JP2013002811A - 光線路試験システム - Google Patents

Abstract

【課題】製造コストおよび維持管理コストの低い光線路試験システムを実現する。
【解決手段】光線路試験システム１は、光線路群に直接的又は間接的に接続されるｎ_ｉ個の光線路側ポート、及び、該ｎ_ｉ個の光線路側ポートの何れかに接続可能な試験器側ポートを有するｍ台の子ファイバセレクタと（１≦ｉ≦ｍ，ｍ及びｎ_ｉは任意の自然数）、光線路群に接続されるｎ個の光線路側ポート（ｎは任意の自然数）、上記ｍ台の子ファイバセレクタの各々が有する試験器側ポートに接続されるｍ個の光線路側ポート、及び、これらｎ＋ｍ個の光線路側ポートの何れかに接続可能な単一の試験器側ポートを有する１台の親ファイバセレクタと、上記親ファイバセレクタの単一の試験器側ポートに接続された光線路試験装置を備えている。
【選択図】図１

Description

本発明は光線路を試験するために用いられる光線路試験システムに関する。

光ネットワークへの加入者が増加したことに伴い、アクセスネットワークを構成する光線路（光ファイバ）の保守を効率的に行うことが重要になってきている。非特許文献１には、収容局内に光線路試験装置（ＯＴＭ：Optical Test Module）を設けることによって、光線路の保守を効率的に行うことが可能なアクセスネットワークが記載されている。

非特許文献１に記載のアクセスネットワークの構成を図９に示す。同図に示すアクセスネットワーク５０は、概略的に言えば、各家庭に配置されたＯＮＵ（Optical Network Unit）５１と、収容局に配置されたＯＬＴ（Optical Line Terminal）５２とを、光ファイバ５３で接続することによって実現された光ネットワークである。１台のＯＬＴ５２には、光スプリッタ５９を介して複数のＯＮＵ５１（１台を除いて図示省略）が接続される。

図９（ａ）に示すように、収容局（１拠点）には、ＩＤＭ（Integrated Distribution Module）架５４およびＩＤＭ架５４’を含む複数のＩＤＭ架が配備されており、光ファイバ５３は、これらのＩＤＭ架の何れかに引き込まれる。光ファイバ５３には分波カプラ５５が挿入され、上り（ＯＮＵ５１からＯＬＴ５２に向かう）および下り（ＯＬＴ５２からＯＮＵ５１に向かう）の信号光が、分波カプラ５５の２つの出力ポートから取り出される。

ＩＤＭ架には、光線路試験装置１０’を収納したもの（ＩＤＭ架５４）と、光線路試験装置１０’を収納していないもの（ＩＤＭ架５４’）とがある。光線路試験装置１０’を収納したＩＤＭ架５４に引き込まれた光ファイバ５３から取り出された信号光は、そのＩＤＭ架５４に収納されたファイバセレクタ群２０’を介して、光線路試験装置１０’に入力される。一方、光線路試験装置１０’を収納していないＩＤＭ架５４’に引き込まれた光ファイバ５３から取り出された信号光は、そのＩＤＭ架５４’に収納されたファイバセレクタ群２０’を介して、上述したＩＤＭ架５４に収納された光線路試験装置１０’に入力される。

ＩＤＭ架５４およびＩＤＭ架５４’に収納されるファイバセレクタ群２０’の構成例を、図９（ｂ）に示す。図９（ｂ）に示すように、ＩＤＭ架５４（ＩＤＭ架５４’）には、例えば、１台の親ファイバセレクタ２０’ａと３台の子ファイバセレクタ２０’ｂとが収納される。親ファイバセレクタ２０’ａおよび子ファイバセレクタ２０’ｂは、２０００個程度の光線路側ポートを有しており、これらの光線路側ポートに１０００本程度の光ファイバ５３から引き出された１０００対（２０００本）程度の伝送用光ファイバを接続することができる。加えて、親ファイバセレクタ２０’ａは、３個の増設ポートを有しており、これらの増設ポートに３台の子ファイバセレクタ２０’ｂを接続することができる。すなわち、ファイバセレクタ群２０’を図９（ｂ）に示すように構成した場合、１台のＩＤＭ架５４（ＩＤＭ架５４’）に最大４０００本程度の光ファイバ５３を引き込むことができる。

光線路試験装置１０’は、光パルス試験（ＯＴＤＲ：Optical Time Domain Reflectometer）機能と光パワー測定（ＯＰＭ：Optical Power Meter）機能とを有している。ここで、光パルス試験機能とは、光ファイバ５３に入力するパルス光を生成すると共に、光ファイバ５３から取り出した、そのパルス光の後方散乱光の波形を検出する機能のことを指す。また、光パワー測定機能とは、光ファイバ５３から取り出した光信号のパワーを検出する機能のことを指す。光線路試験装置１０’は、検出した後方散乱光の波形、および、信号光のパワーに基づいて、光ファイバ５３における物理的障害を検知する。なお、光線路試験装置１０’から出射された試験光（波長１６５０ｎｍ）がＯＮＵ５１およびＯＬＴ５２に入射しないよう、光ファイバ５３の両端には、通常、試験光を選択的に遮断するフィルタ５７〜５８が挿入される。

非特許文献１に記載のアクセスネットワークにおいては、このような光線路試験装置１０’を用いることによって、ＩＤＭ架５４およびＩＤＭ架５４’に引き込まれた多数の光ファイバを対象とする光パワー測定および光パルス試験を実現している。

なお、光パルス試験機能と光パワー測定機能とを有する光線路試験装置の構成を開示した文献としては、例えば、特許文献１が挙げられる。

特開２００８−１２４５７３号公報（２００８年５月２９日公開）

"経済化ＡＵＲＯＲＡで線路の保守を効率化！ 光試験モジュール（ＯＴＭ）の開発"、［Online］、[２０１０年９月３０日検索]、インターネット＜URL:http://times.ansl.ntt.co.jp/gijyutu/2003_06/Topic_02/index.html＞

上述したように、非特許文献１に記載の光線路試験装置には、各ＩＤＭ架に収納された複数の親ファイバセレクタが接続される。このため、非特許文献１に記載の光線路試験装置は、光測定器に接続する親ファイバセレクタを切り替えるための手段として、測定器成端架選択装置を備える必要があった。これにより、光線路試験装置の製造コスト、及び、維持管理コストが上昇してしまうという問題を生じていた。

この問題について、図１０〜図１１を参照してもう少し具体的に説明する。図１０は、非特許文献１に記載の光線路試験装置１０’の構成を示したブロック図である。光線路試験装置１０’は、同図に示すように、光測定器（ＯＴＵ：Optical Test Unit）１００’と測定器成端架選択装置（ＦＴＥＳ：Frame and Test Equipment Selector）２００’とを含み、ファイバセレクタ群２０’と共にＩＤＭ架５４に収納される。そして、光線路試験装置１０’が収納されたＩＤＭ架５４は、光線路試験装置１０’が収納されていない他のＩＤＭ架５４’と共に、光線路試験システム１’を構成する。

図１０に示すように、光線路試験装置１０’には、各ＩＤＭ架（ＩＤＭ架５４およびＩＤＭ架５４’）に収納された複数の親ファイバセレクタ２０ａ’が接続されている。光線路試験装置１０’は、どのＩＤＭ架に引き込まれた光ファイバを試験対象とするかを選択すると共に、試験対象として選択された光ファイバ（以下「対象光ファイバ」とも記載）に対して、（１）波長１６５０ｎｍのパルス光を用いた光パルス試験（「１６５０ｎｍの光パルス試験」とも呼称する）、（２）波長１３１０ｎｍのパルス光を用いた光パルス試験（「１３１０ｎｍの光パルス試験」とも呼称する）、（３）波長１３１０ｎｍの上り信号光の光パワー測定試験（「１３１０ｎｍの光パワー測定試験」とも呼称する）、および、（４）波長１５５０ｎｍの下り信号光の光パワー測定試験（「１５５０ｎｍの光パワー測定試験」とも呼称する）の何れかの試験を行う。

光測定器１００’は、これら４種類の試験機能を担うために、光パルス試験器１２０’と光パワー測定器１３０’とを含んで構成される。光パルス試験器１２０’は、１６５０ｎｍの光パルス試験、および、１３１０ｎｍの光パルス試験を行うためのものであり、分岐カプラ１２２’、光源１２３’、ＷＤＭカプラ１２４’、アバランシェ・フォトダイオード（ＡＰＤ：Avalanche Photodiode）１２５’、分岐カプラ１２６’、および光源１２７’により構成し得る。一方、光パワー測定器１３０’は、１３１０ｎｍの光パワー測定試験、および、１５５０ｎｍの光パワー測定試験を行うためのものであり、フォトダイオード（ＰＤ：Photodiode）１３３’により構成し得る。

また、試験機能が複数種類あることに対応し、光測定器１００’は、複数の光コネクタ（図１０において白抜きの長方形として図示）を備えている。図１０に示す例においては、３つの光コネクタＣ１’〜Ｃ３’がこれに該当する。ここで、光コネクタＣ１’は、１６５０ｎｍの光パルス試験用の光コネクタであり、光コネクタＣ２’は、１３１０ｎｍの光パルス試験用の光コネクタであり、光コネクタＣ３’は、１３１０ｎｍおよび１５５０ｎｍの光パワー測定試験用の光コネクタである。

上述したように、光線路試験装置１０’には、各ＩＤＭ架に収納された複数の親ファイバセレクタ２０ａ’が接続されている。したがって、光線路試験装置１０’において、どのＩＤＭ架に引き込まれた光ファイバを試験対象とするかを選択する、すなわち、どのＩＤＭ架に収納された親ファイバセレクタ２０ａ’を光測定器１００’と接続するかを切り替える必要がある。更に、光測定器１００’は、上述した４種類の試験機能を有している。したがって、光線路試験装置１０’において、どの試験機能を利用するかを選択する、すなわち、親ファイバセレクタ２０ａ’を、光測定器１００’の光コネクタＣ１’〜Ｃ３’のうち、どの光コネクタと接続するかを切り替える必要がある。光線路試験装置１０’の備える測定器成端架選択装置２００’は、このための構成である。

