JP2017181900A - 光学積層体及びその製造方法、並びに、波長変換シート及びその製造方法 - Google Patents

Abstract

【課題】良好なガスバリア性を有すると共に、バリアフィルムと被着体との密着性に優れた光学積層体を提供すること。【解決手段】エポキシ樹脂を含む被着体と、上記被着体の少なくとも一方の面上に積層されたバリアフィルムと、を備え、上記バリアフィルムは、上記被着体側の最表面に、アミノ基を有するシランカップリング剤を含むプライマー組成物の硬化物からなるプライマー層を備える、光学積層体。【選択図】図１

Description

本発明は、光学積層体及びその製造方法、並びに、波長変換シート及びその製造方法に関する。

量子ドット等の蛍光体を用いた波長変換シートは、輝度及び色再現性が高く、ディスプレイ等への採用が望まれている。しかし、量子ドット等の蛍光体は酸素又は水分との接触によって劣化する。そのため、波長変換シートではしばしば、高分子フィルムにガスバリア層を形成したバリアフィルムが、蛍光体を含む蛍光体層の片側又は両側の面上に配置された構造を採用している。

例えば、特許文献１では、アクリル樹脂及びエポキシ樹脂に量子ドットを分散させた蛍光体層の両面にバリアフィルムを貼り合わせることで、蛍光体層への酸素等の浸入を防止している。

国際公開第２０１４／１１３５６２号

しかしながら、特許文献１に記載されたような無機材料である量子ドットを分散させた蛍光体層は、バリアフィルムとの密着性が悪く、高湿度環境に長期間さらされた場合、蛍光体層とバリアフィルムとの間に剥がれを生じる恐れがあった。また、波長変換シートに限らず、光学積層体において、バリアフィルムの剥がれは、性能低下に多大な影響を及ぼすため、バリアフィルムと被着体との密着性の向上が求められている。

本発明は、上記従来技術の有する課題に鑑みてなされたものであり、良好なガスバリア性を有すると共に、バリアフィルムと被着体との密着性に優れた光学積層体及びその製造方法を提供することを目的とする。本発明はまた、良好なガスバリア性を有すると共に、バリアフィルムと蛍光体層との密着性に優れた波長変換シート及びその製造方法を提供することを目的とする。

上記目的を達成するために、本発明は、エポキシ樹脂を含む被着体と、上記被着体の少なくとも一方の面上に積層されたバリアフィルムと、を備え、上記バリアフィルムは、上記被着体側の最表面に、アミノ基を有するシランカップリング剤を含むプライマー組成物の硬化物からなるプライマー層を備える、光学積層体を提供する。

上記光学積層体によれば、アミノ基を有するシランカップリング剤を含むプライマー組成物の硬化物からなるプライマー層を介してバリアフィルムと被着体とを積層することで、バリアフィルムと被着体との優れた密着性を得ることができる。これは、被着体中に存在するエポキシ樹脂と、プライマー層中に存在するアミノ基とが反応することで密着性が高まるためであると推察される。また、アミノ基を有するシランカップリング剤は加水分解によりプライマー層中でシラノール基を生成し、このシラノール基がプライマー層と接する層表面の水酸基等の極性官能基と反応することにより密着性の向上に寄与し、プライマー層とそれに接する層との界面から水分や酸素などが進入することを抑制することが可能である。これらのことから、上記光学積層体は、良好なガスバリア性を有すると共に、バリアフィルムと被着体との密着性に優れ、高湿度環境に長期間さらされた場合であっても、蛍光体層とバリアフィルムとの間に剥がれを生じることが抑制される。

上記光学積層体において、上記プライマー層の厚さは、１〜１０００ｎｍであることが好ましい。プライマー層の厚さが上記範囲内であると、バリアフィルムと被着体とのより良好な密着性が得られると共に、プライマー層端部からの水蒸気及び酸素の侵入を十分に抑制できる。

上記光学積層体において、上記バリアフィルムは、少なくとも上記プライマー層と、第１の基材と、バリア層と、第２の基材とがこの順で配置された積層構造を有することが好ましい。このようにバリア層の両側に基材を有することで、バリア層の損傷を防ぐことができ、より優れたガスバリア性を得ることができる。

本発明はまた、エポキシ樹脂及び蛍光体を含む蛍光体層と、上記蛍光体層の少なくとも一方の面上に積層されたバリアフィルムと、を備え、上記バリアフィルムは、上記蛍光体層側の最表面に、アミノ基を有するシランカップリング剤を含むプライマー組成物の硬化物からなるプライマー層を備える、波長変換シートを提供する。

上記波長変換シートによれば、アミノ基を有するシランカップリング剤を含むプライマー組成物の硬化物からなるプライマー層を介してバリアフィルムと蛍光体層とを積層することで、バリアフィルムと蛍光体層との優れた密着性を得ることができる。これは、蛍光体層中に存在するエポキシ樹脂と、プライマー層中に存在するアミノ基とが反応することで密着性が高まるためであると推察される。また、アミノ基を有するシランカップリング剤は加水分解によりプライマー層中でシラノール基を生成し、このシラノール基がプライマー層と接する層表面の水酸基等の極性官能基と反応することにより密着性の向上に寄与し、プライマー層とそれに接する層との界面から水分や酸素などが進入することを抑制することが可能である。これらのことから、上記波長変換シートは、良好なガスバリア性を有すると共に、バリアフィルムと蛍光体層との密着性に優れ、高湿度環境に長期間さらされた場合であっても、蛍光体層とバリアフィルムとの間に剥がれを生じることが抑制される。

本発明はまた、エポキシ樹脂を含む被着体と、上記被着体の少なくとも一方の面上に積層された、上記被着体側の最表面にプライマー層を有するバリアフィルムと、を備える光学積層体の製造方法であって、上記バリアフィルムにおける上記プライマー層の下層上に、アミノ基を有するシランカップリング剤を含むプライマー組成物を塗布し、硬化させて上記プライマー層を形成する工程と、上記被着体と上記バリアフィルムとを積層する工程と、を有する光学積層体の製造方法を提供する。

上記製造方法によれば、良好なガスバリア性を有すると共に、バリアフィルムと被着体との密着性に優れた光学積層体を容易に製造することができる。

本発明は更に、エポキシ樹脂及び蛍光体を含む蛍光体層と、上記蛍光体層の少なくとも一方の面上に積層された、上記蛍光体層側の最表面にプライマー層を有するバリアフィルムと、を備える波長変換シートの製造方法であって、上記バリアフィルムにおける上記プライマー層の下層上に、アミノ基を有するシランカップリング剤を含むプライマー組成物を塗布し、硬化させて上記プライマー層を形成する工程と、上記蛍光体層と上記バリアフィルムとを積層する工程と、を有する波長変換シートの製造方法を提供する。

上記製造方法によれば、良好なガスバリア性を有すると共に、バリアフィルムと蛍光体層との密着性に優れた波長変換シートを容易に製造することができる。

本発明によれば、良好なガスバリア性を有すると共に、バリアフィルムと被着体との密着性に優れた光学積層体及びその製造方法を提供することができる。また、本発明によれば、良好なガスバリア性を有すると共に、バリアフィルムと蛍光体層との密着性に優れた波長変換シート及びその製造方法を提供することができる。

本発明の波長変換シートの一実施形態を示す模式断面図である。 本発明の波長変換シートの一実施形態を示す模式断面図である。 本発明の波長変換シートの一実施形態を示す模式断面図である。 本発明の波長変換シートの一実施形態を示す模式断面図である。 本発明のバリアフィルムの一実施形態を示す模式断面図である。 本発明のバリアフィルムの一実施形態を示す模式断面図である。

以下、図面を参照しながら本発明の好適な実施形態について詳細に説明する。なお、図面中、同一又は相当部分には同一符号を付し、重複する説明は省略する。また、図面の寸法比率は図示の比率に限られるものではない。

本発明の光学積層体は、エポキシ樹脂を含む被着体と、上記被着体の少なくとも一方の面上に積層されたバリアフィルムと、を備え、上記バリアフィルムは、上記被着体側の最表面に、アミノ基を有するシランカップリング剤を含むプライマー組成物の硬化物からなるプライマー層を備えるものである。ここで、光学積層体として具体的には、波長変換シートが挙げられる。また、被着体は、光学積層体の種類によって異なり、光学積層体が波長変換シートの場合は蛍光体層である。以下、本発明の好適な実施形態を、光学積層体が波長変換シートである場合に基づいて説明する。

