JP2012252149A - Asperity pattern forming sheet and manufacturing method therefor, light diffusion body, stamper for manufacturing light diffusion body, and manufacturing method for light diffusion body - Google Patents

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Abstract

【課題】複数の発光ダイオード光源が二次元的に分散配置された面光源装置に使用された場合でも、防眩性および照度の両方を十分に高くできる、等方性光拡散性に優れた光拡散体として使用できる、凹凸パターン形成シートを提供する。
【解決手段】少なくとも1種類の透光性樹脂からなるシートの表面に、一方向に沿った第一の凹凸パターンと、第一の凹凸パターンに略直交する方向に沿った第二の凹凸パターンとが形成された凹凸パターン形成シートであって、
第一および第二の凹凸パターンの平均ピッチがそれぞれ1μmを超え50μm以下、第一および第二の凹凸パターンの平均深さが前記平均ピッチを100%とした際の10%以上であることを特徴とする凹凸パターン形成シート。
【選択図】図2
An object of the present invention is to provide a light diffuser excellent in isotropic light diffusibility, which can sufficiently increase both antiglare property and illuminance even when used in a surface light source device in which a plurality of light emitting diode light sources are two-dimensionally distributed. An uneven pattern forming sheet that can be used as
A first concavo-convex pattern along one direction and a second concavo-convex pattern along a direction substantially orthogonal to the first concavo-convex pattern are formed on the surface of a sheet made of at least one kind of translucent resin. Is a concavo-convex pattern forming sheet formed,
The average pitch of the first and second concavo-convex patterns is more than 1 μm and 50 μm or less, respectively, and the average depth of the first and second concavo-convex patterns is 10% or more when the average pitch is 100%. An uneven pattern forming sheet.
[Selection] Figure 2

Description

本発明は、照明装置などに使用される光拡散体に備えられる凹凸パターン形成シートおよびその製造方法に関する。また、凹凸パターン形成シートが使用された光拡散体に関する。また、凹凸パターンが表面に形成された光拡散体を製造するための型として用いられる光拡散体製造用スタンパに関する。さらに、光拡散体の製造方法に関する。   The present invention relates to a concavo-convex pattern forming sheet provided in a light diffuser used in a lighting device or the like and a method for manufacturing the same. The present invention also relates to a light diffuser using a concavo-convex pattern forming sheet. The present invention also relates to a light diffuser manufacturing stamper used as a mold for manufacturing a light diffuser having an uneven pattern formed on the surface thereof. Furthermore, it is related with the manufacturing method of a light diffuser.

近年、環境問題への関心の高まりに伴い、照明装置においては、省電力且つ長寿命であることから、光源として発光ダイオード光源を用いたものが急速に普及しつつある。ところで、発光ダイオード光源から発せられる光は、直進性が高く、殆ど拡散しないため、発光ダイオード光源を用いた照明装置は光拡散体を備える。例えば、特許文献1には、複数個の発光ダイオード光源を直線的に配列させた光源ユニットと、該光源ユニットからの光を拡散させて光源イメージを低減し、防眩性を得るための光拡散体とを備えたものが開示されている。光拡散体としては、例えば、従来の直管形蛍光灯を用いた照明装置に取り付けられているような、バインダ中に粒子が含まれる光拡散層を有するもの(特許文献2参照)が使用されている。しかし、特許文献2に記載の光拡散層を有する光拡散体を、前記発光ダイオード光源を用いた光源ユニットに適用した場合には、光源イメージは十分に消え、防眩性は確保できるものの、粒子による光散乱のため光の透過性が阻害され、照明装置の照度が低くなることがあった。 2. Description of the Related Art In recent years, with increasing interest in environmental problems, lighting devices that use light-emitting diode light sources as light sources are rapidly spreading because of their power saving and long life. By the way, since the light emitted from the light emitting diode light source has high straightness and hardly diffuses, an illumination device using the light emitting diode light source includes a light diffuser. For example, Patent Document 1 discloses a light source unit in which a plurality of light-emitting diode light sources are linearly arranged, and light diffusion for reducing the light source image by diffusing light from the light source unit and obtaining anti-glare properties. What is provided with a body is disclosed. As the light diffuser, for example, a light diffuser having a light diffusion layer containing particles in a binder, which is attached to a lighting device using a conventional straight tube fluorescent lamp (see Patent Document 2), is used. ing. However, when the light diffusing body having the light diffusing layer described in Patent Document 2 is applied to a light source unit using the light emitting diode light source, the light source image disappears sufficiently and the antiglare property can be ensured. Due to light scattering by the light, the light transmittance is hindered, and the illuminance of the lighting device may be lowered.

この問題に対し、特許文献3には、複数の発光ダイオード光源が二次元的に分散配置された面光源装置において、片面に凹凸形状を有する2つのシートを、各シートの凸部先端が同一の方向を向くように配置した光拡散体を用いることが記載されている。
1枚のシートを光拡散体として用いた例として、特許文献4および特許文献5では、防眩性と照度を確保することを目的として、少なくとも片面に、干渉露光法により作製された凹凸形状を有するシートを光拡散体として用いることが記載されている。また、特許文献6では、半球状のマイクロレンズが配列した表面凹凸形状が、金型による転写法により樹脂フィルム表面に設けられた拡散シートが記載されている。
また、特許文献7には、加熱収縮性樹脂フィルムの片面または両面に、表面が平滑な樹脂製の硬質層を形成した後、加熱収縮させることにより硬質層の表面に凹凸パターンが形成された凹凸パターン形成シートを光拡散体として用いることが記載されている。
With respect to this problem, Patent Document 3 discloses that in a surface light source device in which a plurality of light emitting diode light sources are two-dimensionally distributed and arranged, two sheets having an uneven shape on one side, and the tips of the convex portions of each sheet are the same. The use of a light diffuser arranged to face the direction is described.
As an example using one sheet as a light diffuser, in Patent Document 4 and Patent Document 5, an uneven shape produced by an interference exposure method is provided on at least one side for the purpose of ensuring antiglare properties and illuminance. The use of a sheet having a light diffuser is described. Further, Patent Document 6 describes a diffusion sheet in which surface irregularities in which hemispherical microlenses are arranged are provided on the surface of a resin film by a transfer method using a mold.
Patent Document 7 discloses a concavo-convex pattern in which a concavo-convex pattern is formed on the surface of a hard layer by forming a resin-made hard layer with a smooth surface on one or both sides of the heat-shrinkable resin film and then heat-shrinking. The use of a pattern forming sheet as a light diffuser is described.

実開昭63−121461号公報Japanese Utility Model Publication No. 63-121461 特開平10−269825号公報JP-A-10-269825 国際公開第2010/110319号明細書International Publication No. 2010/110319 特開2001−100621号公報Japanese Patent Laid-Open No. 2001-1000062 特開2010−129507号公報JP 2010-129507 A 特開2007−179036号公報JP 2007-179036 A 特開2008−302591号公報JP 2008-302591 A

特許文献3の方法によれば、光源イメージを低減し、防眩性を得ることはできるが、シートを2枚使用するために照度が大きく低下してしまう。
1枚のシートを光拡散体として使用する、特許文献4および5においても、凹凸構造により防眩性を高めて、目視で判別できないレベルまで十分に光源イメージを無くした場合には、照度が大きく低下してしまう。さらに、干渉露光法を使用して凹凸パターンを形成するために、大きいサイズの拡散シートを得ることが非常に困難で、発光ダイオード光源を使用した一般的なサイズの光源装置には使用できない。特許文献6のような半球レンズ上の凹凸構造では、光の拡散性が不十分なため、光源イメージを無くして十分な防眩性を得るために、シート内部に拡散材料を含有させている。その結果、照度低下が大きくなってしまう。
特許文献7の方法では、簡便な方法により凹凸パターン形成シートを作製可能であり、十分に大きなサイズのシートを製造可能である。ランダム性の高い凹凸構造が形成されるため、光拡散性が高く、防眩性と高照度を両立することが可能である。しかし、一軸方向加熱収縮性シートを使用するため、一方向に沿った凹凸構造が形成された異方性の高い拡散シートであり、等方拡散性に乏しいため、複数の発光ダイオード光源が二次元的に分散配置された面光源装置に使用した場合には、十分な防眩性が得られないという問題があった。
According to the method of Patent Document 3, the light source image can be reduced and the antiglare property can be obtained. However, since two sheets are used, the illuminance is greatly reduced.
Even in Patent Documents 4 and 5, in which one sheet is used as a light diffuser, if the light source image is sufficiently eliminated to a level that cannot be visually discerned by improving the antiglare property by the uneven structure, the illuminance is large. It will decline. Further, since the concave / convex pattern is formed by using the interference exposure method, it is very difficult to obtain a diffusion sheet having a large size, and it cannot be used for a light source device of a general size using a light emitting diode light source. In the concavo-convex structure on the hemispherical lens as in Patent Document 6, since the light diffusibility is insufficient, a diffusing material is included in the sheet in order to obtain a sufficient antiglare property by eliminating the light source image. As a result, a decrease in illuminance is increased.
In the method of Patent Document 7, a concavo-convex pattern forming sheet can be produced by a simple method, and a sufficiently large sheet can be produced. Since the concavo-convex structure with high randomness is formed, the light diffusibility is high, and it is possible to achieve both antiglare property and high illuminance. However, because it uses a uniaxial heat-shrinkable sheet, it is a highly anisotropic diffusion sheet with a concavo-convex structure formed in one direction, and it has poor isotropic diffusivity. When used in a surface light source device that is distributed in a distributed manner, there is a problem that sufficient antiglare property cannot be obtained.

本発明は、前記事情に鑑みてなされたものであり、複数の発光ダイオード光源が二次元的に分散配置された面光源装置に使用された場合でも、防眩性および照度の両方を十分に高くできる、特に等方性光拡散性に優れた光拡散体として使用できる、凹凸パターン形成シートを提供することを目的とする。   The present invention has been made in view of the above circumstances, and even when a plurality of light emitting diode light sources are used in a two-dimensionally distributed surface light source device, both the antiglare property and the illuminance are sufficiently high. An object of the present invention is to provide a concavo-convex pattern-forming sheet that can be used as a light diffuser that is particularly excellent in isotropic light diffusibility.

上記課題を解決するため本発明は、以下の第1〜第6の発明、即ち、[1]〜[6]の発明の構成を採用する。
[1] 少なくとも1種類の透光性樹脂からなるシートの表面に、一方向に沿った第一の凹凸パターンと、第一の凹凸パターンに略直交する方向に沿った第二の凹凸パターンとが形成された凹凸パターン形成シートであって、
第一および第二の凹凸パターンの平均ピッチがそれぞれ1μmを超え50μm以下、第一および第二の凹凸パターンの平均深さが前記平均ピッチを100%とした際の10%以上であることを特徴とする凹凸パターン形成シート。
[2] 樹脂製の透光性基材と、該基材の片面に設けられた樹脂性の透明な硬質層とを備え、該硬質層の表面に、一方向に沿った第一の凹凸パターンと、第一の凹凸パターンに略直交する方向に沿った第二の凹凸パターンとが形成された凹凸パターン形成シートであって、
樹脂製の基材が一軸方向加熱収縮性フィルムであり、
硬質層を構成する樹脂のガラス転移温度Tg2と、基材を構成する樹脂のガラス転移温
度Tg1との差(Tg2−Tg1)が10℃以上であり、
硬質層を構成する樹脂が、活性エネルギー線により硬化された後の、活性エネルギー線硬化性樹脂であることを特徴とする、[1]に記載の凹凸パターン形成シート。
[3] 樹脂製の透光性基材の片面に、未硬化の活性エネルギー線硬化性樹脂組成物を塗工し、一方向に沿った第一の凹凸パターンのみが表面に形成された転写成形用スタンパを、該凹凸パターンの方向と、基材の熱収縮の方向とを一致させた状態にて該塗工膜に密着させ、透光性基材側から活性エネルギー線を照射することにより活性エネルギー線硬化性樹脂を硬化させた後、該硬化膜を転写成形用スタンパから剥離することにより、第一の凹凸パターンが転写成形された硬質層が設けられた積層シートを製造する工程と、
前記積層シートを加熱して、基材の熱収縮の方向に収縮させることで、硬質層を折り畳むように変形させて第二の凹凸パターンを形成する工程とを有する、[2]に記載の凹凸パターン形成シートの製造方法。
[4] [1]または[2]に記載の凹凸パターン形成シートを備えた光拡散体。
[5] [1]または[2]に記載の凹凸パターン形成シートと同等の平均ピッチおよび平均深さの凹凸パターンが表面に形成された、光拡散体製造用スタンパ。
[6] [5]に記載の光拡散体製造用スタンパの凹凸パターンを、少なくとも1種類の透光性樹脂からなるシートの表面に転写させる転写工程を有することを特徴とする、[4]に記載の光拡散体の製造方法。
In order to solve the above-mentioned problems, the present invention employs the following first to sixth inventions, that is, the configurations of the inventions [1] to [6].
[1] A first concavo-convex pattern along one direction and a second concavo-convex pattern along a direction substantially orthogonal to the first concavo-convex pattern are formed on the surface of a sheet made of at least one kind of translucent resin. A formed uneven pattern forming sheet,
The average pitch of the first and second concavo-convex patterns is more than 1 μm and 50 μm or less, respectively, and the average depth of the first and second concavo-convex patterns is 10% or more when the average pitch is 100%. An uneven pattern forming sheet.
[2] A resin-made translucent base material and a resinous transparent hard layer provided on one surface of the base material, and a first concavo-convex pattern along one direction on the surface of the hard layer And a concavo-convex pattern forming sheet formed with a second concavo-convex pattern along a direction substantially orthogonal to the first concavo-convex pattern,
The resin base material is a uniaxial heat shrinkable film,
A glass transition temperature T g2 of the resin constituting the hard layer, the difference between the glass transition temperature T g1 of the resin constituting the base material (T g2 -T g1) is not less 10 ° C. or higher,
The uneven pattern forming sheet according to [1], wherein the resin constituting the hard layer is an active energy ray-curable resin after being cured by active energy rays.
[3] Transfer molding in which an uncured active energy ray-curable resin composition is applied to one surface of a resin-made translucent substrate, and only the first uneven pattern along one direction is formed on the surface. The stamper is activated by contacting the coating film in a state where the direction of the concave / convex pattern and the direction of thermal contraction of the base material coincide with each other, and irradiating active energy rays from the translucent base material side. A step of producing a laminated sheet provided with a hard layer on which the first concavo-convex pattern is transferred by peeling the cured film from the transfer molding stamper after curing the energy ray curable resin;
The unevenness according to [2], including a step of heating the laminated sheet and contracting in the direction of thermal contraction of the base material to deform the hard layer so as to fold and form a second unevenness pattern. A method for producing a pattern forming sheet.
[4] A light diffuser comprising the uneven pattern forming sheet according to [1] or [2].
[5] A stamper for producing a light diffuser, wherein a concavo-convex pattern having an average pitch and an average depth equivalent to those of the concavo-convex pattern forming sheet according to [1] or [2] is formed on the surface.
[6] The method according to [4], further including a transfer step of transferring the concave / convex pattern of the stamper for manufacturing a light diffuser according to [5] onto a surface of a sheet made of at least one kind of translucent resin. The manufacturing method of the light-diffusion body of description.

