JP2012205207A - 高周波回路、高周波部品およびそれらを用いた通信装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】 増幅器の入力段に接続された第1の帯域通過フィルタと、増幅器の出力段に接続された第2の帯域通過フィルタのどちらか一方が、通過帯域の低周波数側に共振点を有する容量性の帯域通過フィルタであり、他方が通過帯域の高周波数側に共振点を有する、誘導性の帯域通過フィルタである高周波回路。
【選択図】 図1
Description
帯域通過フィルタを増幅器の前段に接続した場合は、妨害波の減衰量を確保できるものの、一般的に帯域外の減衰量が大きい帯域通過フィルタは、挿入損失も大きくなる傾向があるため、この場合挿入損失が大きくなり受信感度が悪化するという問題があった。
また、増幅器の前後に帯域通過フィルタを接続する高周波回路を構成する高周波部品を小型化するとともに、その構成に起因する電気的特性の劣化を抑制できるようにすることを第2の目的とする。
更に、前記高周波回路や前記高周波部品を用いて、電気的特性に優れ、低消費電力化が可能であり、小型の通信装置を提供することを第3の目的とする。
増幅器として低雑音増幅器を使用すれば、高周波回路の雑音指数を抑えることが出来るので好ましい。
誘導性の帯域通過フィルタは通過帯域の近傍において、通過帯域外の高周波側が低周波側よりも減衰量を大きくすることができる。この為、通過帯域における帯域通過フィルタの挿入損失特性は、高周波側が低周波側よりも損失が大きくなる傾向にあるが、容量性の帯域通過フィルタと同様に、帯域外減衰量が大きな帯域通過フィルタと比べて、損失を小さく構成することが出来る。
また第1ポートと第2ポートを備える誘導性の帯域通過フィルタを、第1ポート側の第1共振器と、第2ポート側の第3共振器と、それらの段間に配置された第2共振器とでなる3段の共振器とし、前記第1共振器と前記第2共振器の共振器電極はインターデジタル結合し、前記第2共振器と前記第3共振器の共振器電極はコムライン結合する構成とするのが好ましい。
多層セラミック基板の内部には、異なる層に形成された複数のグランド電極と、前記グランド電極に挟まれた領域に、前記第1の帯域通過フィルタ及び前記第2の帯域通過フィルタを構成する共振器電極とコンデンサ電極のための電極パターンを有し、第1の帯域通過フィルタを構成する第1電極パターンと第2の帯域通過フィルタを構成する第2電極パターンとが積層方向に重なり合わない様に配置され、かつ異なるグランド電極を繋ぐ複数のビアホール群を介して異なる平面領域に形成されるのが好ましい。
また、増幅器の前後に帯域通過フィルタを接続する高周波回路を構成する高周波部品を小型化するとともに、その構成に起因する電気的特性の劣化を抑制できるようにすることが出来る。
更に、前記高周波回路や前記高周波部品を用いて、電気的特性に優れ、低消費電力化が可能であり、小型の通信装置を提供することが出来る。
図1は本発明の一実施例に係る高周波回路の回路構成を示すブロック図である。この高周波回路は、増幅器の前段に通過帯域の低周波数側に共振点を有する容量性の帯域通過フィルタを接続し、後段に通過帯域の高周波数側に共振点を有する誘導性の帯域通過フィルタを接続したものである。既に述べたが、増幅器の前段と後段にどの様な帯域通過フィルタを接続するかは、妨害波が通過帯域近傍の低周波側あるいは高周波側に有るのかによって設定され得る。
各共振器はインダクタとキャパシタで構成され、第1ポートPa1に接続する第1共振器は、インダクタLa1とキャパシタCa1とを有し、第2共振器は、インダクタLa2とキャパシタCa2とを有し、第2ポートPa2接続する第3共振器は、インダクタLa3とキャパシタCa3とを有している。第2共振器は、第1共振器と第3共振器との段間に配置され、それぞれインダクタが近接して配置されて誘導性結合している。図中、誘導性結合については曲線Mを付して表している。
各共振器はインダクタとキャパシタで構成され、第1ポートPb1に接続する第1共振器は、インダクタLb1キャパシタCb1とを有し、第2共振器は、インダクタLb2とキャパシタCb2とを有し、第2ポートPb2に接続する第3共振器は、インダクタLb3キャパシタCb3とを有している。
