JP2014174207A - 反射防止膜およびそれを有する光学素子並びに光学系 - Google Patents

Abstract

【課題】種々の屈折率の基板に対して、高性能な反射防止性能を有し、ゴーストやフレアの発生を低減できる反射防止膜およびそれを有する光学素子並びに光学系を提供する。
【解決手段】屈折率がｎｓの基板の上に８層を積層した反射防止膜であって、基準波長λを５８７．６ｎｍ、１．４０≦ｎs≦２．１５とし、第１層の屈折率をｎ１、光学膜厚をｄ１、第２層の屈折率をｎ２、光学膜厚をｄ２、第３層の屈折率をｎ３、光学膜厚をｄ３、第４層の屈折率をｎ４、光学膜厚をｄ４、第５層の屈折率をｎ５、光学膜厚をｄ５、第６層の屈折率をｎ６、光学膜厚をｄ６、第７層の屈折率をｎ７、光学膜厚をｄ７、第８層の屈折率をｎ８、光学膜厚をｄ８とするとき、夫々を所定範囲内の条件を満たし、かつ、ｎ１、ｎ３、ｎ５の平均屈折率をｎＭ、ｎ２、ｎ４、ｎ６の平均屈折率をｎＨとするとき、ｎＨ−ｎＭ≦０．６７とする。
【選択図】図１

Description

本発明は、反射防止膜、およびそれを有する光学素子並びに光学系に関するものである。

従来、ビデオカメラ、写真カメラ、テレビカメラ等の撮影レンズに代表される結像光学系に用いられる光学部材には、両面或いは片面に透過光量を上げると共に、不要光によるゴースト、フレアを回避するための反射防止膜が施されている。これらの反射防止膜の製法には、蒸着法やスパッタ法の真空成膜法や、ディップコート、スピンコート等の湿式成膜法が用いられている。近年、ビデオカメラやテレビカメラはＨＤなどの高精細化に伴い、また写真カメラは高画質化に伴い、高性能な反射防止膜が必要とされている。

一般的に、反射防止膜は、より多くの層を重ねる程、反射防止効果が高い膜を作ることが可能となる。そして、高性能な反射防止機能を得るためには、反射防止膜の最表層（空気と接する最上層）として、屈折率の低いことが必要である。この屈折率の低い層を形成するための材料として、ＳｉＯ_２（シリカ）やＭｇＦ_２（フッ化マグネシウム）等の無機系材料、シリコン樹脂や非晶質のフッ素樹脂などの有機材料を用いることが知られている。

特許文献１には、８層構造による最表層（最上層）にフッ化マグネシウムを形成した反射防止膜が提案されている。そして、反射率を低く抑えるために、シリカやフッ化マグネシウムの層内に空隙を形成することが知られる。

また、特許文献２には、基板側より第１層乃至第７層（真空蒸着法による物理成膜）を形成し、その上層に最上層（湿式法により形成され、屈折率を１．２３程度まで下げたナノ多孔質膜）を形成した８層構造の反射防止膜が提案されている。

特開２０１１−２２１４６５号公報 特開２０１０−２５００６９号公報

しかしながら、上述の特許文献１に開示された従来技術では、屈折率が異なるすべての層で光学膜厚がすべて１２５ｎｍとされるが、屈折率を安定して制御することが困難であることから、光学膜厚のバラツキが出易く、反射防止性能の劣化につながり易い。

また、上述の特許文献２に開示された従来技術では、反射防止膜が基板側からＴａ_２Ｏ_５，ＭｇＦ_２の交互層で構成され、最表層（最上層）がＭｇＦ_２、その下層がＴａ_２Ｏ_５となる。しかしながら、ＭｇＦ_２から成る最表層（最上層）を膜厚ムラ制御のし易いスパッタ法で成膜することは困難なことから、材料構成として好ましくないものとなる。また、ＭｇＦ_２から成る最表層（最上層）を湿式法で形成する場合には、ＭｇＦ_２の最表層（最上層）とＴａ_２Ｏ_５の下層との濡れ性が良くなく、膜の外観に支障が生じてしまう。

本発明の目的は、種々の屈折率の基板に対して、高性能な反射防止性能を有し、ゴーストやフレアの発生を低減できる反射防止膜およびそれを有する光学素子並びに光学系を提供することにある。

