレート、テトラヒドロフルフリル(メタ)アクリレート、ジメチルアミノ(メタ)アクリレート、グリシジル(メタ)アクリレート、2,2,2−トリフルオロエチル(メタ)アクリレート、2,2,3,3−テトラフルオロプロピル(メタ)アクリレート、フタル酸誘導体のハーフ(メタ)アクリレート等が挙げられる。これらの単官能モノマーは、単独で用いてもよく、2種以上組み合わせて用いてもよい。
一方、多官能モノマーとしては、エチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ジエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、テトラエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、プロピレングリコールジ(メタ)アクリレート、ポリプロピレングリコールジ(メタ)アクリレート、ブチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ネオペンチルグリコールジ(メタ)アクリレート、1,6−ヘキサングリコールジ(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、グリセリンジ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールペンタアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、ペンタエリスリトールジ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート、2,2−ビス(4−(メタ)アクリロキシジエトキシフェニル)プロパン、2,2−ビス(4−(メタ)アクリロキシポリエトキシフェニル)プロパン、2−ヒドロキシ−3−(メタ)アクリロイルオキシプロピル(メタ)アクリレート、エチレングリコールジグリシジルエーテルジ(メタ)アクリレート、ジエチレングリコールジグリシジルエーテルジ(メタ)アクリレート、フタル酸ジグリシジルエステルジ(メタ)アクリレート、グリセリントリアクリレート、グリセリンポリグリシジルエーテルポリ(メタ)アクリレート、ウレタン(メタ)アクリレート(すなわち、トリレンジイソシアネート)、トリメチルヘキサメチレンジイソシアネートとヘキサメチレンジイソシアネートと2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレートとの反応物、メチレンビス(メタ)アクリルアミド、(メタ)アクリルアミドメチレンエーテル、多価アルコールとN−メチロール(メタ)アクリルアミドとの縮合物等の多官能モノマーや、トリアクリルホルマール等が挙げられる。これらの多官能モノマーは、単独で用いてもよく、2種以上組み合わせて用いてもよい。
(A)成分である光重合性化合物の含有量は、感光性樹脂組成物の固形分の合計100質量部に対して10〜99.9質量部であることが好ましい。(A)成分の含有量を固形分の合計100質量部に対して10質量部以上とすることにより、形成されるパターンの十分な耐熱性及び耐薬品性が期待できる。
<(B)オキシム系光重合開始剤>
本発明に係る感光性樹脂組成物に含有される(B)オキシム系光重合開始剤(以下、「(B)成分」とも呼ぶ。)は、下記一般式(1)で表される化合物である。既に述べたように、オキシム系光重合開始剤は、特にブラックマトリクス形成用の感光性樹脂組成物のように組成物が遮光剤を含む場合であっても良好な感度をもたらすものであるが、その一方で、形成されたパターンにおけるアンダーカットを生じる場合がある。本発明者は、感光性樹脂組成物の光重合開始剤として、特に、下記一般式(1)のオキシム系光重合開始剤と後述する(C)成分とを組み合わせて使用することにより、感光性樹脂組成物に良好な感度を付与しつつ、形成されるパターンにおけるアンダーカットを抑制できることを見出し、本発明を完成した。
Figure 2012189996
上記一般式(1)中、lは1〜5の整数であり、mは0〜(l+3)の整数であり、nは1〜8の整数であり、Rは、置換基を有してもよい炭素数1〜11のアルキル基、又は置換基を有してもよいアリール基であり、Rは下記一般式(2)〜(4)で表される置換基のいずれかであり、Rは炭素数1〜11のアルキル基、又はアリール基である。Rがアルキル基である場合に有してもよい置換基としては、フェニル基、ナフチル基等が好ましく例示される。また、Rがアリール基である場合に有してもよい置換基としては、炭素数1〜5のアルキル基、アルコキシ基、ハロゲン原子等が好ましく例示される。
上記一般式(1)中、Rとしては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、フェニル基、ベンジル基、メチルフェニル基、ナフチル基等が好ましく例示され、これらの中でも、メチル基又はフェニル基であることがより好ましい。また、上記一般式(1)中、Rとしては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、フェニル基等が好ましく例示され、これらの中でも、メチル基であることがより好ましい。
Figure 2012189996
上記一般式(2)及び(3)中、Rは置換基を有してもよいアリール基であり、Rは水素原子、置換基を有してもよい炭素数1〜10のアルキル基、又はアリール基である。Rであるアリール基が有してもよい置換基としては、炭素数1〜5のアルキル基、炭素数1〜5のアルコキシ基、ハロゲン原子等が好ましく例示される。また、Rがアルキル基である場合に有してもよい置換基としては、炭素数1〜5のアルコキシ基、フェニル基、ナフチル基等が好ましく例示される。
上記一般式(2)及び(3)中、Rとしては、フェニル基、2−メチルフェニル基、3−メチルフェニル基、4−メチルフェニル基、2−エチルフェニル基、3−エチルフェニル基、4−エチルフェニル基、2,3−ジメチルフェニル基、2,4−ジメチルフェニル基、2,5−ジメチルフェニル基、2,6−ジメチルフェニル基、ナフチル基、2−メトキシ−1−ナフチル基、9−アントラセニル基等が好ましく例示される。上記一般式(2)及び(3)中、Rとしては、水素原子、メチル基、エチル基、n−プロピル基、イソプロピル基、n−ブチル基、イソブチル基、sec−ブチル基、tert−ブチル基、n−ペンチル、n−ヘキシル基、フェニル基、3−メチルブチル基、3−メトキシブチル基等が好ましく例示され、これらの中でも、エチル基であることがより好ましい。
上記一般式(4)中、Rは置換基を有してもよいアリール基である。Rであるアリール基が有してもよい置換基としては、炭素数1〜5のアルキル基、炭素数1〜5のアルコキシ基、ハロゲン原子等が好ましく例示される。
このようなRとしては、フェニル基、2−メチルフェニル基、3−メチルフェニル基、4−メチルフェニル基、2−エチルフェニル基、3−エチルフェニル基、4−エチルフェニル基、2,3−ジメチルフェニル基、2,4−ジメチルフェニル基、2,5−ジメチルフェニル基、2,6−ジメチルフェニル基、ナフチル基、p−tert−ブチルフェニル基、p−メトキシフェニル基等が好ましく例示され、これらの中でも、フェニル基がより好ましく例示される。
より具体的には、(B)オキシム系光重合開始剤として、下記式の化合物を好ましく例示することができる。
Figure 2012189996
Figure 2012189996
(B)成分であるオキシム系光重合開始剤の含有量は、感光性樹脂組成物の固形分の合計100質量部に対して0.1〜50質量部であることが好ましく、1〜45質量部であることがより好ましい。上記範囲内とすることにより、十分な耐熱性、耐薬品性を得るとともに、塗膜形成能を向上させ、光硬化不良を抑制することができる。
<(C)上記(B)成分と異なる光重合開始剤>
本発明に係る感光性樹脂組成物に含有される(C)光重合開始剤(以下、「(C)成分」とも呼ぶ。)は、上記(B)成分として使用された光重合開始剤と異なる光重合開始剤である。(C)成分は、上記(B)成分と異なる化合物であればよく、上記(B)成分と同様に、オキシム系の光重合開始剤であってもよい。
