JP2014172002A - 容器洗浄装置 - Google Patents
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Abstract
【課題】洗浄工程の生産効率を低下させることなく、常に高い洗浄効果を発揮することができる容器洗浄装置を得る。
【解決手段】洗浄ノズル28、29、35、36は搬送中の容器Cに洗浄液を噴射する。洗浄ノズル45、46、47は洗浄液を噴射された後の容器Cにすすぎ水またはRO水を噴射する。第1〜第4の洗浄液タンク26、27、33、34は洗浄ノズル28、29、35、36に洗浄液を供給するとともに、容器Cに噴射されて落下した使用済み洗浄液を貯溜する。第1および第2のすすぎ水タンク51、52は容器Cに噴射されて落下した使用済みすすぎ水を貯溜する。二方電磁弁V15、V16、V25は、使用済み洗浄液と使用済みすすぎ水を受けて、第1および第3の洗浄液タンク26、33、第1のすすぎ水タンク51または第2および第4の洗浄液タンク27、34、第2のすすぎ水タンク52に選択的に排出する。
【選択図】図1
【解決手段】洗浄ノズル28、29、35、36は搬送中の容器Cに洗浄液を噴射する。洗浄ノズル45、46、47は洗浄液を噴射された後の容器Cにすすぎ水またはRO水を噴射する。第1〜第4の洗浄液タンク26、27、33、34は洗浄ノズル28、29、35、36に洗浄液を供給するとともに、容器Cに噴射されて落下した使用済み洗浄液を貯溜する。第1および第2のすすぎ水タンク51、52は容器Cに噴射されて落下した使用済みすすぎ水を貯溜する。二方電磁弁V15、V16、V25は、使用済み洗浄液と使用済みすすぎ水を受けて、第1および第3の洗浄液タンク26、33、第1のすすぎ水タンク51または第2および第4の洗浄液タンク27、34、第2のすすぎ水タンク52に選択的に排出する。
【選択図】図1
Description
本発明は、充填前の空の容器に対して、洗浄液タンクに貯溜される洗浄液を噴射して洗浄した後、すすぎ水を噴射してすすぎ洗浄する容器洗浄装置に関する。
従来、このような容器洗浄装置として、特許文献1に開示されたものが知られている。従来の容器洗浄装置では、容器に噴射された洗浄液はドレンパンを介して洗浄液タンクに回収され、ポンプによって吸い上げられて再び洗浄のために使用される。洗浄液タンクに回収される洗浄液は容器の付着物によって洗浄のたびに徐々に汚染されるが、容器は通常未使用であるため、汚染度は洗浄効果を低下させるほど高くはない。したがって洗浄液タンクに貯溜される洗浄液は通常、1日の操業を通じて繰り返し利用される。
ところが容器への充填物が例えば純水(RO水)のような清浄度や透明度の高い液体である場合、僅かな汚れであっても許容されないことがあるため、所定本数の洗浄が終わるたびに新しい洗浄液への交換を要求されることがある。このような場合、生産量(洗浄量)によっては、1日に何度も洗浄液タンクの洗浄液を新しいものに交換する作業が必要となり、その間、洗浄工程を停止することになり、生産効率すなわち作業効率が低下する。
本発明は、洗浄工程の生産効率を低下させることなく、常に高い洗浄効果を発揮することができる容器洗浄装置を提供することを目的としている。
本発明に係る容器洗浄装置は、搬送中の容器に洗浄液を噴射する洗浄部と、洗浄液を噴射された後の容器にすすぎ水を噴射するすすぎ部と、洗浄部に供給される洗浄液を貯溜するとともに、容器に噴射されて落下した使用済み洗浄液を貯溜する洗浄液タンクと、容器に噴射されて落下した使用済みすすぎ水を貯溜するすすぎ水タンクとをそれぞれ有する複数の貯溜タンク群と、使用済み洗浄液と使用済みすすぎ水を受けて、複数の貯溜タンク群のいずれか一の貯溜タンク群に選択的に排出する排出手段とを備えることを特徴としている。
好ましくは、排出手段が複数の貯溜タンク群のいずれか一の貯溜タンク群に使用済み洗浄液と使用済みすすぎ水を排出する間、複数の貯溜タンク群のいずれか他の貯溜タンク群における洗浄液タンクに、新しい洗浄液が補充されるとともに、複数の貯溜タンク群のいずれか一の貯溜タンク群におけるすすぎ水タンクに貯溜されているすすぎ水が供給される。この構成によれば、すすぎ水タンクから溢れ出ようとするすすぎ水を再利用することができ、ランニングコストの低減が図れる。
