JP2014199301A - メガネ用部材、メガネおよびメガネ用部材の製造方法 - Google Patents

Abstract

【課題】右目領域と左目領域が分離しているので、フレームなしでは扱いにくい、という課題があった。【解決手段】メガネ用部材であって、一の吸収軸を有し、使用者の使用状態において、使用者の右目の前面に位置する右目領域および左目の前面に位置する左目領域に配された偏光板と、偏光板に積層され、右目領域において偏光を変調する第１光学軸を有するとともに、左目領域において偏光を変調する、第１光学軸とは異なる方向の第２光学軸を有し、右目領域と左目領域とが一体的に形成されている偏光変調層とを備える。【選択図】図１

Description

本発明は、メガネ用部材、メガネおよびメガネ用部材の製造方法に関する。

使用者の右目の前面に位置する右目領域と、左目の前面に位置する左目領域と、で異なる光学軸を有する立体画像用のメガネがある（例えば、特許文献１参照）。
特許文献１ 特開２０１２−２２０８５３号公報

しかしながら、上記メガネにおいては右目領域と左目領域が分離しているので、フレームなしでは扱いにくい、という課題があった。

本発明の第１の態様においては、メガネ用部材であって、一の吸収軸を有し、使用者の使用状態において、使用者の右目の前面に位置する右目領域および左目の前面に位置する左目領域に配された偏光板と、偏光板に積層され、右目領域において偏光を変調する第１光学軸を有するとともに、左目領域において偏光を変調する、第１光学軸とは異なる方向の第２光学軸を有し、右目領域と左目領域とが一体的に形成されている偏光変調層とを備える。

本発明の第２の態様においては、メガネ用部材の製造方法であって、一の吸収軸を有する偏光板に、偏光を変調する第１光学軸を有する第１領域と、偏光を変調する、第１光学軸とは異なる方向の第２光学軸を有する第２領域とが一体的に形成された偏光変調層を積層した積層板を形成する工程と、使用者の使用状態において、第１領域が使用者の右目に位置し、第２領域が使用者の左目に位置する形状に、積層板を一体的に切り抜く工程とを備える。

なお、上記の発明の概要は、本発明の必要な特徴の全てを列挙したものではない。また、これらの特徴群のサブコンビネーションもまた、発明となりうる。

本実施形態に係るメガネ１００の斜視図である。 メガネ本体１１０の展開図である。 メガネ本体１１０の分解斜視図である。 メガネ本体１１０の断面図である。 偏光変調層１４０を製造する製造装置１０の全体構成図である。 マスク３８の平面図である。 メガネ本体１１０を製造する工程を説明する概略図である。 メガネ本体１１０の他の例を示す。 メガネ本体１１０のさらに他の例を示す。 メガネ本体１１０のさらに他の例を示す。 メガネ本体１１０のさらに他の例を示す。 メガネ本体１１０のさらに他の例を示す。 メガネ本体１１０を製造する他の工程を説明する概略図である。

以下、発明の実施の形態を通じて本発明を説明するが、以下の実施形態は特許請求の範囲にかかる発明を限定するものではない。また、実施形態の中で説明されている特徴の組み合わせの全てが発明の解決手段に必須であるとは限らない。

図１は、本実施形態に係るメガネ１００の斜視図である。メガネ１００は、入射光の偏光を変調して透過するメガネ本体１１０と、当該メガネ本体１１０を保持するフレーム１６０とを備える。

図２は、メガネ本体１１０の展開図である。メガネ本体１１０は、使用者の使用状態において、使用者の右目の前面に位置する右目領域１１２と、左目の前面に位置する左目領域１１４とにまたがって、一体的に形成されている。図２のメガネ本体１１０は左右対称の外形を有する。これに代えて、凸部、切欠き等によって一部に非対称な形状を設けてもよい。左右で非対称な形状とするとで、表裏面の区別を容易につけることができる。

図３はメガネ本体１１０の分解斜視図であり、図４はメガネ本体１１０の断面図である。図３においては簡略化のため外形を四角形で示した。図３の紙面奥側および図４の上側が使用状態における使用者に近い側である。メガネ本体１１０は、偏光板１２０と、偏光変調層１４０と、それらを積層する粘着層１３０とを有する。