(C)成分は、紫外線や電子線等の活性エネルギー線の照射により、ラジカルを発生させる化合物であれば特に限定されない。このような光重合開始剤としては、2−ベンジル−2−ジメチルアミノ−1−(4−モルホリノフェニル)ブタノン−1、2−メチル−1−[4−(メチルチオ)フェニル]−2−モルホリノプロパン−1−オン、2−ベンジル−2−ジメチルアミノ−1−(4−ジメチルアミノフェニル)ブタノン−1、2−(4−メチルベンジル)−2−ジエチルアミノ−1−(4−モルホリノフェニル)ブタノン−1、2−メチル−1−フェニル−2−モルホリノプロパン−1−オン、2−メチル−1−[4−(ヘキシル)フェニル]−2−モルホリノプロパン−1−オン、2−エチル−2−ジメチルアミノ−1−(4−モルホリノフェニル)ブタノン−1等のα−アミノケトン系光重合開始剤;1−フェニル−2−ヒドロキシ−2−メチルプロパン−1−オン、1−(4−イソプロピルフェニル)−2−ヒドロキシ−2−メチルプロパン−1−オン、4−(2−ヒドロキシエトキシ)フェニル−(2−ヒドロキシ−2−プロピル)ケトン、1−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン等のα−ヒドロキシケトン系光重合開始剤;ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインプロピルエーテル、ベンジルメチルケタール等のベンゾイン系光重合開始剤;ベンゾフェノン、ベンゾイル安息香酸、ベンゾイル安息香酸メチル、4−フェニルベンゾフェノン、ヒドロキシベンゾフェノン、アクリル化ベンゾフェノン、4−ベンゾイル、4’−メチルジフェニルサルファイド、4,4’−ビスジエチルアミノベンゾフェノン等のベンゾフェノン系光重合開始剤;チオキサントン、2−クロロチオキサントン、2−メチルチオキサントン、イソプロピルチオキサントン、2,4−ジイソプロピルチオキサントン等のチオキサントン系光重合開始剤;2,4,6−トリクロロ−s−トリアジン、2−フェニル−4,6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、2−(p−メトキシフェニル)−4,6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、2−(p−トリル)−4,6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、2−ピペニル−4.6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、2,4−ビス(トリクロロメチル)−6−スチリル−s−トリアジン、2−(ナフト−1−イル)−4,6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、2−(4−メトキシ−ナフト−1−イル)−4,6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、2,4−トリクロロメチル−(ピペロニル)−6−トリアジン、2,4−トリクロロメチル−(4’−メトキシスチリル)−6−トリアジン、2−[4−(4−メトキシスチリル)フェニル]−4,6−ビス(トリクロロメチル)−1,3,5−トリアジン等のトリアジン系光重合開始剤;カルバゾール系光重合開始剤;2,2’−ビス(2−クロロフェニル)−4,4’,5,5’−テトラキス(4−エトキシカルボニルフェニル)−1,2’−ビイミダゾール、2,2’−ビス(2−ブロモフェニル)−4,4’,5,5’−テトラキス(4−エトキシカルボニルフェニル)−1,2’−ビイミダゾール、2,2’−ビス(2−クロロフェニル)−4,4’,5,5’−テトラフェニル−1,2’−ビイミダゾール、2,2’−ビス(2,4−ジクロロフェニル)−4,4’,5,5’−テトラフェニル−1,2’−ビイミダゾール、2,2’−ビス(2,4,6−トリクロロフェニル)−4,4’,5,5’−テトラフェニル−1,2’−ビイミダゾール、2,2’−ビス(2−ブロモフェニル)−4,4,5,5’−テトラフェニル−1,2’−ビイミダゾール、2,2’−ビス(2,4−ジブロモフェニル)−4,4’,5,5’−テトラフェニル−1,2’−ビイミダゾール、2,2’−ビス(2,4,6−トリブロモフェニル)−4,4’,5,5’−テトラフェニル−1,2’−ビイミダゾール等のビイミダゾール系光重合開始剤;2−(O−ベンゾイルオキシム)−1−[4−(フェニルチオ)フェニル]−1,2−オクタンジオン、1−(4−メチルスルファニルフェニル)ブタン−1,2−ブタン−2−オキシム−O−アセタート、1−(4−メチルスルファニルフェニル)ブタン−1−オンオキシム−O−アセタート、ヒドロキシイミノ(4−メチルスルファニルフェニル)酢酸エチルエステル−O−アセタート、ヒドロキシイミノ(4−メチルスルファニルフェニル)酢酸エチルエステル−O−ベンゾアート等のオキシム系光重合開始剤;下記式で表されるようなベンズイミダゾリン系光重合開始剤等が例示される。
Figure 2012189996
上記例示された光重合開始剤の中でも、α−アミノケトン系光重合開始剤、ベンゾフェノン系光重合開始剤、トリアジン系光重合開始剤、カルバゾール系光重合開始剤を好ましく使用することができる。また、上記の光重合開始剤は、単独で用いてもよく、2種以上組み合わせて用いてもよい。
(C)成分の含有量は、感光性樹脂組成物の固形分の合計100質量部に対して0.1〜50質量部であることが好ましく、1〜45質量部であることがより好ましい。また、上記(B)成分と(C)成分との比率は、質量比で、(B)成分/(C)成分=100/1〜1/100の範囲であることが好ましく、(B)成分/(C)成分=10/1〜1/10の範囲であることがより好ましい。(B)成分と(C)成分との比率が上記の範囲であることにより、感光性樹脂組成物の感度を良好に維持したまま、感光性樹脂組成物から形成されたパターンにおけるアンダーカットの発生を抑制することができる。
<(D)着色剤>
本発明に係る感光性樹脂組成物は、さらに、(D)着色剤(以下、「(D)成分」とも呼ぶ。)を含んでもよい。感光性樹脂組成物は、(D)成分である着色剤を含むことにより、例えば、液晶表示ディスプレイのカラーフィルタ形成用途として好ましく使用される。また、本発明に係る感光性樹脂組成物は、(D)成分として遮光剤を含むことにより、例えば、表示装置のカラーフィルタにおけるブラックマトリクス形成用途として好ましく使用される。
本発明に係る感光性樹脂組成物に含有される(D)成分としては、特に限定されないが、例えば、カラーインデックス(C.I.;The Society of Dyers and Colourists社発行)においてピグメント(Pigment)に分類されている化合物、具体的には、下記のようなカラーインデックス(C.I.)番号が付されているものを用いることが好ましい。
C.I.ピグメントイエロー1(以下、「C.I.ピグメントイエロー」は同様であり、番号のみを記載する。)、3、11、12、13、14、15、16、17、20、24、31、53、55、60、61、65、71、73、74、81、83、86、93、95、97、98、99、100、101、104、106、108、109、110、113、114、116、117、119、120、125、126、127、128、129、137、138、139、147、148、150、151、152、153、154、155、156、166、167、168、175、180、185;
C.I.ピグメントオレンジ1(以下、「C.I.ピグメントオレンジ」は同様であり、番号のみを記載する。)、5、13、14、16、17、24、34、36、38、40、43、46、49、51、55、59、61、63、64、71、73;
C.I.ピグメントバイオレット1(以下、「C.I.ピグメントバイオレット」は同様であり、番号のみを記載する。)、19、23、29、30、32、36、37、38、39、40、50;
