JP2012201979A - スパッタリングターゲットの製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】バッキングプレート20上にターゲット材30を積層し、これらをはんだ材により接合することによりスパッタリングターゲットを製造する方法であって、前記バッキングプレートと前記ターゲット材との接合部の外周を囲む枠状部材50を配置して、この枠状部材の内側に前記接合部に連続するはんだ溜まりを12形成し、前記接合部および前記はんだ溜まりを溶融状態の前記はんだ材で満たし、前記はんだ材が凝固した後に、前記枠状部材と前記はんだ溜まり内の前記はんだ材とを取り除く。
【選択図】図2
Description
11,111 接合部
12,112 はんだ溜まり
20,120 バッキングプレート
21 外周面
22,121 上面
30,130 ターゲット材
31,132 外周面
131 下面
40,140 ボンディング層
41 余剰はんだ
50,150 枠状部材
51 内周面
52 外周面
60 ホットプレート
70 ワイヤ
M マスキングテープ(マスキング材)
Claims (7)
- バッキングプレート上にターゲット材を積層し、これらをはんだ材により接合することによりスパッタリングターゲットを製造する方法であって、
前記バッキングプレートと前記ターゲット材との接合部の外周を囲む枠状部材を配置して、この枠状部材の内側に前記接合部に連続するはんだ溜まりを形成し、
前記接合部および前記はんだ溜まりを溶融状態の前記はんだ材で満たし、
前記はんだ材が凝固した後に、前記枠状部材と前記はんだ溜まり内の前記はんだ材とを取り除くことを特徴とするスパッタリングターゲットの製造方法。 - 前記枠状部材の内側に前記バッキングプレートおよび前記ターゲット材を配置することを特徴とする請求項1に記載のスパッタリングターゲットの製造方法。
- 前記枠状部材の内側に配置した前記バッキングプレートの上面を覆う深さまで溶融状態の前記はんだ材を供給した後に、このはんだ材上に前記ターゲット材を積層することを特徴とする請求項2に記載のスパッタリングターゲットの製造方法。
- 前記バッキングプレートの上面よりも小さい前記枠状部材を前記バッキングプレート上に載置するとともに、この枠状部材の内側に前記ターゲット材を配置することを特徴とする請求項1に記載のスパッタリングターゲットの製造方法。
- 前記バッキングプレート上に載置された前記枠状部材の内側に溶融状態の前記はんだ材を供給した後に、このはんだ材上に前記ターゲット材を積層することを特徴とする請求項4に記載のスパッタリングターゲットの製造方法。
- 溶融状態の前記はんだ材を供給する前に、前記はんだ溜まりの底面に、前記はんだ材の固着を防ぐマスキング材を配置し、前記はんだ材が凝固した後にこのマスキング材を除去することを特徴とする請求項1から5のいずれかに記載のスパッタリングターゲットの製造方法。
- 前記バッキングプレートと前記ターゲット材との間に所定の間隙を形成するワイヤを介装することを特徴とする請求項1から6のいずれかに記載のスパッタリングターゲットの製造方法。
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|---|---|---|---|---|
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Citations (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5964154A (ja) * | 1982-09-07 | 1984-04-12 | シ−メンス・アクチエンゲゼルシヤフト | タ−ゲツト材料の固定方法 |
| JPS6228063A (ja) * | 1985-07-26 | 1987-02-06 | Tanaka Kikinzoku Kogyo Kk | スパツタリング用タ−ゲツトの製造方法 |
| JPS63317668A (ja) * | 1987-06-18 | 1988-12-26 | Seiko Epson Corp | スパッタリング用タ−ゲット |
| JPH03111564A (ja) * | 1989-06-15 | 1991-05-13 | Hitachi Metals Ltd | スパッタリング用ターゲット組立体およびその製造方法 |
| JPH07509026A (ja) * | 1992-07-08 | 1995-10-05 | マティリアルズ リサーチ コーポレイション | スパッタリングターゲットを裏当て部材にはんだ付けする方法 |
| JPH08170170A (ja) * | 1994-12-16 | 1996-07-02 | Tosoh Corp | スパッタリングターゲット |
| JPH11131225A (ja) * | 1997-10-24 | 1999-05-18 | Dowa Mining Co Ltd | スパッタリングターゲットとその接合方法及び接合装置 |
| JPH11200028A (ja) * | 1998-01-12 | 1999-07-27 | Mitsui Mining & Smelting Co Ltd | スパッタリングターゲットおよびその製造方法 |
| JP2009167271A (ja) * | 2008-01-15 | 2009-07-30 | Nitto Denko Corp | マスキング用粘着テープおよびスパッタリングターゲットの製造方法 |
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2011
- 2011-03-28 JP JP2011070743A patent/JP5686017B2/ja not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5964154A (ja) * | 1982-09-07 | 1984-04-12 | シ−メンス・アクチエンゲゼルシヤフト | タ−ゲツト材料の固定方法 |
| JPS6228063A (ja) * | 1985-07-26 | 1987-02-06 | Tanaka Kikinzoku Kogyo Kk | スパツタリング用タ−ゲツトの製造方法 |
| JPS63317668A (ja) * | 1987-06-18 | 1988-12-26 | Seiko Epson Corp | スパッタリング用タ−ゲット |
| JPH03111564A (ja) * | 1989-06-15 | 1991-05-13 | Hitachi Metals Ltd | スパッタリング用ターゲット組立体およびその製造方法 |
| JPH07509026A (ja) * | 1992-07-08 | 1995-10-05 | マティリアルズ リサーチ コーポレイション | スパッタリングターゲットを裏当て部材にはんだ付けする方法 |
| JPH08170170A (ja) * | 1994-12-16 | 1996-07-02 | Tosoh Corp | スパッタリングターゲット |
| JPH11131225A (ja) * | 1997-10-24 | 1999-05-18 | Dowa Mining Co Ltd | スパッタリングターゲットとその接合方法及び接合装置 |
| JPH11200028A (ja) * | 1998-01-12 | 1999-07-27 | Mitsui Mining & Smelting Co Ltd | スパッタリングターゲットおよびその製造方法 |
| JP2009167271A (ja) * | 2008-01-15 | 2009-07-30 | Nitto Denko Corp | マスキング用粘着テープおよびスパッタリングターゲットの製造方法 |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2020128590A (ja) * | 2019-02-07 | 2020-08-27 | 住友化学株式会社 | スパッタリングターゲット |
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| JP5686017B2 (ja) | 2015-03-18 |
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