図１０に示す例において、測定器成端架選択装置２００’は、複数の光線路側ポート（ＰＡ１〜ＰＡ２０）、および、複数の試験器側ポート（ＰＢ１〜ＰＢ６）を備えている。なお、図１０に示すように、光線路試験システム１’が５台のＩＤＭ架（ＩＤＭ架５４およびＩＤＭ架５４’）により構成されている場合、光線路側ポートＰＡ１〜ＰＡ２０のうち、６個目以降の光線路側ポートＰＡ６〜ＰＡ２０は省略可能である。また、図１０に示すように、光測定器１００’が３個の光コネクタＣ１’〜Ｃ３’を含んでいる場合、試験器側ポートＰＢ１〜ＰＢ６のうち、４個目以降の試験器側ポートＰＢ４〜ＰＢ６は省略可能である。

測定器成端架選択装置２００’の備える光線路側ポートＰＡ１〜２０の各々には、測定器成端架選択装置２００’と同じＩＤＭ架５４に収納された親ファイバセレクタ２０’ａ、および、他のＩＤＭ架５４’に収納された親ファイバセレクタ２０’ａの何れかを接続することができる。図１０に示した例では、ＩＤＭ架５４およびＩＤＭ架５４’に収納された５台の親ファイバセレクタ２０’ａが測定器成端架選択装置２００’の光線路側ポートＰＡ１〜ＰＡ５に接続されている。

一方で、測定器成端架選択装置２００’の備える試験器側ポートＰＢ１〜ＰＢ３は、それぞれ、光測定器１００’の備える光コネクタＣ１’〜Ｃ３’に接続されている。また、試験器側ポートＰＢ１に接続された光ファイバＦＢ１には、波長１６５０ｎｍの光（パルス光およびその後方散乱光）を選択的に透過するバンドパスフィルタ２０１’が挿入されている。また、試験器側ポートＰＢ３に接続された光ファイバＦＢ３は、ＷＤＭカプラ２０４’によって２本の光ファイバＦＢ３ａ〜ＦＢ３ｂに分岐されている。そして、光ファイバＦＢ３ａには、波長１３１０ｎｍの光（信号光）を選択的に透過するフィルタ２０２’が、また、光ファイバＦＢ３ｂには、波長１５５０ｎｍの光（信号光）を選択的に透過するフィルタ２０３’が、それぞれ挿入されている。

測定器成端架選択装置２００’は、試験器側ポートＰＢ１〜ＰＢ６に接続された７本の光ファイバ（以下「試験器側光ファイバ」と記載）群ＦＢ１〜ＦＢ６のうち、選択された試験機能に対応した試験器側光ファイバの末端と、光線路側ポートＰＡ１〜ＰＡ２０に接続された２０本の光ファイバ（以下「光線路側光ファイバ」と記載）群ＦＡ１〜ＦＡ２０のうち、選択された（通信用）光ファイバに対応した光線路側光ファイバの末端とを接続する。例えば、親ファイバセレクタ２０ａ’を介して光線路側ポートＰＡ３に接続された（通信用）光ファイバに関して、１３１０ｎｍの光パルス試験を行う場合、測定器成端架選択装置２００’は、試験器側ポートＰＢ２に接続された試験器側光ファイバＦＢ２の末端と、光線路側ポートＰＡ３に接続された光線路側光ファイバＦＡ３の末端とを接続する。
このように、測定器成端架選択装置２００’は、複数の親ファイバセレクタ２０ａ’の何れかを光測定器１００’の備える複数の光コネクタＣ１’〜Ｃ３’の何れかに接続するための構成であり、試験器側光ファイバ群ＦＢ１〜ＦＢ６を移動するためのファイバ移動機構、および、移動した試験器側光ファイバ群ＦＢ１〜ＦＢ６を固定するためのファイバ固定機構を備えている必要がある。

測定器成端架選択装置２００’の構成例を図１１（ａ）に示す。図１１（ａ）に示す測定器成端架選択装置２００’においては、選択された試験機能に対応した試験器側光ファイバと選択された（通信用）光ファイバに対応した光線路側光ファイバとが共通のＶ字溝上に載置されるようにファイバ移動機構（不図示）が試験器側光ファイバ群ＦＢ１〜ＦＢ６を移動した後、ファイバ固定機構として機能する押圧具２０５’を降下させて試験器側光ファイバ群ＦＢ１〜ＦＢ６を押圧固定する構成が採用されている。

一般に、このようなファイバ移動機構およびファイバ固定機構は、測定器側光ファイバおよび光線路側光ファイバの本数が多いほど複雑な機構となり、高い工作精度が要求される。例えば、図１１（ａ）に示す構成例においては、選択された試験機能に対応した試験器側光ファイバと選択された（通信用）光ファイバに対応した光線路側光ファイバとが共通のＶ字溝上に載置されるように、試験器側光ファイバ群ＦＢ１〜ＦＢ６を精度良く移動するファイバ移動機構が必要になる。また、ファイバ固定機構として機能する押圧具２０５’には、全ての試験器側光ファイバＦＢ１〜ＦＢ６を均一に押圧することが要求される。なお、試験器側光ファイバＰＦＢが１本であるファイバセレクタ２０ａにおいては、ファイバ固定機構として機能する押圧具２０５に対して、このような要求が課されることはない（図１１（ｂ）参照）。

このように、測定器側光ファイバおよび光線路側光ファイバの本数が増えると、測定器成端架選択装置の製造コストが上昇する。また、測定器側光ファイバおよび光線路側光ファイバの本数が増えると、測定器成端架選択装置における故障の発生率が上昇し、信頼性が低下するため、光線路試験システムの維持管理コストの上昇が避けられない。

本発明は、上記の問題に鑑みてなされたものであり、その目的は、測定器成端架選択装置を要しない光線路試験システムを実現し、もって、光線路試験システムの製造コスト、および、維持管理コストを削減することにある。

上記の課題を解決するために、本発明に係る光線路試験システムは、光線路群に直接的又は間接的に接続されるｎ_ｉ個の光線路側ポート、及び、該ｎ_ｉ個の光線路側ポートの何れかに接続可能な試験器側ポートを有するｍ台の子ファイバセレクタと（１≦ｉ≦ｍ，ｍ及びｎ_ｉは任意の自然数）、光線路群に接続されるｎ個の光線路側ポート（ｎは任意の自然数）、上記ｍ台の子ファイバセレクタの各々が有する試験器側ポートに接続されるｍ個の光線路側ポート、及び、これらｎ＋ｍ個の光線路側ポートの何れかに接続可能な単一の試験器側ポートを有する１台の親ファイバセレクタと、上記親ファイバセレクタの単一の試験器側ポートに接続された光線路試験装置であって、上記子ファイバセレクタの各々に接続された光線路群、及び、上記親ファイバセレクタに接続された光線路群から選択された対象光線路を試験する光線路試験装置と、を備えていることを特徴としている。

上記の構成によれば、上記ｍ台の子ファイバセレクタおよび上記１台の親ファイバセレクタは、光線路群から対象光線路を選択し、選択された対象光線路は、上記１台の親ファイバセレクタの備える単一の試験器側ポートを介して、上記光線路試験装置に接続される。すなわち、上記の構成によれば、測定器成端架選択装置を用いることなく、光線路群から選択された対象光線路に対する試験を行うことができる。

このように、測定器成端架選択装置を用いることなく光線路群から選択された対象光線路に対する試験を行うことによって、測定器成端架選択装置を有する従来の構成に比べて、光線路試験システムの製造コスト、および、維持管理コストを削減することができる。

何故なら、ファイバセレクタは、通常、複数の予備ファイバを備えているため、上記親ファイバセレクタに対して、光線路群に直接的に接続される光線路側ポートの個数ｎを保ちつつ、上記ｍ台の子ファイバセレクタの各々に接続されるｍ個の光線路側ポートを増設することは容易である。測定器成端架選択装置を省略することによるコストの低下分は、これらｍ個の光線路側ポートを増設することに伴う製造コストの上昇分よりも大きいため、全体として製造コストを削減することができる。また、親ファイバセレクタに対して、光線路側ポートを増設したとしても、故障率はほとんど上昇しないため、測定器成端架選択装置を用いる従来の構成に比べて、維持管理コストを削減することができる。

また、非特許文献１に記載された光線路試験システムと比べて、本発明の光線路試験システムには、以下のようなメリットがある。

非特許文献１に記載された光線路試験システムにおいては、光線路試験装置に直接接続できるファイバセレクタの台数が、その光線路試験装置に内蔵された測定器成端架選択装置に設けられた光線路側ポートの個数に一致する。したがって、光線路試験装置に接続するファイバセレクタの台数を増加させたい場合、測定器成端架選択装置に設ける光線路側ポートの個数を増加させて光線路試験装置に直接接続できるファイバセレクタの台数を増やす必要がある。

しかしながら、測定器成端架選択装置に設ける光線路側ポートの個数を増加させて光線路試験装置に直接接続できるファイバセレクタの台数を増やすことは困難である。何故なら、測定器成端架選択装置は、光線路試験装置に内蔵されているので、光線路側ポートの個数を増加させるために、そのサイズを大型化することができないからである。

一方、上記の構成においては、光線路試験装置に直接接続できる子ファイバセレクタの台数が、光線路試験装置と共に光配線モジュール架に収納可能な親ファイバセレクタに設けられた光線路側ポートの個数に一致する。したがって、親ファイバセレクタに設ける光線路側ポートの個数を増加させて光線路試験装置に接続できる子ファイバセレクタの台数を増やすことが容易である。また、非特許文献１に記載された光線路試験システムと比べて、光線路試験装置のサイズを小さくすることができる。

なお、光線路群と光線路側ポートとが間接的に接続されるとは、例えば、光線路側ポートが光スイッチやファイバセレクタ等の光学部品を介して光線路群に接続されることを指す。また、光線路群と光線路側ポートとが直接的に接続されるとは、光線路側ポートがこのような光学部品を介さずに光ファイバのみを用いて光線路群に接続されることを指す。

