JP2012192544A - Imprint mold, imprint method, and imprint device - Google Patents

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JP2012192544A JP2011056308A JP2011056308A JP2012192544A JP 2012192544 A JP2012192544 A JP 2012192544A JP 2011056308 A JP2011056308 A JP 2011056308A JP 2011056308 A JP2011056308 A JP 2011056308A JP 2012192544 A JP2012192544 A JP 2012192544A
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武嗣 白石
Akihiro Fujimoto
章弘 藤本
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Konica Minolta Advanced Layers Inc
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an imprint mold, an imprint method and an imprint device capable of preparing a molded product having 10 μm or less of thickness and less than four minutes of parallelism of a residual film.SOLUTION: The imprint mold includes: an imprint forming face on which a print pattern is formed; and extending faces extending from the imprint forming face. The imprint forming face is formed in a recessed part relative to the extending faces.

Description

本発明は、型表面に形成された微細形状のパターンを被成形体に転写するインプリント用金型、インプリント方法、及び該インプリント用金型を搭載したインプリント装置に関する。   The present invention relates to an imprint mold for imprinting a fine pattern formed on a mold surface onto a molding target, an imprint method, and an imprint apparatus equipped with the imprint mold.

近年、微細パターンを形成できるインプリント技術が注目を浴びている。   In recent years, an imprint technique capable of forming a fine pattern has attracted attention.

インプリント技術とは、金型の表面に形成した凹凸の微細パターンを樹脂材料に押し付けて転写し、または、該微細パターンをエネルギー硬化型樹脂に転写する技術である。   The imprint technique is a technique in which an uneven fine pattern formed on the surface of a mold is transferred by being pressed against a resin material, or the fine pattern is transferred to an energy curable resin.

インプリント技術は、金型のインプリント領域の高アスペクト比の微細パターンを、高い精度をもって大面積で低コストに転写することが可能であるという特長を有する。   The imprint technology has a feature that a fine pattern having a high aspect ratio in an imprint region of a mold can be transferred with high accuracy and a large area at a low cost.

かかるインプリント技術によれば、金型の表面のナノメートルオーダーの微細パターンを被成形体の表面へ転写できる一方、成形品の全体形状、特に成形品の厚みは金型の全体形状で決定される。   According to such imprint technology, a fine pattern on the order of nanometers on the surface of the mold can be transferred to the surface of the molded object, while the overall shape of the molded product, particularly the thickness of the molded product, is determined by the overall shape of the mold. The

そこで、インプリント技術を採用しつつ、成形品の厚みを任意に制御する技術が提案されている(例えば、特許文献1参照)。   Therefore, a technique for arbitrarily controlling the thickness of a molded product while adopting an imprint technique has been proposed (see, for example, Patent Document 1).

特許文献1には、金型にスペーサを取り付け、該スペーサによって成形品の厚みを任意に規定するインプリント装置が開示されている。スペーサの高さは、2〜1000μmであり、スペーサの高さと同等の厚みの成形品を作製できる。   Patent Document 1 discloses an imprint apparatus in which a spacer is attached to a mold and the thickness of a molded product is arbitrarily defined by the spacer. The height of the spacer is 2 to 1000 μm, and a molded product having a thickness equivalent to the height of the spacer can be produced.

特表2006−519711号公報JP-T-2006-519711

昨今、インプリント技術には、インプリントの残膜を含めて、成形品の厚みが10μm以下で、かつ、成形品の残膜の平行度を4’未満とする高精度化が要求されている。かかる精度を満たすためには、1辺が1mmの光学素子の場合、1μm以下の厚みばらつき(平行度)を達成する必要がある。   In recent years, the imprint technology is required to have high accuracy so that the thickness of the molded product including the residual film of the imprint is 10 μm or less and the parallelism of the residual film of the molded product is less than 4 ′. . In order to satisfy such accuracy, in the case of an optical element having one side of 1 mm, it is necessary to achieve a thickness variation (parallelism) of 1 μm or less.

一方、特許文献1に記載のインプリント用金型によれば、スペーサを用いるので、成形品の厚みや残膜の平行度は、スペーサの大きさが小さい程向上する。   On the other hand, according to the imprint mold described in Patent Document 1, since the spacer is used, the thickness of the molded product and the parallelism of the remaining film are improved as the size of the spacer is smaller.

従って、成形品の厚みや残膜の平行度の限界はスペーサの微小化の限界に一致する。   Therefore, the limit of the thickness of the molded product and the parallelism of the remaining film coincide with the limit of miniaturization of the spacer.

しかるに、特許文献1の記載によればスペーサの厚みは大きいので、成形品の薄型化、平行度の確保には限界がある。   However, according to the description in Patent Document 1, the thickness of the spacer is large, so there is a limit to reducing the thickness of the molded product and securing the parallelism.

本発明は、厚みが10μm以下で、かつ、残膜の平行度を4’未満とする成形品を作製可能なインプリント用金型、インプリント方法、及びインプリント装置を提供することを目的とする。   It is an object of the present invention to provide an imprint mold, an imprint method, and an imprint apparatus capable of producing a molded product having a thickness of 10 μm or less and a remaining film having a parallelism of less than 4 ′. To do.

前述の目的は、下記に記載する発明により達成される。   The above object is achieved by the invention described below.

1.プリントパターンが形成されたインプリント形成面と、該インプリント形成面に延在する延在面とを備え、
前記インプリント形成面は、前記延在面に対する凹部に形成されていることを特徴とするインプリント用金型。
1. An imprint forming surface on which a printed pattern is formed, and an extending surface extending to the imprint forming surface,
The imprint mold is characterized in that the imprint forming surface is formed in a recess with respect to the extending surface.

2.前記プリントパターンの断面は露出されており、
前記プリントパターンの断面を覆い、一面が前記延在面と同一平面内に存在するガイドを有することを特徴とする前記1に記載のインプリント用金型。
2. The cross section of the print pattern is exposed,
2. The imprint mold according to 1, wherein the imprint mold includes a guide that covers a cross section of the print pattern and has one surface in the same plane as the extending surface.

3.プリントパターンが形成されたインプリント形成面を備えるインプリント用金型と、変形可能な被成形体とを接触させることにより、前記被成形体を前記プリントパターンの形状に成形するインプリント方法であって、
前記インプリント用金型は、前記インプリント形成面に延在する延在面を備え、
前記インプリント形成面は、前記延在面に対する凹部に形成されていることを特徴とするインプリント方法。
3. An imprint method for forming an object to be molded into the shape of the print pattern by bringing an imprint mold having an imprint forming surface on which a print pattern is formed into contact with a deformable object to be molded. And
The imprint mold includes an extending surface that extends to the imprint forming surface;
The imprint forming surface is formed in a concave portion with respect to the extending surface.

