JP2016145653A - 太陽熱集熱管、太陽光−熱変換装置及び太陽熱発電装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】本発明の太陽熱集熱管1は、内部を熱媒体2が流通可能な管3と、管3の外側表面上に形成された赤外線反射層4と、赤外線反射層4上に形成された太陽光−熱変換層5であって、ケイ化マンガンを含有する太陽光−熱変換層5と、太陽光−熱変換層5上に形成された反射防止層6とを有する。太陽光−熱変換層5に用いられるケイ化マンガンは半導体であることが好ましい。
【選択図】図1
Description
また、特許文献2には、太陽光−熱変換層として、一方に選択的コーティング、他方に放射性のコーティングを形成したシート材料を用いることが提案されている。
本発明は、上記のような問題を解決するためになされたものであり、太陽光を熱に効率的に変換することが可能な太陽熱集熱管及び太陽光−熱変換装置を提供することを目的とする。
また、本発明は、発電効率の高い太陽熱発電装置を提供することを目的とする。
すなわち、本発明は、以下の第(1)項〜第(6)項である。
(1)内部を熱媒体が流通可能な管と、前記管の外側表面上に形成された赤外線反射層と、前記赤外線反射層上に形成された太陽光−熱変換層であって、ケイ化マンガンを含有する太陽光−熱変換層と、前記太陽光−熱変換層上に形成された反射防止層とを有する太陽熱集熱管。
(2)前記ケイ化マンガンは半導体である第(1)項に記載の太陽熱集熱管。
(3)前記ケイ化マンガンはMn11Si19を主成分とする第(1)項又は第(2)項に記載の太陽熱集熱管。
(4)前記赤外線反射層と前記太陽光−熱変換層との間に光透過層がさらに形成されている第(1)項〜第(3)項のいずれか一項に記載の太陽熱集熱管。
(6)第(5)項に記載の太陽光−熱変換装置と、発電機とを有する太陽熱発電装置であって、前記太陽光−熱変換装置における前記太陽熱集熱管内の熱媒体を加熱し、且つ加熱された前記熱媒体の熱エネルギーを前記発電機で利用して電力を発生させる太陽熱発電装置。
また、本発明によれば、発電効率の高い太陽熱発電装置を提供することができる。
以下、本発明の太陽熱集熱管の好適な実施の形態について、図面を用いて説明する。
図1は、本実施の形態の太陽熱集熱管の断面図である。
図1において、本実施の形態の太陽熱集熱管1は、内部を熱媒体2が流通可能な管3と、管3の外側表面上に形成された赤外線反射層4と、赤外線反射層4上に形成された太陽光−熱変換層5と、太陽光−熱変換層5上に形成された反射防止層6とを有する。
赤外線反射層4としては、特に限定されず、当該技術分野において公知のものを用いることができる。赤外線反射層4の例としては、モリブデン(Mo)層、タングステン(W)層、銀(Ag)層、金(Au)層、銅(Cu)層等が挙げられる。その中でも、熱輻射を反射しつつ、太陽光の吸収を補助する機能に優れるモリブデン(Mo)層が好ましい。
赤外線反射層4の形成方法としては、特に限定されず、当該技術分野において公知の方法を用いることができる。例えば、化学的蒸着、物理的蒸着(スパッタリング、真空蒸着、イオンプレーティングなど)を用いることにより、赤外線反射層4を形成することができる。
太陽光−熱変換層5は、ケイ化マンガンを含有する。ケイ化マンガンを太陽光−熱変換層5に用いることにより、上記の機能を得ることができる。
ここで、「ケイ化マンガン」とは、ケイ素(Si)とマンガン(Mn)とから構成される化合物のことを意味する。ケイ化マンガンの例としては、MnSi、Mn4Si7、Mn11Si19、Mn15Si26、Mn27Si47等が挙げられる。
ケイ化マンガンは、ケイ素とマンガンとの割合によって、金属又は半導体となる。例えば、MnSiは、電気抵抗率が2×10−8Ωmの金属であるが、Mn11Si19は半導体である。
ここで、本明細書において「主成分」とは、各種成分を含有する組成のうちで最も量が多い成分のこと、具体的には50質量%よりも多い成分のことを意味する。
Mn11Si19は、バンドギャップが0.64eVの半導体であるため、このバンドギャップに相当する波長(約1937nm)よりも短波長側の光を吸収し、このバンドギャップに相当する波長よりも超波長側の光を吸収しない性質を有する。したがって、Mn11Si19は、バンドギャップに相当する波長の近傍で吸収率の傾きが急峻になる。そのため、Mn11Si19は、数百nmの波長の可視光から近赤外光に対して吸収率が大きく、且つ数千nmの波長の赤外光に対して吸収率が小さいという光学特性を有する。