好ましくは排出手段は、洗浄部が複数の貯溜タンク群のいずれか一の貯溜タンク群における洗浄液タンクに貯溜された洗浄液を容器に噴射する間、使用済み洗浄液と使用済みすすぎ水をいずれか一の貯溜タンク群における洗浄液タンクとすすぎ水タンクに排出する。
本発明によれば、洗浄工程における生産効率を低下させることなく、常に高い洗浄効果を発揮することができる容器洗浄装置を得ることができる。
以下、本発明の一実施形態である容器洗浄装置を、図面を参照して説明する。図1は本発明の一実施形態である容器洗浄装置を備えた洗浄システムの概略的な構成を示している。
まず、容器Cに対する洗浄工程を実行するための構成を説明し、洗浄液、殺菌水等を供給するための構成については後述する。
供給コンベヤ11によって搬送されてきた容器Cはプッシャ12によって供給コンベヤ11から渡し板13側に押し出される。渡し板13を挟んで供給コンベヤ11の反対側には、従来公知の供給機構14が配設されており、容器Cは供給機構14によって、搬送チェーン15のホルダ16に受け渡される。
搬送チェーン15は無端状であって、スプロケット17、18等に掛け回され、駆動源(図示せず)によって図1の時計まわりに間欠的に回動される。搬送チェーン15の下方には、後述するように、搬送チェーン15の搬送方向に沿って複数のタンク21等が配置されている。ホルダ16は等間隔毎に搬送チェーン15に配置され、容器Cの口部を保持する。容器Cは水平状態で供給機構14からホルダ16に受け渡され、搬送チェーン15がスプロケット17によって水平方向に方向転換されることにより、口部を下方に向けた反転状態すなわち倒立状態に定められる。容器Cは反転状態で水平方向(図1の右方)に間欠的に搬送され、この間に洗浄処理を施される。
搬送チェーン15は一対設けられて平行に配置され、これらの間に架け渡された固定部材(図示せず)にホルダ16が取付けられる。容器Cはスプロケット17、18の上側にある搬送チェーン15のホルダ16に保持され、スプロケット17、18の下側にある搬送チェーン15のホルダ16には容器Cは保持されない。搬送チェーン15の間欠動作において上側の搬送チェーン15は、容器Cが後述する洗浄ノズル22、28等の先端に近接する位置において停止するが、この停止状態において、下側の搬送チェーン15のホルダ16は、上側の搬送チェーン15の隣接する2つのホルダ16の間に位置する。これにより、下側の搬送チェーン15よりも下方に位置する洗浄ノズル28等がこの搬送チェーン15のホルダ16に干渉することはない。
容器Cは予備洗浄区間P1において、常温の予備洗浄液により予備洗浄される。予備洗浄区間P1には予備洗浄液を貯溜するタンク21が設けられる。タンク21の上方には、内面噴射用洗浄ノズル22と外面噴射用洗浄ノズル23が設けられる。内面噴射用洗浄ノズル22は、上側の搬送チェーン15よりも下方に配置され、容器Cが搬送されて所定位置に停止すると、図示するように上昇して容器C内に挿入され、タンク21に貯溜された予備洗浄液を容器Cの内壁面に噴射する。外面噴射用洗浄ノズル23は上側の搬送チェーン15よりも上方に配置され、内面噴射用洗浄ノズル22と略同時に容器Cの外壁面に、タンク21に貯溜された予備洗浄液を噴射する。このようにして予備洗浄が終了すると、内面噴射用洗浄ノズル22は下降して容器Cから抜脱され、容器Cは搬送チェーン15によってプレ洗浄区間P2に搬送される。
プレ洗浄区間P2では、容器Cは温水に中性洗剤等の洗剤を混ぜた洗浄液によって洗浄される。搬送チェーン15の下方にはドレンパン24が設けられ、ドレンパン24は予備洗浄区間P1のタンク21と仕切り板25によって区画されている。ドレンパン24の下方には第1および第2の洗浄液タンク26、27が設けられ、これらのタンク26、27には洗浄液が貯溜されている。ドレンパン24の上方には内面噴射用洗浄ノズル(洗浄部)28と外面噴射用洗浄ノズル(洗浄部)29が設けられる。内面噴射用洗浄ノズル28は下側の搬送チェーン15の下方に配置され、容器Cが搬送されて所定位置に停止すると、上昇して容器C内に挿入され、洗浄液タンク26、27の一方に貯溜された洗浄液を容器Cの内壁面に噴射する。外面噴射用洗浄ノズル29は上側の搬送チェーン15よりも上方に配置され、内面噴射用洗浄ノズル28と略同時に容器Cの外壁面に洗浄液を噴射する。プレ洗浄が終了すると、内面噴射用洗浄ノズル28は下降して容器Cから抜脱され、容器Cはメイン洗浄区間P3に搬送される。