偏光板１２０は、右目領域１１２および左目領域１１４にまたがって一体的に形成される。偏光板１２０は全体として一つの吸収軸を有する。図３に示す例において、吸収軸は使用状態において水平に対して９０°をなす方向、すなわち鉛直方向に配される。偏光板１２０は、一の吸収軸を有する偏光層１２６と、当該偏光層１２６を挟む一対の保護層１２４、１２８とを有する。

偏光層１２６は、例えばポリビニルアルコールにより形成される。偏光層１２６は吸収軸に平行な偏光を吸収するとともに、吸収軸に直交する偏光を透過する。偏光層１２６の厚さの一例は、４０μｍである。

保護層１２４、１２８は、トリアセチルセルロース（ＴＡＣ）フィルムによって構成することができる。ＴＡＣフィルムは、富士写真フィルム社製のフジタックＴ８０ＳＺ及びＴＤ８０ＵＬ等を挙げることができる。また、保護層１２４、１２８は、シクロオレフィン系のフィルムを含む、等方性材料によって構成してもよい。シクロオレフィン系フィルムとして、シクロオレフィンポリマー（＝ＣＯＰ）や、シクロオレフィンポリマーの共重合体であるシクロオレフィンコポリマー（＝ＣＯＣ）を使用することができる。ＣＯＰフィルムとして、日本ゼオン社製のゼオノアフィルムＺＦ１４を挙げることができる。シクロオレフィン系フィルムを使用する場合は、脆弱性の観点から高靭性タイプのフィルムを使用することが好ましい。

保護層１２４、１２８は光学的に等方で透明である。保護層１２４、１２８の厚さの一例は８０μｍである。保護層１２４の図４における上面にはさらに、ハードコート層、反射防止層を形成してもよい。

偏光変調層１４０は偏光板１２０と同形であって、右目領域１１２および左目領域１１４にまたがって一体的に形成される。偏光変調層１４０は右目領域１１２に第１光学軸を有し、左目領域１１４には第１光学軸とは異なる方向の第２光学軸を有する。図３の例において、第１光学軸は鉛直方向に対して−４５°をなしており、第２光学軸は＋４５°をなしている。従って、第１光学軸と第２光学軸とのなす角は９０°である。偏光変調層１４０の一例は、λ／４位相差層である。この場合に第１光学軸および第２光学軸は遅相軸である。偏光変調層１４０は、ベース１４６と、当該ベース１４６上に配された配向膜１４８、１５２と、液晶層１５０、１５４とを有する。

ベース１４６は、偏光板１２０の保護層１２４、１２８と同様の材料から形成されてもよいし、光学的に等方性を有する他の材料から形成されてもよい。ベース１４６の厚さの一例は８０μｍである。なお、ベース１４６の図４における下面にはさらに、ハードコート層、反射防止層を形成してもよい。

配向膜１４８は、ベース１４６の右目領域１１２上に形成されている。一方、配向膜１５２は、ベース１４６の左目領域１１４上に形成されている。配向膜１４８と配向膜１５２とは境界で接しており、連続的につながっている。配向膜１４８、１５２の厚さの一例は０．１μｍである。

配向膜１４８、１５２は、公知の光配向性化合物を適用できる。光配向性化合物は、紫外線等の直線偏光が照射されると、その直線偏光の偏光方向に高分子が規則的に配向される材料である。更に、光配向性化合物は、自己の上に形成された液晶層１５０、１５４の高分子を自己の配向に沿って並ばせる機能を有する。光配向性化合物の例として、光分解型、光二量化型、光異性化型等の化合物をあげることができる。配向膜１４８の高分子は、第１光学軸に対応した方向に配向している。配向膜１５２の高分子は、第２光学軸に対応した方向に配向している。

液晶層１５０は、配向膜１４８上に形成される。液晶層１５０は、紫外線または加熱等によって硬化可能な液晶ポリマーによって構成することができる。液晶層１５０の高分子は、配向膜１４８の高分子の配向に沿って配向される。

一方、液晶層１５４は、配向膜１５２上に形成される。液晶層１５４は、紫外線または加熱等によって硬化可能な液晶ポリマーによって構成することができる。液晶層１５４の高分子は、配向膜１５２の高分子の配向に沿って配向される。

液晶層１５０と液晶層１５４とは境界で接しており、連続的につながっている。液晶層１５０、１５４の厚さの一例は１〜２μｍである。液晶層１５０、１５４は、円偏光を直線偏光に変調して透過する。