また一般に、不透明な材料の輻射率(放射率)は吸収率に対応しており、ある波長域の輻射率が高い場合は、同じ波長域における吸収率も高くなる。
したがって、太陽光に対する吸収率が高く、且つ熱輻射による放熱が少ない太陽光−熱変換層5を得るためには、数百nmの波長の可視域から近赤外域の光に対する吸収率を大きくし、且つ数千nmの波長の赤外域の光に対する吸収率を小さくしなければならない。
また、本実施の形態の太陽熱集熱管1に用いられる太陽光−熱変換層5の光の波長に対する吸収率は、1000nm〜2480nmの波長領域よりも短波長側(可視光域から近赤外域)では高く、1000nm〜2480nmの波長領域よりも長波長側(赤外域)では低くなっており、つまり、1000nm〜2480nmの狭い波長領域において吸収率が急峻に変化する。このため、熱輻射による損失を低く抑えることができ、また、太陽光を効率良く吸収することができる。その結果、太陽光を熱に効率的に変換することが可能となる。一方で、光の波長に対する吸収率の変化が緩やかである場合は、近赤外域における太陽光の吸収率が低下したり、赤外域の光の輻射率が高くなったりするため、熱エネルギーのロスが増大してしまうこととなる。
太陽光−熱変換層5は、1層でもよいし、異なる種類の太陽光−熱変換部層5からなる複数層としてもよい。
反射防止層6としては、特に限定されず、当該技術分野において公知のものを用いることができる。反射防止層6の例としては、SiO2層、Al2O3層、AlN層、Cr2O3層等の透明誘電体層が挙げられる。
反射防止層6の形成方法としては、特に限定されず、当該技術分野において公知の方法を用いることができる。例えば、化学的蒸着、物理的蒸着(スパッタリング、真空蒸着、イオンプレーティング)を用いることにより、反射防止層6を形成することができる。
光透過層7は、干渉効果によって太陽光−熱変換層5での光の吸収を促進させる機能を有する。
光透過層7としては、特に限定されず、当該技術分野において公知のものを用いることができる。光透過層7の例としては、SiO2層、Al2O3層、AlN層、Cr2O3層等の透明誘電体層が挙げられる。
光透過層7の形成方法としては、特に限定されず、当該技術分野において公知の方法を用いることができる。例えば、化学的蒸着、物理的蒸着(スパッタリング、真空蒸着、イオンプレーティング)を用いることにより、光透過層7を形成することができる。
以下、本発明の太陽光−熱変換装置の好適な実施の形態につき図面を用いて説明する。
図4は、本実施の形態の太陽光−熱変換装置の断面図である。
図4において、本実施の形態の太陽光−熱変換装置10は、実施の形態1の太陽熱集熱管1と、太陽熱集熱管1に太陽光Lを集光する集光手段11とを有する。なお、図4では、図面を見易くする観点から、太陽熱集熱管1の構成の詳細は示していない。
本実施の形態の太陽熱発電装置は、実施の形態2の太陽光−熱変換装置10と、発電機とを有する。この太陽熱発電装置では、太陽光−熱変換装置10によって太陽熱集熱管1内の熱媒体2を加熱し、且つ加熱された熱媒体2の熱エネルギーを前記発電機で利用して電力を発生させる。
以下の実施例及び比較例では、太陽熱集熱管を構成する各層の積層体(管を除いた層の積層体)の特性を、光学定数(n,k)を基にして多層膜近似によって求めることで評価した。各層の光学定数については、既知のものは文献からその値を得られるが、不明な場合、実際に単層膜を作製し、多層膜近似に必要な各層の光学定数(n,k)を測定・算出することによって得た。
図5に示す構造を有する積層体の吸収特性を多層膜近似によって求めた。光学定数を測定するための単層膜の作製には、基板として石英ガラス(縦30mm×横20mm×厚さ1mm)を用い、基板温度を室温に設定し、スパッタリングによって各単層膜を成膜した。成膜後、単層膜を真空炉中で温度600〜800℃で1時間アニールした。ここで、スパッタリング時の雰囲気は、Ar雰囲気(流量20sccm、圧力0.4Pa)とした。SiO2層は、SiO2ターゲット及び高周波電流(RF)電源を用い、スパッタ電力200Wでプラズマを生成させて形成した。Mn11Si19層は、Mnターゲット、Siターゲット及び直流(DC)電源を用い、Mnのスパッタ電力5.5W、Siのスパッタ電力50Wでプラズマを生成させて形成した。
