JP2017149668A - 爪用プライマー組成物、人工爪、人工爪の形成方法、及び、ネイルアートキット - Google Patents

Abstract

【課題】 得られる人工爪の密着性に優れ、かつ、除去時の剥離性に優れる爪用プライマー組成物、上記爪用プライマー組成物を硬化してなる層を有する人工爪、上記爪用プライマー組成物を用いた人工爪の形成方法、及び、上記爪用プライマー組成物を含むネイルアートキットを提供すること。【解決手段】 酸基及びエチレン性不飽和基を有し、重量平均分子量が１，０００以上である高分子化合物を含むことを特徴とする爪用プライマー組成物。上記酸基は、カルボキシ基、スルホン酸基、リン酸基、及び、ホスホン酸基よりなる群から選ばれた少なくとも１つの基であることが好ましい。【選択図】なし

Description

本発明は、爪用プライマー組成物、人工爪、人工爪の形成方法、及び、ネイルアートキットに関する。

近年、手や足の爪にデザインを施すネイルアートに対する人気が高まり、爪（自爪）に合成樹脂製の人工爪（付け爪、ネイルチップ等）を形成する技術が発展している。特に最近、高分子化合物と光重合性モノマーとを含むジェル状の装飾用硬化性組成物を爪に塗布した後、紫外線を照射して硬化させた人工爪と呼ばれる爪装飾が、仕上がりがクリアである、爪との密着性が高く、長持ちする、等の理由から注目を集めている。
人工爪を除去する方法としては、人工爪表面を粗目のファイル（爪用やすり）でこすって傷を付けて除去液を滲み込みやすくさせた後、アセトン等の有機溶媒（除去液）に浸したコットンを上記人工爪上に乗せ、これをアルミホイル等で巻いてそのまま放置して人工爪を膨潤させた後、この膨潤した人工爪を木製のへら等を用いて剥がす方法が主流である。
人工爪の形成時には、密着性の観点から、しばしば爪表面にプライマー層を形成させた後に人工爪組成物を積層することがある。このようなプライマー組成物としては下記特許文献１に記載された組成物が知られている。

特許第３２０８５１９号公報

本発明者は、特許文献１に記載のプライマー組成物を用いた人工爪は、爪との密着性が強く、除去時に爪組織も一緒に剥離してしまい、爪が痛む、薄くなるといった問題があることを見出した。

本発明が解決しようとする課題は、得られる人工爪の密着性に優れ、かつ、除去時の剥離性に優れる爪用プライマー組成物、上記爪用プライマー組成物を硬化してなる層を有する人工爪、上記爪用プライマー組成物を用いた人工爪の形成方法、及び、上記爪用プライマー組成物を含むネイルアートキットを提供することである。

本発明の上記課題は、以下の＜１＞、＜９＞、＜１０＞又は＜１２＞に記載の手段により解決された。好ましい実施態様である＜２＞〜＜８＞、＜１１＞及び＜１３＞と共に以下に記載する。
＜１＞ 酸基及びエチレン性不飽和基を有し、重量平均分子量が１，０００以上である高分子化合物を含むことを特徴とする爪用プライマー組成物、
＜２＞ 上記酸基が、カルボキシ基、スルホン酸基、リン酸基、及び、ホスホン酸基よりなる群から選ばれた少なくとも１つの基である、＜１＞に記載の爪用プライマー組成物、
＜３＞ 上記高分子化合物が、下記式Ｉにより表される構成単位、及び、下記式ＩＩにより表される構成単位を含む、＜１＞又は＜２＞に記載の爪用プライマー組成物、

式Ｉ及び式ＩＩ中、Ｒは酸基を表し、Ｘは単結合又は二価の連結基を表し、Ｒ’は水素原子又はアルキル基を表し、Ｒ’’及びＲ’’’はそれぞれ独立に、水素原子又はアルキル基を表し、Ｑは二価の連結基を表す、
＜４＞ 式Ｉ中のＸが単結合、アルキレン基、アルケニレン基、アルキニレン基、アリーレン基、アルキレンオキシ基、ポリアルキレンオキシ基、−ＮＲ^B1−で表される基、酸素原子、カルボニル基、又は、その組み合わせにより表される基であり、Ｒ^B1は水素原子又はアルキル基を表し、Ｑが下記Ｑ１〜Ｑ１８のいずれかにより表される基である、＜３＞に記載の爪用プライマー組成物、
Ｑ１：＊¹−Ｃ（＝Ｏ）−ＮＨ−Ｌ１−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−＊²
Ｑ２：＊¹−Ｃ（＝Ｏ）−Ｌ１−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−＊²
Ｑ３：＊¹−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−Ｌ１−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−＊²
Ｑ４：＊¹−Ｌ１−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−＊²
Ｑ５：＊¹−Ｃ（＝Ｏ）−ＮＨ−Ｌ２−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−＊²
Ｑ６：＊¹−Ｃ（＝Ｏ）−Ｌ２−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−＊²
Ｑ７：＊¹−Ｌ２−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−＊²
Ｑ８：＊¹−Ｃ（＝Ｏ）−Ｌ１−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−Ｌ１−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−＊²
Ｑ９：＊¹−Ｃ（＝Ｏ）−Ｌ１−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−Ｌ１−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−＊²
Ｑ１０：＊¹−Ｃ（＝Ｏ）−Ｌ２−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−Ｌ１−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−＊²
Ｑ１１：＊¹−Ｃ（＝Ｏ）−Ｌ２−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−Ｌ１−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−＊²
Ｑ１２：＊¹−Ｃ（＝Ｏ）−Ｌ１−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−Ｌ２−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−＊²
Ｑ１３：＊¹−Ｃ（＝Ｏ）−Ｌ１−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−Ｌ２−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−＊²
Ｑ１４：＊¹−Ｃ（＝Ｏ）−Ｌ２−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−Ｌ２−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−＊²
Ｑ１５：＊¹−Ｃ（＝Ｏ）−Ｌ２−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−Ｌ２−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−＊²
Ｑ１６：＊¹−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−Ｌ２−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−ＮＨ−Ｌ１−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−＊²
Ｑ１７：＊¹−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−Ｌ１−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−ＮＨ−Ｌ１−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−＊²
Ｑ１８：＊¹−Ｃ（＝Ｏ）−ＮＨ−Ｌ１−ＮＨ−Ｃ（＝Ｏ）−＊²
Ｑ１〜Ｑ１８中、Ｌ１はそれぞれ独立に、アルキレン基、アルケニレン基、アルキニレン基、アルキレンオキシ基、ポリアルキレンオキシ基、又は、それらの組み合わせにより表される基を表し、Ｌ２はそれぞれ独立に、アリーレン基を表し、＊¹はポリマー鎖における炭素原子との連結位置を表し、＊²はエチレン性不飽和基における炭素原子との連結位置を表す、
＜５＞ 上記高分子化合物の重量平均分子量が２，０００〜１００，０００である、＜１＞〜＜４＞のいずれか１つに記載の爪用プライマー組成物、
＜６＞ 溶剤を更に含有する、＜１＞〜＜５＞のいずれか１つに記載の爪用プライマー組成物、
＜７＞ 上記高分子化合物以外のエチレン性不飽和化合物を更に含有する、＜１＞〜＜６＞のいずれか１つに記載の爪用プライマー組成物、
＜８＞ 光重合開始剤を更に含有する、＜１＞〜＜７＞のいずれか１つに記載の爪用プライマー組成物、
＜９＞ ＜１＞〜＜８＞のいずれか１つに記載の爪用プライマー組成物を硬化してなる層を有する人工爪、
＜１０＞ ＜１＞〜＜８＞のいずれか１つに記載の爪用プライマー組成物をヒト若しくは動物の爪上、又は、他の人工爪上に塗布し、プライマー層形成用塗布膜を形成する工程、上記プライマー層形成用塗布膜を乾燥及び／又は露光してプライマー層を形成する工程、ポリマー又はオリゴマーを含有する人工爪組成物をプライマー層又はプライマー層形成用塗布膜上に塗布し、人工爪形成用塗布膜を形成する工程、並びに、上記人工爪形成用塗布膜を乾燥及び／又は露光して人工爪を形成する工程、を含む人工爪の形成方法、
＜１１＞ 上記人工爪組成物が、光硬化性組成物である、＜１０＞に記載の人工爪の形成方法、
＜１２＞ ＜１＞〜＜８＞のいずれか１つに記載の爪用プライマー組成物と、人工爪組成物とを含むネイルアートキット、
＜１３＞ 上記人工爪組成物が、光硬化性組成物である、＜１２＞に記載のネイルアートキット。

本発明によれば、得られる人工爪の密着性に優れ、かつ、除去時の剥離性に優れる爪用プライマー組成物、上記爪用プライマー組成物を硬化してなる層を有する人工爪、上記爪用プライマー組成物を用いた人工爪の形成方法、及び、上記爪用プライマー組成物を含むネイルアートキットを提供することでができる。

以下、本発明について詳細に説明する。
なお、本明細書中、「ｘｘ〜ｙｙ」の記載は、ｘｘ及びｙｙを含む数値範囲を表す。
また、本発明において、「質量％」と「重量％」とは同義であり、「質量部」と「重量部」とは同義である。
また、本発明において、２以上の好ましい態様の組み合わせは、より好ましい態様である。
本明細書中、式で表される化合物における基の表記に関して、置換あるいは無置換を記していない場合、上記基が更に置換基を有することが可能な場合には、他に特に規定がない限り、無置換の基のみならず置換基を有する基も包含する。例えば、式の説明において、「Ｒはアルキル基、シクロアルキル基、アリール基を表す」との記載があれば、「Ｒは無置換アルキル基、置換アルキル基、無置換シクロアルキル基、置換シクロアルキル基、無置換アリール基又は置換アリール基を表す」ことを意味する。また、本明細書中、（メタ）アクリルは、アクリルとメタクリルとを共に含む概念を表し、（メタ）アクリレート、（メタ）アクリル酸、（メタ）アクリルアミド等についても同様である。
また、本明細書におけるポリマーには、コポリマーを含むものとする。