C.I.ピグメントレッド1(以下、「C.I.ピグメントレッド」は同様であり、番号のみを記載する。)、2、3、4、5、6、7、8、9、10、11、12、14、15、16、17、18、19、21、22、23、30、31、32、37、38、40、41、42、48:1、48:2、48:3、48:4、49:1、49:2、50:1、52:1、53:1、57、57:1、57:2、58:2、58:4、60:1、63:1、63:2、64:1、81:1、83、88、90:1、97、101、102、104、105、106、108、112、113、114、122、123、144、146、149、150、151、155、166、168、170、171、172、174、175、176、177、178、179、180、185、187、188、190、192、193、194、202、206、207、208、209、215、216、217、220、223、224、226、227、228、240、242、243、245、254、255、264、265;
C.I.ピグメントブルー1(以下、「C.I.ピグメントブルー」は同様であり、番号のみを記載する。)、2、15、15:3、15:4、15:6、16、22、60、64、66;
C.I.ピグメントグリーン7、C.I.ピグメントグリーン36、C.I.ピグメントグリーン37;
C.I.ピグメントブラウン23、C.I.ピグメントブラウン25、C.I.ピグメントブラウン26、C.I.ピグメントブラウン28;
C.I.ピグメントブラック1、C.I.ピグメントブラック7。
また、(D)成分を遮光剤とする場合、遮光剤としては黒色顔料を用いることが好ましい。黒色顔料としては、カーボンブラック、チタンブラック、銅、鉄、マンガン、コバルト、クロム、ニッケル、亜鉛、カルシウム、銀等の金属酸化物、複合酸化物、金属硫化物、金属硫酸塩又は金属炭酸塩等、有機物、無機物を問わず各種の顔料を挙げることができる。これらの中でも、高い遮光性を有するカーボンブラックを用いることが好ましい。光重合開始剤として、上記の(B)成分と(C)成分とを併用することにより、遮光性の高い黒色顔料を使用したとしても、現像後のパターンにアンダーカットが生じることを抑制することができる。
カーボンブラックとしては、チャンネルブラック、ファーネスブラック、サーマルブラック、ランプブラック等の公知のカーボンブラックを用いることができるが、遮光性に優れるチャンネルブラックを用いることが好ましい。また、樹脂被覆カーボンブラックを使用してもよい。
樹脂被覆カーボンブラックは、樹脂被覆のないカーボンブラックに比べて導電性が低いことから、液晶表示ディスプレイのような液晶表示素子のブラックマトリクスとして使用した場合に電流のリークが少なく、信頼性の高い低消費電力のディスプレイを製造できる。
また、カーボンブラックの色調を調整するために、補助顔料として上記の有機顔料を適宜添加してもよい。
上記の(D)成分を感光性樹脂組成物において均一に分散させるために、さらに分散剤を使用してもよい。このような分散剤としては、ポリエチレンイミン系、ウレタン樹脂系、アクリル樹脂系の高分子分散剤を用いることが好ましい。特に、(D)成分として、カーボンブラックを用いる場合には、分散剤としてアクリル樹脂系の分散剤を用いることが好ましい。
また、無機顔料と有機顔料はそれぞれ単独又は2種以上併用してもよいが、併用する場合には、無機顔料と有機顔料との総量100質量部に対して、有機顔料を10〜80質量部の範囲で用いることが好ましく、20〜40質量部の範囲で用いることがより好ましい。
感光性樹脂組成物における着色剤の使用量は、感光性樹脂組成物の用途に応じて適宜決定すればよいが、一例として、感光性樹脂組成物の固形分の合計100質量部に対して、5〜70質量部が好ましく、25〜60質量部がより好ましい。上記の範囲とすることにより、目的とするパターンでブラックマトリクスや各着色層を形成することができ、好ましい。
特に、感光性樹脂組成物を使用してブラックマトリクスを形成する場合には、ブラックマトリクスの被膜1μm当たりのOD値が4以上となるように感光性樹脂組成物における遮光剤の量を調整することが好ましい。ブラックマトリクスにおける被膜1μm当たりのOD値が4以上あれば、液晶表示ディスプレイのブラックマトリクスに用いた場合に、十分な表示コントラストを得ることができる。
(D)成分は、分散剤を用いて適当な濃度で分散させた分散液とした後、感光性樹脂組成物に添加することが好ましい。
<その他の成分>
本発明に係る感光性樹脂組成物には、必要に応じて、各種の添加剤を加えてもよい。具体的には、溶剤、増感剤、硬化促進剤、光架橋剤、光増感剤、分散助剤、充填剤、密着促進剤、酸化防止剤、紫外線吸収剤、凝集防止剤、熱重合禁止剤、消泡剤、界面活性剤等が例示される。
本発明に係る感光性樹脂組成物に使用される溶剤としては、例えば、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコール−n−プロピルエーテル、エチレングリコールモノ−n−ブチルエーテル、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノ−n−プロピルエーテル、ジエチレングリコールモノ−n−ブチルエーテル、トリエチレングリコールモノメチルエーテル、トリエチレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノ−n−プロピルエーテル、プロピレングリコールモノ−n−ブチルエーテル、ジプロピレングリコールモノメチルエーテル、ジプロピレングリコールモノエチルエーテル、ジプロピレングリコールモノ−n−プロピルエーテル、ジプロピレングリコールモノ−n−ブチルエーテル、トリプロピレングリコールモノメチルエーテル、トリプロピレングリコールモノエチルエーテル等の(ポリ)アルキレングリコールモノアルキルエーテル類;エチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、エチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート等の(ポリ)アルキレングリコールモノアルキルエーテルアセテート類;ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールメチルエチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、テトラヒドロフラン等の他のエーテル類;メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、2−ヘプタノン、3−ヘプタノン等のケトン類;2−ヒドロキシプロピオン酸メチル、2−ヒドロキシプロピオン酸エチル等の乳酸アルキルエステル類;2−ヒドロキシ−2−メチルプロピオン酸エチル、3−メトキシプロピオン酸メチル、3−メトキシプロピオン酸エチル、3−エトキシプロピオン酸メチル、3−エトキシプロピオン酸エチル、エトキシ酢酸エチル、ヒドロキシ酢酸エチル、2−ヒドロキシ−3−メチル部炭酸メチル、3−メチル−3−メトキシブチルアセテート、3−メチル−3−メトキシブチルプロピオネート、酢酸エチル、酢酸n−プロピル、酢酸イソプロピル、酢酸n−ブチル、酢酸イソブチル、蟻酸n−ペンチル、酢酸イソペンチル、プロピオン酸n−ブチル、酪酸エチル、酪酸n−プロピル、酪酸イソプロピル、酪酸n−ブチル、ピルビン酸メチル、ピルビン酸エチル、ピルビン酸n−プロピル、アセト酢酸メチル、アセト酢酸エチル、2−オキソブタン酸エチル等の他のエステル類;トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類;N−メチルピロリドン、N,N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジメチルアセトアミド等のアミド類等が挙げられる。これらの溶剤は、単独で用いてもよく、2種以上を組み合わせて用いてもよい。
上記溶剤の中でも、プロピレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールメチルエチルエーテル、シクロヘキサノン、3−メトキシブチルアセテートは、上述の(A)成分、(B)成分及び(C)成分に対して優れた溶解性を示すとともに、上述の(D)成分の分散性を良好にすることができるため好ましく、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、3−メトキシブチルアセテートを用いることが特に好ましい。溶剤は、感光性樹脂組成物の用途に応じて適宜決定すればよいが、一例として、感光性樹脂組成物の固形分の合計100質量部に対して、50〜900質量部程度が挙げられる。
