JP2017148765A - 揮発性有機炭化水素ガスの除去方法及び揮発性有機炭化水素ガスを吸収するための吸収液 - Google Patents
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イオン液体を含有する吸収液に揮発性有機炭化水素ガスを含有する混合ガスを接触させることにより、混合ガス中に含有されている揮発性有機炭化水素ガスを前記吸収液に吸収させることを特徴とする、揮発性有機炭化水素ガスの除去方法であって、
前記イオン液体は、
イミダゾリウム又はホスホニウムであるカチオンと、
アミド、サクシネート、サルフェート又はスルホネートであるアニオンとから構成されるイオン液体であって、
前記カチオン又は前記アニオンの少なくとも一方が、炭素数8以上20以下のアルキル側鎖を有し、
前記揮発性有機炭化水素ガスが、炭素数4以上14以下の飽和若しくは不飽和炭化水素化合物又は炭素数5以上8以下の揮発性芳香族化合物である、除去方法に関する。
イミダゾリウム又はホスホニウムであるカチオンと、
アミド、サクシネート、サルフェート又はスルホネートであるアニオンとから構成されるイオン液体を含有し、
前記カチオン又は前記アニオンの少なくとも一方が、炭素数8以上20以下のアルキル側鎖を有し、
炭素数4以上14以下の飽和若しくは不飽和炭化水素化合物又は炭素数5以上8以下の揮発性芳香族化合物である揮発性有機炭化水素ガスを吸収するための吸収液に関する。
前記アニオンは、ビス(トリフルオロメタンスルホニル)アミド、オクチルサルフェート、ジ(2-エチルへキシル)スルホコハク酸又はドデシルベンゼンスルホネートのいずれかであることが好ましい。
前記吸収液と前記揮発性有機炭化水素ガスを含有する混合ガスとを接触させ、前記吸収液に前記揮発性有機炭化水素ガスを吸収させた後、前記吸収液に前記揮発性有機炭化水素ガスを含有しないガスを接触させるか、若しくは前記吸収液を加熱及び/又は減圧することにより、前記吸収液が吸収した前記揮発性有機炭化水素ガスを前記吸収液から放散(脱離)させ、前記吸収液を前記揮発性有機炭化水素ガスの吸収に再利用することが好ましい。
揮発性有機炭化水素ガスの吸収液(吸収剤)として、以下の吸収液を使用した。
1)[omim][Tf2N]:1-オクチル-3-メチルイミダゾリウム ビス(トリフルオロメチルスルホニル)アミド(実施例1のイオン液体、化学式1);
2)[bmim][C8SO4]:1-ブチル-3-メチルイミダゾリウム オクチルサルフェート(実施例2のイオン液体、化学式2);
3)[P2228][Tf2N]:トリエチルオクチルホスホニウム ビス(トリフルオロメチルスルホニル)アミド(実施例3のイオン液体、化学式3);
4)[P666,14][Tf2N]:トリヘキシルテトラデシルホスホニウム ビス(トリフルオロメチルスルホニル)アミド(実施例4のイオン液体、化学式4);
5)[P666,14][DBS]:トリヘキシルテトラデシルホスホニウム ドデシルベンゼンスルホネート(実施例5のイオン液体、化学式5);
6)[P666,14][AOT]:トリヘキシルテトラデシルホスホニウム ジ(2-エチルヘキシル)スルホコハク酸(実施例6のイオン液体、化学式6);
7)[bmim][Tf2N]:1-ブチル-3-メチルイミダゾリウム ビス(トリフルオロメチルスルホニル)アミド(比較例1のイオン液体);
8)[emim][ace]:1-エチル-3-メチルイミダゾリウム アセテート(比較例2のイオン液体);
9)PEG400:ポリエチレングリコール(分子量400/比較例3の吸収液)
10)超純水(比較例4)
塩化1?メチル-3-オクチルイミダゾリウムの水溶液に、リチウム ビス(トリフルオロメチルスルホニル)アミドの水溶液を、1秒に1滴の割合で滴下した。滴下終了後、室温で12時間撹拌した。有機相のみを取り分け、塩化リチウムが除去されるまで超純水によって洗浄した。塩化リチウムが除去されたか否かは、洗浄後の超純水に硝酸銀水溶液を滴下した場合の白濁の有無によって確認された。その後、減圧によって残留溶媒を留去し、さらに、70℃で30時間減圧乾燥することにより、実施例1のイオン液体([omim][Tf2N])が得られた。
臭化トリエチルオクチルホスホニウムの水溶液に、リチウム ビス(トリフルオロメチルスルホニル)アミドの水溶液を、1秒に1滴の割合で滴下した。滴下終了後、室温で12時間撹拌した。有機相のみを取り分け、臭化リチウムが除去されるまで超純水によって洗浄した。臭化リチウムが除去されたか否かは、洗浄後の超純水に硝酸銀水溶液を滴下した場合の白濁の有無によって確認された。その後、減圧によって残留溶媒を留去し、さらに、70℃で30時間減圧乾燥することにより、実施例3のイオン液体([P2228][Tf2N])が得られた。