本発明の凹凸パターン形成シートは、光拡散体として利用でき、簡便に製造できるものである。
本発明の凹凸パターン形成シートの製造方法によれば、光拡散体として利用される凹凸パターン形成シートを簡便に製造できる。
本発明の光拡散体は、光拡散性に優れ、照明装置に用いた場合、高い防眩性と照度を得ることができる。
本発明の光拡散体製造用スタンパおよび光拡散体の製造方法によれば、凹凸パターン形成シートと同等の平均ピッチおよび平均深さの凹凸パターンが形成された光拡散体を簡便にかつ大量に製造できる。
The uneven | corrugated pattern formation sheet of this invention can be utilized as a light diffuser, and can be manufactured simply.
According to the method for producing a concavo-convex pattern forming sheet of the present invention, a concavo-convex pattern forming sheet used as a light diffuser can be easily produced.
The light diffuser of the present invention is excellent in light diffusibility, and can obtain high antiglare property and illuminance when used in a lighting device.
According to the light diffusing material manufacturing stamper and the light diffusing material manufacturing method of the present invention, a light diffusing material having a concavo-convex pattern having an average pitch and an average depth equivalent to that of the concavo-convex pattern forming sheet is easily and in large quantities. it can.

本発明の凹凸パターン形成シート上面を撮影した光学顕微鏡画像である。It is the optical microscope image which image | photographed the uneven | corrugated pattern formation sheet upper surface of this invention. 本発明の凹凸パターン形成シートの模式図である。It is a schematic diagram of the uneven | corrugated pattern formation sheet of this invention. 本発明の凹凸パターン形成シートを、第二の凹凸パターンに平行な方向(Y方向)に切断した際の断面図である。It is sectional drawing when the uneven | corrugated pattern formation sheet of this invention is cut | disconnected in the direction (Y direction) parallel to a 2nd uneven | corrugated pattern. 本発明の凹凸パターン形成シートの製造方法の一実施形態を示す模式図である。It is a schematic diagram which shows one Embodiment of the manufacturing method of the uneven | corrugated pattern formation sheet of this invention. 本発明の光拡散体の製造方法の一例を示す模式図である。It is a schematic diagram which shows an example of the manufacturing method of the light diffuser of this invention. 本発明の各実施例にて用いられる面光源装置の一例を示す模式図である。It is a schematic diagram which shows an example of the surface light source device used in each Example of this invention.

(凹凸パターン形成シート)
本発明の凹凸パターン形成シートの一実施形態について説明する。
図1および図2に、本実施形態の凹凸パターン形成シートを示す。図1は凹凸パターン上面を撮影した光学顕微鏡画像であり、図2はその凹凸パターンを模式的に示したものである。本実施形態の凹凸パターン形成シート10は、基材11と、基材11の片面に設けられた硬質層12とを備え、硬質層12の表面に、略一方向に沿った第一の凹凸パターン13aと、第一の凹凸パターンに略直交する方向に沿った第二の凹凸パターン14aとを有するものである。
(Uneven pattern forming sheet)
An embodiment of the uneven pattern forming sheet of the present invention will be described.
In FIG. 1 and FIG. 2, the uneven | corrugated pattern formation sheet of this embodiment is shown. FIG. 1 is an optical microscope image obtained by photographing the upper surface of the concavo-convex pattern, and FIG. 2 schematically shows the concavo-convex pattern. The uneven | corrugated pattern formation sheet 10 of this embodiment is equipped with the base material 11 and the hard layer 12 provided in the single side | surface of the base material 11, and the 1st uneven | corrugated pattern along the substantially one direction on the surface of the hard layer 12 was provided. 13a and a second concavo-convex pattern 14a along a direction substantially orthogonal to the first concavo-convex pattern.

凹凸パターン形成シート10の2つの凹凸パターン13aおよび14aは、それぞれ略一方向に沿った波状の凹凸が互いに略直交しているものであり、それら波状の凹凸が蛇行しているものである。
図2に示すように、第一の凹凸パターン13aは、一方向(以下、「X方向」とする)に沿って蛇行している波状のパターンであり、その方向に対して直交する方向(以下、「Y方向」とする)に沿って凹凸(凹部13c、凸部13b)が繰り返し形成された波形状のパターンである。
第二の凹凸パターン14aは、Y方向に沿って蛇行している波状のパターンであり、X方向に沿って凹凸(凹部14c、凸部14b)が繰り返し形成された波形状のパターンである。
本実施形態では、凹凸パターン13a、14aの稜線が蛇行して、隣り合った凸部13b、14b同士のピッチが凹凸パターン13a、14aの方向に沿ってばらついている。また、第一の凹凸パターン13aおよび第二の凹凸パターン14aの凸部(13b、14b)の先端は共に丸みを帯びている。
The two concavo-convex patterns 13a and 14a of the concavo-convex pattern forming sheet 10 are such that the undulations along substantially one direction are substantially orthogonal to each other, and the undulations are meandering.
As shown in FIG. 2, the first uneven pattern 13 a is a wavy pattern meandering along one direction (hereinafter referred to as “X direction”), and a direction orthogonal to the direction (hereinafter referred to as “X direction”). , “Y direction”), and a wavy pattern in which concave and convex portions (concave portions 13c and convex portions 13b) are repeatedly formed.
The second concavo-convex pattern 14a is a wavy pattern meandering along the Y direction, and is a wavy pattern in which concavo-convex portions (concave portions 14c and convex portions 14b) are repeatedly formed along the X direction.
In the present embodiment, the ridge lines of the concavo-convex patterns 13a and 14a meander, and the pitch between the adjacent convex portions 13b and 14b varies along the direction of the concavo-convex patterns 13a and 14a. The tips of the convex portions (13b, 14b) of the first concavo-convex pattern 13a and the second concavo-convex pattern 14a are both rounded.

凹凸パターン13a、14aの平均ピッチAおよび平均深さBを求めるためには、凹凸パターン13a、14aの上面および断面の光学顕微鏡による観察、または、凹凸パターン13a、14aの共焦点レーザー顕微鏡による三次元測定を行う。
顕微鏡観察によって得られた、断面の凹凸プロファイルから、平均ピッチAおよび平均深さBを求める方法の一例を以下に述べる。図3は、第一の凹凸パターン13aをY方向に沿って切断した断面プロファイルである。隣り合う凹部(13c)同士の、Y方向での位置(Y座標)の差、すなわち、ピッチA1、A2、A3・・・、の平均値が、平均ピッチAとして求められる。少なくとも10個以上のピッチから平均ピッチAが求められる。
平均深さBは、断面プロファイル図3において、Y方向と平行な基準線L1から各凸部(13b)までの長さB1,B2,B3・・・の平均値(BAV)と、基準線L1から各凹部(13c)までの長さb1,b2,b3・・・の平均値(bAV)との差(bAV−BAV)として求めることができる。それぞれ少なくとも10個以上の凸部および凹部から平均深さBが求められる。
第二の凹凸パターン14aについても、前記と全く同様にして平均ピッチAおよび平均深さBを求めることができる。
In order to obtain the average pitch A and the average depth B of the concavo-convex patterns 13a, 14a, the top and cross sections of the concavo-convex patterns 13a, 14a are observed with an optical microscope, or the concavo-convex patterns 13a, 14a are three-dimensional with a confocal laser microscope. Measure.
An example of a method for obtaining the average pitch A and the average depth B from the cross-sectional uneven profile obtained by microscopic observation will be described below. FIG. 3 is a cross-sectional profile obtained by cutting the first uneven pattern 13a along the Y direction. A difference between positions (Y coordinates) in the Y direction between adjacent concave portions (13c), that is, an average value of pitches A1, A2, A3,... Is obtained as an average pitch A. The average pitch A is determined from at least 10 pitches.
The average depth B is the average value (B AV ) of the lengths B1, B2, B3... From the reference line L1 parallel to the Y direction to each projection (13b) and the reference line in FIG. It can be obtained as a difference (b AV −B AV ) from the average value (b AV ) of the lengths b1, b2, b3... From L1 to each recess (13c). The average depth B is determined from at least 10 convex portions and concave portions, respectively.
For the second uneven pattern 14a, the average pitch A and the average depth B can be obtained in exactly the same manner as described above.

第一の凹凸パターン13aおよび第二の凹凸パターン14aの平均ピッチAは1μmを超え40μm以下、好ましくは1μmを超え30μm以下である。平均ピッチAが1μm未満であると、光が透過してしまい、40μmを超えると、光拡散性が低くなる。
凹凸パターン13a、14a平均深さBは平均ピッチAを100%とした際の10%以上(すなわち、アスペクト比0.1以上)であり、30%以上(すなわち、アスペクト比0.3以上)であることが好ましい。平均深さBが平均ピッチAを100%とした際の10%未満であると、光拡散性の高い光拡散体を得ることが困難になる。
また、平均深さBは、凹凸パターン13a、14aを容易に形成できる点から、好ましくは平均ピッチAを100%とした際の300%以下(すなわち、アスペクト比3.0以下)であり、より好ましくは200%以下(すなわち、アスペクト比2.0以下)である。
光拡散性の高い光拡散体が得られるようになる点では、凹凸パターン13a、14aがある程度蛇行して、隣り合った凸部同士のピッチが凹凸パターン13a、14aそれぞれの方向に沿ってばらついていることが好ましい。
The average pitch A of the first uneven pattern 13a and the second uneven pattern 14a is more than 1 μm and 40 μm or less, preferably more than 1 μm and 30 μm or less. When the average pitch A is less than 1 μm, light is transmitted, and when it exceeds 40 μm, the light diffusibility is lowered.
The average depth B of the concavo-convex patterns 13a and 14a is 10% or more when the average pitch A is 100% (that is, the aspect ratio is 0.1 or more), and 30% or more (that is, the aspect ratio is 0.3 or more). Preferably there is. If the average depth B is less than 10% when the average pitch A is 100%, it is difficult to obtain a light diffuser with high light diffusibility.
The average depth B is preferably 300% or less (that is, an aspect ratio of 3.0 or less) when the average pitch A is 100% from the viewpoint that the uneven patterns 13a and 14a can be easily formed. Preferably, it is 200% or less (that is, the aspect ratio is 2.0 or less).
In order to obtain a light diffuser with high light diffusibility, the concave and convex patterns 13a and 14a meander to some extent, and the pitch between adjacent convex parts varies along the direction of the concave and convex patterns 13a and 14a. Preferably it is.