［波長変換シート］
図１〜図６は、本発明の波長変換シートの一実施形態を示す模式断面図である。図１に示す波長変換シート１００は、エポキシ樹脂を含有する波長変換機能を有する蛍光体層７が、一対のバリアフィルム５０で挟まれた構造を有している。バリアフィルム５０は、第１のフィルム１と、第２のフィルム２と、プライマー層４と、接着層５と、マット層６とを備える。ここで、第１のフィルム１は、第１の基材１１と、アンカーコート層１２と、無機薄膜層１３及びガスバリア性被覆層１４からなるバリア層１５とを備えている。第２のフィルム２は、第２の基材２１と、アンカーコート層２２と、無機薄膜層２３及びガスバリア性被覆層２４からなるバリア層２５とを備えている。第１のフィルム１と第２のフィルム２とは、ガスバリア性被覆層１４とガスバリア性被覆層２４とが対向するように接着層５を介して貼り合わせられている。バリアフィルム５０において、プライマー層４は、第１のフィルム１の第１の基材１１側の表面上に、第１の基材１１と接した状態で配置されており、マット層６は、第２のフィルム２の第２の基材２１側の表面上に、第２の基材２１と接した状態で配置されている。一対のバリアフィルム５０と蛍光体層７とは、プライマー層４が蛍光体層７と接するように積層されている。図１に示した構造の波長変換シート１００は、第１及び第２のフィルム１，２の２枚のガスバリア性フィルムを貼り合わせたバリアフィルム５０を備えるため、水分や酸素の透過をより十分に抑制することができる。また、バリアフィルム５０においてバリア層１５，２５が第１及び第２の基材１１，２１よりも内側に配置されることで、バリア層１５，２５が保護され、蛍光体層７と積層する前のバリア層１５，２５の損傷が抑制される。

図２に示す波長変換シート２００は、エポキシ樹脂を含有する波長変換機能を有する蛍光体層７が、一対のバリアフィルム６０で挟まれた構造を有している。バリアフィルム６０は、第１のフィルム１と、第２のフィルム２と、プライマー層４と、接着層５と、マット層６とを備える。ここで、第１のフィルム１は、第１の基材１１と、アンカーコート層１２と、無機薄膜層１３及びガスバリア性被覆層１４からなるバリア層１５とを備えている。第２のフィルム２は、第２の基材２１と、アンカーコート層２２と、無機薄膜層２３及びガスバリア性被覆層２４からなるバリア層２５とを備えている。第１のフィルム１と第２のフィルム２とは、第１の基材１１とガスバリア性被覆層２４とが対向するように接着層５を介して貼り合わせられている。バリアフィルム６０において、プライマー層４は、第１のフィルム１のガスバリア性被覆層１４側の表面上に、ガスバリア性被覆層１４と接した状態で配置されており、マット層６は、第２のフィルム２の第２の基材２１側の表面上に、第２の基材２１と接した状態で配置されている。一対のバリアフィルム６０と蛍光体層７とは、プライマー層４が蛍光体層７と接するように積層されている。図２に示した構造の波長変換シート２００は、第１及び第２のフィルム１，２の２枚のガスバリア性フィルムを貼り合わせたバリアフィルム６０を備えるため、水分や酸素の透過をより十分に抑制することができる。また、バリアフィルム６０においてバリア層１５がプライマー層４側、すなわち蛍光体層７により近い位置に配置されることで、蛍光体層７への水分や酸素の侵入をより十分に抑制することができる。

図３に示す波長変換シート３００は、エポキシ樹脂を含有する波長変換機能を有する蛍光体層７が、一対のバリアフィルム７０で挟まれた構造を有している。バリアフィルム７０は、第１のフィルム１と、第２のフィルム２と、プライマー層４と、接着層５と、マット層６とを備える。ここで、第１のフィルム１は、第１の基材１１と、アンカーコート層１２と、無機薄膜層１３及びガスバリア性被覆層１４が交互に２層ずつ積層されてなるバリア層１５とを備えている。第２のフィルム２は、第２の基材２１のみで構成されている。第１のフィルム１と第２のフィルム２とは、ガスバリア性被覆層１４と第２の基材２１とが対向するように接着層５を介して貼り合わせられている。バリアフィルム７０において、プライマー層４は、第１のフィルム１の第１の基材１１側の表面上に、第１の基材１１と接した状態で配置されており、マット層６は、第２のフィルム２を構成する第２の基材２１の接着層５とは反対側の表面上に、第２の基材２１と接した状態で配置されている。一対のバリアフィルム７０と蛍光体層７とは、プライマー層４が蛍光体層７と接するように積層されている。図３に示した構造の波長変換シート３００は、第２のフィルム２を第２の基材２１のみで構成しているため、製造工程の簡略化及びコスト低減を図ることができ、更に第２の基材２１の厚みを変更することで必要に応じてバリアフィルム７０に剛性を付与することもできる。また、バリア層１５が無機薄膜層１３及びガスバリア性被覆層１４を交互に２層ずつ積層した構造であるため、ガスバリア性を高めることができる。

図４に示す波長変換シート４００は、エポキシ樹脂を含有する波長変換機能を有する蛍光体層７が、一対のバリアフィルム８０で挟まれた構造を有している。バリアフィルム８０は、第１のフィルム１と、プライマー層４と、マット層６とを備える。ここで、第１のフィルム１は、第１の基材１１と、アンカーコート層１２と、無機薄膜層１３及びガスバリア性被覆層１４が交互に２層ずつ積層されてなるバリア層１５とを備えている。バリアフィルム８０において、プライマー層４は、第１のフィルム１のガスバリア性被覆層１４側の表面上に、ガスバリア性被覆層１４と接した状態で配置されており、マット層６は、第１のフィルム１の第１の基材１１側の表面上に、第１の基材１１と接した状態で配置されている。一対のバリアフィルム８０と蛍光体層７とは、プライマー層４が蛍光体層７と接するように積層されている。図４に示した構造の波長変換シート４００は、第２のフィルム２及び接着層５を備えないため、製造工程の簡略化、コスト低減及び薄型化を図ることができる。また、バリア層１５が無機薄膜層１３及びガスバリア性被覆層１４を交互に２層ずつ積層した構造であるため、ガスバリア性を高めることができる。

図５に示す波長変換シート５００は、エポキシ樹脂を含有する波長変換機能を有する蛍光体層７が、一対のバリアフィルム５５で挟まれた構造を有している。バリアフィルム５５は、第１のフィルム１と、第２のフィルム２と、第３のフィルム３と、プライマー層４と、接着層５と、マット層６とを備える。ここで、第１のフィルム１は、第１の基材１１と、アンカーコート層１２と、無機薄膜層１３及びガスバリア性被覆層１４からなるバリア層１５とを備えている。第２のフィルム２は、第２の基材２１と、アンカーコート層２２と、無機薄膜層２３及びガスバリア性被覆層２４からなるバリア層２５とを備えている。第３のフィルム３は、第３の基材３１のみで構成されている。第１のフィルム１と第２のフィルム２とは、ガスバリア性被覆層１４とガスバリア性被覆層２４とが対向するように接着層５を介して貼り合わせられている。第２のフィルム２と第３のフィルム３とは、第２の基材２１と第３の基材３１とが対向するように接着層５を介して貼り合わせられている。バリアフィルム５５において、プライマー層４は、第１のフィルム１の第１の基材１１側の表面上に、第１の基材１１と接した状態で配置されており、マット層６は、第３のフィルム３を構成する第３の基材３１の接着層５とは反対側の表面上に、第３の基材３１と接した状態で配置されている。一対のバリアフィルム５５と蛍光体層７とは、プライマー層４が蛍光体層７と接するように積層されている。図５に示した構造の波長変換シート５００は、第１及び第２のフィルム１，２の２枚のガスバリア性フィルムを貼り合わせたバリアフィルム５５を備えるため、水分や酸素の透過をより十分に抑制することができる。また、バリアフィルム５５においてバリア層１５，２５が第１及び第２の基材１１，２１よりも内側に配置されることで、バリア層１５，２５が保護され、蛍光体層７と積層する前のバリア層１５，２５の損傷が抑制される。更に、バリアフィルム５５が第３のフィルム３を備えることで、バリアフィルム５５にシワが生じることを抑制することができる。また、第３の基材３１の厚みを変更することで必要に応じてバリアフィルム５５に剛性を付与することもできる。

図６に示す波長変換シート６００は、エポキシ樹脂を含有する波長変換機能を有する蛍光体層７が、一対のバリアフィルム８５で挟まれた構造を有している。バリアフィルム８５は、第１のフィルム１と、第２のフィルム２と、プライマー層４と、マット層６とを備える。ここで、第１のフィルム１は、第１の基材１１と、アンカーコート層１２と、無機薄膜層１３及びガスバリア性被覆層１４が交互に２層ずつ積層されてなるバリア層１５とを備えている。第２のフィルム２は、第２の基材２１のみで構成されている。第１のフィルム１と第２のフィルム２とは、第１の基材１１と第２の基材２１とが対向するように接着層５を介して貼り合わせられている。バリアフィルム８５において、プライマー層４は、第１のフィルム１のガスバリア性被覆層１４側の表面上に、ガスバリア性被覆層１４と接した状態で配置されており、マット層６は、第１のフィルム１の第１の基材１１側の表面上に、第１の基材１１と接した状態で配置されている。一対のバリアフィルム８５と蛍光体層７とは、プライマー層４が蛍光体層７と接するように積層されている。図６に示した構造の波長変換シート６００は、第２のフィルム２を第２の基材２１のみで構成しているため、製造工程の簡略化及びコスト低減を図ることができ、更に第２の基材２１の厚みを変更することで必要に応じてバリアフィルム８５に剛性を付与することもできる。また、バリア層１５が無機薄膜層１３及びガスバリア性被覆層１４を交互に２層ずつ積層した構造であるため、ガスバリア性を高めることができる。