（爪用プライマー組成物）
本発明の爪用プライマー組成物は、酸基及びエチレン性不飽和基を有し、重量平均分子量が１，０００以上である高分子化合物を含むことを特徴とする。
本発明者は詳細な検討を行った結果、本発明の、酸基及びエチレン性不飽和基を有し、重量平均分子量が１，０００以上である高分子化合物を含む爪用プライマー組成物を用いることにより、密着性に優れ、かつ除去時の剥離性に優れる人工爪が得られることを見出した。
これら効果が発現する機構は不明であるが、一部は以下のように推定される。
酸基及びエチレン性不飽和基を有し、重量平均分子量が１，０００以上である高分子化合物は、分子量が大きいため爪内部に浸透しにくい。また、上記高分子化合物が酸基を有することにより、爪との密着性が向上し、持続性も向上すると推定している。従って、上記高分子化合物を含む本発明の爪用プライマー組成物を用いて人工爪を形成した場合には、爪内部への化合物の浸透を抑制しながら密着性を付与することができ、除去の際に爪が痛みにくいなど、剥離性にも優れていると推定している。

以下に、本発明の爪用プライマー用組成物に使用することができる各種成分について説明する。

＜酸基及びエチレン性不飽和基を有し、重量平均分子量が１，０００以上である高分子化合物＞
本発明の爪用プライマー組成物は、酸基及びエチレン性不飽和基を有し、重量平均分子量が１，０００以上である高分子化合物を含む。
上記高分子化合物は、付加重合型の樹脂であることが好ましく、（メタ）アクリル酸及び／又はそのエステル、並びに、（メタ）アクリルアミド及び／又はそのＮ−置換化合物に由来する構成単位を含む重合体であることがより好ましい。なお、（メタ）アクリル酸及び／又はそのエステルに由来する構成単位、並びに、（メタ）アクリルアミド及び／又はそのＮ−置換化合物に由来する構成単位以外の構成単位、例えば、スチレンに由来する構成単位や、ビニル化合物に由来する構成単位等を有していてもよい。

酸基及びエチレン性不飽和基を有し、重量平均分子量が１，０００以上である高分子化合物は、公知のアクリル酸誘導体（例えば、アクリル酸メチル、アクリル酸エチル等のアクリル酸エステル、アクリルアミド、アクリロイルモルホリン等のアクリル酸アミド）、メタクリル酸誘導体（例えば、メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチル等のメタクリル酸エステル、メタクリルアミド、メタクリル酸イソプロピルアミド等のメタクリル酸アミド）を重合することによりアクリル系ポリマーとして製造することが可能である。
上記アクリル系ポリマーに酸基を導入する方法としては、例えば、酸基を持つ（メタ）アクリル酸誘導体を重合又は共重合する方法や、高分子反応により酸基を導入する方法が挙げられる。
上記アクリル系ポリマーにエチレン性不飽和基を導入する方法としては、例えば、エチレン性不飽和基を持つ（メタ）アクリル酸誘導体を重合又は共重合する方法や、高分子反応によりエチレン性不飽和基を導入する方法が挙げられる。ただし、これら例示に限定されるものではない。
なお、上記高分子化合物は、酸基及びエチレン性不飽和基を有する構成単位を含む高分子化合物であってもよく、酸基を含む構成単位と、エチレン性不飽和基を含む構成単位とを含む高分子化合物であってもよいが、酸基を含む構成単位と、エチレン性不飽和基を含む構成単位とを含む高分子化合物であることが好ましい。

〔酸基〕
上記酸基としては、カルボキシ基、スルホン酸基、リン酸基、及び、ホスホン酸基よりなる群から選ばれた少なくとも１つの基を含むことが好ましく、カルボキシ基又はホスホン酸基を含むことがより好ましく、カルボキシ基を含むことが更に好ましい。
上記酸基は、一部又は全部が中和して塩構造を形成していてもよい。上記塩としては、特に制限はないが、アルカリ金属塩、アルカリ土類金属塩、アンモニウム塩、及び、有機アンモニウム塩が好ましく例示できる。

〔エチレン性不飽和基〕
上記エチレン性不飽和基としては、特に限定されないが、（メタ）アクリロキシ基又は（メタ）アクリロイルアミド基が好ましく、（メタ）アクリロイルアミド基がより好ましい。

〔分子量〕
上記高分子化合物の重量平均分子量は、得られる人工爪の剥離性の観点から、１，０００以上であり、１，０００〜５００，０００であることが好ましく、１，５００〜３００，０００であることがより好ましく、２，０００〜１００，０００であることが更に好ましい。
なお、本発明において重量平均分子量は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィ（ＧＰＣ）法により測定され、標準ポリスチレン換算にて求められる。

〔式Ｉにより表される構成単位及び式ＩＩにより表される構成単位〕
上記高分子化合物は、下記式Ｉにより表される構成単位及び下記式ＩＩにより表される構成単位を含むことが好ましい。

式Ｉ及び式ＩＩ中、Ｒは酸基を表し、Ｘは単結合又は二価の連結基を表し、Ｒ’は水素原子又はアルキル基を表し、Ｒ’’及びＲ’’’はそれぞれ独立に、水素原子又はアルキル基を表し、Ｑは二価の連結基を表す。

−式Ｉにより表される構成単位−
式Ｉ中、Ｒは酸基を表し、カルボキシ基、スルホン酸基、リン酸基、及びホスホン酸基よりなる群から選ばれた少なくとも１つの基であることが好ましく、カルボキシ基又はホスホン酸基であることがより好ましく、カルボキシ基であることが更に好ましい。
上記酸基は、一部又は全部が中和して塩構造を形成していてもよい。上記塩としては、特に制限はないが、アルカリ金属塩、アルカリ土類金属塩、アンモニウム塩、及び、有機アンモニウム塩が好ましく例示できる。
Ｒで表される酸基の具体例を下記に挙げるが、これに限定されるものではない。また、下記具体例中、Ｒ^A1はそれぞれ独立に、水素原子、アルキル基、アリール基、アルキニル基、又はアルケニル基を表し、Ｍはそれぞれ独立に水素原子又は金属原子を表す。

Ｘは単結合、アルキレン基、アルケニレン基、アルキニレン基、アリーレン基、アルキレンオキシ基、ポリアルキレンオキシ基、−ＮＲ^B1−で表される基、酸素原子、カルボニル基、又は、その組み合わせにより表される基であることが好ましく、炭素数１〜１０のアルキレン基、炭素数６〜１０のアリーレン基、アルキレンオキシ基、ポリアルキレンオキシ基、−ＮＲ^B1−で表される基、酸素原子、カルボニル基、又は、その組み合わせにより表される基であることが好ましく、−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−で表される基、炭素数１〜１０のアルキレン基、炭素数６〜１０のアリーレン基、アルキレンオキシ基、ポリアルキレンオキシ基、又は、その組み合わせにより表される基であることがより好ましい。
上記Ｘにおけるアルキレン基は直鎖状、分岐鎖状のいずれの構造であってもよく、環構造を含んでいてもよいが、直鎖状又は分岐鎖状であることが好ましい。
Ｒ^B1は水素原子又はアルキル基を表し、水素原子又は炭素数１〜１０のアルキル基であることが好ましい。
Ｒ’は水素原子又はアルキル基を表し、水素原子又はメチル基であることが好ましい。

上記式Ｉにより表される構成単位は、下記式Ｉ−Ｉ〜式Ｉ−ＩＩＩのいずれかにより表される構成単位であることが好ましい。

式Ｉ−Ｉ〜式Ｉ−ＩＩＩ中、Ｒ及びＲ’はそれぞれ式Ｉ中のＲ及びＲ’と同義であり、好ましい態様も同様である。
Ｌ^I1は単結合、アルキレン基、アルキレンオキシ基、ポリアルキレンオキシ基、アリーレン基、又は、それらの組み合わせにより表される基を表し、単結合、炭素数１〜２０のアルキレン基、炭素数１〜２０のアルキレンオキシ基、含まれるアルキレンオキシ基の炭素数が１〜１０であるポリアルキレンオキシ基、炭素数６〜１０のアリーレン基、又は、それらの組み合わせにより表される基が好ましく、単結合、炭素数１〜１０のアルキレン基、炭素数１〜１０のアルキレンオキシ基、アルキレンオキシ基の炭素数が１〜４であるポリアルキレンオキシ基、フェニレン基、又は、それらの組み合わせにより表される基であることがより好ましい。
上記Ｌ^I1におけるポリアルキレンオキシ基の繰り返し数は、２〜１００であることが好ましく、２〜５０であることがより好ましい。
上記Ｌ^I1におけるアルキレン基は直鎖状、分岐鎖状のいずれの構造であってもよく、環構造を含んでいてもよいが、直鎖状又は分岐鎖状であることが好ましい。
Ｌ^I2及びＬ^I3はアルキレン基、アルキレンオキシ基、ポリアルキレンオキシ基、アリーレン基、又は、それらの組み合わせにより表される基を表し、炭素数１〜２０のアルキレン基、炭素数１〜２０のアルキレンオキシ基、アルキレンオキシ基の炭素数が１〜１０であるポリアルキレンオキシ基、炭素数６〜１０のアリーレン基、又は、それらの組み合わせにより表される基が好ましく、炭素数１〜１０のアルキレン基、、炭素数１〜１０のアルキレンオキシ基、アルキレンオキシ基の炭素数が１〜４であるポリアルキレンオキシ基、フェニレン基、又は、それらの組み合わせにより表される基であることがより好ましい。
上記Ｌ^I2及びＬ^I3におけるポリアルキレンオキシ基の繰り返し数は、２〜１００であることが好ましく、２〜５０であることがより好ましい。
上記Ｌ^I2及びＬ^I3におけるアルキレン基は直鎖状、分岐鎖状のいずれの構造であってもよく、環構造を含んでいてもよいが、直鎖状又は分岐鎖状であることが好ましい。

