JP2012242515A - パターン位相差フィルムの作成方法、パターン位相差フィルム作成用金型の作成方法 - Google Patents
パターン位相差フィルムの作成方法、パターン位相差フィルム作成用金型の作成方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2012242515A JP2012242515A JP2011110848A JP2011110848A JP2012242515A JP 2012242515 A JP2012242515 A JP 2012242515A JP 2011110848 A JP2011110848 A JP 2011110848A JP 2011110848 A JP2011110848 A JP 2011110848A JP 2012242515 A JP2012242515 A JP 2012242515A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- base material
- slit
- mask
- retardation film
- rubbing treatment
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Images
Landscapes
- Liquid Crystal (AREA)
- Testing, Inspecting, Measuring Of Stereoscopic Televisions And Televisions (AREA)
- Polarising Elements (AREA)
Abstract
【課題】パッシブ方式による3次元画像表示に適用するパターン位相差フィルムに関して、容易かつ大量に作成することができるようにする。
【解決手段】転写用の金型13に形成された凹凸形状を透明のシート材に転写して配向膜を形成し、パターン位相差フィルムを製造する。この前提において、母材の表面に、シート状のマスクを配置してラビング処理し、さらに母材に対してこのマスクをシフトさせてラビング処理を繰り返す。
【選択図】図4
【解決手段】転写用の金型13に形成された凹凸形状を透明のシート材に転写して配向膜を形成し、パターン位相差フィルムを製造する。この前提において、母材の表面に、シート状のマスクを配置してラビング処理し、さらに母材に対してこのマスクをシフトさせてラビング処理を繰り返す。
【選択図】図4
Description
本発明は、パッシブ方式による3次元画像表示に適用するパターン位相差フィルムの製造に関するものである。
フラットパネルディスプレイは、従来、2次元表示のものが主流であった。しかしながら、近年、3次元表示可能なフラットパネルディスプレイが注目を集めており、一部市販もされている。そして今後のフラットパネルディスプレイは3次元表示可能であることが当然に求められる傾向にあり、3次元表示可能なフラットパネルディスプレイの検討が幅広い分野において進められている。
フラットパネルディスプレイにおいて3次元表示をするには、通常、何らかの方式で右目用の映像と、左目用の映像とを、それぞれ選択的に視聴者の右目及び左目に提供することが必要である。右目用の映像と左目用の映像とを選択的に提供する方法としては、例えば、パッシブ方式が知られている。このパッシブ方式の3次元表示方式について図を参照しながら説明する。図8は、液晶表示パネルを使用したパッシブ方式の3次元表示の一例を示す概略図である。この図8の例では、垂直方向に連続する液晶表示パネルの画素を、順次交互に、右目用及び左目用に割り当て、それぞれ右目用及び左目用の画像データで駆動し、これにより右目用の映像と左目用の映像とを同時に表示する。また液晶表示パネルのパネル面にパターン位相差フィルムを配置し、右目用及び左目用の画素からの直線偏光による出射光を、右目用及び左目用で方向の異なる円偏光に変換する。これによりパッシブ方式では、対応する偏光フィルタを備えてなるめがねを装着して、右目用の映像と左目用の映像とをそれぞれ選択的に視聴者の右目及び左目に提供する。
このパッシブ方式は、応答速度の低い液晶表示装置でも適用することができ、さらにパターン位相差フィルムと円偏光メガネとを用いた簡易な構成で3次元表示することができる。このようなことから、パッシブ方式の液晶表示装置は今後の3次元表示装置の中心的存在となるものとして非常に注目されている。
