JP2017131978A - 封じ込めシステム - Google Patents

Abstract

【課題】従来必要であった密閉容器を用いずに、粉体やガス等の目に見えない物質が外部に漏れないように結晶サンプル等の処理対象物を封じ込めながら、処理対象物を複数の処理部間で安全にしかも容易に移動することができる封じ込めシステムを提供する。【解決手段】封じ込めシステム１は、処理対象物Ｍを封じ込めて加熱する第１処理部としての例えば真空定温乾燥機２と、第１処理部で処理された処理対象物Ｍを封じ込めて処理をする第２処理部としての例えばエンクロージャ３と、第１処理部と第２処理部の間に配置されて、第１処理部内の処理対象物Ｍを第２処理部内へ移す際に受け渡すための受け渡し部としての昇降装置２を備え、この受け渡し部としての昇降装置２は、処理対象物Ｍに付着している物質を除去するフィルタユニット１４を備える。【選択図】図１

Description

本発明は、処理対象物に所定の処理をする際に、発生する粉体やガス等の目に見えない物質や、結晶サンプル等の少量のサンプルのような物質が外部に出ないように封じ込めながら、安全に移動させる封じ込めシステムに関する。

乾燥機は、槽内に処理対象物を収容して加熱処理するのに用いられる。この種の乾燥機であるオーブンが、特許文献１に開示されている。乾燥機の槽は箱型に作られており、開閉扉を有し、槽内の雰囲気内はヒータにより加熱される構造である。

作業者は、この扉を開けて槽内に処理対象物を配置して、この扉を閉じて槽内の処理対象物を加熱した後、再び扉を開けて加熱処理済みの処理対象物を取り出すようになっている。

特開２００７−２７１１２６号公報

ところで、特許文献１に記載の乾燥機のような処理部により、例えば結晶サンプル等の処理対象物を加熱処理すると、処理対象物から粉体やガス等のハザード物質の発生が発生することがある。この処理対象物は、乾燥機のような処理部内から次の別の種類の処理部内へ移動して、次の別の処理を行うことがある。

このようにある処理部内から次の別の処理部内への処理対象物の移動を安全に行うためには、これまでは、密閉容器を用意しておく必要があった。これにより、粉体やガス等のハザード物質を含む処理対象物は、この密閉容器内に収容して封じ込めることができる。

しかし、実際の処理作業において複数の処理部間で、処理対象物を密閉容器内に封じ込めて移動する作業では、密閉容器自体の外装の汚染の問題が生じたり、密閉容器のハンドリングが煩雑になる。

本発明は、上記に鑑みてなされたもので、その目的とするところは、密閉容器を用いずに、粉体やガス等の目に見えない物質が外部に漏れないように処理対象物を封じ込めながら、処理対象物を複数の処理部間で安全にしかも容易に移動することができる封じ込めシステムを提供することにある。

上記課題を達成するため、請求項１に記載の封じ込めシステムは、処理対象物を封じ込めて所定の処理を施す封じ込めシステムであって、前記処理対象物を封じ込めて前記処理対象物を処理する第１処理部と、前記第１処理部で処理された前記処理対象物を封じ込めて処理をする第２処理部と、前記第１処理部と前記第２処理部の間に配置されて、前記第１処理部内の前記処理対象物を前記第２処理部内へ受け渡すための受け渡し部と、を備え、前記受け渡し部は、前記処理対象物に付着している物質を除去するフィルタユニットを備えることを特徴とする。

請求項１に記載の封じ込めシステムでは、受け渡し部は、第１処理部と前記第２処理部の間に配置されている。第１処理部内の処理対象物を第２処理部内へ受け渡す際に、フィルタユニットが、処理対象物に付着している物質を除去する。このため、受け渡し部は、従来必要であった密閉容器を用いずに、粉体やガス等の目に見えない物質が外部に漏れないように処理対象物を封じ込めながら、処理対象物を複数の処理部間で安全にしかも容易に移動することができる。

請求項２に記載の封じ込めシステムでは、前記フィルタユニットは、フィルタと、前記処理対象物に付着している物質を前記フィルタに吸着させるためのファンと、を有するファンフィルタユニットであることを特徴とする。

請求項２に記載の封じ込めシステムでは、ファンの動作により、処理対象物に付着している物質はフィルタにより回収できることから、処理対象物に付着している物質が受け渡し部から外部に漏れるのを防げる。

請求項３に記載の封じ込めシステムでは、前記受け渡し部は、前記処理対象物を載せる昇降台と、前記昇降台を所定の範囲で昇降可能であり、前記第１処理部内の前記処理対象物を前記第２処理部部内へ移す際に受け渡す際に前記昇降台の高さの調整を行うアクチュエータと、前記処理対象物に付着している物質を吸着して除去する際に、前記物質を除去した後の空気を下方へ導いて排出する空気排出部と、を備えることを特徴とする。

請求項３に記載の封じ込めシステムでは、アクチュエータは、昇降台の高さ位置を第１処理部と第２処理部に合わせて調整できるので、処理対象物は第１処理部から第２処理部へ、確実にしかも容易に受け渡すことができる。しかも、空気排出部は、処理対象物から生じる物質を除去した後の空気を下方に導いて排出するので、処理対象物に付着している物質が受け渡し部から外部に漏れるのを防げる。

請求項４に記載の封じ込めシステムでは、前記アクチュエータは、前記昇降台の高さを、前記第１処理部内に配置されて前記処理対象物を載せるための棚板の位置と、前記第２処理部内へ前記処理対象物を入れるための入れ込み用の開口部の位置にそれぞれ対応して調整可能であることを特徴とする。

請求項４に記載の封じ込めシステムでは、昇降台の高さ位置は、第１処理部内に配置されて処理対象物を載せるための棚板の位置と、第２処理部内へ処理対象物を入れるための入れ込み用の開口部の位置にそれぞれ合わせて調整できるので、処理対象物は、受け渡し部を介して、第１処理部内の棚板の上から第２処理部の入れ込み用の開口部を通じて、第２処理部内にスムーズにしかも安全に受け渡すことができる。

請求項５に記載の封じ込めシステムでは、前記昇降台には、前記処理対象物を載せた状態で、前記処理対象物に付着している物質と前記空気を通すための複数の孔部を有する板部材を備えることを特徴とする。

請求項５に記載の封じ込めシステムでは、処理対象物は、第１処理部から昇降台の板部材の上に載せると、処理対象物に付着している物質、例えば粉体やガス等の目に見えない物質等は、板部材の孔部を通じて回収することができる。このため、処理対象物に付着している物質を外部に漏れないように処理対象物を封じ込めながら、処理対象物を複数の処理部間で安全にしかも容易に移動することができる。