本発明に係る感光性樹脂組成物に使用される熱重合禁止剤としては、例えば、ヒドロキノン、ヒドロキノンモノエチルエーテル等を挙げることができる。また、消泡剤としては、シリコーン系、フッ素系等の化合物を、界面活性剤としては、アニオン系、カチオン系、ノニオン等の化合物を、それぞれ例示できる。
《感光性樹脂組成物の調製方法》
本発明に係る感光性樹脂組成物は、上記の各成分を全て撹拌機で混合することにより調製される。なお、調製された感光性樹脂組成物が均一なものとなるようフィルタを用いて濾過してもよい。
《パターン形成方法》
本発明の感光性樹脂組成物を用いてパターンを形成するには、まず、ロールコータ、リバースコータ、バーコータ等の接触転写型塗布装置やスピンナー(回転式塗布装置)、カーテンフローコータ等の非接触型塗布装置を用いて、基板上に感光性樹脂組成物を塗布する。
次いで、塗布された感光性樹脂組成物を乾燥させて塗膜を形成させる。乾燥方法は、特に限定されず、例えば、(1)ホットプレートにて80〜120℃、好ましくは90〜100℃の温度にて60〜120秒間乾燥させる方法、(2)室温にて数時間〜数日間放置する方法、(3)温風ヒータや赤外線ヒータ中に数十分間〜数時間入れて溶剤を除去する方法等が挙げられる。
次いで、この塗膜に、ネガ型のマスクを介して、紫外線、エキシマレーザー光等の活性エネルギー線を照射して部分的に露光する。照射するエネルギー線量は、感光性樹脂組成物の組成によっても異なるが、例えば30〜2000mJ/cm程度が好ましい。
次いで、露光後の膜を、現像液により現像することによって所望の形状にパターニングする。現像方法は、特に限定されず、例えば、浸漬法、スプレー法等を用いることができる。現像液としては、モノエタノールアミン、ジエタノールアミン、トリエタノールアミン等の有機系のものや、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウム、アンモニア、4級アンモニウム塩等の水溶液が挙げられる。既に説明したように、本発明に係る感光性樹脂組成物を使用することにより、現像後に形成されるパターンにおけるアンダーカットが抑制される。そのため、本発明の感光性樹脂組成物を使用すれば、例えば表示装置用のカラーフィルタを作製した場合に、各画素の境界部付近に気泡が入ることを抑制できるので、好ましい。
次いで、現像後のパターンに対して200℃〜250℃程度でポストベークを行うことが好ましい。
このようにして形成されたパターンは、例えば、液晶ディスプレイ等のような表示装置におけるカラーフィルタの画素やブラックマトリクスとして好適に用いることができる。このようなカラーフィルタや、当該カラーフィルタの使用された表示装置も本発明の一つである。
以下、実施例を示して本発明をさらに具体的に説明するが、本発明の範囲は、これらの実施例に限定されるものではない。
[感光性樹脂組成物の調製]
[実施例1〜20、及び比較例1〜15]
オキシム系の光重合開始剤として下記式B1〜B12の化合物を使用し、その他の光重合開始剤として下記式C1〜C9の化合物を使用して、実施例1〜20及び比較例1〜15の感光性樹脂組成物を調製した。下記式B1〜B12のオキシム系の光重合開始剤のうち、式B1〜B8の化合物が上記一般式(1)のオキシム系の光重合開始剤に該当する。各実施例及び比較例の感光性樹脂組成物における光重合開始剤は、表1〜3に示す通りとした。なお、表1〜3において、「オキシム/その他 比」の項に示した比率は、感光性樹脂組成物に含まれる光重合開始剤のうち、オキシム系の光重合開始剤とその他の光重合開始剤との質量比を表す。
各感光性樹脂組成物の調製は、光重合開始剤(オキシム系及びその他の光重合開始剤の合計)100質量部、下記樹脂A(固形分55質量%、溶剤3−メトキシブチルアセテート)310質量部、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート(DPHA、日本化薬株式会社製)175質量部、及びカーボンブラック分散液(カーボンブラック含有量20質量%、「CFブラック」、御国色素株式会社製)450質量部の混合物に、固形分が15質量%となるように、3−メトキシブチルアセテート/シクロヘキサノン/プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート(PGMEA)=60/20/20(重量比)を加え、均一になるまで撹拌することによって行った。
上記感光性樹脂組成物の調製で使用した樹脂Aは、特開2010−32940号公報の段落0063〜0064に記載された樹脂A−1と同じものである。
Figure 2012189996
Figure 2012189996
Figure 2012189996
Figure 2012189996
Figure 2012189996
Figure 2012189996
Figure 2012189996
[感度評価]
実施例1〜20及び比較例1〜15の感光性樹脂組成物のそれぞれについて、以下の手順にて、感度の評価を行った。まず、感光性樹脂組成物をガラス基板(10cm×10cm)にスピン塗布し、90℃にて120秒間加熱することにより、ガラス基板の表面に1.0μmの塗布膜を形成させた。その後、ミラープロジェクションアライナー(製品名:TME−150RTO、株式会社トプコン製)を使用し、線幅10μmの直線パターンの形成されたネガ型マスクを介して、Gapを50μmとし、30mJ/cm、60mJ/cm、120mJ/cmの3通りの露光量で塗布膜を露光した。露光後の膜を、26℃の0.04質量%KOH水溶液で50秒間現像後、230℃にて30分間焼成処理を行い、走査電子顕微鏡を使用して、30mJ/cm、60mJ/cm、120mJ/cmの3通りの露光量のそれぞれについて、形成された直線パターンの線幅を求めた。得られた結果を使用し、各線幅と露光量から最小二乗法による近似計算により10μmの線幅が得られる露光量を算出した。その結果を、感度として表1〜3に示す。なお、感度の数値は、小さいほどその感光性樹脂組成物の感度が高いことを意味する。また、表1〜3では、各実施例及び比較例の対比を容易にするために、一部の実施例及び比較例の内容を重複記載した。
[パターン形状評価]
実施例1〜20及び比較例1〜15の感光性樹脂組成物のそれぞれについて、以下の手順にて、露光を行い、ついて現像後のパターンにおけるアンダーカットの有無、すなわちパターン形状の評価を行った。まず、感光性樹脂組成物をガラス基板(10cm×10cm)にスピン塗布し、90℃にて120秒間加熱することにより、ガラス基板の表面に1.0μ塗布膜を形成させた。その後、ミラープロジェクションアライナー(製品名:TME−150RTO、株式会社トプコン製)を使用し、線幅10μmの直線パターンの形成されたネガ型マスクを介して、露光量100mJ/cm(Gap50μm)で露光させた。露光後の膜を、26℃の0.04質量%KOH水溶液で50秒間現像後、230℃にて30分間焼成処理を行い、走査電子顕微鏡にてパターンと基板との間の接合角度(テーパー角)を測定した。このテーパー角は、図1(a)及び(b)における角θに対応する。測定されたテーパー角を表1〜3に示す。テーパー角が鋭角であれば、パターンにアンダーカットが存在しないことを意味し、テーパー角が鈍角であれば、パターンにアンダーカットが存在することを意味する。
表1〜3から理解されるように、本発明における(B)成分及び(C)成分を備えた実施例1〜20の感光性樹脂組成物は、実用的な感度を有するものであった。
また、実施例10、11、13、15及び16の感光性樹脂組成物と比較例7〜11の感光性樹脂組成物とを比較すると、光重合開始剤として上記(B)成分と(C)成分とを組み合わせることによって、形成されたパターンのテーパー角が鋭角になり、パターンのアンダーカットが効果的に抑制されることがわかる。
1 アンダーカットが存在しないパターンにおける幅方向の断面
2 アンダーカットが存在するパターンにおける幅方向の断面