ところでパッシブ方式に係るパターン位相差フィルムは、画素の割り当てに対応して透過光に位相差を与えるパターン状の位相差層が必要である。このパターン位相差フィルムは、まだ広く研究、開発が行われておらず、標準的な技術としても確立されているものがないのが現状である。
このパターン位相差フィルムに関して、特許文献1には、配向規制力を制御した光配向膜をガラス基板上に形成し、この光配向膜により液晶の配列をパターニングする作成方法が開示されている。しかしながらこの特許文献1に開示の方法は、ガラス基板を使用することが必要であることから、パターン位相差フィルムが高価になり、大面積のものを大量生産し難い問題がある。
またパターン位相差フィルムに関して、特許文献2には、レーザーの照射によりロール版の周囲に微細な凹凸形状を形成し、この凹凸形状を転写してパターン状に配向規制力を制御した光配向膜を作成する方法が開示されている。この特許文献2に開示の方法では、レーザーの走査によりロール版の全周に漏れ無くレーザーを照射することが必要である。従ってロール版の作成に時間を要する問題がある。また高価なレーザー加工装置を使用しなければならない問題もある。
本発明はこのような状況に鑑みてなされたものであり、パッシブ方式による3次元画像表示に適用するパターン位相差フィルムに関して、容易かつ大量に作成することができるパターン位相差フィルムの作成方法、パターン位相差フィルム作成用金型の作成方法を提供することを目的とする。
本発明者は、上記課題を解決するために鋭意研究を重ね、母材の表面に、シート状のマスクを配置してラビング処理した後、母材に対してこのマスクをシフトさせてラビング処理を繰り返す、との着想に至り、本発明を完成するに至った。
具体的には、本発明では、以下のようなものを提供する。
(1) 転写用金型に形成された凹凸形状を透明のシート材に転写して配向膜を形成するパターン位相差フィルムの作成方法において、前記パターン位相差フィルムは、前記配向膜のパターニングにより、右目用の透過光に、対応する位相差を与える右目用の領域と、左目用の透過光に、対応する位相差を与える左目用の領域とが、それぞれ帯状に順次交互に形成され、前記転写用金型は、母材の表面に前記凹凸形状が形成されて作成され、前記パターン位相差フィルムの作成方法は、前記右目用又は左目用の領域の幅によるスリットが、前記スリットの幅方向に繰り返し作成されているシート状のマスクを、前記母材の表面に配置してラビング処理し、前記右目用又は左目用の領域に対応する凹凸形状を前記母材に作成する第1のラビング処理工程と、前記スリットの幅だけ、前記マスクを前記スリットの幅方向にシフトさせるシフト工程と、前記シフト工程による配置により、前記第1のラビング処理工程におけるラビング処理とは直交する方向に、前記母材をラビング処理し、前記左目用の領域又は前記右目用の領域に対応する凹凸形状を前記母材に作成する第2のラビング処理工程とを備えることを特徴とするパターン位相差フィルムの作成方法。
(2) 前記マスクは、前記スリットの長手方向に、繰り返し作成され、前記第1のラビング処理工程は、前記母材に前記マスクを配置してラビング処理した後、前記スリットの長手方向に前記マスクをシフトさせてラビング処理し、前記第2のラビング処理工程は、前記シフト工程による配置により、前記第1のラビング処理工程におけるラビング処理とは直交する方向に、前記母材をラビング処理した後、前記スリットの長手方向に前記マスクをシフトさせてラビング処理することを特徴とする(1)に記載のパターン位相差フィルムの作成方法。
(3) 表面に形成された凹凸形状の透明シート材への転写によりパターン位相差フィルムの配向膜を作成するパターン位相差フィルム作成用金型の作成方法であって、前記パターン位相差フィルムは、前記配向膜のパターニングにより、右目用の透過光に、対応する位相差を与える右目用の領域と、左目用の透過光に、対応する位相差を与える左目用の領域とが、それぞれ帯状に順次交互に形成され、前記パターン位相差フィルム作成用金型は、母材の表面に前記凹凸形状が形成されて作成され、前記パターン位相差フィルム作成用金型の作成方法は、前記右目用又は左目用の領域の幅によるスリットが、前記スリットの幅方向に繰り返し作成されているシート状のマスクを、前記母材の表面に貼り付けてラビング処理し、前記右目用又は左目用の領域に対応する凹凸形状を前記母材に作成する第1のラビング処理工程と、前記スリットの幅だけ、前記マスクを前記スリットの幅方向にシフトさせるシフト工程と、前記シフト工程による配置により、前記第1のラビング処理工程におけるラビング処理とは直交する方向に、前記母材をラビング処理し、前記左目用の領域又は前記右目用の領域に対応する凹凸形状を前記母材に作成する第2のラビング処理工程とを備えることを特徴とするパターン位相差フィルム作成用金型の作成方法。