上記構成により、メガネ１００は立体画像観賞用に用いられる。すなわち、立体画像表示装置から右目用画像と左目用画像とが互いに反対周りの円偏光が出力された場合に、右目領域１１２で右目用画像を透過するとともに左目用画像を遮断する。一方、左目領域１１４で左目用画像を透過するとともに右目用画像を遮断する。

図５は、偏光変調層１４０を製造する製造装置１０の全体構成図である。図５に矢印で示す上下を製造装置１０の上下方向とする。上流及び下流は、搬送方向における上流及び下流とする。搬送方向は、偏光変調層１４０の長手方向と同方向であって、幅方向と直交する。

製造装置１０は、送り出しロール１２と、配向膜塗布部１４と、配向膜乾燥部１６と、露光部１８と、液晶層塗布部２０と、液晶層配向部２２と、液晶層硬化部２４と、セパレートフィルム供給部２６と、巻き取りロール２８とを備える。

送り出しロール１２は、搬送経路の最も上流側に配置されている。送り出しロール１２の外周には、ベース１４６が巻かれている。ベース１４６は、切り出されるメガネ本体１１０の左右方向の最大幅に切り代を加えた幅、例えば２００ｍｍ程度の幅を有する。

送り出しロール１２は、回転可能に支持されている。これにより、送り出しロール１２は、ベース１４６を送り出し可能に保持できる。送り出しロール１２は、モータ等の駆動機構によって回転可能に構成してもよく、巻き取りロール２８の回転に伴って、従動可能に構成してもよい。あるいは、搬送経路の途中にベース１４６を駆動させる機構を設けてもよい。

配向膜塗布部１４は、送り出しロール１２の下流側であって、露光部１８の上流側に配置されている。配向膜塗布部１４は、搬送されるベース１４６の搬送経路の上方に配置されている。配向膜塗布部１４は、ベース１４６の上面に、露光材料の一例である液状の配向膜１４８、１５２を供給して塗布する。この状態では配向膜１４８と配向膜１５２とは区別なく、ベース１４６の上面に配されている。

配向膜乾燥部１６は、配向膜塗布部１４の下流側に配置されている。配向膜乾燥部１６は、加熱、光照射、または送風等によって、内部を通過するベース１４６上に塗布された配向膜１４８、１５２を乾燥させる。

露光部１８は、配向膜乾燥部１６の下流側に配置されている。露光部１８は、上流側エア吐出部３２と、第１偏光光源３４と、第２偏光光源３５と、マスク３８と、マスク保持部４０と、下流側エア吐出部４２と、一対の上流側張力ロール４４及び下流側張力ロール４６とを有する。

上流側張力ロール４４及び下流側張力ロール４６は、下方を搬送されるベース１４６に合わせて回転する。また、上流側エア吐出部３２及び下流側エア吐出部４２は、ベース１４６に下向きのエアを吹き付けて、搬送中のベース１４６を下方へと押圧する。

第１偏光光源３４は、図３の第１光学軸に対応した直線偏光である第１偏光を出力する。露光部１８は、第１偏光光源３４から出力された第１偏光を、マスク３８を介して、ベース１４６上に塗布された配向膜１４８に照射する。

第２偏光光源３５は、第１偏光光源３４よりも下流側に設けられる。第２偏光光源３５は、図３の第２光学軸に対応した直線偏光である第２偏光を出力する。露光部１８は、第２偏光光源３５から出力された第２偏光を、マスク３８を介して、ベース１４６上に塗布された配向膜１５２に照射する。

これにより、露光部１８は、配向膜１４８、１５２の高分子を配向させて、パターンを形成する。第１偏光光源３４および第２偏光光源３５から出力される偏光の一例は、２８０ｎｍから３４０ｎｍの波長の紫外線である。

液晶層塗布部２０は、露光部１８の下流側に配置されている。液晶層塗布部２０は、ベース１４６の搬送経路の上方に配置されている。液晶層塗布部２０は、ベース１４６に形成された配向膜１４８、１５２上に液晶層１５０、１５４を供給して、塗布する。この状態では液晶層１５０と液晶層１５４とは区別なく、ベース１４６の上面に配されている。

液晶層配向部２２は、液晶層塗布部２０の下流側に配置されている。液晶層配向部２２は、加熱、光照射、または、送風等によって、内部を通過する配向膜１４８、１５２上に形成された液晶層１５０、１５４の高分子を、対応する配向膜１４８、１５２の高分子の配向方向に沿ってそれぞれ配向させつつ、乾燥させる。