Claims (5)

  1. (A)光重合性化合物、及び(B)下記一般式(1)で表されるオキシム系光重合開始剤を含み、さらに(C)前記(B)成分と異なる光重合開始剤を含む感光性樹脂組成物。
    Figure 2012189996
    (上記一般式(1)中、lは1〜5の整数であり、mは0〜(l+3)の整数であり、nは1〜8の整数であり、Rは、置換基を有してもよい炭素数1〜11のアルキル基、又は置換基を有してもよいアリール基であり、Rは下記一般式(2)〜(4)で表される置換基のいずれかであり、Rは炭素数1〜11のアルキル基、又はアリール基である。)
    Figure 2012189996
    (上記一般式(2)及び(3)中、Rは置換基を有してもよいアリール基であり、Rは水素原子、置換基を有してもよい炭素数1〜10のアルキル基、又はアリール基である。上記一般式(4)中、Rは置換基を有してもよいアリール基である。)
  2. さらに着色剤(D)を含む請求項1記載の感光性樹脂組成物。
  3. 前記着色剤が遮光剤である請求項2記載の感光性樹脂組成物。
  4. 請求項2又は3記載の感光性樹脂組成物を用いて形成されたカラーフィルタ。
  5. 請求項4記載のカラーフィルタが使用された表示装置。
JP2012028420A 2011-02-22 2012-02-13 感光性樹脂組成物、並びにそれを用いたカラーフィルタ及び表示装置 Active JP6009774B2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2012028420A JP6009774B2 (ja) 2011-02-22 2012-02-13 感光性樹脂組成物、並びにそれを用いたカラーフィルタ及び表示装置