上記目的を達成するために、本発明に係る反射防止膜は、屈折率がｎｓの基板の上に設けられ、基板側より順に第１層、第２層、第３層、第４層、第５層、第６層、第７層、第８層を積層した反射防止膜であって、
基準波長λを５８７．６ｎｍ、１．４０≦ｎs≦２．１５とし、
前記第１層の屈折率をｎ１、光学膜厚をｄ１（ｎｍ）、
前記第２層の屈折率をｎ２、光学膜厚をｄ２（ｎｍ）、
前記第３層の屈折率をｎ３、光学膜厚をｄ３（ｎｍ）、
前記第４層の屈折率をｎ４、光学膜厚をｄ４（ｎｍ）、
前記第５層の屈折率をｎ５、光学膜厚をｄ５（ｎｍ）、
前記第６層の屈折率をｎ６、光学膜厚をｄ６（ｎｍ）、
前記第７層の屈折率をｎ７、光学膜厚をｄ７（ｎｍ）
前記第８層の屈折率をｎ８、光学膜厚をｄ８（ｎｍ）とするとき、
１．４０≦ｎ１≦１．８５、 ５ｎｍ≦ｄ１≦１５０ｎｍ、
１．７５≦ｎ２≦２．３５、 ２０ｎｍ≦ｄ２≦１００ｎｍ、
１．４０≦ｎ３≦１．８５、 １０ｎｍ≦ｄ３≦９０ｎｍ、
１．７５≦ｎ４≦２．３５、 １００ｎｍ≦ｄ４≦３００ｎｍ、
１．４０≦ｎ５≦１．８５、 １０ｎｍ≦ｄ５≦９０ｎｍ、
１．７５≦ｎ６≦２．３５、 ２０ｎｍ≦ｄ６≦１００ｎｍ、
１．４０≦ｎ７≦１．７０、 ５ｎｍ≦ｄ７≦５０ｎｍ、
１．０５≦ｎ８≦１．３２、 ９０ｎｍ≦ｄ８≦１６０ｎｍ
を満たし、かつ、ｎ１、ｎ３、ｎ５の平均屈折率をｎＭ、ｎ２、ｎ４、ｎ６の平均屈折率をｎＨとするとき、ｎＨ−ｎＭ≦０．６７であることを特徴とする。

本発明によれば、種々の屈折率を持つ基板に対して、高性能な反射防止性能を有し、ゴーストやフレアの発生を低減できる反射防止膜およびそれを有する光学素子並びに光学系を提供することができる。

本発明の実施形態に係る反射防止膜の略図である。 実施例１の反射防止膜を用いた光学素子の反射率特性を示す図である。 実施例２の反射防止膜を用いた光学素子の反射率特性を示す図である。 実施例３の反射防止膜を用いた光学素子の反射率特性を示す図である。 実施例４の反射防止膜を用いた光学素子の反射率特性を示す図である。 実施例５の反射防止膜を用いた光学素子の反射率特性を示す図である。 実施例６の反射防止膜を用いた光学素子の反射率特性を示す図である。 実施例７の反射防止膜を用いた光学素子の反射率特性を示す図である。 本発明の実施形態に係る反射防止膜を付与した光学素子としてのレンズ、およびそれを有する光学系を示す概略図である。

以下に、本発明の好ましい実施の形態を、添付の図面に基づいて詳細に説明する。

（光学素子および光学系）
図９に、本発明の実施形態に係る反射防止膜を付与した光学素子としてのレンズ、およびそれを有する光学系としての撮像光学系（結像光学系）を示す。この撮像光学系は、デジタルカメラ、ビデオカメラおよび交換レンズなどの光学機器に用いられる。図９において、１０３は撮像面であり、ＣＣＤセンサ又はＣＭＯＳセンサ等の固体撮像素子（光電変換素子）が配置される。１０２は絞り、Ｇ１０１からＧ１１１は光学素子としてのレンズである。これらのレンズのうち、入射面及び射出面の少なくとも一方に、後述する反射防止膜が付与されている。図９に示す撮像光学系の数値実施例を表１に示す。