−式ＩＩにより表される構成単位−
式ＩＩ中、Ｒ’’及びＲ’’’はそれぞれ独立に、水素原子又はアルキル基を表し、水素原子又はメチル基であることが好ましい。
Ｑは二価の連結基を表し、下記Ｑ１〜Ｑ１８のいずれかにより表される基であることが好ましい。
Ｑ１：＊¹−Ｃ（＝Ｏ）−ＮＨ−Ｌ１−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−＊²
Ｑ２：＊¹−Ｃ（＝Ｏ）−Ｌ１−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−＊²
Ｑ３：＊¹−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−Ｌ１−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−＊²
Ｑ４：＊¹−Ｌ１−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−＊²
Ｑ５：＊¹−Ｃ（＝Ｏ）−ＮＨ−Ｌ２−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−＊²
Ｑ６：＊¹−Ｃ（＝Ｏ）−Ｌ２−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−＊²
Ｑ７：＊¹−Ｌ２−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−＊²
Ｑ８：＊¹−Ｃ（＝Ｏ）−Ｌ１−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−Ｌ１−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−＊²
Ｑ９：＊¹−Ｃ（＝Ｏ）−Ｌ１−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−Ｌ１−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−＊²
Ｑ１０：＊¹−Ｃ（＝Ｏ）−Ｌ２−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−Ｌ１−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−＊²
Ｑ１１：＊¹−Ｃ（＝Ｏ）−Ｌ２−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−Ｌ１−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−＊²
Ｑ１２：＊¹−Ｃ（＝Ｏ）−Ｌ１−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−Ｌ２−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−＊²
Ｑ１３：＊¹−Ｃ（＝Ｏ）−Ｌ１−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−Ｌ２−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−＊²
Ｑ１４：＊¹−Ｃ（＝Ｏ）−Ｌ２−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−Ｌ２−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−＊²
Ｑ１５：＊¹−Ｃ（＝Ｏ）−Ｌ２−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−Ｌ２−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−＊²
Ｑ１６：＊¹−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−Ｌ２−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−ＮＨ−Ｌ１−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−＊²
Ｑ１７：＊¹−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−Ｌ１−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−ＮＨ−Ｌ１−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−＊²
Ｑ１８：＊¹−Ｃ（＝Ｏ）−ＮＨ−Ｌ１−ＮＨ−Ｃ（＝Ｏ）−＊²
Ｑ１〜Ｑ１８中、Ｌ１はそれぞれ独立に、アルキレン基、アルケニレン基、アルキニレン基、アルキレンオキシ基、ポリアルキレンオキシ基、又は、それらの組み合わせにより表される基を表し、Ｌ２はそれぞれ独立に、アリーレン基を表し、＊¹はポリマー鎖における炭素原子との連結位置を表し、＊²はエチレン性不飽和基における炭素原子との連結位置を表す。

上記Ｌ１に含まれる基は、環状構造よりも鎖状構造の方が好ましく、更に分岐を有する鎖状構造よりも直鎖状構造の方が好ましい。
上記Ｌ１におけるアルキレン基、アルケニレン基、アルキニレン基、アルキレンオキシ基、及び、ポリアルキレンオキシ基に含まれるアルキレンオキシ基としては、炭素数１〜２０であることが好ましく、炭素数１〜１５であることがより好ましく、炭素数１〜１２であることが更に好ましく、炭素数１〜１０であることが特に好ましく、炭素数１〜８であることが最も好ましい。
上記Ｌ１におけるアルキレン基、アルケニレン基、アルキニレン基、アルキレンオキシ基、及び、ポリアルキレンオキシ基に含まれるアルキレンオキシ基の置換基としては、ハロゲン原子（Ｆ原子、Ｃｌ原子、Ｂｒ原子、Ｉ原子）、ヒドロキシ基、カルボキシ基、アミノ基、シアノ基、アリール基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アシル基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、アシルオキシ基、モノアルキルアミノ基、ジアルキルアミノ基、アリールアミノ基及びジアリールアミノ基等が挙げられる。
上記Ｌ１におけるアルキレン基は、直鎖状、分岐鎖状のいずれの構造であってもよく、環構造を含んでいてもよいが、直鎖状又は分岐鎖状であることが好ましく、直鎖状であることがより好ましい。
上記Ｌ１におけるポリアルキレンオキシ基の繰り返し数は、２〜１００であることが好ましく、２〜５０であることがより好ましい。
上記Ｌ２におけるアリーレン基としては、フェニレン基又はナフチレン基が好ましい。
上記Ｌ２におけるアリーレン基の置換基としては、上記Ｌ１におけるアルキレン基、アルケニレン基、アルキニレン基、及び、ポリアルキレンオキシ基に含まれるアルキレンオキシ基の置換基の例に加えて、アルキル基が挙げられる。

〔各構成単位の含有量〕
本発明に用いられる上記高分子化合物は、式Ｉにより表される構成単位を、上記高分子化合物の全モノマー単位に対し、１モル％以上含有することが好ましく、５〜９０モル％含むことがより好ましい。
また、本発明に用いられる高分子化合物は、式ＩＩにより表される構成単位を、高分子化合物の全モノマー単位に対し、１モル％以上含有することが好ましく、１０〜９５モル％含むことがより好ましい。
各構成単位の含有量が上記範囲であると、得られる人工爪の密着性に優れる。

〔その他の構成単位〕
上記高分子化合物は、式Ｉにより表される構成単位、及び、式ＩＩにより表される構成単位以外のその他の構成単位として、公知の（メタ）アクリル酸エステル化合物に由来する構成単位、公知のＮ−置換（メタ）アクリルアミド化合物に由来する構成単位、公知のスチレン化合物に由来する構成単位、又は公知のビニル化合物に由来する構成単位を含有してもよい。
上記高分子化合物その他の構成単位を含有する場合、その他の構成単位の含有量は、上記高分子化合物の全モノマー単位に対し、１５モル％以下であることが好ましく、１０モル％以下であることがより好ましく、５モル％以下であることが更に好ましい。
その他の構成単位の含有量の下限は特に限定されず、０モル％であってもよい。

〔酸価、架橋性基価〕
また、上記高分子化合物の酸価は、５ｍｇＫＯＨ／ｇ以上であることが好ましく、１０ｍｇＫＯＨ／ｇ以上であることがより好ましい。
上記酸価の上限は特に限定されず、２，０００ｍｇＫＯＨ／ｇ以下であればよい。なお、上記高分子化合物の酸価は、ＪＩＳ Ｋ２５０１（２００３）記載の方法に従って測定することができる。
上記高分子化合物の単位質量当たりのエチレン性不飽和基数、すなわち架橋性基価は、０．０１〜２．０ｍｍｏｌ／ｇであることが好ましく、０．０５〜１．５ｍｍｏｌ／ｇであることがより好ましく、０．１〜１．０ｍｍｏｌ／ｇであることが更に好ましい。架橋性基価が上記範囲内であれば、硬度と靱性が両立した人工爪を得ることができる。
架橋性基価は、例えば、以下の方法により測定できる。試料を有機溶媒に溶解し、アルカリ加水分解して、生成した（メタ）アクリル酸をＨＰＬＣ（高速液体クロマトグラフィ）により定量する。上記定量結果から、試料１ｇ当たりの（メタ）アクリル酸量を算出し、架橋性基価が算出される。

〔含有量〕
上記高分子化合物は、１種単独で使用しても、２種以上を組み合わせて使用してもよい。
本発明の爪用プライマー組成物における上記高分子化合物の含有量は、特に制限はないが、爪用プライマー組成物の全質量に対し、２〜９５質量％であることが好ましく、５〜８０質量％であることがより好ましく、７〜７５質量％であることが更に好ましく、１０〜７０質量％であることが特に好ましい。上記範囲であると、得られる人工爪の剥離性及び密着性により優れる。

以下に、本発明に用いられる、酸基及びエチレン性不飽和基を有し、重量平均分子量が１，０００以上である高分子化合物の具体例を示すが、この具体例に限定されるものではない。
下記具体例中、括弧の右下の数字は構成単位の含有比（モル比）を表す。

その他、本発明に用いられる酸基及びエチレン性不飽和基を有し、重量平均分子量が１，０００以上である高分子化合物としては、特開２００６−２１５２６３号公報、及び、特開２００６−２３９８６７号公報に記載された酸基及びエチレン性不飽和基を有する高分子化合物を好ましく使用することが可能である。

＜上記高分子化合物以外のエチレン性不飽和化合物＞
本発明の爪用プライマー組成物は、上記高分子化合物以外のエチレン性不飽和化合物を更に含有することが好ましい。
また、本発明の爪用プライマー組成物が上記高分子化合物以外のエチレン性不飽和化合物を含有する場合、後述する光重合開始剤を更に含有することが好ましい。上記エチレン性不飽和化合物と、及び光重合開始剤とを含有することにより、本発明の爪用プライマー組成物は、次に積層される人工爪組成物（ベース層）と好適に密着することができる。

上記エチレン性不飽和化合物は、ラジカル重合可能なエチレン性不飽和結合を有する化合物であり、分子中にラジカル重合可能なエチレン性不飽和結合を少なくとも１つ有する化合物であればどのようなものでもよく、モノマー、オリゴマー等の化学形態を持つものが含まれる。エチレン性化合物は１種のみ用いてもよく、また目的とする特性を向上するために任意の比率で２種以上を併用してもよい。また、単官能化合物よりも官能基を２つ以上持つ多官能化合物の方が好ましい。また、多官能化合物を２種以上併用して用いることが、反応性、物性などの性能を制御する上で更に好ましい。
また、上記エチレン性不飽和化合物は、上記高分子化合物以外の化合物であり、分子量３，０００未満の化合物であることが好ましく、分子量１，０００未満の化合物であることがより好ましい。