メイン洗浄区間P3では、プレ洗浄区間P2と同様に洗浄液によって洗浄される。すなわちメイン洗浄区間P3の構成はプレ洗浄区間P2と同じであり、搬送チェーン15の下方にはドレンパン31が設けられ、ドレンパン31はプレ洗浄区間P2のドレンパン24と仕切り板32によって区画されている。ドレンパン31の下方には第3および第4の洗浄液タンク33、34が設けられ、これらのタンク33、34には洗浄液が貯溜されている。ドレンパン31の上方には、プレ洗浄区間P2と同じ構成を有する内面噴射用洗浄ノズル(洗浄部)35と外面噴射用洗浄ノズル(洗浄部)36が設けられ、容器Cが搬送されて所定位置に停止すると、内面噴射用洗浄ノズル35と外面噴射用洗浄ノズル36によって、洗浄液タンク33、34の一方に貯溜された洗浄液が容器Cに噴射される。メイン洗浄が終了すると、内面噴射用洗浄ノズル35は下降して容器Cから抜脱され、容器Cは殺菌水洗浄区間P4に搬送される。
殺菌水洗浄区間P4では、容器Cは殺菌剤を混ぜた常温の殺菌水によって洗浄される。搬送チェーン15の下方にはドレンパン37が設けられ、ドレンパン37はメイン洗浄区間P3のドレンパン31と仕切り板38によって区画されている。ドレンパン37の下方には第1および第2の殺菌水タンク41、42が設けられ、殺菌水タンク41、42には殺菌水が貯溜されている。ドレンパン37の上方には内面噴射用洗浄ノズル43と外面噴射用洗浄ノズル44が設けられる。内面噴射用洗浄ノズル43は下側の搬送チェーン15の下方に配置され、容器Cが搬送されて所定位置に停止すると、上昇して容器C内に挿入され、図示しない殺菌水供給源から供給される殺菌水を容器Cの内壁面に噴射する。外面噴射用洗浄ノズル44は、内面噴射用洗浄ノズル43と略同時に容器Cの外壁面に、殺菌水タンク41、42の一方に貯溜された殺菌水を噴射する。
殺菌水による洗浄の後、容器Cは搬送チェーン15によってすすぎ区間P5に搬送される。すすぎ区間P5において容器Cは、すすぎ水およびRO水によって洗浄される。すすぎ水を噴射するための内面噴射用洗浄ノズル(すすぎ部)45は、RO水を噴射するための内面噴射用洗浄ノズル(すすぎ部)46よりも搬送方向の上流側に設けられ、これらの洗浄ノズル45、46は下側の搬送チェーン15の下方に配置される。上側の搬送チェーン15の上方であって、すすぎ水を噴射する内面噴射用洗浄ノズル45に対応した位置には、すすぎ水を噴射するための外面噴射用洗浄ノズル(すすぎ部)47が設けられる。
ドレンパン48はノズル45、46の下方に設けられ、このドレンパン48と殺菌水洗浄区間P4のドレンパン37との間は仕切り板49によって区画される。ドレンパン48の下方には第1および第2のすすぎ水タンク51、52が設けられる。容器Cが搬送されて所定位置に停止すると、内面噴射用洗浄ノズル45、46が上昇して容器C内に挿入され、すすぎ水またはRO水を容器Cの内壁面に噴射して容器内をすすぎ、また外面噴射用洗浄ノズル47はすすぎ水タンク45、46の一方に貯溜されたすすぎ水を容器Cの外面に噴射する。
すすぎ区間P5の後、容器Cは搬送チェーン15がスプロケット18によって水平方向に方向転換されることにより、水平状態に定められる。容器Cは水平状態で排出機構61に受け渡され、口部を上方に向けた正立状態に定められる。そして容器Cは排出コンベヤ62に移され、充填工程へ搬送される。充填工程では、製品水であるRO水が容器Cに充填される。
次に、各洗浄ノズル22等に洗浄液、殺菌水等を供給するための構成について説明する。