上述した構成を有する波長変換シートは、良好なガスバリア性を有すると共に、プライマー層４と蛍光体層７との密着性に優れるため、高湿度環境に長期間さらされた場合であっても、蛍光体層７とバリアフィルムとの間に剥がれを生じることを抑制することができる。また、プライマー層４は、第１の基材１１及びガスバリア性被覆層１４のいずれに対しても極めて良好な密着性を示すため、バリアフィルム内で剥離が生じることも十分に抑制される。そのため、上述した構成を有する波長変換シートは、長期間にわたって良好なガスバリア性を維持することができる。密着性の点から、プライマー層４は第１の基材１１に塗工することがより好ましい。プライマー層４と第１の基材１１又はガスバリア性被覆層１４との密着性が悪い場合は、コロナ処理、フレーム処理及びプラズマ処理などを第１の基材１１又はガスバリア性被覆層１４に施すことで、プライマー層４との密着性をより向上させることができる。

以下、波長変換シートを構成する各層について詳細に説明する。

（基材）
第１，第２及び第３の基材１１，２１，３１は、高分子フィルムであることが望ましい。高分子フィルムの材質としては、例えば、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート及びポリエチレンナフタレート等のポリエステル；ナイロン等のポリアミド；ポリプロピレン及びシクロオレフィン等のポリオレフィン；ポリカーボネート；並びにトリアセチルセルロース等が挙げられるが、これらに限定されない。高分子フィルムはポリエステルフィルム、ポリアミドフィルム又はポリオレフィンフィルムであることが好ましく、ポリエステルフィルム又はポリアミドフィルムであることがより好ましく、ポリエチレンテレフタレートフィルムであることが更に好ましい。ポリエチレンテレフタレートフィルムは、透明性、加工適正及び密着性の観点から望ましい。また、ポリエチレンテレフタレートフィルムは、透明性及びガスバリア性の観点から、二軸延伸ポリエチレンテレフタレートフィルムであることが好ましい。

高分子フィルムは、必要に応じて、帯電防止剤、紫外線吸収剤、可塑剤及び滑り剤等の添加剤を含んでいてもよい。また、高分子フィルムの表面は、コロナ処理、フレーム処理及びプラズマ処理が施されていてもよい。

波長変換シートにおいて、第１の基材１１とプライマー層４とが接している場合、第１の基材１１は、表面に水酸基やカルボニル基等の極性官能基を有していることが好ましい。第１の基材１１が表面に水酸基やカルボニル基等の極性官能基を有することで、当該水酸基等の極性官能基とプライマー層４中のシランカップリング剤のアルコキシシランが加水分解することにより発生したシラノール基とが反応して密着性がより向上する。上述した高分子フィルムのうち、通常、表面に水酸基やカルボニル基等の極性官能基を有するものとしては、ポリエチレンテレフタレートフィルム、ポリブチレンテレフタレートフィルム、ポリエチレンナフタレートフィルム、ポリアミドフィルム、トリアセチルセルロースフィルム、アクリルフィルム、ポリカーボネートフィルム等が挙げられる。また、第１の基材１１が表面に水酸基やカルボニル基等の極性官能基を有していない場合、コロナ処理、フレーム処理及びプラズマ処理の表面処理を施すことで、プライマー層４との密着性をより向上させることができる。

第１，第２及び第３の基材１１，２１，３１の厚さは、特に制限されないが、３μｍ以上１００μｍ以下であることが好ましく、加工性及び生産性の点から５μｍ以上５０μｍ以下であることがより好ましい。この厚さが３μｍ以上であると加工が容易であり、１００μｍ以下であると１ロットあたりのバリアフィルムの生産性を上げることができる。

（アンカーコート層）
アンカーコート層１２，２２は、第１及び第２の基材１１，２１と無機薄膜層１３，２３との間の密着性を向上させるために、それらの間に設けられるものである。また、アンカーコート層１２，２２は、水分や酸素の透過を防止するバリア性を有していてもよい。

アンカーコート層１２，２２は、例えば、ポリエステル樹脂、イソシアネート樹脂、ウレタン樹脂、アクリル樹脂、ポリビニルアルコール樹脂、エチレンビニルアルコール樹脂、ビニル変性樹脂、エポキシ樹脂、オキサゾリン基含有樹脂、変性スチレン樹脂、変性シリコーン樹脂またはアルキルチタネート等から選択された樹脂を用いて形成することができる。アンカーコート層は、上述した樹脂を単独で用いて、または上述した樹脂を２種類以上組み合わせた複合樹脂を用いて、形成することができる。

アンカーコート層１２，２２は、上述した樹脂を含む溶液を第１及び第２の基材１１，２１上に塗布し、乾燥硬化させることで形成することができる。塗布方法としては、グラビアコーター、ディップコーター、リバースコーター、ワイヤーバーコーター、及びダイコーター等による塗布方法が挙げられる。

アンカーコート層１２，２２の厚さは、５〜５００ｎｍの範囲内とすることが好ましく、１０〜１００ｎｍの範囲内とすることがより好ましい。ここで、厚さが５ｎｍ以上であると、第１及び第２の基材１１，２１と無機薄膜層１３，２３との間の密着性および水分や酸素に対するバリア性が向上する傾向があり、５００ｎｍ以下であると、内部応力が十分抑制された均一な層を形成することができる傾向がある。

（バリア層）
バリア層１５，２５は、水蒸気透過度及び酸素透過度を更に向上させるために設けられる層である。バリア層１５，２５は、光学的な観点から、透明性が高いことが望ましい。バリア層１５，２５は単層であっても多層であってもよいが、図１〜６に示したように、無機薄膜層１３，２３及びガスバリア性被覆層１４，２４を有することが望ましい。また、図２及び図４に示すようにガスバリア性被覆層１４とプライマー層４とが接している場合、ガスバリア性被覆層１４はシロキサン結合を有していることが望ましい。ガスバリア性被覆層１４がシロキサン結合を有することで、ガスバリア性被覆層１４とプライマー層４との密着性がより向上する。

バリア層１５，２５は、大気中で成膜されたものでも真空中で成膜されたものでもよい。真空成膜としては、物理気相成長法及び化学気相成長法等が挙げられる。物理気相成長法としては、真空蒸着法、スパッタリング法及びイオンプレーティング法等が挙げられる。化学気相成長（ＣＶＤ）法としては、熱ＣＶＤ法、プラズマＣＶＤ（ＰＥＣＶＤ）法及び光ＣＶＤ法等が挙げられる。成膜方法は、無機薄膜層１３，２３とガスバリア性被覆層１４，２４とで異なっていてもよい。

（無機薄膜層）
無機薄膜層１３，２３の形成方法は真空蒸着法、スパッタリング法、又はＰＥＣＶＤ法であることが好ましい。真空蒸着法では、抵抗加熱式真空蒸着法、電子ビーム（Ｅｌｅｃｔｒｏｎ Ｂｅａｍ）加熱式真空蒸着法、誘導加熱式真空蒸着法がより好ましく、スパッタリング法では、反応性スパッタリング法、デュアルマグネトロンスパッタリング法であることがより好ましい。膜の均質性の観点からはスパッタリング法が好ましく、コストの観点からは、真空蒸着法が好ましく、目的、用途に応じて選択することができる。

スパッタリング法及びＰＥＣＶＤ法におけるプラズマの生成方法としては、ＤＣ（Ｄｉｒｅｃｔ Ｃｕｒｒｅｎｔ）方式、ＲＦ（Ｒａｄｉｏ Ｆｒｅｑｕｅｎｃｙ）方式、ＭＦ（Ｍｉｄｄｌｅ Ｆｒｅｑｕｅｎｃｙ）方式、ＤＣパルス方式、ＲＦパルス方式、及びＤＣ＋ＲＦ重畳方式等を挙げることができる。

真空成膜では通常、金属、或いは、珪素等の酸化物、窒化物又は窒化酸化物等の膜が形成される。無機薄膜層１３，２３としては、アルミニウム、チタン、銅、インジウム、スズ等の金属、又はそれらの酸化物（アルミナ等）、或いは、珪素、珪素酸化物の膜が好ましい。また、金属や珪素の酸化物だけでなく、金属や珪素の窒化物や窒化酸化物の膜が形成されてもよい。また、複数の金属を含む膜が形成されてもよい。上述のアルミニウム、チタン、銅、インジウム、珪素の酸化物、窒化物、窒化酸化物は、透明性とバリア性の両方に優れる。珪素を含む酸化物、窒化酸化物はバリア性が高く特に好ましい。

真空成膜により形成される無機薄膜層１３，２３の厚さは、５ｎｍ以上１００ｎｍ以下であることが好ましい。無機薄膜層１３，２３の厚さが５ｎｍ以上であると、より良好なバリア性を得ることができる傾向がある。また、無機薄膜層１３，２３の厚さが１００ｎｍ以下であると、クラックの発生を抑制し、クラックによる水蒸気バリア性及び酸素バリア性の低下を抑制できる傾向がある。更に、無機薄膜層１３，２３の厚さが１００ｎｍ以下であると、材料使用量の低減及び膜形成時間の短縮等に起因してコストを低減できるので、経済的観点から好ましい。

