JP2014149348A - 4色カラーフィルタの製造方法 - Google Patents

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Abstract

【課題】4色カラーフィルタにおいて、工程を削減するために、White画素4Wの形成工程を省き、OC層5によりWhite画素4W部を代用する時の問題となる、White画素4W部に発生するOC窪み7をなくし、OC窪み部分での液晶の配向不良を防ぎ、コントラスト低下を防ぐ。
【解決手段】4色カラーフィルタにおいて、W画素4Wの形成に、R、G、B画素部を形成する時に行われるレジストをパターニングする工程を行わず、画素4上に設けられるOC層5により、W画素4Wを形成する。OC層5を硬化するための、光照射時に、ハーフトーンマスク2を使用し、W画素4WとなるOC層5の硬化のため露光量を多くし、しかる後現像を行うことにより、現像後のWhite画素部となるOC層の膜減りの膜厚を少なくし、White画素部上のOC層とR、G、B画素部上のOC層との段差を0.5μm以下に押さえた。
【選択図】図1

Description

本発明は、カラー表示を行う表示装置に用いられるカラーフィルタに関し、特に光効率が改善された高輝度カラーフィルタに関する。
現在、カラー表示が可能な液晶表示装置(カラー液晶表示装置)が広く利用されている。カラー液晶表示装置では、画素(ドット)に対応してカラーフィルタが設けられており、典型的には、赤(R)、緑(G)、青(B)の光の三原色に対応するカラーフィルタが画素に対応して、所定のパターンで配列されている。R、G、Bの3つの画素(ドット)が1つのピクセルを構成し、各ピクセルはカラー表示を行うことができる。
液晶パネルではRGB3色カラーフィルタが一般的だが、光効率が低いため、高品質化、高輝度化のために、RGBのほかに4色目としてW(White)を加えたカラーフィルタが提案されている(特許文献1)。
W画素は、他の着色画素に比べて光の利用効率が高いので、W画素加えて画像を表示すると、表示輝度が向上する。白表示専用の単位画素に、白表示用のカラーフィルタを配置したものである。
3原色のカラーフィルタを配置した単位画素部分(3つの単位画素)の輝度は、1×(1/4)×(2/3)=1/6また、白色表示専用の単位画素の輝度は、白色のカラーフィルタの透過率も3原色と同様の2/3とすると、1×(1/4)×(2/3)=1/6となり、1画素全体の輝度は、1/6+1/6=1/3となり前記従来技術の2/9と比べ、輝度が50%以上向上できる(特許文献2)。
その際、通常は4色目の開口部に透過率の高い、透明レジストでパターニングをしてRGBとの段差をなくし平坦性を確保したり、RGB画素上にOC(オーバーコート)を塗布し、平坦性を更に上げ、コントラストを向上させている。
図3は、White画素として、透明レジストでパターニングをしてRGBとの段差をなくした4色カラーフィルタの断面を示している。また、図2に示す様に4色カラーフィルタとしてOC層を持つ、RGBW画素プラスOC層の構造をとった場合、5回のレジスト塗布を行わなければならなくなり、R画素、G画素、B画素、W画素、OC層と5回のレジスト塗布が必要となるため、一般的なカラーフィルタ製法と比べて工程数が多くなってしまう。
よって、工程削減の方法として、OC工程もしくはWhite工程を削除することが考えられるが、外観上は問題ないが、削減することにより平坦性の観点で問題が生じてしまう。OC工程を削除した場合、図3に示す様に、ブラックマトリックスとRGBとのオーバーラップ部分に生じる角段差が大きく画素開口の外周部分に液晶配向不良がおき、コントラスト低下が生じてしまう。
一方、Whiteを削除した場合、RGBの角段差はOCによって平坦化されるが、図4に示す様にWhite部分でOCに窪みができてしまう。
特開2006−259135号公報 特開平11−295717号公報
R、G、B画素部に、White画素部を加えた4色カラーフィルタにおいて、工程を削減するために、White画素の形成工程を省き、OC層によりWhite画素部を代用する時の問題となる、White画素部に発生するOC窪みをなくし、OC窪み部分での液晶の配向不良を防ぎ、コントラスト低下のない4色カラーフィルタの製造方法を提供する。
上記の課題を解決するための手段として、請求項1に記載の発明は、R、G、B画素部に、White画素部を加えた4色カラーフィルタを形成時、前記White画素部の形成に、前記R、G、B画素部を形成する時に行われるレジストをパターニングする工程を行わず、R、G、B画素部上に設けられるOC層により、White画素部を形成する4色カラーフィルタの製造方法であって、
前記OC層を硬化するための、光照射時に、ハーフトーンマスクを使用し、R、G、B画素部上のOC層を硬化するための露光量に対して、White画素部となるOC層を硬化するため露光量を多くし、しかる後現像を行うことにより、現像後のWhite画素部となるOC層の膜減りの膜厚を少なくし、前記White画素部上のOC層と前記R、G、B画素部上のOC層との段差を0.5μm以下に押さえたことを特徴とする4色カラーフィルタの製造方法である。
また、請求項2に記載の発明は、前記OC層に、アクリル、エポキシ系の光硬化型樹脂を用いることを特徴とする請求項1に記載の4色カラーフィルタの製造方法である。
本発明により、4色カラーフィルタの製造において工程の削減を可能とし、工程を削減する時に問題となるWhite画素部分にて生じるOC窪みを平坦化し、オーバーコートとWhite画素部分の形成を一体化でき、画素開口の外周部分に液晶配向不良やコントラストの低下のない、工程削減による費用削減、収率の向上が可能な4色カラーフィルタの製造方法を提供できる。
