JP2017196557A - フィルタ装置及び液処理装置 - Google Patents
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Abstract
Description
図1に示されるように、基板処理システム1(基板処理装置)は、塗布現像装置2(基板処理装置)と、コントローラ10(制御部)とを備える。基板処理システム1には、露光装置3が併設されている。露光装置3は、基板処理システム1のコントローラ10と通信可能なコントローラ(図示せず)を備える。露光装置3は、塗布現像装置2との間でウエハW(基板)を授受して、ウエハWの表面Wa(図10等参照)に形成された感光性レジスト膜の露光処理(パターン露光)を行うように構成されている。具体的には、液浸露光等の方法により感光性レジスト膜(感光性被膜)の露光対象部分に選択的にエネルギー線を照射する。エネルギー線としては、例えばArFエキシマレーザー、KrFエキシマレーザー、g線、i線、又は極端紫外線(EUV:Extreme Ultraviolet)が挙げられる。
続いて、図4を参照して、液処理ユニットU1についてさらに詳しく説明する。液処理ユニットU1は、図4に示されるように、回転保持部20と、処理液供給部30とを備える。
続いて、図5〜図8を参照して、フィルタ装置100についてさらに詳しく説明する。フィルタ装置100は、筐体102と、入口管104(入口部)と、排出管106(排出部)と、出口管108(出口部)と、送液管110(排出流路)と、送液管112(濾過流路)と、フィルタ部材114とを有する。筐体102、入口管104、排出管106、出口管108、送液管110及び送液管112は、例えば、樹脂材料で構成されていてもよい。
続いて、液処理ユニットU1の動作について、さらに詳しく説明する。まず、バルブ34が閉鎖し且つバルブ36が開放した状態で、コントローラ10がポンプ装置33に動作信号を送信し、ポンプ装置33を動作させる。これにより、処理液が、ポンプ装置33によって液タンク32から吸引され、フィルタ装置100に導入される。フィルタ装置100に導入された処理液は、主として、入口管104、送液管110及び排出管106をこの順に流通する。すなわち、処理液は、排出流路を流通して、フィルタ装置100外(系外)に排出される。フィルタ装置100に導入される当初の処理液には気泡が含まれている可能性が比較的高いので、当該処理液のフィルタ部材114への供給が抑制される。
以上のような本実施形態では、フィルタ本体116が収容管118の内部に詰め込まれており、フィルタ本体116の動きが収容管118内部において規制されている。そのため、処理液がフィルタ本体116を流通してもフィルタ本体116に疎密状態が生じ難くなるので、フィルタ本体116を通過する際の処理液の流速が全体的に均一になりやすい。従って、いずれのフィルタ部材114においても同程度の濾過性能を得やすくなるので、フィルタ装置100の濾過性能に個体差が発生することを抑制できる。
以上、本開示に係る実施形態について詳細に説明したが、本発明の要旨の範囲内で種々の変形を上記の実施形態に加えてもよい。例えば、上述したフィルタ装置100に代えて、以下に説明する他の例に係るフィルタ装置200,300,400,500を用いてもよい。
図9〜図11を参照して、他の例(第2の例)に係るフィルタ装置200について説明する。フィルタ装置200は、図9〜図11に示されるように、入口管104と、排出管106と、出口管108と、送液管110と、フィルタ部材114とを有する。フィルタ装置200は、主として、送液管112が存在しておらず送液管110が直接フィルタ部材114に接続されている点と、フィルタ部材114の構成の点とで、フィルタ装置100と相違する。なお、図9〜図11には図示されていないが、フィルタ装置200は筐体102も備えている。
図13を参照して、他の例(第3の例)に係るフィルタ装置300について説明する。フィルタ装置300は、図13に示されるように、筐体102と、入口管104と、排出管106と、出口管108と、送液管110,112と、フィルタ部材114と、スターラバー302と、マグネティックスターラ304とを有する。フィルタ装置300は、主として、送液管112及びフィルタ部材114の構成の点と、スターラバー302及びマグネティックスターラ304をさらに備えている点で、フィルタ装置100と相違する。