請求項６に記載の封じ込めシステムでは、前記第１処理部は、前記処理対象物を封じ込めて真空状態で加熱する真空乾燥機であり、前記第２処理部は、前記処理対象物を封じ込めるエンクロージャであることを特徴とする。

請求項６に記載の封じ込めシステムでは、処理対象物は、第１処理部である真空乾燥機により真空乾燥した後に、処理対象物に付着している物質は、受け渡し部において回収しながら、第２処理部であるエンクロージャ側に受け渡すことができる。このため、処理対象物を、真空乾燥機からエンクロージャ側に受け渡す際に、処理対象物に付着している物質を外部に漏れないように処理対象物を封じ込めることができる。

請求項７に記載の封じ込めシステムでは、前記第１処理部は、前記処理対象物を封じ込めて加熱する真空乾燥機や恒温器、安定性試験機であり、前記第２処理部は、前記処理対象物を封じ込めるエンクロージャであることを特徴とする。

請求項７に記載の封じ込めシステムでは、第１処理部としては、真空乾燥機や恒温器、安定性試験機を採用することで、各種の試験や実験等が行える。

請求項８に記載の封じ込めシステムでは、前記フィルタユニットは、バッグ内に入れて封じた状態でバッグアウト方式により取り外されることを特徴とする。

請求項９に記載の封じ込めシステムでは、前記第１処理部は、粉砕手段または分級手段であることを特徴とする。

請求項９に記載の封じ込めシステムでは、第１処理部としては、処理対象物の処理内容に応じて、固体を細かくする粉砕手段や、粉をその大きさによって級（クラス）に分ける分級手段を用いることができる。

本発明によれば、従来必要であった密閉容器を用いずに、粉体やガス等の目に見えない物質が外部に漏れないように結晶サンプル等の処理対象物を封じ込めながら、処理対象物を複数の処理部間で安全にしかも容易に移動することができる封じ込めシステムを提供できる。

本発明の封じ込めシステムの実施形態を示す正面図である。 図１に示す封じ込めシステムの平面図である。 図１に示す封じ込めシステムのエンクロージャとＨＥＰＡフィルタボックスを左側から見た側面図である。 図１に示す封じ込めシステムのエンクロージャを右側から見た側面図である。 封じ込めシステムにおける排気系統と制御系統の例を示す図である。 昇降装置の構造を示す側面図である。 昇降装置の昇降台の構造例を示す図である。 昇降装置の構造を示す正面図である。 昇降装置の構造を示す平面図である。 封じ込めシステムの使用例を示すフロー図である。

以下、図面を用いて、本発明を実施するための形態(以下、実施形態と称する)を説明する。

図１は、本発明の封じ込めシステムの実施形態を示す正面図である。図２は、図１に示す封じ込めシステム１の平面図である。図３は、図１に示す封じ込めシステム１のエンクロージャ４とＨＥＰＡフィルタボックス５を左側から見た側面図である。図４は、図１に示す封じ込めシステム１のエンクロージャ４を右側から見た側面図である。図５は、封じ込めシステム１における排気系統と制御系統の例を示す図である。

＜封じ込めシステム１の概要＞
図１と図２に示す封じ込めシステム１は、例えば半乾燥状態や未乾燥状状態の結晶サンプル等の少量のサンプル等の処理対象物Ｍを封じ込めながら処理を行う。封じ込めシステム１は、この処理対象物Ｍや、この処理対象物Ｍに対して所定の処理をする際に発生する粉体やガス等の目に見えないハザード物質を、封じ込めシステム１の外部に漏らさないようにして処理対象物Ｍを封じ込めながら、複数の処理部間で安全に移動させることができる構造を有する。この封じ込めシステム１は、好ましくは次に説明する複数の装置群から構成されている。

図１と図２に示すように、封じ込めシステム１は、好ましくは、真空定温乾燥機２と、昇降装置３と、エンクロージャ４と、ＨＥＰＡフィルタボックス５を備えている。

真空定温乾燥機２は、処理対象物Ｍを真空状態下で封じ込めて、定温加熱して乾燥させるための第１処理部の例である。エンクロージャ４は、例えば処理対象物Ｍを大気圧下で封じ込めて処理するための第２処理部の例である。

図１と図２に示す例では、昇降装置３は、第１処理部である真空定温乾燥機２と、第２処理部であるエンクロージャ４との間に配置されている。この昇降装置３は、処理対象物Ｍを封じ込めながら、真空定温乾燥機２内の処理対象物Ｍをエンクロージャ４内へ移して受け渡すための受け渡し部の一例である。

なお、図１と図２に示すＸ方向は、封じ込めシステム１の左右方向を示し、Ｙ方向は、封じ込めシステム１の前後方向（奥行き方向）を示し、そしてＺ方向は、封じ込めシステム１の上下方向（昇降方向）を示している。

図１から図４に示すように、真空定温乾燥機２と、昇降装置３と、エンクロージャ４は、それぞれアジャスタ付きの可動用のキャスタ２Ｔ、３Ｔ、４Ｔを有している。このため、真空定温乾燥機２と昇降装置３とエンクロージャ４の位置は、アジャスタ付きの可動用のキャスタ２Ｔ、３Ｔ、４Ｔを用いてそれぞれ移動することができ、真空定温乾燥機２と昇降装置３とエンクロージャ４の配置位置は変更可能である。

これにより、キャスタ２Ｔ、３Ｔ、４Ｔは、作業内容に応じて、真空定温乾燥機２と昇降装置３とエンクロージャ４の位置関係を、作業内容に応じて容易に変えることができる。そして、アジャスタ付きの可動用のキャスタ２Ｔ、３Ｔ、４Ｔのアジャスタを例えば足踏み操作することで、アジャスタは床面に突き当てることできる。従って、真空定温乾燥機２と昇降装置３とエンクロージャ４は、所定の位置で移動しないようにそれぞれ固定できる。

＜真空定温乾燥機２＞
図１と図２に示す真空定温乾燥機２は、例えば角型真空定温乾燥機であり、少なくとも１つの未乾燥あるいは半乾燥された処理対象物Ｍを、真空状態において、予め定めた定温下で、加熱して乾燥することができる。図１と図２に示すレイアウト例では、真空定温乾燥機２の開閉扉２Ｂは、昇降装置３の右側の位置において、昇降装置３側に向けて配置されている。