また、上記光線路試験システムは、ｋ台のファイバセレクタを収納可能なｍ−ｋ＋２台の光配線モジュール架と（ｋはｍよりも小さい自然数）、上記ｍ台の子ファイバセレクタのうちｋ−１台の子ファイバセレクタを除くｍ−ｋ＋１台の子ファイバセレクタの各々について、光線路群に接続された複数の光線路側ポート、および該子ファイバセレクタの光線路側ポートに接続された試験器側ポートを有するｋ−１台の孫ファイバセレクタとを備えており、上記ｍ台の子ファイバセレクタのうち、上記ｋ−１台の子ファイバセレクタは、上記光線路試験装置と共に１台の光配線モジュール架に収納されており、上記ｍ−ｋ＋１台の子ファイバセレクタの各々は、上記ｋ−１台の孫ファイバセレクタと共に、ｍ−ｋ＋１台の光配線モジュール架の各々に収納されている、ことが好ましい。

上記の構成によれば、上記ｍ−ｋ＋１台の子ファイバセレクタの各々の光線路側ポートには、光線路群に接続された複数の光線路側ポートを有するｋ−１台の孫ファイバセレクタが接続されるため、子ファイバセレクタの個数を増やすことなく、より多くの光線路よりなる光線路群から選択した対象光線路に対する試験を行うことができる。

また、上記の構成によれば、上記ｍ−ｋ＋１台の光配線モジュール架に収納された各々の親ファイバセレクタと、上記１台の光配線モジュール架に収納された光線路試験装置とを１本の光ファイバで接続すればよいので、光配線モジュール架間の光ファイバの引き回しの煩雑さを最小限に留めることができる。

また、上記光線路試験システムは、ｋ台のファイバセレクタを収納可能な光配線モジュール架をＬ台備えており（ｋはｍよりも小さい自然数、Ｌは（ｍ＋１）／ｋよりも大きい最小の自然数）、上記ｍ台の子ファイバセレクタのうち、ｋ−１台の子ファイバセレクタは、上記光線路試験装置と共に１台の光配線モジュール架に収納されており、上記ｍ台の子ファイバセレクタのうち、上記ｋ−１台の子ファイバセレクタを除くｍ−ｋ＋１台の子ファイバセレクタは、Ｌ−１台の光配線モジュール架に収納されている、ことが好ましい。

上記の構成によれば、親ファイバセレクタ及び子ファイバセレクタをＬ台の光配線モジュール架に効率的に配分することができる。

また、非特許文献１に記載された光線路試験システムと比べて、上記の構成には、以下のようなメリットがある。

非特許文献１に記載された光線路試験システムにおいて、測定器成端架選択装置に直接接続されたファイバセレクタを親ファイバセレクタとして、各親ファイバセレクタに複数の子ファイバセレクタを接続する構成を採用した場合、測定器成端架選択装置と親ファイバセレクタと子ファイバセレクタとからなる３階層の階層構造が構成されることになるので、挿入損失の増加が避けられない。

一方で、上記の構成においては、親ファイバセレクタと子ファイバセレクタとからなる２階層の階層構造が生じるが、非特許文献１に記載された光線路試験システムにおける上述した３階層の階層構造と比べて挿入損失が小さくて済む。

また、上記光線路試験システムにおいて、上記光線路試験装置は、共通ポートが上記親ファイバセレクタの単一の試験器側ポートに直接的又は間接的に接続された光カプラと、上記光カプラの第１分岐ポートに接続された光パルス試験器であって、上記対象光線路に入力するパルス光を生成する共に、上記対象光線路から取り出した、上記パルス光の後方散乱光の波形を検出する光パルス試験器と、上記光カプラの第２分岐ポートに接続された光パワー測定器であって、上記対象光線路から取り出した信号光のパワーを測定するための光パワー測定器と、を備えている、ことが好ましい。

上記の構成によれば、上記光カプラの共通ポートを単一の入出力ポートとし、かつ、光パルス試験と光パワー測定との両方を行い得る光線路試験装置を実現することができる。そして、上記のように、上記光カプラの共通ポートと上記親ファイバセレクタの単一の試験器側ポートとを接続する構成を採用することにより、測定器成端架選択装置を要することなく、対象光線路に関する光パルス試験および光パワー測定を行うことができる。したがって、非特許文献１に記載された光線路試験装置に比べて、製造コストおよび維持管理コストの低い構成によって対象光線路に関する光パルス試験および光パワー測定を行うことができる。

また、上記の構成によれば、光パルス試験と光パワー試験との切り替えを測定器成端架選択装置の備えるファイバ移動機構を作動させることによって行っていた非特許文献１の光線路試験システムに比べて、光パルス試験と光パワー試験との切り替えに要する時間を短縮することができる。

また、上記の構成によれば、上記の光パルス試験と光パワー測定とを同時に行うことも可能であるので、光線路試験に要する時間を更に短縮することもできる。

なお、光カプラの共通ポートと親ファイバセレクタの試験器側ポートとが間接的に接続されるとは、例えば、これらのポートが光スイッチ等の光学部品（ただし、測定器成端架選択装置を除く）を介して接続されることを指す。また、光カプラの共通ポートと親ファイバセレクタの試験器側ポートとが直接的に接続されるとは、これらのポートがこのような光学部品を介さずに光ファイバのみを用いて接続されることを指す。

また、上記光線路試験システムにおいて、上記光線路試験装置は、上記親ファイバセレクタの単一の試験器側ポートに接続される光線路側ポート、並びに、何れか一方が該光線路側ポートに接続される第１試験器側ポート及び第２試験器側ポートを有する光スイッチを更に備え、上記光パルス試験器は、共通ポートが上記光カプラを介して上記光スイッチの上記第１分岐ポートに接続される第１分岐カプラと、該第１分岐カプラの第１分岐ポートに接続された第１光源であって、第１の波長を有するパルス光を生成する第１光源と、共通ポートが上記光スイッチの上記第２試験器側ポートに接続される第２分岐カプラと、該第２分岐カプラの第１分岐ポートに接続された第２光源であって、上記第１の波長とは異なる第２の波長を有するパルス光を生成する第２光源と、第１分岐ポートが上記第１分岐カプラの第２分岐ポートに接続され、第２分岐ポートが上記第２分岐カプラの第２分岐ポートに接続された合波カプラと、上記合波カプラの共通ポートに接続された光検出器であって、上記第１波長を有するパルス光の後方散乱光、及び、上記第２の波長を有するパルス光の後方散乱光を電気信号に変換する光検出器と、を含んでいる、ことが好ましい。

上記の構成によれば、上記光線路試験装置は、上記親ファイバセレクタの単一の試験器側ポートに接続される光線路側ポート、並びに、何れか一方が該光線路側ポートに接続される第１試験器側ポート及び第２試験器側ポートを有する光スイッチを備えている。また、上記親ファイバセレクタは、複数の光線路側ポートを備えている。

したがって、上記親ファイバセレクタと上記光スイッチとによって、上記親ファイバセレクタの備えるｎ＋ｍ個の光線路側ポートの何れかを、上記光スイッチの備える２個の試験器側ポートの何れかに接続する構成が実現される。

また、上記の構成において、上記第１光源は、上記第１分岐カプラおよび上記光カプラを介して上記光スイッチの第１試験器側ポートに接続されており、上記第２光源は、上記第２の分岐カプラを介して上記光スイッチの第２試験器側ポートに接続されている。また、上記光検出器は、上記合波カプラ、上記第１の分岐カプラ、および上記光カプラを介して上記光スイッチの第１試験器側ポートに接続されており、上記合波カプラおよび上記第２の分岐カプラを介して上記光スイッチの第２の試験器側ポートにも接続されている。

したがって、上記の構成によれば、２つの波長に関する光パルス試験を実行可能な光線路試験装置であって、測定器成端架選択装置を要しない光線路試験装置を実現することができる。

上記の課題を解決するために、本発明に係る光線路試験システムは、光線路群に直接的又は間接的に接続されるｎ_ｉ個の光線路側ポート、及び、該ｎ_ｉ個の光線路側ポートの何れかに接続可能な試験器側ポートを有するｍ台の子ファイバセレクタと（１≦ｉ≦ｍ，ｍ及びｎ_ｉは任意の自然数）、光線路群に接続されるｎ個の光線路側ポート（ｎは任意の自然数）、上記ｍ台の子ファイバセレクタの各々が有する試験器側ポートに接続されるｍ個の光線路側ポート、及び、これらｎ＋ｍ個の光線路側ポートの何れかに接続可能なｘ個の試験器側ポート（ｘは任意の自然数）を有する１台の親ファイバセレクタと、上記親ファイバセレクタのｘ個の試験器側ポートの各々に接続されるｘ個の光線路側ポートを有する光測定器を内蔵した光線路試験装置であって、上記子ファイバセレクタの各々に接続された光線路群、及び、上記親ファイバセレクタに接続された光線路群から選択された対象光線路を試験する光線路試験装置と、を備えていることを特徴としている。

上記の構成によれば、親ファイバセクタの測定器側ポートの個数と光測定器の光線路側ポートの個数とが同数（共にｘ個）であるため、親ファイバセレクタと光測定器とを、測定器成端架選択装置や光スイッチなどを介することなく、互いに接続することができる。

測定器成端架選択装置を用いる必要がないので、製造コスト及び維持管理コストを従来の光線路試験システムよりも低く抑えることができる。また、測定器成端架選択装置を用いる必要がないことに加え、光スイッチを用いる必要もないため、光線路試験装置のサイズを小さく抑えることができる。

本発明に係る光線路試験システムにおいては、ｘが２である場合、（１）上記親ファイバセレクタが、上記光測定器の２つの光線路側ポートの何れか一方に入射する通信光を遮断する遮断機能を有しているか、あるいは、（２）上記光測定器の２つの光線路側ポートの何れか一方に入射する通信光を遮断する遮断手段を更に備えている、ことが好ましい。