図14を参照して、他の例(第4の例)に係るフィルタ装置400について説明する。フィルタ装置400は、図14に示されるように、入口管104と、排出管106と、出口管108と、フィルタ部材114とを有する。フィルタ装置400は、主として、送液管112が存在しておらず送液管110が直接フィルタ部材114に接続されている点と、フィルタ部材114の構成の点とで、フィルタ装置100と相違する。なお、図14には図示されていないが、フィルタ装置400は筐体102も備えている。
図15及び図16を参照して、他の例(第5の例)に係るフィルタ装置500について説明する。フィルタ装置500は、図15及び図16に示されるように、入口管104と、排出管106と、出口管108と、送液管110と、フィルタ部材114と、バルブ502,504とを有する。フィルタ装置500は、主として、送液管112が存在しておらず送液管110が直接フィルタ部材114に接続されている点と、フィルタ部材114の構成の点とで、フィルタ装置100と相違する。なお、図9〜図11には図示されていないが、フィルタ装置200は筐体102も備えている。
上記のいずれのフィルタ装置100〜500においても、フィルタ本体116及び収容管118が、図17(a)に示される形態であってもよい。具体的には、収容管118が、円筒状を呈する内側管118d及び外側管118eで構成された二重管であり、フィルタ本体116が、内側管118d及び外側管118eの間の空間内に詰め込まれていてもよい。
Claims (14)
- フィルタ部材と、
半導体製造工程用の処理液が導入される入口部と、
前記入口部とで前記フィルタ部材を挟んで濾過流路を構成する出口部と、
前記入口部との間で前記フィルタ部材を通過しない排出流路を構成する排出部とを備え、
前記フィルタ部材は、
前記処理液を濾過する機能を有する少なくとも一つのフィルタ本体と、
前記フィルタ本体が内部に詰め込まれた収容管とを有し、
前記収容管は、内部での前記フィルタ本体の動きを規制している、フィルタ装置。 - 前記濾過流路は、前記入口部と前記排出部とを接続する前記排出流路から分岐した分岐流路である、請求項1に記載のフィルタ装置。
- 前記排出流路のうち前記濾過流路が分岐する分岐点の下流側には第1のバルブが設けられている、請求項2に記載のフィルタ装置。
- 前記濾過流路は、前記入口部と、前記入口部よりも下方に位置する前記フィルタ部材の入口側との間を上下方向に延びる延在部を含む、請求項1〜3のいずれか一項に記載のフィルタ装置。
- 前記延在部は鉛直方向に対して傾斜している、請求項4に記載のフィルタ装置。
- 前記排出流路のうち前記濾過流路が分岐している箇所の近傍は鉛直方向に沿って延びており、
前記濾過流路のうち前記排出流路から分岐している側の基端部は水平方向に沿って延びている、請求項2又は3に記載のフィルタ装置。 - 前記フィルタ部材を収容する筐体を更に備え、
前記入口部、前記出口部及び前記排出部はいずれも、前記筐体の天壁に設けられている、請求項1〜6のいずれか一項に記載のフィルタ装置。 - 前記フィルタ部材は、螺旋状に巻回された巻回部を有する、請求項1〜7のいずれか一項に記載のフィルタ装置。
- 前記フィルタ部材は直線状に延びている、請求項1〜7のいずれか一項に記載のフィルタ装置。
- 前記フィルタ部材は、前記収容管を内部に収容すると共に前記収容管に沿って延びる外管を更に有し、
前記収容管の周面には、前記収容管の内外を連通する複数の貫通孔が設けられており、
前記フィルタ本体は、前記収容管と前記外管との間の空間に流入して前記貫通孔を通過した前記処理液を濾過する、請求項1〜9のいずれか一項に記載のフィルタ装置。 - 前記外管は光を透過可能な材料で構成されている、請求項10に記載のフィルタ装置。
- 前記収容管内には、複数の前記フィルタ本体が前記収容管の延在方向に並ぶように配置されている、請求項10又は11に記載のフィルタ装置。
- 前記フィルタ部材は、前記収容管から分岐する少なくとも一つの分岐管を更に有し、
前記分岐管のうち前記収容管から分岐している側の基端部は、複数の前記フィルタ本体の間にそれぞれ位置しており、
前記分岐管のうち前記収容管から分岐している側の基端部には第2のバルブが設けられている、請求項12に記載のフィルタ装置。 - 前記処理液を吐出するためのノズルが一端に接続された送液ラインと、
前記送液ライン上に配置された、請求項1〜13のいずれか一項に記載のフィルタ装置と、
前記送液ラインを通じて前記フィルタ装置に前記処理液を供給する供給源とを備える、液処理装置。
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