真空定温乾燥機２は、真空圧状態で、例えば薬品の結晶サンプルのような処理対象物Ｍを封じ込めて、パネルヒータ２Ｄにより定温下で加熱する機能を有する。真空定温乾燥機２は、耐熱性を有する金属、例えばステンレス等により作られた箱型の槽（チャンバ）である。

図１に示すように、真空定温乾燥機２は、本体部２Ａと、開閉扉２Ｂと、真空吸引部２Ｃと、パネルヒータ２Ｄを有している。本体部２Ａと開閉扉２Ｂは、図１において破線で示すように、箱型の密閉可能な直方体形状の真空加熱処理空間ＳＲを構成している。開閉扉２Ｂは、本体部２Ａに対して例えばヒンジを用いて片開き式で開閉可能に取り付けられている。開閉扉２Ｂは、閉じることで本体部２Ａの前面開口部２Ｐを密閉状態で閉鎖する。

図１に示すパネルヒータ２Ｄは、真空加熱処理空間ＳＲ内の雰囲気を、定温状態で加熱する面状のヒータであり、真空加熱処理空間ＳＲの天井面、側面、底面、そして好ましくは開閉扉２Ｂの内面側にも配置されている。これにより、パネルヒータ２Ｄは、真空加熱処理空間ＳＲ内の雰囲気内の処理対象物Ｍを、定温で加熱して乾燥することができる。

図１と図２に示すように、真空定温乾燥機２の開閉扉２Ｂは、昇降装置３に対面するように、真空定温乾燥機２の本体部２Ａが昇降装置３側に向けて配置されている。これにより、作業者が、真空定温乾燥機２の開閉扉２Ｂの取手２Ｅを持って開けて、本体部２Ａ内から処理対象物Ｍを取り出して、昇降装置３側に移す動作を、素早くしかも容易に行うことができる。

なお、真空定温乾燥機２は、開閉扉２Ｂを開閉している時には、槽内である真空加熱処理空間ＳＲ内を、排気しており、真空加熱処理空間ＳＲ内の粉体等が外部に飛散しないような構造を有する。

＜昇降装置３＞
図１と図２に示す昇降装置３は、処理対象物Ｍに付着している粉体やガス等の目に見えないハザード物質を除去するフィルタユニットを備えている。すなわち、昇降装置３は、フィルタユニット搭載型の受け渡し部の一例である。昇降装置３の位置は、可動用のキャスタ２Ｔを用いて移動して、しかも位置決め可能である。

特に好ましくは、昇降装置３は、処理対象物Ｍに付着している粉体やガス等の目に見えないハザード物質を除去するために、ＨＥＰＡフィルタユニット１４を搭載している。この昇降装置３は、真空定温乾燥機２とエンクロージャ４の間に配置されている。

図６は、昇降装置３の構造を示す側面図である。図７は、昇降装置３の昇降台１１の構造例を示す図である。図８は、昇降装置３の構造を示す正面図である。図９は、昇降装置３の構造を示す平面図である。

図１と図２と図６から図９に示す昇降装置３は、耐熱性を有する金属、例えばステンレス等により作られている。図１と図６に示すように、昇降装置３は、基部１０と、矩形型の昇降台１１と、昇降用のアクチュエータ１２と、フィルタユニットである好ましくはＨＥＰＡフィルタユニット１４を備える。

図２と図６に示すように、基部１０は、昇降台１１を支えると共に、ＨＥＰＡフィルタユニット１４を収容している。この基部１０は、Ｙ方向に沿って長くなるように長方形状で、しかも箱型に形成されている。基部１０は、昇降台１１を支える領域１０Ａと、昇降台１１からＹ方向に突き出てＨＥＰＡフィルタユニット１４を収容している領域１０Ｂを有する。

図１と図２に示す昇降台１１は、特に耐熱性を有する金属、例えば鋼等により作られている。図７に示すように、昇降台１１は、例えば矩形型の中空の部材である。図１と図２と図７に示すように、昇降台１１の上面部には、作業面を形成する作業面部１３が、着脱可能に配置されている。この作業面部１３は、好ましくは耐熱性を有する、例えばステンレス製のパンチングした矩形型の板部材である。

図２と図７に示すように、この作業面部１３には、好ましくはその全面に渡って、例えば複数の孔部１３Ｈが、形成されている。作業面部１３が、必要に応じて昇降台１１から取り外せるので、作業面部１３の孔部１３Ｈが詰まった場合等における清掃等のメンテナンス作業が容易にできる。

これにより、真空定温乾燥機２において真空加熱された処理対象物Ｍを、受け渡す際に、この昇降台１１の作業面部１３の上に載せると、作業面部１３は、加熱済みの処理対象物Ｍが発生している熱を複数の孔部１３Ｈを通じて放散する。しかも、図７に例示するように、作業面部１３は、複数の孔部１３Ｈを通じて、処理対象物Ｍの粉体等のハザード物質を含む空気ＤＲを、昇降台１１の空間１１Ｓ内へ通過させる。

図６と図８に示すように、基部１０の領域１０Ａの上には、固定板部８５が水平に固定されている。昇降台１１の下部は、支持部材８７の上部に固定されている。支持部材８７の下部は、可動板部８６の上に固定されている。

可動板部８６は、固定板部８５の上部に平行に配置されており、可動板部８６と固定板部８５は、図８に示すように左右のリンク部８０，８０により連結されている。各リンク部８０の第１リンク部材８１と第２リンク部材８２の中間部は、連結部材８３で連結している。これにより、可動板部８６と昇降台１１は、固定板部８５に対して、Ｚ方向に沿って移動可能である。

図２と図８に示すように、昇降用のアクチュエータ１２の本体の端部は、基部１０の領域１０Ａ側の固定板部８５に例えばピンを用いて取り付けられている。図８に示すように、この昇降用のアクチュエータ１２の伸縮ロッド１２Ｒは、昇降台１１の下部の可動板部８６に例えばピンを用いて取り付けられている。昇降用のアクチュエータ１２としては、例えば油圧シリンダや空気圧シリンダあるいは電動シリンダを採用できる。あるいは、昇降用のアクチュエータ１２としては、モータとこのモータの出力軸に連結された送りネジとから成るリニアアクチュエータであっても良い。

図８に示す昇降用のアクチュエータ１２は、制御部１００の指令により、基部１０側を基準として、図６に示す昇降台１１の作業面部１３を、Ｚ方向に沿って所定ストロークＳＴだけ、上限位置ＵＬと下限位置ＬＬの間で、昇降台１１の作業面部１３を昇降する。これにより、ことにより、昇降台１１の作業面部１３は、ストロークＳＴ間において、複数の高さ位置において、位置決め可能である。