ここで、ｒは面の曲率半径、ｄは面間隔、ｎは屈折率、ｖはアッベ数を示す。

（反射防止膜）
図１は、本発明の実施形態に係る反射防止膜の略図を示す。反射防止１０１は８層膜からなり、基板２０に対して、基板側より順に第１層（層１１）、第２層（層１２）、第３層（層１３）、第４層（層１４）、第５層（層１５）、第６層（層１６）、第７層（層１７）、第８層（層１８）の薄膜を積層したものである。

本実施形態に係る反射防止膜は、基準波長λ＝５８７.６ｎｍ（ｄ線）で、広範囲な基板（屈折率が１．４０乃至２．１５）に対し、０度入射（垂直入射）で４００ｎｍから７００ｎｍの可視波長域で最大反射率が０．２％以下の高性能な反射防止性能を有する。より好ましくは０．１５％以下の高性能な反射防止性能を有する。そして、本実施形態に係る反射防止膜により、ゴーストやフレアの発生を低減できる。

１）屈折率
基準波長λを５８７．６ｎｍ、基板２０の屈折率をｎｓ（１．４０≦ｎs≦２．１５）として、鋭意検討した結果、本実施形態に係る反射防止膜では、各層が以下の屈折率を備える。即ち、第１層の屈折率ｎ１は１．４０≦ｎ１≦１．８５、第２層の屈折率ｎ２は１．７５≦ｎ２≦２．３５、第３層の屈折率ｎ３は１．４０≦ｎ３≦１．８５である。また、第４層の屈折率ｎ４は１．７５≦ｎ４≦２．３５、第５層の屈折率ｎ５は１．４０≦ｎ５≦１．８５、第６層の屈折率ｎ６は１．７５≦ｎ６≦２．３５、第７層の屈折率ｎ７は１．４０≦ｎ７≦１．７０である。また、第８層の屈折率ｎ８は１．０５≦ｎ８≦１．３２である。

第１層（層１１）は基板２０と接しており、基板２０の屈折率の影響を受け易く、層１１の屈折率ｎ１と、層１２の屈折率ｎ２を、ｎ１＜ｎ２となる様に設定することが好ましい。また、ｎ１，ｎ３，ｎ５の平均屈折率をｎＭとし、ｎ２，ｎ４，ｎ６の平均屈折率をｎＨとしたとき、ｎＨ-ｎＭ≦０．６７になることが好ましい。
これにより、特性の敏感度を低く抑えることができる。

さらに、各層の屈折率は、以下の条件式（１）を満たすことが好ましい。

ｎ２＞ｎ３＜ｎ４＞ｎ５＜ｎ６＞ｎ７＞ｎ８・・・（１）
これは、結果的に以下の条件式（１’）として表される。

ｎ１＜ｎ２＞ｎ３＜ｎ４＞ｎ５＜ｎ６＞ｎ７＞ｎ８・・・（１’）
即ち、第２層の屈折率は、第１層の屈折率と第３層の屈折率よりも高く、第３層の屈折率は、第２層の屈折率と第４層の屈折率よりも低く、また、第５層の屈折率は、第４層の屈折率と第６層の屈折率よりも低い。また、第７層の屈折率は、第６層の屈折率より低い一方、第８層の屈折率より高い関係で設定することが好ましい。また、最も空気１１５側の最上層である第８層１８は、空気の屈折率との差を小さくして反射率を低くするため、屈折率を小さく設定することが好ましい（ｎ８＜ｎ１）。

２）光学膜厚
鋭意検討した結果、本実施形態に係る反射防止膜では、各層が以下の光学膜圧を備える。即ち、第１層の光学膜厚ｄ１は５ｎｍ≦ｄ１≦１５０ｎｍ、第２層の光学膜厚ｄ２は２０ｎｍ≦ｄ２≦１００ｎｍ、第３層の光学膜厚ｄ３は１０ｎｍ≦ｄ３≦９０ｎｍである。また、第４層の光学膜厚ｄ４は１００ｎｍ≦ｄ４≦３００ｎｍ、第５層の光学膜厚ｄ５は１０ｎｍ≦ｄ５≦９０ｎｍ、第６層の光学膜厚ｄ６は２０ｎｍ≦ｄ６≦１００ｎｍ、第７層の光学膜厚ｄ７は５ｎｍ≦ｄ７≦５０ｎｍである。また、第８層の光学膜厚ｄ８は９０ｎｍ≦ｄ８≦１６０ｎｍである。