上述したように、充填工程において容器Cに充填される製品水はRO水であり、RO水は水道水を逆浸透膜ろ過により生成される。この生成工程では、副産物として塩素濃度の高い水である濃縮水が得られる。この濃縮水は殺菌効果があるので、予備洗浄区間P1では、供給ラインL1を介して濃縮水をタンク21に供給するとともに、供給ラインL2を介してすすぎ水(水道水)をタンク21に供給し、予備洗浄液として利用している。タンク21への給水量を制御するため、各供給ラインL1、L2の先端部にはバルブV1、V2が設けられる。またタンク21には、予備洗浄液を洗浄ノズル22、23に供給するための揚水ポンプ71が設けられる。なお供給ラインL2は途中で分岐し、タンク21以外に、すすぎ水タンク51、52にも延びている。
上述したように、充填工程において容器Cに充填される製品水はRO水であり、RO水は水道水を逆浸透膜ろ過により生成される。この生成工程では、副産物として塩素濃度の高い水である濃縮水が得られる。この濃縮水は殺菌効果があるので、予備洗浄区間P1では、供給ラインL1を介して濃縮水をタンク21に供給するとともに、供給ラインL2を介してすすぎ水(水道水)をタンク21に供給し、予備洗浄液として利用している。タンク21への給水量を制御するため、各供給ラインL1、L2の先端部にはバルブV1、V2が設けられる。またタンク21には、予備洗浄液を洗浄ノズル22、23に供給するための揚水ポンプ71が設けられる。なお供給ラインL2は途中で分岐し、タンク21以外に、すすぎ水タンク51、52にも延びている。
プレ洗浄区間P2とメイン洗浄区間P3において使用される洗浄液は温水と洗剤を混合して作成される。温水は供給ラインL3によって洗浄タンク26、27、33、34に供給される。このため供給ラインL3は4つに分岐して、各先端が洗浄タンク26、27、33、34に臨んでおり、各先端の近傍には、温水の供給量を制御するためのバルブV3、V4、V5、V6が設けられる。一方、洗剤は図示しない洗剤供給源から洗浄タンク26、27、33、34に供給される。
洗浄タンク26、27、33、34には、洗浄液を洗浄ノズル28、29、35、36に供給するための揚水ポンプ72、73、74、75が設けられる。これらの揚水ポンプによって吐出される洗浄液は揚水ラインY1、Y2を介して洗浄ノズル28、29、35、36に圧送される。揚水ラインY1は2つに分岐して第1および第2の洗浄タンク26、27に接続され、揚水ラインY2は2つに分岐して第3および第4の洗浄タンク33、34に接続されている。各揚水ラインY1、Y2には、揚水ポンプ72、73、74、75の吐出量を制御するためのバルブV7、V8、V9、V10が設けられる。
また洗浄タンク26、27、33、34において、所定の高さ位置には樋81、82、83、84が設けられ、底部には排液口85、86、87、88が設けられる。これらの樋および排液口から流出する洗浄液は排液ラインH1、H2、H3、H4を介して外部に排出される。各排液ラインには、排液口85、86、87、88を開閉するためのバルブV11、V12、V13、V14が設けられる。
プレ洗浄区間P2のドレンパン24の最下部には、容器Cに噴射されて落下した使用済み洗浄液を受けて、第1および第2の洗浄液タンク26、27の一方に選択的に排出するための二方電磁弁(排出手段)V15が設けられる。同様に、メイン洗浄区間P3のドレンパン31の最下部にも、使用済み洗浄液を受けて第3および第4の洗浄液タンク33、34の一方に選択的に排出するための二方電磁弁(排出手段)V16が設けられる。
殺菌水洗浄区間P4において使用される殺菌水は、常温の次亜塩素酸水溶液である。殺菌水は供給ラインL4によって内面噴射用洗浄ノズル43に圧送される。すなわち内面噴射用洗浄ノズル43には常に新しい殺菌水が供給される。これに対して外面噴射用洗浄ノズル44に供給される殺菌水は、第1または第2の殺菌水タンク41、42に貯溜された殺菌水である。第1および第2の殺菌水タンク41、42に貯溜される殺菌水は、容器Cの洗浄に使用された殺菌水と、供給ラインL5を介して補充される新しい殺菌水とを混合したものである。すなわちドレンパン37の最下部には、容器Cに噴射されて落下した使用済み殺菌水を受けて、第1または第2の殺菌水タンク41、42に排出するための二方電磁弁V17が設けられる。また供給ラインL5は2つに分岐して、各先端が各殺菌水タンク41、42に臨んでおり、各先端の近傍には、殺菌水の供給量を制御するためのバルブV18、V19が設けられる。