好ましくは、図１と図６に示すこの上限位置ＵＬのＺ方向の高さ位置は、真空定温乾燥機２の真空加熱処理空間ＳＲの領域の最も上段の棚板の位置に対応している。また、下限位置ＬＬのＺ方向の高さ位置は、次に説明するエンクロージャ４の入れ込み用の開口部２０の位置に合わせて、設定されている。例えば、昇降台１１は、真空定温乾燥機２の真空加熱処理空間ＳＲ内に配置された複数段の棚板の位置に合わせて、上限位置ＵＬと下限位置ＬＬの間で、複数の高さ位置において、それぞれ位置決め可能である。

これにより、作業者は、図１に示す真空定温乾燥機２の開閉扉２Ｂを開けて、真空加熱処理空間ＳＲ内の棚板から処理対象物Ｍを取り出して、昇降台１１の上に素早く載せて、その後この処理対象物Ｍを、昇降台１１上から、エンクロージャ４の開口部２０を通じて、エンクロージャ４内の作業空間Ｇ内に素早く移して受け渡すことができる。このため、この処理対象物Ｍの受け渡し作業は、昇降装置３を用いることで、容易にしかも安全に行うことができる。

また、上述したように、昇降台１１が真空定温乾燥機２の真空加熱処理空間ＳＲ内に配置された複数段の棚板の位置に合わせて、上限位置ＵＬと下限位置ＬＬの間で、複数の高さ位置において、それぞれ位置決め可能である。このため、例えば未乾燥あるいは半乾燥された処理対象物Ｍを、真空定温乾燥機２の真空加熱処理空間ＳＲ内に入れて乾燥処理しようとする場合に、昇降台１１の上に載せたこの処理対象物Ｍは、真空定温乾燥機２の真空加熱処理空間ＳＲ内に配置された各棚板の上に、容易に入れて載せることができる。

図６と図８に示すように、ＨＥＰＡフィルタユニット１４の配置位置は、基部１０において、昇降台１１の配置位置とは異なる位置、すなわちＹ方向にずれた位置に配置されている。すなわち、ＨＥＰＡフィルタユニット１４は、基部１０の領域１０Ａ内ではなく、基部１０の領域１０Ｂ内に配置されている。

このＨＥＰＡフィルタユニット１４の構造例は、図６と図９に示している。図６と図９に示すように、フィルタユニット１４は、フィルタ１５と、送風ファン１６とから成るＨＥＰＡ内蔵のファンフィルタユニットであり、室内開放型消音機付きの装置である。フィルタ１５は、必要に応じて交換可能である。

このフィルタ１５としては、排気フィルタとして例えば空気清浄が求められる分野で使用される高性能フィルタであるＨＥＰＡフィルタを使用することが好ましい。しかし、フィルタ１５としては、ＨＥＰＡフィルタの他には、活性炭等の吸着材を用いた吸着材フィルタを用いることができるが、特に限定されない。

図６と図９に示すように、昇降台１１の位置とフィルタユニット１４の位置は、Ｙ方向に関してずらしてある。しかも、昇降台１１は、Ｚ方向に昇降する。そこで、位置の異なる昇降台１１とフィルタユニット１４とを接続チューブにより接続するために、昇降台１１とフィルタユニット１４は、伸縮自在の接続管としてのフレキシブルチューブ１７により、接続されている。

図７に示すように、フレキシブルチューブ１７の一端部１７Ａは、昇降台１１の接続口１１Ｐに対して、着脱可能に取り付けられている。この接続口１１Ｐは、昇降台１１の空間１１Ｓに繋がっている。図６と図９に示すように、フレキシブルチューブ１７の他端部１７Ｂは、フィルタユニット１４の接続口１４Ｐに対して着脱可能に取り付けられている。この接続口１４Ｐは、フィルタユニット１４の送風ファン１６の上部に位置されている。

このように、昇降台１１とフィルタユニット１４は、伸縮自在の接続管としてのフレキシブルチューブ１７により接続されていることにより、図１に示すように昇降台１１が昇降動作しても、フレキシブルチューブ１７は、昇降台１１とフィルタユニット１４を昇降台１１の昇降動作に追従しながら弾性変形することにより、確実に接続状態を維持できる。

図８と図９に例示するように、フィルタユニット１４では、送風ファン１６はフィルタ１５の上流側に配置されている。フィルタ１５の下流側には、空気排出部としての下方排気部１９が配置されている。下方排気部１９は下方排気スリット部ともいう。

フィルタユニット１４の送風ファン１６が駆動すると、図７に例示するように、処理対象物Ｍからの粉体等のハザード物質を含む空気ＤＲは、作業面部１３の孔部１３Ｈを通って昇降台１１の空間１１Ｓを経て、図６に示すフレキシブルチューブ１７を通ることで、フィルタユニット１４側へ送るようになっている。

これにより、図８において、粉体等のハザード物質は、このフィルタユニット１４のフィルタ１５により捕獲されて、空気Ｎはクリーンになる。そして、クリーンになった空気Ｎは、下方排気部１７を通じて、スリットである排気開口部２０１から外部に放出することができる。

なお、図５と図６に示す使用後のＨＥＰＡフィルタのようなフィルタ１５は、例えば収容用のバッグに入れてから、さらに好ましくは回収用バッグ内には、収容用のバッグごとフィルタ１５を入れて包んだままの状態で、フィルタ１５を取り外すことができる。これにより、処理対象物Ｍを、真空定温乾燥機２内からエンクロージャ４内に移動する際に、使用後のフィルタ１５から粉体等のハザード物質が、飛散するのを防止できる。

ところで、真空定温乾燥機２は、開閉扉２Ｂを開閉している時には、槽内である真空加熱処理空間ＳＲ内を、上述した昇降装置３のフィルタユニット１４の送風ファン１６を回転せることで、排気することができる。これにより、真空定温乾燥機２の真空加熱処理空間ＳＲ内の粉体等が、真空定温乾燥機２の外部に飛散しない。

＜エンクロージャ４＞
図１と図２に示すエンクロージャ４は、昇降装置３の左側に配置されている。

このエンクロージャ４は、好ましくは、すでに説明したように真空加熱処理済みの処理対象物Ｍと、その処理対象物Ｍを処理するための対象の機器を作業空間Ｇに収容して、この機器を用いて、所定の処理作業を行う。この所定の処理作業としては、例えば結晶サンプルのような処理対象物Ｍを天秤で秤量して、処理対象物Ｍを小分けする作業である。