上記エチレン性不飽和化合物の例としては、アクリル酸、メタクリル酸、イタコン酸、クロトン酸、イソクロトン酸、マレイン酸等の不飽和カルボン酸及びそれらの塩、エチレン性不飽和基を有する無水物、アクリロニトリル、スチレン、更に種々の不飽和ポリエステル、不飽和ポリエーテル、不飽和ポリアミド、不飽和ウレタン等のオリゴマーなどのエチレン性化合物が挙げられる。
具体的には、２−エチルヘキシル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、ブトキシエチル（メタ）アクリレート、カルビトール（メタ）アクリレート、シクロヘキシル（メタ）アクリレート、ベンジル（メタ）アクリレート、メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、ｎ−プロピル（メタ）アクリレート、イソプロピル（メタ）アクリレート、ｎ−ブチル（メタ）アクリレート、アリル（メタ）アクリレート、グリシジル（メタ）アクリレート、Ｎ−メチロール（メタ）アクリルアミド、ジアセトン（メタ）アクリルアミド、エポキシ（メタ）アクリレート等の（メタ）アクリル酸誘導体、その他、アリルグリシジルエーテル、ジアリルフタレート、トリアリルトリメリテート等のアリル化合物の誘導体が挙げられ、更に具体的には、山下晋三編、「架橋剤ハンドブック」、（１９８１年大成社）；加藤清視編、「ＵＶ・ＥＢ硬化ハンドブック（原料編）」（１９８５年、高分子刊行会）；ラドテック研究会編、「ＵＶ・ＥＢ硬化技術の応用と市場」、７９頁、（１９８９年、シーエムシー）；滝山栄一郎著、「ポリエステル樹脂ハンドブック」、（１９８８年、日刊工業新聞社）等に記載の市販品若しくは業界で公知のエチレン性のモノマー、及び、オリゴマーを用いることができる。
また、上記エチレン性不飽和化合物としては、上記高分子化合物の合成に用いられるモノマーも好適に用いることができる。

上記エチレン性不飽和化合物として具体的には、（メタ）アクリル酸メチル、（メタ）アクリル酸エチル、（メタ）アクリル酸ｎ−プロピル、（メタ）アクリル酸イソプロピル、（メタ）アクリル酸ｎ−ブチル、（メタ）アクリル酸イソブチル、（メタ）アクリル酸ｔ−ブチル、（メタ）アクリル酸ｓｅｃ−ブチル、（メタ）アクリル酸アミル、（メタ）アクリル酸ヘキシル、（メタ）アクリル酸２−エチルヘキシル、（メタ）アクリル酸イソノニル、（メタ）アクリル酸デシル、（メタ）アクリル酸イソデシル、（メタ）アクリル酸ドデシル、（メタ）アクリル酸トリデシル、（メタ）アクリル酸ラウリル、（メタ）アクリル酸ステアリル、（メタ）アクリル酸イソステアリル、（メタ）アクリル酸ベヘニル、（メタ）アクリル酸シクロヘキシル、（メタ）アクリル酸４−ｔ−ブチルシクロヘキシル、（メタ）アクリル酸ジシクロペンタニル、（メタ）アクリル酸ジシクロペンテニル、（メタ）アクリル酸イソボルニル（イソボルニルメタクリレート）、（メタ）アクリル酸アダマンチル、（メタ）アクリル酸ベンジル、（メタ）アクリル酸２−ヒドロキシエチル、（メタ）アクリル酸２−ヒドロキシプロピル、（メタ）アクリル酸ヒドロキシブチル、グリセリンモノ（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコールモノ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコールモノ（メタ）アクリレート、ポリテトラメチレングリコールモノ（メタ）アクリレート、ポリ（エチレングリコール・プロピレングリコール）−モノ（メタ）アクリレート、ポリ（エチレングリコール・テトラメチレングリコール）−モノ（メタ）アクリレート、（メタ）アクリル酸テトラヒドロフルフリル、（メタ）アクリル酸２−メトキシエチル、メトキシポリエチレングリコール（メタ）アクリレート、メトキシポリプロピレングリコール（メタ）アクリレート、（メタ）アクリル酸２−エトキシエチル、エトキシジエチレングリコール（メタ）アクリレート、ブトキシジエチレングリコール（メタ）アクリレート、オクトキシポリエチレングリコール（メタ）アクリレート、２−エチルヘキシルジグリコール（メタ）アクリレート、ラウロキシポリエチレングリコール（メタ）アクリレート、ステアロキシポリエチレングリコール（メタ）アクリレート、（メタ）アクリル酸フェノキシエチル、フェノキシポリエチレングリコール（メタ）アクリレート、フェノキシポリプロピレングリコール（メタ）アクリレート、ノニルフェノキシポリエチレングリコール（メタ）アクリレート、ノニルフェノキシポリプロピレングリコール（メタ）アクリレート、（メタ）アクリロイルモルホリン、（メタ）アクリル酸ジメチルアミノエチル、（メタ）アクリル酸ジエチルアミノエチル、メタクリル酸２−ｔ−ブチルアミノエチル、（メタ）アクリル酸テトラメチルピペリジル、（メタ）アクリル酸ペンタメチルピペリジル、Ｎ−（メタ）アクリルオキシスクシンイミド、（メタ）アクリル酸グリシジル、３，４−エポキシシクロヘキシルメチル（メタ）アクリレート、４−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレートグリシジルエーテル、

エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、プロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ブタンジオールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、ノナンジオールジ（メタ）アクリレート、デカンジオールジ（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリテトラメチレングリコールジ（メタ）アクリレート、グリセリンジ（メタ）アクリレート、トリシクロデカンジメタノールジ（メタ）アクリレート、アルキレンオキシ化ビスフェノールＡジ（メタ）アクリレート（例えば、Ａ−ＢＰＥ−１０；新中村化学工業（株）製）、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、アルキレンオキシ化トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、トリス（２−ヒドロキシエチル）イソシアヌレートトリ（メタ）アクリレート、イソシアヌル酸アルキレンオキシ変性トリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、アルキレンオキシ化ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、アクリルアミド、メタクリルアミド、Ｎ−メチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ−フェニル（メタ）アクリルアミド、Ｎ−ヒドロキシメチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ−（２−ヒドロキシエチル）（メタ）アクリルアミド（ヒドロキシエチルアクリルアミド）、Ｎ−メトキシメチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ−ジエチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ−イソプロピル（メタ）アクリルアミド、Ｎ−ｔ−ブチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ−ブトキシメチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ−フェニル（メタ）アクリルアミド、Ｎ−ヒドロキシフェニル（メタ）アクリルアミド、Ｎ−ドデシル（メタ）アクリルアミド、ジアセトン（メタ）アクリルアミド、Ｎ−（３−ジメチルアミノプロピル）（メタ）アクリルアミド、

Ｎ−ビニルピロリドン、Ｎ−ビニルカプロラクタム、ビニルピリジン、ビニルイミダゾール、エチルビニルエーテル、プロピルビニルエーテル、イソプロピルビニルエーテル、ブチルビニルエーテル、シクロヘキシルビニルエーテル、２−エチルヘキシルビニルエーテル、オクタデシルビニルエーテル、エチレングリコールモノビニルエーテル、ジエチレングリコールモノビニルエテール、テトラメチレングリコールモノビニルエーテル、アリルエチルエーテル、アリルブチルエーテル、アリルフェニルエーテル、アリルベンジルエーテル、エチレングリコールモノアリルエーテル、スチレン、４−メチルスチレン、４−ｔ−ブチルスチレン、４−メトキシスチレン、市販のウレタン（メタ）アクリレート（例えば、ＥＢＥＣＲＹＬシリーズ（ダイセルサイテック（株）製）、紫光シリーズ（日本合成化学（株）製）、ＮＫオリゴシリーズ（新中村化学工業（株）製）で低分子量のもの）、を用いることができる。

上記エチレン性不飽和化合物は、１種類を単独で使用しても、２種類以上を組み合わせて使用してもよい。
本発明の爪用プライマー組成物における上記エチレン性不飽和化合物の含有量は、特に制限はないが、爪用プライマー組成物の全質量に対し、２０〜６０質量％であることが好ましく、３０〜６０質量％であることがより好ましく、３５〜６０質量％であることが更に好ましい。上記範囲であると、爪用プライマー組成物の粘度を調整でき、塗布性を容易に付与することができる。また、得られる人工爪の密着性、耐久性、及び剥離性に優れる。

＜光重合開始剤＞
本発明の爪用プライマー組成物は、光重合開始剤を含んでもよい。光重合開始剤を含有することにより、本発明の爪用プライマー組成物は、次に積層される人工爪組成物（ベース層）と好適に密着することができる。
光重合開始剤としては、ラジカル光重合開始剤、及び、カチオン光重合開始剤が挙げられるが、ラジカル光重合開始剤を含有することがより好ましい。
光重合開始剤としては、公知の光重合開始剤を使用することができる。本発明に用いることができる光重合開始剤は、１種単独で使用してもよく、２種以上を併用してもよい。また、ラジカル光重合開始剤とカチオン光重合開始剤とを併用してもよい。
本発明に用いることのできる光重合開始剤は、光を吸収して重合開始種を生成する化合物である。光としては、γ線、β線、電子線、紫外線、可視光線、赤外線が例示できる。

