JP2017206236A - 化粧室の床を清掃するシステム及び方法 - Google Patents

Abstract

【課題】床を清掃するシステム及び方法、具体的には、民間航空機内の化粧室の床等の床を乾燥させるシステム及び方法を提供する。【解決手段】内部キャビン８０は、航空機の胴体８１内にありうる。例えば、一又は複数の胴体壁は内部キャビンを画定しうる。内部キャビンは、乗客席８３を有するメインキャビン８２と、メインキャビンの後ろの後方セクション８５を含む、複数のセクションを含む内部キャビンには、後方セクションにつながる単一の通路８４が含まれうる。単一の通路は、後方セクションにつながる内部キャビンの中央を通って延在しうる。例えば、単一の通路は、内部キャビンの中央縦断面の同軸上に位置調整されうる。乾燥床アセンブリは、操縦席エリア８９に近接する前方セクション８７のメインキャビンの化粧室１００内に位置していてよい。追加の化粧室は、メインキャビン内全体に位置づけされうる。【選択図】図２Ｂ

Description

関連出願
背景の実施例は、平成２８年３月３１日出願の「Ｓｙｓｔｅｍｓ ａｎｄ Ｍｅｔｈｏｄｓ ｆｏｒ Ｃｌｅａｎｉｎｇ ａ Ｌａｖａｔｏｒｙ Ｆｌｏｏｒ」と題する米国仮特許出願第６２／３１５，９９９号に記載されうる。

本開示の実施形態は概して、床を清掃するシステム及び方法に関し、更に具体的には、民間航空機内の化粧室の床等の床を乾燥させるシステム及び方法に関する。

民間航空機は、様々な場所の間で乗客を搬送するために使用される。飛行中、特に大洋横断又はその他の長距離飛行中、乗客は通常航空機の特定エリア（例えばキャビン）に閉じ込められる。様々な人（例えば乗客、パイロット、フライトアテンダント等）が、飛行中に航空機の特定の内部を使用する。例えば、多数の人が飛行中に内部キャビン内の化粧室を使用しうる。

当然ながら、各々の使用時に、航空機に搭載された化粧室の清浄度が低下しうる。機上の人は、航空機に搭載された頻繁に使用される化粧室によってこうむる健康上のリスクの影響を受けうる。実際、各人が航空機に搭載された化粧室を使うと、その中の病原菌や細菌の可能性が高まる。

航空機の化粧室は一般に、飛行と飛行の間に清掃される。例えば、飛行前及び／又は飛行後に化粧室を清掃するために、地上の航空機に保守又は清掃従業員が乗り込む。しかしながら、飛行中に多数の人が化粧室を使用しうる事実に関わらず、飛行中は通常、化粧室は清掃されない。フライトアテンダントが化粧室を清掃することができるかもしれないが、彼らは飛行中は普通、他の任務で手いっぱいである。このため、飛行中、あるいは飛行と飛行の間であっても、フライトアテンダントにとって化粧室を清掃することは最優先事項ではない可能性がある。

結果的に、航空機に搭載された化粧室の清浄度は、特に飛行中に低下しうる。一般に、飛行中、航空機に搭載された化粧室が、航空機に乗っている人によって飛行中に使用されることで、汚れ、濡れ、また臭くなる等の可能性がある。このため、航空機に乗った人の飛行中の経験に悪影響が及ぼされうる。

更に、繰り返し使用することで、化粧室の床の複数の部分が液体で覆われる可能性がある。清掃した後でも、化粧室の床は洗浄液で濡れている場合がある。濡れた化粧室の床は、その床が清掃済みであることを人が知っていたとしても人に不安を与えるものでありうる。つまり、濡れた床は、不衛生な状態を印象付けうる。更に、濡れた床は、人が濡れた床の上で滑って転ぶ可能性のある安全性の問題をもたらしうる。

床を乾燥させるシステム及び方法が必要である。使用後に化粧室の床を自動的に乾燥させるシステム及び方法が必要である。特に飛行中に、航空機に搭載された化粧室の床を効果的かつ効率的に乾燥させるシステム及び方法が必要である。

この必要を考慮し、本開示の特定の実施形態は、閉ざされた空間の床に形成されるあるいは位置づけされるように構成された乾燥床アセンブリを提供する。乾燥床アセンブリは、真空システムに連結されるように構成された真空層を含む。真空システムは、真空層を介して乾燥床アセンブリから液体を除去するように構成される。

真空層は、真空システムに流体接続するように構成されたポートを含みうる。少なくとも１つの実施形態では、真空層は液体回収溝によって分離された複数のリッジを含む。真空チャネルは、リッジの一部を通って形成される。真空チャネルは、真空システムと流体連通するように構成される。

乾燥床アセンブリは、真空層の上に位置づけされた上位層を含みうる。上位層は、疎水性材料で形成される、及び／又はコーティングされる。上位層は、液体がそれを通って真空層に向かってはじかれる複数の開口部を含みうる。少なくとも１つの実施形態では、複数の開口部は長方形である。

乾燥床アセンブリは、真空層と上位層との間に位置づけされたウィッキング層を含みうる。ウィッキング層は、複数の細孔を含みうる。ウィッキング層は、上位層から液体を逃がすように構成される。液体は、複数の細孔を通って真空層に引き込まれる。少なくとも１つの実施形態では、ウィッキング層は金網メッシュで形成される。

乾燥床アセンブリは、真空層とウィッキング層との間に位置づけされた下位支持層を含みうる。下位支持層は、液体がそれを通って真空層に引き込まれる複数の貫通孔を含みうる。

本開示のある実施形態は、内装空間内に位置するように構成された乾燥床アセンブリを含むシステムを提供する。乾燥床アセンブリは、真空層を含む。真空システムは、真空層に連結される。真空システムは、真空層を介して乾燥床アセンブリから液体を除去するように構成される。少なくとも１つの実施形態では、真空システムは、内装空間内のトイレの水が流された時に起動されるように構成される。システムは、乾燥床アセンブリを浄化するように構成された紫外（ＵＶ）光源も含みうる。

本開示のある実施形態は、真空層を有する乾燥床アセンブリを形成することと、内装空間内に乾燥床アセンブリを位置づけすることと、乾燥床アセンブリの真空層を真空システムに連結させることと、真空層を介して乾燥床アセンブリから液体を除去するために真空システムを起動することとを含む方法を提供する。少なくとも１つの実施形態では、動作を起動することは、真空システムに連結されたトイレの水を流すことを含む。本方法はまた、内装空間に人がいる時に動作の起動をやめることも含みうる。

少なくとも１つの実施形態では、本方法はまた、乾燥床アセンブリを清掃するために、紫外（ＵＶ）光源を起動することも含みうる。本方法はまた、内装空間に人がいる時に、ＵＶ光源の動作の起動をやめることも含みうる。

本開示のある実施形態は、内部キャビンを有する胴体を含む航空機を提供する。化粧室は、内部キャビン内に位置している。乾燥床アセンブリは、化粧室内に位置づけされる。乾燥床アセンブリは、真空層を含む。真空システムは、胴体の一部内に固定される。真空システムは、真空層に連結される。真空システムは、真空層を介して乾燥床アセンブリから液体を除去するように構成される。真空システムは、化粧室内のトイレの水が流された時に起動されるように構成される。紫外（ＵＶ）光源は、化粧室内に位置づけされうる。ＵＶ光源は、乾燥床アセンブリを浄化するように構成される。