(4) 前記マスクは、前記スリットの長手方向に、繰り返し作成され、前記第1のラビング処理工程は、前記母材に前記マスクを貼り付けてラビング処理した後、前記スリットの長手方向に前記マスクをシフトさせてラビング処理し、前記第2のラビング処理工程は、前記シフト工程による配置により、前記第1のラビング処理工程におけるラビング処理とは直交する方向に、前記母材をラビング処理した後、前記スリットの長手方向に前記マスクをシフトさせてラビング処理することを特徴とする(3)に記載のパターン位相差フィルム作成用金型の作成方法。
本発明によれば、ロール版の作成に適用することが可能であって、かつ高価な装置を使用しなくても、短時間で転写用の金型を作成することができる。従ってパッシブ方式による3次元画像表示に適用するパターン位相差フィルムを容易かつ大量に作成することができる。
以下、本発明の実施形態について図面を参照しながら説明する。
〔第1実施形態〕
図1は、本発明の第1実施形態に係るパターン位相差フィルムを示す図である。パターン位相差フィルム1は、透明シート材による基材2に配向膜3、位相差層4が順次作成される。パターン位相差フィルム1は、位相差層4が液晶材料により形成され、この液晶材料の配向を配向膜3の配向規制力によりパターニングする。なおこの液晶分子の配向を図1では細長い楕円により示す。このパターニングにより、パターン位相差フィルム1は、液晶表示パネルにおける画素の割り当てに対応して、一定の幅により、右目用の領域Aと、左目用の領域Bとが順次交互に帯状に形成され、右目用及び左目用の画素からの出射光にそれぞれ対応する位相差を与える。
図1は、本発明の第1実施形態に係るパターン位相差フィルムを示す図である。パターン位相差フィルム1は、透明シート材による基材2に配向膜3、位相差層4が順次作成される。パターン位相差フィルム1は、位相差層4が液晶材料により形成され、この液晶材料の配向を配向膜3の配向規制力によりパターニングする。なおこの液晶分子の配向を図1では細長い楕円により示す。このパターニングにより、パターン位相差フィルム1は、液晶表示パネルにおける画素の割り当てに対応して、一定の幅により、右目用の領域Aと、左目用の領域Bとが順次交互に帯状に形成され、右目用及び左目用の画素からの出射光にそれぞれ対応する位相差を与える。
パターン位相差フィルム1は、基材2の表面に紫外線硬化樹脂5が塗布された後、この紫外線硬化樹脂5の表面に微細な凹凸形状が形成され、これにより紫外線硬化樹脂を介して基材2の表面に凹凸形状が形成される。パターン位相差フィルム1は、この紫外線硬化樹脂5の表面の凹凸形状により配向膜3が形成される。この凹凸形状は、一方向に延長する多数のすじによるすじ状模様により形成され、各すじの延長方向が、配向膜3近傍における液晶材料の配向方向と一致する一方向に設定される。従ってこの紫外線硬化樹脂5の表面に形成される凹凸形状は、このすじの延長方向が、右目用及び左目用の領域A及びBで、90度異なる方向となるように、かつ各領域の延長方向に対して45度傾くように形成される。なおこの各領域の延長方向に対する傾きにあっては、基材2のリタデーションが無視できない程度に大きい場合には、リタデーション値に応じて、適宜、増減される。
図2は、このパターン位相差フィルム1の製造装置を示す略線図である。この製造装置10は、基材2がロールにより提供され、この基材2を供給リール11から供給する。製造装置10は、ダイ12によりこの基材2に紫外線硬化樹脂を塗布する。この製造装置10において、ロール版13は、パターン位相差フィルム1の配向膜3に係る凹凸形状が周囲に形成された円筒形状の金型である。製造装置10は、紫外線硬化樹脂が塗布されてなる基材2を加圧ローラ14によりロール版13に押圧し、紫外線照射装置15による紫外線の照射により紫外線硬化樹脂を硬化させる。これにより製造装置10は、ロール版13に形成された凹凸形状を基材2に転写する。その後、剥離ローラ16によりロール版13から基材2を剥離し、ダイ19により液晶材料を塗布する。またその後、紫外線照射装置17による紫外線の照射により液晶材料を硬化させた後、巻き取りリール18に巻き取る。パターン位相差フィルム1は、この巻き取りリール18に巻き取ったシート材に、必要に応じて粘着層、反射防止層等を形成した後、所望の大きさに切断して作成される。これによりパターン位相差フィルム1では、ロール版13を用いた凹凸形状の転写により、ロールにより提供される基材2を連続して処理して効率良く作成される。