4.前記プリントパターンの断面は露出されており、
前記プリントパターンの断面を覆い、一面が前記延在面と同一平面内に存在するガイドを有することを特徴とする前記3に記載のインプリント方法。
4). The cross section of the print pattern is exposed,
4. The imprinting method according to 3 above, wherein the imprinting method includes a guide that covers a cross section of the print pattern and has one surface in the same plane as the extended surface.

5.前記被成形体はエネルギー硬化型樹脂であり、
前記被成形体を前記プリントパターン上にインクジェット法により塗布する工程を有することを特徴とする前記3または4に記載のインプリント方法。
5. The molded body is an energy curable resin,
5. The imprinting method according to 3 or 4 above, further comprising a step of applying the object to be molded onto the print pattern by an ink jet method.

6.前記1または2に記載のインプリント用金型を有することを特徴とするインプリント装置。   6). 3. An imprint apparatus comprising the imprint mold as described in 1 or 2 above.

厚みが10μm以下で、かつ、残膜の平行度を4’未満とする成形品を作製可能なインプリント用金型、及びインプリント装置を提供できる。   It is possible to provide an imprint mold and an imprint apparatus capable of producing a molded product having a thickness of 10 μm or less and a remaining film having a parallelism of less than 4 ′.

回折格子のインプリント用金型1の斜視図である。It is a perspective view of the metal mold 1 for imprinting of a diffraction grating. 回折格子のインプリント用金型1の断面図である。It is sectional drawing of the metal mold | die 1 for imprinting of a diffraction grating. 延在面3が曲面のインプリント用金型1の斜視図である。FIG. 2 is a perspective view of an imprint mold 1 having an extended surface 3 having a curved surface. 円筒面を備える光学素子のインプリント用金型100、110の斜視図である。It is a perspective view of the imprint metal mold | die 100,110 of an optical element provided with a cylindrical surface. 所定サイズ、所定厚みに形成された平板11の斜視図である。It is a perspective view of the flat plate 11 formed in predetermined size and predetermined thickness. 回折格子の切削の様子を示す図である。It is a figure which shows the mode of cutting of a diffraction grating. ダイヤモンドバイト21をy軸方向に直進駆動する様子を示す図である。It is a figure which shows a mode that the diamond cutting tool 21 is linearly driven in the y-axis direction. インプリント用金型100の切削の方法を説明する図である。It is a figure explaining the cutting method of the metal mold | die 100 for imprint. 円筒面の接線Tとダイヤモンドバイト21との関係を示す図である。It is a figure which shows the relationship between the tangent T of a cylindrical surface, and the diamond bit 21. FIG. インプリント工程のフロー図である。It is a flowchart of an imprint process. ディスペンサ31により2P樹脂32を塗布する様子を示す図である。It is a figure which shows a mode that 2P resin 32 is apply | coated by the dispenser 31. FIG. インクジェット方式により2P樹脂32を塗布する様子を示す図である。It is a figure which shows a mode that 2P resin 32 is apply | coated by an inkjet system. インプリント用金型1上の2P樹脂32に透明ガラス基板36を接触させた状態を示す図である。It is a figure which shows the state which made the transparent glass substrate 36 contact the 2P resin 32 on the metal mold | die 1 for imprint. 透明ガラス基板36の背面から2P樹脂32にUV光を照射する状態を示す図である。It is a figure which shows the state which irradiates UV light to 2P resin 32 from the back surface of the transparent glass substrate. インプリント用金型1から成形体37を剥離する様子を示す図である。It is a figure which shows a mode that the molded object 37 is peeled from the metal mold | die 1 for imprint. ダイシングソーを用いて成形体37を切断する説明図である。It is explanatory drawing which cut | disconnects the molded object 37 using a dicing saw. 個片化された成形体39の斜視図である。It is a perspective view of the molded object 39 separated into pieces. 図4(a)で示したインプリント用金型100を用いて上記と同様にインプリント工程を経て得た成形体40の斜視図である。It is a perspective view of the molded object 40 obtained through the imprint process similarly to the above using the imprint metal mold | die 100 shown to Fig.4 (a). 成形体40をカットして個片化されたシリンドリカルレンズCL1の斜視図である。It is a perspective view of the cylindrical lens CL1 cut into pieces by cutting the molded body 40. FIG. 図4(b)で示したインプリント用金型110を用いて上記と同様にインプリント工程を経て得た成形体42の斜視図である。It is a perspective view of the molded object 42 obtained through the imprint process similarly to the above using the imprint metal mold | die 110 shown in FIG.4 (b). 成形体42をカットして個片化された円筒面44を備えるシリンドリカルレンズCL2の斜視図である。It is a perspective view of cylindrical lens CL2 provided with cylindrical surface 44 which cut molded object 42 and was separated into pieces. 凹状の円筒反射面46を備えるミラー45の斜視図である。It is a perspective view of the mirror 45 provided with the concave cylindrical reflective surface 46. FIG. シリンドリカルレンズCL2を切断するラインLを示す図である。It is a figure which shows the line L which cut | disconnects the cylindrical lens CL2. 基板50が、インプリント形成面2の一部のみに対面する状態を示す図である。It is a figure which shows the state which the board | substrate 50 faces only a part of imprint formation surface 2. FIG. 側面にガイド52a,52bを設けたインプリント用金型1の斜視図である。It is a perspective view of the imprint mold 1 provided with guides 52a and 52b on the side surfaces. インプリント形成面2の全てに基板50を対面させて配置する様子を示す図である。It is a figure which shows a mode that the board | substrate 50 is made to face and arrange | position all over the imprint formation surface. 基板50を重力方向下側に配置する様子を示す図である。It is a figure which shows a mode that the board | substrate 50 is arrange | positioned on the gravity direction lower side. 基板50に透明ガラス基板36を用いた様子を示す図である。It is a figure which shows a mode that the transparent glass substrate 36 was used for the board | substrate 50. FIG.

(第1の実施形態)
以下、図面を参照して第1の実施形態について説明する。
(First embodiment)
Hereinafter, a first embodiment will be described with reference to the drawings.

図1は、回折格子のインプリント用金型1の斜視図である。   FIG. 1 is a perspective view of a diffraction grating imprint mold 1.

図2は、回折格子のインプリント用金型1の断面図である。   FIG. 2 is a cross-sectional view of the diffraction grating imprint mold 1.

インプリント用金型1は、プリントパターンが形成されたインプリント形成面2と、該インプリント形成面2に延在する延在面3とを備え、インプリント形成面2は、延在面3に対するインプリント用金型1の凹部に形成されている。   The imprint mold 1 includes an imprint forming surface 2 on which a print pattern is formed, and an extending surface 3 extending to the imprint forming surface 2, and the imprint forming surface 2 is an extending surface 3. Is formed in the recess of the imprint mold 1.