（ガスバリア性被覆層）
ガスバリア性被覆層１４，２４は、後工程での二次的な各種損傷を防止すると共に、高いバリア性を付与するために設けられるものである。ガスバリア性被覆層１４，２４は、シロキサン結合を含んでいてもよい。ガスバリア性被覆層１４，２４は、大気中で形成することもできる。ガスバリア性被覆層１４，２４を大気中で形成する場合は、例えば、ポリビニルアルコール、ポリビニルピロリドン、エチレンビニルアルコールのような極性を持つ化合物、ポリ塩化ビニリデン等の塩素を含む化合物、及びＳｉ原子を含む化合物、Ｔｉ原子を含む化合物、Ａｌ原子を含む化合物、Ｚｒ原子を含む化合物等を含有する塗布液を無機薄膜層１３，２３上に塗布し、乾燥硬化させることで形成することができる。

ガスバリア性被覆層１４，２４を大気中で形成する際の塗布液の塗布方法としては、具体的には、グラビアコーター、ディップコーター、リバースコーター、ワイヤーバーコーター、及びダイコーター等による塗布方法が挙げられる。

シロキサン結合を含む化合物は、例えば、シラン化合物を用い、シラノール基を反応させて形成されることが好ましい。このようなシラン化合物としては、下記式（１）で表される化合物が挙げられる。
Ｒ^１ _ｎ（ＯＲ^２）_４−ｎＳｉ …（１）
［式中、ｎは０〜３の整数を示し、Ｒ^１及びＲ^２はそれぞれ独立に炭化水素基を示し、好ましくは炭素数１〜４のアルキル基を示す。］

上記式（１）で表される化合物としては、例えば、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、テトラプロポキシシラン、テトラブトキシシラン、メチルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、ジメチルジメトキシシラン、及びジメチルジエトキシシラン等が挙げられる。窒素を含むポリシラザンを使用してもよい。

また、ガスバリア性被覆層１４，２４には、他の金属原子からなる前駆体から作られる材料を使用してもよい。Ｔｉ原子を含む化合物としては、例えば、下記式（２）で表される化合物が挙げられる。
Ｒ^１ _ｎ（ＯＲ^２）_４−ｎＴｉ …（２）
［式中、ｎは０〜３の整数を示し、Ｒ^１及びＲ^２はそれぞれ独立に炭化水素基を示し、好ましくは炭素数１〜４のアルキル基を示す。］

上記式（２）で表される化合物としては、例えば、テトラメトキシチタニウム、テトラエトキシチタニウム、テトライソプロポキシチタニウム、及びテトラブトキシチタニウム等が挙げられる。

Ａｌ原子を含む化合物としては、例えば、下記式（３）で表される化合物が挙げられる。
Ｒ^１ _ｍ（ＯＲ^２）_３−ｍＡｌ …（３）
［式中、ｍは０〜２の整数を示し、Ｒ^１及びＲ^２はそれぞれ独立に炭化水素基を示し、好ましくは炭素数１〜４のアルキル基を示す。］

上記式（３）で表される化合物としては、例えば、トリメトキシアルミニウム、トリエトキシアルミニウム、トリイソプロポキシアルミニウム、及びトリブトキシアルミニウム等が挙げられる。

Ｚｒ原子を含む化合物としては、例えば、下記式（４）で表される化合物が挙げられる。
Ｒ^１ _ｎ（ＯＲ^２）_４−ｎＺｒ …（４）
［式中、ｎは０〜３の整数を示し、Ｒ^１及びＲ^２はそれぞれ独立に炭化水素基を示し、好ましくは炭素数１〜４のアルキル基を示す。］

上記式（４）で表される化合物としては、例えば、テトラメトキシジルコニウム、テトラエトキシジルコニウム、テトライソプロポキシジルコニウム、及びテトラブトキシジルコニウム等が挙げられる。

ガスバリア性被覆層１４，２４を大気中で形成する場合、上記塗布液は塗布後、硬化される。硬化方法としては、特に限定されないが、紫外線硬化及び熱硬化等が挙げられる。紫外線硬化の場合、塗布液は重合開始剤及び二重結合を有する化合物を含んでいてもよい。また必要に応じて、加熱エージングがされてもよい。

ガスバリア性被覆層１４，２４を大気中で形成する別の方法として、マグネシウム、カルシウム、亜鉛、アルミニウム、ケイ素、チタン、ジルコニウムなどの無機酸化物の粒子同士が、リン化合物に由来するリン原子を介して脱水縮合することで得られる反応生成物をガスバリア性被覆層とする方法を用いることもできる。具体的には、無機酸化物の表面に存在する官能基（例えば、水酸基）と、無機酸化物と反応可能なリン化合物の部位（例えば、リン原子に直接結合したハロゲン原子や、リン原子に直接結合した酸素原子）とが、縮合反応を起こし、結合する。反応生成物は、例えば、無機酸化物とリン化合物とを含む塗布液を無機薄膜層１３，２３の表面に塗布し、形成した塗膜を熱処理することにより、無機酸化物の粒子同士が、リン化合物に由来するリン原子を介して結合する反応を進行させることで得られる。熱処理の温度の下限は、１１０℃以上であり、１２０℃以上であることが好ましく、１４０℃以上であることがより好ましく、１７０℃以上であることが更に好ましい。熱処理温度が低いと、十分な反応速度を得ることが難しくなり、生産性が低下する原因となる。熱処理の温度の好ましい上限は、基材の種類などによって異なるが、２２０℃以下であり、１９０℃以下であることが好ましい。熱処理は、空気中、窒素雰囲気下、又はアルゴン雰囲気下などで実施することができる。

ガスバリア性被覆層１４，２４を大気中で形成する場合は、凝集等しない限り、上記塗布液は更に樹脂を含んでいてもよい。上記樹脂としては、具体的にはアクリル樹脂、ポリエステル樹脂等が挙げられる。上記塗布液は、これらの樹脂のうち、塗布液中の他の材料との相溶性が高い樹脂を含むことが好ましい。

上記塗布液は、更に、フィラー、レベリング剤、消泡剤、紫外線吸収剤、酸化防止剤、並びに、シランカップリング剤及びチタンキレート剤等を必要に応じて含んでいてもよい。

大気中で形成されるガスバリア性被覆層１４，２４の厚さは、硬化後の膜厚で５０ｎｍ〜２０００ｎｍであることが好ましく、１００ｎｍ〜１０００ｎｍであることがより好ましい。大気中で形成さるガスバリア性被覆層１４，２４の厚さが５０ｎｍ以上であると、膜形成がしやすくなる傾向がある。大気中で形成されるガスバリア性被覆層１４，２４の厚さが２０００ｎｍ以下であると、割れ又はカールを抑制できる傾向がある。

（接着層）
接着層５は、図１〜３及び５〜６に示すように、第１のフィルム１と第２のフィルム２とを貼り合わせて積層するために、第１のフィルム１と第２のフィルム２との間に設けられている。また、図５に示すようにバリアフィルムが第３のフィルムを有する場合、第２のフィルム２と第３のフィルム３とを貼り合わせて積層するために、第２のフィルム２と第３のフィルム３との間に設けられている。接着層５としては、高分子フィルム用の接着剤又は粘着剤として一般的なものを使用することができ、第１のフィルム１及び第２のフィルム２の貼り合わせる側の表面に応じて適宜選択される。接着層５の材料の候補としては、エポキシ系、ポリエステル系、アクリル系、ゴム系、フェノール系、及びウレタン系等の接着剤又は粘着剤が挙げられる。

接着剤又は粘着剤の塗布方法としては、グラビアコーター、ディップコーター、リバースコーター、ワイヤーバーコーター、及びダイコーター等による塗布方法が挙げられる。

接着層５の厚さは１μｍ以上２０μｍ以下であることが好ましい。接着層５の厚さが１μｍ以上であることにより十分な接着性が得られる傾向があり、２０μｍ以下であることによりバリアフィルムの総厚を薄くできると共に、コストアップを抑制することができる傾向がある。

また、接着層５を介して第１のフィルム１と第２のフィルム２、又は、第２のフィルム２と第３のフィルム３とを貼り合わせた後、エージングすることができる。エージングは、例えば、２０〜８０℃で１〜１０日間行われる。

接着層５は、必要に応じて、硬化剤、帯電防止剤、シランカップリング剤、紫外線吸収剤、酸化防止剤、レベリング剤、及び分散剤等を含んでいてもよい。

（プライマー層）
プライマー層４は、バリアフィルムと蛍光体層７との密着性を向上させ、高湿度環境に長期間さらされた場合であっても、バリアフィルムと蛍光体層７との剥離を抑制するために設けられる層である。プライマー層４は、第１のフィルム１の第１の基材１１上又はガスバリア性被覆層１４上に設けられる。