図3は、ロール版13を示す斜視図である。ロール版13は、中心軸方向に、パターン位相差フィルム1の右目用の領域A及び左目用の領域Bにそれぞれ対応するリング状の領域WA、WBが順次交互に形成される。また各領域WA、WBには、それぞれ対応する凹凸形状が形成される。
図4は、このロール版13の製造工程の説明に供するフローチャートである。ロール版13は、母材の周囲に、シート状のマスクを巻き付けてラビングを繰り返すことにより作成される。このためこの製造工程では、初めに、ロール版13の母材にマスクがセットされる(ステップSP1−SP2)。
ここでロール版13は、周囲を研磨した銅による円筒形状のベース材に、ニッケル膜を成膜して母材21が形成される。なおニッケル膜にリンを含有させると共に、凹凸形状を作成した後に、熱処理による後処理を適用して、表面の硬度を向上させるようにしても良い。またニッケルに代えてクロム、チタン等を適用しても良く、さらにはポリイミドを適用しても良い。
図5は、マスクを示す平面図である。マスク22は、母材21の側面を囲む大きさに全体が設定され、ストライプ状にスリットが形成される。ここでパターン位相差フィルム1は、右目用の領域A及び左目用の領域Bが同一幅Wにより密接して順次作成されており、これに対応してマスク22は、幅Wによるスリット22Aが、間隔Wだけ間をあけて、ロール版13の軸方向に対応するスリット22Aの幅方向に繰り返し形成される。またマスク22は、スリット22Aの長さLが、ロール版13の周囲の長さに比して充分に短い長さに設定され、所定間隔だけ間を空けて、スリット22Aがその長さ方向に繰り返し形成される。また偶数列と奇数列とでほぼL/2だけ長さ方向にシフトしてスリット22Aが配置され、これによりスリット22Aが千鳥に配置される。この間隔を空けたスリット22Aの長さ方向の配置により、またスリット22Aの千鳥の配置により、一連のラビングの処理において、マスク22に充分な強度を確保し、精度よく凹凸形状を作成することができる。なおマスク22は、ステンレス材、アルミニウム材等によるシート材をエッチング処理等して作成することができる。
図6に示すように、この工程では、スリット22Aの延長方向が、母材21の円周方向となるように、母材21の周囲にマスク22を貼り付けて配置する。続いてラビング処理用のロール等を用いて、母材21の全面をラビング処理する(図4、ステップSP3)。これによりこの工程は、パターン位相差フィルム1に設ける右目用の領域A及び左目用の領域Bのうちの1方の領域について、ロール版13の対応する領域の一部にラビング処理による凹凸形状を部分的に形成する。なおこの図6においては、このラビング処理により作成される凹凸形状の延長方向を矢印Aにより示す。またこの図6においては、図7との対比により、後述するマスク22のシフトを明確にするように、マスク22を幅狭に強調して示す。
続いてこの工程では、スリット22Aの延長方向にマスク22をL/2だけシフトさせ、ラビング処理を再度実行する(ステップSP4−SP5)。これによりこの工程は、パターン位相差フィルム1に設ける右目用の領域A及び左目用の領域Bのうちの1方の領域について、当初のラビング処理で残る領域をラビング処理し、この1方の領域に対応する全ての領域に凹凸形状を形成する。
続いてこの工程では、スリット22Aの幅方向にマスク22をWだけシフトさせ、ラビング処理し、これにより図7において矢印Bにより示すように、先の1方の領域とは直交する方向に凹凸形状が連続するように凹凸形状を作成する(ステップSP6ーSP7)。また続いてスリット22Aの延長方向にマスク22をL/2だけシフトさせ、ラビング処理を再度実行する(ステップSP8ーSP9)。これによりこの工程は、ロール版13の残りの領域に凹凸形状を形成する。
これによりこの実施の形態では、1つのマスクを使用したラビング処理の繰り返しにより、簡易かつ短時間でロール版の凹凸形状を作成することができる。従ってこのロール版の使用により、従来に比してパターン位相差フィルムを容易かつ大量に作製することができる。
またスリットを長手方向に繰り返し作成するようにして、この長手方向にもマスクをシフトさせてラビングを繰り返すことにより、マスクの強度を充分に確保して、精度の高いラビング処理を繰り返すことができる。
〔他の実施の形態〕
以上、本発明の実施に好適な具体的な構成を詳述したが、本発明は、本発明の趣旨を逸脱しない範囲で、上述の実施の形態の構成を種々に変更することができる。