本開示の一実施形態による、航空機の上面斜視図である。 本開示の一実施形態による、航空機の内部キャビンを示す上面図である。 本開示の一実施形態による、航空機の内部キャビンを示す上面図である。 本開示の一実施形態による化粧室を示す内部斜視図である。 本開示の一実施形態による乾燥床アセンブリを示す拡大斜視図である。 本開示の一実施形態による乾燥床アセンブリを示す上面斜視図である。 本開示の一実施形態による乾燥床アセンブリを示す側面斜視図である。 本開示の一実施形態による上位層を示す上面図である。 本開示の一実施形態による、ウィッキング層の上に配置された上位層を示す上面図である。 本開示の一実施形態による下位支持層を示す上面図である。 本開示の一実施形態による真空層を示す底面斜視図である。 本開示の一実施形態による真空層を示す上面斜視図である。 本開示の一実施形態による乾燥システムを示す概略図である。 本発明の一実施形態による、乾燥システムと床滅菌システムに連結された化粧室を示す概略図である。 本開示の一実施形態による、乾燥床アセンブリを乾燥させる方法を示すフロー図である。 本開示の一実施形態による、閉ざされた空間内の乾燥床アセンブリを消毒し、乾燥させる方法を示すフロー図である。 本発明の一実施形態による化粧室を示す上面内部斜視図である。 遠紫外線スペクトルを示す図である。 本開示の一実施形態による化粧室を示す内装概略図である。 本開示の一実施形態による、清掃サイクル中の状態表示器を示す前面図である。

上記の概要、及び幾つかの実施形態の下記の詳細説明は、添付の図面を参照して読むことにより、より深く理解される。本明細書で使用される「一（ａ）」又は「１つの（ａｎ）」に続く単数形の要素又はステップは、複数の当該要素又はステップを必ずしも除外しないと理解されたい。更に、「一実施形態」への言及は、本明細書に記載の特徴を組み込む追加の実施形態の存在を除外すると解釈すべきでない。また、それと反対に明示的に記述されない限り、特定の条件を有する一又は複数の要素を「備える」「含む」又は「有する」実施形態は、その条件を有しない追加の要素を含み得る。

本開示の実施形態は、例えば化粧室の床等の床を乾燥させるシステム、方法、及びアセンブリを提供する。システム、方法、及びアセンブリは、輸送体の化粧室、建物の公共手洗所、実験室内等の様々な環境で使用可能である。

本開示のある実施形態は、液体の存在をなくす、最小化する、あるいはそうでなければ低減する乾燥床アセンブリを提供する。乾燥床アセンブリは、それを通して液体を引っぱって、輸送体に搭載された真空システムへ液体を方向づけするように構成される。少なくとも１つの実施形態では、乾燥床アセンブリは、乾燥したままであるように構成された上位層と、上位層から水を逃がす中間層と、真空システムに連結されるように構成された下位真空層とを含む。乾燥床アセンブリは真空システムに連結されると、（例えばトイレの水が流された時等に）真空システムが起動される度に、乾燥床アセンブリ上の、あるいは乾燥床アセンブリ内のすべての液体を引き離す真空システムによって自動的に乾燥される。

本開示のある実施形態は、乾燥床アセンブリと真空システムとを含む乾燥システムを提供する。乾燥床アセンブリは、複数の層を含み、その内の少なくとも１つは真空システムに連結される。乾燥床アセンブリの少なくとも１つの上位層は、液体を透過する。紫外（ＵＶ）光源は、乾燥床アセンブリを滅菌するために乾燥床アセンブリ上にＵＶ光を放射するように構成されうる。少なくとも１つの実施形態では、真空システムは、乾燥床アセンブリが位置する内部チャンバ（例えば化粧室）に人がいない時に、乾燥床アセンブリから液体を引き離すために起動されうる。例えば、真空システムは、化粧室のドアが閉じていて、化粧室内に誰もいない時に起動され得る。

本開示の実施形態は、液体のない防滑床を提供するシステム、方法、及びアセンブリを提供する。本開示の実施形態は、床面から液体を除去するように構成される。床は、例えばＵＶ光の照射を通して、自動的に殺菌されうる。更に、本開示の実施形態は、コスト効率が高く軽量で、簡単に製造できる床アセンブリを提供する。

本開示のある実施形態は、一又は複数の層を有する乾燥床アセンブリと、乾燥床アセンブリに連結された真空システムとを含む床乾燥システムを提供する。真空システムは、液体を除去するように構成される。真空システムは、選択可能な強度を提供しうる。乾燥床アセンブリは、水と同様の特性を有する液体を透過する少なくとも１つの上位層を含みうる。ＵＶ光源は、乾燥床アセンブリを滅菌するために、真空システムと協働して動作するように構成されうる。少なくとも１つの層は、乾燥床アセンブリの上側にある、あるいは上側から見える、ある量の液体を低減するように構成される。真空システムは、化粧室のドアが閉められ、化粧室に人がいない時に起動されるように構成されうる。

本開示のある実施形態は、乾燥床アセンブリが人がいない（つまり人の気配のない）部屋に囲われ、乾燥床アセンブリ上の、あるいは乾燥床アセンブリ内の液体を除去するために真空システムを起動するように、ドアを閉めることを含む床を清掃する方法を提供する。本方法は、ＵＶ光で乾燥床アセンブリを滅菌することも含みうる。

図１に、本開示の一実施形態による、航空機１０の上面斜視図を示す。航空機１０には、例えば２つのターボファンエンジン１４を含みうる推進システム１２が含まれうる。オプションとして、推進システム１２には、図示したものよりも更に多くのエンジン１４が含まれうる。エンジン１４は、航空機１０の翼１６によって担持される。他の実施形態では、エンジン１４は、胴体１８及び／又は尾部２０によって担持されうる。尾部２０は、水平尾翼２２と、垂直尾翼２４も支持し得る。

航空機１０の胴体１８は内部キャビンを画定し、内部キャビンには、操縦席、一又は複数のワークステーション（例えば、ギャレー、手荷物エリア等）、一又は複数の乗客セクション（例えば、ファーストクラス、ビジネスクラス、及びエコノミーセクション）、及び後方休憩エリアアセンブリが位置づけされうる後方セクションが含まれうる。各セクションは、一又は複数のクラス仕切アセンブリを含みうるキャビン遷移エリアによって分離されうる。頭上手荷物収納庫アセンブリは、内部キャビン全体に位置づけされうる。

内部キャビンは、例えば一又は複数の化粧室を含む。本開示の実施形態は、化粧室内の床を自動的に乾燥するように構成されるシステム及び方法を提供する。

あるいは、本開示の実施形態を、航空機に代わり、自動車、バス、機関車及び列車、船舶、宇宙船などの様々な他の輸送体に使用することができる。更に、本開示の実施形態は、例えば商業用及び住居用の建物等の固定構造に対して使用されうる。一例として、本開示の実施形態は、化粧室が輸送体内にあるか否かに関わらず、化粧室の床を自動的に乾燥するために使用されうる。

図２Ａに、本発明の一実施形態による、航空機の内部キャビン３０の上から見た平面図を示す。内部キャビン３０は、航空機の胴体３２内であってよい。例えば、一又は複数の胴体壁により、内部キャビン３０が画定されうる。内部キャビン３０には、前方セクション３３、ファーストクラスセクション３４（又は例えばファーストクラススイート、キャビン）、ビジネスクラスセクション３６、前方ギャレーステーション３８、拡張されたエコノミー又はコーチ（ｃｏａｃｈ）セクション４０、標準エコノミー又はコーチセクション４２、複数の化粧室とギャレーステーションとを含みうる後方セクション４４を含む複数のセクションが含まれる。内部キャビン３０は、図示したものよりも多い、又は少ないセクションを含みうると理解すべきである。例えば、内部キャビン３０には、ファーストクラスセクションが含まれなくてもよく、図示したものよりも更に多くの、又は少ないギャレーステーションが含まれうる。各セクションは、通路４８間にクラス仕切アセンブリを含みうるキャビン遷移エリア４６によって分離されうる。