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2011036212 2011-02-22
JP2011036212 2011-02-22
JP2012028420A JP6009774B2 (ja) 2011-02-22 2012-02-13 感光性樹脂組成物、並びにそれを用いたカラーフィルタ及び表示装置

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2012189996A true JP2012189996A (ja) 2012-10-04
JP6009774B2 JP6009774B2 (ja) 2016-10-19

Family

ID=46658739

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2012028420A Active JP6009774B2 (ja) 2011-02-22 2012-02-13 感光性樹脂組成物、並びにそれを用いたカラーフィルタ及び表示装置

Country Status (4)

Country Link
JP (1) JP6009774B2 (ja)
KR (2) KR101851798B1 (ja)
CN (2) CN106980230B (ja)
TW (1) TWI536104B (ja)

Cited By (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2012220794A (ja) * 2011-04-11 2012-11-12 Hitachi Chem Co Ltd 感光性樹脂組成物、感光性エレメント、レジストパターンの製造方法、プリント配線板の製造方法、及びプリント配線
JP2014182383A (ja) * 2013-03-15 2014-09-29 Dongwoo Fine-Chem Co Ltd 着色感光性樹脂組成物
JP2016021012A (ja) * 2014-07-15 2016-02-04 東京応化工業株式会社 感光性組成物
JP2016090797A (ja) * 2014-11-05 2016-05-23 株式会社Adeka 硬化性組成物
JPWO2014024951A1 (ja) * 2012-08-08 2016-07-25 旭化成イーマテリアルズ株式会社 感光性フィルム積層体、及び、フレキシブルプリント配線の製造方法
KR20180044814A (ko) 2016-10-24 2018-05-03 도쿄 오카 고교 가부시키가이샤 감광성 조성물 및 경화막의 형성 방법
JP2019501402A (ja) * 2015-11-04 2019-01-17 ローム・アンド・ハース・エレクトロニック・マテリアルズ・コリア・リミテッド 着色感光性樹脂組成物及びそれから調製される遮光スペーサ
KR20200115526A (ko) 2018-01-31 2020-10-07 도레이 카부시키가이샤 네거티브형 감광성 수지 조성물, 경화막, 경화막을 구비하는 소자 및 표시 장치 및 그 제조 방법
KR20210126513A (ko) 2020-04-10 2021-10-20 도쿄 오카 고교 가부시키가이샤 감광성 조성물, 패턴화된 경화막의 제조 방법, 및 패턴화된 경화막
KR20210126512A (ko) 2020-04-10 2021-10-20 도쿄 오카 고교 가부시키가이샤 감광성 조성물, 패턴화된 경화막의 제조 방법, 및 패턴화된 경화막