インプリント形成面2は、被成形体(図示せず)に接触して、被成形体にプリントパターンを転写する面である。図1に示したインプリント形成面2には、プリントパターンとしてブレーズ型の回折格子が形成されている。回折格子の形状は、ブレーズ型に限られず、対象形状(例えば矩形形状)の回折格子でもよい。また、回折格子のピッチや深さは、場所によって異なっていてもよいし、回折光にレンズ機能等の特性をもたせてもよい。   The imprint forming surface 2 is a surface that contacts a molding target (not shown) and transfers a print pattern to the molding target. On the imprint forming surface 2 shown in FIG. 1, a blazed diffraction grating is formed as a print pattern. The shape of the diffraction grating is not limited to the blaze type, and may be a diffraction grating having a target shape (for example, a rectangular shape). Further, the pitch and depth of the diffraction grating may vary depending on the location, and the diffracted light may have characteristics such as a lens function.

図1に示したインプリント用金型1の各寸法abcは、それぞれ5〜20mmが望ましい。   Each dimension abc of the imprint mold 1 shown in FIG. 1 is preferably 5 to 20 mm.

インプリント形成面2は、インプリント用金型1の側面6にインプリント形成面2のプリントパターンの断面が露わになっている。   The imprint formation surface 2 has a cross section of the print pattern of the imprint formation surface 2 exposed on the side surface 6 of the imprint mold 1.

インプリント形成面2は、延在面3に対してインプリント用金型1の凹部に形成されている。インプリント形成面2が延在面3に対してインプリント用金型1の凹部に形成されているとは、インプリント形成面2の最も外側の部位が、延在面3に対してインプリント用金型1側にあるということである。図1,2では、回折格子の山部の頂点5は、延在面3に対してインプリント用金型1側に位置している。延在面3と頂点5との間隔eは正の値を有し、望ましくは5μm以下である。   The imprint forming surface 2 is formed in the recessed portion of the imprint mold 1 with respect to the extending surface 3. The imprint forming surface 2 is formed in the recessed portion of the imprint mold 1 with respect to the extending surface 3. The outermost portion of the imprint forming surface 2 is imprinted on the extending surface 3. That is, it is on the mold 1 side. In FIGS. 1 and 2, the peak 5 of the peak portion of the diffraction grating is located on the imprint mold 1 side with respect to the extended surface 3. The distance e between the extended surface 3 and the vertex 5 has a positive value, and is preferably 5 μm or less.

回折格子のピッチpと高さhはそれぞれ、50〜1000nmであり、アスペクト比(p:h)は、(0.5:1)〜(3:1)程度が望ましい。回折格子のピッチpは小さいほど回折効率を高く制御できるので望ましい。回折格子の高さhは、用途に応じて、また、成形物が透過型回折格子か反射型回折格子かによって所望の回折効率が得られるように、使用波長に対して最適化することが望ましい。   The pitch p and height h of the diffraction grating are 50 to 1000 nm, respectively, and the aspect ratio (p: h) is preferably about (0.5: 1) to (3: 1). The smaller the pitch p of the diffraction grating, the higher the diffraction efficiency, which is desirable. It is desirable to optimize the height h of the diffraction grating with respect to the wavelength used so that a desired diffraction efficiency can be obtained depending on the application and whether the molded product is a transmission diffraction grating or a reflection diffraction grating. .

なお、延在面3の面積の大きさは特に問われない。延在面3の幅sは、小さくても良い。また延在面3は平面が望ましいが、図3に示すように曲面でもよい。   In addition, the size of the area of the extending surface 3 is not particularly limited. The width s of the extending surface 3 may be small. The extending surface 3 is preferably a flat surface, but may be a curved surface as shown in FIG.

プリントパターンは、回折格子に限らない。図4は、円筒面を備える光学素子のインプリント用金型100,110の斜視図である。図4(a)は、凹面状の円筒面を備える光学素子のインプリント用金型100の斜視図であり、図4(b)は、凸面状の円筒面を備える光学素子のインプリント用金型110の斜視図である。   The print pattern is not limited to the diffraction grating. FIG. 4 is a perspective view of an imprint mold 100, 110 for an optical element having a cylindrical surface. 4A is a perspective view of an optical element imprint mold 100 having a concave cylindrical surface, and FIG. 4B is an optical element imprint metal mold having a convex cylindrical surface. 2 is a perspective view of a mold 110. FIG.

かかるインプリント用金型100,110を用いれば、円筒面を備えた光学素子を成形することができる。円筒面を備えた光学素子とは、例えばシリンドリカルレンズや、円筒反射面を備えたミラーなどである。   If such imprint molds 100 and 110 are used, an optical element having a cylindrical surface can be molded. The optical element having a cylindrical surface is, for example, a cylindrical lens or a mirror having a cylindrical reflecting surface.

次いで、インプリント用金型の製造方法を説明する。   Next, a method for manufacturing an imprint mold will be described.

インプリント用金型用に、所定サイズ、所定厚みに形成された平板11を用意し(図5参照)、切削法によってプリントパターンを形成する。   A flat plate 11 having a predetermined size and a predetermined thickness is prepared for an imprint mold (see FIG. 5), and a print pattern is formed by a cutting method.

インプリント用金型に用いられる材質としては、例えばSi、SiO、SiC、Ni、NiP、Al合金、ステンレス鋼等を用いることができる。 As a material used for the imprint mold, for example, Si, SiO 2 , SiC, Ni, NiP, Al alloy, stainless steel, or the like can be used.

プリントパターンの切削について説明する。最初にインプリント用金型1について説明する。   The cutting of the print pattern will be described. First, the imprint mold 1 will be described.

インプリント用金型1の作製の際には、作製する回折格子の形状に合わせたダイヤモンドバイト21を用意する。頂点の角度がθ1の回折格子の作製には、図6に示すように、刃先20の角度がθ1のダイヤモンドバイト21を用意する。かかるダイヤモンドバイト21を図示しない回転駆動部を用いて図中の座標系のy軸方向を軸として回転させる。このように、刃先20の角度がθ1のダイヤモンドバイト21をy軸方向を回転軸として回転させることで、平板11上にダイヤモンドバイト21の刃先20の形状と同じ断面の形状を備えた溝部22が形成される。そして、ダイヤモンドバイト21を前述のように回転させながら、直進駆動部(図示せず)を用いて平板11とダイヤモンドバイト21とを相対的にx軸方向に直進移動させると、溝部22がx軸方向に延伸され、平板11の端から端までの長さにまで切削される。   When the imprint mold 1 is manufactured, a diamond tool 21 that matches the shape of the diffraction grating to be manufactured is prepared. For the production of a diffraction grating having an apex angle of θ1, as shown in FIG. 6, a diamond cutting tool 21 having an edge angle 20 of θ1 is prepared. The diamond bit 21 is rotated about the y-axis direction of the coordinate system in the drawing using a rotation driving unit (not shown). In this way, by rotating the diamond cutting tool 21 whose blade edge 20 has an angle θ1 about the y-axis direction as a rotation axis, the groove portion 22 having the same cross-sectional shape as the cutting edge 20 of the diamond cutting tool 21 is formed on the flat plate 11. It is formed. Then, when the diamond bit 21 is rotated as described above and the flat plate 11 and the diamond bit 21 are relatively moved linearly in the x-axis direction by using a linear drive unit (not shown), the groove portion 22 becomes the x-axis. It is extended in the direction and cut to the length from end to end of the flat plate 11.