本発明に用いることができる光重合開始剤として具体的には、以下のものを好ましく例示できる。ただし、これら例示に限定されるものではない。
アセトフェノン誘導体（例えば、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、アセトフェノン、２，２−ジメトキシ−２−フェニルアセトフェノン、２，２−ジエトキシアセトフェノン、２−ヒドロキシ−２−メチルプロピオフェノン、４’−イソプロピル−２−ヒドロキシ−２−メチルプロピオフェノン、２−メチル−１−〔４−（メチルチオ）フェニル〕−２−モルホリノ−１−プロパン、２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルホリノフェニル）−ブタン−１−オン、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインプロピルエーテル等）；
ベンゾフェノン誘導体（例えば、ベンゾフェノン、４，４’−ビス（ジメチルアミノ）ベンゾフェノン、３，３−ジメチル−４−メトキシ−ベンゾフェノン等）；
アントラキノン誘導体（例えば、アントラキノン、２−メチルアントラキノン、２−エチルアントラキノン、ｔｅｒｔ−ブチルアントラキノン等）；
チオキサントン誘導体（例えば、２−クロロチオキサントン、ジエチルチオキサントン、イソプロピルチオキサントン、ジイソプロピルチオキサントン等）；
トリハロアルキル化合物（例えば、２，４，６−（トリクロロメチル）トリアジン、２，４−トリクロロメチル−６−（４−メトキシフェニル）トリアジン、トリブロモメチルフェニルスルホン等）；
ロフィンダイマー誘導体（例えば、２−（ｏ−クロロフェニル）−４，５−ジフェニルイミダゾリル二量体）；
アクリジン誘導体（例えば、９−フェニルアクリジン、１，７−ビス（９−アクリジニル）ヘプタン、１，５−ビス（９−アクリジニル）ペンタン、１，３−ビス（９−アクリジニル）プロノパン）；
ホスフィンオキシド誘導体（例えば、トリメチルベンゾイルジフェニルホスフィンオキシド、ビス（２，４，６−トリメチルベンゾイル）フェニルホスフィンオキサイド（ＩｒｇイルガキュアＴＰＯ、ＢＡＳＦ社製）等）；
メタロセン誘導体（例えば、ビスシクロペンタジエニル−ビス（ジフルオロ−ピリル−フェニル）チタニウム等）；
オニウム塩（例えば、ビス（４−ｔ−ブチルフェニル）ヨードニウムトシレート、トリフェニルスルホニウムトシレート等）；
オキシムエステル誘導体（例えば、１−（４−フェニルチオフェニル）−１，２−オクタンジオン−２−（Ｏ−ベンゾイルオキシム）、１−［９−エチル−６−（２−メチルベンゾイル）−９Ｈ−カルバゾール−３−イル］−エタノン−１−（Ｏ−アセチルオキシム）等）。

中でも、光重合開始剤としてはアセトフェノン誘導体、ホスフィンオキシド誘導体、メタロセン誘導体、及び、ロフィンダイマー誘導体よりなる群から選ばれた光重合開始剤であることが好ましく、アセトフェノン誘導体、及び、ホスフィンオキシド誘導体よりなる群から選ばれた光重合開始剤であることが特に好ましい。
本発明の爪用プライマー組成物中における光重合開始剤の含有量としては、爪用プライマー組成物の総質量に対して、０．０１〜２０質量％であることが好ましく、０．１〜１５質量％であることがより好ましく、０．５〜１２質量％であることが更に好ましい。上記範囲であると、得られる人工爪の密着性、光沢及び耐水性により優れる。

＜溶剤＞
本発明の爪用プライマー組成物は、塗布性の観点から、溶剤を含有してもよい。
溶剤としては、公知の溶剤であれば、いずれも好適に使用することができる。例えば、エタノール（エチルアルコール）、イソプロパノール（イソプロピルアルコール）、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジプロピレングリコールモノメチルエーテル等のアルコール系溶剤及びこれらのアセテート系溶剤、酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステル系溶剤、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン等のケトン系溶剤、テトラヒドロフラン、メチル−ｔ−ブチルエーテル等のエーテル系溶剤等が挙げられる。ただし、これら例示に限定されるものではない。

乾燥速度の観点から、溶剤の沸点は、３０〜１３０℃であることが好ましく、３５〜１００℃であることがより好ましく、４０〜９０℃であることが更に好ましく、５０〜８５℃であることが特に好ましい。上記範囲であると、乾燥性及び塗布性に優れる。

溶剤は、１種単独で含有していても、２種以上を併用していてもよい。
溶剤としては、アルコール系溶剤及び／又はケトン系溶剤を含むことが好ましく、アルコール系溶剤及びケトン系溶剤を含むことがより好ましい。
本発明の爪用プライマー組成物における溶剤の含有量は、特に制限はないが、爪用プライマー組成物の全質量に対し、１〜９０質量％であることが好ましく、３〜８０質量％であることがより好ましく、５〜７５質量％であることが更に好ましく、８〜７０質量％であることが特に好ましい。上記範囲であると、塗布性により優れる。

＜その他の成分＞
本発明の爪用プライマー組成物は、その他の成分として、一般に化粧料中に配合されうる添加成分を、本発明効果を損なわない範囲内において任意に配合することができる。このような添加成分としては、例えば、消泡剤、緩衝剤、キレート化剤、分散剤、染料、充填剤、顔料、防腐剤、樹脂粉末（例えば、ポリ（メタ）アクリル酸等）、無機粉末（例えば、シリカゲル等）、増粘剤、湿潤剤等が挙げられる。ただし、これら例示に限定されるものではない。

また、本発明の爪用プライマー組成物は、皮膜性や光沢性を向上させることを目的に、酸基及びエチレン性不飽和基を有し、重量平均分子量が１，０００以上である高分子化合物以外のポリマーを含有していてもよい。酸基及びエチレン性不飽和基を有し、重量平均分子量が１，０００以上である高分子化合物以外のポリマーとしては、皮膜性の観点から、アクリル系ポリマー又はウレタン系ポリマーであることが好ましい。また、塗布性を向上させることを目的に、粘度調整剤（増粘剤等）として知られる公知のポリマーを含有していてもよい。
本発明の爪用プライマー組成物が酸基及びエチレン性不飽和基を有し、重量平均分子量が１，０００以上である高分子化合物以外のポリマーを含有する場合、酸基及びエチレン性不飽和基を有し、重量平均分子量が１，０００以上である高分子化合物以外のポリマーの含有量は、酸基及びエチレン性不飽和基を有し、重量平均分子量が１，０００以上である高分子化合物の含有量未満であることが好ましく、爪用プライマー組成物の全質量に対し、２０質量％以下であることがより好ましく、１０質量％以下であることがより好ましく、５質量％以下であることが更に好ましく、含有しないことが特に好ましい。

また、本発明の爪用プライマー組成物における各成分の配合量は、特に限定されるものではないが、質量比で、酸基及びエチレン性不飽和基を有し、重量平均分子量が１，０００以上である高分子化合物／上記高分子化合物以外のエチレン性不飽和化合物／光重合開始剤／溶剤／その他の成分＝１０〜７０／０〜５０／０〜２５／５〜５０／０〜２０の範囲であることが好ましい。上記範囲であると、塗布性により優れ、また、得られる人工爪の密着性及び剥離性により優れる。

（人工爪）
本発明の人工爪は、本発明の爪用プライマー組成物を硬化してなる層を有する人工爪であり、本発明の爪用プライマー組成物を乾燥及び／又は露光して硬化してなる層を有する人工爪であることが好ましい。
本発明において、人工爪は、複数の層から形成されていてもよく、例えば、プライマー層、ベース層、カラー層、及び／又は、トップ層等により形成されている。本発明の爪用プライマー組成物を硬化してなる層は、プライマー層である。
本発明の人工爪は、マニキュア、ペディキュア等のネイルポリッシュや、ジェルネイルとして好適である。

本発明の人工爪は、少なくとも一部が本発明の爪用プライマー組成物を硬化してなる層であればよく、他の層や構造を有していてもよい。
また、本発明の人工爪は、本発明の爪用プライマー組成物を硬化してなる層を１層のみ有していても、２層以上有していてもよい。
中でも、剥離性の観点から、本発明の爪用プライマー組成物を硬化してなる層のうち少なくとも１層が爪と接している層であることが好ましい。
また、本発明の人工爪における本発明の爪用プライマー組成物を硬化してなる層の厚さは、特に制限はないが、５〜１，０００μｍであることが好ましく、１０〜５００μｍであることがより好ましく、１５〜４００μｍが更に好ましい。

（人工爪の形成方法）
本発明の人工爪の形成方法は、本発明の爪用プライマー組成物を用いて人工爪を形成する方法であれば、特に制限はないが、本発明の爪用プライマー組成物をヒト若しくは動物の爪上、又は、他の人工爪上に塗布し、プライマー層形成用塗布膜を形成する工程、上記プライマー層形成用塗布膜を乾燥及び／又は露光してプライマー層を形成する工程、ポリマー又はオリゴマーを含有する人工爪組成物をプライマー層又はプライマー層形成用塗布膜上に塗布し、人工爪形成用塗布膜を形成する工程、並びに、上記人工爪形成用塗布膜を乾燥及び／又は露光して人工爪を形成する工程、を含むことが好ましい。
本発明の爪用プライマー組成物を人工爪として形成するには、乾燥又は光硬化のいずれかの形成方法を好適に選択することができる。
また、本発明の人工爪の形成方法における本発明の爪用プライマー組成物を硬化してなる層の厚さは、特に制限はないが、５〜１，０００μｍであることが好ましく、１０〜５００μｍであることがより好ましく、１５〜４００μｍが更に好ましい。
また、本発明の人工爪の形成方法における人工爪組成物を硬化してなる層の厚さは、特に制限はないが、１０〜２，０００μｍであることが好ましく、２０〜１，５００μｍであることがより好ましく、２０〜１，０００μｍが更に好ましい。
人工爪組成物の詳細については後述する。
なお、本発明において、爪用プライマー組成物を硬化してなる層をプライマー層、人工爪組成物を硬化してなる層を人工爪層ともいう。

＜プライマー層塗布工程＞
本発明の人工爪の形成方法は、本発明の爪用プライマー組成物をヒト若しくは動物の爪上、又は、他の人工爪上に塗布し、プライマー層形成用塗布膜を形成する工程（プライマー層塗布工程）を含むことが好ましい。
他の人工爪は、人工爪に用いられる基材であれば、特に制限はなく、例えば、樹脂基材、本発明の人工爪の形成方法以外の方法により形成された人工爪、又は、本発明の人工爪の形成方法により得られた人工爪が挙げられる。
塗布方法としては、特に制限はなく、公知の方法により行えばよいが、刷毛や筆等を使用して塗布する方法が好ましく挙げられる。また、スプレー塗布やインクジェット塗布を行ってもよい。
塗布膜の厚さについても、特に制限はなく、得られる人工爪におけるプライマー層の所望の厚さを考慮して、塗布厚を適宜調整すればよい。