本願発明の、ハーフトーンマスクを用いた4色カラーフィルタの製造方法を示した概念図である。 一般的なOC層を設けた4色カラーフィルタの構成を示した断面概念図である。 一般的なOC層を設けていない4色カラーフィルタの構成を示した断面概念図である。 White画素のパターニングする工程を行わず、さらにハーフトーンマスクも用いずに、OC層を設けた4色カラーフィルタの断面示した概念図である。 本願発明の実施例に用いたカラー画素とWhite画素の構成を示した概念図である。 ハーフトーンマスクを用いることで、膜厚段差を低減することが可能であることを示した膜厚段差−露光量特性曲線である。
以下本発明を実施するための形態を、図面を用いて詳細に説明する。カラーフィルタは電極が形成された基板上に、顔料が分散された感光性樹脂を塗布し、パターン露光後、現
像工程を経て、画素を形成する。ブラックマトリックス、R、G、B画素4を順次形成する。
4色カラーフィルタの場合はW画素4Wが形成されるが、本願発明では、W画素が形成される部分をそのままにして、OC層5を塗布しW画素4Wとするものである。図1はハーフトーンマスク2を用いた4色カラーフィルタの製造方法を示しており、ブラックマトリックス、R、G、B画素4を形成後、OC層5を塗布する。
OC層5には光硬化型樹脂が使用でき、アクリル、エポキシ系の光硬化型樹脂が使用できる。
即ち、オーバーコート(OC)とWhite(W)画素部分の形成を一体化する際に生じる、W画素部4Wとオーバーコート部の窪みを、ハーフトーンマスク2を用い、窪み7への光照射量を多くし、その結果として窪み7の段差が減少し、OC層5の平坦化が図れるためである。
本発明を、実施例に基づいて説明する。
図1に示す様に、2.5μm膜厚で、線幅70μm、W画素4Wとなる画素間100μmのカラー画素4上に、OC層として、光硬化型の光硬化型樹脂であるSR社製アクリルエポキシを用いて塗布を行って、乾燥後4.5μmの厚みの塗膜を得た。
続いて、カラー画素4上の光硬化型のオーバーコートレジストには、透過率25%(i線365nm)のハーフトーンマスクを透して紫外線露光を行った。W画素4Wとなる部分には、100%、カラー画素4上には25%の照射量である。
光源としては、トプコン社製大型プロキシミティ紫外線照射装置TME‐950Pを用い、露光量を120mjから160mjまで、10mjづつ増やして5段階の露光を行った。この時の露光量は、W画素部4Wに対してであり、カラー画素4上は、W画素部4Wの4分の一の露光量である。
しかる後、現像をおこなう。その際、硬化の進んだW画素部では現像による膜減りが少なくなる。
しかし、他のRGB画素部では、硬化量がW部より少ないため、現像による膜減りが生じ、結果として平坦となる。
W画素4W部のOC膜5の厚みと、カラー画素4およびカラー画素4上のOC層5のトータル膜厚の段差をAとする。段差Aは、カラー画素4およびカラー画素上のOC層4のトータル膜厚から、White画素部のOC膜厚を引いたものである。
White画素部のOC膜厚と、カラー画素およびカラー画素上のOC層のトータル膜厚の段差と露光量の関係を図6に示す。
露光量が120mjの時の膜厚差であるAは、0.44μmで有ったが、130mjで0.38μm、140mjで0.32μm、150mjで0.26μm、露光量を160mjにまで増やすことにより、現像後の膜厚差は0.24μmへと段差は低減した。
以上の様に、R、G、B画素部に、W画素4W部を加えた4色カラーフィルタにおいて
、前記W画素4W部の形成に、前記R、G、B画素4部を形成する時に行われるカラーレジストをパターニングする工程を行わず、画素4上に設けられるOC層5により、W画素4W部を形成する。
形成時に、OC層5を硬化するための、光照射時に、ハーフトーンマスク2を使用し、R、G、B画素4部上のOC層5の硬化のために露光量に対して、W画素4W部となるOC層5の硬化のため露光量を多くすることにより、W画素4W部となるOC層5の膜厚を上げ、窪み7の発生を抑えることができる。
これにより、工程を削減と、液晶配向不良やコントラストの低下のない、4色カラーフィルタの製造方法を提供できる。
1・・・基板
2・・・ハーフトーンマスク
3・・・露光量
4・・・画素
4R・・・R画素
4G・・・G画素
4B・・・B画素
4W・・・W画素
5・・・OC層
6・・・ブラックマトリックス
7・・・窪み
9・・・角段差
A・・・段差

Claims (2)

  1. R、G、B画素部に、White画素部を加えた4色カラーフィルタを形成時、前記White画素部の形成に、前記R、G、B画素部を形成する時に行われるレジストをパターニングする工程を行わず、R、G、B画素部上に設けられるOC層により、White画素部を形成する4色カラーフィルタの製造方法であって、
    前記OC層を硬化するための、光照射時に、ハーフトーンマスクを使用し、R、G、B画素部上のOC層を硬化するための露光量に対して、White画素部となるOC層を硬化するため露光量を多くし、しかる後現像を行うことにより、現像後のWhite画素部となるOC層の膜減りの膜厚を少なくし、前記White画素部上のOC層と前記R、G、B画素部上のOC層との段差を0.5μm以下に押さえたことを特徴とする4色カラーフィルタの製造方法。
  2. 前記OC層に、アクリル、エポキシ系の光硬化型樹脂を用いることを特徴とする請求項1に記載の4色カラーフィルタの製造方法。
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