JP2014170109A - 回折光学素子、光学系および光学機器 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】回折光学素子で、格子面および格子壁面を備えた回折格子と、前記格子壁面に配置され、使用波長帯域の光に対して透明な薄膜と、を有し、前記薄膜のd線での屈折率をnfd、前記回折格子の材料のd線での屈折率をngd、前記薄膜の膜厚をwf、前記d線の波長をλdとするとき、以下の式を満たすことを特徴とする。
0.05 < nfd−ngd < 0.5
0.01 <(nfd−ngd)*wf/λd < 0.05
【選択図】図1
Description
0.01 <(nfd−ngd)*wf/λd < 0.05
(光学系および光学機器)
図2は、本発明の実施形態に係る回折光学素子DOE1を用いた光学系および光学機器を示す。即ち、光学系として第2面に回折面が設けられた望遠タイプの撮影光学系が撮像装置(カメラなど)に適用されている。図2において、30は撮影レンズで、内部に絞り40とDOE1を有する。絞り40はDOE1よりも後側に配置されている。41は結像面であるフィルムまたはCCDやCMOS等の光電変換素子が配置されている。回折格子部10に入射する光束の入射角の分布の重心(図形の重心と同じ)は包絡面の回折格子の中心での面法線に対し、回折格子部10の中心よりに分布するように設定されている。
図1(a)は、本実施形態に係る回折光学素子(DOE)1の平面図と側面図である。DOE1は、可視波長帯域内の使用波長領域で特定の一つの次数(以下、「特定次数」または「設計次数」ともいう)の回折光の回折効率を高めるように構成されている。DOE1は透明な一対の基板2および3と、その間に配置された回折格子部10と、を有する。各基板2および3は、平板又はレンズ作用を奏する形状を有するが、本実施形態では、基板2の上下面と基板3の上下面はそれぞれ曲面を有する。回折格子部10は光軸Oを中心とした同心円状の回折格子形状を有し、レンズ作用を奏する。
回折格子11は、格子面11aと格子壁面11bから構成される同心円状のブレーズ構造を有し、回折格子12は、格子面12aと格子壁面12bから構成される同心円状のブレーズ構造を有する。ブレーズ構造にすることで、DOE1に入射した入射光は、回折格子部10で回折せずに透過する0次回折方向に対し、設計上の回折次数(図では+1次)方向に集中して回折する。
本実施形態のDOE1の使用波長領域は可視域であるため、可視領域全体で設計次数の回折光の回折効率が高くなるように、スカラー回折理論に従って、回折格子11及び12を構成する材料及び格子高さを選択している。即ち、複数の回折格子(回折格子11,12)を通過する光の最大光路長差(回折部の山と谷の光学光路長差の最大値)が使用波長域内で、その波長の整数倍付近となるように、各回折格子の材料及び格子高さが定められている。このように回折格子の材料、形状を適切に設定することによって、使用波長全域で高い回折効率が得られる。
νd1<25
νd2>35
0.940≦(n12×d1−n11×d2)/(m×λ)≦1.060
ただし、波長λにおける回折格子11および回折格子12を構成する材料の屈折率をそれぞれn11、n12、アッべ数をνd1、νd2および格子高さをd1、d2、設計次数をmとする。
回折格子11と12の境界面の少なくとも一部に、薄膜20が略均一な厚さで設けられる。本実施形態では、第1の回折格子の格子壁面と第2の回折格子の格子壁面の間に格子壁面に沿って設けられている。積層型の回折格子部を備える本実施形態では、薄膜を第1回折格子あるいは第2回折格子の格子壁面に沿って設けるが、第2の回折格子のみで回折格子部を構成する場合は、第2の回折格子の格子壁面に沿って設ける。
0.01 <(nfd−ngd)*wf/λd < 0.05 (2)
ただし、nfdは薄膜のd線での屈折率、ngdは回折格子(第1の回折格子がなく、第2の回折格子だけで構成される場合)の材料のd線での屈折率、wfは薄膜の膜厚、λdはd線の波長である。