硬質層12を構成する樹脂(以下、第二の樹脂という。)のガラス転移温度Tg2と、基材11を構成する樹脂(以下、第一の樹脂という。)のガラス転移温度Tg1との差(Tg2−Tg1)は10℃以上であり、20℃以上であることが好ましく、30℃以上であることがより好ましい。(Tg2−Tg1)の差が10℃以上であることにより、Tg2とTg1の間の温度で容易に加工できる。Tg2とTg1の間の温度を加工温度とすると、基材11のヤング率が硬質層12のヤング率より高くなる条件で加工でき、その結果、硬質層12に第二の凹凸パターン14aを容易に形成できる。
また、Tg2が400℃を超えるような樹脂を使用することは経済性の面から必要に乏しく、Tg1が−150℃より低い樹脂は存在しないことから、(Tg2−Tg1)は550℃以下であることが好ましく、200℃以下であることがより好ましい。
凹凸パターン形成シート10を製造する際の加工温度における基材11と硬質層12とのヤング率の差は、第二の凹凸パターン14aを容易に形成できることから、0.01〜300GPaであることが好ましく、0.1〜10GPaであることがより好ましい。
ここでいう加工温度は、例えば、後述する凹凸パターン形成シートの製造方法における熱収縮時の加熱温度のことである。また、ヤング率は、JIS K 7113−1995に準拠して測定した値である。
A glass transition temperature T g2 of a resin constituting the hard layer 12 (hereinafter referred to as a second resin) and a glass transition temperature T g1 of a resin constituting the substrate 11 (hereinafter referred to as a first resin). The difference (T g2 −T g1 ) is 10 ° C. or higher, preferably 20 ° C. or higher, and more preferably 30 ° C. or higher. When the difference of ( Tg2 - Tg1 ) is 10 degreeC or more, it can process easily at the temperature between Tg2 and Tg1 . When the temperature between T g2 and T g1 is a processing temperature, the substrate 11 can be processed under the condition that the Young's modulus of the base material 11 is higher than the Young's modulus of the hard layer 12, and as a result, the second uneven pattern 14a is formed on the hard layer 12. Can be easily formed.
In addition, it is not necessary to use a resin having a T g2 exceeding 400 ° C. from the viewpoint of economy, and there is no resin having a T g1 lower than −150 ° C. Therefore, (T g2 -T g1 ) is 550. It is preferably not higher than ° C., more preferably not higher than 200 ° C.
The difference in Young's modulus between the base material 11 and the hard layer 12 at the processing temperature when manufacturing the uneven pattern forming sheet 10 is 0.01 to 300 GPa because the second uneven pattern 14a can be easily formed. Preferably, it is 0.1-10 GPa.
The processing temperature here is, for example, the heating temperature at the time of thermal shrinkage in the method for producing an uneven pattern forming sheet described later. The Young's modulus is a value measured according to JIS K 7113-1995.

第一の樹脂のガラス転移温度Tg1は−150〜300℃であることが好ましく、−120〜200℃であることがより好ましい。ガラス転移温度Tg1が−150℃より低い樹脂は存在せず、第一の樹脂のガラス転移温度Tg1が300℃以下であれば、凹凸パターン形成シート10を製造する際の加工温度(Tg2とTg1の間の温度)に容易に加熱することができるためである。 Preferably has a glass transition temperature T g1 of the first resin is -150~300 ℃, more preferably -120~200 ℃. If there is no resin having a glass transition temperature T g1 lower than −150 ° C. and the glass transition temperature T g1 of the first resin is 300 ° C. or lower, the processing temperature (T g2) when manufacturing the concavo-convex pattern forming sheet 10. And the temperature between Tg1 and Tg1 ).

凹凸パターン形成シート10を製造する際の加工温度における第一の樹脂のヤング率は0.01〜100MPaであることが好ましく、0.1〜10MPaであることがより好ましい。第一の樹脂のヤング率が0.01MPa以上であれば、基材11として使用可能な硬さであり、100MPa以下であれば、硬質層12が変形する際に同時に追従して変形可能な軟らかさである。   The Young's modulus of the first resin at the processing temperature when producing the concavo-convex pattern forming sheet 10 is preferably 0.01 to 100 MPa, and more preferably 0.1 to 10 MPa. If the Young's modulus of the first resin is 0.01 MPa or more, it is a hardness that can be used as the base material 11, and if it is 100 MPa or less, it is soft enough to follow and deform simultaneously when the hard layer 12 is deformed. That's it.

第一の樹脂としては、例えば、ポリエチレンテレフタレート等のポリエステル、ポリエチレンやポリプロピレン等のポリオレフィン、スチレン−ブタジエンブロック共重合体等のポリスチレン系樹脂、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリジメチルシロキサン等のシリコーン樹脂、フッ素樹脂、ABS樹脂、ポリアミド、アクリル樹脂、ポリカーボネート、ポリシクロオレフィンなどの樹脂が挙げられる。
なお、本実施形態における凹凸パターン形成シートを、光拡散体として好適に用いるために、基材11は透光性基材が用いられ、基材11を構成する第一の樹脂としても透明性の高い樹脂が使用される。
Examples of the first resin include polyesters such as polyethylene terephthalate, polyolefins such as polyethylene and polypropylene, polystyrene resins such as styrene-butadiene block copolymers, and silicone resins such as polyvinyl chloride, polyvinylidene chloride, and polydimethylsiloxane. , Fluororesin, ABS resin, polyamide, acrylic resin, polycarbonate, polycycloolefin, and the like.
In addition, in order to use the uneven | corrugated pattern formation sheet in this embodiment suitably as a light diffuser, the transparent base material is used for the base material 11, and it is transparent also as 1st resin which comprises the base material 11. High resin is used.

本実施形態における第二の樹脂としては、活性エネルギー線硬化性樹脂が用いられる。後述する凹凸パターン形成シートの製造方法においては、第一の樹脂からなる基材上に、第二の樹脂である、活性エネルギー線硬化性樹脂の未硬化の組成物が塗工され、第一の凹凸パターン13aが表面に形成された転写成形用スタンパを該塗工膜に密着させたのち、基材側から活性エネルギー線を照射させて硬化させ、該硬化膜をスタンパから剥離することにより、第一の凹凸パターンが、硬質層である第二の樹脂表面に転写成形される。
第二の樹脂としては、エポキシアクリレート、エポキシ化油アクリレート、ウレタンアクリレート、不飽和ポリエステル、ポリエステルアクリレート、ポリエーテルアクリレート、ビニル/アクリレート、ポリエン/アクリレート、シリコンアクリレート、ポリブタジエン、ポリスチリルメチルメタクリレート等のプレポリマー、脂肪族アクリレート、脂環式アクリレート、芳香族アクリレート、水酸基含有アクリレート、アリル基含有アクリレート、グリシジル基含有アクリレート、カルボキシ基含有アクリレート、ハロゲン含有アクリレート等から選ばれる1種類以上の成分を含有する、未硬化の活性エネルギー線硬化性組成物を、活性エネルギー線照射により硬化させて得られる樹脂が挙げられる。
なお、本実施形態における凹凸パターン形成シートを、光拡散体として好適に用いるために、硬質層12を構成する第二の樹脂としても透明性の高い樹脂が使用される。
An active energy ray curable resin is used as the second resin in the present embodiment. In the manufacturing method of the uneven | corrugated pattern formation sheet mentioned later, the uncured composition of active energy ray curable resin which is 2nd resin is coated on the base material which consists of 1st resin, 1st After the transfer molding stamper having the concavo-convex pattern 13a formed on the surface is adhered to the coating film, it is cured by irradiating active energy rays from the substrate side, and the cured film is peeled off from the stamper. One uneven | corrugated pattern is transcription-molded on the 2nd resin surface which is a hard layer.
The second resin includes prepolymers such as epoxy acrylate, epoxidized oil acrylate, urethane acrylate, unsaturated polyester, polyester acrylate, polyether acrylate, vinyl / acrylate, polyene / acrylate, silicon acrylate, polybutadiene, and polystyrylmethyl methacrylate. , Containing one or more components selected from aliphatic acrylate, alicyclic acrylate, aromatic acrylate, hydroxyl group-containing acrylate, allyl group-containing acrylate, glycidyl group-containing acrylate, carboxy group-containing acrylate, halogen-containing acrylate, etc. A resin obtained by curing a curing active energy ray-curable composition by irradiation with active energy rays can be used.
In addition, in order to use suitably the uneven | corrugated pattern formation sheet in this embodiment as a light diffuser, resin with high transparency is used also as 2nd resin which comprises the hard layer 12. FIG.

硬化後の第二の樹脂のガラス転移温度Tg2は40〜400℃であることが好ましく、80〜250℃であることがより好ましい。第二の樹脂のガラス転移温度Tg2が40℃以上であれば、凹凸パターン形成シート10を製造する際の加工温度を室温またはそれ以上にすることができて有用であり、ガラス転移温度Tg2が400℃を超えるような樹脂を第二の樹脂として使用することは経済性の面から必要性に乏しいためである。 Preferably has a glass transition temperature T g2 of the second resin after curing is 40 to 400 ° C., and more preferably 80 to 250 ° C.. If the glass transition temperature Tg2 of the second resin is 40 ° C. or higher, it is useful that the processing temperature in producing the concavo-convex pattern forming sheet 10 can be room temperature or higher, and the glass transition temperature Tg2 This is because the use of a resin having a temperature exceeding 400 ° C. as the second resin is not necessary from the viewpoint of economy.

凹凸パターン形成シート10を製造する際の加工温度における第二の樹脂のヤング率は0.01〜300GPaであることが好ましく、0.1〜10GPaであることがより好ましい。第2の樹脂のヤング率が0.01GPa以上であれば、第一の樹脂の加工温度におけるヤング率より充分な硬さが得られ、第二の凹凸パターン14aが形成された後、凹凸パターンを維持するのに充分な硬さであり、ヤング率が300GPaを超えるような樹脂を第二の樹脂として使用することは経済性の面から必要性に乏しいためである。   The Young's modulus of the second resin at the processing temperature when producing the uneven pattern forming sheet 10 is preferably 0.01 to 300 GPa, more preferably 0.1 to 10 GPa. If the Young's modulus of the second resin is 0.01 GPa or more, sufficient hardness is obtained from the Young's modulus at the processing temperature of the first resin, and after the second concavo-convex pattern 14a is formed, the concavo-convex pattern is formed. This is because the use of a resin that is sufficiently hard to maintain and has a Young's modulus exceeding 300 GPa as the second resin is not necessary in terms of economy.

基材11の厚みは0.3〜500μmであることが好ましい。基材11の厚みが0.3μm以上であれば、凹凸パターン形成シート10が破れにくくなり、500μm以下であれば、凹凸パターン形成シート10を容易に薄型化できる。
また、基材11を支持するために、厚さ5〜500μmの樹脂製の支持体を設けてもよい。また、光拡散体として用いる場合には、光拡散性をより高くするために、微細気泡を含有させたフィルムを基材11に貼付してもよい。
The thickness of the base material 11 is preferably 0.3 to 500 μm. If the thickness of the base material 11 is 0.3 μm or more, the concavo-convex pattern forming sheet 10 is hardly broken, and if it is 500 μm or less, the concavo-convex pattern forming sheet 10 can be easily thinned.
Moreover, in order to support the base material 11, you may provide the resin-made support bodies of thickness 5-500 micrometers. Further, when used as a light diffuser, a film containing fine bubbles may be attached to the substrate 11 in order to further increase the light diffusibility.

凹凸パターン形成シート10を光拡散体として使用する場合には、基材11には、より光拡散効果を高める目的で、光透過率等の光学特性を大きく損なわない範囲内で、無機化合物からなる光拡散剤、有機化合物からなる有機光拡散剤を含有させることができる。
無機光拡散剤としては、シリカ、ホワイトカーボン、タルク、酸化マグネシウム、酸化亜鉛、酸化チタン、炭酸カルシウム、水酸化アルミニウム、硫酸バリウム、ガラス、マイカ等が挙げられる。
有機光拡散剤としては、スチレン系重合体粒子、アクリル系重合体粒子、シロキサン系重合体粒子等が挙げられる。これらの光拡散剤はそれぞれ単独で、または2種以上を組み合わせて用いることができる。
光拡散剤の含有量は、光透過性を損ないにくいことから、第1の樹脂100質量部に対して10質量部以下であることが好ましい。
When the uneven pattern forming sheet 10 is used as a light diffuser, the base material 11 is made of an inorganic compound within a range that does not significantly impair optical characteristics such as light transmittance for the purpose of further enhancing the light diffusion effect. A light diffusing agent and an organic light diffusing agent made of an organic compound can be contained.
Examples of the inorganic light diffusing agent include silica, white carbon, talc, magnesium oxide, zinc oxide, titanium oxide, calcium carbonate, aluminum hydroxide, barium sulfate, glass, mica and the like.
Examples of the organic light diffusing agent include styrene polymer particles, acrylic polymer particles, and siloxane polymer particles. These light diffusing agents can be used alone or in combination of two or more.
The content of the light diffusing agent is preferably 10 parts by mass or less with respect to 100 parts by mass of the first resin because the light transmittance is not easily impaired.