ダイヤモンドバイト21の刃先20が平板11を切削しない位置にまで離れると、ダイヤモンドバイト21をy軸方向に、図7に示すように、回折格子のピッチpだけ直進駆動部を用いて移動させ、前述と同様に、ダイヤモンドバイト21を回転させながら、直進駆動部を用いて平板11とダイヤモンドバイト21とを相対的にx軸方向に直進移動させる。かかる動作を回折格子の溝の数だけ行うことで、回折格子のプリントパターンを完成させることができる。   When the cutting edge 20 of the diamond cutting tool 21 moves away to a position where the flat plate 11 is not cut, the diamond cutting tool 21 is moved in the y-axis direction by a diffraction drive pitch p as shown in FIG. Similarly, while rotating the diamond cutting tool 21, the flat plate 11 and the diamond cutting tool 21 are moved relatively straight in the x-axis direction by using the linear drive unit. By performing such an operation for the number of grooves of the diffraction grating, a printed pattern of the diffraction grating can be completed.

次いで、インプリント用金型100について説明する。図8は、インプリント用金型100の切削の方法を説明する図である。   Next, the imprint mold 100 will be described. FIG. 8 is a diagram for explaining a method of cutting the imprint mold 100.

円筒面101を切削するには円筒面101の形状を備えた刃先を用いることもできるが、高い形状精度を得るには、図5に示したような鋭利な刃先を備えるダイヤモンドバイトを用い、微小ピッチで刃先を移動させて円筒面101を形成することが望ましい。   To cut the cylindrical surface 101, a cutting edge having the shape of the cylindrical surface 101 can be used. However, in order to obtain high shape accuracy, a diamond cutting tool having a sharp cutting edge as shown in FIG. It is desirable to form the cylindrical surface 101 by moving the blade edge at a pitch.

ただし、刃先の角度が形状を規定する箇所があるので、図9に示すように、インプリント形成面2の平面部102と円筒面101とが交わる部分の円筒面の接線Tと、平面部102とが成す各θ2と同じ角度の刃先を備えたダイヤモンドバイト21を採用する。   However, since there is a portion where the angle of the blade edge defines the shape, as shown in FIG. 9, the tangent T of the cylindrical surface where the flat surface 102 of the imprint forming surface 2 and the cylindrical surface 101 intersect, and the flat surface 102 A diamond cutting tool 21 having a cutting edge at the same angle as each θ2 formed by the above is adopted.

かかるダイヤモンドバイト21を採用し、ダイヤモンドバイト21の先端が円筒面101とインプリント形成面2の平面部102とをなぞるように、平板11とダイヤモンドバイト21と相対的に移動させる。このような方法を用いることで、円筒面のプリントパターンを完成させることができる。   The diamond cutting tool 21 is adopted, and the flat plate 11 and the diamond cutting tool 21 are moved relative to each other so that the tip of the diamond cutting tool 21 traces the cylindrical surface 101 and the flat portion 102 of the imprint forming surface 2. By using such a method, a print pattern of a cylindrical surface can be completed.

なお、インプリント用金型110も同様に作製することができる。   The imprint mold 110 can also be produced in the same manner.

次いで、インプリント工程について、インプリント用金型1を例にとり説明する。   Next, the imprint process will be described using the imprint mold 1 as an example.

上記で作製したインプリント用金型1を用いて回折格子をインプリントにより作製する。   A diffraction grating is produced by imprinting using the imprint mold 1 produced above.

図10は、インプリント工程のフロー図である。図11は、ディスペンサ31により2P樹脂32を塗布する様子を示す図である。   FIG. 10 is a flowchart of the imprint process. FIG. 11 is a diagram illustrating a state in which the 2P resin 32 is applied by the dispenser 31.

インプリント工程における被成形体とは、インプリント形成面2のプリントパターンを転写して成形する目的物となるべき物である。言い換えれば、プリントパターンをポジ形状とすると、被成形体がプリントパターンのネガ形状に相当する。   The object to be molded in the imprint process is an object to be formed by transferring and molding the print pattern on the imprint forming surface 2. In other words, if the print pattern has a positive shape, the molded body corresponds to the negative shape of the print pattern.

例えば、液体であって変形可能なエネルギー硬化型樹脂を被成形体として用いることもできるし、加熱により変形可能とされた熱可塑性樹脂を被成形体として用いることもできる。エネルギー硬化型樹脂とは、光エネルギーで硬化する2P樹脂(photo polymer 樹脂)や、熱エネルギーで硬化する熱硬化型樹脂のことを指す。   For example, a liquid and deformable energy curable resin can be used as the molded body, or a thermoplastic resin that can be deformed by heating can be used as the molded body. The energy curable resin refers to a 2P resin (photopolymer resin) that is cured by light energy or a thermosetting resin that is cured by thermal energy.

例えばエネルギー硬化型樹脂を用いる場合、エネルギー硬化型樹脂をインプリント形成面2に滴下して、エネルギー硬化型樹脂をインプリント形成面2に接触させ、エネルギー硬化型樹脂でプリントパターンを埋め、エネルギーを供給してエネルギー硬化型樹脂を固化させ、エネルギー硬化型樹脂をインプリント形成面2から剥離することで、プリントの目的物である成形体を得ることができる。   For example, when an energy curable resin is used, the energy curable resin is dropped on the imprint forming surface 2, the energy curable resin is brought into contact with the imprint forming surface 2, the print pattern is filled with the energy curable resin, By supplying and solidifying the energy curable resin, and peeling the energy curable resin from the imprint forming surface 2, it is possible to obtain a molded body that is an object of printing.

エネルギー硬化型樹脂を硬化させる際に、エネルギー硬化型樹脂にプラスティックやガラスの基板を重ねれば、基板上に装荷される状態でプリントの目的物である成形体を得ることができる。   When the energy curable resin is cured, if a plastic or glass substrate is stacked on the energy curable resin, a molded body that is an object of printing can be obtained in a state of being loaded on the substrate.

また、被成形体に熱可塑性樹脂を用いる場合、加熱された熱可塑性樹脂をインプリント形成面2に接触させ、熱可塑性樹脂でプリントパターンを埋め、加熱後に熱可塑性樹脂をインプリント形成面2から剥離することで、プリントの目的物である成形体を得ることができる。   When a thermoplastic resin is used for the object to be molded, the heated thermoplastic resin is brought into contact with the imprint formation surface 2 to fill the print pattern with the thermoplastic resin, and the thermoplastic resin is heated from the imprint formation surface 2 after heating. By peeling off, it is possible to obtain a molded body that is an object of printing.