液晶層硬化部２４は、液晶層配向部２２の下流側に配置されている。液晶層硬化部２４は、紫外線を照射することにより液晶層１５０、１５４を硬化させる。これにより、配向膜１４８、１５２の高分子の配向に沿って配向された液晶層１５０、１５４の高分子の配向が、固定される。これにより偏光変調層１４０が製造される。

セパレートフィルム供給部２６は、液晶層硬化部２４と巻き取りロール２８との間に配置されている。セパレートフィルム供給部２６は、偏光変調層１４０の液晶層１５０、１５４上にセパレートフィルム９２を供給して、貼り合わせる。セパレートフィルム９２は、巻き取られたベース１４６間の離脱を容易にする。尚、セパレートフィルム供給部２６は、省略してもよい。

巻き取りロール２８は、液晶層硬化部２４の下流側であって、搬送経路の最も下流側に配置されている。巻き取りロール２８は、回転駆動可能に支持されている。巻き取りロール２８は、配向膜１４８、１５２及び液晶層１５０、１５４が形成されてパターニングされた偏光変調層１４０を巻き取る。

図６は、マスク３８の平面図である。マスク３８は、矩形の板状に形成されている。マスク３８は、石英ガラス等の材料に遮光層５８を設けることにより形成される。遮光層５８は、第１偏光光源３４および第２偏光光源３５からの偏光を遮蔽可能な材料、例えばクロムからなる。遮光層５８には、第１透過領域６２及び第２透過領域６６として機能する開口が形成されている。第２透過領域６６は、第１透過領域６２よりも搬送方向の下流側に配置されている。

第１透過領域６２は、第１偏光光源３４とベース１４６との間に配置されている。第１透過領域６２は、ベース１４６の幅方向の一端側から中央まで延在し、少なくとも第１偏光を透過する。これにより、第１偏光光源３４から出力された第１偏光が、第１透過領域６２を透過して、ベース１４６に形成された配向膜１４８を露光する。

第２透過領域６６は、第２偏光光源３５とベース１４６との間に配置されている。第２透過領域６６は、ベース１４６の幅方向の他端側から中央まで延在し、少なくとも第２偏光を透過する。これにより、第２偏光光源３５から出力された第２偏光が、第２透過領域６６を透過して、ベース１４６に形成された配向膜１５２に照射される。

第１透過領域６２および第２透過領域６６は、幅方向の中央側の端部が互いに揃っている。よって、第１偏光で形成される配向膜１４８と第２偏光で形成される配向膜１５２とは連続的につながっている。

なお、第１透過領域６２を、第１偏光のみを透過可能な偏光板で構成してもよい。また、第２透過領域６６を、第２偏光のみを透過可能な偏光板で構成してもよい。この場合、一つの偏光光源が両方の領域に対して非偏光を出力してもよい。さらに他の例として、第１透過領域６２および第２透過領域６６のいずれか一方を、ベース１４６の幅方向全体に渡って開口させてもよい。

図７は、メガネ本体１１０を製造する工程を説明する概略図である。偏光板１２０は長手方向に平行な吸収軸を有するものを準備し、上面に粘着層１３０を塗布する。さらに、図５および図６で形成された偏光変調層１４０を準備し、セパレートフィルムを剥離して偏光板１２０上に配する。さらにこれらを一対のローラ９４、９６で挟むことにより長尺状の積層体１１６を形成する。

積層体１１６を図２に示す形状に切り抜いて、メガネ本体１１０が形成される。この場合に、メガネ本体１１０の左右方向の中央が右目領域１１２と左目領域１１４との境界となるように切り抜く。当該切り抜きは、型により積層板を打ち抜くことで実行されてもよい。

以上、本実施形態によれば、左右のメガネ本体が一体なので、使用者の利便性が向上する。また、左右それぞれのメガネ本体を別々に作らなくてもよいので、製造の工程を簡略化することができる。また、フレームへ組み付けるときに左右の間違いが生じないので、メガネの製造の作業性を向上させることができる。

図８は、メガネ本体１１０の他の例を示す。図８のメガネ本体１１０は、偏光板１７０および偏光変調層１７１の光学軸以外は、図１から図３のメガネ本体１１０と同様である。以下、光学軸について説明する。偏光板１７０において吸収軸は水平方向に対して４５°をなす。偏光変調層１７１の右目領域の光学軸は鉛直方向に対して０°をなし、左目領域の光学軸は鉛直方向に対して９０°をなす。