第１層から第８層までの光学膜厚は、上記設定した範囲を外れると、波長帯域が狭くなる、リップルの高さが大きくなる等、反射防止性能の劣化や角度特性の劣化につながるため、上記設定した範囲であることが望ましい。

３）材料および製法
第８層以外の７層である層１１乃至層１７は、無機系膜（シリカ（ＳｉＯ_２）、五酸化タンタル（Ｔａ_２Ｏ_５）、酸化アルミニウム（Ａｌ_２Ｏ_３）、フッ化マグネシウム（ＭｇＦ_２）等）から成る。製法としては、成膜の簡便さから真空蒸着法もしくはスパッタ法により成膜されることが望ましい。

また、層１７は、ＳｉＯ_２（シリカ）を主成分とする膜であることが望ましい。これは、後述の最上層である層１８がゾルゲル法により作製されるため、その下層（層１７）に濡れ性の高いシリカを用いることで、密着性を高めることができるからである。

また、層１２は、チタン、タンタル、ジルコニア、クロム、ニオブ、セリウム、ハフニウム、イットリウムの酸化物の単体乃至は混合物の層からなることが望ましい。

最も空気１１５側の最上層である第８層（層１８）は、屈折率を下げる必要があるため、ＳｉＯ_２、ＭｇＦ_２のような屈折率の低いものが好ましい。さらに屈折率を低いものにするため、第８層１８の主成分は中空微粒子であることが好ましい。主成分とは、少なくとも光学特性が主成分とみなされた材質の純粋物質と同一とみなせる程度まで該物質が主体となって構成されていることを意味している。

ここで、酸化シリコンもしくはフッ化マグネシウムからなる中空微粒子は、バインダーにより結合する。内部に空隙を有するため、空隙に含まれる空気（屈折率１．０）によって屈折率を１．２〜１．３に下げることができる。空孔は単孔、多孔どちらでも良く適宜選択することができる。さらに、中空微粒子の内部に空隙があることで、空隙に水分や不純物の吸着を防ぐことができる。このため、耐環境性が良くなり、屈折率変化のない安定した特性を得ることができる。

中空微粒子はバインダーにより結合する必要があるため、ゾルゲル法で作製することが好ましい。塗工方法としては特に限定されることはなく、ディップコート法、スピンコート法、スプレーコート法、ロールコート法など液状塗工液の一般的な塗工方法を用いることができる。レンズのような曲面を有する基材（基板）へ膜厚を均一に成膜できる観点から、塗料をスピンコートで成膜することが好ましい。塗工後は乾燥を行う。

乾燥は乾燥機、ホットプレート、電気炉などを用いることができる。乾燥条件は、基材に影響を与えず且つ中空粒子内の有機溶媒を蒸発できる程度の温度と時間とする。一般的には３００℃以下の温度を用いることが好ましい。塗工回数は通常１回が好ましいが、乾燥と塗工を複数回繰り返しても良い。

以下に、具体的な実施例を示す。ただし、これらは例に過ぎず、本発明はこれらに限定されるものではない。

（実施例１）
本実施例では、屈折率１．４０（λ＝５８７.６ｎｍ）のガラス基板上に、反射防止膜を表２に示した膜構成（基準波長：５８７．６ｎｍ）で作製した。このとき、第１層から第７層までは真空蒸着法により成膜した。また、第８層は、λ＝５８７．６ｎｍでの屈折率が１．２５になるように、中空ＳｉＯ_２含有の溶液にバインダー溶液を加え、混合調整した液をスピンコーターで塗工し、１００〜２５０℃のクリーンオーブンで１時間焼成した。

図２に、波長４００ｎｍから７００ｎｍ範囲での、入射角度が０度、４５度の場合における反射率特性を示す。本実施例の反射防止膜は、波長４００ｎｍから７００ｎｍの範囲で、入射角度０度の場合における反射率は０．１％以下である。また、入射角度４５度の場合であっても波長４００ｎｍから６７０ｎｍの範囲で０．７％以下、波長７００ｎｍにおいても１．０％以下である。よって、本実施例の反射防止膜は、広帯域で反射防止効果が高い、高性能な反射防止膜であることが分かる。