ここで、Moの光学定数(n,k)は、文献「Handbook of Optical Constants of Solids, Edward D. Palik, Academic Press, Boston, 1985」を参考にした。SiO2の光学定数(nc,kc)及びMn11Si19の光学定数(ns,ks)は、分光エリプソメータによる測定データ、並びに分光光度計で測定した反射率特性及び透過率特性から算出したデータを使用した。
図6に示す構造を有する積層体の吸収特性を多層膜近似によって求めた。光学定数を測定するための単層膜の作製は、実施例1と同様の条件で行った。MnSi層は、Mnターゲット、Siターゲット及び直流(DC)電源を用い、Mnのスパッタ電力8.0W、Siのスパッタ電力50Wでプラズマを生成させて形成した。
次に、図6に示す構造を有する積層体の吸収特性(集熱温度400℃対応)について、Moの光学定数(n,k)、SiO2の光学定数(nc,kc)、及びMnSiの光学定数(ns,ks)を基にして多層膜近似によって求めた。この結果を図4に示す。
ここで、Moの光学定数(n,k)は、文献「Handbook of Optical Constants of Solids, Edward D. Palik, Academic Press, Boston, 1985」を参考にした。SiO2の光学定数(nc,kc)及びMnSiの光学定数(ns,ks)は、分光エリプソメータによる測定データ、並びに分光光度計で測定した反射率特性及び透過率特性から算出したデータを使用した。
図7に示す構造を有する積層体の吸収特性を多層膜近似によって求めた。光学定数を測定するための単層膜の作製は、実施例1と同様の条件で行った。
次に、図7に示す構造を有する積層体の吸収特性(集熱温度400℃対応)について、Moの光学定数(n,k)及びSiO2の光学定数(nc,kc)を基にして多層膜近似によって求めた。この結果を図4に示す。
ここで、Moの光学定数(n,k)は、文献「Handbook of Optical Constants of Solids, Edward D. Palik, Academic Press, Boston, 1985」を参考にした。SiO2の光学定数(nc,kc)は、分光エリプソメータによる測定データ及び分光光度計で測定した反射率特性及び透過率特性から算出したデータを使用した。
これに対してMoを太陽光−熱変換層に用いた比較例1の積層体は、光の吸収率の変化の傾きが緩やかであり、また、吸収率が低くなり始める変化点が、実施例1及び2の太陽光−熱変換層よりも短波長側(1000nm未満の波長範囲)にあり、実施例1及び2の積層体に比べて太陽光の吸収効率が低いことがわかった。
その結果、吸収率は、実施例1が89.9%、実施例2が89.3%、比較例1が75.8%であった。また、輻射率は、実施例1が2.2%、実施例2が4.4%、比較例3が3.0%であった。また、光熱変換効率は、実施例1が88.6%、実施例2が86.6%、比較例1が74.0%であった。
Claims (6)
- 内部を熱媒体が流通可能な管と、
前記管の外側表面上に形成された赤外線反射層と、
前記赤外線反射層上に形成された太陽光−熱変換層であって、ケイ化マンガンを含有する太陽光−熱変換層と、
前記太陽光−熱変換層上に形成された反射防止層と
を有する太陽熱集熱管。 - 前記ケイ化マンガンは半導体である請求項1に記載の太陽熱集熱管。
- 前記ケイ化マンガンはMn11Si19を主成分とする請求項1又は2に記載の太陽熱集熱管。
- 前記赤外線反射層と前記太陽光−熱変換層との間に光透過層がさらに形成されている請求項1〜3のいずれか一項に記載の太陽熱集熱管。
- 請求項1〜4のいずれか一項に記載の太陽熱集熱管と、
前記太陽熱集熱管に太陽光を集光する集光手段と
を有することを特徴とする太陽光−熱変換装置。 - 請求項5に記載の太陽光−熱変換装置と、発電機とを有する太陽熱発電装置であって、
前記太陽光−熱変換装置における前記太陽熱集熱管内の熱媒体を加熱し、且つ加熱された前記熱媒体の熱エネルギーを前記発電機で利用して電力を発生させる太陽熱発電装置。
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