図９は、メガネ本体１１０のさらに他の例を示す。図９のメガネ本体１１０は、偏光変調層１７２以外は、図１から図３のメガネ本体１１０と同様である。以下、偏光変調層１７２について説明する。

偏光変調層１７２は、λ／２位相差層をなす。さらに、偏光変調層１７２の右目領域の光学軸は鉛直方向に対して−２２．５°をなし、左目領域の光学軸は鉛直方向に対して２２．５°をなす。従って、これらの光学軸間のなす角は４５°である。これにより、図９のメガネ本体１１０は、右目用画像および左目用画像が互いに直交する直線偏光を有している立体画像に対して用いられる。

図１０は、メガネ本体１１０のさらに他の例を示す。図１０のメガネ本体１１０は、偏光変調層１７３の光学軸以外は、図１０のメガネ本体１１０と同様である。以下、偏光変調層１７３の光学軸について説明する。偏光変調層１７３の右目領域の光学軸は鉛直方向に対して−６７．５°をなし、左目領域の光学軸は鉛直方向に対して６７．５°をなす。従って、これらの光学軸間のなす角は１３５°である。これにより、図１０のメガネ本体１１０は、右目用画像および左目用画像が互いに直交する直線偏光を有している立体画像に対して用いられる。

図１１は、メガネ本体１１０のさらに他の例を示す。図１１のメガネ本体１１０は、偏光板１７４の吸収軸以外は、図９のメガネ本体１１０と同様である。以下、偏光板１７４の吸収軸について説明する。偏光板１７４の吸収軸は水平方向に対して０°をなす。

図１２は、メガネ本体１１０のさらに他の例を示す。図１２のメガネ本体１１０は、偏光板１７４の吸収軸以外は、図１０のメガネ本体１１０と同様である。偏光板１７４の吸収軸は水平方向に対して０°をなす。

なお、メガネ本体１１０の積層の構造は図４に示すものに限られない。他の例として、使用者に近い方から、保護層１２４、偏光層１２６、保護層１２８、粘着層１３０、ベース１４６、配向膜１４８、１５２、液晶層１５０、１５４の順になるように積層されてもよい。さらに他の例として、図４に示す構造の保護層１２８を省略して、偏光変調層１４０を積層してもよい。さらに他の例として、保護層１２８上に配向膜１４８、１５２を成膜させ、その上に液晶層１５０、１５４を設けてもよい。また、上記実施形態においては、偏光変調層１４０の右目領域１１２と左目領域１１４とが接している。これに代えて、偏光変調層１４０の右目領域１１２と左目領域１１４とが一体的であれば、右目領域１１２と左目領域１１４との間に非配向領域等の他の領域が介されていてもよい。

図１３は、メガネ本体１１０を製造する他の工程を説明する概略図である。図１３の偏光板１２０は、図７の偏光板１２０の２倍の幅を有する。

図１３の偏光変調層１４０は、右目領域１１２と左目領域１１４との組を幅方向に２つ有する。当該偏光変調層１４０は、図６のマスク３８に代えて、第１透過領域６２が幅方向において第２透過領域の一つを跨いで二つあり、第２透過領域６６が第１透過領域の一つを跨いで二つあるマスクで露光されることにより製造される。

上記偏光板１２０の上面に粘着層１３０が塗布されてローラ９４、９６で偏光変調層１４０と貼り合わされることにより、積層体１１６が形成される。当該積層体１１６の幅方向について、図２に示す形状を２つ切り抜くことにより、メガネ本体１１０が二つ形成される。さらに、図１３に示す形態に代えて、偏光変調層１４０において右目領域１１２と左目領域１１４とが幅方向に３回以上繰り返し配され、幅方向について３個以上、メガネ本体１１０が切り抜かれてもよい。

以上、本発明を実施の形態を用いて説明したが、本発明の技術的範囲は上記実施の形態に記載の範囲には限定されない。上記実施の形態に、多様な変更または改良を加えることが可能であることが当業者に明らかである。その様な変更または改良を加えた形態も本発明の技術的範囲に含まれ得ることが、特許請求の範囲の記載から明らかである。