（実施例２）
本実施例では、屈折率１．５２（λ＝５８７.６ｎｍ）のガラス基板上に、表３に示した膜構成（基準波長：５８７．６ｎｍ）で作製した。このとき、第１層から第７層までは真空蒸着法により成膜した。また、第８層は、λ＝５８７．６ｎｍでの屈折率が１．２５になるように、中空ＳｉＯ_２含有の溶液にバインダー溶液を加え、混合調整した液をスピンコーターで塗工し、１００〜２５０℃のクリーンオーブンで１時間焼成した。

図３に、波長４００ｎｍから７００ｎｍ範囲での、入射角度が０度、４５度の場合における反射率特性を示す。本実施例の反射防止膜は、波長４００ｎｍから７００ｎｍの範囲で、入射角度が０度の場合における反射率は０．１％以下である。また、入射角度が４５度の場合であっても波長４００ｎｍから６５０ｎｍの範囲で０．６％以下、波長７００ｎｍにおいても０．８％以下である。よって、本実施例の反射防止膜は、広帯域で反射防止効果が高い、高性能な反射防止膜であることが分かる。

（実施例３）
本実施例では、屈折率２．１０（λ＝５８７.６ｎｍ）のガラス基板上に、反射防止膜を表４に示した膜構成（基準波長：５８７．６ｎｍ）で作製した。このとき、第１層から第７層までは真空蒸着法により成膜した。また、第８層は、λ＝５８７．６ｎｍでの屈折率が１．２５になるように、中空ＳｉＯ_２含有の溶液にバインダー溶液を加え、混合調整した液をスピンコーターで塗工し、１００〜２５０℃のクリーンオーブンで１時間焼成した。

図４に、波長４００ｎｍから７００ｎｍ範囲での、入射角度が０度、４５度の場合における反射率特性を示す。本実施例の反射防止膜は、波長４００ｎｍから７００ｎｍの範囲で、入射角度が０度の場合における反射率は０．１％以下である。また、入射角度が４５度の場合であっても波長４００ｎｍから６５０ｎｍの範囲で０．７％以下、波長７００ｎｍにおいても１．１％以下である。よって、本実施例の反射防止膜は、広帯域で反射防止効果が高い、高性能な反射防止膜であることが分かる。

（実施例４）
本実施例では、屈折率１．６１（λ＝５８７.６ｎｍ）のガラス基板上に、反射防止膜を表５に示した膜構成（基準波長：５８７．６ｎｍ）で作製した。このとき、第１層から第７層までは真空蒸着法により成膜した。また、第８層は、λ＝５８７．６ｎｍでの屈折率が１．１８になるように、中空ＳｉＯ_２含有の溶液にバインダー溶液を加え、混合調整した液をスピンコーターで塗工し、１００〜２５０℃のクリーンオーブンで１時間焼成した。

図５に、波長４００ｎｍから７００ｎｍ範囲での、入射角度が０度、４５の場合における反射率特性を示す。本実施例の反射防止膜は、波長４００ｎｍから７００ｎｍの範囲で、入射角度が０度の場合における反射率は０．１％以下である。また、入射角度が４５度の場合であっても波長４００ｎｍから７００ｎｍの範囲で０．９％以下である。よって、本実施例の反射防止膜は、広帯域で反射防止効果が高い、高性能な反射防止膜であることが分かる。

（実施例５）
本実施例では、屈折率１．５２（λ＝５８７.６ｎｍ）のガラス基板上に、反射防止膜を表６に示した膜構成（基準波長：５８７．６ｎｍ）で作製した。このとき、第１層から第７層までは真空蒸着法により成膜した。また、第８層は、λ＝５８７．６ｎｍでの屈折率が１．２８になるように、中空ＳｉＯ_２含有の溶液にバインダー溶液を加え、混合調整した液をスピンコーターで塗工し、１００〜２５０℃のクリーンオーブンで１時間焼成した。