図２Ａに示すように、内部キャビン３０は、後方セクション４４につながる２つの通路５０及び５２を含む。オプションとして、内部キャビン３０は、図示したものよりも少ない又は多い通路を有しうる。例えば、内部キャビン３０には、後方セクション４４につながる内部キャビン３０の中央を通って延在する単一の通路が含まれうる。

一又は複数の化粧室１００は、内部キャビン３０内に位置しうる。化粧室１００は、胴体の一部内に固定されうる、真空システムに連結されるように構成された乾燥床アセンブリを含みうる。乾燥床アセンブリは、露出している上面の目に見える液体の量を削減するように構成される。真空システムが、乾燥床アセンブリ上の、あるいは乾燥床アセンブリ内の液体を引き離すために起動されうる。

動作中、乾燥床アセンブリを含む乾燥システムは、乾燥床アセンブリを自動的に乾燥させるように構成される。乾燥システムは、化粧室内のトイレの水が流された時に、乾燥床アセンブリを乾燥させるように構成されうる。少なくとも１つの実施形態では、乾燥システムは、化粧室に人がいない時に乾燥床アセンブリを乾燥するように構成されうる。加えて、化粧室は、清掃サイクル中に乾燥床アセンブリを照射するように構成された少なくとも１つのＵＶ光源を含みうる。ＵＶ光源は、乾燥床アセンブリから、病原菌、細菌、微生物等を一掃する。ＵＶ光源は、消毒、殺菌、清掃、又は他の方法で病原菌、細菌、微生物等を一掃するために、乾燥床アセンブリ上にＵＶ光を照射する、又は他の方法で放射するように構成される。ＵＶ光源は、化粧室に人がいない時に起動されうる。

化粧室内、又はそうでなければ化粧室近くの気配センサを使用して、化粧室内の人の存在を検出することができる。気配センサは、人が化粧室内にいるかどうかを検出するように構成された一又は複数の磁気スイッチ、モーションセンサ（例えば赤外線モーションセンサ）、熱センサ等であってよい、又はこれらを含みうる。例えば、気配センサは、内部の部屋のドアに連結された磁気スイッチであってよい。

図２Ｂに、本発明の一実施形態による、航空機の内部キャビン８０の上部平面図を示す。内部キャビン８０は、航空機の胴体８１内にありうる。例えば、一又は複数の胴体壁は内部キャビン８０を画定しうる。内部キャビン８０は、乗客席８３を有するメインキャビン８２と、メインキャビン８２の後ろの後方セクション８５を含む、複数のセクションを含む。内部キャビン８０には、図示したものよりも更に多くの、又は少ないセクションが含まれうることを理解すべきである。

内部キャビン８０には、後方セクション８５につながる単一の通路８４が含まれうる。単一の通路８４は、後方セクション８５につながる内部キャビン８０の中央を通って延在しうる。例えば、単一の通路８４は、内部キャビン８０の中央縦断面の同軸上に位置調整されうる。

乾燥床アセンブリは、操縦席エリア８９に近接する前方セクション８７のメインキャビン８２の化粧室１００内に位置していてよい。追加の化粧室１００は、メインキャビン８２内全体に位置づけされうる。

図３に、本開示の一実施形態による、化粧室１００の内部斜視図を示す。化粧室１００は、上述したように航空機に搭載されうる。任意選択的に、化粧室１００は、他の様々な輸送体に搭載されうる。他の実施形態では、化粧室１００は、商業用又は住居用の建物等の固定構造内にあってよい。

化粧室１００は、トイレ１０４、棚１０６、及びシンク１０８を支持する基盤床１０２を含む。基盤床１０２は、その間に乾燥床アセンブリを確実に保持するように構成された対向するブラケット１１０を含みうる。任意選択的に、基盤床１０２は乾燥床アセンブリであってよい、あるいは乾燥床アセンブリを含みうる。ＵＶ光源１１２は、棚１０６の下方端部に位置づけされうる。ＵＶ光源１１２は、化粧室１００の内部空間１１４に人がいない時の清掃サイクル中に、乾燥床アセンブリをＵＶ光で照射するように構成される。

図４は、本開示の一実施形態による、乾燥床アセンブリ２００の拡大斜視図である。乾燥床アセンブリ２００は、下位支持層２０４を支持する真空層２０２を含む。下位支持層２０４が今度は、中間ウィッキング層２０６を支持する。上位層２０８は、ウィッキング層２０６の上に位置づけされる。上位層２０８は、人によって直接係合されるように構成される。例えば、人が上位層２０８の上に立つ。上位層２０８は、疎水性材料で形成されうる、あるいはそうでなければ疎水性材料でコーティングされうる。

真空層２０２、下位支持層２０４、ウィッキング層２０６、及び上位層２０８は互いに挟み合わされて、乾燥床アセンブリ２００を形成する。少なくとも１つの実施形態では、真空層２０２、下位支持層２０４、ウィッキング層２０６、及び上位層２０８は、図３に示すブラケット１１０等の外フレーム、ブラケット（複数可）内に含有されうる。真空層２０２、下位支持層２０４、ウィッキング層２０６、及び上位層２０８は、例えばファスナー及び／又は接着剤で互いに固定されうる。少なくとも１つの他の実施形態では、層２０２、２０４、２０６、及び２０８の一部は、層２０２、２０４、２０６、及び２０８を互いに確実に接続するために、隣接する層２０２、２０４、２０６及び２０８の反転構造を確実に係合するように構成された一又は複数の戻り止め（例えばタブ、ポスト、かかり、スナップ等）を含みうる。

真空層２０２は、真空システムに接続された時に、一貫した均一な真空吸引力を提供するように構成されうる（例えばスロット、チャネル等）特徴を含む。例えば、真空層２０２の上面２１０は、真空層２０２が起動された真空システムに連結された時に、下位支持層２０４、ウィッキング層２０６、及び上位層２０８を通して液体を吸引するように構成される。

下位支持層２０４は、金属製の平面シートであってよい。例えば、下位支持層２０４は鋼鉄で形成されうる。下位支持層２０４は、液体がそれを通って引き込まれうる複数の貫通孔２１２（例えば穴、開口部、チャネル等）を含みうる。図示したように、貫通孔２１２は、下位支持層２０４を通って形成された円形開口部であってよい。貫通孔２１２は、下位支持層２０４の、それぞれ対向する上面２１４から底面２１６まで通って延在する。少なくとも１つの実施形態では、貫通孔２１２は、０．１〜０．２インチの直径を有しうる。例えば貫通孔２１２は、０．１８５インチの直径を有しうる。任意選択的に、貫通孔の直径は０．１インチを下回る、又は０．２インチを上回るものであってよい。

ウィッキング層２０６は、液体ウィッキング特性を有する金網メッシュ２１８で形成されうる。少なくとも１つの実施形態では、金網メッシュ２１８はステンレス鋼で形成されうる。ウィッキング層２０６は、布が液体を逃がすのと同様に液体を逃がすウィッキング生地及び／又は金属スクリーンを提供する。メッシュ２１８は、それを通って形成された複数の細孔２２０を有する。細孔２２０は、真空圧によりそれを通って液体を引っ張ることができるように構成された孔隙率を有する。少なくとも１つの実施形態では、各細孔２２０は、約１８０ミクロンの直径又は長さを有しうる。あるいは、各細孔２２０は１８０ミクロンを上回る、あるいは下回る直径又は長さを有しうる。

