JP2014201720A - 光硬化樹脂の硬化方法及び光照射装置 - Google Patents
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Abstract
Description
最初に、本実施の形態における光硬化樹脂の硬化方法に用いられる光照射装置について図1から図3に基づき説明する。この光照射装置は、光照射の対象となる部品10の上方に設けられた光照射部20、光照射制御部30、部品10における二次元画像を撮像することのできる撮像部40、制御部50等を有している。
次に、本実施の形態における光硬化樹脂の硬化方法について、図5に基づき説明する。本実施の形態では、図6に示されるように、光が照射される部品10が、シリコン基板11に光学素子12を光硬化樹脂13により形成された接着剤により接合されるものである場合について説明する。尚、部品10において、光硬化樹脂13により形成された接着剤により接合される光学素子12は、フォトダイオードや半導体等の受発光素子の他、レンズや光ファイバ等の光学部品であってもよい。
P2=[{(Qm−Q1)×t1}/{Q1×(tm−t1)}]×P1・・・・・・(1)
このようにして、再設定された照射強度の光を照射した場合における時間と硬度との関係を図13(a)に示す。尚、図13(b)に示されるものは、積算照射量と硬度の硬化曲線であり、図12(b)と同じものである。
(付記1)
光を照射することにより硬化する樹脂に、複数の光源より光を照射する光照射工程と、
前記光の照射することにより前記樹脂より発生した蛍光の分布を撮像し、前記撮像された蛍光の分布に基づき前記樹脂の硬化の状態の分布を示す硬化画像を検出する硬化画像工程と、
前記硬化画像に基づき、前記複数の光源における各々の照射強度を設定する照射強度設定工程と、
を有することを特徴とする光硬化樹脂の硬化方法。
(付記2)
前記光は、紫外線を含む光であることを特徴とする付記1に記載の光硬化樹脂の硬化方法。
(付記3)
前記硬化画像は、二次元硬化画像であることを特徴とする付記1または2に記載の光硬化樹脂の硬化方法。
(付記4)
前記樹脂の硬化の状態は、前記樹脂からの蛍光の波長に対応して得られるものであることを特徴とする付記1から3のいずれかに記載の光硬化樹脂の硬化方法。
(付記5)
前記樹脂の硬化の状態の分布は、前記樹脂からの蛍光が長波長になるに伴い、前記樹脂の硬度が高くなるように表示されていることを特徴とする付記1から4のいずれかに記載の光硬化樹脂の硬化方法。
(付記6)
前記照射強度設定工程は、前記光源により形成される照射領域において、前記樹脂の硬化が遅れている場合には、前記光源における照射強度を高く設定することを特徴とする付記1から5のいずれかに記載の光硬化樹脂の硬化方法。
(付記7)
前記樹脂の硬化の遅れは、前記樹脂の時間と硬度との関係を示す硬化曲線に基づき判断されることを特徴とする付記1から6のいずれかに記載の光硬化樹脂の硬化方法。
(付記8)
前記照射強度設定工程は、第2の照射強度設定工程であって、
前記光照射工程の前に、前記樹脂の存在している領域を特定する樹脂領域特定工程と、
特定された前記樹脂の領域に対応して、前記複数の光源における各々の照射強度を設定する第1の照射強度設定工程と、
を有することを特徴とする付記1から7のいずれかに記載の光硬化樹脂の硬化方法。
(付記9)
前記第1の照射強度設定工程は、前記光源により形成される照射領域の中心部に前記樹脂が存在している場合には前記光源における照射強度を低く設定し、前記照射領域の周辺部に前記樹脂が存在している場合には前記光源における照射強度を高く設定することを特徴とする付記8に記載の光硬化樹脂の硬化方法。
(付記10)
光を照射することにより硬化する樹脂が存在している領域を特定する樹脂領域特定工程と、
特定された前記樹脂の領域に対応して、前記光を照射する複数の光源における各々の照射強度を設定する第1の照射強度設定工程と、
前記樹脂に、前記複数の光源より光を照射する光照射工程と、
を有することを特徴とする光硬化樹脂の硬化方法。
(付記11)
前記第1の照射強度設定工程は、前記光源により形成される照射領域の中心部に前記樹脂が存在している場合には前記光源における照射強度を低く設定し、前記照射領域の周辺部に前記樹脂が存在している場合には前記光源における照射強度を高く設定することを特徴とする付記10に記載の光硬化樹脂の硬化方法。
(付記12)
前記樹脂は、接着剤であることを特徴とする付記1から11のいずれかに記載の光硬化樹脂の硬化方法。
(付記13)
前記樹脂により接着されるものは、光学素子であることを特徴とする付記1から12のいずれかに記載の光硬化樹脂の硬化方法。
(付記14)
光を照射することにより硬化する樹脂に、光を照射する複数の光源と、
前記光源より照射された光により、前記樹脂において発生する蛍光の分布を撮像する撮像部と、
前記撮像部において撮像された蛍光の分布より、前記樹脂における硬化状態を示す硬化画像を検出する硬化画像検出部と、