上記の構成によれば、或る光線路に関する試験に、他の光線路を伝播する通信光が影響を与えるという問題を回避することができる。

以上のように、本発明によれば、光線路試験システムの製造コスト、および、維持管理コストを削減することができる。

本発明の第１の実施形態に係る光線路試験システムの一構成例を示すブロック図である。 本発明の第１の実施形態に係る光線路試験システムの他の構成例を示すブロック図である。 本発明の第１の実施形態に係る光線路試験システムの備える光測定器の構成を示すブロック図である。 本発明の第１の実施形態に係る光線路試験システムの備える光線路試験装置による光パルス試験を説明するための図である。（ａ）は、光線路試験装置の備える光源が生成するパルス光の波形例と、対象光ファイバにキズなどの物理的障害が存在しない場合に当該パルス光によって生じる後方散乱光の波形例と、当該後方散乱光を受光したアバランシェ・フォトダイオードから出力される電気信号の波形例とを示しており、（ｂ）は、光線路試験装置の備える光源が生成するパルス光の波形例と、対象光ファイバにキズなどの物理的障害が存在する場合に当該パルス光によって生じる後方散乱光の波形例と、当該後方散乱光を受光したアバランシェ・フォトダイオードから出力される電気信号の波形例とを示している。 本発明の第１の実施形態の第１の変形例に係る光線路試験システムの備える光測定器の構成を示すブロック図である。 本発明の第１の実施形態の第２の変形例に係る光線路試験システムの備える光測定器の構成を示すブロック図である。 本発明の第２の実施形態に係る光線路試験システムの一構成例を示すブロック図である。 本発明の第２の実施形態に係る光線路試験システムの他の構成例を示すブロック図である。 （ａ）は、従来の光線路試験装置を含むアクセスネットワークの構成を示すブロック図である。（ｂ）は、従来の光線路試験装置と併用されるファイバセレクタ群の構成例を示すブロック図である。 従来の光線路試験装置および光線路試験システムの構成を示すブロック図である。 （ａ）は、測定器成端架選択装置の構成例を示す図であり、（ｂ）は、ファイバセレクタの構成例を示す図であり、（ｃ）は、ファイバセレクタの他の構成例を示す図である。

本発明に係る光線路試験システムの実施形態について、図面に基づいて説明すれば以下の通りである。本実施形態に係る光線路試験システムは、アクセスネットワークを構成する光ファイバ（光線路）から、試験対象となる対象光ファイバを選択し、選択した対象光ファイバについて、断線や損失増加等の物理的障害の有無、および、それらの物理的障害が生じた場所などを検知するために用いられる。

〔第１の実施形態〕
図１は、第１の実施形態に係る光線路試験システム１の構成を示すブロック図である。図１に示すように、光線路試験システム１は、親ファイバセレクタ（ＦＳ：Fiber Selector）２０ａ、ｍ個の子ファイバセレクタ２０ｂ１〜２０ｂｍ（ｍは子ファイバセレクタの総数）、および、光線路試験装置（ＯＴＭ：Optical Test Module）１０を備えている。

親ファイバセレクタ２０ａおよび子ファイバセレクタ２０ｂ１〜２０ｂｍは、複数の通信用光ファイバよりなる光ファイバ群から、光線路試験装置１０に接続する１本の対象光ファイバを選択するために用いられる。

１台の親ファイバセレクタ２０ａ、およびｍ台の子ファイバセレクタ２０ｂ１〜２０ｂｍを、ｋ台のファイバセレクタを収納可能な複数のＩＤＭ架に収納する場合、ｍ−ｋ＋２台のＩＤＭ架を用いればよい。また、光線路試験システム１は、上記ｍ台の子ファイバセレクタ２０ｂ１〜２０ｂｍのうちｋ−１台の子ファイバセレクタを除くｍ−ｋ＋１台の子ファイバセレクタの各々について、光ファイバ群に接続された複数の光線路側ポート、および子ファイバセレクタの光線路側ポートに接続された試験器側ポートを有するｋ−１台の孫ファイバセレクタを備える構成とすることができる。

図１に示すように、各ＩＤＭ架に収納可能なファイバセレクタの台数が４台の場合、ｍ台の子ファイバセレクタ２０ｂ１〜２０ｂｍのうち、３台の子ファイバセレクタ２０ｂ１〜２０ｂ３は、親ファイバセレクタ２０ａと共に１台のＩＤＭ架５４に収納され、ｍ−３台の子ファイバセレクタ２０ｂ４〜２０ｂｍの各々は、３台の孫ファイバセレクタと共に、ｍ−３台のＩＤＭ架５４’の各々に収納される。

このような構成を採用することによって、光線路試験システム１は、より多くの通信光ファイバよりなる光ファイバ群から、試験対象となる１本の対象光ファイバを選択し、選択した対象光ファイバについての試験を行うことができる。また、各ＩＤＭ架５４’とＩＤＭ架５４とを１本の光ファイバで接続すればよいので、ＩＤＭ架間の光ファイバの引き回しの煩雑さを最小限に留めることができる。また、ＩＤＭ架に１台の親ファイバセレクタと３台の子ファイバセレクタが収納される従来の光線路試験システムと同様の制御方向によって制御することができるため、従来の光線路試験システムとの互換性が高いという利点もある。

子ファイバセレクタ２０ｂｋ（ｋは１≦ｋ≦ｍを満たす任意の整数）は、図１に示すように、光ファイバ群に接続される複数の光線路側ポートＤＰＡｋ＿１〜ＤＰＡｋ＿ｎ_k（ｎ_kは子ファイバセレクタ２０ｂｋの備える光線路側ポートの総数）、および、これら複数の光線路側ポートの何れかに選択的に接続される試験器側ポートＤＰＢｋを備えている。また、光線路側ポートＤＰＡｑ＿１〜ＤＰＡｑ＿３（ｑは４≦ｑ≦ｍを満たす任意の整数）は、それぞれ、孫ファイバセレクタを介して光ファイバ群に接続されており、光線路側ポートＤＰＡｑ＿４〜ＤＰＡｑ＿ｎ_qは、光ファイバ群に直接接続されている。なお、子ファイバセレクタ２０ｂｋの備える光線路側ポートの総数ｎ_kは、例えば、２０００程度である。したがって、子ファイバセレクタ２０ｂ１〜２０ｂ３の各々が備える光線路側ポートには、例えば、１０００本程度の通信用光ファイバから引き出された１０００対（２０００本）程度の伝送用光ファイバを接続することができる。また、孫ファイバセレクタの備える光線路側ポートの総数も、例えば、２０００程度である。したがって、子ファイバセレクタ２０ｂｑの備える光線路側ポートには、１０００本程度の通信用光ファイバから引き出された１０００対（２０００本）程度の伝送用光ファイバを直接接続することができると共に、３０００本程度の通信用光ファイバから引き出された３０００対（６０００本）程度の伝送用光ファイバを、孫ファイバセレクタを介して接続することができる。ただし、本実施形態は、子ファイバセレクタ２０ｂｋおよび孫ファイバセレクタの備える光線路側ポートの具体的な総数によって限定されるものではない。また、光線路試験システム１の構成は、図１に示した例に限定されるものではなく、子ファイバセレクタ２０ｂ１〜２０ｂ３の各々が備える光線路側ポートの少なくとも何れかを、孫ファイバセレクタを介して光ファイバ群に接続する構成としてもよい。

一方で、親ファイバセレクタ２０ａは、図１に示すように、ｍ＋ｎ個の光線路側ポートＰＰＡ１〜ＰＰＡｍ＋ｎ、および、これらｍ＋ｎ個の光線路側ポートの何れかに選択的に接続される単一の試験器側ポートＰＰＢを備えている。また、これらｍ＋ｎ個の光線路側ポートのうちｍ個の光線路側ポートＰＰＡ１〜ＰＰＡｍは、それぞれ、伝送用光ファイバを介して、子ファイバセレクタ２０ｂ１〜２０ｂｍの備える試験器側ポートＤＰＢ１〜ＤＰＢｍに接続されており、これらｍ＋ｎ個の光線路側ポートのうちｎ個の光線路側ポートＰＰＡｍ＋１〜ＰＰＡｍ＋ｎは、複数の通信用光ファイバよりなる光ファイバ群に接続されている。また、親ファイバセレクタ２０ａの備える試験器側ポートＰＰＢは、伝送用光ファイバを介して、光線路試験装置１０の備える単一の光コネクタＣ（図１において白抜きの長方形として図示）に接続される。

なお、ｍの値は、例えば２０程度であり、ｎの値は、例えば２０００程度である。したがって、親ファイバセレクタ２０ａの備える光線路側ポートには、２０個程度の子ファイバセレクタの試験器側ポートにそれぞれ接続された伝送用光ファイバと、１０００本程度の通信用光ファイバから引き出された１０００対（２０００本）程度の伝送用光ファイバとを接続することができる。ただし、本実施形態は、具体的なｎの値によって限定されるものではない。

以上のように、親ファイバセレクタ２０ａ、および、子ファイバセレクタ２０ｂ１〜２０ｂｍは、合計ｎ＋ｎ₁＋ｎ₂＋・・・＋ｎ_m本の光ファイバから、試験対象となる１本の対象光ファイバを選択し、選択した対象光ファイバを、光線路試験装置１０に接続する。

なお、光線路試験システム１の構成は、図１に示した例に限られるものではない。例えば、光線路試験システム１は、上述した孫ファイバセレクタを備えない構成とし、１台の親ファイバセレクタ２０ａとｍ台の子ファイバセレクタ２０ｂ１〜２０ｂｍとを、ｋ台のファイバセレクタを収納可能な複数のＩＤＭ架に収納する構成としてもよい。この場合、（ｍ＋１）／ｋ以上の自然数のうち最小のものをＬとして、Ｌ台のＩＤＭ架を用いればよい。より具体的には、図２に示すように、各ＩＤＭ架に収納可能なファイバセレクタの台数が４台の場合、（ｍ＋１）／４以上の自然数のうち最小のものをＬとして、Ｌ台のＩＤＭ架を用いればよい。より具体的には、図１に示すように、ｍ台の子ファイバセレクタ２０ｂ１〜２０ｂｍのうち、３台の子ファイバセレクタ２０ｂ１〜２０ｂ３を、親ファイバセレクタ２０ａと共にＩＤＭ架５４に収納し、残りｍ−３台の子ファイバセレクタ２０ｂ４〜２０ｂｍを他のＬ−１台のＩＤＭ架５４’に４台ずつ収納すればよい。