塩化トリヘキシルテトラデシルホスホニウムのジクロロメタン溶液に、ナトリウムドデシルベンゼンスルホネートの水溶液を、1秒に1滴の割合で滴下した。滴下終了後、室温で12時間撹拌した。続いて、ジクロロメタン相のみを取り分け、塩化ナトリウムが除去されるまで超純水によって洗浄した。塩化ナトリウムが除去されたか否かは、洗浄後の超純水に硝酸銀水溶液を滴下した場合の白濁の有無によって確認された。その後、減圧によって残留溶媒を留去し、さらに、50℃で30時間減圧乾燥することにより、実施例5のイオン液体([P666,14][DBS])が得られた。
塩化トリヘキシルテトラデシルホスホニウムのジクロロメタン溶液に、ナトリウムジ(2-エチルヘキシル)スルホコハク酸の水溶液を、1秒に1滴の割合で滴下した。滴下終了後、室温で12時間撹拌した。続いて、ジクロロメタン相のみを取り分け、塩化ナトリウムが除去されるまで超純水によって洗浄した。塩化ナトリウムが除去されたか否かは、洗浄後の超純水に硝酸銀水溶液を滴下した場合の白濁の有無によって確認された。その後、減圧によって残留溶媒を留去し、さらに、50℃で30時間減圧乾燥することにより、実施例6のイオン液体([P666,14][AOT])が得られた。
臭化1?ブチル-3-メチルイミダゾリウムの水溶液に、リチウム ビス(トリフルオロメチルスルホニル)アミドの水溶液を、1秒に1滴の割合で滴下した。滴下終了後、室温で12時間撹拌した。有機相のみを取り分け、臭化リチウムが除去されるまで超純水によって洗浄した。臭化リチウムが除去されたか否かは、洗浄後の超純水に硝酸銀水溶液を滴下した場合の白濁の有無によって確認された。その後、減圧によって残留溶媒を留去し、さらに、70℃で30時間減圧乾燥することにより、比較例1のイオン液体([bmim][Tf2N])が得られた。
N-エチルイミダゾール、炭酸ジメチル及びメタノールの混合溶液を調製した。この混合溶液をステンレス製反応容器に封入し、120℃で24時間反応させることにより、1-エチル-3-メチルイミダゾリウム メチルカーボネートを含む反応物が得られた。この反応物に、室温条件下、1秒に1滴の割合で酢酸を滴下した。滴下終了後、室温で12時間撹拌した。続いて、溶媒を減圧留去することにより、粗製1-エチル-3-メチルイミダゾリウム アセテートが得られた。これを、酢酸エチルによって10回洗浄した後、減圧によって溶媒を留去し、さらに、40℃で96時間減圧乾燥することによって、比較例2のイオン液体([emim][ace])が得られた。
図1に示される実験装置を用いて、大気圧下、実施例1〜6及び比較例1の吸収液(イオン液体)のn-ブタン吸収量を測定した。図1に示される実験装置は、窒素供給ライン1、n-ブタンのガスボンベ2、減圧弁3、三方バルブ4、流量計5、バルブ6,8及び13、コイル状の熱交換器7、ガラス製の反応容器10、反応容器10内に入れた回転子11を回転させるマグネチックスターラー12、マグネチックスターラー12の回転数を制御するコントローラー9、熱媒18を貯液及び温度調節する恒温槽16、恒温槽16内の熱媒18の温度を測定する白金測温体14とそれに接続された温度表示器15、恒温槽16内の熱媒18の温度を調節する冷却水循環装置17を備える。
図3に示される実験装置を用いて、常圧における各吸収液の揮発性有機炭化水素ガス(VOCガス)除去量を測定した。図3に示される実験装置は、揮発性有機炭化水素標準ガス(VOC標準ガス/n-ヘプタン標準ガス又はトルエン標準ガス)のガスボンベ21、三方バルブ22,23,24,48及び50、バルブ49、熱媒33を貯液する恒温槽36、熱媒33の温度を一定に調節するヒーター37及び冷却水循環装置38、吸収液32を収容する反応容器31、反応容器31に入れた回転子34を回転させるマグネチックスターラー35を備える。n-ヘプタンガスの吸収実験を行う場合にはn-ヘプタン標準ガスのガスボンベ21を接続し、トルエンガスの吸収実験を行う場合にはトルエン標準ガスのガスボンベ21を接続する。
図5は、実施例3〜6及び比較例1〜4の吸収液について、経過時間とガスセル内トルエン濃度(ppm)との関係をプロットしたグラフを示す。Blankは、吸収液なしの測定結果である。VOC標準ガス中のトルエン濃度は1480ppmであった。実施例3〜6の吸収液は、180分経過後も、比較例1〜4の吸収液よりも高効率にトルエンを除去し得ることが確認された。