第2共振器は、第1共振器と第3共振器との段間に配置され、それぞれインダクタが近接して配置されて誘導性結合している。図中、第1の帯域通過フィルタの場合と同様に、誘導性結合については曲線Mを付して表している。
この様な構成によって、通過周波数帯域付近の周波数において、共振器電極の短絡側で生じる誘導性結合を開放側で生じる静電結合よりも強くすることで、第2の帯域通過フィルタの通過周波数帯域における結合は誘導性が支配的となり、通過周波数帯域の高周波側には、結合に基づく減衰極が形成される。減衰極Bの共振周波数は、誘導性結合Mと静電結合とキャパシタCb4とにより決定される。なお、第2共振器を挟む他の共振器の回路構成が非対称であるものの、入出力ポートを入れ替えても電気的特性は同じであり、他の回路との接続方向は限定されない。
図中、増幅器と帯域通過フィルタ50a、50bとの間に接続されたインダクタ215は、整合回路を構成する。整合回路の構成によっては、当然にキャパシタを用いる場合もある。また、増幅器への電源経路や、そこに配置されるチョークコイル等は図示はぜずに、省略している。
絶縁体層としては、誘電体セラミックス、樹脂、樹脂とセラミックとの複合材を用いることが可能である。積層体化は公知の工法を用いて行なわれ、例えば誘電体セラミックスを用いる場合にはLTCC(低温同時焼成セラミック)技術や、HTCC(高温同時焼成セラミック)技術により、樹脂等ではビルドアップ技術による。
低温で焼結可能なセラミック誘電体としては、例えばAl,Si及びSrを主成分として、Ti,Bi,Cu,Mn,Na,K等を副成分とするセラミックス、Al,Mg,Si及びGdを含むセラミックス、Al,Si,Zr及びMgを含むセラミックスが挙げられる。
図8の高周波回路ブロックでは、高周波回路1の入力ポートPr1に高周波スイッチ回路40が接続される。図中、高周波スイッチ回路40としてSPDT(Single Pole Double Throw)スイッチを示すがこれに限定されない。SPnT(nは3以上の自然数)スイッチや、DP3T(Double Pole Three Throw)スイッチなどの多極多投のスイッチを用いる場合もある。
高周波回路部が受信動作する場合に、高周波スイッチ回路40を通じて、アンテナに入射する妨害波を含む信号が高周波回路1の入力ポートPr1に現れて高周波回路1に入力する。高周波回路1を通過して出力ポートPr2に現れる信号は、通過周波数帯域外の信号が減衰され、通過周波数帯域内の信号が正しく増幅されたものとなる。出力ポートPr2側には、ベースバンド部からの信号を送信信号へ変換し、受信信号をベースバンド部で処理できる周波数へと変換するRFIC(Radio−Frequency Integrated Circuit)が接続される。RFICに入力する信号は、通過周波数帯域外の信号が十分に減衰されたものであるので、RFICが誤動作するのを防ぐことが出来る。また、高周波回路1の挿入損失が小さいので、増幅に必要な電力消費を抑えることが出来、特には無線通信装置の動作電力をバッテリーで供給する場合には、バッテリー消費を抑えることが出来る。
高周波スイッチ回路40に換えて、分波回路を用いることも可能である。
各端子電極は、グランド電極GNDの周囲であって各側面側に形成されており、第1側面側にはグランド端子G、第1のアンテナ端子ANT1、第2のアンテナ端子ANT2、電源端子V、非接続端子NCが形成されている。第1側面と隣り合う図下側の第2側面側には、電源端子V、非接続端子NCが形成され、第2側面と対向する図上側の第3側面側には電源端子Vが形成されている。第1側面とグランド電極GNDを介して対向する第4側面側には、バラン60の出力平衡端子RX1−,RX1+、バラン65の出力平衡端子RX2−,RX2+、バラン70の入力平衡端子TX1−,TX1+、グランド端子G、電源端子Vが形成されている。各端子電極に付与した符号の一部は図11に示した回路ブロック図のポートと対応する。
図11に示されない符号として非接続端子NCと電源端子Vがある。非接続端子NCとは、多層セラミック基板内の回路との接続を有さない浮き端子である。また電源端子Vには、高周波スイッチ回路、高周波増幅器、低雑音増幅器を動作させる為に電圧が与えられるが、図においては区別せずに示している。