このような構成の場合、孫ファイバセレクタを用いずに、親ファイバセレクタと子ファイバセレクタとによって、対象光ファイバを選択することができるので、孫ファイバセレクタを用いる構成に比べて、挿入損失を低減させることができる。

光線路試験装置１０は、親ファイバセレクタ２０ａおよび子ファイバセレクタ２０ｂ１〜２０ｂｍによって選択された１本の対象光ファイバについて、断線や損失増加等の物理的障害の有無、および、それらの物理的障害が生じた場所などを検知するための装置であり、例えば、図１に示すように、光スイッチ１１、および、光測定器（ＯＴＵ：Optical Test Unit）１００を備えている。また、光線路試験装置１０は、図示しない制御部を備えており、光線路試験装置１０の備える各部、並びに、親ファイバセレクタ２０ａおよび子ファイバセレクタ２０ｂ１〜２０ｂｍは、この制御部によって制御される。

光スイッチ１１は、親ファイバセレクタ２０および子ファイバセレクタ２０ｂ１〜２０ｂｍによって選択された対象光ファイバであって、光線路試験装置１０の備える単一の光コネクタＣを介して自身の備える光線路側ポート１１ｃに接続されている対象光ファイバを、該対象光ファイバについて行う試験項目に応じて、自身の備える試験器側ポート１１ａおよび１１ｂの何れか一方に選択的に接続する。また、図１に示すように、試験器側ポート１１ａおよび１１ｂは、伝送用光ファイバによって、光測定器１００の備える単一の光コネクタＣ１およびＣ２にそれぞれ接続されている。

光測定器１００は、自身の備える光コネクタＣ１およびＣ２の何れかに接続された対象光ファイバについて、断線や損失増加等の物理的障害の有無、および、それらの物理的障害が生じた場所などを検知するための構成である。図３は、光測定器１００の構成例を示すブロック図である。図３に示すように、光測定器１００は、ＷＤＭカプラ１１０、光パルス試験器（ＯＴＤＲ：Optical Time Domain Reflectometer）１２０、および、光パワー測定器（ＯＰＭ：Optical Power Meter）１３０を備えている。

ＷＤＭカプラ１１０は、波長分割多重（Wavelength Division Multiplexing）方式を用いた光カプラであり、（１）自身の備える共通ポート１１０ｃより入力される光を、低損失にて複数の波長領域の分波光へと分波し、各分波光を自身の備える第１の分岐ポート１１０ａおよび第２の分岐ポート１１０ｂから出力する分波器としての機能と、（２）自身の備える第１の分岐ポート１１０ａおよび第２の分岐ポート１１０ｂの各々から入力される各波長領域の光を低損失にて合波することによって合波光を生成し、生成した合波光を自身の備える共通ポート１１０ｃより出力する合波器としての機能と、を併せ持っている。

本実施形態におけるＷＤＭカプラ１１０は、共通ポート１１０ｃより入力される光を分波し、１６５０ｎｍを含む波長領域において高い透過性を有する第１の分波光を第１の分岐ポート１１０ａより出力し、１５５０ｎｍおよび１３１０ｎｍの双方を含む波長領域において高い透過性を有する第２の分波光を第２の分岐ポート１１０ｂより出力する。また、ＷＤＭカプラ１１０は、後述する分岐カプラ１２２およびバンドパスフィルタ１２１を介して光源１２３から供給される波長１６５０ｎｍのパルス光を共通ポート１１０ｃより出力する。

また、図３に示すように、本実施形態において、共通ポート１１０ｃは、伝送用光ファイバを介して光コネクタＣ１に接続されており、第１の分岐ポート１１０ａは、伝送用光ファイバを介して光パルス試験器１２０の備えるバンドパスフィルタ（ＢＰＦ：Band Pass Filter）１２１に接続されており、第２の分岐ポート１１０ｂは、伝送用光ファイバおよび光コネクタを介して光パワー測定器１３０の備えるＷＤＭカプラ１３１の共通ポート１３１ｃに接続されている。

光パルス試験器１２０は、光コネクタＣ１に接続された対象光ファイバについての、波長１６５０ｎｍ（第１の波長）のパルス光を用いた光パルス試験と、光コネクタＣ２に接続された対象光ファイバについての、波長１３１０ｎｍ（第２の波長）のパルス光を用いた光パルス試験とを行うための構成であり、例えば、図３に示すように、バンドパスフィルタ１２１、分岐カプラ１２２、光源１２３、ＷＤＭカプラ１２４、アバランシェ・フォトダイオード（ＡＰＤ：Avalanche Photodiode）１２５、分岐カプラ１２６、および、光源１２７により構成することができる。バンドパスフィルタ１２１、分岐カプラ１２２、および、光源１２３は、前者の光パルス試験のための構成であり、分岐カプラ１２６、および、光源１２７は、後者の光パルス試験のための構成である。また、ＷＤＭカプラ１２４、および、アバランシェ・フォトダイオード１２５は、何れの光パルス試験においても用いられる構成である。

光パルス試験器１２０は、光コネクタＣ１またはＣ２に接続された対象光ファイバに対して、上述したパルス光を供給し、そのパルス光が対象光ファイバ中を伝播する際に生じる後方散乱光の波形を検出する。

バンドパスフィルタ１２１は、ＷＤＭカプラ１１０の第１の分岐ポート１１０ａより伝送用光ファイバを介して入力される光のうち、中心波長が１６５０ｎｍの光を選択的に透過させ、ＯＮＵ５１とＯＬＴ５２との間の光通信の通信帯域である１３１０ｎｍおよび１５５０ｎｍの光を遮断する。バンドパスフィルタ１２１は、透過後の光を、光ファイバを介して分岐カプラ１２２の共通ポート１２２ｃへと供給する。また、バンドパスフィルタ１２１は、分岐カプラ１２２を介して光源１２３から供給される波長１６５０ｎｍのパルス光を透過させ、伝送用光ファイバを介してＷＤＭカプラ１１０の第１の分岐ポート１１０ａへと供給する。

分岐カプラ１２２は、（１）自身の備える共通ポート１２２ｃより入力される光を２つの分波光へと分波し、それらの分波光を自身の備える第１の分岐ポート１２２ａおよび第２の分岐ポート１２２ｂからそれぞれ出力する分波器としての機能と、（２）自身の備える第１の分岐ポート１２２aおよび第２の分岐ポート１２２ｂから入力される光を合波することによって、合波光を生成し、生成した合波光を自身の備える共通ポート１２２ｃより出力する合波器としての機能と、を併せ持っている。

本実施形態において、分岐カプラ１２２は、第１の分岐ポート１２２ａに対して伝送用光ファイバを介して光源１２３より供給される波長１６５０ｎｍの光を共通ポート１２２ｃから出力する。また、分岐カプラ１２２は、共通ポート１２２ｃに対して伝送用光ファイバを介してバンドパスフィルタ１２１より供給される波長１６５０ｎｍの光を第２の分岐ポート１２２ｂから出力する。なお、分岐カプラ１２２の分岐比は、例えば、波長領域１６５０ｎｍ付近において３ｄＢとなるように設定されており、共通ポート１２２ｃより入力される波長１６５０ｎｍの光は、１：１の比で分波された後に、各分岐ポートから出力される。ただし、既知の分岐比を有する分岐カプラであれば、どのような分岐比を有する分岐カプラであっても分岐カプラ１２２として用いることができる。

光源１２３は、光パルス試験に用いる波長１６５０ｎｍのパルス光を生成し、生成したパルス光を、伝送用光ファイバを介して分岐カプラ１２２の第１の分岐ポート１２２ａに供給する。光源１２３により生成されるパルス光のパルス幅は、例えば、２０ｎｓ（nano-seconds、ナノ秒）から４μｓ（micro-seconds、マイクロ秒）までの値をとることが可能である。

また、光源１２３は、対象光ファイバについての光源試験に用いる変調周波数２７０Ｈｚの変調光信号を、波長１６５０ｎｍの光を用いて生成し、生成した変調光信号を分岐カプラ１２２の第１の分岐ポート１２２ａに供給することもできる。なお、光源試験とは、対象光ファイバに対して変調光信号を入力し、対象光ファイバの終端において、この変調光信号を検出することにより行われる試験である。

分岐カプラ１２６は、分岐カプラ１２２と同様に、分波器としての機能と合波器としての機能とを併せ持っている。

本実施形態において、分岐カプラ１２６は、第１の分岐ポート１２６ａに対して光源１２７より供給される波長１３１０ｎｍの光を共通ポート１２６ｃから出力する。また、分岐カプラ１２６は、共通ポート１２６ｃに対して伝送用光ファイバおよび光コネクタＣ２を介して対象光ファイバより供給される波長１３１０ｎｍの光を第２の分岐ポート１２６ｂから出力する。なお、分岐カプラ１２６の分岐比は、例えば、波長領域１３１０ｎｍ付近において３ｄＢとなるように設定されている。ただし、既知の分岐比を有する分岐カプラであれば、どのような分岐比を有する分岐カプラであっても分岐カプラ１２６として用いることができる。

光源１２７は、光パルス試験に用いる波長１３１０ｎｍのパルス光を生成し、生成したパルス光を、伝送用光ファイバを介して分岐カプラ１２６の第１の分岐ポート１２６ａに供給する。光源１２７により生成されるパルス光のパルス幅は、光源１２３と同様に、例えば、２０ｎｓから４μｓまでの値をとることが可能であり、ユーザは制御部を介して、光パルス試験において最適なパルス幅を選択することができる。

また、光源１２７は、対象光ファイバについての光源試験に用いる変調周波数２７０Ｈｚの変調光信号を、波長１３１０ｎｍの光を用いて生成し、生成した変調光信号を分岐カプラ１２６の第１の分岐ポート１２６ａに供給することもできる。

ＷＤＭカプラ１２４は、波長分割多重方式を用いた光カプラであり、ＷＤＭカプラ１１０と同様に、分波器としての機能と合波器としての機能とを併せ持っている。

本実施形態におけるＷＤＭカプラ１２４は、自身の備える第１の分岐ポート１２４ａに対して分岐カプラ１２２より供給される波長１６５０ｎｍの光と、自身の備える第２の分岐ポート１２４ｂに対して分岐カプラ１２６より供給される波長１３１０ｎｍの光とを、低損失にてアバランシェ・フォトダイオード１２５に供給するために用いられる。