殺菌水タンク41、42には、殺菌水を外面噴射用洗浄ノズル44に供給するための揚水ポンプ76、77が設けられる。これらの揚水ポンプ76、77によって吐出される殺菌水は揚水ラインY3を介して洗浄ノズル44に圧送される。揚水ラインY3は2つに分岐して第1および第2の殺菌水タンク41、42に接続されている。揚水ラインY3には、揚水ポンプ76、77の吐出量を制御するためのバルブV21、V22が設けられる。
また殺菌水タンク41、42において、所定の高さ位置には樋89、90が設けられ、底部には排液口91、92が設けられる。これらの樋89、90および排液口91、92から流出する殺菌水は排液ラインH5、H6を介して外部に排出される。各排液ラインH5、H6には、排液口91、92を開閉するためのバルブV23、V24が設けられる。
すすぎ区間P5において、内面噴射用洗浄ノズル45から噴射されるすすぎ水は水道水であり、供給ラインL6を介して内面噴射用洗浄ノズル45に圧送される。すなわち内面用噴射ノズル45には常に新しいすすぎ水が供給される。一方、内面噴射用洗浄ノズル46から噴射されるRO水は、充填工程において容器Cに充填されるものと同じであり、供給ラインL7を介して内面噴射用洗浄ノズル46に圧送される。外面用噴射洗浄ノズル47に供給されるすすぎ水は、第1または第2のすすぎ水タンク51、52に貯溜されたすすぎ水である。
第1および第2のすすぎ水タンク51、52に貯溜されるすすぎ水は、容器Cの洗浄に使用されたすすぎ水およびRO水と、供給ラインL2を介して補充される新しいすすぎ水とを混合したものである。ドレンパン48の最下部には、容器Cに噴射されて落下した使用済みすすぎ水およびRO水を受けて、第1または第2のすすぎ水タンク51、52に排出するための二方電磁弁(排出手段)V25が設けられる。また供給ラインL2は3つに分岐し、そのうち2つの分岐ラインの先端はすすぎ水タンク51、52に臨んでいるが、他の1つの分岐ラインは予備洗浄区間P1のタンク21に臨んでいる。すすぎ水タンク51、52に臨む分岐ラインの各先端の近傍には、すすぎ水の供給量を制御するためのバルブV26、V27が設けられる。
すすぎ水タンク51、52には、すすぎ水を外面噴射用洗浄ノズル47に供給するための揚水ポンプ78、79が設けられる。これらの揚水ポンプ78、79によって吐出されるすすぎ水は揚水ラインY4を介して洗浄ノズル47に圧送される。揚水ラインY4は2つに分岐して第1および第2のすすぎ水タンク51、52に接続されている。揚水ラインY4には、揚水ポンプ78、79の吐出量を制御するためのバルブV28、V29が設けられる。
またすすぎ水タンク51、52において、所定の高さ位置には樋93、94が設けられ、底部には排液口95、96が設けられる。これらの樋93、94および排液口95、96から流出する殺菌水は排液ラインH7、H8を介して外部に排出される。各排液ラインH7、H8には、排液口95、96を開閉するためのバルブV31、V32が設けられる。
すすぎ水タンク51、52の底部には、排液口95、96の他に吐出口97、98が設けられる。第1のすすぎ水タンク51に設けられた吐出口97には供給ラインL8が接続されており、この供給ラインL8は第2および第4の洗浄液タンク27、34内まで延びている。同様に、第2のすすぎ水タンク52に設けられた吐出口98には供給ラインL9が接続されており、この供給ラインL9は第1および第3の洗浄液タンク26、33内まで延びている。供給ラインL8の出口近傍には、この供給ラインL8を開閉するためのバルブV33、V34が設けられ、供給ラインL9の出口近傍には、この供給ラインL9を開閉するためのバルブV35、V35が設けられる。
第1〜第4の洗浄液タンク26、27、33、34の樋81〜84の高さ位置、すなわちこれらのタンク26、27、33、34に貯溜される洗浄液等の液面が最高となる位置は相互に同じである。また、第1および第2のすすぎ水タンク51、52の樋93、94の高さ位置、すなわちすすぎ水タンク51、52に貯溜されるすすぎ水の液面が最高となる位置も相互に同じであるが、樋93、94の高さ位置は洗浄液タンク26等の樋81〜84よりも高く定められている。また本実施形態の洗浄システムの通常の動作では、各タンクは満杯状態にあって液面は樋81〜84、93、94の上側縁部にある。したがって、すすぎ水タンク51、52に貯溜される使用済みすすぎ水は、すすぎ水タンク51、52の水圧によって、吐出口97、98および供給ラインL8、L9を介して洗浄液タンク26、27、33、34に供給可能である。