なお図中、各層に形成された回路素子用の電極パターン間の電気的接続や、放熱に利用するためのビアホールを黒く示している。第1及び第2の帯域通過フィルタを構成する電極パターンに付した符号は等価回路と対応する。複数の層に亘って形成され接続されたビアホールには同じ符号を付している。また、各層の厚みは図面には反映されて無く、説明に必要としない層についもて一部省略している。
低雑音増幅器10用の半導体素子のポートPu2a(図示せず)はボンディングワイヤによって、電極パターンlp1の一端側と接続され、他端側に形成されたSh1と、更にその下層側に形成されたビアホールSh1を介して層S9に形成されたキャパシタ用の電極パターンCinと接続する。電極パターンCinは、層S8に形成されたキャパシタ用の電極パターンCa1と層S10に形成されたキャパシタ用の電極パターンCa1と対応して、信号経路に直列に接続した結合キャパシタを形成する。この結合キャパシタは、高周波スイッチ回路からのDC電流を遮断するために用いられる。
更に上層のビアホールSh4を介して、層S5、S6に形成され多層セラミック基板の一辺に沿って伸びる帯状の共振器電極La1の一端側に接続する。共振器電極La1の他端側は、ビアホールSh5とその下層側のビアホールSh5を介して層S7のグランド電極GNDと接続する。更に上層側のビアホールSh5を介して、層S2のグランド電極GNDとも接続する。各共振器電極La1は並列接続されてインダクタLa1を形成し、キャパシタCa1とで第1共振器を構成する。共振器電極を並列接続することで抵抗を減じて共振器の性能を向上させることが出来る。
共振器電極La2の他端側はビアホールSh7を介して、キャパシタ用電極Ca2(層S8)、Ca2(層S10)と接続する。各キャパシタ用電極Ca2は、層S7、S9、S11のグランド電極GNDと対向して、キャパシタCa2を形成する。
共振器電極La2で形成されたインダクタLa2とキャパシタCa2とで、第2共振器を構成する。
共振器電極La3の他端側はビアホールSh10と、その下に繋がるビアホールSh10を介して、層S2及び層S7のグランド電極GNDと接続する。
共振器電極La3で形成されたインダクタLa3とキャパシタCa3とで、第3共振器を構成する。
隣り合う共振用電極の間隔によって誘導性結合を調整することが出来る。また静電結合は共振用電極の開放端側の間隔によって調整することが出来る。
本実施例においては、第1共振器の共振用電極La1と、第3共振器の共振用電極La3の開放端側は、それぞれ層S8、S10に形成されたキャパシタ電極Ca1、Ca3と接続する。キャパシタ電極Ca1とCa3とが層S8上で近接して配置され、キャパシタ電極Ca1とCa3とが層S10上で近接して配置されて結合を強めている。
この様な構成によって、第1の帯域通過フィルタ50aは、共振器電極の短絡側で生じる誘導性結合よりも開放側で生じる静電結合が強くなり、通過帯域の低周波数側に共振点を有する容量性の帯域通過フィルタとなる。
本実施例においては各共振器の共振器電極は略平行の関係に配置されるが、結合の調整やインピーダンスの調整のために平行としない場合もある。例えば開放端側の静電結合を強めようとすれば、開放端側の共振器電極間隔を狭く、短絡側を広く構成したり、共振器電極の幅を部分的に異ならせて調整したりすることも可能である。
層S8に形成された電極パターンCb1は、層S7、S9に形成されたグランド電極GNDと対向し、層S10に形成された電極パターンCb1は、層S9、S11に形成されたグランド電極GNDと対向してキャパシタCb1を形成する。
共振器電極Lb2の他端側はビアホールSh17を介して、キャパシタ層S2、S7のグランド電極と接続する。
共振器電極Lb2で形成されたインダクタLb2とキャパシタCb2とで、第2共振器を構成する。
各キャパシタ用電極Cb3は、層S7、S9、S11のグランド電極GNDと対向して、キャパシタCb3を形成する。また、キャパシタ用電極Cb3は、その上層のビアホールSh21を介して、層S3の上面に形成されたバラン60用の電極パターンBa1と接続する。なお、電極パターンBa1、Bb1、Bb2はバラン60用の電極パターンである。
共振器電極Lb3の他端側はビアホールSh19を介して、層S2及び層S7のグランド電極GNDと接続する。