上位層２０８は、疎水性コーティング２２４でコーティングされたステンレス鋼製スクリーン２２２であってよい。スクリーン２２２は、細孔２２０よりも大きい貫通型の開口部２２６を提供する。比較的大きい開口部２２６は、上位層２０８上の水玉状の液体を防止する、又はそうでなければ低減するように構成される。疎水性コーティング２２４により、上位層２０８から液体がはじかれ、これにより上位層２０８が乾燥するようになる。少なくとも１つの実施形態では、開口部２２６は長方形又はそうでなければ非円形であってよく、これにより、液体の通過が可能になり、液体の表面張力により液体のブリッジングの影響を受けにくくなる。少なくとも１つの他の実施形態では、上位層２０８は全体的に疎水性材料で形成されうる。

動作中、上位層２０８上に堆積した液体は、疎水性コーティング２２４によってはじかれ、開口部２２６を通過する。ウィッキング層２０６は、上位層２０８から液体を引き離す。真空層２０２に連結され、起動された真空システムは、細孔２２０を介してウィッキング層２０６上の又はウィッキング層２０６内の液体を吸引する。液体は次に下位支持層２０４の貫通孔２１２を通過して、導管（例えばホース、チューブ等）を介して真空システムに流体接続された排水口を通って乾燥床アセンブリ２００から排出される。

あるいは、乾燥床アセンブリ２００には、下位支持層２０４及び／又はウィッキング層２０６を含まないものもある。その代わりに、上位層２０８は真空層２０２に直接支持されうる。少なくとも１つの他の実施形態は、真空層２０２は、人を直接支持するように構成されうる。このため、乾燥床アセンブリ２００には、下位支持層２０４、ウィッキング層２０６、又は上位層２０８を含まないものもある。

図５は、乾燥床アセンブリ２００の上面斜視図である。図６は、乾燥床アセンブリ２００の側面斜視図である。図５及び６を参照すると、乾燥床アセンブリ２００は、真空層２０２と上位層２０８との間に下位支持層２０４とウィッキング層２０６とを挟み込む保持ブラケット２２８を含みうる。ブラケット２２８は、真空層２０２及び／又は下位支持層２０４の一方又は両方の一部でありうる、あるいはこれらに一体的に接続されていてよい。

真空層２０２は、真空チャネル（図５及び６の図では隠れている）と流体連通しているポート２３０を含む。ポート２３０は、真空システム（図５及び６で図示せず）に接続される導管２３２（例えばホース、チューブ、パイプ等）に接続される。従って、真空システムが起動されると、乾燥床アセンブリ１００上の又はその内部の液体を、乾燥床アセンブリ１００から引き離して導管２３２の中へ導く真空力（又は吸引力）が生成される。

図７に、本開示の一実施形態による上位層２０８の上面図を示す。上記したように、上位層２０８は、疎水性コーティング２２４でコーティングされたスクリーン２２２を含む。図示したように、開口部２２６は、正方形又は他の長方形として形成されうる。開口部２２６は、スクリーン２２２を形成するワイヤ２３３の厚さよりもかなり大きいものである。長方形の開口部２２６により、液体の通過が可能になり、液体の表面張力による液体ブリッジングの影響を受けにくくなる。つまり、開口部２２６は一般に、隣接するワイヤ２３３間の液体ブリッジングの可能性をなくす、最小化する、あるいは低減するのに十分大きいものである。

図８に、本開示の一実施形態に従って、ウィッキング層２０６の上に配置された上位層２０８の上面図を示す。上位層２０８及びウィッキング層２０６は、１つのものとして形成されうる。例えば、上位層２０８は、ウィッキング層２０６の上に接着されうる。任意選択的に、上位層２０８は、ウィッキング層２０６に接着されない場合がある。

ウィッキング層２０６は、液体ウィッキング特性を有する金網メッシュ２１８で形成されうる、あるいはそうでなければ液体ウィッキング特性を有する金網メッシュ２１８を含みうる。少なくとも１つの実施形態では、金網メッシュ２１８はステンレス鋼で形成されうる。メッシュ２１８を通って細孔２２０が形成される。図示したように、細孔２２０は、上位層２０８を通って形成された開口部２２６よりもかなり小さいものである。ほぼ１０〜３０個の細孔２２０が、上位層２０８を通って形成された開口部２２６の面積と同じサイズの面積内に適合しうる。あるいは、細孔２２０は、図示したものよりも大きいものであってよい、あるいは小さいものであってよい。

図９に、本開示の一実施形態による、下位支持層２０４の上面図を示す。下位支持層２０４は、金属の平面シートで形成されていてよく、複数の貫通孔２１２（例えば穴、開口部、チャネル等）が形成されたパネル２３６を含む。図示したように、貫通孔２１２は、円形開口部であってよい。任意選択的に、貫通孔２１２は、図示したものとは異なるサイズ及び形状であってよい。少なくとも１つの実施形態では、貫通孔２１２は、上位層２０８と同様に長方形の形状であってよい。

図１０に、本開示の一実施形態による、真空層２００の底面斜視図を示す。真空層２００は、基盤床面、例えば化粧室内の基盤床面に当接するように構成された平面支持基盤２４０を含む。

図１１に、本開示の一実施形態による、真空層２００の上面斜視図を示す。真空層２００の上面２１０は、液体回収溝２４６によってその間が分離されている（位置合わせされ、平行しうる）複数のリッジ２４４を含む。真空チャネル２４６（例えば開口部）は、リッジ２４４の表面を通って形成される。真空チャネル２４６は、真空ポート２３０と通信している。このため、溝２４６に回収される液体は、真空システムが動作可能に真空ポート２３０に連結され、起動された時に、真空チャネル２４６を経由して真空ポート２３０の中へ吸引されうる。

図１２に、本発明の一実施形態による、乾燥システム３００の概略図を示す。乾燥システム３００は、例えば航空機等の輸送体に搭載されうる。乾燥システム３００は、一又は複数のトイレ３０４に動作可能に連結されうる真空システム３０２に連結された乾燥床アセンブリ１００を含みうる。真空システム３０２は、例えば航空機の胴体内等の輸送体の一部内に固定されうる。

乾燥床アセンブリ１００は、トイレ３０４（複数可）及び真空システム３０２に接続された一又は複数の流体運搬導管３０６に流体接続される。例えば、真空層２０２の真空ポート２３０（図１０及び１１に示す）は、導管３０６（複数可）に流体連結される。従って、真空システム３０２が起動された時に（つまり、真空システム３０２が導管３０６を通して真空力又は吸引力を生成した時に）、真空力又は吸引力が乾燥床アセンブリ１００上の及び／又は乾燥床アセンブリ１００内の液体を導管３０６（複数可）の中へ、そして排液タンクの中へ引き込む。

真空システム３０２は、乾燥床アセンブリに隣接する、又はそうでなければ近接するトイレ３０４の水が流された時に起動されうる。少なくとも１つの他の実施形態では、真空システム３０２は、トイレ３０４が位置する化粧室に人が入っていない時に起動されうる。例えば、人はトイレの水を流すためにトイレ３０４のボタン又はレバーと係合しうるが、乾燥システム３００は、化粧室を人が離れた（例えば人が化粧室へのドアの鍵を解除して閉じた）後にトイレ３０４の水が流れる（これにより真空システム３０２が起動される）ように構成されうる。

図１３は、本開示の一実施形態による、乾燥システム３００及び床滅菌システム４０２に連結された化粧室４００の概略図を示す。乾燥システム３００は、上述したように真空システム３０２に連結された乾燥床アセンブリ１００を含みうる。乾燥床アセンブリ１００は、トイレ４０４の少なくとも一部を支持しうる、あるいはトイレ４０４の少なくとも一部の周囲に位置づけされうる。床滅菌システム４０２は、一又は複数の有線又は無線接続を介して制御装置４１０と通信しているＵＶ光源４０６及び気配センサ４０８を含みうる。制御装置４１０は、一又は複数の有線又は無線接続を介して真空システム３０２とも通信しうる。

