JP2014141925A - 真空ポンプ装置およびその運転方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】ドライ真空ポンプ2と、ドライ真空ポンプ2を駆動するモータ3とを備えた真空ポンプ装置1であって、ドライ真空ポンプ2は、1対のポンプロータ21と、ポンプロータ21を収容するポンプケーシング20とを備えており、ポンプケーシング20内には、ポンプロータ21を囲むように密閉室40が形成されており、密閉室40内に真空を形成することでポンプケーシング20の保温性を高めるように構成されている。
【選択図】図2
Description
前記密閉室は、螺旋状に形成されていることを特徴とする。
前記第1の流路に取り付けられた第1の開閉弁と、前記ドライ真空ポンプの周囲空間と前記密閉室とを連通する第2の流路と、前記第2の流路に取り付けられた第2の開閉弁とをさらに備えたことを特徴とする。
前記ポンプケーシングを加熱する発熱体を前記密閉室の内周面に接触するように配置したことを特徴とする。
前記発熱体はシート状のヒーターであることを特徴とする。
前記第1の流路に取り付けられた第1の開閉弁と、前記メインポンプの周囲空間と前記第2の密閉室とを連通する第2の流路と、前記第2の流路に取り付けられた第2の開閉弁とをさらに備えたことを特徴とする。
前記第1の密閉室と前記メインポンプの吸気ポートとを連通する第1の流路と、前記第1の密閉室と前記第2の密閉室とを連通する連通流路を備えたことを特徴とする。
前記第2の密閉室と前記メインポンプの周囲空間とを連通する第2の流路と、前記第2の流路に取り付けられた第2の開閉弁とをさらに備えたことを特徴とする。
前記第1の開閉弁を閉じ、前記第2の開閉弁を開くことで、前記密閉室内を大気開放することを特徴とする。
前記第1の開閉弁を閉じて、前記第2の開閉弁を開き、前記密閉室に連通するガス導入管を通じて気体を該密閉室に導入して、前記ドライ真空ポンプの温度を低下させることを特徴とする。
前記第1の開閉弁を閉じて、前記第2の開閉弁を開き、前記第1の密閉室に連通するガス導入管を通じて気体を該第1の密閉室および前記第2の密閉室に導入して、前記ブースターポンプおよび前記メインポンプの温度を低下させることを特徴とする。
2 ポンプ、メインポンプ
3,67 モータ
4,68 インバータ
5 制御装置
6 電源
10,83 吸気ポート
11,84 排気ポート
20,80 ポンプケーシング
21,82 ポンプロータ(ルーツロータ)
23 回転軸
24,25 軸受
27 タイミングギヤ
28 ギヤケース
30 モータケーシング
31 モータロータ
32 ステータコア
33 コイル
40 密閉室、第2の密閉室
41,95 発熱体
45 第1の流路
46 第2の流路
47 第1の開閉弁
48 圧力計
49 第2の開閉弁
50,91 ガス導入管
51,90 ガス導入バルブ
61 メインポンプユニット
62 ブースターポンプユニット
66 ブースターポンプ
81 第1の密閉室
92 第1の流路
93 第1の開閉弁
100 連通流路
101 第1の流路
102 第1の開閉弁
105 第2の流路
106 第2の開閉弁
Claims (18)
- ドライ真空ポンプと、
前記ドライ真空ポンプを駆動するモータとを備えた真空ポンプ装置であって、
前記ドライ真空ポンプは、1対のポンプロータと、前記ポンプロータを収容するポンプケーシングとを備えており、
前記ポンプケーシングには、前記ポンプロータを囲むように密閉室が形成されており、
前記密閉室内に真空を形成することで前記ポンプケーシングの保温性を高めるように構成されたことを特徴とする真空ポンプ装置。 - 前記ドライ真空ポンプの吸気ポートと前記密閉室とを連通する第1の流路をさらに備えたことを特徴とする請求項1に記載の真空ポンプ装置。
- 前記密閉室は、螺旋状に形成されていることを特徴とする請求項1または2に記載の真空ポンプ装置。
- 前記第1の流路に取り付けられた第1の開閉弁と、
前記ドライ真空ポンプの周囲空間と前記密閉室とを連通する第2の流路と、
前記第2の流路に取り付けられた第2の開閉弁とをさらに備えたことを特徴とする請求項2または3に記載の真空ポンプ装置。 - 前記ポンプケーシングを加熱する発熱体を前記密閉室の内周面に接触するように配置したことを特徴とする請求項1乃至4のいずれか一項に記載の真空ポンプ装置。
- 前記発熱体はシート状のヒーターであることを特徴とする請求項5に記載の真空ポンプ装置。
- ブースターポンプと、
前記ブースターポンプの排気ポートに接続されたメインポンプと、
前記ブースターポンプおよび前記メインポンプをそれぞれ駆動するモータとを備えた真空ポンプ装置であって、
前記ブースターポンプのポンプケーシングには、前記ブースターポンプのポンプロータを囲むように第1の密閉室が形成されており、
前記メインポンプのポンプケーシングには、前記メインポンプのポンプロータを囲むように第2の密閉室が形成されており、
前記第1の密閉室内および前記第2の密閉室内に真空を形成することで前記ブースターポンプのポンプケーシングおよび前記メインポンプのポンプケーシングの保温性を高めるように構成されたことを特徴とする真空ポンプ装置。 - 前記第1の密閉室と前記第2の密閉室とを連通する連通流路と、
前記メインポンプの吸気ポートと前記連通流路とを連通する第1の流路とをさらに備えていることを特徴とする請求項7に記載の真空ポンプ装置。 - 前記第1の流路に取り付けられた第1の開閉弁と、
