JP2017191102A5 - - Google Patents

Download PDF

Info

Publication number
JP2017191102A5
JP2017191102A5 JP2017078206A JP2017078206A JP2017191102A5 JP 2017191102 A5 JP2017191102 A5 JP 2017191102A5 JP 2017078206 A JP2017078206 A JP 2017078206A JP 2017078206 A JP2017078206 A JP 2017078206A JP 2017191102 A5 JP2017191102 A5 JP 2017191102A5
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
wafer
controller
heater
semiconductor die
frame
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2017078206A
Other languages
English (en)
Other versions
JP6809973B2 (ja
JP2017191102A (ja
Filing date
Publication date
Priority claimed from US15/099,341 external-priority patent/US9607913B1/en
Application filed filed Critical
Publication of JP2017191102A publication Critical patent/JP2017191102A/ja
Publication of JP2017191102A5 publication Critical patent/JP2017191102A5/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP6809973B2 publication Critical patent/JP6809973B2/ja
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Claims (20)

  1. 開口部を有するフレームと、
    前記フレーム上の制御器であって、ヒータを制御するように構成されている制御器と、
    熱絶縁材料で作製された複数の支持梁と、
    前記フレームの前記開口部に配置された懸架質量部と、
    前記懸架質量部上の集積回路、温度センサ、及び前記ヒータと、
    前記複数の支持梁の第1の支持梁上の第1の導電トラックと、を備えるデバイスであって、前記懸架質量部は、前記複数の支持梁によって前記フレームに連結し、前記第1の導電トラックは、前記制御器を前記ヒータに電気的に連結する、デバイス。
  2. 前記複数の支持梁の第2の支持梁上に第2の導電トラックを更に備え、前記第2の導電トラックは、前記制御器を前記温度センサに電気的に連結する、請求項1に記載のデバイス。
  3. 前記制御器は、前記温度センサから温度測定値を受信し、前記温度測定値に基づいて前記ヒータを制御するように構成されている、請求項2に記載のデバイス。
  4. 第1のウェハと、
    前記フレーム及び前記懸架質量部上の第2のウェハと、を更に備え、前記フレームは前記第1のウェハ上に配置され、前記懸架質量部は前記第1及び前記第2のウェハから離間配置されている、請求項1に記載のデバイス。
  5. 前記フレーム、前記第1のウェハ、及び前記第2のウェハは、前記懸架質量部の周囲にチェンバを形成する、請求項4に記載のデバイス。
  6. 前記チェンバは排気されている、請求項5に記載のデバイス。
  7. 前記第2のウェハを介して形成される導電ビアを更に備え、前記導電ビアは、前記第1の導電トラックに電気的に連結されている、請求項4に記載のデバイス。
  8. セラミック基部と、
    前記セラミック基部に連結する蓋と、を更に備え、前記フレームは前記セラミック基部上に配置され、前記蓋及び前記セラミック基部は、前記懸架質量部の周囲にチェンバを形成する、請求項1に記載のデバイス。
  9. 前記フレーム上に接合パッドを更に備え、前記第1の導電トラックは、前記接合パッドに電気的に連結している、請求項1に記載のデバイス。
  10. 基板であって、
    開口部を有する第1の部分と、
    前記開口部内に配置され、前記第1の部分から離間配置される第2の部分と、を含む基板と、
    前記基板の前記第1の部分上の制御器であって、ヒータを制御するように構成されている制御器と、
    前記基板の前記第2の部分上の集積回路、温度センサ、及び前記ヒータと、
    前記基板の前記第1及び前記第2の部分上の絶縁層であって、前記基板の前記第1及び第2の部分を互いに連結させる前記絶縁層と、
    前記絶縁層上の第1の導電トラックと、を備えるデバイスであって、前記第1の導電トラックは、前記制御器を前記ヒータに電気的に連結する、デバイス。
  11. 前記絶縁層上に第2の導電トラックを更に備え、前記第2の導電トラックは、前記制御器を前記温度センサに電気的に連結する、請求項10に記載のデバイス。
  12. 前記制御器は、前記温度センサから温度測定値を受信し、前記温度測定値に基づいて前記ヒータを制御するように構成されている、請求項11に記載のデバイス。
  13. 第1及び第2のウェハを更に備え、前記基板は、前記第1のウェハと前記第2のウェハとの間に配置されている、請求項10に記載のデバイス。
  14. 気密真空パッケージを更に備え、前記基板は、前記気密真空パッケージの内側に配置されている、請求項10に記載のデバイス。
  15. 前記基板の前記第1の部分上に接合パッドを更に備え、前記接合パッドは、前記第1の導電トラックに電気的に連結されている、請求項10に記載のデバイス。
  16. フレームを備える半導体ダイの周辺要素上に制御器を組立てることと、
    懸架質量部を備える前記半導体ダイの中心要素上に集積回路、温度センサ、及びヒータ要素を組立てることであって、前記周辺要素は、前記中心要素を取り囲む、ことと、
    前記周辺要素と前記中心要素との間にある前記半導体ダイの一部分を取り除くことによって、前記周辺要素から前記中心要素を懸架させることと、
    第1の導電トラックを前記半導体ダイと前記懸架させた中心要素を支持する支持梁上に形成することと、を含む、方法であって、前記第1の導電トラックは、前記制御器を前記ヒータ要素に電気的に連結する、方法。
  17. 前記半導体ダイ上に第2の導電トラックを形成することを更に含み、前記第2の導電トラックは、前記半導体ダイの前記周辺要素上の接合パッドを前記集積回路、前記温度センサ、又は前記ヒータ要素に電気的に連結する、請求項16に記載の方法。
  18. 前記半導体ダイを第1のウェハ上に配置することと、
    前記半導体ダイ上に第2のウェハを配置することと、を更に含み、前記第1のウェハ及び前記第2のウェハは、前記半導体ダイの前記中央要素から離間配置され、前記半導体ダイの前記周辺要素、前記第1のウェハ、及び前記第2のウェハがチェンバを形成する、請求項16に記載の方法。
  19. 前記チェンバを排気することを更に含む、請求項18に記載の方法。
  20. 気密真空パッケージに前記半導体ダイを配置することを更に含む、請求項16に記載の方法。
JP2017078206A 2016-04-14 2017-04-11 精密集積回路用の低電力温度調節回路 Active JP6809973B2 (ja)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US15/099,341 US9607913B1 (en) 2016-04-14 2016-04-14 Low power, temperature regulated circuit for precision integrated circuits
US15/099,341 2016-04-14