また、凹凸パターン形成シート10を光拡散体として使用する場合には、基材11には、より拡散効果を高める目的で、光透過率等の光学特性を大きく損なわない範囲内で、微細気泡を含有させることができる。微細気泡は、光の吸収が少なく光透過率を低下させにくい。
微細気泡の形成方法としては、基材11に発泡剤を混入する方法(例えば、特開平5−212811号公報、特開平6−107842号公報に開示された方法)や、アクリル系発泡樹脂を発泡処理させて微細気泡を含有する方法(例えば、特開2004−2812号公報に開示された方法)などを適用できる。さらに微細気泡は、より均一な面照射が可能となる点では、特定の位置に不均一に発泡させる方法(例えば、特開2006−124499号公報に開示された方法)が好ましい。
なお、前記光拡散剤と微細発泡を併用することもできる。
Moreover, when using the uneven | corrugated pattern formation sheet 10 as a light-diffusion body, in the range which does not impair optical characteristics, such as a light transmittance, in the base material 11 for the purpose of improving a diffusion effect more, a micro bubble is contained. It can be included. The fine bubbles have little light absorption and are difficult to reduce the light transmittance.
As a method for forming fine bubbles, a foaming agent is mixed into the base material 11 (for example, a method disclosed in Japanese Patent Laid-Open Nos. 5-2112811 and 6-107842), or an acrylic foamed resin is foamed. A method (for example, a method disclosed in Japanese Patent Application Laid-Open No. 2004-2812) containing fine bubbles after treatment can be applied. Furthermore, a method of causing fine bubbles to foam non-uniformly at a specific position (for example, a method disclosed in Japanese Patent Application Laid-Open No. 2006-124499) is preferable in that more uniform surface irradiation is possible.
The light diffusing agent and fine foaming can be used in combination.

硬質層12の厚みは、0.5μmを超え20μm以下であることが好ましく、1〜10μmであることがより好ましい。硬質層の厚みが0.05μmを超え20μm以下であれば、後述のように凹凸パターン形成シートを容易に製造できる。
また、基材11と硬質層12との間には、密着性の向上やより微細な構造を形成することを目的として、プライマー層を形成してもよい。
The thickness of the hard layer 12 is preferably more than 0.5 μm and not more than 20 μm, and more preferably 1 to 10 μm. If the thickness of the hard layer is more than 0.05 μm and not more than 20 μm, an uneven pattern forming sheet can be easily produced as described later.
Further, a primer layer may be formed between the base material 11 and the hard layer 12 for the purpose of improving adhesion and forming a finer structure.

硬質層12を構成する第2の樹脂のガラス転移温度Tg2と、基材11を構成する第1の樹脂のガラス転移温度Tg1との差(Tg2−Tg1)が10℃以上である本発明の凹凸パターン形成シート10は、後述する凹凸パターン形成シートの製造方法により得られるため、簡便に製造できる。
また、本発明者が調べた結果、基材11および硬質層12が共に透明である場合には、凹凸パターン13a、14aの平均ピッチAが1μmを超え40μm以下、凹凸パターンの平均深さBが前記平均ピッチAを100%とした際の10%以上である本発明の凹凸パターン形成シート10は、それぞれの凹凸パターンの方向に充分な光拡散性を有するため、光拡散体として利用できることが判明した。さらに、凹凸パターン13a、14aそれぞれの平均ピッチ、平均深さを適宜調整して作製することにより、それぞれの方向での拡散角度を適宜変えることが可能で、光拡散体としての異方性を適宜コントロールすることが可能である。もちろん、光拡散性の高い、等方性光拡散体としても利用可能である。
The difference (T g2 -T g1 ) between the glass transition temperature T g2 of the second resin constituting the hard layer 12 and the glass transition temperature T g1 of the first resin constituting the substrate 11 is 10 ° C. or more. Since the uneven | corrugated pattern formation sheet 10 of this invention is obtained by the manufacturing method of the uneven | corrugated pattern formation sheet mentioned later, it can be manufactured simply.
Further, as a result of investigation by the present inventors, when both the base material 11 and the hard layer 12 are transparent, the average pitch A of the uneven patterns 13a and 14a is more than 1 μm and 40 μm or less, and the average depth B of the uneven pattern is The concavo-convex pattern-forming sheet 10 of the present invention, which is 10% or more when the average pitch A is 100%, has sufficient light diffusibility in the direction of each concavo-convex pattern, and thus can be used as a light diffuser. did. Further, by appropriately adjusting the average pitch and average depth of the concavo-convex patterns 13a and 14a, the diffusion angle in each direction can be changed as appropriate, and the anisotropy as the light diffuser is appropriately set. It is possible to control. Of course, it can also be used as an isotropic light diffuser with high light diffusibility.

なお、本発明の凹凸パターン形成シートは、上述した実施形態に限定されない。例えば、本発明の凹凸パターン形成シートの凹凸パターンの凸部の先端が尖っていても構わない。しかし、凹凸パターンの凸部の形状は光拡散性がより高くなる点から、先端が丸みを帯びていることが好ましい。 In addition, the uneven | corrugated pattern formation sheet of this invention is not limited to embodiment mentioned above. For example, the tip of the convex part of the concavo-convex pattern of the concavo-convex pattern forming sheet of the present invention may be sharp. However, it is preferable that the tip of the concavo-convex pattern has a rounded shape because the light diffusibility becomes higher.

(凹凸パターン形成シートの製造方法)
本発明の凹凸パターン形成シートの製造方法の一実施形態について説明する。
本実施形態の凹凸パターン形成シートの製造方法は、樹脂製の透光性基材である加熱収縮性フィルム11aの片面に、未硬化の活性エネルギー線硬化性樹脂組成物12aを塗工し、一方向に沿った第一の凹凸パターン13aのみが表面に形成された転写成形用スタンパ20を、該凹凸パターン13aの方向と、基材11aの熱収縮の方向とを一致させた状態にて該塗工膜12aに密着させ、透光性基材11a側から活性エネルギー線を照射することにより活性エネルギー線硬化性樹脂を硬化させた後、該硬化膜12bを転写成形用スタンパ20から剥離することにより、第一の凹凸パターン13aが転写成形された硬質層12bが設けられた積層シート10aを製造する、図4(a)に示すような工程(以下、第一の工程という。)と、前記積層シート10aを加熱して、基材11aの熱収縮の方向に収縮させることで、硬質層12bを折り畳むように変形させて第二の凹凸パターン14aを形成する、図4(b)に示すような工程(以下、第二の工程という。)とを有する方法である。
(Method for producing uneven pattern forming sheet)
An embodiment of the method for producing a concavo-convex pattern forming sheet of the present invention will be described.
The manufacturing method of the uneven | corrugated pattern formation sheet of this embodiment applies the uncured active energy ray curable resin composition 12a to the single side | surface of the heat-shrinkable film 11a which is a resin-made translucent base material, The transfer stamper 20 having only the first uneven pattern 13a along the direction formed on the surface thereof is applied in a state in which the direction of the uneven pattern 13a and the direction of heat shrinkage of the substrate 11a are matched. After the active energy ray-curable resin is cured by being in close contact with the work film 12a and irradiating the active energy ray from the translucent substrate 11a side, the cured film 12b is peeled off from the transfer molding stamper 20. The process as shown in FIG. 4A (hereinafter referred to as the first process) for producing the laminated sheet 10a provided with the hard layer 12b on which the first concavo-convex pattern 13a is transferred and formed, and the above. The layer sheet 10a is heated and contracted in the direction of thermal contraction of the base material 11a, whereby the hard layer 12b is deformed so as to be folded to form the second concavo-convex pattern 14a, as shown in FIG. 4B. A process (hereinafter referred to as the second process).

[第一の工程]
第一の工程にて、加熱収縮性フィルム11aの片面に、未硬化の活性エネルギー線硬化性樹脂組成物12aを塗工する方法としては、ダイコーター、ロールコーター、バーコーターなどのコーターによる塗工が挙げられる。
加熱収縮性フィルム11aとしては、例えば、ポリエチレンテレフタレート系シュリンクフィルム、ポリスチレン系シュリンクフィルム、ポリオレフィン系シュリンクフィルム、ポリ塩化ビニル系シュリンクフィルムなどを用いることができる。
シュリンクフィルムの中でも、30〜70%収縮するものが好ましい。30〜70%収縮するシュリンクフィルムを用いれば、変形率を30%以上にでき、第二の凹凸パターン14aの平均ピッチAが1μmを超え50μm以下、凹凸パターン14aの平均深さBが最頻ピッチAを100%とした際の10%以上の凹凸パターン形成シート10を容易に製造できる。さらには、凹凸パターン14aの平均深さBが最頻ピッチAを100%とした際の100%以上の凹凸パターン形成シート10も容易に製造できる。
ここで、変形率とは、(変形前の長さ−変形後の長さ)/(変形前の長さ)×100(%)のことである。あるいは、(変形した長さ)/(変形前の長さ)×100(%)のことである。
[First step]
In the first step, as a method of coating the uncured active energy ray-curable resin composition 12a on one surface of the heat-shrinkable film 11a, coating by a coater such as a die coater, a roll coater, a bar coater, etc. Is mentioned.
As the heat-shrinkable film 11a, for example, a polyethylene terephthalate shrink film, a polystyrene shrink film, a polyolefin shrink film, a polyvinyl chloride shrink film, or the like can be used.
Among shrink films, those that shrink by 30 to 70% are preferable. If a shrink film that shrinks by 30 to 70% is used, the deformation rate can be increased to 30% or more, the average pitch A of the second uneven pattern 14a is more than 1 μm and 50 μm or less, and the average depth B of the uneven pattern 14a is the most frequent pitch. 10% or more of the concavo-convex pattern forming sheet 10 when A is 100% can be easily produced. Furthermore, the concavo-convex pattern forming sheet 10 having an average depth B of the concavo-convex pattern 14a of 100% or more when the most frequent pitch A is 100% can be easily manufactured.
Here, the deformation rate is (length before deformation−length after deformation) / (length before deformation) × 100 (%). Alternatively, (deformed length) / (length before deformation) × 100 (%).

未硬化の活性エネルギー線硬化性樹脂組成物12aとしては、エポキシアクリレート、エポキシ化油アクリレート、ウレタンアクリレート、不飽和ポリエステル、ポリエステルアクリレート、ポリエーテルアクリレート、ビニル/アクリレート、ポリエン/アクリレート、シリコンアクリレート、ポリブタジエン、ポリスチリルメチルメタクリレート等のプレポリマー、脂肪族アクリレート、脂環式アクリレート、芳香族アクリレート、水酸基含有アクリレート、アリル基含有アクリレート、グリシジル基含有アクリレート、カルボキシ基含有アクリレート、ハロゲン含有アクリレート等のモノマーの中から選ばれる1種類以上の成分を含有するものが挙げられる。未硬化の活性エネルギー線硬化性樹脂12aは適宜溶媒等で希釈して用いても良い。また、硬化後のスタンパからの離型性を向上させるため、フッ素樹脂、シリコーン樹脂等を添加してもよい。
未硬化の活性エネルギー線硬化性樹脂組成物12aを紫外線により硬化する場合には、アセトフェノン類、ベンゾフェノン類等の光重合開始剤を添加することが好ましい。
Examples of the uncured active energy ray-curable resin composition 12a include epoxy acrylate, epoxidized oil acrylate, urethane acrylate, unsaturated polyester, polyester acrylate, polyether acrylate, vinyl / acrylate, polyene / acrylate, silicon acrylate, polybutadiene, From monomers such as prepolymers such as polystyrylmethyl methacrylate, aliphatic acrylate, alicyclic acrylate, aromatic acrylate, hydroxyl group-containing acrylate, allyl group-containing acrylate, glycidyl group-containing acrylate, carboxy group-containing acrylate, halogen-containing acrylate, etc. Examples include one or more selected components. The uncured active energy ray-curable resin 12a may be used after appropriately diluted with a solvent or the like. Further, a fluororesin, a silicone resin, or the like may be added in order to improve releasability from the stamper after curing.
When the uncured active energy ray-curable resin composition 12a is cured by ultraviolet rays, it is preferable to add a photopolymerization initiator such as acetophenones and benzophenones.

