JP2014190821A - 欠陥検出装置および欠陥検出方法 - Google Patents
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- 230000007547 defect Effects 0.000 title claims abstract description 172
- 238000001514 detection method Methods 0.000 title claims abstract description 164
- 238000007689 inspection Methods 0.000 claims abstract description 281
- 238000012545 processing Methods 0.000 claims abstract description 129
- 238000000034 method Methods 0.000 claims abstract description 127
- 230000008569 process Effects 0.000 claims description 113
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 110
- 238000003384 imaging method Methods 0.000 claims description 99
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 claims description 35
- 238000003860 storage Methods 0.000 claims description 13
- 238000001914 filtration Methods 0.000 abstract description 4
- 238000004364 calculation method Methods 0.000 abstract description 3
- 238000012552 review Methods 0.000 description 42
- 230000006870 function Effects 0.000 description 23
- 230000008859 change Effects 0.000 description 11
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 10
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 7
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 6
- 238000004422 calculation algorithm Methods 0.000 description 5
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 5
- 238000012937 correction Methods 0.000 description 4
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 3
- 230000002950 deficient Effects 0.000 description 2
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 2
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 1
- 238000013528 artificial neural network Methods 0.000 description 1
- 238000003705 background correction Methods 0.000 description 1
- 230000003139 buffering effect Effects 0.000 description 1
- 238000007635 classification algorithm Methods 0.000 description 1
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 1
- 238000003066 decision tree Methods 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- 230000012447 hatching Effects 0.000 description 1
- 238000009434 installation Methods 0.000 description 1
- 238000012423 maintenance Methods 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 238000005457 optimization Methods 0.000 description 1
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 1
- 230000009467 reduction Effects 0.000 description 1
- 238000004904 shortening Methods 0.000 description 1
- 238000012706 support-vector machine Methods 0.000 description 1
- 238000010977 unit operation Methods 0.000 description 1
- 238000012795 verification Methods 0.000 description 1
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- Investigating Materials By The Use Of Optical Means Adapted For Particular Applications (AREA)
Abstract
【解決手段】欠陥検出処理を行う検出ユニット10に、多数の画素に対する演算を高速に並列処理することが可能なGPU(Graphics Processing Unit)110を備えている。撮像された実画像に対するフィルタリング処理や、これと予め用意された無欠陥画像との差分を求める処理をGPU110により実行する。CPU101は、処理パラメータを変更しながらGPU110による欠陥検出処理を試行して決定された検査レシピを実際のリアルタイム検査にも適用して、GPU110により欠陥検出処理を実行させる。同一の検出ユニット10を用いることでレシピ作成時と実検査時との間で検出結果の乖離がなく、レシピ作成を効率よく行うことができる。