本実施形態においては、例として2P樹脂を被成形体に採用して説明する。   In this embodiment, 2P resin is employ | adopted for a to-be-molded body as an example, and is demonstrated.

最初にステップS1にて、インプリント用金型1のインプリント形成面2上に2P樹脂32を滴下する。照射する光としては一般にUV光が用いられるが樹脂によっては可視光を用いることもできる。なお、光硬化性樹脂の代わりに熱硬化型樹脂を採用しても良い。上記のように、エネルギー硬化性樹脂であれば、光硬化性樹脂または熱硬化型樹脂のどちらでも良い。   First, in step S1, 2P resin 32 is dropped on the imprint forming surface 2 of the imprint mold 1. UV light is generally used as the irradiation light, but visible light can also be used depending on the resin. A thermosetting resin may be used instead of the photocurable resin. As described above, as long as it is an energy curable resin, either a photocurable resin or a thermosetting resin may be used.

2P樹脂32を滴下するにはディスペンサ31を用いる。2P樹脂32の滴下量は、成形品の体積を基に硬化時に収縮率等を参考にして決定する。滴下された2P樹脂は表面張力により図11に示すような形状になる。   A dispenser 31 is used to drop the 2P resin 32. The dripping amount of the 2P resin 32 is determined based on the volume of the molded product with reference to the shrinkage rate at the time of curing. The dropped 2P resin has a shape as shown in FIG. 11 due to surface tension.

また、ディスペンサ31の代わりにインクジェット方式により2P樹脂32をインプリント形成面2上に塗布してもよいし、マイクロピペット(図示せず)を用いても良い。   Further, instead of the dispenser 31, the 2P resin 32 may be applied on the imprint forming surface 2 by an ink jet method, or a micropipette (not shown) may be used.

図12は、インクジェット方式により2P樹脂32を塗布する様子を示す図である。   FIG. 12 is a diagram illustrating a state in which the 2P resin 32 is applied by an inkjet method.

インクジェットヘッドHは、2P樹脂が充填されたインクタンクと、インクノズルと、インクノズルからインクを吐出させるように圧力を発生させる圧力部と、を備える。圧力部には圧電方式、バブルジェット(登録商標)方式を採用できる。圧電方式とは圧電素子を採用した方式であり、バブルジェット(登録商標)方式とは気体の膨張圧を利用した方式である。インクノズルは複数の開口であることが望ましい。   The inkjet head H includes an ink tank filled with 2P resin, an ink nozzle, and a pressure unit that generates pressure so as to eject ink from the ink nozzle. A piezoelectric system and a bubble jet (registered trademark) system can be adopted for the pressure part. The piezoelectric method is a method using a piezoelectric element, and the bubble jet (registered trademark) method is a method using an expansion pressure of gas. The ink nozzle is preferably a plurality of openings.

このようにインクジェットヘッドHを用いることで、エネルギー硬化性樹脂の塗布位置と塗布量をより精密にコントロールすることが可能となる。   By using the inkjet head H in this way, the application position and application amount of the energy curable resin can be controlled more precisely.

また、インクノズルに複数の開口を用いることで、図12に示すように、2P樹脂列Pが形成され、短時間に多くの2P樹脂をインプリント形成面2上に塗布できるので、工程に短縮化に繋がる。また、インクジェットヘッドHを複数用いれば、より短時間にエネルギー硬化性樹脂を塗布することができるので望ましい。   Further, by using a plurality of openings in the ink nozzle, a 2P resin row P is formed as shown in FIG. 12, and a large amount of 2P resin can be applied on the imprint forming surface 2 in a short time, thereby shortening the process. Leads to Further, it is desirable to use a plurality of inkjet heads H because the energy curable resin can be applied in a shorter time.

次いで、ステップ2にて、透明ガラス基板36を用意し、透明ガラス基板36を2P樹脂32上に接触させる。図13は、インプリント用金型1上の2P樹脂32に透明ガラス基板36を接触させた状態を示す図である。   Next, in step 2, a transparent glass substrate 36 is prepared, and the transparent glass substrate 36 is brought into contact with the 2P resin 32. FIG. 13 is a view showing a state in which the transparent glass substrate 36 is brought into contact with the 2P resin 32 on the imprint mold 1.

透明ガラス基板36には、他にプラスティック基板を採用してもよい。また、レンズの表面に直接微細パターンを形成させる場合には、透明ガラス基板36の代わりにレンズ自体を用いてもよい。   In addition, a plastic substrate may be adopted as the transparent glass substrate 36. Further, when a fine pattern is directly formed on the surface of the lens, the lens itself may be used instead of the transparent glass substrate 36.

透明ガラス基板36を2P樹脂32上に接触させる際には、透明ガラス基板36の自重で接触させてもよいし、透明ガラス基板36とインプリント用金型1との間に圧力を加えても良い。2P樹脂32の粘度が小さければ自重によって2P樹脂32は回折格子の溝部22へ容易に充填されるが、粘度が高い2P樹脂32を採用する場合には、溝部22に空気層が残る場合もある。そこで、粘度が高い2P樹脂32を採用する場合には、透明ガラス基板36とインプリント用金型1の間に圧力を加えることで、2P樹脂32を回折格子の溝部22へ充填させることができる。   When the transparent glass substrate 36 is brought into contact with the 2P resin 32, the transparent glass substrate 36 may be brought into contact with its own weight, or pressure may be applied between the transparent glass substrate 36 and the imprint mold 1. good. If the viscosity of the 2P resin 32 is small, the 2P resin 32 is easily filled into the groove portion 22 of the diffraction grating by its own weight. However, when the 2P resin 32 having a high viscosity is used, an air layer may remain in the groove portion 22. . Therefore, when the 2P resin 32 having a high viscosity is used, the 2P resin 32 can be filled in the groove portion 22 of the diffraction grating by applying pressure between the transparent glass substrate 36 and the imprint mold 1. .

次いで、ステップ3にて、2P樹脂32にUV光を所定時間照射し、硬化エネルギーを2P樹脂32に供給して硬化させる。   Next, in step 3, the 2P resin 32 is irradiated with UV light for a predetermined time, and curing energy is supplied to the 2P resin 32 to be cured.

図14は、透明ガラス基板36の背面から2P樹脂32にUV光を照射する状態を示す図である。   FIG. 14 is a diagram illustrating a state in which the 2P resin 32 is irradiated with UV light from the back surface of the transparent glass substrate 36.

2P樹脂32はUV光を照射されることにより、重合開始剤の働きにも助けられて樹脂成分が重合して固形化される。2P樹脂32は透明ガラス基板36の表面に接合される。プリントパターンが形成された2P樹脂32が成形体37を成すこととなる。   When the 2P resin 32 is irradiated with UV light, the resin component is polymerized and solidified with the help of the function of the polymerization initiator. The 2P resin 32 is bonded to the surface of the transparent glass substrate 36. The 2P resin 32 on which the print pattern is formed forms the molded body 37.