0.05 < nfd−nd2 < 0.5 (4)
0.01 <(nfd−nd2)*wf/λd < 0.05 (5)
ここでは、回折格子11を構成する材料のd線に対する屈折率nd1よりもnd2の方が大きい例について説明している。逆にnd2<nd1の場合には、回折格子の格子形状の向きも逆になり、格子壁面による不要光の影響は同様となる。
なお、薄膜20の製造方法は特に限定されない。例えば、回折格子12を製造し、その後、薄膜20を選択的に形成する。具体的には、薄膜を構成する材料を真空蒸着等の物理蒸着手法やスピンコート法等で薄膜形状に成膜した後、リソグラフィー手法やナノインプリント法等によるによるパターニングしてエッチング手法等で選択的に形成する手法を用いることができる。また、マスクパターンを用いて選択的に蒸着手法等で形成する方法等を用いることができる。
本実施例では、回折格子11は、ITO微粒子を混合させたアクリル系紫外線硬化樹脂(nd=1.5631、νd=18.4、θgF=0.422、n550=1.5698)から構成されている。回折格子12は、ZrO2微粒子を混合させたアクリル系紫外線硬化樹脂(nd=1.6196、νd=43.6、θgF=0.569、n550=1.6227)から構成されている。
本実施例は、実施例1に対して、薄膜の膜厚wfを60nmとしたものである。図12(a)は、入射角度0度、格子ピッチ100μm、波長550nmにおけるRCWA計算を行った結果を示すグラフである。設計次数である+1次回折光の回折効率は99.36%であり、薄膜を設けていない回折格子の場合の+1次回折光の回折効率98.71%より大きく向上している。
本実施例は、実施例1に対して、薄膜の屈折率nfを1.7、膜厚wfを160nmとしたものである。図13(a)は、入射角度0度、格子ピッチ100μm、波長550nmにおけるRCWA計算を行った結果を示すグラフである。設計次数である+1次回折光の回折効率は99.49%であり、薄膜を設けていない回折格子の場合の+1次回折光の回折効率98.71%より大きく向上している。
本実施例は、実施例1に対して、薄膜の屈折率nfを2.0、膜厚wfを40nmとしたものである。図14(a)は、入射角度0度、格子ピッチ100μm、波長550nmにおけるRCWA計算を行った結果を示すグラフである。設計次数である+1次回折光の回折効率は99.28%であり、薄膜を設けていない回折格子の場合の+1次回折光の回折効率98.71%より大きく向上している。
本実施例は、実施例1に対して、薄膜の屈折率nfを1.8、消衰係数kfを0.05、膜厚wfを80nmとしたものである。図15(a)は、入射角度0度、格子ピッチ100μm、波長550nmにおけるRCWA計算を行った結果を示すグラフである。設計次数である+1次回折光の回折効率は99.39%であり、薄膜を設けていない回折格子の場合の+1次回折光の回折効率98.71%より大きく向上している。
本実施例は、実施例1乃至5と、回折格子を構成する材料が異なった場合である。回折格子11は、ITO微粒子を混合させたチオアクリル系紫外線硬化樹脂(nd=1.6925、νd=12.9、θgF=0.395、n550=1.7042)から構成されている。回折格子12は、K−VC89(K−VC89は株式会社住田光学ガラスの商品名、nd=1.8100、νd=41.0、θgF=0.567)から構成されている。薄膜の屈折率nfが2.2、幅wfが60nmである。
本発明は、上述した第1の実施形態に限定されるものでなく、例えば図18のように薄膜21を格子壁面のみではなく、連続して境界面全域に設けても良い。この場合、格子壁面部は上述した式の関係を満たし、かつ格子面部は反射防止機能を有していれば良い。境界面全域に薄膜を形成するため、容易かつ安価に回折光学素子を製造することができる。
また、本発明は、2つの回折格子が光軸方向において密着する第1の実施形態(実施例1乃至6)に限定されるものでなく、図19のように離間させ、境界面全域に亘って異なる材料が設けられていても良い。この場合、2つの回折格子は異なる格子高さに、2つの薄膜の膜厚を異なる膜厚としても良く、回折格子を構成する材料や薄膜材料の選択性が広げることができる。