このエンクロージャ４は、その庫内の作業空間Ｇにおいて、作業者により機器Ｍを用いて、求められる作業を行う際に、好ましくは、空気を低風量ドラフトで通過させる低風量ドラフトチャンバである。この作業としては、上述したように、例えば結晶サンプルのような乾燥済みの処理対象物Ｍの分量を、天秤を用いて秤量して小分けしてする処理であるが、特に限定されない。

このエンクロージャ４は、近年省エネルギーの観点から、従来の風量より少ない排気風量で稼働できるものが求められている。エンクロージャ４としては、好ましくは例えば排気風量が常に一定（ＣＡＶ：定風量制御）である定風量型のものが採用できる。しかし、エンクロージャ４は、これに限らず、更なる省エネルギー化の観点から、この定風量型のものに対して、ＶＡＶ（可変風量制御）方式を組み合わせる可変風量型の物であっても良い。

エンクロージャ４は、作業や実験における被処理物を内部の作業空間において処理する際に、作業者が被処理物や有害物質の影響を受けないように、内部の作業空間Ｇの雰囲気を外部から隔離する構造を有している。エンクロージャ４は、作業者を保護することを目的とした局所排気装置であり、危険物質や有害物質の封じ込め機能と、排気機能を有した囲われた作業空間Ｇを持っている。

図１に示すエンクロージャ４は、例えばナノエンクロージャともいい、本体３０を有する。この本体３０は、例えば正面側から見ると横長の長方形になっている。本体３０は、ケース部３１と、架台部３２を有する。ケース部３１の内部の作業空間Ｇは、本体３０の外部に対して閉じたクローズドチャンバ構造を有する。ケース部３１は、架台部３２と一体化された構造になっており、ケース部３１は、架台部３２の上に固定されている。

図１と図２に示すように、ケース部３１は、前面部４０と、上面部４１と、背面部４２と、左右の側面部４３，４４を有している。作業空間Ｇは、横長のほぼ直方体形状を有する空間である。ケース部１１の前面には、横長の長方形状の前面開口４５を有している。この前面開口４５は、作業者が例えば対象の機器Ｍを作業空間Ｇ内に搬入したり、搬出するのに用いる。

図１と図２に示すように、ケース部３１の前面開口４５は、左側の第１前面扉５１と、中央の第３前面扉５２と、右側の第３前面扉５３により、閉されている。第１前面扉５１と第３前面扉５２と第３前面扉５３は、左右方向（Ｘ方向）にそれぞれ手動でスライド操作することにより、前面開口４５は、開閉可能になっている。

第１前面扉５１と第３前面扉５２と第３前面扉５３は、それぞれ透明な強化ガラスを有するスライドサッシ扉になっているので、作業者は、第１前面扉５１と第３前面扉５２と第３前面扉５３を通して、作業空間Ｇ内の機器、例えば天秤等を直接観察することができる。

図３と図４に示す左右の側面部４３，４４は、好ましくは作業空間Ｇ内が見えるようにするために強化ガラスの透明板である。左側の側面部４３には、グローブポート４６が設けられている。このグローブポート４６は、作業者の手を挿入して作業空間Ｇ内で作業を行うための挿肢口である。右側の側面部４４には、上述した処理対象物Ｍを入れ込むための開口部２０が設けられている。この処理対象物Ｍを入れ込むための開口部２０は、開閉蓋２１により手動で閉じることができる。

本体３０は、図５に示すように、複数の排気口４Ｈを備えている。排気口４Ｈは、本体３０の上部であってしかも後側の位置において、上方に向けて突出して設けられている。次に説明するＨＥＰＡフィルタボックス５の駆動ファン７０が動作することで、作業空間Ｇ内の空気や粉体等を複数の排気口４Ｈを通じて作業空間Ｇ内から外部に排出できる。

＜ＨＥＰＡフィルタボックス５＞
図２と図３に示すＨＥＰＡフィルタボックス５は、本体７１を有するフィルタ装置である。ＨＥＰＡフィルタボックス５は、エンクロージャ４内の作業空間Ｇ内の粉体等のハザード物質等を含む空気を集めて、粉体等のハザード物質を集塵する機能を有する。

図３に示すように、ＨＥＰＡフィルタボックス５の本体７１内には、プレフィルタ６１と、ＨＥＰＡフィルタ(ＰＴＦＥ)６２が着脱可能に装着されている。

図３に示すように、ＨＥＰＡフィルタボックス５は、駆動ファン７０と、本体７１と、排気部７２を有する。本体７１は、金属製の箱体であり、本体７１の前面は、蓋部材７３と、蓋部材７４を有する。蓋部材７３，７４は、それぞれ本体７１の開口部７５，７６を閉鎖するために、例えば複数本のネジを用いて本体７１に対して固定されている。

これにより、作業者は、これらの蓋部材７３を取り外すことで、開口部７５を通じて、新しいプレフィルタ６１を装着したり、使用済みのプレフィルタ６１を取り外すことができる。同様にして、作業者は、これらの蓋部材７４を取り外すことで、開口部７６を通じて、新しいＨＥＰＡフィルタ６２を装着したり、使用済みのＨＥＰＡフィルタ６２を取り外すことができる。

プレフィルタ６１は、例えば活性炭等の吸着材フィルタであり、ＨＥＰＡフィルタ６２は、空気清浄が求められる分野で使用される高性能フィルタである。

図３に示す駆動ファン７０が駆動されることにより、エンクロージャ４のケース部３１の作業空間Ｇ内の粉体等のハザード物質等を含む空気ＢＲが本体７１内に取り込まれ、プレフィルタ６１が予め大きな物質を空気ＢＲから取り除き、その後ＨＥＰＡフィルタ６２がより小さな物質を空気ＢＲから取り除くようになっている。

なお、図３と図５に示す使用後のプレフィルタ６１とＨＥＰＡフィルタ６２は、それぞれ例えば収容用のバッグに入れてから、さらに好ましくは回収用バッグ内には、収容用のバッグごとプレフィルタ６１とＨＥＰＡフィルタ６２を別々に入れて、包んだままの状態でプレフィルタ６１とＨＥＰＡフィルタ６２を取り外すことができる。これにより、プレフィルタ６１とＨＥＰＡフィルタ６２に付着している粉体等のハザード物質が、外部に飛散するのを防止できる。