なお、第1および第2の殺菌水タンク41、42の樋89、90の高さ位置は第1〜第4の洗浄液タンク26、27、33、34の樋81〜84の高さ位置と同じである。
次に、本実施形態における洗浄液タンク26等の稼働の切替え動作について説明する。予備洗浄区間P1では予備洗浄液はタンク21のみに貯溜されており、稼働されるタンクの切替え動作はない。これに対し、プレ洗浄区間P2、メイン洗浄区間P3、殺菌水洗浄区間P4、およびすすぎ区間P5では、それぞれ複数のタンクが設けられており、所定のタイミングで切替えられる。本実施形態において洗浄タンク26等は、第1および第3の洗浄液タンク26、33、第1の殺菌水タンク41、第1のすすぎ水タンク51から構成される第1の貯溜タンク群と、第2および第4の洗浄液タンク27、34、第2の殺菌水タンク42、第2のすすぎ水タンク52のグループから構成される第2の貯溜タンク群とにグループ分けされている。
洗浄システムを始動する前、全てのタンクは空である。まず、予備洗浄区間P1のタンク21と第1の貯溜タンク群の洗浄液タンク26等に対して準備が行われる。タンク21に対し、バルブV1が開放されて供給ラインL1から濃縮水が供給され、またバルブV2が開放されて供給ラインL2からすすぎ水(水道水)が供給される。第1の洗浄液タンク26に対し、バルブV3が開放されて供給ラインL3から温水が供給され、また図示しない洗剤供給源から洗剤が供給される。同様に、第3の洗浄液タンク33に対し、バルブV5が開放されて供給ラインL3から温水が供給されるとともに、洗剤供給源から洗剤が供給される。第1の殺菌水タンク41に対し、バルブV18が開放されて供給ラインL5から殺菌水が供給される。第1のすすぎ水タンク51に対し、バルブV26が開放されて供給ラインL2から水道水が供給される。各タンク21、26、33、41、51における給液は、洗浄液等が所定量に達した状態で図示しないフロートスイッチが動作することによって、バルブV1等が閉鎖し、終了する。
第1の貯溜タンク群の各タンクに対する給液が終了すると、供給コンベヤ11、供給機構14、駆動チェーン15等が起動され、容器Cの洗浄工程が開始する。すなわち、バルブV7、V9、V21、V28が開放されるとともに揚水ポンプ71、72、74、76、78が起動され、供給ラインL4、L6、L7からの殺菌水、すすぎ水、RO水の供給が開始され、予備洗浄区間P1、プレ洗浄区間P2、メイン洗浄区間P3、殺菌水洗浄区間P4、すすぎ区間P5における洗浄が開始される。
第1の貯溜タンク群が駆動しているとき、二方電磁弁V15、V16、V17、V25はドレンパン24、31、37、48に落下した洗浄液等を第1の貯溜タンク群の各タンク26、33、41、51に排出するように定められる。
各タンク26、33、41、51内の液面は常に所定位置に維持されるように制御されている。すなわち液面が所定位置を越えると、フロートスイッチが作用して供給ラインL3、L5、L2のバルブV3、V5、V18、V26が閉鎖されるとともに、排液ラインH1、H3、H5、H7のバルブV11、V13、V23、V31が開放される。これに対して液面が所定位置より下がると、フロートスイッチが作用してバルブV3、V5、V18、V26が開放されるとともにバルブV11、V13、V23、V31が閉鎖される。このような液面位置の制御にもかかわらず、液面が樋81、83、89の上縁を越えた場合は、洗浄液等は排液ラインH1、H3、H5、H7を介して外部に排出される。
第1の貯溜タンク群の各タンクに対する給液が終了して洗浄工程が開始されたとき、第2の貯溜タンク群に対する準備が開始される。この作業は基本的に、第1の貯溜タンク群の場合と同じであるが、第2および第4の洗浄液タンク27、34に対しては、洗剤の供給以外に、供給ラインL3による温水の供給に加えて、供給ラインL8を介して、第1のすすぎ水タンク51から使用済みすすぎ水が供給される。この温水の量と使用済みすすぎ水の量の比率は2:1である。すなわち洗浄液タンク27、34において用いられる水のうち約3分の1は使用済みすすぎ水である。