制御装置４１０は、床滅菌システム４０２の動作を制御するように構成されうる。例えば、制御装置４１０は、気配センサ４０８から人が化粧室４００内にいるか否かを示す気配信号を受信する。気配センサ４０８は、人が化粧室内にいるか否かを示す気配信号を生成するように構成された一又は複数の磁気スイッチ、モーションセンサ（例えば赤外線モーションセンサ）、熱センサ等であってよい、あるいはこれらを含みうる。例えば、気配センサは、化粧室４００のドア４１２に連結された磁気スイッチであってよい。制御装置４１０が、例えば気配センサ４０８から受信した一又は複数の信号を通して化粧室４００に人が入っていると判断した場合、制御装置４１０はＵＶ光源４０６の起動をやめる。人が化粧室４００を離れ、そして制御装置４１０が（気配センサ４０８から受信した一又は複数の信号を介して）化粧室４００に人がいないと判断した後に、制御装置４１０は、化粧室４００内の乾燥床アセンブリ１００及び／又は他の面を消毒する、又は他の方法で清掃するために、ＵＶ光源４０６を起動する。

乾燥床アセンブリ１００は、上述したように、トイレ４０４の水が流される度に、真空システム３０２の動作を通して乾燥されうる。少なくとも１つの他の実施形態では、制御装置４１０は真空システム３０２と通信し、人が化粧室４００内にいる時は、真空システム３０２を起動することをやめることができる。人が化粧室４００を離れ、そして制御装置４１０が化粧室４００に人がいないと判断した後に、制御装置４１０は、トイレ４０４の水を流し、乾燥床アセンブリ１００から液体を吸引するために、真空システムを起動しうる。

上述したように、制御装置４１０は、乾燥床アセンブリ１００から液体を除去するために、乾燥床アセンブリ１００及び／又は真空システム３０２を滅菌、殺菌、又は他の方法で清掃するために、床滅菌システム４０２の動作を制御するように構成されうる。本書で使用する「制御装置」「装置」「中央処理装置」「ＣＰＵ」「コンピュータ」などの語は、マイクロコントローラ、縮小指令セットコンピュータ（ＲＩＳＣ）、特定用途向け集積回路（ＡＳＩＣ）、論理回路、及び、本書で説明される機能を実行することが可能なハードウェア、ソフトウェア、又はこれらの組み合わせを含む他の任意の回路又はプロセッサを使用するシステムを含む、プロセッサベース又はマイクロプロセッサベースの、任意のシステムを含み得る。上述の例は例示的なものにすぎず、従って、上記用語の定義及び／又は意味を何らかの方法で限定することを意図していない。例えば、制御装置４１０は、床滅菌システム４０２及び／又は真空システム３０２の動作を制御するように構成された一又は複数のプロセッサであってよい、あるいはそれらを含みうる。

制御装置４１０は、データを処理するため、一又は複数の記憶素子（一以上のメモリなど）に保存される一連の指令を実行するように構成される。例えば、制御装置４１０は、一又は複数のメモリを含みうる、又は一又は複数のメモリに連結されうる。記憶素子はまた、所望又は必要に応じてデータ又は他の情報を記憶し得る。記憶素子は、情報ソース、又は処理マシン内部の物理メモリ素子という形態であり得る。

一連の指令は、制御装置４１０に指示を与え、処理マシンとして、本明細書記載の主題の様々な実施形態の方法及びプロセスなどの特定の操作を実行させる様々なコマンドを含み得る。一連の命令はソフトウェアプログラムの形態であってもよい。ソフトウェアは、システムソフトウェア又はアプリケーションソフトウェアなどの様々な形態であり得る。更に、ソフトウェアは、別個のプログラムの集合、より大きなプログラム内のプログラムサブセット、或いはプログラムの一部の形態であってもよい。ソフトウェアはまた、オブジェクト指向プログラミングの形態のモジュラープログラミングを含み得る。処理機による入力データの処理は、ユーザのコマンドに応答する、又は、前の処理の結果に応答する、又は、別の処理機によってなされた要求に応答するものであり得る。

本明細書に記載の実施形態の図面は、一以上の制御装置又は処理装置、例えば制御装置４１０を示し得る。処理又は制御装置が、本明細書に記載の動作を実行する（例えば、コンピュータハードドライブ、ＲＯＭ、ＲＡＭなどの、有形且つ非一過性のコンピュータ可読記憶媒体に記憶されたソフトウェアなど）、関連する指令を含むハードウェアとして実装され得る回路、又はその一部を表していることを理解されたい。ハードウェアは、本明細書に記載の機能を実行するようハードワイヤードされたステートマシン回路を含み得る。オプションで、ハードウェアが、マイクロプロセッサ、プロセッサ、 コントローラなどの一以上の論理ベースのデバイスを含み、且つ／又はそれらに接続された電子回路を含んでもよい。オプションとして、制御装置４１０は、フィールドプログラマブルゲートアレイ（ＦＰＧＡ）、特定用途向け集積回路（ＡＳＩＣ）、マイクロプロセッサ（一又は複数）等のうちの一以上などの処理回路を表しうる。様々な実施形態の回路は、本明細書に記載の機能を実施するために一以上のアルゴリズムを実行するように構成され得る。一以上のアルゴリズムは、フロー図又は方法に明示的に特定されているか否かに関わらず、本明細書に開示の実施形態の諸態様を含み得る。

本書において、「ソフトウェア」および「ファームウェア」という語は入れ替え可能であり、コンピュータによる実行のために、ＲＡＭメモリ、ＲＯＭメモリ、ＥＰＲＯＭメモリ、ＥＥＰＲＯＭメモリ、および、非揮発性ＲＡＭ（ＮＶＲＡＭ）メモリを含むメモリに記憶されている、任意のコンピュータプログラムを含む。上記のメモリの種類はただの例示であり、ゆえに、コンピュータプログラムの記憶のために使用可能なメモリの種類について限定するものではない。

図１４に、本開示の一実施形態による、乾燥床アセンブリを乾燥させる方法のフロー図を示す。５００において、乾燥床アセンブリの真空層の中に液体が引き込まれる。例えば、疎水性上位層（例えば上位層２０８）は、それ自体を通って形成された開口部の中に、及び開口部を通るように液体をはじく。液体は、ウィッキング層（例えばウィッキング層２０６）に向かって、及びウィッキング層上に引き込まれる。液体はその後、ウィッキング層を通るように形成された細孔を通って真空層（例えば真空層２０２）の中に流れ込みうる及び／又は引き込まれうる。

次に、５０２において、真空層に連結された真空システムが起動される。例えば、トイレの水が流されると、真空システムが起動されうる。任意選択的に、例えば制御装置がトイレに人がいないと判断した時に、制御装置によって真空システムが起動されうる。５０４において、起動された真空システムの動作を通して、液体が乾燥床アセンブリから吸引される。

図１５に、本開示の一実施形態による、閉ざされた空間（例えば化粧室）内の乾燥床アセンブリを消毒し、乾燥させる方法のフロー図を示す。本方法は、化粧室が監視される６００において開始する。制御装置４１０（図１３に示す）は、例えば気配センサから受信した信号を解析すること等を通して、人がいるかいないかを判断するために、化粧室を監視しうる。制御装置４１０は、化粧室の乾燥床アセンブリを殺菌する及び／又は乾燥させるか否かを判断するためにも、化粧室を監視しうる。例えば、制御装置４１０は、清掃スケジュールに関するデータを記憶し、そのスケジュールに基づいて清掃サイクルを殺菌しうる、又は他の方法で清掃サイクルを開始しうる。