以上、本発明の実施に好適な具体的な構成を詳述したが、本発明は、本発明の趣旨を逸脱しない範囲で、上述の実施の形態の構成を種々に変更することができる。
すなわち上述の実施の形態では、幅Wのスリットを、間隔Wだけ間を空けて、その幅方向に繰り返し作成してマスクを作成する場合について述べたが、本発明はこれに限らず、例えば幅Wのスリットを、間隔Wの奇数倍の間隔3W、5Wだけ間を空けて、その幅方向に繰り返しスリットを作成してマスクとしても良い。なおこの場合、間隔を大きくした分だけ、幅方向のシフトを繰り返して、ラビング処理することが必要になる。
また上述の実施の形態では、スリットを千鳥に配置する場合について述べたが、本発明はこれに限らず、実用上充分にスリットの変形等を防止できる場合には、千鳥の配置を省略してスリットを整列させて配置しても良い。
また上述の実施の形態では、円筒形状による母材を加工してロール版を作成する場合について述べたが、本発明はこれに限らず、円柱形状による母材を加工してロール版を作成しても良い。
また上述の実施形態では、母材の側面を囲む大きさによりマスクを作成する場合について述べたが、本発明はこれに限らず、各辺の長さを母材の全長及び又は円周長より短い長さに設定して、マスクを小型化しても良い。但しこの場合は、マスクを小型化した分だけ、マスクをシフトさせてロール版に係るラビン処理を繰り返すことが必要になる。
また上述の実施の形態では、ロール版の外周に、リング状に、右目用の領域に係る凹凸形状の領域、左目用の領域に係る凹凸形状の領域を順次作製する場合について述べたが、本発明はこれに限らず、これと直交する方向である軸方向に延長するように、各凹凸形状の領域を形成するようにしても良い。なおこの場合に、母材に配置するマスクの向きを変更して対応することもできる。
また上述の実施の形態では、ロール版を使用して連続して凹凸形状を転写する場合について述べたが、本発明はこれに限らず、平板を使用する場合にも広く適用することができる。
また上述の実施の形態では、液晶表示パネルの使用を前提としたパターン位相差フィルムを作製する場合について述べたが、本発明はこれに限らず、有機ELパネル、プラズマディスプレイパネルの使用を前提に、偏光フィルタを一体に設ける場合にも広く適用することができる。
1 パターン位相差フィルム
2 基材
3 配向膜
4 位相差層
5 紫外線硬化樹脂
10 製造装置
11 供給リール
12、19 ダイ
13 ロール版
14 加圧ローラ
15、17 紫外線照射装置
16 剥離ローラ
18 巻き取りリール
21 母材
22 マスク
22A スリット
2 基材
3 配向膜
4 位相差層
5 紫外線硬化樹脂
10 製造装置
11 供給リール
12、19 ダイ
13 ロール版
14 加圧ローラ
15、17 紫外線照射装置
16 剥離ローラ
18 巻き取りリール
21 母材
22 マスク
22A スリット
Claims (4)
- 転写用金型に形成された凹凸形状を透明のシート材に転写して配向膜を形成するパターン位相差フィルムの作成方法において、
前記パターン位相差フィルムは、
前記配向膜のパターニングにより、右目用の透過光に、対応する位相差を与える右目用の領域と、左目用の透過光に、対応する位相差を与える左目用の領域とが、それぞれ帯状に順次交互に形成され、
前記転写用金型は、
母材の表面に前記凹凸形状が形成されて作成され、
前記パターン位相差フィルムの作成方法は、
前記右目用又は左目用の領域の幅によるスリットが、前記スリットの幅方向に繰り返し作成されているシート状のマスクを、前記母材の表面に配置してラビング処理し、前記右目用又は左目用の領域に対応する凹凸形状を前記母材に作成する第1のラビング処理工程と、
前記スリットの幅だけ、前記マスクを前記スリットの幅方向にシフトさせるシフト工程と、
前記シフト工程による配置により、前記第1のラビング処理工程におけるラビング処理とは直交する方向に、前記母材をラビング処理し、前記左目用の領域又は前記右目用の領域に対応する凹凸形状を前記母材に作成する第2のラビング処理工程とを備える
ことを特徴とするパターン位相差フィルムの作成方法。 - 前記マスクは、
前記スリットの長手方向に、前記スリットがり返し作成され、
前記第1のラビング処理工程は、
前記母材に前記マスクを配置してラビング処理した後、前記スリットの長手方向に前記マスクをシフトさせてラビング処理し、
前記第2のラビング処理工程は、
前記シフト工程による配置により、前記第1のラビング処理工程におけるラビング処理とは直交する方向に、前記母材をラビング処理した後、前記スリットの長手方向に前記マスクをシフトさせてラビング処理する