共振器電極Lb3で形成されたインダクタLb3とキャパシタCb3とで、第3共振器を構成する。
第1共振器の各共振用電極Lb1は、第2共振器の各共振用電極Lb2とインターデジタル結合し、第2共振器の各共振用電極Lb2は第3共振器の各共振用電極Lb3とコムライン結合する。
隣り合う共振用電極の間隔によって誘導性結合を調整することが出来る。また静電結合は共振用電極の開放端側の間隔によって調整することが出来る。本実施例においては各共振器の共振器電極は略平行の関係に配置されるが、各共振器電極の幅を異ならせ、その幅は第1共振器の共振器電極、第3共振器の共振器電極、第2共振器の共振器電極の順に広い。また、共振器電極間の間隔を第2共振器の共振器電極と第1共振器の共振器電極との間隔を、第2共振器の共振器電極と第3共振器の共振器電極との間隔よりも狭めている。
図16はアンテナポートANT1とローノイズアンプ10の間に接続された帯域通過フィルタ50aの特性である。図17はローノイズアンプ10とバラン回路60の間に接続された帯域通過フィルタ50bの特性である。帯域通過フィルタ50aは通過帯域の低域側に減衰極があり、帯域通過フィルタ50bでは通過帯域の高域側の減衰極を設けている。
帯域通過フィルタ50aは1GHz付近で60dB、2GHz付近で40dB程度の大きな減衰量を持つため、アンテナから入力されるGSM信号やWCDMA信号といった不要信号を大きく減衰させることができ、これら不要信号によるローノイズアンプの飽和を防ぐことが可能となる。
帯域通過フィルタ50bは3.3GHz付近で25dB、4.6GHzで35dB程度の大きな減衰量をもつため、ローノイズアンプ10を通過した信号は、これらにより3.3GHz帯の不要信号や、通過帯の2倍高調波信号を大きく減衰させることができ、RFICの誤動作を防ぐことができる。
また図19にはこの回路の雑音指数を示す。ゲインと減衰量を確保しつつ、雑音指数は3.5dB程度でありこの回路で構成された高周波部品を用いることにより、消費電力を抑えつつ高品質な通信をすることが可能である。
10 低雑音増幅器
40 高周波スイッチ回路
50a 第1の帯域通過フィルタ
50b 第2の帯域通過フィルタ
60 バラン
90 フィルタ回路
100 多層セラミック基板
Claims (6)
- 増幅器と、前記増幅器の入力段に接続された第1の帯域通過フィルタと、前記増幅器の出力段に接続された第2の帯域通過フィルタとを備え、
前記第1の帯域通過フィルタと前記第2の帯域通過フィルタのどちらか一方が、通過帯域の低周波数側に共振点を有する容量性の帯域通過フィルタであり、他方が通過帯域の高周波数側に共振点を有する誘導性の帯域通過フィルタであることを特徴とする高周波回路。 - 前記容量性の帯域通過フィルタは第1ポートと第2ポートを有し、前記第1ポート側の第1共振器と、前記第2ポート側の第3共振器と、それらの段間に配置された第2共振器とで、インターデジタル結合の共振器電極を有する3段の共振器で構成され、
前記誘導性の帯域通過フィルタは第1ポートと第2ポートを有し、第1ポート側の第1共振器と、第2ポート側の第3共振器と、それらの段間に配置された第3共振器とで3段の共振器で構成され、前記第4共振器と前記第5共振器の共振器電極はインターデジタル結合し、前記第2共振器と前記第3共振器の共振器電極はコムライン結合することを特徴とする請求項1に記載の高周波回路。 - 請求項1又は2に記載の高周波回路を基板に構成したことを特徴とする高周波部品。
- 前記基板が多層セラミック基板であって、その内部の異なる層に形成された複数のグランド電極と、前記グランド電極に挟まれた領域に、前記第1の帯域通過フィルタ及び前記第2の帯域通過フィルタを構成する共振器電極とコンデンサ電極のための電極パターンが配置され、第1の帯域通過フィルタを構成する第1電極パターンと第2の帯域通過フィルタを構成する第2電極パターンとは積層方向に重なり合わず、かつ前記グランド電極の間を繋ぐ複数のビアホール群を介して異なる平面領域に形成されたことを特徴とする請求項3に記載の高周波部品。
- 請求項1又は2に記載の高周波回路を用いたことを特徴とする通信装置。
- 請求項3又は4に記載の高周波部品を用いたことを特徴とする通信装置。
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