Families Citing this family (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR101968510B1 (ko) * 2013-02-06 2019-04-12 동우 화인켐 주식회사 적색 화소 패턴 형성용 감광성 수지 조성물
JP6375236B2 (ja) * 2014-02-04 2018-08-15 新日鉄住金化学株式会社 遮光膜用感光性組成物、及びその硬化物
JP6788971B2 (ja) * 2016-01-14 2020-11-25 東京応化工業株式会社 感光性組成物
KR101991699B1 (ko) 2016-09-26 2019-06-21 삼성에스디아이 주식회사 감광성 수지 조성물, 이를 이용한 블랙 화소 격벽층 및 디스플레이 장치
TWI766941B (zh) * 2017-03-31 2022-06-11 南韓商東友精細化工有限公司 藍色感光性樹脂組成物以及利用彼製造之彩色濾光片與影像顯示裝置
KR102029733B1 (ko) * 2018-08-23 2019-10-08 주식회사 삼양사 감광성 수지 조성물

Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2010097210A (ja) * 2008-09-18 2010-04-30 Toray Ind Inc 感光性黒色樹脂組成物、樹脂ブラックマトリクス基板、カラーフィルター基板および液晶表示装置
CN101891845A (zh) * 2010-07-15 2010-11-24 常州强力电子新材料有限公司 咔唑肟酯类化合物在可光聚合丙烯酸酯类组合物中作为光引发剂的用途
CN101923287A (zh) * 2010-08-31 2010-12-22 常州强力电子新材料有限公司 一种含有二苯硫醚基酮肟酯类光引发剂的感光性组合物及其应用
JP2011253174A (ja) * 2010-05-07 2011-12-15 Fujifilm Corp 着色感光性組成物、カラーフィルタの製造方法、カラーフィルタ、及び液晶表示装置
JP2012145721A (ja) * 2011-01-12 2012-08-02 Toyo Ink Sc Holdings Co Ltd 感光性着色組成物およびカラーフィルタ
JP2013033221A (ja) * 2011-06-30 2013-02-14 Jsr Corp 感放射線性樹脂組成物、表示素子用硬化膜、表示素子用硬化膜の形成方法及び表示素子

Family Cites Families (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN101432660A (zh) * 2006-05-18 2009-05-13 三菱化学株式会社 固化性组合物、固化物、滤色器及液晶显示装置
JP5030527B2 (ja) * 2006-10-20 2012-09-19 株式会社Adeka オキシムエステル化合物及び該化合物を含有する光重合開始剤
JP5298653B2 (ja) * 2007-07-06 2013-09-25 Jsr株式会社 着色層形成用感放射線性組成物、カラーフィルタおよびカラー液晶表示素子
JP5249588B2 (ja) * 2008-01-11 2013-07-31 東京応化工業株式会社 着色感光性樹脂組成物
JP2009300642A (ja) * 2008-06-12 2009-12-24 Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd 着色感光性樹脂組成物
JP5291405B2 (ja) * 2008-07-31 2013-09-18 東京応化工業株式会社 着色感光性樹脂組成物、カラーフィルター、及び液晶表示ディスプレイ
CN101508744B (zh) * 2009-03-11 2011-04-06 常州强力电子新材料有限公司 咔唑肟酯类光引发剂
CN101565472B (zh) 2009-05-19 2011-05-04 常州强力电子新材料有限公司 酮肟酯类光引发剂
TWI438570B (zh) * 2010-03-11 2014-05-21 Toyo Ink Mfg Co 感光性著色組合物及濾色器
JP5121912B2 (ja) * 2010-11-24 2013-01-16 富士フイルム株式会社 着色感光性樹脂組成物、パターン形成方法、カラーフィルタの製造方法、カラーフィルタ及びそれを備えた表示装置

Patent Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2010097210A (ja) * 2008-09-18 2010-04-30 Toray Ind Inc 感光性黒色樹脂組成物、樹脂ブラックマトリクス基板、カラーフィルター基板および液晶表示装置
JP2011253174A (ja) * 2010-05-07 2011-12-15 Fujifilm Corp 着色感光性組成物、カラーフィルタの製造方法、カラーフィルタ、及び液晶表示装置
CN101891845A (zh) * 2010-07-15 2010-11-24 常州强力电子新材料有限公司 咔唑肟酯类化合物在可光聚合丙烯酸酯类组合物中作为光引发剂的用途
CN101923287A (zh) * 2010-08-31 2010-12-22 常州强力电子新材料有限公司 一种含有二苯硫醚基酮肟酯类光引发剂的感光性组合物及其应用
JP2012145721A (ja) * 2011-01-12 2012-08-02 Toyo Ink Sc Holdings Co Ltd 感光性着色組成物およびカラーフィルタ
JP2013033221A (ja) * 2011-06-30 2013-02-14 Jsr Corp 感放射線性樹脂組成物、表示素子用硬化膜、表示素子用硬化膜の形成方法及び表示素子