前記メインポンプの周囲空間と前記第2の密閉室とを連通する第2の流路と、
前記第2の流路に取り付けられた第2の開閉弁とをさらに備えたことを特徴とする請求項8に記載の真空ポンプ装置。 - 前記第1の密閉室と前記メインポンプの吸気ポートとを連通する第1の流路と、
前記第1の密閉室と前記第2の密閉室とを連通する連通流路を備えたことを特徴とする請求項7に記載の真空ポンプ装置。 - 前記第2の密閉室と前記メインポンプの周囲空間とを連通する第2の流路と、
前記第2の流路に取り付けられた第2の開閉弁とをさらに備えたことを特徴とする請求項10に記載の真空ポンプ装置。 - 請求項4に記載の真空ポンプ装置の運転方法であって、
前記ドライ真空ポンプを駆動し、前記第1の開閉弁を開くことで、前記ドライ真空ポンプにより前記密閉室内の気体を吸引することを特徴とする真空ポンプ装置の運転方法。 - 前記第1の開閉弁を閉じ、前記第2の開閉弁を開くことで、前記密閉室内を大気開放することを特徴とする請求項12に記載の真空ポンプ装置の運転方法。
- 前記第1の開閉弁を閉じて、前記第2の開閉弁を開き、
前記密閉室に連通するガス導入管を通じて気体を該密閉室に導入して、前記ドライ真空ポンプの温度を低下させることを特徴とする請求項12に記載の真空ポンプ装置の運転方法。 - 請求項9に記載の真空ポンプ装置の運転方法であって、
前記メインポンプを駆動し、前記第1の開閉弁を開き、前記第1の密閉室および前記第2の密閉室の気体を前記メインポンプにより吸引して前記第1の密閉室内および前記第2の密閉室内に真空を形成することを特徴とする真空ポンプ装置の運転方法。 - 前記第1の開閉弁を閉じて、前記第2の開閉弁を開き、
前記第1の密閉室に連通するガス導入管を通じて気体を該第1の密閉室および前記第2の密閉室に導入して、前記ブースターポンプおよび前記メインポンプの温度を低下させることを特徴とする請求項15に記載の真空ポンプ装置の運転方法。 - 請求項10に記載の真空ポンプ装置の運転方法であって、
前記メインポンプを駆動し、前記第1の開閉弁を開くことで、前記メインポンプにより前記第1の密閉室内および前記第2の密閉室内の気体を吸引することを特徴とする真空ポンプ装置の運転方法。 - 請求項11に記載の真空ポンプ装置の運転方法であって、
前記第1の開閉弁および前記第2の開閉弁を開き、気体を前記第2の流路を通じて前記第2の密閉室に導入して該気体を加熱し、
前記加熱された気体を、前記連通流路を通じて前記第2の密閉室から前記第1の密閉室に移送して、前記ブースターポンプを加熱することを特徴とする真空ポンプ装置の運転方法。
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|---|---|---|---|
| JP2013010756A JP6125242B2 (ja) | 2013-01-24 | 2013-01-24 | 真空ポンプ装置およびその運転方法 |
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| JP2013010756A JP6125242B2 (ja) | 2013-01-24 | 2013-01-24 | 真空ポンプ装置およびその運転方法 |
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| JP2014141925A true JP2014141925A (ja) | 2014-08-07 |
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN114542425A (zh) * | 2020-11-26 | 2022-05-27 | 中国科学院微电子研究所 | 半导体加工工艺、抽真空装置和半导体工艺设备 |
Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0742693A (ja) * | 1993-08-02 | 1995-02-10 | Hitachi Ltd | ドライ真空ポンプ |
| JPH10318168A (ja) * | 1997-05-22 | 1998-12-02 | T D Giken:Kk | 容積移送型ポンプ |
| JP2003090285A (ja) * | 2001-09-17 | 2003-03-28 | Ebara Corp | ドライ真空ポンプ |
-
2013
- 2013-01-24 JP JP2013010756A patent/JP6125242B2/ja active Active
Patent Citations (3)
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| JPH0742693A (ja) * | 1993-08-02 | 1995-02-10 | Hitachi Ltd | ドライ真空ポンプ |
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|---|---|---|---|---|
| CN114542425A (zh) * | 2020-11-26 | 2022-05-27 | 中国科学院微电子研究所 | 半导体加工工艺、抽真空装置和半导体工艺设备 |
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