UV光の光強度は、一定であってもよいし、例えば、プリキャア、ポストキュアのように時間の関数として変化させてもよい。2P樹脂32は、UV光源に近い場所から硬化が始まり、UV光源から遠い場所が硬化し切る前に、硬化したUV光源に近い場所にも継続してUV光が照射される。そのため、成形品に変形が生じたり、硬化したUV光源に近い場所に黄濁が生じる場合もあるので、2P樹脂32の厚みはなるべく薄い方が好ましい。また、2P樹脂32の厚みを薄くすると、次ステップの剥離工程において2P樹脂32が部分的に剥離される虞れも少なくなるので好ましい。   The light intensity of the UV light may be constant or may be changed as a function of time such as pre-cure and post-cure. The 2P resin 32 is cured from a location near the UV light source, and the UV light is continuously irradiated to a location near the cured UV light source before the location far from the UV light source is completely cured. Therefore, the molded product may be deformed or yellow turbidity may occur near the cured UV light source. Therefore, the thickness of the 2P resin 32 is preferably as thin as possible. In addition, it is preferable to reduce the thickness of the 2P resin 32 because the possibility that the 2P resin 32 is partially peeled in the peeling process of the next step is reduced.

なお、インプリントの残膜の厚みtは、10μm以下が望ましい。   The imprint residual film thickness t is preferably 10 μm or less.

次いで、ステップ4にて、成形体37を剥離する。図15は、インプリント用金型1から成形体37を剥離する様子を示す図である。   Next, in step 4, the molded body 37 is peeled off. FIG. 15 is a diagram illustrating a state where the molded body 37 is peeled from the imprint mold 1.

成形体37をインプリント用金型1から剥離する際には、図示しない剥離装置を用いて透明ガラス基板36の背面に一様に引っ張り圧力をかけてもよいし、透明ガラス基板36の周辺の端部に引っ張り圧力をかけてもよい。また、回折格子の格子ベクトルの垂直方向に沿って回折格子が徐々に剥離されるように、透明ガラス基板36の周辺の端部の図中手前側(または奥側)に引っ張り圧力をかけてもよい。このようにすることで、回折格子が倒れることがなくなり、プリントパターンのネガパターンを忠実に再現できる。   When the molded body 37 is peeled from the imprint mold 1, a peeling device (not shown) may be used to apply a uniform tensile pressure to the back surface of the transparent glass substrate 36. A tensile pressure may be applied to the end. Further, even if a tensile pressure is applied to the front side (or the back side) of the peripheral edge of the transparent glass substrate 36 so that the diffraction grating is gradually peeled off along the vertical direction of the grating vector of the diffraction grating. Good. By doing so, the diffraction grating is not tilted, and the negative pattern of the print pattern can be faithfully reproduced.

次いで、ステップ5にて、成形体37を切断する。図16は、ダイシングソーを用いて成形体37を切断する説明図である。   Next, in step 5, the molded body 37 is cut. FIG. 16 is an explanatory diagram of cutting the molded body 37 using a dicing saw.

成形体37をダイシングソーの図示しないワーク保持台上に両面テープを用いて固定する。そして図示しない研磨液を流しながら成形体37をy軸上で移動させ、高速回転しているブレード38によって点線に沿って切断する。切断後、ワーク保持台の備えられた図示しない回転機構を用いて成形体37を90度回転させ、同様にブレードを用いて切断する。図17は、かかる方法によって得られた個片化された成形体39の斜視図である。以上でインプリント工程を終了する。   The molded body 37 is fixed on a work holding table (not shown) of the dicing saw using a double-sided tape. Then, the compact 37 is moved on the y-axis while flowing a polishing liquid (not shown), and cut along the dotted line by the blade 38 rotating at high speed. After cutting, the molded body 37 is rotated 90 degrees using a rotation mechanism (not shown) provided with a work holding table, and similarly cut using a blade. FIG. 17 is a perspective view of an individual molded body 39 obtained by such a method. This is the end of the imprint process.

以上のように、インプリント用金型1を用いて回折格子をインプリント技術により作製する工程を示したが、透明ガラス基板36とインプリント用金型1とは重力方向で反対側に位置させてもよい。このように、透明ガラス基板36とインプリント用金型1とを重力方向で反対側に位置させる場合には、透明ガラス基板36の上に2P樹脂32を滴下し、さらにその上にインプリント用金型1を配置し、透明ガラス基板36とインプリント用金型1との相対位置を変化させて双方を接触させる。   As described above, the process of producing a diffraction grating by the imprint technique using the imprint mold 1 has been shown. However, the transparent glass substrate 36 and the imprint mold 1 are positioned on the opposite sides in the direction of gravity. May be. In this way, when the transparent glass substrate 36 and the imprint mold 1 are positioned on the opposite sides in the direction of gravity, the 2P resin 32 is dropped on the transparent glass substrate 36 and further imprinted thereon. The mold 1 is arranged, and the relative position between the transparent glass substrate 36 and the imprint mold 1 is changed to bring both into contact.

なお、図4で示したインプリント用金型100、110を用いて同様に成形体を作製することができる。   In addition, a molded object can be similarly produced using the imprint molds 100 and 110 shown in FIG.

図18は、図4(a)で示したインプリント用金型100を用いて上記と同様にインプリント工程を経て得た成形体40の斜視図である。図19は、成形体40をカットして個片化されたシリンドリカルレンズCL1の斜視図である。   FIG. 18 is a perspective view of a molded body 40 obtained through an imprint process using the imprint mold 100 shown in FIG. FIG. 19 is a perspective view of the cylindrical lens CL1 cut into pieces by cutting the molded body 40. FIG.

図20は、図4(b)で示したインプリント用金型110を用いて上記と同様にインプリント工程を経て得た成形体42の斜視図である。図21は、成形体42をカットして個片化された円筒面44を備えるシリンドリカルレンズCL2の斜視図である。   FIG. 20 is a perspective view of a molded body 42 obtained through an imprint process using the imprint mold 110 shown in FIG. 4B in the same manner as described above. FIG. 21 is a perspective view of a cylindrical lens CL2 including a cylindrical surface 44 cut into pieces by cutting the molded body 42. FIG.

また、シリンドリカルレンズCL2を基に、凹状の円筒反射面を備えるミラー45を作製することも可能である。図22は、凹状の円筒反射面46を備えるミラー45の斜視図である。   It is also possible to produce a mirror 45 having a concave cylindrical reflecting surface based on the cylindrical lens CL2. FIG. 22 is a perspective view of a mirror 45 having a concave cylindrical reflecting surface 46.

ミラー45は、シリンドリカルレンズCL2の円筒面44に反射膜が形成され、また、円筒面44を分割するように切断されてなる。   The mirror 45 is formed by forming a reflection film on the cylindrical surface 44 of the cylindrical lens CL <b> 2 and cutting the cylindrical surface 44 so as to be divided.