図3に示される実験装置を用いて各吸収液のVOC除去試験を行った後、吸収液からのVOC放散試験を行った。VOC放散試験フローを以下に説明する。
図7は、トルエンガス除去試験終了後の実施例3〜6及び比較例2の吸収液について、VOC放散実験の経過時間とガスセル内トルエン濃度(ppm)との関係をプロットしたグラフを示す。Blankは、吸収液なしの測定結果である。トルエン濃度は時間経過と共に徐々に低下しており、実施例3〜6の吸収液が、加熱及び窒素通気により再生可能であることが確認された。
2:n-ブタンのガスボンベ
3:減圧弁
4:三方バルブ
5:流量計
6,8,13:バルブ
7:熱交換器
9:コントローラー
10:反応容器
11:回転子
12:マグネチックスターラー
14:白金測温体
15:温度表示器
16:恒温槽
17:冷却水循環装置
18:熱媒
19:吸収液
21:VOC標準ガスのガスボンベ
22,23,24,48,49,50:三方バルブ
25a,25b:質量流量計
26,27,28,29,30,42,43,44,45:経路(ガスライン)
31:反応容器
32:吸収液
33:熱媒
34:回転子
35:マグネチックスターラー
36:恒温槽
37:ヒーター
38:冷却水循環装置
39:冷媒入口配管
40:冷媒出口配管
41:ガス導入管
46:赤外分光装置
47:ガスセル
Claims (7)
- イオン液体を含有する吸収液に揮発性有機炭化水素ガスを含有する混合ガスを接触させることにより、混合ガス中に含有されている揮発性有機炭化水素ガスを前記吸収液に吸収させることを特徴とする、揮発性有機炭化水素ガスの除去方法であって、
前記イオン液体は、
イミダゾリウム又はホスホニウムであるカチオンと、
アミド、サクシネート、サルフェート又はスルホネートであるアニオンとから構成されるイオン液体であって、
前記カチオン又は前記アニオンの少なくとも一方が、炭素数8以上20以下のアルキル側鎖を有し、
前記揮発性有機炭化水素ガスが、炭素数4以上14以下の飽和若しくは不飽和炭化水素化合物又は炭素数5以上8以下の揮発性芳香族化合物である、除去方法。 - 前記カチオンは、1-メチル-3-オクチルイミダゾリウム、1-ブチル-3-メチルイミダゾリウム、トリエチルオクチルホスホニウム又はトリへキシルテトラデシルホスホニウムのいずれかであり、
前記アニオンは、ビス(トリフルオロメタンスルホニル)アミド、オクチルサルフェート、ジ(2-エチルへキシル)スルホコハク酸又はドデシルベンゼンスルホネートのいずれかである、請求項1に記載の揮発性有機炭化水素ガスの除去方法。 - 前記イオン液体が、化学式1〜化学式6のいずれかである、請求項1又は2に記載の揮発性有機炭化水素ガスの除去方法。
- 前記吸収液に前記揮発性有機炭化水素ガスを吸収させた後、前記吸収液に前記揮発性有機炭化水素ガスを含有しないガスを接触させるか、又は前記吸収液を加熱及び/又は減圧することにより、前記吸収液が吸収した前記揮発性有機炭化水素ガスを前記吸収液から放散させ、
前記吸収液を前記揮発性有機炭化水素ガスの吸収に再利用する、請求項1乃至3のいずれか1項に記載の揮発性有機炭化水素ガスの除去方法。 - イミダゾリウム又はホスホニウムであるカチオンと、
アミド、サクシネート、サルフェート又はスルホネートであるアニオンとから構成されるイオン液体を含有し、
前記カチオン又は前記アニオンの少なくとも一方が、炭素数8以上20以下のアルキル側鎖を有し、
炭素数4以上14以下の飽和若しくは不飽和炭化水素化合物又は炭素数5以上8以下の揮発性芳香族化合物である揮発性有機炭化水素ガスを吸収するための吸収液。 - 前記カチオンは、1-ブチル-3-メチルイミダゾリウム、1-メチル-3-オクチルイミダゾリウム、トリエチルオクチルホスホニウム又はトリへキシルテトラデシルホスホニウムのいずれかであり、
前記アニオンは、ビス(トリフルオロメタンスルホニル)アミド、オクチルサルフェート、ジ(2-エチルへキシル)スルホコハク酸又はドデシルベンゼンスルホネートのいずれかである、請求項5に記載の揮発性有機炭化水素ガスを吸収するための吸収液。 - 前記イオン液体が、化学式1〜化学式6のいずれかである、請求項5又は6に記載の揮発性有機炭化水素ガスを吸収するための吸収液。
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