プライマー層４は、アミノ基を有するシランカップリング剤を含むプライマー組成物の硬化物からなる層である。

アミノ基を有するシランカップリング剤としては特に限定されないが、例えば、Ｎ−２−（アミノエチル）−３−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、Ｎ−２−（アミノエチル）−３−アミノプロピルトリメトキシシラン、３−アミノプロピルトリメトキシシラン、３−アミノプロピルトリエトキシシラン、３−トリエトキシシリル−Ｎ−（１，３−ジメチル−ブチリデン）プロピルアミン、Ｎ−フェニル−３−アミノプロピルトリメトキシシラン、Ｎ−（ビニルベンジル）−２−アミノエチル−３−アミノプロピルトリメトキシシランの塩酸塩等が挙げられる。これらの中でも、塗液安定性の観点から、３−アミノプロピルトリエトキシシラン、Ｎ−２−（アミノエチル）−３−アミノプロピルメチルジメトキシシランが好ましい。これらは１種を単独で又は２種以上を組み合わせて用いることができる。

プライマー層４を形成するプライマー組成物は、アミノ基を有するシランカップリング剤以外の他の成分を含んでいてもよい。他の成分としては、有機ジルコニウム化合物及び有機チタン化合物等の有機金属化合物、アミノ基を有するシランカップリング剤以外のシランカップリング剤（アミノ基を有さないシランカップリング剤）、希釈溶剤、スリップ剤、消泡剤、帯電防止剤等が挙げられる。

有機金属化合物としては特に限定されないが、例えば、ジルコニウムエチルアセトアセテート、ジルコニウムテトラアセチルアセトネート、ジルコニウムモノアセチルアセトネート、ノルマルプロピルジルコネート、ノルマルブチルジルコネート等が挙げられる。これらの中でも、安定性と反応性の観点から、ジルコニウムテトラアセチルアセトネートが好ましい。これらは１種を単独で又は２種以上を組み合わせて用いることができる。プライマー組成物が有機金属化合物を含むことで、プライマー層４の成膜性を向上させることができる。

プライマー組成物において、アミノ基を有するシランカップリング剤と有機金属化合物との配合比（質量比）は、１００：０〜２０：８０であることが好ましく、９５：５〜４０：６０であることがより好ましい。有機金属化合物の配合量が上記範囲よりも多いと、成膜後のプライマー層４の膜質が脆くなる場合があり、バリアフィルムと蛍光体層７との密着性が低下する場合がある。

また、アミノ基を有するシランカップリング剤以外の使用可能なシランカップリング剤としては、エポキシ基、ビニル基、スチリル基、メタクリル基、アクリル基、イソシアヌレート基、ウレイド基、メルカプト基、スルフィド基及びイソシアネート基からなる群より選択される少なくとも一種の官能基を有するシランカップリング剤等が挙げられる。これらの中でも、密着生の観点から、エポキシ基を有するシランカップリング剤が好ましい。これらは１種を単独で又は２種以上を組み合わせて用いることができる。プライマー組成物がアミノ基を有するシランカップリング剤以外のシランカップリング剤を含むことで、様々なエポキシ樹脂組成物に対する密着性を向上することができる。

エポキシ基を有するシランカップリング剤としては、例えば、２−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリエトキシシラン、３−グリシドキシプロピルメチルジメトキシシラン、３−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、３−グリシドキシプロピルメチルジエトキシシラン、３−グリシドキシプロピルトリエトキシシラン等が挙げられる。これらの中でも、安定性と反応性の観点から、３−グリシドキシプロピルメチルジメトキシシランが好ましい。これらは１種を単独で又は２種以上を組み合わせて用いることができる。

ビニル基を有するシランカップリング剤としては、例えば、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、ビニルトリス（２−メトキシエトキシ）シラン、ビニルメチルジメトキシシラン、３−アクリロキシプロピル等が挙げられる。これらの中でも、反応性の観点から、ビニルトリメトキシシラン、ビニルメチルジメトキシシランが好ましい。これらは１種を単独で又は２種以上を組み合わせて用いることができる。

スチリル基を有するシランカップリング剤としては、例えば、ｐ−スチリルトリメトキシシラン等が挙げられる。

メタクリル基を有するシランカップリング剤としては、例えば、３−メタクリロキシプロピルメチルジメトキシシラン、３−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、３−メタクリロキシプロピルメチルジエトキシシラン、３−メタクリロキシプロピルトリエトキシシラン等が挙げられる。これらの中でも、反応性の観点から、３−メタクリロキシプロピルメチルジメトキシシラン、３−メタクリロキシプロピルトリメトキシシランが好ましい。これらは１種を単独で又は２種以上を組み合わせて用いることができる。

アクリル基を有するシランカップリング剤としては、例えば、３−アクリロキシプロピルトリメトキシシラン等が挙げられる。

イソシアヌレート基を有するシランカップリング剤としては、例えば、トリス−（トリメトキシシリルプロピル）イソシアヌレート等が挙げられる。

ウレイド基を有するシランカップリング剤としては、例えば、３−ウレイドプロピルトリエトキシシラン等が挙げられる。

メルカプト基を有するシランカップリング剤としては、例えば、３−メルカプトプロピルメチルジメトキシシラン、３−メルカプトプロピルトリメトキシシラン等が挙げられる。これらの中でも、反応性の観点から、３−メルカプトプロピルトリメトキシシランが好ましい。また、メルカプト基を有するシランカップリング剤には、臭気の点から例えばメルカプト基をアルコキシシリル基等で保護したシランカップリング剤も含まれる。これらは１種を単独で又は２種以上を組み合わせて用いることができる。

スルフィド基を有するシランカップリング剤としては、例えば、ビス（トリエトキシシリルプロピル）テトラスルフィド、３−オクタノイルチオ−１−プロピルトリエトキシシラン等が挙げられる。これらの中でも、反応性の観点から、ビス（トリエトキシシリルプロピル）テトラスルフィドが好ましい。これらは１種を単独で又は２種以上を組み合わせて用いることができる。

イソシアネート基を有するシランカップリング剤としては、例えば、３−イソシアネートプロピルトリエトキシシラン、３−イソシアネートプロピルトリメトキシシラン等が挙げられる。これらの中でも、反応性の観点から、３−イソシアネートプロピルトリメトキシシランが好ましい。これらは１種を単独で又は２種以上を組み合わせて用いることができる。

プライマー組成物において、アミノ基を有するシランカップリング剤とアミノ基を有するシランカップリング剤以外のシランカップリング剤との配合比（質量比）は、１００：０〜２０：８０であることが好ましく、１００：０〜６０：４０であることがより好ましい。アミノ基を有するシランカップリング剤以外のシランカップリング剤の配合量が上記範囲よりも多いと、バリアフィルムと蛍光体層７との密着性が低下する場合がある。

希釈溶剤としては、トルエン、メチルエチルケトン、酢酸エチル、酢酸ブチル、ヘキサン、１−ブタノール、イソプロピルアルコール、水等が挙げられる。これらは１種を単独で又は２種以上を組み合わせて用いることができる。希釈溶剤の配合量は特に限定されないが、通常、プライマー組成物全量を基準として０〜９９．９質量％であり、好ましくは、７０〜９８質量％である。希釈溶剤が少ないと反応性が上がり、塗液がゲル化する恐れがあり、また希釈溶剤が多すぎると塗液の価格が上がってしまう。

プライマー層４は、上述したプライマー組成物を第１のフィルム１の第１の基材１１又はガスバリア性被覆層１４上に塗布し、硬化させることで形成することができる。塗布方法としては、グラビアコーター、ディップコーター、リバースコーター、ワイヤーバーコーター、及びダイコーター等による塗布方法が挙げられる。硬化は、例えば、８０〜１５０℃で１５秒〜３００秒の条件で行うことができる。

プライマー層４の厚さは、１〜１０００ｎｍであることが好ましく、１〜２００ｎｍであることがより好ましく、５〜１００ｎｍであることが更に好ましく、１０〜８０ｎｍであることが特に好ましい。この厚さが１ｎｍ以上であると、塗工後の成膜性が安定し、面内で均一に良好な密着性を得ることができる。一方、厚さが１０００ｎｍ以下であると、プライマー層４が脆くなることを防いで蛍光体層７との安定した密着性を得ることができると共に、プライマー層４の端部（バリアフィルムと蛍光体層７との間）からの水蒸気及び酸素の侵入を十分に抑制できる。また、プライマー層４の厚さが薄い方が、プライマー層４の硬化反応が早く進むと共に、蛍光体層７との初期密着性が良好となる。更に、プライマー層４の厚さが２００ｎｍ以下であると、光学的な干渉縞も低減することができる。

（マット層）
マット層６は、１以上の光学的機能や帯電防止機能を発揮させるために、バリアフィルムのプライマー層４とは反対側の表面に設けられている。ここで、光学的機能としては、特に限定されるものではないが、干渉縞（モアレ）防止機能、反射防止機能、拡散機能等が挙げられる。これらの中でも、マット層６は、光学的機能として少なくとも干渉縞防止機能を有することが好ましい。本実施形態では、マット層６が少なくとも干渉縞防止機能を有するものである場合について説明する。

マット層６は、バインダー樹脂と、微粒子とを含んで構成されていてもよい。そして、マット層６の表面から微粒子の一部が露出するように微粒子がバインダー樹脂に埋め込まれることにより、マット層６の表面には微細な凹凸が生じていてもよい。このようなマット層６をバリアフィルムの表面に設けることにより、ニュートンリング等の干渉縞の発生をより十分に防止することができ、結果として高効率かつ高精細、長寿命の波長変換シートを得ることが可能となる。