アバランシェ・フォトダイオード１２５は、光電効果とアバランシェ増倍現象とを利用した高受光感度のフォトダイオードである。

本実施形態においては、アバランシェ・フォトダイオード１２５は、ＷＤＭカプラ１２４を介して分岐カプラ１２２より供給される波長１６５０ｎｍの光の各時刻における強度と、ＷＤＭカプラ１２４を介して分岐カプラ１２６より供給される波長１３１０ｎｍの光の各時刻における強度とをそれぞれ検出するために用いられる。

より具体的には、アバランシェ・フォトダイオード１２５は、波長１６５０ｎｍのパルス光を用いた光パルス試験において、光源１２３より出射され、分岐カプラ１２２、バンドパスフィルタ１２１、ＷＤＭカプラ１１０、および、光コネクタＣ１を介して対象光ファイバに供給されたパルス光の後方散乱光であって、ＷＤＭカプラ１１０、バンドパスフィルタ１２１、分岐カプラ１２２、および、ＷＤＭカプラ１２４を介して供給される後方散乱光を受光し、各時刻において、この後方散乱光の強度に応じた電気信号（電流）を出力する。

同様に、アバランシェ・フォトダイオード１２５は、波長１３１０ｎｍのパルス光を用いた光パルス試験において、光源１２７より出射され、分岐カプラ１２６、および、光コネクタＣ２を介して対象光ファイバに供給されたパルス光の後方散乱光であって、分岐カプラ１２６、および、ＷＤＭカプラ１２４を介して供給される後方散乱光を受光し、各時刻において、この後方散乱光の強度に応じた電気信号（電流）を出力する。

なお、上記後方散乱光とは、対象光ファイバに供給されたパルス光が対象光ファイバの各位置において散乱することによって生じる散乱光のうち、そのパルス光の伝播方向と逆方向に伝播する散乱光のことを指す。

また、アバランシェ・フォトダイオード１２５から出力される各時刻での電気信号は、図示しないデータ取得（Data Acquisition）部によってデジタル化され、制御部に伝達される。制御部は、各時刻での電気信号の大きさを解析することによって、対象光ファイバにおける断線や損失増加等の物理的障害の有無、および、それらの物理的障害が生じた場所などを検知することができる。

図４の（ａ）は、光パルス試験において、光源１２３（または光源１２７）より出力されるパルス光の波形例と、対象光ファイバにキズなどの物理的障害が存在しない場合にそのパルス光によって生じる後方散乱光の波形例と、この後方散乱光を受光したアバランシェ・フォトダイオード１２５から出力される電気信号の波形例とを示すタイミングチャートである。

図４の（ａ）に示すように、対象光ファイバにキズなどの物理的障害が存在しない場合には、後方散乱光は、パルス光の出射時刻からの経過時間の増加に伴って減少し、パルス光が対象光ファイバの終端において反射した反射光に対応するピークを有する。

図４の（ｂ）は、光パルス試験において、光源１２３（または光源１２７）より出力されるパルス光の波形例と、対象光ファイバにキズなどの物理的障害が存在する場合にそのパルス光によって生じる後方散乱光の波形例と、この後方散乱光を受光したアバランシェ・フォトダイオード１２５から出力される電気信号の波形例とを示すタイミングチャートである。

図４の（ｂ）に示すように、対象光ファイバにキズなどの物理的障害が存在する場合には、後方散乱光は、その物理的障害によって反射された反射光に対応するピークと、パルス光が対象光ファイバの終端において反射した反射光に対応するピークとを有する。

制御部は、光源１２３によりパルス光が出射されてから上記物理的障害に起因するピークが観測されるまでの時間間隔を検出し、検出した時間間隔に基づいて、対象光ファイバにおける上記物理的障害までの距離を算出することができる。

光パワー測定器１３０は、対象光ファイバから取り出した信号光のパワーを検出するための構成である。より具体的に言うと、光パワー測定器１３０は、光パワー測定試験において、ＯＮＵ５１からＯＬＴ５２に向かう上り用の信号光（波長１３１０ｎｍ）、および、ＯＬＴ５２からＯＮＵ５１に向かう下り用の信号光（波長１５５０ｎｍ）のパワーを検出するための構成であり、例えば、図３に示すように、ＷＤＭカプラ１３１、フィルタ１３２、フォトダイオード（ＰＤ：Photodiode）１３３、フィルタ１３４、および、フォトダイオード１３５により構成することができる。フィルタ１３２、および、フォトダイオード１３３は、波長１３１０ｎｍの信号光のパワーを検出するための構成であり、フィルタ１３４、および、フォトダイオード１３５は、波長１５５０ｎｍの信号光のパワーを検出するための構成である。また、ＷＤＭカプラ１３１は、何れの信号光のパワーを検出する際にも用いられる構成である。

ＷＤＭカプラ１３１は、波長分割多重方式を用いた光カプラであり、ＷＤＭカプラ１１０と同様に、分波器としての機能と合波器としての機能とを併せ持っている。ただし、ＷＤＭカプラ１３１は、ＷＤＭカプラ１１０と異なり、自身の備える共通ポート１３１ｃより入力される信号光を分波し、１３１０ｎｍを含む波長領域において高い透過性を有する第１の分波光を、自身の備える第１の分岐ポート１３１ａより出力し、１５５０ｎｍを含む波長領域において高い透過性を有する第２の分波光を、自身の備える第２の分岐ポート１３１ｂより出力する。

また、図３に示すように、本実施形態において、共通ポート１３１ｃは、ＷＤＭカプラ１１０の第２の分岐ポート１１０ｂに接続されており、第１の分岐ポート１３１ａは、フィルタ１３２に接続されており、第２の分岐ポート１３１ｂは、フィルタ１３４に接続されている。

フィルタ１３２は、伝送用光ファイバを介してＷＤＭカプラ１３１の第１の分岐ポート１３１ａより供給される信号光のうち、中心波長が１３１０ｎｍの信号光を選択的に透過させ、透過後の信号光をフォトダイオード１３３に供給する。

フォトダイオード１３３は、フィルタ１３２より供給される信号光を受光し、受光した信号光のパワーに応じた電気信号（電流）を出力する。出力された電気信号は、図示しないデータ取得部によってデジタル化され、制御部に伝達される。制御部は、ＷＤＭカプラ１１０、ＷＤＭカプラ１３１、および、フィルタ１３２を介して対象光ファイバより供給される波長１３１０ｎｍの信号光のパワーを、上記電気信号の大きさに基づいて算出することができる。

フィルタ１３４は、伝送用光ファイバを介してＷＤＭカプラ１３１の第２の分岐ポート１３１ｂより供給される信号光のうち、中心波長が１５５０ｎｍの信号光を選択的に透過させ、透過後の信号光をフォトダイオード１３５に供給する。

フォトダイオード１３５は、フィルタ１３４より供給される信号光を受光し、受光した信号光のパワーに応じた電気信号（電流）を出力する。出力された電気信号は、図示しないデータ取得部によってデジタル化され、制御部に伝達される。制御部は、ＷＤＭカプラ１１０、ＷＤＭカプラ１３１、および、フィルタ１３４を介して対象光ファイバより供給される波長１５５０ｎｍの信号光のパワーを、上記電気信号の大きさに基づいて算出することができる。

なお、本実施形態において、光パワー測定器１３０が光コネクタ（図３において白抜きの長方形として図示）を介してＷＤＭカプラ１１０に接続されているため、光パワー測定器１３０を光線路試験装置１０から簡単に取り外すことができる。したがって、光パワー測定を利用しないユーザに対しては、光パワー測定器１３０を取り外したシンプルな構成で出荷するなどのカスタムメイドを容易に実現することができる。

また、本実施形態において、光線路試験システム１は、測定器成端架選択装置を要する非特許文献１に記載の光線路試験システムに比べて、単純な構成によって実現することができる。したがって、光線路試験システム１における故障の発生率が低減するので、光線路試験システム１の信頼性が向上する。

以上のように、本発明に係る光線路試験システム１は、光ファイバ群に接続されるｎ_ｉ個の光線路側ポートＤＰＡｉ＿１〜ＤＰＡｉ＿ｎ_i、及び、該ｎ_ｉ個の光線路側ポートの何れかに接続される試験器側ポートＤＰＢｉを有するｍ台の子ファイバセレクタ２０ｂ１〜２０ｂｍと（１≦ｉ≦ｍ，ｍ及びｎ_ｉは任意の自然数）、光ファイバ群に接続されるｎ個の光線路側ポートＰＰＡｍ＋１〜ＰＰＡｍ＋ｎ（ｎは任意の自然数）、上記ｍ台の子ファイバセレクタ２０ｂ１〜２０ｂｍの各々が有する試験器側ポートに接続されるｍ個の光線路側ポートＰＰＡ１〜ＰＰＡｍ、及び、これらｎ＋ｍ個の光線路側ポートの何れかに接続される単一の試験器側ポートＰＰＢを有する１台の親ファイバセレクタ２０ａと、上記親ファイバセレクタ２０ａの単一の試験器側ポートＰＰＢに接続された光線路試験装置１０であって、上記子ファイバセレクタ２０ｂ１〜２０ｂｍの各々に接続された光ファイバ群、及び、上記親ファイバセレクタ２０ａに接続された光ファイバ群から選択された対象光ファイバを試験する光線路試験装置１０と、を備えている。

上記のように構成された本発明に係る光線路試験システム１によれば、光線路試験システム１の製造コスト、および、維持管理コストを削減することができる。

＜変形例１＞
本実施形態に係る光線路試験システム１の備える光測定器１００の構成は、上述した例に限定されるものではない。ここでは、本実施形態の第１の変形例に係る光測定器１００について、図５を参照して説明する。

本変形例に係る光測定器１００における光パルス試験器１２０は、波長１６５０ｎｍの光および波長１３１０ｎｍの光を用いた光パルス試験に加えて、波長１５５０ｎｍの光を用いた光パルス試験をも行うことができる構成である。本変形例における光パルス試験器１２０は、例えば、図５に示すように、既に説明したバンドパスフィルタ１２１、分岐カプラ１２２、光源１２３、ＷＤＭカプラ１２４、アバランシェ・フォトダイオード１２５、および、分岐カプラ１２６に加えて、光源１２８、ＷＤＭカプラ１２９、フィルタ１４０、および、アバランシェ・フォトダイオード１４１を備えることによって構成することができる。