特許請求の範囲、明細書、および図面中において示した装置、システム、プログラム、および方法における動作、手順、ステップ、および段階等の各処理の実行順序は、特段「より前に」、「先立って」等と明示しておらず、また、前の処理の出力を後の処理で用いるのでない限り、任意の順序で実現しうることに留意すべきである。特許請求の範囲、明細書、および図面中の動作フローに関して、便宜上「まず、」、「次に、」等を用いて説明したとしても、この順で実施することが必須であることを意味するものではない。

１０ 製造装置 、１２ 送り出しロール、１４ 配向膜塗布部、１６ 配向膜乾燥部、１８ 露光部、２０ 液晶層塗布部、２２ 液晶層配向部、２４ 液晶層硬化部、２６ セパレートフィルム供給部、２８ 巻き取りロール、３２ 上流側エア吐出部、３４ 第１偏光光源、３５ 第２偏光光源、３８ マスク、４０ マスク保持部、４２ 下流側エア吐出部、４４ 上流側張力ロール、４６ 下流側張力ロール、５８ 遮光層、６２ 第１透過領域、６６ 第２透過領域、９２ セパレートフィルム、９４ ローラ、９６ ローラ、１００ メガネ、１１０ メガネ本体、１１２ 右目領域、１１４ 左目領域、１１６ 積層体、１２０ 偏光板、１２４ 保護層、１２６ 偏光層、１２８ 保護層、１３０ 粘着層、１４０ 偏光変調層、１４６ ベース、１４８ 配向膜、１５０ 液晶層、１５２ 配向膜、１５４ 液晶層、１６０ フレーム、１７０ 偏光板、１７１ 偏光変調層、１７２ 偏光変調層、１７３ 偏光変調層、１７４ 偏光板

Claims (11)

1. 一の吸収軸を有し、使用者の使用状態において、前記使用者の右目の前面に位置する右目領域および左目の前面に位置する左目領域に配された偏光板と、
   前記偏光板に積層され、前記右目領域において偏光を変調する第１光学軸を有するとともに、前記左目領域において偏光を変調する、前記第１光学軸とは異なる方向の第２光学軸を有し、前記右目領域と前記左目領域とが一体的に形成されている偏光変調層と
   を備えるメガネ用部材。
2. 前記偏光板は、前記右目領域と前記左目領域とにまたがって一体的に形成されている請求項１に記載のメガネ用部材。
3. 前記一の吸収軸は前記使用状態における鉛直方向に配される請求項１または２に記載のメガネ用部材。
4. 前記右目領域と前記左目領域とで少なくとも一部で非対称な形状を有する請求項１から３のいずれか１項に記載のメガネ用部材。
5. 前記偏光変調層はλ／４位相差層であって、前記第１光学軸と前記第２光学軸とのなす角は９０°である請求項１から４のいずれか１項に記載のメガネ用部材。
6. 前記偏光変調層はλ／２位相差層であって、前記第１光学軸と前記第２光学軸とのなす角は４５°または１３５°である請求項１から４のいずれか１項に記載のメガネ用部材。
7. 請求項１から６のいずれか１項に記載のメガネ用部材と、
   前記メガネ用部材を保持するフレームと
   を備えるメガネ。
8. 一の吸収軸を有する偏光板に、偏光を変調する第１光学軸を有する第１領域と、偏光を変調する、前記第１光学軸とは異なる方向の第２光学軸を有する第２領域とが一体的に形成された偏光変調層を積層した積層板を形成する工程と、
   使用者の使用状態において、前記第１領域が前記使用者の右目に位置し、前記第２領域が前記使用者の左目に位置する形状に、前記積層板を一体的に切り抜く工程と
   を備えるメガネ用部材の製造方法。
9. 前記積層板は長尺状であって、前記一の吸収軸は前記積層板の長手方向に平行である請求項８に記載のメガネ用部材の製造方法。
10. 前記偏光変調層において、前記第１領域と前記第２領域は前記長手方向に直交する方向に繰り返し配され、
    前記切り抜く工程において、前記長手方向に直交する方向に複数個切り抜かれる請求項９に記載のメガネ用部材の製造方法。
11. 第１の偏光を照射して高分子を配向させることにより、前記第１領域を形成する工程と、
    前記第１の偏光とは異なる方向の第２の偏光を照射して高分子を配向させることにより、前記第２領域を形成する工程と
    をさらに備える請求項８から１０のいずれか１項に記載のメガネ用部材の製造方法。

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