ことを特徴とする請求項1に記載のパターン位相差フィルムの作成方法。 - 表面に形成された凹凸形状の透明シート材への転写によりパターン位相差フィルムの配向膜を作成するパターン位相差フィルム作成用金型の作成方法であって、
前記パターン位相差フィルムは、
前記配向膜のパターニングにより、右目用の透過光に、対応する位相差を与える右目用の領域と、左目用の透過光に、対応する位相差を与える左目用の領域とが、それぞれ帯状に順次交互に形成され、
前記パターン位相差フィルム作成用金型は、
母材の表面に前記凹凸形状が形成されて作成され、
前記パターン位相差フィルム作成用金型の作成方法は、
前記右目用又は左目用の領域の幅によるスリットが、前記スリットの幅方向に繰り返し作成されているシート状のマスクを、前記母材の表面に貼り付けてラビング処理し、前記右目用又は左目用の領域に対応する凹凸形状を前記母材に作成する第1のラビング処理工程と、
前記スリットの幅だけ、前記マスクを前記スリットの幅方向にシフトさせるシフト工程と、
前記シフト工程による配置により、前記第1のラビング処理工程におけるラビング処理とは直交する方向に、前記母材をラビング処理し、前記左目用の領域又は前記右目用の領域に対応する凹凸形状を前記母材に作成する第2のラビング処理工程とを備える
ことを特徴とするパターン位相差フィルム作成用金型の作成方法。 - 前記マスクは、
前記スリットの長手方向に、繰り返し作成され、
前記第1のラビング処理工程は、
前記母材に前記マスクを貼り付けてラビング処理した後、前記スリットの長手方向に前記マスクをシフトさせてラビング処理し、
前記第2のラビング処理工程は、
前記シフト工程による配置により、前記第1のラビング処理工程におけるラビング処理とは直交する方向に、前記母材をラビング処理した後、前記スリットの長手方向に前記マスクをシフトさせてラビング処理する
ことを特徴とする請求項3に記載のパターン位相差フィルム作成用金型の作成方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2011110848A JP2012242515A (ja) | 2011-05-17 | 2011-05-17 | パターン位相差フィルムの作成方法、パターン位相差フィルム作成用金型の作成方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2011110848A JP2012242515A (ja) | 2011-05-17 | 2011-05-17 | パターン位相差フィルムの作成方法、パターン位相差フィルム作成用金型の作成方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2012242515A true JP2012242515A (ja) | 2012-12-10 |
Family
ID=47464309
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2011110848A Pending JP2012242515A (ja) | 2011-05-17 | 2011-05-17 | パターン位相差フィルムの作成方法、パターン位相差フィルム作成用金型の作成方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2012242515A (ja) |
Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2006276849A (ja) * | 2005-03-03 | 2006-10-12 | Fuji Photo Film Co Ltd | 液晶セル及び液晶表示装置 |
| JP2010152296A (ja) * | 2008-09-22 | 2010-07-08 | Sony Corp | 位相差板の製造方法 |
| JP2011029161A (ja) * | 2009-06-26 | 2011-02-10 | Sumitomo Chemical Co Ltd | 立体表示装置 |
-
2011
- 2011-05-17 JP JP2011110848A patent/JP2012242515A/ja active Pending
Patent Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2006276849A (ja) * | 2005-03-03 | 2006-10-12 | Fuji Photo Film Co Ltd | 液晶セル及び液晶表示装置 |