第一の工程では、前記の方法にて加熱収縮性フィルム11aの片面に設けられた未硬化の活性エネルギー線硬化性樹脂組成物12aの塗工膜に対し、一方向に沿った第一の凹凸パターン13aのみが表面に形成された転写成形用スタンパ20を密着させ、透光性基材11a側から活性エネルギー線を照射することにより活性エネルギー線硬化性樹脂を硬化させた後、該硬化膜12bを転写成形用スタンパ20から剥離することにより、第一の凹凸パターン13aが硬質層12bに転写成形される。
第一の凹凸パターン13aのみが表面に形成された転写成形用スタンパ20は、例えば、特開2008−302591号公報や、特開2008−304701号公報に記載されている方法に従い、下記のようにして作製することができる。
まず、加熱収縮性フィルムからなる透明樹脂製の基材の片面に硬質層を設けて積層フィルムを形成し、前記積層フィルムを加熱して前記基材を収縮させることにより、前記硬質層を折り畳むように変形させて、第一の凹凸パターン13aが形成された凹凸パターン形成シートを得る。次に、得られた凹凸パターン形成シートを、工程シート原版として用い、凹凸パターン13aが形成された面に、ニッケル等の金属めっきを行って、めっき層を積層する。最後に、積層されためっき層を工程シート原版から剥離することにより、第一の凹凸パターン13aが表面に転写された、転写成形用スタンパ20を得る。
また、前記方法で得られた金属製スタンパから、金属めっき工程および剥離工程を一回、あるいは複数回繰り返すことにより、その凹凸パターン13aが転写された金属製スタンパを作製することができ、それを転写成形用スタンパ20とすることもできる。あるいは、工程シート原版から凹凸パターン13aを直接樹脂シートに転写することにより転写成形用スタンパ20を作製する方法や、前記方法で得られた金属製スタンパから、凹凸パターン13aを樹脂シートに転写することにより転写成形用スタンパ20を作製する方法を用いることができる。ここで、転写成形用スタンパ20は、凹凸パターン13aを転写成形することができる限りにおいて、金属製であっても、樹脂製であっても良い。
なお、転写成形時にスタンパからの樹脂の剥離性を向上させるため、必要に応じて適宜、転写成形用スタンパ20の表面に、フッ素系離型剤やシリコーン系離型剤などによる離型処理を施しても良い。
In the first step, the first unevenness along one direction is applied to the coating film of the uncured active energy ray-curable resin composition 12a provided on one surface of the heat-shrinkable film 11a by the above method. After the transfer molding stamper 20 having only the pattern 13a formed on the surface is adhered, the active energy ray curable resin is cured by irradiating the active energy ray from the translucent substrate 11a side, and then the cured film 12b. Is peeled off from the stamper 20 for transfer molding, whereby the first concavo-convex pattern 13a is transferred to the hard layer 12b.
The transfer molding stamper 20 having only the first concavo-convex pattern 13a formed on the surface thereof, for example, according to the methods described in Japanese Patent Application Laid-Open Nos. 2008-302591 and 2008-304701, is as follows. Can be produced.
First, a hard layer is provided on one side of a transparent resin base material made of a heat-shrinkable film to form a laminated film, and the hard film is folded by heating the laminated film to shrink the base material. To obtain a concavo-convex pattern forming sheet on which the first concavo-convex pattern 13a is formed. Next, using the obtained uneven | corrugated pattern formation sheet as a process sheet | seat original plate, metal plating, such as nickel, is performed to the surface in which the uneven | corrugated pattern 13a was formed, and a plating layer is laminated | stacked. Finally, the laminated plating layer is peeled from the process sheet original plate, thereby obtaining the transfer molding stamper 20 having the first uneven pattern 13a transferred to the surface.
Further, from the metal stamper obtained by the above method, a metal stamper to which the concavo-convex pattern 13a is transferred can be produced by repeating the metal plating step and the peeling step once or a plurality of times. The stamper 20 for transfer molding can also be used. Alternatively, the method for producing the transfer molding stamper 20 by directly transferring the concave / convex pattern 13a from the process sheet precursor to the resin sheet, or transferring the concave / convex pattern 13a to the resin sheet from the metal stamper obtained by the above method. Thus, a method for producing the transfer molding stamper 20 can be used. Here, the stamper 20 for transfer molding may be made of metal or resin as long as the uneven pattern 13a can be transferred and molded.
In order to improve the releasability of the resin from the stamper during transfer molding, the surface of the transfer molding stamper 20 is appropriately subjected to a release treatment with a fluorine-based release agent or a silicone-based release agent as necessary. May be.

本実施形態の第一の工程では、活性エネルギー線硬化性樹脂組成物12aの塗工膜に対し、一方向に沿った第一の凹凸パターン13aのみが表面に形成された転写成形用スタンパ20を密着させる際に、第一の凹凸パターン13aの方向と、基材11aの熱収縮の方向とを一致させることが必要である。ここでこの2つの方向を一致させることにより、第一の工程で得られた積層シート10aを、後述する第二の工程にて加熱収縮させる際に、第一の凹凸パターン13aに略直交した第二の凹凸パターン14aを形成させることが可能となる。   In the first step of the present embodiment, the transfer molding stamper 20 having only the first uneven pattern 13a along one direction formed on the surface of the coating film of the active energy ray-curable resin composition 12a is formed. When making it adhere, it is necessary to make the direction of the 1st uneven | corrugated pattern 13a and the direction of the thermal contraction of the base material 11a correspond. Here, by making these two directions coincide with each other, when the laminated sheet 10a obtained in the first step is heated and shrunk in the second step described later, the first substantially perpendicular to the first uneven pattern 13a. The second uneven pattern 14a can be formed.

本実施形態では、硬質層12bの厚さを、0.5μmを超え20μm以下、好ましくは1〜10μmとする。硬質層12bの厚さを前記範囲にすることにより、第二の凹凸パターン14aの平均ピッチAを、確実に1μmを超え50μm以下にできる。しかし、硬質層12bの厚さが0.5μm以下であると平均ピッチAが1μm以下になることがあり20μmを超えると、後述する第二の工程にて積層シート10aを加熱収縮させても、硬質層が厚すぎて基材11aの熱収縮を阻害し、第二の凹凸パターン14aが形成されない場合がある。
また、本実施形態では、活性エネルギー線硬化性樹脂組成物12aが活性エネルギー線照射により硬化させて得られる硬質層12bを、加熱収縮性フィルムを構成する樹脂(第一の樹脂)よりガラス転移温度が10℃以上高い樹脂(第二の樹脂)で構成する。第一の樹脂のガラス転移温度と第2の樹脂のガラス転移温度が前記関係にあることにより、第二凹凸パターン14aの平均ピッチAを、確実に1μmを超え50μm以下にできる。
硬質層12bの厚さは連続的に変化していても構わない。硬質層12bの厚さが連続的に変化している場合には、加熱収縮後に形成される第二の凹凸パターン14aのピッチおよび深さが連続的に変化するようになる。
In the present embodiment, the thickness of the hard layer 12b is more than 0.5 μm and not more than 20 μm, preferably 1 to 10 μm. By setting the thickness of the hard layer 12b within the above range, the average pitch A of the second concavo-convex pattern 14a can surely be more than 1 μm and 50 μm or less. However, if the thickness of the hard layer 12b is 0.5 μm or less, the average pitch A may be 1 μm or less, and if it exceeds 20 μm, even if the laminated sheet 10a is heated and contracted in the second step described later, The hard layer may be too thick to inhibit the thermal contraction of the base material 11a, and the second uneven pattern 14a may not be formed.
Moreover, in this embodiment, the glass transition temperature of the hard layer 12b obtained by curing the active energy ray-curable resin composition 12a by irradiation with active energy rays is higher than the resin (first resin) constituting the heat-shrinkable film. Is made of a resin (second resin) that is 10 ° C. or higher. When the glass transition temperature of the first resin and the glass transition temperature of the second resin are in the above relationship, the average pitch A of the second uneven pattern 14a can surely exceed 1 μm and be 50 μm or less.
The thickness of the hard layer 12b may change continuously. When the thickness of the hard layer 12b is continuously changed, the pitch and depth of the second uneven pattern 14a formed after the heat shrinkage are continuously changed.

この製造方法では、より容易に第二の凹凸パターン14aを形成できることから、硬質層12bのヤング率を0.01〜300GPaにすることが好ましく、0.1〜10GPaにすることがより好ましい。   In this manufacturing method, since the 2nd uneven | corrugated pattern 14a can be formed more easily, it is preferable that the Young's modulus of the hard layer 12b shall be 0.01-300 GPa, and it is more preferable to set it as 0.1-10 GPa.

[第2の工程]
第2の工程にて、加熱収縮性フィルム11aを熱収縮させることにより、硬質層12bに、収縮方向に対して垂直方向に波状の第二の凹凸パターン14aを形成させて、硬質層12を得る。
加熱収縮性フィルム11aを加熱収縮させる際の加熱方法としては、熱風、蒸気または熱水中に通す方法や、赤外線を照射する方法等が挙げられる。
加熱収縮性フィルム11aを熱収縮させる際の加熱温度は、使用する加熱収縮性フィルムの種類および目的とする第二の凹凸パターン14aのピッチならびに深さに応じて適宜選択することが好ましい。
[Second step]
In the second step, the heat-shrinkable film 11a is heat-shrinked, whereby the hard layer 12b is formed with the wavy second concave / convex pattern 14a in the direction perpendicular to the shrinking direction, thereby obtaining the hard layer 12. .
As a heating method when the heat-shrinkable film 11a is heated and shrunk, a method of passing through hot air, steam or hot water, a method of irradiating infrared rays, and the like can be mentioned.
It is preferable that the heating temperature when the heat-shrinkable film 11a is thermally shrunk is appropriately selected according to the type of heat-shrinkable film to be used and the pitch and depth of the target second uneven pattern 14a.

この製造方法では、硬質層12bの厚さが薄いほど、硬質層12bのヤング率が低いほど、第二の凹凸パターン14aの平均ピッチAが小さくなり、基材の変形率が高いほど、平均深さBが深くなる。したがって、第二の凹凸パターン14aを所定の平均ピッチA、平均深さBにするためには、前記条件を適宜選択する必要がある。   In this manufacturing method, the average pitch A of the second concavo-convex pattern 14a decreases as the thickness of the hard layer 12b decreases, the Young's modulus of the hard layer 12b decreases, and the average depth increases as the deformation rate of the substrate increases. B becomes deeper. Therefore, in order to make the second uneven pattern 14a have a predetermined average pitch A and average depth B, it is necessary to appropriately select the above conditions.

以上説明した凹凸パターン形成シートの製造方法では、硬質層12bを構成する第二の樹脂が加熱収縮性フィルム11aを構成する第一の樹脂よりガラス転移温度が10℃以上高いため、第一の樹脂のガラス転移温度と第二の樹脂のガラス転移温度の間の温度では、硬質層12bのヤング率が加熱収縮性フィルム11aより高くなる。その上、硬質層12bの厚さを0.5μmを超え20μm以下としているため、第一の樹脂のガラス転移温度と第二の樹脂のガラス転移温度の間の温度で加工した際には、硬質層12bは厚みを増すよりも、折り畳まれるようになる。さらに、硬質層12bは加熱収縮性フィルム11aに積層されているため、加熱収縮性フィルム11aの収縮による応力が全体に均一にかかる。したがって本製造方法によれば、硬質層12bを折り畳むように変形させることにより、第一の工程にてすでに硬質層12bの表面に転写成形されている第一の凹凸パターン13aに加え、それと略直交する方向に第二の凹凸パターン14aを簡便に形成することができる。本製造方法によれば、二つの互いに直交した凹凸パターンを有するため、それぞれの方向に高い光拡散性を示し、異方性または等方性光拡散体としての性能に優れた凹凸パターン形成シート10を簡便に、かつ、大面積で製造できる。
しかも、この製造方法によれば、容易に、第一の凹凸パターン13aおよび第二の凹凸パターン14aの平均ピッチAを、1μmを超え50μm以下、平均深さBを、平均ピッチAを100%とした際の10%以上にできる。
In the manufacturing method of the uneven | corrugated pattern formation sheet demonstrated above, since the glass transition temperature of the 2nd resin which comprises the hard layer 12b is 10 degreeC or more higher than the 1st resin which comprises the heat-shrinkable film 11a, the 1st resin At a temperature between the glass transition temperature of the second resin and the glass transition temperature of the second resin, the Young's modulus of the hard layer 12b is higher than that of the heat-shrinkable film 11a. In addition, since the thickness of the hard layer 12b is more than 0.5 μm and not more than 20 μm, it is hard when processed at a temperature between the glass transition temperature of the first resin and the glass transition temperature of the second resin. Layer 12b becomes folded rather than increased in thickness. Furthermore, since the hard layer 12b is laminated | stacked on the heat-shrinkable film 11a, the stress by the shrinkage | contraction of the heat-shrinkable film 11a applies uniformly to the whole. Therefore, according to this manufacturing method, by deforming the hard layer 12b so as to be folded, in addition to the first concavo-convex pattern 13a that has already been transferred and molded on the surface of the hard layer 12b in the first step, substantially orthogonal to it. The second concavo-convex pattern 14a can be easily formed in the direction to be performed. According to this manufacturing method, since it has two concavo-convex patterns orthogonal to each other, the concavo-convex pattern forming sheet 10 that exhibits high light diffusibility in each direction and is excellent in performance as an anisotropic or isotropic light diffusing body can be easily obtained. In addition, it can be manufactured in a large area.
Moreover, according to this manufacturing method, the average pitch A of the first concavo-convex pattern 13a and the second concavo-convex pattern 14a can be easily set to more than 1 μm and not more than 50 μm, the average depth B, and the average pitch A to 100%. Can be increased to 10% or more.