＜プライマー層乾燥工程又はプライマー層露光工程＞
本発明の人工爪の形成方法は、上記プライマー層形成用塗布膜を乾燥及び／又は露光してプライマー層を形成する工程（プライマー層乾燥工程又はプライマー層露光工程）を含むことが好ましい。
なお、後述する人工爪層塗布工程において、プライマー層形成用塗布膜上に人工爪組成物を塗布する場合には、プライマー層乾燥工程又はプライマー層露光工程と、後述する人工爪層乾燥工程又は人工爪層露光工程とを同時に行ってもよい。
例えば、本発明の爪用プライマー組成物をヒト若しくは動物の爪上、又は、他の人工爪上に塗布し、必要に応じて乾燥を行った後に、後述の人工爪層塗布工程により人工爪組成物をプライマー層形成用塗布膜上に塗布し、人工爪形成用塗布膜を形成して、プライマー層形成用塗布膜と人工爪形成用塗布膜とを同時に乾燥及び／又は露光することにより硬化して人工爪を形成してもよい。上記態様における乾燥方法、乾燥時間、露光手段及び露光時間等は、後述するプライマー層乾燥工程、及び、プライマー層露光工程における露光手段及び露光時間と同義であり、好ましい態様も同様である。

〔プライマー層乾燥工程〕
乾燥によりプライマー層を形成する場合、使用する本発明の爪用プライマー組成物は、溶剤を含有していることが好ましい。
なお、プライマー層乾燥工程における乾燥とは、プライマー層形成用塗布膜に含まれる溶剤の少なくとも一部を除去することをいう。
乾燥方法としては、特に制限はなく、公知の方法により行えばよい。
具体的には、例えば、室温（例えば、１０〜３０℃）にて放置乾燥する方法、気流下において放置乾燥する方法、加熱乾燥する方法、及び、これらを組み合わせた方法が好ましく挙げられる。加熱方法としては、特に制限はないが、室温より高い温度の雰囲気下に放置する方法、加熱気流下に放置する方法、ヒーターや赤外線ランプ（ＩＲランプ）等の加熱手段により加熱する方法が例示できる。
乾燥時間としては、特に制限はなく、爪用プライマー組成物の組成や、乾燥方法、塗布厚によって適宜調整すればよいが、簡便性及びセルフレベリングによる平滑性や光沢性付与の観点から、１０秒〜２０分であることが好ましく、１５秒〜１０分であることがより好ましく、３０秒〜５分であることが更に好ましく、３０秒〜２分であることが特に好ましい。

〔プライマー層露光工程〕
露光によりプライマー層を形成する場合、使用する本発明の爪用プライマー組成物は、上記高分子化合物以外のエチレン性不飽和化合物、及び、上記光重合開始剤を含有していることが好ましい。
また、本発明の爪用プライマー組成物が、溶剤を含有している場合、露光を行う前に、乾燥を行うことが好ましい。
なお、プライマー層露光工程における乾燥とは、プライマー層形成用塗布膜に含まれる溶剤の少なくとも一部を除去することをいう。
本発明の爪用プライマー組成物を塗布し、必要に応じて上記乾燥を行った後に、露光せずに次に積層する人工爪組成物を塗布し、その後に露光を行ってもよい。上記露光により、プライマー層と人工爪層が同時に形成される。すなわち、プライマー層露光工程と、後述する人工爪層露光工程とを、同一の工程により同時に行うことが可能である。なお、爪用プライマー組成物が光重合開始剤を含まない場合であっても、上記態様によれば、爪用プライマー組成物に含まれる酸基及びエチレン性不飽和基を有し、重量平均分子量が１，０００以上である高分子化合物におけるエチレン性不飽和基の少なくとも一部について、重合が進行すると考えられる。上記露光により、プライマー層と人工爪層が同時に形成される。
また、人工爪組成物の塗布前に爪用プライマー組成物を露光により硬化する場合、爪用プライマー組成物を半硬化した後に人工爪組成物を塗布し、その後に爪用プライマー組成物と人工爪組成物とを露光し、完全硬化してもよい。
本発明において、「半硬化」とは、部分的な硬化（partially cured; partial curing）を意味し、爪用プライマー組成物が部分的に硬化しているが完全に硬化していない状態をいう。爪用プライマー組成物が半硬化している場合、硬化の程度は不均一であってもよい。例えば、爪用プライマー組成物は深さ方向に硬化が進んでいることが好ましい。
通常、空気中で爪用プライマー組成物を半硬化させる場合には、酸素のラジカル重合抑制作用のために、塗布されたプライマー層の表面においてラジカル重合が阻害される傾向がある。この結果、半硬化は不均一となり、付与された硬化性組成物の内部でより硬化が進行し、表面の硬化が遅れる傾向となる。上記態様によれば、プライマー層と人工爪層の密着性に優れた人工爪が得られる。
露光に使用する光としては、紫外線、可視光線などが挙げられ、硬化感度及び装置の入手容易性の観点から、紫外線が特に好ましい。
露光手段としては、特に制限はなく、公知の露光手段を用いることができるが、例えば、水銀ランプ及びメタルハライドランプ等の紫外線ランプ（ＵＶランプ）、発光ダイオード（ＬＥＤ）、レーザーダイオード（ＬＤ）等が挙げられる。
中でも、ＵＶランプ、又は、発光ダイオードが好ましい。
露光時間としては、特に制限はないが、０．５〜１５分が好ましく、０．５〜１０分がより好ましく、０．５〜７分が更に好ましい。また、露光は、間歇的に行っても、連続的に行ってもよいし、パルス光により行ってもよく、任意の方法で露光すればよい。

＜人工爪層塗布工程＞
本発明の人工爪の形成方法は、ポリマー又はオリゴマーを含有する人工爪組成物をプライマー層又はプライマー層形成用塗布膜上に塗布し、人工爪形成用塗布膜を形成する工程（人工爪層塗布工程）を含むことが好ましい。
塗布方法としては、特に制限はなく、公知の方法により行えばよいが、刷毛や筆等を使用して塗布する方法が好ましく挙げられる。また、スプレー塗布やインクジェット塗布を行ってもよい。
塗布膜の厚さについても、特に制限はなく、得られる人工爪における人工爪層の所望の厚さを考慮して、塗布厚を適宜調整すればよい。

＜人工爪層乾燥工程又は人工爪層露光工程＞
本発明の人工爪の形成方法は、上記人工爪形成用塗布膜を乾燥及び／又は露光して人工爪層を形成する工程（人工爪層乾燥工程又は人工爪層露光工程）を含むことが好ましい。

〔人工爪層乾燥工程〕
乾燥により人工爪層を形成する場合、使用する人工爪組成物は、溶剤を含有していることが好ましい。
なお、人工爪層乾燥工程における乾燥とは、人工爪形成用塗布膜に含まれる溶剤の少なくとも一部を除去することをいう。
乾燥方法としては、特に制限はなく、公知の方法により行えばよい。
具体的には、例えば、室温（例えば、１０〜３０℃）にて放置乾燥する方法、気流下において放置乾燥する方法、加熱乾燥する方法、及び、これらを組み合わせた方法が好ましく挙げられる。加熱方法としては、特に制限はないが、室温より高い温度の雰囲気下に放置する方法、加熱気流下に放置する方法、ヒーターや赤外線ランプ（ＩＲランプ）等の加熱手段により加熱する方法が例示できる。
乾燥時間としては、特に制限はなく、人工爪組成物の組成や、乾燥方法、塗布厚によって適宜調整すればよいが、簡便性及びセルフレベリングによる平滑性や光沢性付与の観点から、１０秒〜２０分であることが好ましく、１５秒〜１０分であることがより好ましく、３０秒〜５分であることが更に好ましく、３０秒〜２分であることが特に好ましい。

〔人工爪層露光工程〕
露光により人工爪層を形成する場合、使用する本発明の人工爪組成物は、上記高分子化合物以外のエチレン性不飽和化合物、及び、上記光重合開始剤を含有していることが好ましい。
また、人工爪組成物が、後述する重合性化合物及び光重合開始剤に加え、溶剤を含有している場合、露光を行う前に、乾燥を行うことが好ましい。溶剤を含有していない場合、露光せずに次に積層するベースジェルを塗布し、その後に露光を行ってもよい。
なお、人工爪層露光工程における乾燥とは、人工爪形成用塗布膜に含まれる溶剤の少なくとも一部を除去することをいう。
露光に使用する光としては、紫外線、可視光線などが挙げられ、硬化感度及び装置の入手容易性の観点から、紫外線が特に好ましい。
露光手段としては、特に制限はなく、公知の露光手段を用いることができるが、例えば、水銀ランプ及びメタルハライドランプ等の紫外線ランプ（ＵＶランプ）、発光ダイオード（ＬＥＤ）、レーザーダイオード（ＬＤ）等が挙げられる。
中でも、ＵＶランプ、又は、発光ダイオードが好ましい。
露光時間としては、特に制限はないが、０．５〜１５分が好ましく、０．５〜１０分がより好ましく、０．５〜７分が更に好ましい。また、露光は、間歇的に行っても、連続的に行ってもよいし、パルス光により行ってもよく、任意の方法で露光すればよい。

〔その他の工程〕
適用する人工爪組成物によっては、得られる人工爪の光沢や美観、また、露光を行った場合は未硬化成分の除去の観点から、乾燥又は露光工程の後、得られた人工爪の表面を洗浄又は拭き取る工程を更に含むことが好ましい。
洗浄又は拭き取り方法としては、エタノール等の溶剤を含ませたワイプシートやスポンジワイプ等の拭き取り基材により拭き取る方法、エタノール等の溶剤や水により洗浄する方法が例示できる。
また、洗浄又は拭き取りに使用する溶剤としては、得られた人工爪を溶解しない溶剤であることが好ましい。
また、本発明の人工爪の形成方法は、露光を行う場合、塗布工程の前に、ヒト若しくは動物の爪、又は、他の人工爪の表面を粗面化する工程を含むことが好ましい。上記態様であると、露光にして得られる人工爪（ジェルネイル）の密着性及び耐久性に優れる。
爪表面の粗面化方法としては、特に制限はなく、公知の方法により行うことができる。例えば、ファイル等の爪用やすりにより粗面化を行う方法が好ましく挙げられる。
また、本発明の人工爪の形成方法は、その他、公知の工程を含んでいてもよい。