第2の貯溜タンク群の各タンク27、34、42、52に対する給液が完了しており、かつ第1の貯溜タンク群を用いた所定本数の容器Cの洗浄が行われたとき、第1の貯溜タンク群から第2の貯溜タンク群への切替えが行われる。すなわち第1の貯溜タンク群の各揚水ポンプ72、74、76、78が停止するとともに、第2の貯溜タンク群の各揚水ポンプ73、75、77、79が起動される。また二方電磁弁V15、V16、V17、V25がドレンパン24、31、37、48に落下した洗浄液等を第2の貯溜タンク群の各タンク27、34、42、52に排出するように切替えられる。そして、第2の貯溜タンク群へと切替えた後は、第1の貯溜タンク群の各タンク26、33、41、51内の洗浄液、殺菌水、すすぎ水を排液ラインH1、H3、H5、H7を介して排出して、各タンクを空にする。
第2の貯溜タンク群における液面位置の制御は第1の貯溜タンク群と同じであり、液面は常に所定位置に維持されるように制御される。また第2の貯溜タンク群を用いて洗浄工程が実行されている間、第2のすすぎ水タンク52に貯溜された使用済みすすぎ水は供給ラインL9を介して、排液作業が終了して空となった第1および第3の洗浄タンク26、33に供給される。
第2の貯溜タンク群を用いた洗浄工程において所定本数の容器Cの洗浄が終了すると、上述した動作と同様にして、第1の貯溜タンク群に切替えられ、以下同様な切替え動作が繰り返される。このように第1および第2の貯溜タンク群の間の切替え作業は、各揚水ポンプと各バルブの駆動を切替えるだけであり、容器Cを搬送する動作は継続しており、停止することはない。また切替え作業は洗浄した容器Cの本数に応じて行われるが、この本数は必要に応じて変更可能である。
以上のように本実施形態によれば、容器Cの洗浄工程を中断することなく、洗浄液を貯溜するタンクを切替えることができ、常に高い洗浄効果を発揮することができる。また洗浄液タンク26、27、33、34において、供給ラインL3から供給される温水に加えて、すすぎ水タンク51、52に貯溜された使用済みすすぎ水が供給されて再利用されるので、洗浄工程において使用される水量を削減することができる。
なお本実施形態では、予備洗浄区間P1には単一のタンク21が設けられているが、他の区間と同様に、複数のタンクを設けて、切替えるようにしてもよい。この場合、洗浄液タンク26等のように、すすぎ水タンク51、52に貯溜された使用済みすすぎ水を供給してもよい。
また洗浄タンク26等の各タンクはドレンパン24等の直下に配置される必要はなく、二方電磁弁V15、V16、V17、V25に連結されるパイプの吐出口を各タンクに連結すればよく、各タンクの配置は自由に決定できる。
殺菌水洗浄区間P4では容器Cの内面洗浄のために、供給ラインL4を介して常に新しい殺菌水が供給される。したがって殺菌水タンク41、42から溢れ出る殺菌水の量は、すすぎ水タンク51、52と同様に、他のタンク26、27、33、34よりも多い。そこで第1および第2の殺菌水タンク41、42を、供給ラインL8、L9のような供給ラインによって接続し、使用中の殺菌水タンクから溢れ出た殺菌水を、準備中の殺菌水タンクへ還流させることも可能である。
また、第1の洗浄液タンク26、33と第2のすすぎ水タンク52により第1の貯溜タンク群を構成するとともに、第2の洗浄液タンク27、34と第1のすすぎ水タンク51により第2の貯溜タンク群を構成する等、洗浄液タンク26、27、33、34とすすぎ水タンク51、52を適宜に組み合わせて貯溜タンク群を構成してもよい。
さらに、貯溜タンク群の数は2つに限定されず、例えば3つの貯溜タンク群を設けることも可能である。この場合、いずれか一の貯溜タンク群が容器の洗浄のために使用される間、他の貯溜タンク群における洗浄液タンクに、新しい洗浄液が補充されるとともに、前者の貯溜タンク群におけるすすぎ水タンクに貯溜されているすすぎ水が供給される。
26、27、33、34 洗浄液タンク
28、29、35、36 洗浄ノズル(洗浄部)