| JP2010152296A (ja) * | 2008-09-22 | 2010-07-08 | Sony Corp | 位相差板の製造方法 |
| JP2011029161A (ja) * | 2009-06-26 | 2011-02-10 | Sumitomo Chemical Co Ltd | 立体表示装置 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| EP2942667B1 (en) | Patterning method using imprint mold | |
| CN109283730B (zh) | 光重导向膜及其制造方法 | |
| CN103748489B (zh) | 图案相位差膜的制造方法、图案相位差膜及图像显示装置 | |
| JP5881328B2 (ja) | 光学板及びその製造方法と表示装置及びその製造方法 | |
| US10317723B2 (en) | Liquid crystal display and method for manufacturing the same | |
| JP2013015754A (ja) | パターン位相差フィルムの製造方法 | |
| JP2012242515A (ja) | パターン位相差フィルムの作成方法、パターン位相差フィルム作成用金型の作成方法 | |
| JP5810735B2 (ja) | パターン位相差フィルムの製造方法及び光学フィルムの製造方法 | |
| US8871410B2 (en) | Method for producing pattern phase difference film | |
| JP2012242773A (ja) | パターン位相差フィルムの作製方法、パターン位相差フィルム作製用の金型及びその作製方法 | |
| JP2013113938A (ja) | パターン位相差フィルム、画像表示装置、パターン位相差フィルムの製造用金型及びパターン位相差フィルムの製造方法 | |
| JP6064627B2 (ja) | 光学フィルムの製造方法 | |
| JP2013015753A (ja) | パターン位相差フィルムの製造方法 | |
| JP2012247508A (ja) | パターン位相差フィルムの作製方法、パターン位相差フィルム作製用金型の作製方法 | |
| JP5974604B2 (ja) | パターン位相差フィルムの製造方法 | |
| JP2014010220A (ja) | 光学フィルム、画像表示装置及び光学フィルムの製造用金型 | |
| JP2014182200A (ja) | 光学フィルムの製造方法 | |
| JP6048187B2 (ja) | パターン位相差フィルム及び画像表示装置 | |
| JP2012247509A (ja) | パターン位相差フィルムの作製方法、パターン位相差フィルム作製用金型の作製方法 | |
| JP6209884B2 (ja) | 光学フィルムの製造方法及び光学フィルム用賦型金型の製造方法 | |
| JP2013120348A (ja) | パターン位相差フィルムの製造用金型の製造方法及びパターン位相差フィルムの製造方法 | |
| JP2014219596A (ja) | 光学フィルムの製造方法 | |
| JP2012242518A (ja) | パターン位相差フィルムの作成方法、パターン位相差フィルム作成用の金型及びその作成方法 | |
| JP5594334B2 (ja) | パターン位相差フィルム、画像表示装置、パターン位相差フィルムの製造用金型及びパターン位相差フィルムの製造方法 | |
| JP6136665B2 (ja) | パターン位相差フィルムの製造方法、マスク及びパターン位相差フィルムのロール体 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20140317 |
|
| A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20141210 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20141216 |
|
| A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20150421 |