６０２において、制御装置４１０は化粧室に人がいるか否かを判断する。化粧室に人がいた場合、本方法は５０４に進み、５０４において制御装置４１０は、乾燥システムの床滅菌システム及び／又は真空システムのＵＶ光源を起動することをやめる。その後、本方法は６００へ戻る。

６０２において、化粧室に人がいない場合、制御装置４１０は、乾燥床アセンブリを滅菌、殺菌、又は他の方法で清掃するために、ＵＶ光源を起動しうる。６０８において、制御装置４１０は、清掃サイクルが完了したか否かを判断する。例えば、清掃サイクルは、所定の実効清掃時間が経過した後に完了しうる。所定の実効清掃時間は、制御装置４１０のメモリに記憶されうる。清掃サイクルが完了していない場合、本方法は６０６に戻る（つまり、ＵＶ光源はまだ起動されたままである）。しかしながら、清掃サイクルが６０８において完了した場合、制御装置４１０はＵＶ光源６１０の動作を停止し、本方法は６００へ戻る。

６０２において化粧室に人がいない場合、本方法はまた６０２から６１２にも進み、６１２において、乾燥床アセンブリから液体を除去するために、制御装置４１０が真空システムを起動しうる。ステップ６０６及び６１２は、同時に、あるいはほぼ同時に開始しうる。任意選択的に、ステップ６０６は６１２の前、あるいは６１２の後に行ってもよい。少なくとも１つの他の実施形態では、制御装置４１０は、真空システムに制御されない場合がある。代わりに、真空システムは、トイレの水が流される度に自動的に起動されうる。

６１４において、乾燥サイクルが完了したか否かが判断される。乾燥サイクルは、制御装置４１０のメモリに保存された所定の期間だけ継続しうる。少なくとも１つの他の実施形態では、乾燥サイクルは、内容物を除去するためにトイレの水が流される期間であってよい。つまり、乾燥サイクルは、トイレの水を完全に流し終えるのにかかる時間によって決定しうる。

乾燥サイクルが完了していない場合、本方法は６１４から６１２に戻る。しかしながら、乾燥サイクルが完了した場合、真空システムは６１６で動作を停止し、本方法は６００へ戻る。

図１６に、本開示の一実施形態による、化粧室７００の上面内部斜視図を示している。化粧室７００は、航空機などの輸送体内に固定されるように構成される。化粧室７００は、トイレ７０２、シンク７０４、及び化粧室７００に人がいない時のＵＶ清掃サイクル中に化粧室７００に紫外光を放射するように構成された一又は複数の紫外光源７０６を含む。ＵＶ清掃サイクルは、上述した乾燥サイクルと同時に、あるいは異なる時に行われうる。化粧室７００はまた、例えば上述したような乾燥床アセンブリも含みうる。

図１７に、遠紫外線スペクトル８００を示す。本開示の実施形態は、例えば化粧室の内装部分を消毒するために、遠紫外線スペクトル８００内の光を放射しうる。具体的には、本開示の実施形態は、スペクトル８００の殺菌性ＵＶＣ部分８０２内の光を放射しうる。遠紫外線スペクトル８００のＵＶ光を放射することによって、本開示の実施形態の紫外光により、非常に速く効率の良い（例えば２〜３秒しかかからない）清掃サイクルが得られることが分かっている。本開示の実施形態は、数秒以内に化粧室内の表面を滅菌するように構成された紫外線清掃システム及び方法を提供する。

図１８に、本開示の一実施形態による、化粧室９００の内装概略図を示す。化粧室９００は、清掃サイクル中（例えば化粧室に人がいない時）に、化粧室９００に光を放射するように構成された一又は複数のＵＶ光源を含みうる統合されたＵＶ衛生システム９０２を含みうる。化粧室９００は、例えば上述したような乾燥床アセンブリ９０３も含みうる。

状態表示器９０４は、化粧室９００のドア又はフレームにも位置づけされうる。状態表示器９０４は、清掃サイクル（例えばＵＶ清掃サイクル、及び／又は乾燥サイクル）に関する状態情報を提供するように構成される。化粧室９００内の様々な面を、抗菌材料、二酸化チタン等でコーティングする、あるいは他の方法で処理することができる。

図１９に、本開示の一実施形態による、清掃サイクル中の状態表示器９０４の前面図を示す。状態表示器９０４は、清掃状態ライト９０６（例えば一又は複数の発光ダイオード）及び鍵ライト９０８（例えば一又は複数の発光ダイオード）を含む。ＵＶ清掃サイクル中に、清掃状態ライト９０６は清掃スペクトル（例えば未清掃から清掃済み等）を示すために変化しうる。清掃サイクル中は、化粧室のドアに鍵をかけることができ、これは鍵ライト９０８によって示される。清掃サイクル後は、鍵ライト９０８はドアの鍵が解除されたことを示す。図１９に示すように、ＵＶ清掃プロセスはほんの数秒しかかからなくてよい。任意選択的に、清掃プロセスは、図１９に示したものよりも短いあるいは長いものであってよい。

更に、本開示は、下記の条項による実施形態を含む。

条項１．閉ざされた空間の床に形成される又は位置づけされるように構成された乾燥床アセンブリであって、
真空層（２００、２０２）を介して乾燥床アセンブリから液体を除去するように構成された真空システム（３０２）に連結されるように構成された真空層（２００、２０２）
を含む、乾燥床アセンブリ。

条項２．真空層（２００、２０２）は、真空システム（３０２）に流体接続するように構成されたポート（２３０）を含む、条項１に記載の乾燥床アセンブリ。

条項３．真空層（２００、２０２）は、液体回収溝（２４６）によって分離された複数のリッジ（２４４）を含み、真空チャネル（２４６）はリッジ（２４４）の一部を通って形成され、真空システム（３０２）と流体連通するように構成されている、条項１又は２に記載の乾燥床アセンブリ。

条項４．真空層（２００、２０２）の上に位置づけされた上位層（２０８）を更に含み、上位層（２０８）は、疎水性材料で形成され、及び／又はコーティングされ、液体がそれを通って真空層（２００、２０２）に向かってはじかれる複数の開口部（２２６）を含む、条項１から３のいずれか一項に記載の乾燥床アセンブリ。

条項５．複数の開口部（２２６）は長方形である、条項４に記載の乾燥床アセンブリ。

条項６．真空層（２００、２０２）と上位層（２０８）との間に位置づけされたウィッキング層（２０６）を更に含み、ウィッキング層（２０６）は複数の細孔（２２０）を含み、上位層（２０８）から液体を逃がすように構成され、液体は、複数の細孔（２２０）を通って真空層（２００、２０２）に引き込まれる、条項４又は５に記載の乾燥床アセンブリ。

条項７．ウィッキング層（２０６）は、金網メッシュで形成される、条項６に記載の乾燥床アセンブリ。

条項８．真空層（２００、２０２）とウィッキング層（２０６）との間に位置づけされた下位支持層２０４を更に含み、下位支持層２０４は、液体がそれを通って真空層（２００、２０２）に引き込まれる複数の貫通孔を含む、条項６又は７に記載の乾燥床アセンブリ。

条項９．内装空間内に位置するように構成され、真空層（２００、２０２）を含む乾燥床アセンブリを備えるシステムであって、乾燥床アセンブリは、
真空層（２００、２０２）と、
真空層（２００、２０２）に連結され、真空層（２００、２０２）を介して乾燥床アセンブリから液体を除去するように構成された真空システム（３０２）
を備える、システム。