本変形例において、フィルタ１４０およびアバランシェ・フォトダイオード１４１は、波長１５５０ｎｍの光を用いた光パルス試験を行うための構成であり、光源１２８、分岐カプラ１２６、ＷＤＭカプラ１２９は、波長１５５０ｎｍの光を用いた光パルス試験、および、波長１３１０ｎｍの光を用いた光パルス試験の双方において用いられる構成である。また、本変形例において、ＷＤＭカプラ１２４およびアバランシェ・フォトダイオード１２５は、波長１３１０ｎｍの光を用いた光パルス試験にも用いられる。

光源１２８は、光パルス試験に用いる波長１３１０ｎｍのパルス光および波長１５５０ｎｍのパルス光を生成し、生成したパルス光を、伝送用光ファイバを介して分岐カプラ１２６の第１の分岐ポート１２６ａに供給する。光源１２８により生成されるパルス光のパルス幅は、光源１２３と同様に、例えば、２０ｎｓから４μｓまでの値をとることが可能であり、ユーザは制御部を介して、光パルス試験において最適なパルス幅を選択することができる。

また、光源１２８は、対象光ファイバについての光源試験に用いる変調周波数２７０Ｈｚの変調光信号を、波長１３１０ｎｍの光または波長１５５０ｎｍの光を用いて生成し、生成した変調光信号を分岐カプラ１２６の第１の分岐ポート１２６ａに供給することもできる。

ＷＤＭカプラ１２９は、波長分割多重方式を用いた光カプラであり、ＷＤＭカプラ１１０と同様に、分波器としての機能と合波器としての機能とを併せ持っている。また、ＷＤＭカプラ１２９は、自身の備える共通ポート１２９ｃより入力される光を分波し、１５５０ｎｍを含む波長領域において高い透過性を有する第１の分波光を自身の備える第１の分岐ポート１２９ａより出力し、１３１０ｎｍを含む波長領域において高い透過性を有する第２の分波光を自身の備える第２の分岐ポート１２９ｂより出力する。

また、図５に示すように、本変形例において、共通ポート１２９ｃは、分岐カプラ１２６の第２の分岐ポート１２６ｂに接続されており、第１の分岐ポート１２９ａは、フィルタ１４０に接続されており、第２の分岐ポート１２９ｂは、伝送用光ファイバおよび光コネクタを介してＷＤＭカプラ１２４の第２の分岐ポート１２４ｂに接続されている。

本変形例において、波長１３１０ｎｍのパルス光を用いた光パルス試験を行う場合、光源１２８より出射され、分岐カプラ１２６および光コネクタＣ２を介して対象光ファイバに供給された波長１３１０ｎｍのパルス光の後方散乱光は、分岐カプラ１２６、ＷＤＭカプラ１２９、および、ＷＤＭカプラ１２４を介して、アバランシェ・フォトダイオード１２５に供給される。

フィルタ１４０は、伝送用光ファイバを介してＷＤＭカプラ１２９の第１の分岐ポート１２９ａより供給される光のうち、中心波長が１５５０ｎｍである光を選択的に透過させ、透過後の光をアバランシェ・フォトダイオード１４１に供給する。

アバランシェ・フォトダイオード１４１は、アバランシェ・フォトダイオード１２５と同様に、光電効果とアバランシェ増倍現象とを利用した高受光感度のフォトダイオードである。本変形例においては、アバランシェ・フォトダイオード１４１は、ＷＤＭカプラ１２９を介して分岐カプラ１２６より供給される波長１５５０ｎｍの光の強度を検出するために用いられる。

より具体的には、アバランシェ・フォトダイオード１４１は、波長１５５０ｎｍのパルス光を用いた光パルス試験において、光源１２８より出射され、分岐カプラ１２６および光コネクタＣ２を介して対象光ファイバに供給された波長１５５０ｎｍのパルス光の後方散乱光であって、分岐カプラ１２６、ＷＤＭカプラ１２９、および、フィルタ１４０を介して供給される後方散乱光を受光し、各時刻において、この後方散乱光の強度に応じた電気信号（電流）を出力する。アバランシェ・フォトダイオード１４１から出力される各時刻での電気信号は、図示しないデータ取得部によってデジタル化され、制御部に伝達される。制御部は、各時刻での電気信号の大きさを解析することによって、対象光ファイバにおける断線や損失増加等の物理的障害の有無、および、それらの物理的障害が生じた場所などを検知することができる。

＜変形例２＞
以下では、本実施形態の第２の変形例に係る光線路試験システム１の備える光測定器１００について、図６を参照して説明する。

本変形例に係る光線路試験システム１における光パルス試験器１２０は、波長１６５０ｎｍの光を用いた光パルス試験を行うための構成であり、例えば、図６に示すように、バンドパスフィルタ１２１、分岐カプラ１２２、光源１２３、ＷＤＭカプラ１２４、および、アバランシェ・フォトダイオード１２５を備える一方で、既に説明した分岐カプラ１２６、光源１２７、光源１２８、ＷＤＭカプラ１２９、フィルタ１４０、および、アバランシェ・フォトダイオード１４１の何れをも備えていない構成とすることができる。なお、本変形例における光パワー測定器１３０の構成はすでに説明した構成と同じである。

本変形例においては、光測定器１００に接続される対象光ファイバの本数が１本であるため、本変形例に係る光線路試験システム１は、光スイッチ１１を備えない構成とすることができ、親ファイバセレクタ２０によって選択された対象光ファイバが、ＷＤＭカプラ１１０の共通ポート１１０ｃに直接接続される構成とすることができる。

このように、本変形例に係る光線路試験システム１においては、光スイッチ１１が省略されているので、製造コスト、および、維持管理コストを更に削減することができる。

〔第２の実施形態〕
図７は、第２の実施形態に係る光線路試験システム１の構成を示すブロック図である。図７に示すように、本実施形態に係る光線路試験システム１は、第１の実施形態に係る光線路試験システム１と同様、親ファイバセレクタ２０ａ、ｍ個の子ファイバセレクタ２０ｂ１〜２０ｂｍ、および、光線路試験装置１０を備えている。

本実施形態に係る光線路試験システム１と第１の実施形態に係る光線路試験システム１との相違点は、以下のとおりである。

（１）第１の実施形態においては、親ファイバセレクタ２０ａが単一の試験器側ポートＰＰＢを備えているのに対し、本実施形態においては、親ファイバセレクタ２０ａは２つの試験器側ポートＰＰＢ１〜ＰＰＢ２を備えている点。

（２）第１の実施形態においては、親ファイバセレクタ２０ａの試験器側ポートＰＰＢが、光スイッチ１１を介して光測定器１００の２つの光コネクタ（光線路側ポート）Ｃ１〜Ｃ２に接続されるのに対して、本実施形態においては、親ファイバセレクタ２０ａの２つの試験器側ポートＰＰＢ１〜ＰＰＢ２が、それぞれ、光スイッチ１１を介さずに光測定器１００の２つの光コネクタ（光線路側ポート）Ｃ１〜Ｃ２に接続される点。

このように、２つの試験器側ポートＰＰＢ１〜ＰＰＢ２を有する親ファイバセレクタ２０ａを用いれば、光スイッチ１１を省くことができる。より一般的に言えば、光測定器１００の光コネクタと同数の試験器側ポートＰＰＢ１〜ＰＰＢ２を有する親ファイバセレクタ２０ａを用いれば、光スイッチ１１を省くことができる。これにより、光線路試験装置１０をより小型化することが可能になる。なお、本実施形態に係る光線路試験システム１は、上述した相違点を除いて第１の実施形態に係る光線路試験システム１と同様に実施することができる。例えば、光測定器１００の構成としては、図３に示すものを用いても良いし、図５に示すものを用いてもよい。

ただし、親ファイバセレクタ２０ａの２つの試験器側ポートＰＰＢ１〜ＰＰＢ２を光測定器１００の２つの光コネクタＣ１〜Ｃ２に同時に接続する構成を採用すると、或る光線路に関する試験に他の光線路を伝播する通信光が影響を与えてしまうという問題を生じ得る。例えば、光測定器１００を図５のように構成した場合、或る光線路に関する１６５０ｎｍの光パルス試験に他の光線路を伝播する波長１３１０ｎｍの通信光が影響を与えてしまうという問題を生じる。これは、１６５０ｎｍの光パルス試験を行っている際にも、光コネクタＣ２から光測定器１００に入射した波長１３１０ｎｍの通信光がＡＰＤ１２５に到達してしまうためである（図５参照）。

このような問題を回避するためには、光コネクタＣ１〜Ｃ２の何れか一方に入射する通信光を遮断する機能を付加することが望ましい。特に、光測定器１００を図５のように構成する場合、１６５０ｎｍの光パルス試験時に光コネクタＣ２に入射する波長１３１０ｎｍの通信光を遮断する機能を付加することが望ましい。

このような機能を有する親ファイバセレクタ２０ａの構成例を図１１（ｃ）に示す。同図において、ＰＦＡ１〜ＰＦＡｍ＋ｎは、それぞれ、光線路側ポートＰＰＡ１〜ＰＰＡｍ＋ｎに接続される光線路側ファイバ（固定ファイバ）を示す。また、ＰＦＢ１〜ＰＦＢ２は、それぞれ、試験器側ポートＰＰＢ１〜ＰＰＢ２に接続される試験器側ファイバ（移動ファイバ）を示す。