次に、図５を参照して、図１と図２に示す封じ込めシステム１における排気系統と、制御系統の好ましい例を説明する。

＜封じ込めシステム１における排気系統２００＞
まず、図５を参照して、封じ込めシステム１における排気系統の好ましい例を説明する。

封じ込めシステム１における排気系統２００は、昇降装置３の排気開口部２０１と、エンクロージャ４とＨＥＰＡフィルタボックス５とを接続する排気管路２２０を備える。

すでに説明したように、排気開口部２０１は、図６と図８に示す昇降装置３の本体１０の領域１０Ｂ内のフィルタユニット１４の下流側に接続されている。処理対象物Ｍがこの昇降台１１の作業面部１３上に載っていると、この処理対象物Ｍの粉体等のハザード物質は、排気ファン１６の回転により、昇降装置３内のフィルタユニット１４のフィルタ１５により捕獲され、図８に示すように、清浄化された空気Ｎが排気開口部２０１から、本体１０の外部に排出される。

一方、図５に示す排気管路２２０としては、図２と図３に例示するように、例えば伸縮可能なフレキシブルチューブを用いることができる。この排気管路２２０の一端部２２１は、エンクロージャ４の上部に配置された複数の排気口４Ｈに着脱可能に接続されている。排気管路２２０の他端部２２２は、ＨＥＰＡフィルタボックス５の駆動ファン７０側の接続口に着脱可能に接続されている。

＜封じ込めシステム１における制御系統３００＞
図５に示す制御部１００は、真空定温乾燥機２における真空吸引部２Ｃの吸引動作と、パネルヒータ２Ｄの通電動作を制御する。制御部１００は、昇降装置３の排気ファン１６の回転動作と、昇降用のアクチュエータ１２の伸縮動作の制御をする。制御部１００は、ＨＥＰＡフィルタボックス５の駆動ファン７０の回転動作の制御をする。

＜封じ込めシステム１の使用例＞
次に、上述した構成を有する封じ込めシステム１の使用例を、図１０を参照して説明する。

図１０は、封じ込めシステム１の使用例を示すフロー図である。

図１０のステップＳＴ１では、図１に示す真空定温乾燥機２の本体部２Ａにおいて、開閉扉２Ｂを開いて、処理対象物Ｍは、箱型の密閉可能な直方体形状の真空加熱処理空間ＳＲ内に配置される。

この際には、昇降台１１が真空定温乾燥機２の真空加熱処理空間ＳＲ内に配置された複数段の棚板の位置に合わせて、図１に示す上限位置ＵＬと下限位置ＬＬの間で、複数の高さ位置において、それぞれ位置決め可能になっている。

これにより、まずは、昇降台１１の上に載せた未乾燥あるいは半乾燥の処理対象物Ｍを、真空定温乾燥機２の真空加熱処理空間ＳＲ内に配置された各棚板の上に引き入れて載せる作業が、容易にしかも確実に行える。このようにして、処理対象物Ｍは、真空加熱処理空間ＳＲ内の複数段の棚板の内のいずれかの高さ位置の棚板の上に置かれる。

図１に示す開閉扉２Ｂを閉じて真空加熱処理空間ＳＲを密閉した後、パネルヒータ２Ｄが、制御部１００の指令により、真空加熱処理空間ＳＲ内の雰囲気を、定温状態で加熱する。これにより、未乾燥あるいは半乾燥の処理対象物Ｍは、所定の乾燥温度で安定して定温乾燥することができる。

処理対象物Ｍの定温乾燥が終了すると、図１に示す真空定温乾燥機２の開閉扉２Ｂを開ける。真空定温乾燥機２の開閉扉２Ｂは、昇降装置３に対面するように、真空定温乾燥機２の本体部２Ａが向けて配置されている。これにより、作業者が、真空定温乾燥機２の開閉扉２Ｂの取手２Ｅを持って開けて、本体部２Ａ内から乾燥された処理対象物Ｍを取り出して、昇降装置３側に受け渡す動作を、容易にしかも確実に行うことができる。

次に、図１０のステップＳＴ２では、図８に示す制御部１００の指令により、図１と図６において、昇降用のアクチュエータ１２は、昇降台１１を、Ｚ方向に沿って所定ストロークＳＴの間で昇降して、上限位置ＵＬと下限位置ＬＬの間で、複数段階で位置決め可能である。例えば、昇降台１１は、真空定温乾燥機２の真空加熱処理空間ＳＲ内において、乾燥後の処理対象物Ｍが置かれた棚板の位置に合わせて、上限位置ＵＬと下限位置ＬＬの間で、Ｚ方向に関して高さ方向の位置決めが行われる。

これにより、作業者は、図１に示す真空定温乾燥機２の開閉扉２Ｂを開けて、真空加熱処理空間ＳＲ内から乾燥された処理対象物Ｍを取り出して、容易にしかも安全に、素早く昇降台１１側に受け渡して昇降台１１の作業面部１３の上に載せることができる。

図１０のステップＳＴ３では、上述したように昇降装置３が、処理対象物Ｍを、真空定温乾燥機２からエンクロージャ４内の作業空間Ｇ内に受け渡す際には、昇降台１１に載せた状態の乾燥された処理対象物Ｍに付着している粉体等のハザード物質は、次のようにして安全に処理される。

具体的には、図６に示す制御部１００の指令により、フィルタユニット１４の送風用のファン１６が駆動すると、図７に示す処理対象物Ｍの粉体等のハザード物質を含む空気ＤＲは、搭載台１１の空間１１Ｓからフレキシブルチューブ１７を通じて、図６に示すフィルタユニット１４側へ吸引してフィルタユニット１４に通す。

このため、粉体等のハザード物質を含む空気は、図８に示すこのフィルタユニット１４のフィルタ１５により捕獲してクリーンな空気Ｎとなる。そして、クリーンになった空気Ｎが、下方排気案内部１７内に導かれた後に、排気開口部２０１から外部に放出する。

このようにして、昇降装置３が、処理対象物Ｍを、真空定温乾燥機２からエンクロージャ４内の作業空間Ｇ内に受け渡す際に、粉体等のハザード物質は、処理対象物Ｍから吸引して回収できるので、粉体等のハザード物質が、昇降装置３の周囲に飛散するのを防止することができる。

図１０のステップＳＴ４では、図５の制御部１００の指令により、図１に示す昇降用のアクチュエータ１２は、昇降台１１を、Ｚ方向に沿って下限位置ＬＬに下げると、昇降台１１の位置は、エンクロージャ４の開口部２０の位置に合わせることができる。

これにより、乾燥された処理対象物Ｍは、昇降台１１上から、エンクロージャ４の開口部２０を通じて、エンクロージャ４内の作業空間Ｇ内に移す受け渡し作業を、素早く行うことができ、この受け渡し作業を、容易にしかも安全に行うことができる。