条項１０．真空システム（３０２）は、内装空間内のトイレの水が流された時に起動されるように構成され、真空層（２００、２０２）は、
真空システム（３０２）に流体接続するポート（２３０）と、
液体回収溝（２４６）によって分離された複数のリッジ（２４４）と
を含み、
真空チャネル（２４６）は、リッジ（２４４）の一部を通って形成され、真空システム（３０２）と流体連通している、条項９に記載のシステム。

条項１１．乾燥床アセンブリは更に、
真空層（２００、２０２）の上に位置づけされた上位層（２０８）であって、疎水性材料で形成され、及び／又はコーティングされ、液体がそれを通って真空層（２００、２０２）に向かってはじかれる複数の開口部（２２６）を含む上位層（２０８）と、
真空層（２００、２０２）と上位層（２０８）との間に位置づけされたウィッキング層（２０６）であって、複数の細孔（２２０）を含み、上位層（２０８）から液体を逃がすように構成され、液体は、複数の細孔（２２０）を通って真空層（２００、２０２）に引き込まれるウィッキング層（２０６）と、
真空層（２００、２０２）とウィッキング層（２０６）との間に位置づけされた下位支持層２０４であって、液体がそれを通って真空層（２００、２０２）に引き込まれる複数の貫通孔を含む下位支持層２０４と
を含む、条項９又は１０に記載のシステム。

条項１２．乾燥床アセンブリを浄化するように構成された紫外（ＵＶ）光源（１１２、４０６、６１０、７０６）を更に含む、条項９から１１のいずれか一項に記載のシステム。

条項１３．
真空層（２００、２０２）を有する乾燥床アセンブリを形成することと、
内装空間内に乾燥床アセンブリを位置づけすることと、
乾燥床アセンブリの真空層（２００、２０２）を真空システム（３０２）に連結させることであって、真空層（２００、２０２）のポート（２３０）を真空システム（３０２）に流体連結させることを含む連結させることと、
真空層を介して乾燥床アセンブリから液体を除去するために、真空システム（３０２）を起動することと
を含む方法。

条項１４．真空システム（３０２）を起動することは、真空システム（３０２）に連結されたトイレの水を流すことを含む、条項１３に記載の方法。

条項１５．内装空間に人がいる時に、真空システム（３０２）の動作の起動をやめることを更に含む、条項１３又は１４に記載の方法。

条項１６．形成することが、真空層（２００、２０２）の上に上位層（２０８）を位置づけすることであって、上位層（２０８）は、疎水性材料で形成され、及び／又はコーティングされ且つ液体がそれを通って真空層（２００、２０２）に向かってはじかれる複数の開口部（２２６）を含む、位置づけすることと、
ウィッキング層（２０６）を真空層（２００、２０２）と上位層（２０８）との間に位置づけすることであって、ウィッキング層（２０６）は、複数の細孔（２２０）を含み、上位層（２０８）から液体を逃がすように構成され、液体は、複数の細孔（２２０）を通って真空層（２００、２０２）に引き込まれる、位置づけすることと、
下位支持層２０４を真空層（２００、２０２）とウィッキング層（２０６）との間に位置づけすることであって、下位支持層２０４は、液体がそれを通って真空層（２００、２０２）に引き込まれる複数の貫通孔を含む、位置づけすることと
を含む、条項１３から１５のいずれか一項に記載の方法。

条項１７．乾燥床アセンブリを浄化するために、紫外（ＵＶ）光源（１１２、４０６、６１０、７０６）を起動することを更に含む、条項１３から１６のいずれか一項に記載の方法。

条項１８．内装空間に人がいる時に、ＵＶ光源（１１２、４０６、６１０、７０６）の動作の起動をやめることを更に含む、条項１７に記載の方法。

条項１９．輸送体であって、化粧室が内部に位置する内部キャビンと、
化粧室内に位置づけされ、真空層（２００、２０２）を含む、乾燥床アセンブリと、
内部キャビンの一部内に固定された真空システム（３０２）であって、真空層（２００、２０２）に連結され、真空層（２００、２０２）を介して乾燥床アセンブリから液体を除去するように構成され、化粧室内のトイレの水が流された時に起動されるように構成された真空システム（３０２）と、
化粧室内に位置づけされ、乾燥床アセンブリを浄化するように構成された紫外（ＵＶ）光源（１１２、４０６、６１０、７０６）と
を備える輸送体。

条項２０．乾燥床アセンブリは更に、
真空層（２００、２０２）の上に位置づけされた上位層（２０８）であって、上位層（２０８）は、疎水性材料で形成され、及び／又はコーティングされ、液体がそれを通って真空層（２００、２０２）に向かってはじかれる複数の開口部（２２６）を含む上位層（２０８）と、
真空層（２００、２０２）と上位層（２０８）との間に位置づけされたウィッキング層（２０６）であって、複数の細孔（２２０）を含み、上位層（２０８）から液体を逃がすように構成され、液体は、複数の細孔（２２０）を通って真空層（２００、２０２）に引き込まれるウィッキング層（２０６）と、
真空層（２００、２０２）とウィッキング層（２０６）との間に位置づけされた下位支持層２０４であって、液体がそれを通って真空層（２００、２０２）に引き込まれる複数の貫通孔を含む下位支持層２０４と
を含む、条項１９に記載の輸送体。

上述したように、本開示の実施形態は、例えば化粧室等の内部チャンバ内の表面を効率良く効果的に清掃するシステム及び方法を提供する。本開示の実施形態は、床を乾燥させるシステム及び方法を提供する。本開示の実施形態は、使用後に化粧室の床を自動的に乾燥させるシステム及び方法を提供する。本開示の実施形態は、特に飛行中に、航空機に搭載された化粧室の床を効果的かつ効率的に乾燥させるシステム及び方法を提供する。本開示の実施形態は、航空機の内部空間等の内部空間を清掃するように構成されたシステム及び方法を提供する。

本開示の実施形態の説明のために、上部、底部、下方、中央、横方向、水平、垂直、前方などの空間及び方向に関する様々な語が用いられる場合があるが、そのような語は図面で示す方向に対するものとして用いられているにすぎないことを理解されたい。向きを、反転させる、回転させる、又はそうでなければ、上部が下部に、また下部が上部になるように、また水平が垂直になる等のように変化させることができる。

本明細書で使用する、タスク又は工程を実施する「ように構成される」構造、限定事項、又は要素は、特にタスク又は工程に対応するように、構造的に形成、構成、又は適合されている。明確さのため、及び誤解を避けるために、タスク又は工程を実施するために変更可能であるに過ぎない対象物は、本明細書で使用するタスク又は工程を実施する「ように構成」されてはいない。

上記の説明は、限定ではなく例示を意図するものであることを理解されたい。例えば、上述の実施形態（及び／またはそれらの態様）は、互いに組み合わせて使用され得る。加えて、本開示の様々な実施形態の範囲から逸脱することなく、特定の状況又は材料に適応させるために、本開示の様々な実施形態の教示に多数の改変を加えることが可能である。本明細書に記載の材料の形状寸法及びタイプは、本開示の様々な実施形態のパラメータを規定することを意図しているが、これらの実施形態は限定的なものではなく例示的な実施形態である。上記の記載を精査することにより、当業者には他の多くの実施形態が明らかであろう。本開示の様々な実施形態の範囲は、添付の特許請求の範囲、並びに、かかる特許請求の範囲が認められる均等物の全範囲を参照して決定されるべきである。添付の特許請求の範囲において、「含む（ｉｎｃｌｕｄｉｎｇ）」及び「そこにおいて（ｉｎ ｗｈｉｃｈ）」という語は、それぞれ、「備える（ｃｏｍｐｒｉｓｉｎｇ）」及び「そこで（ｗｈｅｒｅｉｎ）」という語の明白な同義語として使用される。また、「第１」「第２」及び「第３」等の語は単に符号として使用され、それらの対象物に数的要件を課すことを意図するものではない。更に、以下の特許請求の範囲の限定は、ミーンズ・プラス・ファンクション書式で記述されておらず、かかる特許請求の範囲の限定が、更なる構造のない機能の記述が後続する「のための手段（ｍｅａｎｓ ｆｏｒ）」という言い回しを明示的に使用しない限り、米国特許法第１１２条（ｆ）に基づいて解釈されるべきではない。