【選択図】図1
Description
21 第1撮像手段(検査用撮像手段)
22 第2撮像手段(評価用撮像手段)
101 CPU(レシピ設定手段、欠陥評価手段)
102 主メモリ(記憶手段)
103 入力デバイス(受付手段)
104 ディスプレイ(報知手段)
110 GPU((複数の演算ユニットを含む)検出処理手段)
S 基板(検査対象基板)
S101第1工程
S103第2工程
S104第3工程
S112、第6工程
S113第7工程
S114第8工程
S208第1サブ工程
S210第2サブ工程
S211第3サブ工程
S301第4工程
S302第5工程の第4サブ工程
S304第5工程の第5サブ工程
S305第5工程の第6サブ工程
Claims (10)
- 検査対象基板を撮像して画像データを出力する検査用撮像手段と、
前記検査用撮像手段から出力される前記画像データと予め用意された基準画像データとの差分から前記検査対象基板の欠陥を検出する欠陥検出処理を、所定の検査レシピに基づき実行する検出処理手段と、
前記検出処理手段に前記検査レシピを与えるレシピ設定手段と、
前記欠陥検出処理の結果をユーザに報知する報知手段と、
前記検査レシピを決定するために必要な設定情報に関する設定入力をユーザから受け付ける受付手段と
を備え、
前記レシピ設定手段は、前記受付手段による前記設定情報の受付と、該設定情報に応じて設定した仮検査レシピおよび前記検査用撮像手段から出力された前記画像データに基づく前記検出処理手段による前記欠陥検出処理と、該欠陥検出処理の結果の前記報知手段による報知とを含むレシピ決定処理の結果に基づき、前記検査レシピを設定する欠陥検出装置。 - 前記検出処理手段は、互いに独立したデータを入力可能で互いに同一の制御命令を並列実行する複数の演算ユニットを有し、前記レシピ設定手段は、前記検査レシピに応じた前記制御命令のセットを前記検出処理手段に与える請求項1に記載の欠陥検出装置。
- 前記画像データを記憶する記憶手段を備え、前記レシピ決定処理において、前記検出処理手段は前記記憶手段から読み出された前記画像データに基づき前記欠陥検出処理を実行する請求項1または2に記載の欠陥検出装置。
- 前記検査用撮像手段よりも高い分解能を有し、前記検査対象基板を撮像して画像データを出力する評価用撮像手段と、
前記レシピ設定手段から与えられる検査レシピと前記評価用撮像手段から出力された前記画像データとに基づき前記検出処理手段が実行する前記欠陥検出処理で検出された欠陥を評価する欠陥評価手段と
をさらに備える請求項1ないし3のいずれかに記載の欠陥検出装置。 - 前記レシピ設定手段は、前記受付手段による前記設定情報の受付と、該設定情報に応じて設定した仮検査レシピおよび前記評価用撮像手段から出力された前記画像データに基づく前記検出処理手段による前記欠陥検出処理と、該欠陥検出処理の結果の前記報知手段による報知とを含む評価用レシピ決定処理の結果に基づき設定した前記検査レシピを前記検出処理手段に与える請求項4に記載の欠陥検出装置。
- 検査対象基板から欠陥を検出する欠陥検出方法において、
欠陥検出処理の検査レシピを設定する第1工程と、
前記検査対象物を検査用撮像手段により撮像して画像データを取得する第2工程と、
前記画像データと予め用意された基準画像データとの差分から前記検査対象基板の欠陥を検出する検査用検出処理手段により、前記第1工程で設定された前記検査レシピに基づく欠陥検出処理を実行する第3工程と
を備え、
前記第1工程では、
前記検査レシピを決定するために必要な設定情報に関するユーザからの設定入力を受け付ける第1サブ工程と、
前記第1サブ工程で受け付けた前記設定情報に応じて設定した仮検査レシピと、前記検査用撮像手段から出力された前記画像データとに基づく欠陥検出処理を、前記検査用検出処理手段と同一のまたは同一構成の検査レシピ作成用検出処理手段により実行する第2サブ工程と、
前記第2サブ工程の結果をユーザに報知する第3サブ工程と
を含むレシピ決定処理を少なくとも1回実行し、その結果に基づき前記検査レシピを設定する欠陥検出方法。 - 前記検出処理手段は、互いに独立したデータを入力可能で互いに同一の制御命令を並列実行する複数の演算ユニットを有し、前記第1工程では、前記検査レシピに応じた前記制御命令のセットを前記検出処理手段に与える請求項6に記載の欠陥検出方法。
- 前記第1工程では、前記検査用撮像手段から出力された前記画像データを記憶手段に記憶させておき、前記記憶手段から読み出した前記画像データを用いて複数回、前記レシピ決定処理を実行する請求項7に記載の欠陥検出方法。
- 前記検査対象基板を前記検査用撮像手段よりも高分解能の評価レシピ作成用撮像手段により撮像して画像データを取得する第4工程と、
前記評価用撮像手段から出力される画像データに基づく欠陥評価を行うための評価用検査レシピを設定する第5工程と
をさらに備え、
前記第5工程では、
前記評価用検査レシピを決定するために必要な設定情報に関するユーザからの設定入力を受け付ける第4サブ工程と、
前記第4サブ工程で受け付けた前記設定情報に応じて設定した仮検査レシピと、前記評価レシピ作成用撮像手段から出力された前記画像データとに基づく欠陥検出処理を、前記検査用検出処理手段と同一のまたは同一構成の評価レシピ作成用検出処理手段により実行する第5サブ工程と、
前記第5サブ工程の結果をユーザに報知する第6サブ工程と
を含むレシピ決定処理を少なくとも1回実行し、その結果に基づき前記評価用検査レシピを設定する請求項6ないし8のいずれかに記載の欠陥検出方法。 - 前記検査対象基板を前記評価レシピ作成用撮像手段と同一のまたは同一構成の評価用撮像手段により撮像して画像データを取得する第6工程と、
前記第5工程で設定された前記評価用検査レシピと、前記評価用撮像手段から出力された前記画像データとに基づく前記欠陥検出処理を実行する第7工程と、
前記第7工程で検出された欠陥を評価する第8工程と
をさらに備える請求項9に記載の欠陥検出方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2013066311A JP2014190821A (ja) | 2013-03-27 | 2013-03-27 | 欠陥検出装置および欠陥検出方法 |
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|---|---|
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ID=51837211
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| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
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