反射膜にはアルミ、金などの金属や誘電体多層膜が好適である。かかる反射膜は蒸着装置やスパッタ装置などの真空成膜装置で容易に作製できる。図23は、シリンドリカルレンズCL2を切断するラインLを示す図である。かかるラインLに沿って、例えばダイシングソーを用いて切断する。   The reflective film is preferably a metal such as aluminum or gold or a dielectric multilayer film. Such a reflective film can be easily produced by a vacuum film forming apparatus such as a vapor deposition apparatus or a sputtering apparatus. FIG. 23 is a diagram illustrating a line L for cutting the cylindrical lens CL2. For example, a dicing saw is used for cutting along the line L.

(第2の実施形態)
次いで、第2の実施形態について説明する。
(Second Embodiment)
Next, a second embodiment will be described.

インプリント技術によって、小さい成形体を得ようとする場合には、成形体となるべき被成形体を装荷する基板50自体が小さいので、インプリント形成面2の一部のみに基板50が対面する状態となる場合がある。   When trying to obtain a small molded body by the imprint technique, the substrate 50 itself on which the molded body to be the molded body is loaded is small, so that the substrate 50 faces only a part of the imprint forming surface 2. It may be in a state.

図24は、基板50が、インプリント形成面2の一部のみに対面する状態を示す図である。   FIG. 24 is a diagram illustrating a state in which the substrate 50 faces only a part of the imprint formation surface 2.

基板50の被成形面の長手方向に山部が沿うように回折格子を成形しようとすると、インプリント用金型1上には、基板50を支持する箇所がないので、基板50は、インプリント形成面2に直に接触してしまい、インプリント形成面2を傷つける虞がある。そこで、基板50がインプリント形成面2に接触しないように、インプリント用金型1の側面であって、インプリント形成面2の断面に沿うようにガイド52a,52bを設ける。   If the diffraction grating is to be formed so that the peak portion is along the longitudinal direction of the surface to be molded of the substrate 50, there is no place for supporting the substrate 50 on the imprint mold 1. There is a possibility that the imprint forming surface 2 may be damaged due to direct contact with the forming surface 2. Therefore, guides 52 a and 52 b are provided along the cross section of the imprint formation surface 2 on the side surface of the imprint mold 1 so that the substrate 50 does not contact the imprint formation surface 2.

図25は、側面にガイド52a,52bを設けたインプリント用金型1の斜視図である。   FIG. 25 is a perspective view of the imprint mold 1 provided with guides 52a and 52b on the side surfaces.

インプリント用金型1の図中の座標系における2つのyz面にガイド52a,52bを、例えばネジ54を用いて固定する。各ガイドのxy面は、延在面3と同一平面を成すように配置する。このように、各ガイドのxy面を、延在面3と同一平面を成すように配置することで、図1で示したように、延在面3とインプリント形成面2との所望の間隔eを成すように設定でき、インプリント形成面2を傷つけることがない。   The guides 52a and 52b are fixed to the two yz planes in the coordinate system in the drawing of the imprint mold 1 using screws 54, for example. The xy planes of the guides are arranged so as to be flush with the extending surface 3. In this way, by arranging the xy surfaces of the guides so as to be flush with the extending surface 3, a desired distance between the extending surface 3 and the imprint forming surface 2 as shown in FIG. 1. e can be set so that the imprint forming surface 2 is not damaged.

しかし、図25のように一つの基板50をインプリント用金型1上に装荷した際には、インプリント形成面2の一部が露出することとなる。このような場合には、UV露光後には、基板50に接合されない2P樹脂32はインプリント形成面2上に残るので、残った2P樹脂32を別途除去する必要がある。そこで、図26で示すように、インプリント形成面2の全てに対面させるように基板50を配置し、インプリントを行えば、複数の成形体を得ることができるので好ましい。   However, when one substrate 50 is loaded on the imprint mold 1 as shown in FIG. 25, a part of the imprint formation surface 2 is exposed. In such a case, after the UV exposure, the 2P resin 32 that is not bonded to the substrate 50 remains on the imprint forming surface 2, so that the remaining 2P resin 32 needs to be removed separately. Therefore, as shown in FIG. 26, it is preferable to arrange the substrate 50 so as to face all of the imprint forming surface 2 and perform imprinting because a plurality of molded bodies can be obtained.

また、インプリント形成面2の全てに対面させるように基板50を配置する場合には、図27に示すように、基板50を重力方向下側に配置してもよい。延在面3と、ガイド52a,52bのxy面とが、同一平面内に存在するので、延在面3と、ガイド52a,52bのxy面とが、複数並べられた基板50のインプリント形成面2に対向する面に密着する。そのため、成形体の残膜の厚みtの値を正確に再現できる。   Further, when the substrate 50 is disposed so as to face all of the imprint formation surface 2, the substrate 50 may be disposed on the lower side in the gravity direction as shown in FIG. Since the extended surface 3 and the xy surfaces of the guides 52a and 52b exist in the same plane, the imprint formation of the substrate 50 in which a plurality of the extended surfaces 3 and the xy surfaces of the guides 52a and 52b are arranged. It is in close contact with the surface facing the surface 2. Therefore, the value of the thickness t of the remaining film of the molded body can be accurately reproduced.

なお、図28に示すように、基板50は、前述した透明ガラス基板36のように、インプリント形成面2の全体に対向するものを用いても良い。   As shown in FIG. 28, the substrate 50 may be the one that faces the entire imprint forming surface 2 like the transparent glass substrate 36 described above.

その他の工程については、第1の実施形態におけるインプリント工程と同じであるので、説明を省略する。   The other processes are the same as the imprint process in the first embodiment, and thus the description thereof is omitted.

以上のように、本実施形態によれば、プリントパターンが形成されたインプリント形成面と、該インプリント形成面に延在する延在面とを備え、前記インプリント形成面は、前記延在面に対する凹部に形成されていることから、延在面とインプリント形成面とを一つの平板から切削で作製するので、延在面とインプリント形成面とを所望の小さい間隔で作製できるので、小さい厚みの残膜を有する成形体を作製できる。これにより、厚みが10μm以下で、かつ、残膜の平行度を4’未満とする成形品を作製可能なインプリント用金型を提供できる。   As described above, according to the present embodiment, an imprint forming surface on which a print pattern is formed, and an extending surface extending to the imprint forming surface, the imprint forming surface being the extension Since the extension surface and the imprint formation surface are produced by cutting from one flat plate because it is formed in the concave portion with respect to the surface, the extension surface and the imprint formation surface can be produced at a desired small interval. A compact having a small residual film can be produced. Thereby, it is possible to provide an imprint mold capable of producing a molded product having a thickness of 10 μm or less and a remaining film having a parallelism of less than 4 ′.