図１０のステップＳＴ５では、処理対象物Ｍには、図１に示すエンクロージャ４内の作業空間Ｇ内において、所定の処理が行われる。この所定の処理とは、例えば乾燥された結晶サンプル等の処理対象物Ｍを天秤で秤量して、所定量に小分けする作業等であるが、特に限定されない。

図１０のステップＳＴ６では、エンクロージャ４において処理対象物Ｍの処理中には、図５に示す制御部１００の指令により、図３に示す駆動ファン７０が駆動されることにより、図３に示すエンクロージャ４のケース部３１内の粉体等のハザード物質等を含む空気ＢＲが、排気系統２００の排気管路２２０を介して、本体７１内に取り込まれる。

これにより、図３のプレフィルタ６１が、粉体等のハザード物質等を含む空気ＢＲから予め大きな物質を取り除き、その後ＨＥＰＡフィルタ６２が、より小さな物質を空気ＢＲから取り除いて、排気部７２から清浄化された空気Ｎとして排出される。エンクロージャ４内の作業空間Ｇ内から粉体等が外部に飛散することがなくなり、封じ込めシステム１が配置された周囲の環境に悪影響を与えない。

その後、図１０のステップＳＴ７では、図１に示すエンクロージャ４内の作業空間Ｇ内から処理済みの処理対象物Ｍが、取り出される。

上述したように、図５と図３に示す使用後のフィルタ１５,６１,６２を回収して新しいフィルタに交換する場合には、使用後のフィルタ１５,６１,６２は、好ましくは、それぞれ収容用のバッグに入れてから、さらに好ましくは回収用バッグ内には、収容用のバッグごとフィルタ１５，６１,６２を入れた状態で、フィルタ１５，６１,６２を取り外すことができる。

これにより、使用後のフィルタ１５,６１,６２を回収して交換する際に、使用後のフィルタ１５,６１,６２から粉体等のハザード物質が、周囲に飛散するのを防止できる。このフィルタ１５，６１,６２を取り除く方式は、バッグアウト方式（Ｂａｇｏｕｔ方式）と呼ぶことができる。

以上説明したように、本発明の実施形態の封じ込めシステム１は、処理対象物Ｍを封じ込めて、複数の処理部において順次所定の処理を施すためのシステムである。

この封じ込めシステム１は、処理対象物Ｍを封じ込めて加熱対象物Ｍを処理する第１処理部としての例えば真空定温乾燥機２と、第１処理部で処理された処理対象物Ｍを封じ込めて処理をする第２処理部としての例えばエンクロージャ４と、第１処理部と第２処理部の間に配置されて、第１処理部内の処理対象物Ｍを第２処理部内へ移す際に受け渡すための受け渡し部としての昇降装置２を備える。そして、この受け渡し部としての昇降装置２は、処理対象物Ｍに付着している物質を除去するフィルタユニット１４を備える。

これにより、封じ込めシステム１では、受け渡し部としての昇降装置２は、第１処理部と第２処理部の間に配置されて、第１処理部内の処理対象物Ｍを第２処理部内へ移す際に受け渡す際に、フィルタユニット１４が、処理対象物Ｍに付着している物質を除去する。

このため、封じ込めシステム１は、従来必要であった密閉容器を用いずに、粉体やガス等の目に見えないハザード物質のような処理対象物Ｍに付着している物質が外部に漏れないように結晶サンプル等の処理対象物Ｍを封じ込めながら、処理対象物Ｍを複数の処理部間で安全にしかも容易に移動することができる。

従来では、密閉容器を用意しておき、粉体やガス等のハザード物質を密閉容器内に収容して封じ込める必要があった。このため、従来では、密閉容器自体の外装の汚染や密閉容器のハンドリングが煩雑になり、処理作業工程が複雑になっていた。

しかし、本発明の実施形態の封じ込めシステム１では、このような密閉容器が不要となり、封じ込めシステム１を用いることで、粉体やガス等の目に見えないハザード物質の移動に関わる安全度（安心度）を上げることができる。

また、このフィルタユニット１４は、フィルタ１５と、処理対象物Ｍに付着している物質を、好ましくはＨＥＰＡフィルタのようなフィルタ１５に吸着させるためのファン１６を有するファンフィルタユニットである。

これにより、封じ込めシステム１では、ファンの動作により、処理対象物Ｍに付着している物質は、好ましくはＨＥＰＡフィルタのようなフィルタ１５に吸着させて回収できる。従って、処理対象物Ｍから生じる物質が受け渡し部としての昇降装置２から外部に漏れるのを防げる。

封じ込めシステム１では、受け渡し部としての昇降装置２は、処理対象物Ｍを載せる昇降台１１と、昇降台１１を所定の範囲で昇降可能であり、第１処理部内の処理対象物Ｍを第２処理部部内へ受け渡す際に昇降台１１の高さの調整を行うアクチュエータ１２と、処理対象物Ｍに付着している物質を吸着して除去する際に、物質を除去した後の空気を下方へ導いて排出する空気排出部としての下方排気部１９と、を備える。

これにより、封じ込めシステム１では、アクチュエータ１２は、昇降台の高さ位置を第１処理部と第２処理部に合わせて調整できるので、処理対象物Ｍは第１処理部から第２処理部へ、容易にしかも安全に受け渡すことができる。しかも、空気排出部としての下方排気部１９は、処理対象物Ｍから生じる物質を除去した後の空気を下方に導いて排出するので、処理対象物Ｍから生じる物質が受け渡し部としての昇降装置２から外部に漏れるのを防げる。

また、封じ込めシステム１では、アクチュエータ１２は、昇降台１１の高さを、第１処理部例えば真空定温乾燥機２内に配置されて処理対象物Ｍを載せるための棚板の位置と、第２処理部としてのエンクロージャ４内へ処理対象物を入れるための入れ込み用の開口部２０の位置にそれぞれ対応して調整可能である。

これにより、昇降台の高さ位置は、第１処理部内に配置されて処理対象物を載せるための棚板の位置と、第２処理部内へ処理対象物を入れるための入れ込み用の開口部の位置にそれぞれ合わせて調整できるので、処理対象物は、受け渡し部を介して、第１処理部内の棚板の上から第２処理部の入れ込み用の開口部を通じて、第２処理部内にスムーズにしかも安全に受け渡すことができる。