バインダー樹脂としては、特に限定されるものではないが、光学的透明性に優れた樹脂を用いることができる。より具体的には、例えば、ポリエステル系樹脂、アクリル系樹脂、アクリルウレタン系樹脂、ポリエステルアクリレート系樹脂、ポリウレタンアクリレート系樹脂、ウレタン系樹脂、エポキシ系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ポリアミド系樹脂、ポリイミド系樹脂、メラミン系樹脂、フェノール系樹脂などの熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂、電離放射線硬化性樹脂などを用いることができる。また、有機樹脂以外に、シリカバインダーを用いることもできる。これらの中でも、材料の幅広さからアクリル系樹脂、ウレタン系樹脂を用いることが望ましく、耐光性や光学特性に優れることからアクリル系樹脂を使用することがより望ましい。これらは、１種だけでなく、複数種を組み合わせて使用することもできる。

微粒子としては、特に限定されるものではないが、例えば、シリカ、クレー、タルク、炭酸カルシウム、硫酸カルシウム、硫酸バリウム、酸化チタン、アルミナなどの無機微粒子の他、スチレン樹脂、ウレタン樹脂、シリコーン樹脂、アクリル樹脂、ポリアミド樹脂などの有機微粒子を用いることができる。これらの中でも、微粒子としては、シリカ、アクリル樹脂、ウレタン樹脂、ポリアミド樹脂等からなる屈折率１．４０〜１．５５の微粒子を用いることが、透過率の上で好ましい。屈折率が低い微粒子は高価であり、一方、屈折率が高すぎる微粒子は透過率を損ねる傾向がある。これらは、１種だけでなく、複数種を組み合わせて使用することもできる。

微粒子の平均粒径は、０．１〜３０μｍであることが好ましく、０．５〜１０μｍであることがより好ましい。微粒子の平均粒径が０．１μｍ以上であると、優れた干渉縞防止機能が得られる傾向があり、３０μｍ以下であると、透明性がより向上する傾向がある。

マット層６における微粒子の含有量は、マット層６全量を基準として０．５〜３０質量％であることが好ましく、３〜１０質量％であることがより好ましい。微粒子の含有量が０．５質量％以上であると、光拡散機能と干渉縞の発生を防止する効果がより向上する傾向があり、３０質量％以下であると、輝度を低減させることがない。

マット層６は、上述したバインダー樹脂及び微粒子を含む塗布液を第１のフィルム１、第２のフィルム２又は第３のフィルム３の表面上に塗布し、乾燥硬化させることで形成することができる。塗布方法としては、グラビアコーター、ディップコーター、リバースコーター、ワイヤーバーコーター、及びダイコーター等による塗布方法が挙げられる。

マット層６の厚さは、０．１〜２０μｍであることが好ましく、０．３〜１０μｍであることがより好ましい。マット層６の厚さが０．１μｍ以上であることにより、均一な膜が得られやすく、光学的機能を十分に得やすくなる傾向がある。一方、マット層６の厚さが２０μｍ以下であることにより、マット層６に微粒子を用いた場合、マット層６の表面へ微粒子が露出して、凹凸付与効果が得られやすくなる傾向がある。

（蛍光体層）
蛍光体層７は、励起光の照射によって異なる波長の光を発光する波長変換機能を有する層であり、少なくとも１種類以上の蛍光体（図示せず）を含む。また、蛍光体層７はエポキシ樹脂を含有する。蛍光体層７がエポキシ樹脂を含有することで、プライマー層４との優れた密着性を得ることができる。

蛍光体の中でも量子ドットと呼ばれるナノサイズの半導体は、高い波長変換効率が得られ、輝度とディスプレイとしての色再現性に優れることから好ましい。量子ドットとしては、発光部としてのコアが保護膜としてのシェルで被覆されたものが挙げられる。上記コアとしては、例えば、セレン化カドミウム（ＣｄＳｅ）等が挙げられ、上記シェルとしては、例えば、硫化亜鉛（ＺｎＳ）等が挙げられる。ＣｄＳｅの粒子の表面欠陥がバンドギャップの大きいＺｎＳにより被覆されることで量子効率が向上する。また、蛍光体は、コアが第１シェル及び第２シェルにより二重に被覆されたものであってもよい。この場合、コアにはＣｓＳｅ、第１シェルにはセレン化亜鉛（ＺｎＳｅ）、第２シェルにはＺｎＳが使用できる。上記蛍光体は２種類以上を組み合わせて用いられる。また、１種類の蛍光体のみを含む蛍光体層と、別の種類の蛍光体のみを含む蛍光体層とが積層されていてもよい。

量子ドットは、封止のための樹脂材料に分散される。樹脂材料は、少なくともエポキシ樹脂を含む。エポキシ樹脂以外の樹脂材料としては、ポリビニルブチラール樹脂、ポリビニルアセタール樹脂、フェノール樹脂、メラミン樹脂等のインクペーストバインダ樹脂等が挙げられる。また、この他にも、例えば次のようなバインダー樹脂としても機能する接着材を用いるようにしてもよい。バインダー樹脂としても機能する接着材としては、例えば、ユリア樹脂系、メラミン樹脂系、フェノール樹脂系、レゾルシノール樹脂系、エポキシ樹脂系、ポリウレタン樹脂系、ポリイミド系、ポリベンズイミダゾール系、ポリエステル樹脂系、酢酸ビニル樹脂系、ポリビニルアセタール系、ポリビニルアルコール系、塩化ビニル樹脂系、シアノアクリレート系、ポリエーテルアクリレート系、ポリエチレン系、セルロース系、クロロプレンゴム系、ニトリルゴム系、ＳＢＲ系、ＳＩＳ系、ポリサルファイド系、ブチルゴム系、シリコーンゴム系、ビニルフェノリック、エポキシフェノリック、クロロプレンフェノリック、ニトリルフェノリック、ナイロンエポキシ、ニトリルエポキシ等が挙げられる。樹脂材料は、エポキシ樹脂を単独で用いてもよく、１種以上の他の樹脂材料と組み合わせて用いてもよい。

蛍光体層７は、蛍光体と樹脂材料と必要に応じて溶剤とを含む混合液をバリアフィルムのプライマー層４上に塗布して塗膜を形成し、必要に応じて、別に作製したもう１枚のバリアフィルムをプライマー層４が蛍光体層７を向くように積層し、塗膜を硬化させることで形成することができる。塗膜の硬化は、特に限定されないが、例えば、１５〜１００℃で１０分〜２４時間の条件で硬化させることができる。

上述した本実施形態の波長変換シートは、例えばバックライトユニットに使用することができる。バックライトユニットは、例えば光源、導光板、反射板、及び本実施形態の波長変換シートを備える。バックライトユニットにおいては、波長変換シートの一方の表面上に導光板及び反射板がこの順で配置され、光源は上記導光板の側方（導光板の面方向）に配置される。光源には、例えば、青色発光ダイオード素子等が用いられる。

［波長変換シートの製造方法］
次に、本実施形態の波長変換シートの製造方法について説明する。本実施形態の波長変換シートの製造方法は、エポキシ樹脂及び蛍光体を含む蛍光体層と、蛍光体層の少なくとも一方の面上に積層された、蛍光体層側の最表面にプライマー層を有するバリアフィルムと、を備える波長変換シートの製造方法であって、バリアフィルムにおけるプライマー層の下層上に、アミノ基を有するシランカップリング剤を含むプライマー組成物を塗布し、硬化させてプライマー層を形成する工程と、上記蛍光体層と上記バリアフィルムとを積層する工程と、を有する。ここで、バリアフィルムにおけるプライマー層の下層は、図１、図３及び図５に示したバリアフィルム５０，７０，５５では第１の基材１１であり、図２、図４及び図６に示したバリアフィルム６０，８０，８５ではガスバリア性被覆層１４である。

図１に示した波長変換シート１００を製造する場合、例えば以下の手順で製造することができる。なお、各層の形成方法は上述した通りである。まず、第１のフィルム１及び第２のフィルム２をそれぞれ作製する。すなわち、第１の基材１１上にアンカーコート層１２を形成し、その上に無機薄膜層１３及びガスバリア性被覆層１４を順次形成して第１のフィルム１を作製する。第２のフィルム２も同様に作製することができる。

得られた第１のフィルム１のガスバリア性被覆層１４上に接着剤又は粘着剤を塗布し、第２のフィルム２のガスバリア性被覆層２４側の面と貼り合わせてエージングを行うことで、第１のフィルム１と第２のフィルム２とが接着層５を介して貼り合わせられた積層フィルムを得る。貼り合わせは、一般的なラミネート装置を用いて行うことができる。なお、接着剤又は粘着剤は、第２のフィルム２のガスバリア性被覆層２４上に塗布してもよい。

得られた積層フィルムの第１の基材１１上に、アミノ基を有するシランカップリング剤を含むプライマー組成物を塗布し、硬化させてプライマー層４を形成する。また、積層フィルムの第２の基材２１上に、マット層６を形成する。プライマー層４とマット層６の形成順序は特に限定されない。また、マット層６は、第１のフィルム１と第２のフィルム２とを貼り合わせる前に、予め第２のフィルム２の第２の基材２１上に形成してもよい。更に、プライマー層４は、第１のフィルム１と第２のフィルム２とを貼り合わせる前に、予め第１のフィルム１の第１の基材１１上に形成してもよい。これにより、バリアフィルム５０が得られる。このバリアフィルム５０を２つ作製する。