Publications (3)

Publication Number Publication Date
JP2017191102A JP2017191102A (ja) 2017-10-19
JP2017191102A5 true JP2017191102A5 (ja) 2020-05-14
JP6809973B2 JP6809973B2 (ja) 2021-01-06

Family

ID=58360120

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2017078206A Active JP6809973B2 (ja) 2016-04-14 2017-04-11 精密集積回路用の低電力温度調節回路

Country Status (4)

Country Link
US (1) US9607913B1 (ja)
EP (1) EP3232745B1 (ja)
JP (1) JP6809973B2 (ja)
CN (1) CN107301985B (ja)

Families Citing this family (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE102019125963A1 (de) * 2019-09-26 2021-04-01 Schott Ag Hermetisch verschlossene Glasumhäusung
US12500133B2 (en) * 2022-04-01 2025-12-16 Fluke Corporation Structure, system and method for a temperature regulated electrical device

Family Cites Families (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE4340583A1 (de) * 1993-11-29 1995-06-01 Krautkraemer Gmbh Temperaturstabilisierter Hybridschaltkreis
DE19748005A1 (de) * 1997-10-30 1999-05-20 Siemens Ag Anordnung zum Übertragen von elektrischen Signalen zwischen einem auf einer Trägerplatte thermisch isoliertem Modul und angrenzenden Nachbarmodulen
US7484411B2 (en) * 2007-01-30 2009-02-03 Hewlett-Packard Development Company, L.P. Three phase capacitance-based sensing and actuation
US8049326B2 (en) * 2007-06-07 2011-11-01 The Regents Of The University Of Michigan Environment-resistant module, micropackage and methods of manufacturing same
US7821346B2 (en) * 2007-08-24 2010-10-26 Cts Corporation Ovenized oscillator
US20100180681A1 (en) * 2009-01-22 2010-07-22 Honeywell International Inc. System and method for increased flux density d'arsonval mems accelerometer

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR101984369B1 (ko) Mems 음향 센서 및 환경 센서를 포함하는 집적 패키지 및 이를 제조하는 방법
TWI568032B (zh) 使用晶圓層級支撐晶粒及氣隙技術之多種無應力感測器封裝
CN108269769B (zh) 具有隔热和温度调节的集成电路
US10236224B2 (en) Apparatus and method for reducing wafer warpage
US10179730B2 (en) Electronic sensors with sensor die in package structure cavity
CN107742654B (zh) 红外线传感器高真空封装结构及其方法
JP2012195417A5 (ja)
JP6195929B2 (ja) 電磁波を検出するための少なくとも2つのウェハを有する装置、および、当該装置の製造方法
CN112820718A (zh) 用于获取高温工艺应用中的测量参数的封装仪器化衬底设备
US20180144963A1 (en) Method and apparatus for assembling and testing a multi-integrated circuit package
KR101337508B1 (ko) 프로세싱 상태들 감지 시스템 및 프로세스 상태 측정 디바이스 형성 방법
JP2017208798A (ja) 水晶発振器及び水晶発振器の製造方法
CA2822484A1 (en) Mems-based getter microdevice
JP5483443B2 (ja) ガスセンサ及びその製造方法
TWI900462B (zh) 接合工具及接合機
US8153976B2 (en) Infrared sensor and manufacturing method thereof
JP3632930B2 (ja) ボールグリッドアレイ半導体装置
JP6809973B2 (ja) 精密集積回路用の低電力温度調節回路
CN103663348A (zh) 电子装置
US20180131324A1 (en) High-Efficiency Ovenized Oscillator
US20190221502A1 (en) Down Bond in Semiconductor Devices
JP3745329B2 (ja) 半導体装置の製造方法
JP6030436B2 (ja) 電子デバイスの製造方法および電子デバイス製造装置
TWI727154B (zh) Mems裝置封裝及其製造方法
JP3794498B2 (ja) 半導体装置の実装方法