(光拡散体)
本発明の光拡散体は、上述した凹凸パターン形成シート10を備えたものである。
本発明の光拡散体においては、凹凸パターン形成シート10の片面または両面に他の層を備えてもよい。例えば、凹凸パターン形成シート10の、凹凸パターン13a、14aが形成されている側の面に、その面の汚れを防止するために、フッ素樹脂またはシリコーン樹脂を主成分として含有する厚さ1〜5nm程度の防汚層を備えてもよい。
また、光拡散体の基材11側の面には、透明樹脂製あるいはガラス製の支持体が備えられていてもよい。
さらに、基材11側の面に粘着剤層が形成されていてもよく、機能性を適宜持たせるために色素を含んでもよい。
(Light diffuser)
The light diffuser of the present invention is provided with the uneven pattern forming sheet 10 described above.
In the light diffuser of the present invention, another layer may be provided on one side or both sides of the concavo-convex pattern forming sheet 10. For example, a thickness of 1 to 5 nm containing a fluororesin or a silicone resin as a main component on the surface of the uneven pattern forming sheet 10 on the side where the uneven patterns 13a and 14a are formed in order to prevent contamination of the surface. A degree of antifouling layer may be provided.
Further, a transparent resin or glass support may be provided on the surface of the light diffuser on the base 11 side.
Furthermore, a pressure-sensitive adhesive layer may be formed on the surface on the substrate 11 side, and a dye may be included to appropriately provide functionality.

上述した凹凸パターンが表面に形成された凹凸パターン形成シート10を備えた本発明の光拡散体は、等方性光拡散体あるいは異方性光拡散体として使用可能であり、充分な光拡散性を有する。特に、表面に形成された、互いに直交した二つの凹凸パターンによって光を等方的に拡散させることが可能であり、光源イメージが無くなる程度の十分な防眩性が得られた場合でも、照度の低下を抑制することができる。よって、本発明の光拡散体を照明装置に用いた場合、高い防眩性と照度を両立させることができる。   The light diffusing body of the present invention provided with the concavo-convex pattern forming sheet 10 having the concavo-convex pattern formed thereon can be used as an isotropic light diffusing body or an anisotropic light diffusing body, and has sufficient light diffusing properties. In particular, it is possible to diffuse light isotropically by two concavo-convex patterns perpendicular to each other formed on the surface, and even when sufficient anti-glare property is obtained to the extent that the light source image is eliminated, The decrease can be suppressed. Therefore, when the light diffuser of this invention is used for an illuminating device, high anti-glare property and illumination intensity can be made compatible.

(光拡散体製造用スタンパおよび光拡散体の製造方法)
本発明の光拡散体製造用スタンパ30は、上述した凹凸パターン形成シート10の表面に形成された二つの凹凸パターン13a、14aと同等の凹凸パターンが表面に形成された、転写成形用スタンパである。このスタンパを型として用い、以下に示すような方法で他の素材に転写させることにより、凹凸パターン形成シート10の凹凸パターン13a、14aと同等の平均ピッチおよび平均深さの凹凸パターンが表面に形成された、光拡散体として使用可能な凹凸パターン形成シートを大面積で大量に製造することができる。
本発明の光拡散体製造用スタンパ30は、下記のようにして作製することができる。本発明の凹凸パターン形成シート10を、工程シート原版として用い、凹凸パターン13a、14aが形成された面に、ニッケル等の金属めっきを行って、めっき層を積層する。最後に、積層されためっき層を工程シート原版から剥離することにより凹凸パターン13a、14aが表面に転写された、転写成形用スタンパを得る。
また、前記方法で得られた金属製スタンパから、金属めっき工程および剥離工程を一回あるいは複数回繰り返すことにより、その凹凸パターン13a、14aが転写された金属製スタンパを作製することができ、それを転写成形用スタンパとすることもできる。あるいは、工程シート原版から凹凸パターン13a、14aを直接樹脂シートに転写することにより転写成形用スタンパを作製する方法や、前記方法で得られた金属製スタンパから、凹凸パターン13a、14aを樹脂シートに転写することにより転写成形用スタンパを作製する方法を用いることができる。
(Light Diffuser Manufacturing Stamper and Light Diffuser Manufacturing Method)
The stamper 30 for manufacturing a light diffuser according to the present invention is a stamper for transfer molding in which a concavo-convex pattern equivalent to the two concavo-convex patterns 13a and 14a formed on the surface of the concavo-convex pattern forming sheet 10 is formed on the surface. . By using this stamper as a mold and transferring it to another material by the method described below, an uneven pattern having an average pitch and an average depth equivalent to the uneven patterns 13a and 14a of the uneven pattern forming sheet 10 is formed on the surface. The uneven | corrugated pattern formation sheet which can be used as a light diffusing body can be manufactured in large quantities with a large area.
The stamper 30 for manufacturing a light diffuser of the present invention can be manufactured as follows. Using the concavo-convex pattern forming sheet 10 of the present invention as a process sheet original plate, metal plating such as nickel is performed on the surface on which the concavo-convex patterns 13a and 14a are formed, and a plating layer is laminated. Finally, the laminated plating layer is peeled from the process sheet original plate to obtain a transfer molding stamper having the uneven patterns 13a and 14a transferred to the surface.
Further, from the metal stamper obtained by the above method, a metal stamper to which the concavo-convex patterns 13a and 14a are transferred can be produced by repeating the metal plating step and the peeling step once or a plurality of times. Can also be used as a stamper for transfer molding. Alternatively, a method for producing a transfer molding stamper by directly transferring the uneven patterns 13a, 14a from the process sheet original plate to the resin sheet, or the uneven patterns 13a, 14a on the resin sheet from the metal stamper obtained by the above method. A method of producing a transfer molding stamper by transferring can be used.

ここで、転写成形用スタンパ、すなわち光拡散体製造用スタンパ30は、凹凸パターン13a、14aを転写成形することができる限りにおいて、金属製であっても、樹脂製であっても良い。特に、転写成形による光拡散体の製造におけるスタンパの耐久性の観点から、厚さ0.1〜1.0mmの金属製スタンパが好ましい。スタンパの厚さが0.1mm以上であれば十分な強度を有し、1.0mm以下であれば、十分な可撓性を確保できる。
なお、転写成形時にスタンパからの樹脂の剥離性を向上させるため、必要に応じて適宜、転写成形用スタンパ20の表面に、フッ素系離型剤やシリコーン系離型剤などによる離型処理を施しても良い。
Here, the transfer molding stamper, that is, the light diffuser manufacturing stamper 30, may be made of metal or resin as long as the concave and convex patterns 13a and 14a can be transferred and molded. In particular, a metal stamper having a thickness of 0.1 to 1.0 mm is preferable from the viewpoint of durability of the stamper in manufacturing a light diffuser by transfer molding. If the thickness of the stamper is 0.1 mm or more, it has sufficient strength, and if it is 1.0 mm or less, sufficient flexibility can be secured.
In order to improve the releasability of the resin from the stamper during transfer molding, the surface of the transfer molding stamper 20 is appropriately subjected to a release treatment with a fluorine-based release agent or a silicone-based release agent as necessary. May be.

光拡散体製造用スタンパ30を用いて光拡散体を製造する具体的な方法としては、特に限定されるものではないが、例えば、下記(a)〜(d)の方法が挙げられる。
(a)透光性基材の片面に、未硬化の活性エネルギー線硬化性樹脂を塗工する工程と、該塗工膜に、スタンパの凹凸パターンが形成された面を密着させた後、基材側から活性エネルギー線を照射して前記硬化性樹脂を硬化させ、硬化した塗膜をスタンパから剥離する工程とを有する方法。ここで、活性エネルギー線とは、紫外線、電子線、可視光線、X線、イオン線等を指す。
(b)スタンパの凹凸パターンが形成された面に、未硬化の液状熱硬化性樹脂を塗工する工程と、加熱して前記液状熱硬化性樹脂を硬化させた後、硬化した塗膜をスタンパから剥離する工程とを有する方法。
(c)スタンパの凹凸パターンが形成された面に、シート状の熱可塑性樹脂を接触させる工程と、該シート状の熱可塑性樹脂を工程シート原版に押圧しながら加熱して軟化させた後、冷却する工程と、その冷却したシート状の熱可塑性樹脂をスタンパから剥離する工程とを有する方法。
(d)スタンパを射出成形用金型に組み込み、射出成形法によりスタンパの凹凸パターンが表面に転写された成形品を製造する方法。
A specific method for producing a light diffuser using the light diffuser producing stamper 30 is not particularly limited, and examples thereof include the following methods (a) to (d).
(A) A step of applying an uncured active energy ray-curable resin to one side of a translucent substrate, and a surface on which a concave / convex pattern of a stamper is formed is adhered to the coating film, Irradiating active energy rays from the material side to cure the curable resin, and peeling the cured coating film from the stamper. Here, the active energy rays refer to ultraviolet rays, electron beams, visible rays, X-rays, ion rays and the like.
(B) A step of applying an uncured liquid thermosetting resin to the surface of the stamper with the concave / convex pattern formed thereon, and heating to cure the liquid thermosetting resin, and then applying the cured coating film to the stamper. And a step of peeling from the substrate.
(C) A step of bringing a sheet-shaped thermoplastic resin into contact with the surface of the stamper with the concave / convex pattern formed thereon, and heating and softening the sheet-shaped thermoplastic resin while pressing the sheet-shaped thermoplastic resin against the process sheet original plate, followed by cooling And a step of peeling the cooled sheet-like thermoplastic resin from the stamper.
(D) A method in which a stamper is incorporated into an injection mold, and a molded product in which the uneven pattern of the stamper is transferred to the surface by an injection molding method is manufactured.

(a)の具体的方法の一例について説明する。図5に示すように、まず、連続フィルム状の基材フィルム41を搬送しながら、その片面に、ノズル42から未硬化の液状活性エネルギー線硬化性樹脂を吐出し、コーター43により塗工して、未硬化の硬化性樹脂層44を形成する。次いで、その未硬化の硬化性樹脂層44に対し、ロール45に固定されたスタンパを押圧して、未硬化の硬化性樹脂をスタンパ20の凹凸パターン内部に充填する。その直後、活性エネルギー線照射装置46により活性エネルギー線を照射して、硬化性樹脂を架橋・硬化させる。そして、スタンパから、硬化後の活性エネルギー線硬化性樹脂を剥離させることにより、連続シート状の凹凸パターン転写シート50を製造することができる。 An example of a specific method of (a) will be described. As shown in FIG. 5, first, while transporting a continuous film-like base film 41, an uncured liquid active energy ray-curable resin is discharged from a nozzle 42 onto one side of the base film 41 and applied by a coater 43. Then, an uncured curable resin layer 44 is formed. Next, a stamper fixed to the roll 45 is pressed against the uncured curable resin layer 44 to fill the concavo-convex pattern of the stamper 20 with the uncured curable resin. Immediately thereafter, the active energy ray irradiation device 46 irradiates the active energy ray to crosslink and cure the curable resin. And the continuous-sheet-like uneven | corrugated pattern transfer sheet 50 can be manufactured by peeling active energy ray hardening resin after hardening from a stamper.

(a)の方法において、未硬化の液状活性エネルギー線硬化性樹脂を塗工する方法、および、使用する未硬化の液状活性エネルギー線硬化性樹脂としては、前述の、本実施形態の凹凸パターン形成シートの製造方法における第一の工程と同様のものを使用できる。未硬化の液状活性エネルギー線硬化性樹脂を塗工した後には、樹脂、ガラス等からなる基材を貼り合わせてから活性エネルギー線を照射してもよい。   In the method (a), the method for coating the uncured liquid active energy ray-curable resin and the uncured liquid active energy ray-curable resin to be used include the above-described uneven pattern formation of the present embodiment. The thing similar to the 1st process in the manufacturing method of a sheet | seat can be used. After the uncured liquid active energy ray-curable resin is applied, the active energy rays may be irradiated after a substrate made of resin, glass or the like is bonded.

硬化後の活性エネルギー線硬化性樹脂のシートの厚み(基材の厚みを含む)は1〜300μmとすることが好ましい。シートの厚みが1μm以上であれば、充分な強度を確保でき、300μm以下であれば、充分な可撓性を確保できる。   The thickness (including the thickness of the substrate) of the active energy ray-curable resin sheet after curing is preferably 1 to 300 μm. If the thickness of the sheet is 1 μm or more, sufficient strength can be secured, and if it is 300 μm or less, sufficient flexibility can be secured.

上記図5に示す方法では、基材フィルムが連続シート状であったが、枚葉のシートであってもよい。枚葉のシートを用いる場合、スタンパを平板状の型として使用するスタンプ法、スタンパをロールに巻きつけて円筒状の型として使用するロールインプリント法等を適用できる。   In the method shown in FIG. 5, the base film is a continuous sheet, but it may be a single sheet. In the case of using a single sheet, a stamp method in which the stamper is used as a flat plate mold, a roll imprint method in which the stamper is wound around a roll and used as a cylindrical mold, and the like can be applied.