次に、一方のバリアフィルム５０のプライマー層４上に、蛍光体とエポキシ樹脂を含有する樹脂材料と必要に応じて溶剤とを含む混合液を塗布して塗膜を形成し、その上に他方のバリアフィルム５０のプライマー層４側を貼り合わせ、塗膜を硬化させて蛍光体層７を形成する。この蛍光体層７の形成時に、プライマー層４に含まれるアミノ基と、塗膜に含まれるエポキシ樹脂とが反応し、プライマー層４と蛍光体層７との優れた密着性が得られる。以上の方法により、良好なガスバリア性を有すると共に、バリアフィルム５０と蛍光体層７との密着性に優れた本実施形態の波長変換シート１００を得ることができる。

以上、本発明の好適な実施形態について詳細に説明したが、本発明の技術範囲は上記実施形態に限定されるものではなく、本発明の趣旨を逸脱しない範囲において種々の変更を加えることが可能である。

例えば、図１〜６に示した波長変換シートにおいて、マット層６及びアンカーコート層１２，２２は設けなくてもよい。

また、図１、図２及び図５に示した波長変換シート１００，２００，５００において、バリア層１５，２５は、無機薄膜層１３，２３とガスバリア性被覆層１４，２４とが交互に複数積層されたものであってもよい。また、図３、図４及び図６に示した波長変換シート３００，４００，６００において、バリア層１５，２５は、無機薄膜層１３，２３とガスバリア性被覆層１４，２４とが１層ずつ積層されたものであってもよい。

また、図１〜６に示した波長変換シートにおいて、第１のフィルム１及び第２のフィルム２の向きは図示した向きに限定されず、逆向きに配置してもよい。

また、図１〜６に示したバリアフィルムは、各図に示した第１〜第３のフィルムに加えて、それらと同様の又は異なる構成を有する１以上のフィルムを更に有していてもよい。

また、図１〜６に示した波長変換シートにおいて、蛍光体層７を挟む一対のバリアフィルムは互いに異なる構成を有していてもよい。更に、マット層６は、必ずしも波長変換シートの両面に設けられていなくてもよく、一方の表面のみに設けられていてもよい。

以下、実施例及び比較例に基づいて本発明をより具体的に説明するが、本発明は以下の実施例に限定されるものではない。

なお、以下の実施例及び比較例において、水蒸気透過度は、ＪＩＳ Ｋ７１２９に準じた赤外線センサ法により、水蒸気透過率測定装置（商品名：Ｐｅｒｍａｔｒａｎ、ＭＯＣＯＮ社製）を用い、透過セルの温度を４０℃とし、高湿度チャンバの相対湿度を９０％ＲＨとし、低湿度チャンバの相対湿度を０％ＲＨとして測定した。実施例及び比較例で作製したバリアフィルムの水蒸気透過度の測定結果をまとめて表１に示した。

また、以下の実施例及び比較例において、プライマー層の厚さは、透過型電子顕微鏡（Ｔｒａｎｓｍｉｓｓｉｏｎ Ｅｌｅｃｔｒｏｎ Ｍｉｃｒｏｓｃｏｐｅ；ＴＥＭ）にてサンプル断面を観察することにより測定した。

［実施例１］
片面がコロナ放電処理された二軸延伸ポリエチレンテレフタレートフィルム（商品名：Ｐ６０、厚さ：１６μｍ、東レ株式会社製）のコロナ放電処理された面上に、ポリエステル樹脂溶液をバーコート法により塗布し、８０℃で１分間乾燥硬化させることにより、厚さ１００ｎｍのアンカーコート層を形成した。

電子ビーム加熱式の真空蒸着装置を用いて、酸化珪素材料（キヤノンオプトロン株式会社製）を１．５×１０^−２Ｐａの圧力下で電子ビーム加熱によって蒸発させ、上記アンカーコート層上に無機薄膜層として厚さ８０ｎｍのＳｉＯｘ膜を形成した。なお、蒸着における加速電圧は４０ｋＶであり、エミッション電流は０．２Ａであった。このＳｉＯｘ膜上に、テトラエトキシシランの加水分解物（シロキサン結合含有）とポリビニルアルコールとを質量比１：１で混合した塗布液をバーコート法にて塗布し、１２０℃で１分間乾燥硬化させ、厚さ４００ｎｍのガスバリア性被覆層を形成した。これにより、第１のフィルムを得た。また、第１のフィルムと同様にして、第２のフィルムを作製した。第１及び第２のフィルムの水蒸気透過度は０．１ｇ／（ｍ^２・ｄａｙ）であった。

第１のフィルムのガスバリア性被覆層上に、粘着剤（主剤：ＴＰＯ−３１８３、硬化剤：Ｋ−３４１、サイデン化学（株）製）を塗布して接着層とし、第２のフィルムのガスバリア性被覆層側の面を貼り合わせ、２５℃で７日間エージングを実施した。これにより、第１のフィルムと第２のフィルムとが接着層を介して貼り合わせられた積層フィルムを得た。接着層の厚さは４μｍであった。

得られた積層フィルムにおける第１のフィルムのポリエチレンテレフタレートフィルム（第１の基材）上に、下記の方法によりプライマー層を形成した。

３−アミノプロピルトリエトキシシラン（アミン系シランカップリング剤、信越化学工業株式会社製、商品名：ＫＢＥ−９０３）を酢酸エチルを用いて固形分１．５質量％に希釈したプライマー組成物を、ワイヤーバー＃３を用いて第１のフィルムの第１の基材上に塗布し、１２０℃で１分間乾燥させて硬化させ、厚さ３０ｎｍのプライマー層を形成した。

また、第２のフィルムのポリエチレンテレフタレートフィルム（第２の基材）上に、アクリル系ポリオール樹脂（ＤＩＣ社製、商品名：アクリディックＡ−８１４）１００質量部、イソシアネート系硬化剤（ＤＩＣ社製、商品名：バーノックＤＮ−９８０、ヘキサメチレンジイソシアネート系化合物）８．５質量部、微粒子（ポリウレタン、平均粒径２μｍ）１０質量部、溶剤（酢酸エチル）７０質量部を塗布し加熱乾燥させて硬化させ、厚さ３μｍのマット層を形成した。これにより、バリアフィルムを得た。同じ構成の上記バリアフィルムを２枚作製した。

一方のバリアフィルムのプライマー層上に、コアがセレン化カドミウム（ＣｄＳｅ）、シェルが硫化亜鉛（ＺｎＳ）、粒子径６ｎｍの量子ドット発光体が熱硬化型エポキシ樹脂に分散した材料を滴下し、そこに、もう一方のバリアフィルムのプライマー層を貼り合わせた。

室温で２４時間放置して上記熱硬化型エポキシ樹脂を硬化させ、波長変換機能を有する蛍光体層を形成して、図１に示した構成を有する波長変換シートを得た。このとき、蛍光体層の厚さは１００μｍであった。

［実施例２］
プライマー層を以下の方法で厚さ１００ｎｍに形成した以外は実施例１と同様にして波長変換シートを得た。

３−アミノプロピルトリエトキシシラン（アミン系シランカップリング剤、信越化学工業株式会社製、商品名：ＫＢＥ−９０３）を酢酸エチルを用いて固形分５質量％に希釈したプライマー組成物を、ワイヤーバー＃３を用いて第１のフィルムの第１の基材上に塗布し、１２０℃で１分間乾燥させて硬化させ、厚さ１００ｎｍのプライマー層を形成した。

［実施例３］
プライマー層を以下の方法で厚さ５００ｎｍに形成した以外は実施例１と同様にして波長変換シートを得た。

３−アミノプロピルトリエトキシシラン（アミン系シランカップリング剤、信越化学工業株式会社製、商品名：ＫＢＥ−９０３）を酢酸エチルを用いて固形分２５質量％に希釈したプライマー組成物を、ワイヤーバー＃３を用いて第１のフィルムの第１の基材上に塗布し、１２０℃で１分間乾燥させて硬化させ、厚さ５００ｎｍのプライマー層を形成した。

［実施例４］
プライマー層を以下の方法で厚さ５ｎｍに形成した以外は実施例１と同様にして波長変換シートを得た。

３−アミノプロピルトリエトキシシラン（アミン系シランカップリング剤、信越化学工業株式会社製、商品名：ＫＢＥ−９０３）を酢酸エチルを用いて固形分０．２５質量％に希釈したプライマー組成物を、ワイヤーバー＃３を用いて第１のフィルムの第１の基材上に塗布し、１２０℃で１分間乾燥させて硬化させ、厚さ５ｎｍのプライマー層を形成した。