前記硬化画像に基づき、前記光源の照射強度を設定する照射強度設定部と、
前記照射強度設定部において設定された照射強度の光を前記複数の光源より照射する制御を行う制御部と、
を有することを特徴とする光照射装置。
(付記15)
前記光は、紫外線を含む光であることを特徴とする付記14に記載の光照射装置。
(付記16)
前記硬化画像は、二次元硬化画像であることを特徴とする付記14または15に記載の光照射装置。
(付記17)
前記硬化画像検出部は、前記樹脂からの蛍光の波長に対応して、前記樹脂の硬化の状態を示すことにより、硬化画像を得るものであることを特徴とする付記14から16のいずれかに記載の光照射装置。
(付記18)
前記照射強度設定部は、前記光源により形成される照射領域において、前記樹脂の硬化が遅れている場合には、前記光源における照射強度を高く設定することを特徴とする付記14から17のいずれかに記載の光照射装置。
(付記19)
前記照射強度設定部は、第2の照射強度設定部であって、
前記樹脂が存在している領域を特定し、特定された前記樹脂の領域に対応して、前記光を照射する複数の光源における各々の照射強度を設定する第1の照射強度設定部を有することを特徴とする付記14から18のいずれかに記載の光照射装置。
(付記20)
第1の照射強度設定部では、前記光源により形成される照射領域の中心部に前記樹脂が存在している場合には前記光源における照射強度を低く設定し、前記照射領域の周辺部に前記樹脂が存在している場合には前記光源における照射強度を高く設定することを特徴とする付記19に記載の光照射装置。
11 シリコン基板
12 光学素子
13 光硬化樹脂
20 光照射部
20a、20b、20c、20d、20e、20f、20g 光源
21a、21b、21c、21d、21e、21f、21g 照射領域
30 光照射制御部
40 撮像部
41 撮像素子
42 ダイクロイックミラー
43 レンズ
50 制御部
51 第1の照射強度設定部
52 二次元硬化画像検出部
53 硬化ズレ検出部
54 第2の照射強度設定部
55 記憶部
56 演算部
Claims (9)
- 光を照射することにより硬化する樹脂に、複数の光源より光を照射する光照射工程と、
前記光の照射することにより前記樹脂より発生した蛍光の分布を撮像し、前記撮像された蛍光の分布に基づき前記樹脂の硬化の状態の分布を示す硬化画像を検出する硬化画像工程と、
前記硬化画像に基づき、前記複数の光源における各々の照射強度を設定する照射強度設定工程と、
を有することを特徴とする光硬化樹脂の硬化方法。 - 前記光は、紫外線を含む光であることを特徴とする請求項1に記載の光硬化樹脂の硬化方法。
- 前記樹脂の硬化の状態は、前記樹脂からの蛍光の波長に対応して得られるものであることを特徴とする請求項1または2に記載の光硬化樹脂の硬化方法。
- 前記照射強度設定工程は、前記光源により形成される照射領域において、前記樹脂の硬化が遅れている場合には、前記光源における照射強度を高く設定することを特徴とする請求項1から3のいずれかに記載の光硬化樹脂の硬化方法。
- 前記照射強度設定工程は、第2の照射強度設定工程であって、
前記光照射工程の前に、前記樹脂の存在している領域を特定する樹脂領域特定工程と、
特定された前記樹脂の領域に対応して、前記複数の光源における各々の照射強度を設定する第1の照射強度設定工程と、
を有することを特徴とする請求項1から4のいずれかに記載の光硬化樹脂の硬化方法。 - 光を照射することにより硬化する樹脂が存在している領域を特定する樹脂領域特定工程と、
特定された前記樹脂の領域に対応して、前記光を照射する複数の光源における各々の照射強度を設定する第1の照射強度設定工程と、
前記樹脂に、前記複数の光源より光を照射する光照射工程と、
を有することを特徴とする光硬化樹脂の硬化方法。 - 光を照射することにより硬化する樹脂に、光を照射する複数の光源と、
前記光源より照射された光により、前記樹脂において発生する蛍光の分布を撮像する撮像部と、
前記撮像部において撮像された蛍光の分布より、前記樹脂における硬化状態を示す硬化画像を検出する硬化画像検出部と、
前記硬化画像に基づき、前記光源の照射強度を設定する照射強度設定部と、
前記照射強度設定部において設定された照射強度の光を前記複数の光源より照射する制御を行う制御部と、
を有することを特徴とする光照射装置。 - 前記照射強度設定部は、前記光源により形成される照射領域において、前記樹脂の硬化が遅れている場合には、前記光源における照射強度を高く設定することを特徴とする請求項7に記載の光照射装置。
- 前記照射強度設定部は、第2の照射強度設定部であって、
前記樹脂が存在している領域を特定し、特定された前記樹脂の領域に対応して、前記光を照射する複数の光源における各々の照射強度を設定する第1の照射強度設定部を有することを特徴とする請求項7または8に記載の光照射装置。
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