図１１（ｃ）に示す親ファイバセレクタ２０ａは、試験器側ファイバＰＦＢ１〜ＰＦＢ２を移動するファイバ移動機構（不図示）を備えている。このファイバ移動機構によって、試験器側ファイバＰＦＢ１〜ＰＦＢ２のうち、選択された試験機能に対応した試験器側ファイバが、光線路側ファイバＰＦＡ１〜ＰＦＡｍ＋ｎのうち、選択された光線路に対応した光線路側ファイバと共通のＶ字溝上に載置される。また、図１１（ｃ）に示す親ファイバセレクタ２０ａは、押圧具２０５ａ〜２０５ｂを備えている。この押圧具２０５ａ〜２０５ｂによって、試験器側ファイバＰＦＢ１〜ＰＦＢ２のうち、選択された試験機能に対応した試験器側ファイバの末端と、光線路側ファイバＰＦＡ１〜ＰＦＡｍ＋ｎのうち、選択された光ファイバに対応した光線路側ファイバの末端とが接続される。

図１１（ｃ）に示す親ファイバセレクタ２０ａにおいて注目すべき点は、試験器側ファイバＰＦＢ１を押圧するための押圧具２０５ａと、試験器側ファイバＰＦＢ２を押圧するための押圧具２０５ｂとが個別に設けられている点である。これら２つの押圧具２０５ａ〜２０５ｂは、互いに独立に作動する。例えば、１６５０ｎｍの光パルス試験時には、押圧具２０５ａのみを作動させて、試験器側ファイバＰＦＢ１のみを光線路側ファイバに接続する。これにより、１６５０ｎｍの光パルス試験時には、試験器側ファイバＰＦＢ２と光線路側ファイバとが接続されないことになる。したがって、１６５０ｎｍの光パルス試験時には、光コネクタＣ２に入射する波長１３１０ｎｍの通信光が親ファイバセレクタ２０ａにおいて遮断される。

なお、ここでは、光コネクタＣ１〜Ｃ２の何れか一方に入射する通信光を遮断する機能を親ファイバセレクタ２０ａに担わせる構成について説明したが、これに限定されるものではない。すなわち、例えば、このような機能を担う光シャッターＳを付加する構成を採用しても、上述した問題（１６５０ｎｍの光パルス試験時に波長１３１０ｎｍの通信光がＡＰＤ１２５に到達して試験結果に影響を与えてしまうという問題）を回避することができる。

光シャッターＳを付加した光線路試験システム１の構成を図８に例示する。この光シャッターＳは、１６５０ｎｍの光パルス試験時に光コネクタＣ２に入射する波長１３１０ｎｍの通信光を遮断するためのものである。この光シャッターＳは、波長１３１０ｎｍの通信光を遮断するか透過するかを切り替え可能な光学素子であれば、どのような光学素子によって実現してもよいので、光スイッチ１１（図１参照）よりもサイズを小さくすることが可能である。

なお、図８においては、光シャッターＳを光線路試験装置１０の内部に設ける構成を示したが、これに限定されるものではない。光シャッターＳは、（１）親ファイバセレクタ２０ａの試験器側ポートＰＰＢ２と光測定器１００の光コネクタＣ２とを繋ぐ光ファイバ上の任意の点、又は、（２）親ファイバセレクタ２０ａの試験器側ポートＰＰＢ２に接続された試験器側ファイバＰＦＢ２上の任意の点に挿入することができる。つまり、光シャッターＳは、光線路試験装置１０の内部に設けてもよいし、光線路試験装置１０と親ファイバセレクタ２０ａとの間に設けてもよいし、親ファイバセレクタ２０ａの内部に設けてもよい。

〔付記事項〕
本発明は上述した各実施形態に限定されるものではなく、請求項に示した範囲で種々の変更が可能であり、異なる実施形態および変形例にそれぞれ開示された技術的手段を適宜組み合わせて得られる実施形態についても本発明の技術的範囲に含まれる。

本発明は、アクセスネットワークを構成する光ファイバ等の光線路を試験するための光線路試験システムに好適に用いることができる。

１ 光線路試験システム
１０ 光線路試験装置
２０ａ 親ファイバセレクタ
２０ｂ１〜２０ｂｍ 子ファイバセレクタ
１１ 光スイッチ
１００ 光測定器
１１０ ＷＤＭカプラ（光カプラ）
１２０ 光パルス試験器
１２２ 分岐カプラ
１２３ 光源
１２５ アバランシェ・フォトダイオード（光検出器）
１３０ 光パワー測定器
１３１ ＷＤＭカプラ
１３３ フォトダイオード
１３５ フォトダイオード

Claims (8)

1. 光線路群に直接的又は間接的に接続されるｎｉ個の光線路側ポート、及び、該ｎｉ個の光線路側ポートの何れかに接続可能な試験器側ポートを有するｍ台の子ファイバセレクタと（１≦ｉ≦ｍ，ｍ及びｎｉは任意の自然数）、
   光線路群に接続されるｎ個の光線路側ポート（ｎは任意の自然数）、上記ｍ台の子ファイバセレクタの各々が有する試験器側ポートに接続されるｍ個の光線路側ポート、及び、これらｎ＋ｍ個の光線路側ポートの何れかに接続可能な単一の試験器側ポートを有する１台の親ファイバセレクタと、
   上記親ファイバセレクタの単一の試験器側ポートに接続された光線路試験装置であって、上記子ファイバセレクタの各々に接続された光線路群、及び、上記親ファイバセレクタに接続された光線路群から選択された対象光線路を試験する光線路試験装置と、
   を備えていることを特徴とする光線路試験システム。
2. ｋ台のファイバセレクタを収納可能なｍ−ｋ＋２台の光配線モジュール架と（ｋはｍよりも小さい自然数）、上記ｍ台の子ファイバセレクタのうちｋ−１台の子ファイバセレクタを除くｍ−ｋ＋１台の子ファイバセレクタの各々について、光線路群に接続された複数の光線路側ポート、および該子ファイバセレクタの光線路側ポートに接続された試験器側ポートを有するｋ−１台の孫ファイバセレクタとを備えており、
   上記ｍ台の子ファイバセレクタのうち、上記ｋ−１台の子ファイバセレクタは、上記光線路試験装置と共に１台の光配線モジュール架に収納されており、上記ｍ−ｋ＋１台の子ファイバセレクタの各々は、上記ｋ−１台の孫ファイバセレクタと共に、ｍ−ｋ＋１台の光配線モジュール架の各々に収納されている、
   ことを特徴とする請求項１に記載の光線路試験システム。
3. ｋ台のファイバセレクタを収納可能な光配線モジュール架をＬ台備えており（ｋはｍよりも小さい自然数、Ｌは（ｍ＋１）／ｋ以上の自然数のうち最小のもの）、
   上記ｍ台の子ファイバセレクタのうち、ｋ−１台の子ファイバセレクタは、上記光線路試験装置と共に１台の光配線モジュール架に収納されており、上記ｍ台の子ファイバセレクタのうち、上記ｋ−１台の子ファイバセレクタを除くｍ−ｋ＋１台の子ファイバセレクタは、Ｌ−１台の光配線モジュール架に収納されている、
   ことを特徴とする請求項１に記載の光線路試験システム。
4. 上記光線路試験装置は、共通ポートが上記親ファイバセレクタの単一の試験器側ポートに直接的又は間接的に接続される光カプラと、上記光カプラの第１分岐ポートに接続された光パルス試験器であって、上記対象光線路に入力するパルス光を生成すると共に、上記対象光線路から取り出した、上記パルス光の後方散乱光の波形を検出する光パルス試験器と、上記光カプラの第２分岐ポートに接続された光パワー測定器であって、上記対象光線路から取り出した信号光のパワーを測定するための光パワー測定器と、を備えている、
   ことを特徴とする請求項１から３の何れか１項に記載の光線路試験システム。
5. 上記光線路試験装置は、上記親ファイバセレクタの単一の試験器側ポートに接続される光線路側ポート、並びに、何れか一方が該光線路側ポートに接続される第１試験器側ポート及び第２試験器側ポートを有する光スイッチを更に備え、
   上記光パルス試験器は、共通ポートが上記光カプラを介して上記光スイッチの上記第１分岐ポートに接続される第１分岐カプラと、該第１分岐カプラの第１分岐ポートに接続された第１光源であって、第１の波長を有するパルス光を生成する第１光源と、共通ポートが上記光スイッチの上記第２試験器側ポートに接続される第２分岐カプラと、該第２分岐カプラの第１分岐ポートに接続された第２光源であって、上記第１の波長とは異なる第２の波長を有するパルス光を生成する第２光源と、第１分岐ポートが上記第１分岐カプラの第２分岐ポートに接続され、第２分岐ポートが上記第２分岐カプラの第２分岐ポートに接続された合波カプラと、上記合波カプラの共通ポートに接続された光検出器であって、上記第１の波長を有するパルス光の後方散乱光、及び、上記第２の波長を有するパルス光の後方散乱光を電気信号に変換する光検出器と、を含んでいる、
   ことを特徴とする請求項４に記載の光線路試験システム。
6. 光線路群に直接的又は間接的に接続されるｎ_ｉ個の光線路側ポート、及び、該ｎ_ｉ個の光線路側ポートの何れかに接続可能な試験器側ポートを有するｍ台の子ファイバセレクタと（１≦ｉ≦ｍ，ｍ及びｎ_ｉは任意の自然数）、
   光線路群に接続されるｎ個の光線路側ポート（ｎは任意の自然数）、上記ｍ台の子ファイバセレクタの各々が有する試験器側ポートに接続されるｍ個の光線路側ポート、及び、これらｎ＋ｍ個の光線路側ポートの何れかに接続可能なｘ個の試験器側ポート（ｘは任意の自然数）を有する１台の親ファイバセレクタと、
   上記親ファイバセレクタのｘ個の試験器側ポートの各々に接続されるｘ個の光線路側ポートを有する光測定器を内蔵した光線路試験装置であって、上記子ファイバセレクタの各々に接続された光線路群、及び、上記親ファイバセレクタに接続された光線路群から選択された対象光線路を試験する光線路試験装置と、
   を備えていることを特徴とする光線路試験システム。
7. 上記ｘは、２であり、
   上記親ファイバセレクタは、上記光測定器の２つの光線路側ポートの何れか一方に入射する通信光を遮断する遮断機能を有している、
   ことを特徴とする請求項６に記載の光線路試験システム。
8. 上記ｘは、２であり、
   上記光測定器の２つの光線路側ポートの何れか一方に入射する通信光を遮断する遮断手段を更に備えている、
   ことを特徴とする請求項６に記載の光線路試験システム。

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