［実施例５］
プライマー層を以下の方法で厚さ１００ｎｍに形成した以外は実施例１と同様にして波長変換シートを得た。

３−アミノプロピルトリエトキシシラン（アミン系シランカップリング剤、信越化学工業株式会社製、商品名：ＫＢＥ−９０３）１００質量部と、ジルコニウムテトラアセチルアセトネート（マツモトファインケミカル社製、商品名：オルガチックスＺＣ−７００）１００質量部と酢酸エチル２２００質量部とを混合して固形分５質量％のプライマー組成物を調製した。得られたプライマー組成物を、ワイヤーバー＃３を用いて第１のフィルムの第１の基材上に塗布し、１２０℃で１分間乾燥させて硬化させ、厚さ１００ｎｍのプライマー層を形成した。

［実施例６］
片面がコロナ放電処理された二軸延伸ポリエチレンテレフタレートフィルム（商品名：Ｐ６０、厚さ：１６μｍ、東レ株式会社製）のコロナ放電処理された面上に、ポリエステル樹脂溶液をバーコート法により塗布し、８０℃で１分間乾燥硬化させることにより、厚さ１００ｎｍのアンカーコート層を形成した。

電子ビーム加熱式の真空蒸着装置を用いて、酸化珪素材料（キヤノンオプトロン株式会社製）を１．５×１０^−２Ｐａの圧力下で電子ビーム加熱によって蒸発させ、上記アンカーコート層上に無機薄膜層として厚さ８０ｎｍのＳｉＯｘ膜を形成した。なお、蒸着における加速電圧は４０ｋＶであり、エミッション電流は０．２Ａであった。このＳｉＯｘ膜上に、テトラエトキシシランの加水分解物（シロキサン結合含有）とポリビニルアルコールとを質量比１：１で混合した塗布液をバーコート法にて塗布し、１２０℃で１分間乾燥硬化させ、厚さ４００ｎｍのガスバリア性被覆層を形成した。次いで、ガスバリア性被覆層上に、上記と同様の方法で、無機薄膜層として厚さ８０ｎｍのＳｉＯｘ膜を形成した。更に、このＳｉＯｘ膜上に、上記と同様の方法で、厚さ４００ｎｍのガスバリア性被覆層を形成した。これにより、第１のフィルムを得た。第１のフィルムの水蒸気透過度は０．００８ｇ／（ｍ^２・ｄａｙ）であった。

第１のフィルムのガスバリア性被覆層上に、粘着剤（主剤：ＴＰＯ−３１８３、硬化剤：Ｋ−３４１、サイデン化学（株）製）を塗布して接着層とし、第２のフィルムとして二軸延伸ポリエチレンテレフタレートフィルム（商品名：ＦＥ２００１、厚さ：２５μｍ、フタムラ化学株式会社製、水蒸気透過度２５ｇ／（ｍ^２・ｄａｙ））のコロナ放電処理された面を貼り合わせ、２５℃で７日間エージングを実施した。これにより、第１のフィルムと第２のフィルムとが接着層を介して貼り合わせられた積層フィルムを得た。接着層の厚さは４μｍであった。

得られた積層フィルムにおける第１のフィルムのポリエチレンテレフタレートフィルム（第１の基材）上に、実施例１と同様の方法で厚さ３０ｎｍのプライマー層を形成した。

また、第２のフィルムのポリエチレンテレフタレートフィルム（第２の基材）上に、実施例１と同様の方法で厚さ３μｍのマット層を形成した。これにより、バリアフィルムを得た。同じ構成の上記バリアフィルムを２枚作製した。

上記のようにして得られたバリアフィルムを用いた以外は実施例１と同様にして、図３に示した構成を有する波長変換シートを得た。

［実施例７］
実施例１において、第１のフィルムの第１の基材とバリア層との配置を逆にした。すなわち、第１のフィルムの第１の基材側を接着層に向け、ガスバリア性被覆層上にプライマー層を形成した。それ以外は実施例１と同様にして、図２に示した構成を有する波長変換シートを得た。

［実施例８］
実施例６と同様の方法で第１のフィルムを作製した。得られた第１のフィルムのガスバリア性被覆層上に、実施例１と同様の方法で厚さ３０ｎｍのプライマー層を形成した。

また、第１のフィルムのポリエチレンテレフタレートフィルム（第１の基材）上に、実施例１と同様の方法で厚さ３μｍのマット層を形成した。これにより、バリアフィルムを得た。同じ構成の上記バリアフィルムを２枚作製した。

上記のようにして得られたバリアフィルムを用いた以外は実施例１と同様にして、図４に示した構成を有する波長変換シートを得た。

［比較例１］
プライマー層を形成しなかった以外は実施例１と同様にして波長変換シートを得た。

［比較例２］
プライマー層を以下の方法で厚さ３０ｎｍに形成した以外は実施例１と同様にして波長変換シートを得た。

３−メタクリロキシプロピルメチルジメトキシシラン（メタクリル系シランカップリング剤、信越化学工業株式会社製、商品名：ＫＢＭ−５０２）を酢酸エチルを用いて固形分１．５質量％に希釈したプライマー組成物を、ワイヤーバー＃３を用いて第１のフィルムの第１の基材上に塗布し、１２０℃で１分間乾燥させて硬化させ、厚さ３０ｎｍのプライマー層を形成した。

［比較例３］
蛍光体層を以下の方法で形成した以外は実施例１と同様にして波長変換シートを得た。

一方のバリアフィルムのプライマー層上に、コアがセレン化カドミウム（ＣｄＳｅ）、シェルが硫化亜鉛（ＺｎＳ）、粒子径６ｎｍの量子ドット発光体が熱硬化性アクリル樹脂に分散した材料を滴下し、そこに、もう一方のバリアフィルムのプライマー層を貼り合わせた。

室温で２４時間放置して上記熱硬化性アクリル樹脂を硬化させ、波長変換機能を有する蛍光体層を形成して、波長変換シートを得た。このとき、蛍光体層の厚さは１００μｍであった。

＜密着性の評価＞
実施例及び比較例で得られた波長変換シートを幅１ｃｍの短冊状にカットし、カットした波長変換シートをガラス板上に固定した。固定された短冊状の波長変換シートのプライマー層を、テンシロン万能材料試験機（エーアンドデイ社製）を用いて、ガラス板に対して垂直な方向に、３００ｍｍ／分の速度で、蛍光体層から剥離し、剥離に要した強度を測定した。この剥離強度の測定を、初期の波長変換シート、及び、６０℃、９５％ＲＨの環境下に１０００時間放置した後（耐湿試験後）の波長変換シートのそれぞれについて行った。測定結果を表１に示す。なお、表１中の「剥がれ」は、剥離試験を行う前から蛍光体層とプライマー層との間に剥がれが生じていたことを意味する。

表１に示した結果から明らかなように、実施例１〜８の波長変換シートは、優れたガスバリア性を有すると共に、初期及び耐湿試験後において優れた密着性を有することが確認された。

１…第１のフィルム、２…第２のフィルム、３…第３のフィルム、４…プライマー層、５…接着層、６…マット層、７…蛍光体層、１１…第１の基材、２１…第２の基材、３１…第３の基材、１２，２２…アンカーコート層、１３，２３…無機薄膜層、１４，２４…ガスバリア性被覆層、１５，２５…バリア層、５０，５５，６０，７０，８０，８５…バリアフィルム、１００，２００，３００，４００，５００，６００…波長変換シート（光学積層体）。

Claims (6)

1. エポキシ樹脂を含む被着体と、前記被着体の少なくとも一方の面上に積層されたバリアフィルムと、を備え、
   前記バリアフィルムは、前記被着体側の最表面に、アミノ基を有するシランカップリング剤を含むプライマー組成物の硬化物からなるプライマー層を備える、光学積層体。
2. 前記プライマー層の厚さが、１〜１０００ｎｍである、請求項１に記載の光学積層体。
3. 前記バリアフィルムが、少なくとも前記プライマー層と、第１の基材と、バリア層と、第２の基材とがこの順で配置された積層構造を有する、請求項１又は２に記載の光学積層体。
4. エポキシ樹脂及び蛍光体を含む蛍光体層と、前記蛍光体層の少なくとも一方の面上に積層されたバリアフィルムと、を備え、
   前記バリアフィルムは、前記蛍光体層側の最表面に、アミノ基を有するシランカップリング剤を含むプライマー組成物の硬化物からなるプライマー層を備える、波長変換シート。
5. エポキシ樹脂を含む被着体と、前記被着体の少なくとも一方の面上に積層された、前記被着体側の最表面にプライマー層を有するバリアフィルムと、を備える光学積層体の製造方法であって、
   前記バリアフィルムにおける前記プライマー層の下層上に、アミノ基を有するシランカップリング剤を含むプライマー組成物を塗布し、硬化させて前記プライマー層を形成する工程と、
   前記被着体と前記バリアフィルムとを積層する工程と、
   を有する光学積層体の製造方法。
6. エポキシ樹脂及び蛍光体を含む蛍光体層と、前記蛍光体層の少なくとも一方の面上に積層された、前記蛍光体層側の最表面にプライマー層を有するバリアフィルムと、を備える波長変換シートの製造方法であって、
   前記バリアフィルムにおける前記プライマー層の下層上に、アミノ基を有するシランカップリング剤を含むプライマー組成物を塗布し、硬化させて前記プライマー層を形成する工程と、
   前記蛍光体層と前記バリアフィルムとを積層する工程と、
   を有する波長変換シートの製造方法。
   

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