また、他の実施形態によれば、前記プリントパターンの断面は露出されており、前記プリントパターンの断面を覆い、一面が前記延在面と同一平面内に存在するガイドを有することから、基板がインプリント形成面の一部のみに対面する状態であっても、インプリント形成面2を傷つけることがなくインプリント工程を実施できるインプリント用金型を提供できる。   Further, according to another embodiment, the cross section of the printed pattern is exposed, covers the cross section of the printed pattern, and has one guide in the same plane as the extending surface. An imprint mold capable of performing an imprint process without damaging the imprint formation surface 2 even when facing only a part of the imprint formation surface can be provided.

また、他の実施形態によれば、プリントパターンが形成されたインプリント形成面を備えるインプリント用金型と、変形可能な被成形体とを接触させることにより、前記被成形体を前記プリントパターンの形状に成形するインプリント方法であって、前記インプリント用金型は、前記インプリント形成面に延在する延在面を備え、前記インプリント形成面は、前記延在面に対する凹部に形成されていることから、延在面とインプリント形成面とを一つの平板から切削で作製するので、延在面とインプリント形成面とを所望の小さい間隔で作製できるので、小さい厚みの残膜を有する成形体を作製できる。これにより、厚みが10μm以下で、かつ、残膜の平行度を4’未満とする成形品を作製可能なインプリント方法を提供できる。   According to another embodiment, an imprint mold having an imprint formation surface on which a print pattern is formed is brought into contact with a deformable mold body, thereby bringing the mold body into contact with the print pattern. The imprint mold includes an extending surface that extends to the imprint forming surface, and the imprint forming surface is formed in a recess with respect to the extending surface. Therefore, since the extended surface and the imprint forming surface are manufactured by cutting from one flat plate, the extended surface and the imprint forming surface can be manufactured at a desired small interval. It is possible to produce a molded body having Thereby, it is possible to provide an imprint method capable of producing a molded product having a thickness of 10 μm or less and a remaining film having a parallelism of less than 4 ′.

また、他の実施形態によれば、前記プリントパターンの断面は露出されており、前記プリントパターンの断面を覆い、一面が前記延在面と同一平面内に存在するガイドを有することから、基板がインプリント形成面の一部のみに対面する状態であっても、インプリント形成面2を傷つけることがないインプリント方法を提供できる。   Further, according to another embodiment, the cross section of the printed pattern is exposed, covers the cross section of the printed pattern, and has one guide in the same plane as the extending surface. An imprint method that does not damage the imprint forming surface 2 even when facing only a part of the imprint forming surface can be provided.

また、他の実施形態によれば、前記被成形体はエネルギー硬化型樹脂であり、前記被成形体を前記プリントパターン上にインクジェット法により塗布する工程を有することから、エネルギー硬化性樹脂の塗布位置と塗布量をより精密にコントロールすることが可能となるインプリント方法を提供できる。   According to another embodiment, since the object to be molded is an energy curable resin and includes a step of applying the object to be molded on the print pattern by an ink jet method, the application position of the energy curable resin And an imprint method capable of controlling the coating amount more precisely.

また、他の実施形態によれば、上記のインプリント用金型を有することから、厚みが10μm以下で、かつ、残膜の平行度を4’未満とする成形品を作製可能であり、また、インプリント形成面2を傷つけることのないインプリント装置を提供できる。   According to another embodiment, since the imprint mold is provided, a molded product having a thickness of 10 μm or less and a remaining film parallelism of less than 4 ′ can be produced. An imprint apparatus that does not damage the imprint forming surface 2 can be provided.

1 インプリント用金型
2 インプリント形成面
3 延在面
5 頂点
6 側面
11 平板
20 刃先
21 ダイヤモンドバイト
22 溝部
31 ディスペンサ
32 2P樹脂
36 透明ガラス基板
38 ブレード
37,39,40,42 成形体
44 円筒面
45 ミラー
46 円筒反射面
50 基板
54 ネジ
100,110 インプリント用金型
101 円筒面
102 平面部
52a,52b ガイド
CL1,CL2 シリンドリカルレンズ
e 間隔
H インクジェットヘッド
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Imprint mold 2 Imprint formation surface 3 Extension surface 5 Vertex 6 Side surface 11 Flat plate 20 Cutting edge 21 Diamond bit 22 Groove 31 Dispenser 32 2P resin 36 Transparent glass substrate 38 Blade 37, 39, 40, 42 Molded body 44 Cylinder Surface 45 Mirror 46 Cylindrical reflecting surface 50 Substrate 54 Screw 100, 110 Imprint mold 101 Cylindrical surface 102 Plane portion 52a, 52b Guide CL1, CL2 Cylindrical lens e Interval H Inkjet head

Claims (6)

プリントパターンが形成されたインプリント形成面と、該インプリント形成面に延在する延在面とを備え、
前記インプリント形成面は、前記延在面に対する凹部に形成されていることを特徴とするインプリント用金型。
An imprint forming surface on which a printed pattern is formed, and an extending surface extending to the imprint forming surface,
The imprint mold is characterized in that the imprint forming surface is formed in a recess with respect to the extending surface.
前記プリントパターンの断面は露出されており、
前記プリントパターンの断面を覆い、一面が前記延在面と同一平面内に存在するガイドを有することを特徴とする請求項1に記載のインプリント用金型。
The cross section of the print pattern is exposed,
The imprint mold according to claim 1, further comprising a guide that covers a cross section of the print pattern and has one surface in the same plane as the extending surface.
プリントパターンが形成されたインプリント形成面を備えるインプリント用金型と、変形可能な被成形体とを接触させることにより、前記被成形体を前記プリントパターンの形状に成形するインプリント方法であって、
前記インプリント用金型は、前記インプリント形成面に延在する延在面を備え、
前記インプリント形成面は、前記延在面に対する凹部に形成されていることを特徴とするインプリント方法。
An imprint method for forming an object to be molded into the shape of the print pattern by bringing an imprint mold having an imprint forming surface on which a print pattern is formed into contact with a deformable object to be molded. And
The imprint mold includes an extending surface that extends to the imprint forming surface;
The imprint forming surface is formed in a concave portion with respect to the extending surface.
前記プリントパターンの断面は露出されており、
前記プリントパターンの断面を覆い、一面が前記延在面と同一平面内に存在するガイドを有することを特徴とする請求項3に記載のインプリント方法。
The cross section of the print pattern is exposed,
The imprint method according to claim 3, further comprising a guide that covers a cross section of the print pattern and has one surface in the same plane as the extending surface.
前記被成形体はエネルギー硬化型樹脂であり、
前記被成形体を前記プリントパターン上にインクジェット法により塗布する工程を有することを特徴とする請求項3または4に記載のインプリント方法。
The molded body is an energy curable resin,
The imprint method according to claim 3, further comprising a step of applying the object to be molded onto the print pattern by an inkjet method.
請求項1または2に記載のインプリント用金型を有することを特徴とするインプリント装置。   An imprint apparatus comprising the imprint mold according to claim 1.
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