＜人工爪組成物＞
以下、本発明の人工爪の形成方法に用いられる、人工爪組成物について説明する。
人工爪組成物としては、特に制限なく公知の人工爪組成物を使用することが可能であるが、人工爪組成物は、光硬化性組成物であることが好ましい。
人工爪組成物は、ポリマー又はオリゴマーを含有し、重合性化合物、光重合開始剤を含有することが好ましい。
また、任意に溶剤、及び、その他の成分を含有してもよい。

〔ポリマー又はオリゴマー〕
本発明において、人工爪組成物は、ポリマー又はオリゴマーを含有する。
本発明に用いられるポリマー又はオリゴマーの重量平均分子量は、１，０００以上であり、２，０００以上３００，０００以下であることが好ましく、３，０００以上２００，０００以下であることがより好ましく、４，０００以上１５０，０００以下であることが更に好ましく、５，０００以上１００，０００以下であることが特に好ましい。上記範囲であると、得られる硬化物の密着性、剥離性、及び経時安定性に優れる。

ポリマー又はオリゴマーの構造については、特に制限はなく、任意の構造であればよい。例えば、鎖状構造、枝分かれ（分岐）構造、星型構造、架橋構造、網状構造などが挙げられる。
ポリマー又はオリゴマーの種類については、特に制限はなく、公知のポリマー種（ポリ（メタ）アクリル酸エステル、ポリ（メタ）アクリル酸アミド、ポリウレタン、ポリエステル、ポリエーテル、ポリウレア、ポリカーボネート、ポリアミド、ポリスチレン、ポリアルキレン、ポリビニル等）が使用できる。

〔重合性化合物〕
本発明に用いられる人工爪組成物は、必要に応じて重合性化合物を含有することができる。
上記重合性化合物は、上記ポリマー又はオリゴマーに含まれない化合物である。
また、人工爪組成物が重合性化合物を含有する場合、後述する光重合開始剤を更に含有することが好ましい。重合性化合物及び光重合開始剤を含有することにより、人工爪組成物は、爪用プライマー組成物（プライマー層）と好適に密着することができる。
重合性化合物としては、ラジカル重合性化合物であっても、カチオン重合性化合物であってもよいが、ラジカル重合性化合物であることが好ましく、エチレン性不飽和化合物であることがより好ましい。
エチレン性不飽和化合物としては、特に限定されず、人工爪組成物に用いられる公知のエチレン性不飽和化合物が使用可能であり、爪用プライマー組成物の成分として記載した、上記高分子化合物以外のエチレン性不飽和化合物を好適に用いることができる。

〔光重合開始剤及び／又は溶剤〕
本発明に用いられる人工爪組成物は、必要に応じて光重合開始剤及び／又は溶剤を含有することができる。
上記光重合開始剤及び／又は溶剤としては、特に限定されず、人工爪組成物に用いられる公知の光重合開始剤及び／又は溶剤が使用可能であり、爪用プライマー組成物の成分として記載した、光重合開始剤及び／又は溶剤を好適に用いることができる。

〔その他の成分〕
人工爪組成物は、上記成分以外のその他の成分として、一般に人工爪組成物中に配合されうる添加成分を、本発明効果を損なわない範囲内において任意に配合することができる。このような添加成分としては、例えば、消泡剤、緩衝剤、キレート化剤、分散剤、染料、充填剤、顔料、防腐剤、樹脂粉末（例えば、ポリ（メタ）アクリル酸等）、無機粉末（例えば、シリカゲル等）、増粘剤、湿潤剤等が挙げられる。ただし、これら例示に限定されるものではない。
なお、これらの任意成分は、予め人工爪組成物に配合してもよいが、美容施術の際に、人工爪組成物にその都度必要な成分を必要な量配合してもよい。

また、人工爪組成物における各成分の配合量は、特に限定されるものではないが、質量比で、ポリマー又はオリゴマー／重合性化合物／光重合開始剤／溶剤／その他の成分＝１０〜９０／５〜８５／０．５〜１２／０〜５０／０〜４０の範囲であることが好ましい。上記範囲であると、塗布性により優れ、また、得られる人工爪の剥離性及び光沢により優れる。

（ネイルアートキット）
本発明のネイルアートキットは、本発明の爪用プライマー組成物と、人工爪組成物とを含む。
上記人工爪組成物は、光硬化性組成物であることが好ましい。
本発明のネイルアートキットにおける本発明の爪用プライマー組成物及び人工爪組成物の好ましい態様は、上述したものと同様である。
また、本発明のネイルアートキットは、本発明の爪用プライマー組成物及び人工爪組成物以外に、任意の品を含んでいてもよい。
例えば、人工爪の除去に使用される除去液、カラー用又はトップ用など、上記人工爪組成物以外の人工爪組成物、ファイル等の爪用やすり、爪用プライマー組成物や人工爪組成物を塗布するための平筆等の筆や刷毛、ＵＶライト等の露光装置、拭き取り又は洗浄用液、拭き取り用ワイプ、ネイルブラシ、ダストブラシ、爪の長さ出しに使用するネイルフォーム、アクリル製、ガラス製、金属製又は天然石製等の装飾用ストーン、ネイルシール、グリッターやホログラム等の装飾用パウダー、カッター、へら、スティック、爪同士の接触を防ぐため指の間隔を広げるセパレーター等が挙げられるが、これらに制限されない。

以下実施例により本発明を更に具体的に説明するが、本発明はこれらの実施例における形態に限定されるものではない。なお、特に断りのない限り、「部」、及び「％」は質量基準である。

＜爪用プライマー組成物１の作製＞
下記の各成分を均一に混合することにより、爪用プライマー組成物１を作製した。
・下記式Ａ−１により表される高分子化合物（重量平均分子量１．５万）：３７質量部
・イソプロピルアルコール：３０．５質量部
・酢酸ブチル：１５質量部
・エチルアルコール：１７．５質量部

上記式Ａ−１中、括弧の右下の数値は各構成単位の含有比（モル比）を表す。以下、式Ａ−２〜式Ａ−６について、同様とする。また、式Ａ−６中、エチレンオキサイド単位を示す括弧の右下の数値は繰り返し数を表す。

＜爪用プライマー組成物２の作製＞
下記の各成分を均一に混合することにより、爪用プライマー組成物２を作製した。
・上記式Ａ−１により表される高分子化合物（重量平均分子量１．５万）：３７質量部
・イソプロピルアルコール：２０．５質量部
・酢酸ブチル：１０質量部
・イソボルニルメタクリレート：１７質量部
・ヒドロキシエチルアクリルアミド：１２質量部
・イルガキュアＴＰＯ（ＢＡＳＦ社製）：３．５質量部

＜爪用プライマー組成物３の作製＞
下記の各成分を均一に混合することにより、爪用プライマー組成物３を作製した。
・下記式Ａ−２により表される高分子化合物（重量平均分子量１．５万）：３７質量部
・イソプロピルアルコール：３０．５質量部
・酢酸ブチル：１５質量部
・エチルアルコール：１７．５質量部

＜爪用プライマー組成物４の作製＞
下記の各成分を均一に混合することにより、爪用プライマー組成物３を作製した。
・上記式Ａ−１により表される高分子化合物（重量平均分子量１．５万）：４２質量部
・イソボルニルメタクリレート：２８．５質量部
・ヒドロキシエチルアクリルアミド：１２質量部
・ヒドロキシエチルメタクリレート：１４質量部
・イルガキュアＴＰＯ（ＢＡＳＦ社製）：３．５質量部

＜爪用プライマー組成物５の作製＞
下記の各成分を均一に混合することにより、爪用プライマー組成物５を作製した。
・下記式Ａ−３により表される高分子化合物（重量平均分子量１．５万）：３７質量部
・イソプロピルアルコール：３０．５質量部
・酢酸ブチル：１５質量部
・エチルアルコール：１７．５質量部

＜爪用プライマー組成物６の作製＞
下記の各成分を均一に混合することにより、爪用プライマー組成物６を作製した。
・下記式Ａ−４により表される高分子化合物（重量平均分子量１．５万）：３７質量部
・イソプロピルアルコール：３０．５質量部
・酢酸ブチル：１５質量部
・エチルアルコール：１７．５質量部

＜爪用プライマー組成物７の作製＞
下記の各成分を均一に混合することにより、爪用プライマー組成物７を作製した。
・上記式Ａ−１により表される高分子化合物（重量平均分子量１．５万）：３７質量部
・ヒドロキシプロピルメタクリレート：２３質量部
・ヒドロキシエチルメタクリレート：１０質量部
・イルガキュア１８４（ＢＡＳＦ社製）：３．５質量部

＜比較用爪用プライマー組成物１の作製＞
下記の各成分を均一に混合する事により、比較用爪用プライマー組成物１を作製した。
・ヒドロキシエチルメタクリレート：３０質量部
・エチルアルコール：４０質量部
・酢酸ブチル：３０質量部

＜比較用爪用プライマー組成物２の作製＞
下記の各成分を均一に混合することにより、比較用爪用プライマー組成物２を作製した。
・ジ（２−メタクリロキシエチル）−フォスフェート：３０質量部
・エチルアルコール：４０質量部
・酢酸ブチル：３０質量部

＜比較用爪用プライマー組成物３の作製＞
下記の各成分を均一に混合することにより、比較用爪用プライマー組成物３を作製した。
・下記式Ａ−５により表される高分子化合物（重量平均分子量１．５万）：３７質量部
・エチルアルコール：１７．５質量部
・イソプロパノール：３０．５質量部
・酢酸ブチル：１５質量部

＜比較用爪用プライマー組成物４の作製＞
下記の各成分を均一に混合することにより、比較用爪用プライマー組成物４を作製した。
・下記式Ａ−６により表される高分子化合物（重量平均分子量１．５万）：３７質量部
・エチルアルコール：１７．５質量部
・イソプロパノール：３０．５質量部
・酢酸ブチル：１５質量部