ここに記載した説明では、ベストモードを含む本開示の様々な実施形態を開示し、且つ当業者が任意のデバイス又はシステムの作成及び使用、並びに組込まれた任意の方法の実行を含め、本開示の様々な実施形態を実施することを可能にするために実施例を使用している。本開示の様々な実施形態の特許性の範囲は、特許請求の範囲によって規定され、当業者が想起する他の実施例を含みうる。かかる他の実施例は、実施例が特許請求の範囲の文言と相違しない構造要素を有する場合、又は、実施例が、特許請求の範囲の文言とごくわずかな相違しかない同等の構造要素を含む場合、特許請求の範囲内であることが意図される。

Claims (18)

1. 閉ざされた空間の床に形成される又は位置づけされるように構成された乾燥床アセンブリであって、
   真空層（２００、２０２）を介して前記乾燥床アセンブリから液体を除去するように構成された真空システム（３０２）に連結されるように構成された前記真空層（２００、２０２）
   を含む、乾燥床アセンブリ。
2. 前記真空層（２００、２０２）は、前記真空システム（３０２）に流体接続するように構成されたポート（２３０）を含む、請求項１に記載の乾燥床アセンブリ。
3. 前記真空層（２００、２０２）は、液体回収溝（２４６）によって分離された複数のリッジ（２４４）を含み、真空チャネル（２４６）は、前記リッジ（２４４）の一部を通って形成され、前記真空システム（３０２）と流体連通するように構成されている、請求項１又は２に記載の乾燥床アセンブリ。
4. 前記真空層（２００、２０２）の上に位置づけされた上位層（２０８）を更に含み、前記上位層（２０８）は、疎水性材料で形成され、及び／又はコーティングされ、液体がそれを通って前記真空層（２００、２０２）に向かってはじかれる複数の開口部（２２６）を含む、請求項１から３のいずれか一項に記載の乾燥床アセンブリ。
5. 前記複数の開口部（２２６）は長方形である、請求項４に記載の乾燥床アセンブリ。
6. 前記真空層（２００、２０２）と前記上位層（２０８）との間に位置づけされたウィッキング層（２０６）を更に含み、前記ウィッキング層（２０６）は複数の細孔（２２０）を含み、前記上位層（２０８）から液体を逃がすように構成され、前記液体は、前記複数の細孔（２２０）を通って前記真空層（２００、２０２）に引き込まれる、請求項４又は５に記載の乾燥床アセンブリ。
7. 前記ウィッキング層（２０６）は、金網メッシュで形成される、請求項６に記載の乾燥床アセンブリ。
8. 前記真空層（２００、２０２）と前記ウィッキング層（２０６）との間に位置づけされた下位支持層２０４を更に含み、前記下位支持層２０４は前記液体がそれを通って前記真空層（２００、２０２）に引き込まれる複数の貫通孔を含む、請求項６又は７に記載の乾燥床アセンブリ。
9. システムであって、
   内装空間内に位置するように構成され、真空層（２００、２０２）を含む乾燥床アセンブリと、
   前記真空層（２００、２０２）に連結され、前記真空層（２００、２０２）を介して前記乾燥床アセンブリから液体を除去するように構成された真空システム（３０２）と
   を備えるシステム。
10. 前記真空システム（３０２）は、前記内装空間内のトイレの水が流された時に起動されるように構成され、前記真空層（２００、２０２）は、
    前記真空システム（３０２）に流体接続するポート（２３０）と、
    液体回収溝（２４６）によって分離された複数のリッジ（２４４）と
    を含み、
    真空チャネル（２４６）は、前記リッジ（２４４）の一部を通って形成され、前記真空システム（３０２）と流体連通している、請求項９に記載のシステム。
11. 前記乾燥床アセンブリは更に、
    前記真空層（２００、２０２）の上に位置づけされた上位層（２０８）であって、疎水性材料で形成され、及び／又はコーティングされ、液体がそれを通って前記真空層（２００、２０２）に向かってはじかれる複数の開口部（２２６）を含む上位層（２０８）と、
    前記真空層（２００、２０２）と前記上位層（２０８）との間に位置づけされたウィッキング層（２０６）であって、複数の細孔（２２０）を含み、前記上位層（２０８）から液体を逃がすように構成され、前記液体は、前記複数の細孔（２２０）を通って前記真空層（２００、２０２）に引き込まれるウィッキング層（２０６）と、
    前記真空層（２００、２０２）と前記ウィッキング層（２０６）との間に位置づけされた下位支持層（２０４）であって、前記液体がそれを通って前記真空層（２００、２０２）に引き込まれる複数の貫通孔を含む下位支持層（２０４）と
    を含む、請求項９又は１０に記載のシステム。
12. 前記乾燥床アセンブリを浄化するように構成された紫外（ＵＶ）光源（１１２、４０６、６１０、７０６）を更に含む、請求項９から１１のいずれか一項に記載のシステム。
13. 真空層（２００、２０２）を有する乾燥床アセンブリを形成することと、
    内装空間内に前記乾燥床アセンブリを位置づけすることと、
    前記乾燥床アセンブリの前記真空層（２００、２０２）を真空システム（３０２）に連結させることであって、前記真空層（２００、２０２）のポート（２３０）を前記真空システム（３０２）に流体連結させることを含む連結させることと、
    前記真空層を介して前記乾燥床アセンブリから液体を除去するために、前記真空システム（３０２）を起動することと
    を含む方法。
14. 前記真空システム（３０２）を起動することは、前記真空システム（３０２）に連結されたトイレの水を流すことを含む、請求項１３に記載の方法。
15. 前記内装空間に人がいる時に、前記真空システム（３０２）の動作の起動をやめることを更に含む、請求項１３又は１４に記載の方法。
16. 前記形成することが、前記真空層（２００、２０２）の上に上位層（２０８）を位置づけすることであって、前記上位層（２０８）は、疎水性材料で形成され、及び／又はコーティングされ、液体がそれを通って前記真空層（２００、２０２）に向かってはじかれる複数の開口部（２２６）を含む、位置づけすることと、
    ウィッキング層（２０６）を前記真空層（２００、２０２）と前記上位層（２０８）との間に位置づけすることであって、前記ウィッキング層（２０６）は、複数の細孔（２２０）を含み、前記上位層（２０８）から液体を逃がすように構成され、前記液体は、前記複数の細孔（２２０）を通って前記真空層（２００、２０２）に引き込まれる、位置づけすることと、
    下位支持層２０４を前記真空層（２００、２０２）と前記ウィッキング層（２０６）との間に位置づけすることであって、前記下位支持層２０４は、前記液体がそれを通って前記真空層（２００、２０２）に引き込まれる複数の貫通孔を含む、位置づけすることと
    を含む、請求項１３から１５のいずれか一項に記載の方法。
17. 前記乾燥床アセンブリを浄化するために、紫外（ＵＶ）光源（１１２、４０６、６１０、７０６）を起動することを更に含む、請求項１３から１６のいずれか一項に記載の方法。
18. 前記内装空間に人がいる時に、前記ＵＶ光源（１１２、４０６、６１０、７０６）の動作の起動をやめることを更に含む、請求項１７に記載の方法。

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