以上、本発明の好ましい実施例について説明したが、本発明はこれらの実施例に限定されず、その要旨の範囲内で種々の変形及び変更が可能である。例えば、上述した薄膜は、単層で構成されるものに限らず、多層で構成されるものであっても良い。また、上述した実施例では、格子ピッチを100μmとしたが、80μm以上であれば良い。
Claims (14)
- 格子面および格子壁面を備えた回折格子と、
前記格子壁面に配置され、使用波長帯域の光に対して透明な薄膜と、
を有し、
前記薄膜のd線での屈折率をnfd、前記回折格子の材料のd線での屈折率をngd、前記薄膜の膜厚をwf、前記d線の波長をλdとするとき、以下の式を満たすことを特徴とする回折光学素子。
0.05 < nfd−ngd < 0.5
0.01 <(nfd−ngd)*wf/λd < 0.05 - 前記薄膜の前記d線での消衰係数をkfd、前記回折格子の材料の前記d線での消衰係数をkgdとするとき、以下の式を満たすことを特徴とする請求項1に記載の回折光学素子。
0 ≦ kfd−kgd <0.5 - 前記薄膜が前記格子壁面から前記格子面まで連続して設けられていることを特徴とする請求項1または2に記載の回折光学素子。
- 前記回折格子による回折の設計次数が、+1次または−1次であることを特徴とする請求項1乃至3のいずれか1項に記載の回折光学素子。
- 前記回折格子の格子ピッチが、80μm以上であることを特徴とする請求項1乃至4のいずれか1項に記載の回折光学素子。
- 第1の格子面および第1の格子壁面を備えた第1の回折格子と、
前記第1の回折格子の出射側にあって、第2の格子面および第2の格子壁面を備えた第2の回折格子と、
前記第1の格子壁面、前記第2の格子壁面の内、少なくとも前記第2の格子壁面に配置され、使用波長帯域の光に対して透明な薄膜と、
を有し、
前記第1の回折格子、前記第2の回折格子の材料のd線での屈折率を夫々nd1、nd2とし、
前記薄膜の前記d線での屈折率をnfd、前記薄膜の膜厚をwf、前記d線の波長をλdとするとき、
以下の式を満たすことを特徴とする回折光学素子。
nd1 < nd2
0.05 < nfd−nd2< 0.5、
0.01 <(nfd−nd2)*wf/λd < 0.05 - 前記第2の回折格子が前記第1の回折格子と密着接合し、かつ、前記第2の格子壁面が前記薄膜と接し、前記第1の回折格子および前記第2の回折格子が積層されることを特徴とする請求項6に記載の回折光学素子。
- 前記薄膜の前記d線での消衰係数をkfd、前記第2の回折格子の材料の前記d線での消衰係数をkgdとするとき、以下の式を満たすことを特徴とする請求項6または7に記載の回折光学素子。
0 ≦ kfd−kgd <0.5 - 前記薄膜が前記第2の格子壁面から前記第2の格子面まで連続して設けられていることを特徴とする請求項6乃至8のいずれか1項に記載の回折光学素子。
- 前記第1の回折格子、前記第2の回折格子が離間し、夫々の格子高さをd1、d2とし、前記第1の回折格子、前記第2の回折格子の材料のアッべ数を夫々νd1、νd2とするとき、以下の式を満たすことを特徴とする請求項6乃至9のいずれか1項に記載の回折光学素子。
νd1<25
νd2>35
0.940≦(n12×d1−n11×d2)/(m×λ)≦1.060
ただしλは可視波長帯域内の任意の波長である。 - 前記回折格子による回折の設計次数が、+1次または−1次であることを特徴とする請求項6乃至10のいずれか1項に記載の回折光学素子。
- 前記回折格子の格子ピッチが、80μm以上であることを特徴とする請求項6乃至11のいずれか1項に記載の回折光学素子。
- 請求項1乃至12のうちいずれか1項に記載の回折光学素子と、前記回折光学素子の出射側に配置された絞りとを有することを特徴とする光学系。
- 請求項13に記載の光学系を有することを特徴とする光学機器。
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