(b)の方法において、液状熱硬化性樹脂としては、例えば、未硬化のメラミン樹脂、ウレタン樹脂、エポキシ樹脂等が挙げられる。   In the method (b), examples of the liquid thermosetting resin include uncured melamine resin, urethane resin, and epoxy resin.

(c)の方法において、熱可塑性樹脂としては、例えば、アクリル樹脂、ポリオレフィン、ポリエステル等が挙げられる。
シート状の熱可塑性樹脂をスタンパに押圧する際の圧力は1〜100MPaであることが好ましい。押圧時の圧力が1MPa以上であれば、凹凸パターンを高い精度で転写させることができ、100MPa以下であれば、過剰な加圧を防ぐことができる。
加熱後の冷却温度としては、凹凸パターンを高い精度で転写させることができることか
ら、熱可塑性樹脂のガラス転移温度未満であることが好ましい。
In the method (c), examples of the thermoplastic resin include acrylic resin, polyolefin, polyester, and the like.
The pressure when pressing the sheet-like thermoplastic resin against the stamper is preferably 1 to 100 MPa. If the pressure at the time of pressing is 1 MPa or more, the concavo-convex pattern can be transferred with high accuracy, and if it is 100 MPa or less, excessive pressurization can be prevented.
The cooling temperature after heating is preferably less than the glass transition temperature of the thermoplastic resin because the uneven pattern can be transferred with high accuracy.

以下に実施例を挙げて本発明をより具体的に説明するが、本発明は勿論これらに限定されるものではない。   Hereinafter, the present invention will be described more specifically with reference to examples. However, the present invention is not limited to these examples.

(実施例1)
[転写成形用スタンパの作製]
ポリメタクリル酸メチル(藤倉化成社製LH−101−10、質量平均分子量560000、重合分散度(Mw/Mn)3.4、ガラス転移温度100℃)のトルエン溶液を、グラビアコーティングにより、1軸方向(幅方向)に主に加熱収縮する厚さ50μmの矩形状枚葉のポリエチレンテレフタレートシュリンクフィルム(三菱樹脂社製ヒシペットLX−61S、ガラス転移温度70℃)の片面上に、乾燥後の塗工厚さが2μmになるように塗工した。これにより、ポリエチレンテレフタレートシュリンクフィルムの両面に表面平滑層が形成された積層シートを得た。
次いで、上記積層シートを100℃で1分間加熱することにより、加熱前の長さの40%に熱収縮させ(すなわち、収縮率60%で収縮させ)、硬質層が、収縮方向に対して直交方向に沿って周期性を有する波状の凹凸パターンを有する凹凸パターン形成シート原版
を得た。この凹凸パターンを「第一の凹凸パターン」とする。
次いで、得られた凹凸パターン形成シート原版の凹凸パターンが形成された面に、ニッ
ケルめっきを施し、そのニッケルめっきを剥離することにより、厚さ300μmのニッケ
ルめっきスタンパを得た。このスタンパが、「第一の凹凸パターンが形成された転写成形用スタンパ」である。
Example 1
[Production of stamper for transfer molding]
A toluene solution of polymethyl methacrylate (LH-101-10 manufactured by Fujikura Kasei Co., Ltd., mass average molecular weight 560000, polymerization dispersity (Mw / Mn) 3.4, glass transition temperature 100 ° C.) is uniaxially applied by gravure coating. The coating thickness after drying on one side of a 50 μm thick polyethylene terephthalate shrink film (Mitsubishi Resin Hissippet LX-61S, glass transition temperature 70 ° C.) that heat shrinks mainly in the width direction. The coating was performed so that the thickness became 2 μm. Thereby, the lamination sheet in which the surface smooth layer was formed on both surfaces of the polyethylene terephthalate shrink film was obtained.
Next, the laminated sheet is heated at 100 ° C. for 1 minute to cause heat shrinkage to 40% of the length before heating (ie, shrink at a shrinkage rate of 60%), and the hard layer is orthogonal to the shrinking direction. A concavo-convex pattern-forming sheet original plate having a wavy concavo-convex pattern having periodicity along the direction was obtained. This uneven pattern is referred to as a “first uneven pattern”.
Subsequently, the surface on which the concavo-convex pattern of the obtained concavo-convex pattern forming sheet original plate was formed was subjected to nickel plating, and the nickel plating was peeled off to obtain a nickel plating stamper having a thickness of 300 μm. This stamper is “a stamping stamper on which a first uneven pattern is formed”.

[第一および第二の凹凸パターンが形成された、凹凸パターン形成シートの作製]
紫外線硬化性樹脂組成物(東洋合成工業社製、PAK−01)を、バーコーターにより、1軸方向に主に加熱収縮する厚さ50μmの矩形状枚葉のポリエチレンテレフタレートシュリンクフィルム(三菱樹脂社製ヒシペットLX−61S、ガラス転移温度70℃)の片面上に、塗工厚さが6μmになるように塗工した。
この塗工膜上に、前記「第一の凹凸パターンが形成された転写成形用スタンパ」の、凹凸パターンが形成された面を、第一の凹凸パターンの方向と、シュリンクフィルムの加熱収縮の方向が一致するように押圧して密着させ、スタンパの凹凸パターンに未硬化の紫外線硬化性樹脂組成物を充填させる。
次いで、ポリエチレンテレフタレートシュリンクフィルムの上から紫外線を照射し、紫外線硬化性樹脂組成物を硬化させ、それにより得た硬化物をスタンパから剥離させた。これにより、加熱収縮性フィルム上に第一の凹凸パターンが形成された硬質層を有する積層シートが得られた。
[Preparation of a concavo-convex pattern forming sheet in which first and second concavo-convex patterns are formed]
Ultraviolet curable resin composition (Toyo Gosei Kogyo Co., Ltd., PAK-01) is heated and shrunk mainly in one axis direction by a bar coater. A rectangular sheet of polyethylene terephthalate shrink film (Mitsubishi Resin Co., Ltd.). The coating was applied on one surface of HISHIPET LX-61S (glass transition temperature 70 ° C.) so that the coating thickness was 6 μm.
On the surface of the coating film, the surface on which the concavo-convex pattern is formed of the “transfer stamper on which the first concavo-convex pattern has been formed” is defined. Are pressed and brought into close contact with each other, and the uneven pattern of the stamper is filled with an uncured ultraviolet curable resin composition.
Next, ultraviolet rays were irradiated from above the polyethylene terephthalate shrink film to cure the ultraviolet curable resin composition, and the cured product thus obtained was peeled from the stamper. Thereby, the laminated sheet which has the hard layer in which the 1st uneven | corrugated pattern was formed on the heat-shrinkable film was obtained.

次に、上記積層シートを100℃で1分間加熱することにより、加熱前の長さの50%に熱収縮させ(すなわち、収縮率50%で収縮させ)、硬質層が、収縮方向に対して直交方向に沿って周期性を有する波状の凹凸パターンを有する凹凸パターン形成シートを得た。この凹凸パターンが「第二の凹凸パターン」であり、これにより、互いに略直交する方向に形成された第一および第二の凹凸パターンを有する凹凸パターン形成シートが作製された。   Next, the laminated sheet is heated at 100 ° C. for 1 minute to cause heat shrinkage to 50% of the length before heating (ie, shrink at a shrinkage rate of 50%), and the hard layer is The uneven | corrugated pattern formation sheet which has a wavy uneven | corrugated pattern which has periodicity along the orthogonal direction was obtained. This concavo-convex pattern was a “second concavo-convex pattern”, and thereby a concavo-convex pattern-forming sheet having first and second concavo-convex patterns formed in directions substantially orthogonal to each other was produced.

(実施例2)
[光拡散体製造用スタンパの作製]
実施例1にて作製された、第一および第二の凹凸パターンを有する凹凸パターン形成シートの凹凸パターンが形成された面に、ニッケルめっきを施し、そのニッケルめっきを剥離することにより、厚さ300μmのニッケルめっきスタンパを得た。このスタンパが、本発明の光拡散体製造に使用される、「光拡散体製造用スタンパ」である。
(Example 2)
[Production of stamper for manufacturing light diffuser]
The surface on which the concavo-convex pattern of the concavo-convex pattern forming sheet having the first and second concavo-convex patterns prepared in Example 1 was applied with nickel plating, and the nickel plating was peeled off, thereby removing a thickness of 300 μm. A nickel plating stamper was obtained. This stamper is a “light diffuser manufacturing stamper” used for manufacturing the light diffuser of the present invention.

[光拡散体シートの作製]
紫外線硬化性樹脂組成物(東洋合成工業社製、PAK−01)を、バーコーターにより、厚さ100μmのポリエチレンテレフタレートフィルム(東洋紡績社製、コスモシャインA4300)の片面上に、塗工厚さが30μmになるように塗工した。
この塗工膜上に、前記「光拡散体製造用スタンパ」の、凹凸パターンが形成された面を押圧して密着させ、スタンパの凹凸パターンに未硬化の紫外線硬化性樹脂組成物を充填させる。
次いで、ポリエチレンテレフタレートフィルムの上から紫外線を照射し、紫外線硬化性樹脂組成物を硬化させ、それにより得た硬化物をスタンパから剥離させた。これにより、第一および第二の凹凸パターンが形成された転写シートが得られた。この、第一および第二の凹凸パターンが形成された転写シートを、光拡散体シートとして使用できる。
[Production of light diffuser sheet]
The UV curable resin composition (Toyo Gosei Kogyo Co., Ltd., PAK-01) was applied on one side of a 100 μm thick polyethylene terephthalate film (Toyobo Co., Ltd., Cosmo Shine A4300) using a bar coater. Coating was performed so as to be 30 μm.
On this coating film, the surface on which the concave / convex pattern is formed is pressed and brought into close contact with the “light diffuser manufacturing stamper”, and the concave / convex pattern of the stamper is filled with an uncured ultraviolet curable resin composition.
Next, ultraviolet rays were irradiated from above the polyethylene terephthalate film to cure the ultraviolet curable resin composition, and the cured product thus obtained was peeled off from the stamper. As a result, a transfer sheet on which the first and second uneven patterns were formed was obtained. The transfer sheet on which the first and second uneven patterns are formed can be used as a light diffuser sheet.

(実施例3)
転写成形用スタンパの作製工程において、ポリメタクリル酸メチルのトルエン溶液の乾燥後の塗工厚さを0.5μmとしたこと以外は、実施例1と同様にして、第一および第二の凹凸パターンを有する凹凸パターン形成シートを作製した。
(Example 3)
First and second concavo-convex patterns in the same manner as in Example 1 except that, in the production process of the stamper for transfer molding, the coating thickness after drying the toluene solution of polymethyl methacrylate was 0.5 μm. The uneven | corrugated pattern formation sheet which has this was produced.

(実施例4)
実施例1にて作製された、第一および第二の凹凸パターンを有する凹凸パターン形成シートの代わりに、実施例3にて作製された、第一および第二の凹凸パターンを有する凹凸パターン形成シートを用いること以外は、実施例2と同様にして、光拡散体製造用スタンパを作製した。
そのスタンパを用いて、実施例2と同様にして、第一および第二の凹凸パターンが形成された転写シートを得た。
Example 4
The concavo-convex pattern forming sheet having the first and second concavo-convex patterns prepared in Example 3 instead of the concavo-convex pattern forming sheet having the first and second concavo-convex patterns prepared in Example 1 A stamper for producing a light diffuser was produced in the same manner as in Example 2 except that was used.
Using the stamper, a transfer sheet on which the first and second concavo-convex patterns were formed was obtained in the same manner as in Example 2.

実施例1〜4にて得た、凹凸パターン形成シートにおける、第一および第二の凹凸パターンの平均ピッチと平均深さを、以下の方法により測定した。
すなわち、凹凸パターン形成シートの、凹凸パターンが形成された面の画像を、レーザー顕微鏡(キーエンス社製、VK−8500)を用いて作成した。第一の凹凸パターンの方向(X方向)、およびそれに直交する第二の凹凸パターンの方向(Y方向)それぞれにおいて、その画像の10箇所にてピッチ及び深さを測定し、その平均値を求めた。求めた結果を表1に示す。
The average pitch and average depth of the first and second concavo-convex patterns in the concavo-convex pattern forming sheets obtained in Examples 1 to 4 were measured by the following methods.
That is, an image of the surface of the concavo-convex pattern forming sheet on which the concavo-convex pattern was formed was created using a laser microscope (manufactured by Keyence Corporation, VK-8500). In each of the direction of the first concave / convex pattern (X direction) and the direction of the second concave / convex pattern (Y direction) orthogonal thereto, the pitch and depth are measured at 10 locations of the image, and the average value is obtained. It was. Table 1 shows the obtained results.