（実施例１〜７及び比較例１〜４）
上記のように作製した爪用プライマー組成物１〜７及び比較用爪用プライマー組成物１〜４を使用して、下記評価を行った。

＜持続性評価方法＞
爪表面全体に、表１に記載の爪用プライマー組成物又は比較用爪用プライマー組成物をそれぞれ筆で塗布した。実施例１〜３及び５、６については、塗布後、乾燥を行った。実施例１〜３及び５、６における乾燥後の爪用プライマー組成物の厚みは約５０μｍであった。また、実施例４及び７における塗布後の爪用プライマー組成物の厚みは約５０μｍであった。
その後市販のベースジェル（Ｂｉｏスカルプチュア製ＵＶベースジェル）を筆で塗布し、紫外線ランプ（３６Ｗ）を２分間照射した。なお、ベースジェルは、照射後の膜厚が約１００μｍ（±１０μｍ）程度になるように塗布した。
その後、カラー層として市販のカルジェル＃ＣＧ−０３ フレッシュピンク（モガブルック社製）を筆で塗布した後、紫外線ランプ（３６Ｗ）で２分間照射した。更に、トップ層として市販のトップジェル（モガブルック社製）を筆で塗布し、同様に紫外線ランプ（３６Ｗ）で２分間照射した。形成した人工爪を目視及び指触で観察したところ、完全に固化していた。
カラー層とトップ層とを合わせた膜厚は約４００μｍであった。その後エタノールで表面を拭き取った。
上記方法により本発明の人工爪を爪上に形成した１０人にそのまま日常生活をおくってもらった。人工爪の外観に不良（爪から浮く、人工爪が欠ける、剥がれる、傷が入る等）が発生し、特に美観が損なわれ、除去したい（付替えたい）と感じた日数を計測した。
評価結果は表１に記載した。
なお、上記評価による持続性に優れるほど、人工爪の密着性に優れているといえる。

＜剥離性評価方法＞
持続性評価と同様の条件により爪上に形成した人工爪の表面をファイル１００Ｇを用いて傷をつけ、その後アセトンを浸漬したガーゼで一定時間処理し、治具での剥離しやすさを評価した。
その際の爪上の人工爪の残存レベルを下記評価基準により１〜３の３段階で目視評価した。残存レベルが１であれば実用上問題ない。
また、上記方法により人工爪を剥離した後の爪組織の剥がれ度について下記評価基準により１〜３の３段階で目視評価した。剥がれ度が１又は２であれば実用上問題なく、１であることが好ましい。

〔人工爪の残存レベル〕
１：ほぼ人工爪組成物がない
２：目視では残存を確認することは難しいが、手で擦ると表面に凹凸を感じ、人工爪の残存を確認できる
３：目視で残存を確認でき、かつ、手で擦ると表面に凹凸を感じ、人工爪の残存を確認できる

〔爪組織の剥がれ度〕
１：剥離がほとんど確認できない
２：小さな剥離が確認できる
３：大小さまざまな爪組織の剥離が確認できる

（実施例８〜９及び比較例５）
爪表面全体に表２に記載の爪用プライマー組成物又は比較用爪用プライマー組成物をそれぞれ筆で塗布し、乾燥させた。その後、ＯＰＩ製ＧＣ０１０を筆で塗布し、乾燥させた。その後、カラー層としてＯＰＩ製Ｌ１２を筆で塗布した後、乾燥させた。同様にその後トップ層としてＯＰＩ製ＧＣ０３０を筆で塗布し、乾燥させた。
上記方法により本発明の人工爪を爪上に形成したこと以外は実施例１〜７及び比較例１〜４と同様の方法により持続性評価及び剥離性評価を行った。結果を表２に記載した。

（実施例１０）
爪表面全体に、爪用プライマー組成物２を筆で塗布し、乾燥させた。その後、空気下において紫外線ランプ（３６Ｗ）を２分間照射した。このときの爪用プライマー組成物の厚みは約５０μｍであった。
その後市販のベースジェル（Ｂｉｏスカルプチュア製ＵＶベースジェル）を筆で塗布し、紫外線ランプ（３６Ｗ）を２分間照射した。なお、ベースジェルは、照射後の膜厚が約１００μｍ（±１０μｍ）程度になるように塗布した。
その後、カラー層として市販のカルジェル＃ＣＧ−０３ フレッシュピンク（モガブルック社製）を筆で塗布した後、紫外線ランプ（３６Ｗ）で２分間照射した。更に、トップ層として市販のトップジェル（モガブルック社製）を筆で塗布し、同様に紫外線ランプ（３６Ｗ）で２分間照射した。
上記方法により本発明の人工爪を爪上に形成したこと以外は実施例１〜７及び比較例１〜４と同様の方法により持続性評価及び剥離性評価を行った。結果、持続性評価は２０日であり、人工爪の残存レベル及び爪組織の剥がれ度は、それぞれ１であった。

Claims (13)

1. 酸基及びエチレン性不飽和基を有し、重量平均分子量が１，０００以上である高分子化合物を含むことを特徴とする
   爪用プライマー組成物。
2. 前記酸基が、カルボキシ基、スルホン酸基、リン酸基、及び、ホスホン酸基よりなる群から選ばれた少なくとも１つの基である、請求項１に記載の爪用プライマー組成物。
3. 前記高分子化合物が、下記式Ｉにより表される構成単位、及び、下記式ＩＩにより表される構成単位を含む、請求項１又は２に記載の爪用プライマー組成物。
   

   

   
   式Ｉ及び式ＩＩ中、Ｒは酸基を表し、Ｘは単結合又は二価の連結基を表し、Ｒ’は水素原子又はアルキル基を表し、Ｒ’’及びＲ’’’はそれぞれ独立に、水素原子又はアルキル基を表し、Ｑは二価の連結基を表す。
4. 式Ｉ中のＸが単結合、アルキレン基、アルケニレン基、アルキニレン基、アリーレン基、アルキレンオキシ基、ポリアルキレンオキシ基、−ＮＲ^B1−で表される基、酸素原子、カルボニル基、又は、その組み合わせにより表される基であり、Ｒ^B1は水素原子又はアルキル基を表し、Ｑが下記Ｑ１〜Ｑ１８のいずれかにより表される基である、請求項３に記載の爪用プライマー組成物。
   Ｑ１：＊¹−Ｃ（＝Ｏ）−ＮＨ−Ｌ１−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−＊²
   Ｑ２：＊¹−Ｃ（＝Ｏ）−Ｌ１−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−＊²
   Ｑ３：＊¹−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−Ｌ１−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−＊²
   Ｑ４：＊¹−Ｌ１−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−＊²
   Ｑ５：＊¹−Ｃ（＝Ｏ）−ＮＨ−Ｌ２−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−＊²
   Ｑ６：＊¹−Ｃ（＝Ｏ）−Ｌ２−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−＊²
   Ｑ７：＊¹−Ｌ２−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−＊²
   Ｑ８：＊¹−Ｃ（＝Ｏ）−Ｌ１−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−Ｌ１−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−＊²
   Ｑ９：＊¹−Ｃ（＝Ｏ）−Ｌ１−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−Ｌ１−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−＊²
   Ｑ１０：＊¹−Ｃ（＝Ｏ）−Ｌ２−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−Ｌ１−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−＊²
   Ｑ１１：＊¹−Ｃ（＝Ｏ）−Ｌ２−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−Ｌ１−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−＊²
   Ｑ１２：＊¹−Ｃ（＝Ｏ）−Ｌ１−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−Ｌ２−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−＊²
   Ｑ１３：＊¹−Ｃ（＝Ｏ）−Ｌ１−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−Ｌ２−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−＊²
   Ｑ１４：＊¹−Ｃ（＝Ｏ）−Ｌ２−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−Ｌ２−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−＊²
   Ｑ１５：＊¹−Ｃ（＝Ｏ）−Ｌ２−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−Ｌ２−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−＊²
   Ｑ１６：＊¹−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−Ｌ２−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−ＮＨ−Ｌ１−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−＊²
   Ｑ１７：＊¹−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−Ｌ１−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−ＮＨ−Ｌ１−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−＊²
   Ｑ１８：＊¹−Ｃ（＝Ｏ）−ＮＨ−Ｌ１−ＮＨ−Ｃ（＝Ｏ）−＊²
   Ｑ１〜Ｑ１８中、Ｌ１はそれぞれ独立に、アルキレン基、アルケニレン基、アルキニレン基、アルキレンオキシ基、ポリアルキレンオキシ基、又は、それらの組み合わせにより表される基を表し、Ｌ２はそれぞれ独立に、アリーレン基を表し、＊¹はポリマー鎖における炭素原子との連結位置を表し、＊²はエチレン性不飽和基における炭素原子との連結位置を表す。
5. 前記高分子化合物の重量平均分子量が２，０００〜１００，０００である、請求項１〜４のいずれか１項に記載の爪用プライマー組成物。
6. 溶剤を更に含有する、請求項１〜５のいずれか１項に記載の爪用プライマー組成物。
7. 前記高分子化合物以外のエチレン性不飽和化合物を更に含有する、請求項１〜６のいずれか１項に記載の爪用プライマー組成物。
8. 光重合開始剤を更に含有する、請求項１〜７のいずれか１項に記載の爪用プライマー組成物。
9. 請求項１〜８のいずれか１項に記載の爪用プライマー組成物を硬化してなる層を有する人工爪。
10. 請求項１〜８のいずれか１項に記載の爪用プライマー組成物をヒト若しくは動物の爪上、又は、他の人工爪上に塗布し、プライマー層形成用塗布膜を形成する工程、
    前記プライマー層形成用塗布膜を乾燥及び／又は露光してプライマー層を形成する工程、
    ポリマー又はオリゴマーを含有する人工爪組成物をプライマー層又はプライマー層形成用塗布膜上に塗布し、人工爪形成用塗布膜を形成する工程、並びに、
    前記人工爪形成用塗布膜を乾燥及び／又は露光して人工爪を形成する工程、を含む
    人工爪の形成方法。
11. 前記人工爪組成物が、光硬化性組成物である、請求項１０に記載の人工爪の形成方法。
12. 請求項１〜８のいずれか１項に記載の爪用プライマー組成物と、人工爪組成物とを含むネイルアートキット。
13. 前記人工爪組成物が、光硬化性組成物である、請求項１２に記載のネイルアートキット。