図６に、波長４００ｎｍから７００ｎｍ範囲での、入射角度が０度、４５度の場合における反射率特性を示す。本実施例の反射防止膜は、波長４００ｎｍから７００ｎｍの範囲で、入射角度が０度の場合における反射率は０．１５％以下である。また、入射角度が４５度の場合であっても波長４００ｎｍから６５０ｎｍの範囲で０．８％以下、波長７００ｎｍにおいても１．５％以下である。よって、本実施例の反射防止膜は、広帯域で反射防止効果が高い、高性能な反射防止膜であることが分かる。

（実施例６）
本実施例では、屈折率１．８１（λ＝５８７.６ｎｍ）のガラス基板上に、反射防止膜を表７に示した膜構成（基準波長：５８７．６ｎｍ）で作製した。このとき、第１層から第７層までは真空蒸着法により成膜した。また、第８層は、λ＝５８７．６ｎｍでの屈折率が１．２８になるように、中空ＳｉＯ_２含有の溶液にバインダー溶液を加え、混合調整した液をスピンコーターで塗工し、１００〜２５０℃のクリーンオーブンで１時間焼成した。

図７に、波長４００ｎｍから７００ｎｍ範囲での、入射角度が０度、４５度の場合における反射率特性を示す。本実施例の反射防止膜は、波長４００ｎｍから７００ｎｍの範囲で、入射角度が０度の場合における反射率は０．１％以下である。また、入射角度が４５度の場合であっても波長４００ｎｍから６５０ｎｍの範囲で０．７％以下、波長７００ｎｍにおいても１．１％以下である。よって、本実施例の反射防止膜は、広帯域で反射防止効果が高い、高性能な反射防止膜であることが分かる。

（実施例７）
本実施例では、屈折率１．８１（λ＝５８７.６ｎｍ）のガラス基板上に、反射防止膜を表８に示した膜構成（基準波長：５８７．６ｎｍ）で作製した。本実施例では、第１層、第２層、第３層、第４層、第６層、更には第５層に同じ材料を用いた。このとき、第１層から第７層までは真空蒸着法により成膜した。また、第８層は、λ＝５８７．６ｎｍでの屈折率が１．３０になるように、中空ＳｉＯ_２含有の溶液にバインダー溶液を加え、混合調整した液をスピンコーターで塗工し、１００〜２５０℃のクリーンオーブンで１時間焼成した。

図８に、波長４００ｎｍから７００ｎｍ範囲での、入射角度が０度、４５度の場合における反射率特性を示す。本実施例の反射防止膜は、波長４００ｎｍから７００ｎｍの範囲で、入射角度が０度の場合における反射率は０．１％以下である。また、入射角度が４５度の場合であっても波長４００ｎｍから６５０ｎｍの範囲で０．７％以下、波長７００ｎｍにおいても１．２％以下である。よって、本実施例の反射防止膜は、広帯域で反射防止効果が高い、高性能な反射防止膜であることが分かる。

（変形例）
本発明は上述した具体的実施例に限定されるものでなく、種々の変形や変更が可能である。例えば、反射防止膜を基板面としての光学面の上に付与した光学素子としてレンズを示したが、プリズムや透光フィルタなどであっても良い。

１１・・第１層（層１）、１２・・第２層（層２）、１３・・第３層（層３）、１４・・第４層（層４）、１５・・第５層（層５）、１６・・第６層（層６）、１７・・第７層（層７）、１８・・第８層（層８）、２０・・基板、１０１・・反射防止膜

Claims (16)