封じ込めシステム１では、昇降台１１には、処理対象物Ｍを載せた状態で、処理対象物Ｍに付着している物質と空気を通すための複数の孔部１３Ｈを有する板部材１３を備える。

これにより、封じ込めシステム１では、処理対象物Ｍは、第１処理部から昇降台１１の板部材１３の上に載せると、粉体やガス等の目に見えない物質は、板部材の孔部１３Ｈを通じて回収することができる。従って、粉体やガス等の目に見えない物質を外部に漏れないように処理対象物Ｍを封じ込めながら、処理対象物Ｍを複数の処理部間で安全にしかも容易に移動することができる。

封じ込めシステム１では、第１処理部は、処理対象物Ｍを封じ込めて真空状態で加熱する真空乾燥機であり、第２処理部は、処理対象物Ｍを封じ込めるエンクロージャである。

これにより、封じ込めシステム１では、処理対象物Ｍは、第１処理部である真空乾燥機により真空乾燥した後に、処理対象物Ｍから生じる物質は、受け渡し部において回収しながら、第２処理部であるエンクロージャ側に受け渡すことができる。このため、粉体やガス等の目に見えない物質を外部に漏れないように処理対象物Ｍを封じ込めながら、処理対象物Ｍを複数の処理部間で安全にしかも容易に移動することができる。

封じ込めシステム１では、第１処理部は、処理対象物Ｍを封じ込めて加熱する真空乾燥機や恒温器、安定性試験機であり、第２処理部は、処理対象物を封じ込めるエンクロージャである。これにより、第１処理部としては、真空乾燥機や恒温器、安定性試験機を採用することで、各種の試験や実験等が行える。

封じ込めシステム１では、フィルタユニットは、バッグ内に入れて封じたバッグアウト方式により取り外される。これにより、取り換えの際に、フィルタユニットから粉体等のハザード物質が、周囲に飛散するのを防止できる。

封じ込めシステム１では、第１処理部としては、加熱をする真空定温乾燥機に限らず、処理対象物の処理内容に応じて、固体を細かくする粉砕手段（粉砕装置）や、粉をその大きさによって級（クラス）に分ける分級手段（分級装置）を用いることができる。この粉砕手段は、何らかの固体を何らかの方法で細かく砕くことができる。分級手段は、粉（固体が極めて細かい粒の集まりとなっている状態）をその大きさによって級(クラス)に分けることができる。分級により粒の大きさを揃えることによって、粉体の性質が変わる。

以上、実施形態を挙げて本発明を説明したが、各実施形態は一例であり、特許請求の範囲に記載される発明の範囲は、発明の要旨を逸脱しない範囲内で種々変更できるものである。

第１処理部の例としては、真空状態下で処理対象物を封じ込める真空定温乾燥機２を用いている。しかし、第１処理部としては、真空定温乾燥機２以外の他の種類の機器として、大気圧下あるいは真空圧下で、処理対象物を封じ込めて加熱する恒温器、定温乾燥機、恒温乾燥機等の各種の機器であっても良い。第１処理部は、処理対象物を封じ込めて加熱する真空乾燥機や恒温器の他に、安定性試験機であっても良い。

第２処理部の例として大気圧下で処理対象物を封じ込めるエンクロージャ４を用いている。しかし、第２処理部としては、処理対象物を封じ込めることができるエンクロージャ４以外の各種の機器であっても良い。

１ 封じ込めシステム
２ 真空定温乾燥機（第１処理部の例）
３ 昇降装置（受け渡し部の例）
４ エンクロージャ（第２処理部の例）
５ ＨＥＰＡフィルタボックス
１０ 昇降装置の本体
１１ 昇降装置の昇降台
１２ 昇降装置のアクチュエータ
１３ 昇降装置の作業面部
１４ フィルタユニット
１５ フィルタ
１６ 送風ファン
１９ 下方排出部（空気排出部の例）
２０ 入れ込み用の開口部
１００ 制御部
２００ 排気系統
３００ 制御系統

Claims (9)

1. 処理対象物を封じ込めて所定の処理を施す封じ込めシステムであって、
   前記処理対象物を封じ込めて前記処理対象物を処理する第１処理部と、
   前記第１処理部で処理された前記処理対象物を封じ込めて処理をする第２処理部と、
   前記第１処理部と前記第２処理部の間に配置されて、前記第１処理部内の前記処理対象物を前記第２処理部内へ移す際に受け渡すための受け渡し部と、を備え、
   前記受け渡し部は、前記処理対象物に付着している物質を除去するフィルタユニットを備えることを特徴とする封じ込めシステム。
2. 前記フィルタユニットは、フィルタと、前記処理対象物に付着している物質を前記フィルタに吸着させるためのファンと、を有するファンフィルタユニットであることを特徴とする請求項１に記載の封じ込めシステム。
3. 前記受け渡し部は、
   前記処理対象物を載せる昇降台と、
   前記昇降台を所定の範囲で昇降可能であり、前記第１処理部内の前記処理対象物を前記第２処理部部内へ受け渡す際に前記昇降台の高さの調整を行うアクチュエータと、
   前記処理対象物に付着している物質を吸着して除去する際に、前記物質を除去した後の空気を下方へ導いて排出する空気排出部と、
   を備えることを特徴とする請求項１または２に記載の封じ込めシステム。
4. 前記アクチュエータは、前記昇降台の高さを、前記第１処理部内に配置されて前記処理対象物を載せるための棚板の位置と、前記第２処理部内へ前記処理対象物を入れるための入れ込み用の開口部の位置にそれぞれ対応して調整可能であることを特徴とする請求項３に記載の封じ込めシステム。
5. 前記昇降台には、前記処理対象物を載せた状態で、前記処理対象物に付着している物質と前記空気を通すための複数の孔部を有する板部材を備えることを特徴とする請求項３または４に記載の封じ込めシステム。
6. 前記第１処理部は、前記処理対象物を封じ込めて真空状態で加熱する真空乾燥機であり、前記第２処理部は、前記処理対象物を封じ込めるエンクロージャであることを特徴とする請求項１ないし５のいずれかに記載の封じ込めシステム。
7. 前記第１処理部は、前記処理対象物を封じ込めて加熱する真空乾燥機や恒温器、安定性試験機であり、前記第２処理部は、前記処理対象物を封じ込めるエンクロージャであることを特徴とする請求項１ないし５のいずれかに記載の封じ込めシステム。
8. 前記フィルタユニットは、バッグ内に入れて封じた状態でバッグアウト方式により取り外されることを特徴とする請求項１ないし７のいずれかに記載の封じ込めシステム。
9. 前記第１処理部は、粉砕手段または分級手段であることを特徴とする請求項１ないし８のいずれかに記載の封じ込めシステム。

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