45、46、47 洗浄ノズル(すすぎ部)
51、52 すすぎ水タンク
C 容器
V15、V16、V25 二方電磁弁(排出手段)
28、29、35、36 洗浄ノズル(洗浄部)
45、46、47 洗浄ノズル(すすぎ部)
51、52 すすぎ水タンク
C 容器
V15、V16、V25 二方電磁弁(排出手段)
Claims (3)
- 搬送中の容器に洗浄液を噴射する洗浄部と、
前記洗浄液を噴射された後の前記容器にすすぎ水を噴射するすすぎ部と、
前記洗浄部に供給される洗浄液を貯溜するとともに、前記容器に噴射されて落下した使用済み洗浄液を貯溜する洗浄液タンクと、前記容器に噴射されて落下した使用済みすすぎ水を貯溜するすすぎ水タンクとをそれぞれ有する複数の貯溜タンク群と、
前記使用済み洗浄液と前記使用済みすすぎ水を受けて、前記複数の貯溜タンク群のいずれか一の貯溜タンク群に選択的に排出する排出手段と
を備えることを特徴とする容器洗浄装置。 - 前記排出手段が複数の貯溜タンク群のいずれか一の貯溜タンク群に前記使用済み洗浄液と前記使用済みすすぎ水を排出する間、前記複数の貯溜タンク群のいずれか他の貯溜タンク群における洗浄液タンクに、新しい洗浄液が補充されるとともに、前記複数の貯溜タンク群のいずれか一の貯溜タンク群におけるすすぎ水タンクに貯溜されているすすぎ水が供給されることを特徴とする請求項1に記載の容器洗浄装置。
- 前記排出手段は、前記洗浄部が複数の貯溜タンク群のいずれか一の貯溜タンク群における洗浄液タンクに貯溜された洗浄液を前記容器に噴射する間、前記使用済み洗浄液と前記使用済みすすぎ水を前記いずれか一の貯溜タンク群における洗浄液タンクとすすぎ水タンクに排出することを特徴とする請求項1または2に記載の容器洗浄装置。
Priority Applications (1)
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| JP2013048361A JP2014172002A (ja) | 2013-03-11 | 2013-03-11 | 容器洗浄装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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| JP2013048361A JP2014172002A (ja) | 2013-03-11 | 2013-03-11 | 容器洗浄装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2014172002A true JP2014172002A (ja) | 2014-09-22 |
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Family Applications (1)
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| JP2013048361A Pending JP2014172002A (ja) | 2013-03-11 | 2013-03-11 | 容器洗浄装置 |
Country Status (1)
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Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2020124658A (ja) * | 2019-02-01 | 2020-08-20 | グンゼ株式会社 | 洗浄装置 |
| CN113613805A (zh) * | 2019-02-08 | 2021-11-05 | 莫瑞斯联合公司 | 用于自动清洗浸泡罐的方法和系统 |
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-
2013
- 2013-03-11 JP JP2013048361A patent/JP2014172002A/ja active Pending
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