1. 屈折率がｎｓの基板の上に設けられ、基板側より順に第１層、第２層、第３層、第４層、第５層、第６層、第７層、第８層を積層した反射防止膜であって、
   基準波長λを５８７．６ｎｍ、１．４０≦ｎs≦２．１５とし、
   前記第１層の屈折率をｎ１、光学膜厚をｄ１（ｎｍ）、
   前記第２層の屈折率をｎ２、光学膜厚をｄ２（ｎｍ）、
   前記第３層の屈折率をｎ３、光学膜厚をｄ３（ｎｍ）、
   前記第４層の屈折率をｎ４、光学膜厚をｄ４（ｎｍ）、
   前記第５層の屈折率をｎ５、光学膜厚をｄ５（ｎｍ）、
   前記第６層の屈折率をｎ６、光学膜厚をｄ６（ｎｍ）、
   前記第７層の屈折率をｎ７、光学膜厚をｄ７（ｎｍ）
   前記第８層の屈折率をｎ８、光学膜厚をｄ８（ｎｍ）とするとき、
   １．４０≦ｎ１≦１．８５、 ５ｎｍ≦ｄ１≦１５０ｎｍ、
   １．７５≦ｎ２≦２．３５、 ２０ｎｍ≦ｄ２≦１００ｎｍ、
   １．４０≦ｎ３≦１．８５、 １０ｎｍ≦ｄ３≦９０ｎｍ、
   １．７５≦ｎ４≦２．３５、 １００ｎｍ≦ｄ４≦３００ｎｍ、
   １．４０≦ｎ５≦１．８５、 １０ｎｍ≦ｄ５≦９０ｎｍ、
   １．７５≦ｎ６≦２．３５、 ２０ｎｍ≦ｄ６≦１００ｎｍ、
   １．４０≦ｎ７≦１．７０、 ５ｎｍ≦ｄ７≦５０ｎｍ、
   １．０５≦ｎ８≦１．３２、 ９０ｎｍ≦ｄ８≦１６０ｎｍ
   を満たし、
   かつ、ｎ１、ｎ３、ｎ５の平均屈折率をｎＭ、ｎ２、ｎ４、ｎ６の平均屈折率をｎＨとするとき、
   ｎＨ−ｎＭ≦０．６７であることを特徴とする反射防止膜。
2. ｎ１＜ｎ２、かつ、ｎ６＞ｎ７＞ｎ８であることを特徴とする請求項１に記載の反射防止膜。
3. ｎ８＜ｎ１であることを特徴とする請求項２に記載の反射防止膜。
4. ｎ１＜ｎ２＞ｎ３＜ｎ４＞ｎ５＞ｎ６＞ｎ７＞ｎ８であることを特徴とする請求項２または３に記載の反射防止膜。
5. ｎ１＝ｎ３＝ｎ５＜ｎ２＝ｎ４＝ｎ６であることを特徴とする請求項４に記載の反射防止膜。
6. 前記第１層、前記第３層、前記第５層は同じ材料であり、前記第２層、前記第４層、前記第６層は同じ材料であることを特徴とする請求項１乃至５のいずれか１項に記載の反射防止膜。
7. 前記反射防止膜は、入射角度０度において波長４００ｎｍから７００ｎｍの最大反射率が０．２％以下であることを特徴とする請求項１乃至６のいずれか１項に記載の反射防止膜。
8. 前記反射防止膜は、入射角度０度において波長４００ｎｍから７００ｎｍの最大反射率が０．１５％以下であることを特徴とする請求項１乃至６のいずれか１項に記載の反射防止膜。
9. 前記第８層は、中空微粒子を含む層であることを特徴とする請求項１乃至８のいずれか１項に記載の反射防止膜。
10. 前記中空微粒子が、酸化シリコンもしくはフッ化マグネシウムから成ることを特徴とする請求項９に記載の反射防止膜。
11. 前記第７層は、ＳｉＯ_２を含むことを特徴とする請求項１乃至１０のいずれか１項に記載の反射防止膜。
12. 前記第２層は、チタン、タンタル、ジルコニア、クロム、ニオブ、セリウム、ハフニウム、イットリウムの内のいずれかの酸化物の単体もしくは前記酸化物の混合物から成ることを特徴とする請求項１乃至１１のいずれか１項に記載の反射防止膜。
13. 前記第１層、前記第２層、前記第３層、前記第４層、前記第５層、前記第６層、前記第７層は、無機系膜であることを特徴とする請求項１乃至１２のいずれか１項に記載の反射防止膜。
14. 前記第１層、前記第２層、前記第３層、前記第４層、前記第５層、前記第６層、前記第７層は、真空蒸着法もしくはスパッタ法により成膜され、前記第８層は、ゾルゲル法で作製されることを特徴とする請求項１乃至１３のいずれか１項に記載の反射防止膜。
15. 請求項１乃至１４のいずれか１項に記載の前記反射防止膜を基板面としての光学面の上に付与した光学素子。
16. 請求項１５に記載の前記光学素子を有する光学系。