Cited By (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2012220794A (ja) * 2011-04-11 2012-11-12 Hitachi Chem Co Ltd 感光性樹脂組成物、感光性エレメント、レジストパターンの製造方法、プリント配線板の製造方法、及びプリント配線
JPWO2014024951A1 (ja) * 2012-08-08 2016-07-25 旭化成イーマテリアルズ株式会社 感光性フィルム積層体、及び、フレキシブルプリント配線の製造方法
JP2014182383A (ja) * 2013-03-15 2014-09-29 Dongwoo Fine-Chem Co Ltd 着色感光性樹脂組成物
JP2016021012A (ja) * 2014-07-15 2016-02-04 東京応化工業株式会社 感光性組成物
JP2016090797A (ja) * 2014-11-05 2016-05-23 株式会社Adeka 硬化性組成物
JP2019501402A (ja) * 2015-11-04 2019-01-17 ローム・アンド・ハース・エレクトロニック・マテリアルズ・コリア・リミテッド 着色感光性樹脂組成物及びそれから調製される遮光スペーサ
US20200299236A1 (en) * 2015-11-04 2020-09-24 Rohm And Haas Electronic Materials Korea Ltd Colored photosensitive resin composition and light shielding spacer prepared therefrom
KR20180044814A (ko) 2016-10-24 2018-05-03 도쿄 오카 고교 가부시키가이샤 감광성 조성물 및 경화막의 형성 방법
KR20200115526A (ko) 2018-01-31 2020-10-07 도레이 카부시키가이샤 네거티브형 감광성 수지 조성물, 경화막, 경화막을 구비하는 소자 및 표시 장치 및 그 제조 방법
KR20210126513A (ko) 2020-04-10 2021-10-20 도쿄 오카 고교 가부시키가이샤 감광성 조성물, 패턴화된 경화막의 제조 방법, 및 패턴화된 경화막
KR20210126512A (ko) 2020-04-10 2021-10-20 도쿄 오카 고교 가부시키가이샤 감광성 조성물, 패턴화된 경화막의 제조 방법, 및 패턴화된 경화막

Also Published As

Publication number Publication date
KR20170099817A (ko) 2017-09-01
JP6009774B2 (ja) 2016-10-19
CN102645843A (zh) 2012-08-22
CN106980230B (zh) 2020-05-19
KR101976268B1 (ko) 2019-05-07
KR101851798B1 (ko) 2018-04-24
CN106980230A (zh) 2017-07-25
CN102645843B (zh) 2018-05-08
KR20120097462A (ko) 2012-09-04
TW201245876A (en) 2012-11-16
TWI536104B (zh) 2016-06-01

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP6009774B2 (ja) 感光性樹脂組成物、並びにそれを用いたカラーフィルタ及び表示装置
JP6134037B2 (ja) 感光性樹脂組成物、並びにそれを用いたカラーフィルタ及び表示装置
CN111454711B (zh) 量子点、组合物与使用其的固化层、包含固化层的滤色器与显示装置以及制造固化层的方法
JP6026757B2 (ja) 感光性樹脂組成物、カラーフィルタ、表示装置、光重合開始剤、及び化合物
JP5690490B2 (ja) 感光性組成物
KR101767082B1 (ko) 감광성 수지 조성물, 이를 이용한 감광성 수지막 및 컬러필터
JP5890297B2 (ja) 感光性樹脂組成物、それを用いたカラーフィルタ及び表示装置、オキシムエステル化合物、並びに光重合開始剤
JP5096814B2 (ja) 着色感光性組成物
KR102064297B1 (ko) 감광성 수지 조성물, 이를 이용한 블랙 화소 격벽층 및 디스플레이 장치
KR20070094460A (ko) 흑색 감광성 조성물
JP5843907B2 (ja) 着色感光性樹脂組成物、ブラックマトリックス、カラーフィルター、及び液晶表示ディスプレイ
CN106019837A (zh) 着色感光性树脂组合物、滤色器和具备其的图像显示装置
KR20150055417A (ko) 착색 감광성 수지 조성물
JP2020086317A (ja) 感光性樹脂組成物、パターン化された硬化膜の製造方法、及びパターン化された硬化膜
JP2010262027A (ja) 着色感放射線性組成物、カラーフィルタおよびカラー液晶表示素子
JP4745146B2 (ja) 着色感光性樹脂組成物
JP4611724B2 (ja) 遮光膜形成用感光性組成物、該遮光膜形成用感光性組成物で形成されたブラックマトリクス
KR20170009794A (ko) 옥심에스테르 화합물 및 이를 포함하는 감광성 수지 조성물
KR20130072935A (ko) 감광성 수지 조성물 및 이를 이용한 컬러필터
KR20160089735A (ko) 착색 감광성 수지 조성물
JP2025024693A (ja) 感光性組成物、硬化物、ブラックマトリクス、ブラックバンク、カラーフィルター、画像表示パネル、画像表示装置、硬化物の製造方法、および化合物
KR101548157B1 (ko) 컬러필터용 감광성 수지 조성물 및 이를 이용한 컬러필터
KR20100006538A (ko) 착색 감광성 수지 조성물 및 옥심계 광중합 개시제

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20141225

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20150818

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20150819

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20151019

A02 Decision of refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02

Effective date: 20151201

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20160301

A911 Transfer of reconsideration by examiner before appeal (zenchi)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A911

Effective date: 20160309

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20160531

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20160713

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20160913

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20160915

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 6009774

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150