実施例1〜4で得た凹凸パターン形成シートの光拡散性能を、散乱・光源配光特性測定装置(ジェネシア社製、GENESIA Gonio Far Field Profiler)を用いて評価した。
具体的には、凹凸パターン形成シートの、凹凸パターンが形成されていない面から、凹凸パターンが形成されている側の面に光が通るように、直径2mmの光源からの光を、シートに対して垂直な角度から入射させた。その際の、出射光強度の角度分布を測定し、その半値幅を拡散角度とした。また、拡散角度は、凹凸パターン形成シートの、第一の凹凸パターンの方向(X方向)、それに直交する第二の凹凸パターンの方向(Y方向)、および、それら二つの方向と45°の角度をなす方向(45°方向)について測定した。測定結果を表1に示す。
The light diffusing performance of the concavo-convex pattern forming sheets obtained in Examples 1 to 4 was evaluated using a scattering / light source light distribution characteristic measuring apparatus (Genesia Gonio Far Field Profiler, manufactured by Genesia).
Specifically, light from a light source having a diameter of 2 mm is applied to the sheet so that light passes from the surface on which the concave / convex pattern is not formed to the surface on which the concave / convex pattern is formed. Incident from a vertical angle. The angular distribution of the emitted light intensity at that time was measured, and the half width was taken as the diffusion angle. In addition, the diffusion angle includes the direction of the first concavo-convex pattern (X direction), the direction of the second concavo-convex pattern perpendicular to it (Y direction), and an angle of 45 ° with these two directions. It measured about the direction which makes (45 degree direction). The measurement results are shown in Table 1.

Figure 2012252149
Figure 2012252149

実施例1〜4で得られた凹凸パターン形成シートは、第一の凹凸パターンの方向(X方向)、それに直交する第二の凹凸パターンの方向(Y方向)、および、それら二つの方向と45°の角度をなす方向(45°方向)それぞれの方向における拡散角度がほぼ同等程度となっていた。つまり、互いに直交した第一および第二の凹凸パターンを有することにより、等方性光拡散シートとして高い光拡散性を有していた。   The uneven | corrugated pattern formation sheet obtained in Examples 1-4 is the direction of the 1st uneven pattern (X direction), the direction of the 2nd uneven pattern (Y direction) orthogonal to it, and those two directions and 45. The diffusion angle in each direction (45 ° direction) forming an angle of approximately 0 ° was approximately the same. That is, by having the first and second uneven patterns orthogonal to each other, the isotropic light diffusion sheet had high light diffusibility.

実施例1〜4で得られた凹凸パターン形成シート、比較例1としてポリカーボネート製光拡散板(帝人化成社製、パンライトPC−9391)、および比較例2として光拡散シート(ツジデン社製、D141)を、光拡散体として照明装置に用いた場合の防眩性および照度を、下記の方法にて評価した。結果を表2に示す。
図6のように、直交するx方向、y方向に沿って13mm間隔で、6列×6列の計36個の発光ダイオード光源が2次元的に配列して、白色拡散反射シートが貼り付けられた基板上に取り付けられた面光源装置に、発光ダイオード光源から高さ20mmの位置に光拡散体を設置し、照明装置とした。
・照度の測定方法
照明装置の中央部から、光源面に対して垂直な方向に距離1m離れた地点において、照度測定装置(日置電機製、ルクスハイテスタ3423)を用いて照度を測定した。
・防眩性の評価
照明装置を目視し、防眩性を下記の基準で評価した。ここで言う防眩性とは、発光ダイオードの光源イメージを見えなくさせて眩しさを低減させる能力のことである。
3点:光源イメージが全く見えない。
2点:光源イメージがぼんやりと見える。
1点:光源イメージがはっきり見える。
The uneven | corrugated pattern formation sheet | seat obtained in Examples 1-4, the light-diffusion board made from a polycarbonate (Teijin Chemicals company make, Panlite PC-9391) as the comparative example 1, and the light-diffusion sheet (made by Tsujiden, D141 as the comparative example 2) ) Was used in a lighting device as a light diffuser, and the antiglare property and illuminance were evaluated by the following methods. The results are shown in Table 2.
As shown in FIG. 6, a total of 36 light-emitting diode light sources of 6 rows × 6 rows are arranged two-dimensionally at 13 mm intervals along the orthogonal x and y directions, and a white diffuse reflection sheet is applied. A light diffuser was installed on the surface light source device mounted on the substrate at a height of 20 mm from the light-emitting diode light source to obtain a lighting device.
-Method for Measuring Illuminance Illuminance was measured using an illuminance measuring device (Lux Hitester 3423, manufactured by Hioki Electric) at a point 1 m away from the center of the lighting device in a direction perpendicular to the light source surface.
-Evaluation of anti-glare property The illumination device was visually observed and the anti-glare property was evaluated according to the following criteria. The antiglare property referred to here is the ability to reduce glare by making the light source image of the light emitting diode invisible.
3 points: The light source image is not visible at all.
2 points: The light source image is blurred.
1 point: The light source image is clearly visible.

Figure 2012252149
Figure 2012252149

実施例1〜4で得られた凹凸パターン形成シートを光拡散体として用いた照明装置は、いずれも高い照度と防眩性を両立できていた。等方性光拡散シートとして高い光拡散性を有しているため、防眩性が高く、凹凸パターンによる光拡散を利用しているために照度の低下が少ない。一方、比較例1の光拡散板を用いた場合には、防眩性は得られるものの、照度低下が大きかった。また、比較例2の光拡散シートを用いた場合には、照度低下は少なかったものの、光源イメージがはっきり見え、防眩性に劣っていた。
以上のように、本発明の凹凸パターン形成シートは、等方性拡散シートとしての高い光拡散性を示し、照度低下を抑えた状態で光を等方的に十分に拡散し、光源イメージを消して十分な防眩性を得ることができた。一方、各比較例のように、粒子などの拡散子による内部拡散を利用した光拡散体では、照度と防眩性の両立が達成できなかった。
All the illuminating devices which used the uneven | corrugated pattern formation sheet obtained in Examples 1-4 as a light diffuser were able to make high illuminance and anti-glare property compatible. Since it has high light diffusibility as an isotropic light diffusing sheet, it has high antiglare properties, and since light diffusion by a concavo-convex pattern is used, there is little decrease in illuminance. On the other hand, when the light diffusing plate of Comparative Example 1 was used, although the antiglare property was obtained, the illuminance reduction was large. In addition, when the light diffusion sheet of Comparative Example 2 was used, the light source image was clearly visible and the antiglare property was inferior, although there was little decrease in illuminance.
As described above, the concavo-convex pattern-forming sheet of the present invention exhibits high light diffusibility as an isotropic diffusion sheet, and sufficiently diffuses light isotropically while suppressing a decrease in illuminance, thereby erasing the light source image. And sufficient anti-glare property was obtained. On the other hand, as in each comparative example, the light diffuser using internal diffusion by a diffusing element such as particles cannot achieve both illuminance and antiglare property.

10a 積層シート
11 基材
11a 加熱収縮性フィルム
12 硬質層
12a 活性エネルギー線硬化樹脂塗工層
12b 硬質層
13a 第一の凹凸パターン
13b 第一の凹凸パターンの凸部
13c 第一の凹凸パターンの凹部
14a 第二の凹凸パターン
14b 第二の凹凸パターンの凸部
14c 第二の凹凸パターンの凹部
20 転写成形用スタンパ
41 基材フィルム
42 ノズル
43 コーター
44 未硬化の硬化性樹脂層
45 ロール
46 活性エネルギー線照射装置
50 凹凸パターン転写シート
DESCRIPTION OF SYMBOLS 10a Laminated sheet 11 Base material 11a Heat-shrinkable film 12 Hard layer 12a Active energy ray hardening resin coating layer 12b Hard layer 13a 1st uneven | corrugated pattern 13b 1st uneven | corrugated pattern convex part 13c 1st uneven | corrugated pattern recessed part 14a Second concavo-convex pattern 14b Convex part of second concavo-convex pattern 14c Concave part of second concavo-convex pattern 20 Transfer molding stamper 41 Base film 42 Nozzle 43 Coater 44 Uncured curable resin layer 45 Roll 46 Active energy ray irradiation Device 50 Uneven pattern transfer sheet

Claims (6)

少なくとも1種類の透光性樹脂からなるシートの表面に、一方向に沿った第一の凹凸パターンと、第一の凹凸パターンに略直交する方向に沿った第二の凹凸パターンとが形成された凹凸パターン形成シートであって、
第一および第二の凹凸パターンの平均ピッチがそれぞれ1μmを超え50μm以下、第一および第二の凹凸パターンの平均深さが前記平均ピッチを100%とした際の10%以上であることを特徴とする凹凸パターン形成シート。
A first concavo-convex pattern along one direction and a second concavo-convex pattern along a direction substantially orthogonal to the first concavo-convex pattern were formed on the surface of the sheet made of at least one kind of translucent resin. An uneven pattern forming sheet,
The average pitch of the first and second concavo-convex patterns is more than 1 μm and 50 μm or less, respectively, and the average depth of the first and second concavo-convex patterns is 10% or more when the average pitch is 100%. An uneven pattern forming sheet.
樹脂製の透光性基材と、該基材の片面に設けられた樹脂性の透明な硬質層とを備え、該硬質層の表面に、一方向に沿った第一の凹凸パターンと、第一の凹凸パターンに略直交する方向に沿った第二の凹凸パターンとが形成された凹凸パターン形成シートであって、
樹脂製の基材が一軸方向加熱収縮性フィルムであり、
硬質層を構成する樹脂のガラス転移温度Tg2と、基材を構成する樹脂のガラス転移温
度Tg1との差(Tg2−Tg1)が10℃以上であり、
硬質層を構成する樹脂が、活性エネルギー線により硬化された後の、活性エネルギー線硬化性樹脂であることを特徴とする、請求項1に記載の凹凸パターン形成シート。
A resin-made translucent base material, and a resinous transparent hard layer provided on one side of the base material, on the surface of the hard layer, a first concavo-convex pattern along one direction, A concavo-convex pattern forming sheet formed with a second concavo-convex pattern along a direction substantially orthogonal to the one concavo-convex pattern,
The resin base material is a uniaxial heat shrinkable film,
A glass transition temperature T g2 of the resin constituting the hard layer, the difference between the glass transition temperature T g1 of the resin constituting the base material (T g2 -T g1) is not less 10 ° C. or higher,
The concavo-convex pattern forming sheet according to claim 1, wherein the resin constituting the hard layer is an active energy ray-curable resin after being cured by active energy rays.
樹脂製の透光性基材の片面に、未硬化の活性エネルギー線硬化性樹脂組成物を塗工し、一方向に沿った第一の凹凸パターンのみが表面に形成された転写成形用スタンパを、該凹凸パターンの方向と、基材の熱収縮の方向とを一致させた状態にて該塗工膜に密着させ、透光性基材側から活性エネルギー線を照射することにより活性エネルギー線硬化性樹脂を硬化させた後、該硬化膜を転写成形用スタンパから剥離することにより、第一の凹凸パターンが転写成形された硬質層が設けられた積層シートを製造する工程と、
前記積層シートを加熱して、基材の熱収縮の方向に収縮させることで、硬質層を折り畳むように変形させて第二の凹凸パターンを形成する工程とを有する、請求項2に記載の凹凸パターン形成シートの製造方法。
An uncured active energy ray-curable resin composition is applied to one side of a resin-made translucent substrate, and a transfer molding stamper in which only a first uneven pattern along one direction is formed on the surface is provided. The active energy ray is cured by irradiating an active energy ray from the translucent substrate side in close contact with the coating film in a state where the direction of the uneven pattern and the direction of thermal shrinkage of the substrate are matched. A step of producing a laminated sheet provided with a hard layer on which the first concavo-convex pattern is transferred and molded by peeling the cured film from the transfer molding stamper after curing the functional resin;
The unevenness | corrugation of Claim 2 which has the process of forming the 2nd uneven | corrugated pattern by transforming so that a hard layer may be folded by heating the said laminated sheet and making it shrink | contract in the direction of the thermal contraction of a base material. A method for producing a pattern forming sheet.
請求項1または2に記載の凹凸パターン形成シートを備えた光拡散体。 A light diffuser comprising the uneven pattern forming sheet according to claim 1. 請求項1または2に記載の凹凸パターン形成シートと同等の平均ピッチおよび平均深さの凹凸パターンが表面に形成された、光拡散体製造用スタンパ。 A stamper for producing a light diffuser, wherein a concavo-convex pattern having an average pitch and an average depth equivalent to those of the concavo-convex pattern forming sheet according to claim 1 is formed on the surface. 請求項5に記載の光拡散体製造用スタンパの凹凸パターンを、少なくとも1種類の透光性樹脂からなるシートの表面に転写させる転写工程を有することを特徴とする、請求項4に記載の光拡散体の製造方法。 The light according to claim 4, further comprising a transfer step of transferring the uneven pattern of the stamper for manufacturing a light diffuser according to claim 5 onto the surface of a sheet made of at least one kind of translucent resin. A method for manufacturing a diffuser.
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