JP2017207485A - 計時器用ムーブメント用の耐衝撃デバイス - Google Patents

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Abstract

【課題】衝撃を受けたときにピボットが損傷しない耐衝撃デバイスを備えた計時器用ムーブメントを提供する。【解決手段】計時器用ムーブメントは、回転要素24と、ベアリング28と、少なくとも1つの受け石36に復原力を与えるように構成した弾性メンバー32を備える耐衝撃デバイス30とを有する。耐衝撃デバイス30は、さらに反対の極性を有する2つの磁石と、2つの磁石の間に2つの磁石の一方に固定されるように配置された高透磁性要素46を有する磁性システム40を有する。2つの磁石はそれぞれ、耐衝撃デバイス30の支持体及び弾性メンバー32に固定され、2つの磁石の間に、高透磁性要素46と共同で、衝撃を受けたときに受け石36の変位の距離の第1の区画において全体的な磁気的引力を、そして、第1の区画の離間距離よりも大きい距離に対応するこの変位の距離の第2の区画において全体的な磁気的斥力を発生させるように構成している。【選択図】図2

Description

本発明は、計時器用の耐衝撃デバイスに関する。このような耐衝撃デバイスは、一般的に、計時器用ムーブメントの回転要素、特に、バランス、を回転可能にガイドするベアリングに関連づけられている。また、耐衝撃デバイスは、衝撃吸収デバイス、ショックダンパー又はショックアブソーバーとも呼ばれている。本発明は、特に、回転要素が受ける軸方向の衝撃の緩和、及びこのような軸方向の衝撃を受けたときにピボットに支えられるようにされている機械的な応力に関する。
通常の計時器の耐衝撃デバイスは、耐衝撃デバイスを有するベアリングの少なくとも1つの受け石に支えられ又はこのような受け石に圧力を与えるような弾性メンバーを有する。この受け石は、ピボットのための止めを形成する。このピボットは、回転要素の回転軸の方向にベアリング内へと挿入されるこの耐衝撃デバイスは、衝撃を受けたときにピボットが受け石を押すと、そのピボットに対して復原力をその受け石を通して発生させることができるように構成している。なお、「受け石」とは、ピボットの軸方向の支持面を定める任意の適切な材料で作られた任意の構造を意味することを理解できるであろう。
このような耐衝撃デバイスは、一般的に、機械的なばねを有する。このようなばねの寸法構成は、動作時の機械的安定性と機械的変形に対する弾性的な抵抗との間で最も良好に折衷されるような実際的なルールにしたがって、経験的に定められる。実際に、回転要素に対してそのピボットを損傷させてしまうかもしれない大きな軸方向の(正又は負の)加速を発生させる急激な衝撃に対してショックアブソーバー機能を確保しつつ、小さな衝撃ごとに回転要素の軸方向の運動を発生させないような比較的堅いショックアブソーバーを有することが望ましい。
特に、ばね仕掛けバランスのための伝統的な耐衝撃デバイスである「パラシュート」やリラばね(lyre-spring)は、しきい値を定めるこれらの「パラシュート」やリラばねを形成するばねの予応力のおかげで、衝撃の加速度が比較的大きいときにのみ(gを地球の重力加速度として、200g〜500gの範囲)アクチュエートされるような寸法構成を有する。このしきい値を超えると、ばねが変形して衝撃エネルギーの一部を吸収するようにされている。しかし、使用する金属性の細長材の機械的な衝撃吸収が小さいために、ほとんどのエネルギーがバランスに戻されてしまう。このように、衝撃が比較的小さくても、バランスピボットが局部変形してしまう可能性が高くなる。このような変形は、腕時計のクロノメーターの精度に相当な影響を与えるにもかかわらず、一般的には無視されている。なぜなら、1mの衝撃を受けたときの腕時計のクロノメーター的な安定性のための認証されたクロノメーター規格は厳格ではないからである(60秒/日のずれ)。
本発明は、衝撃を受けたとき、特に、強い衝撃を受けたときにも、ピボットが損傷してしまう問題に対して解決策を与えるような、少なくとも1つの有効な耐衝撃デバイスを備えた計時器用ムーブメントを提供することを目的とする。
このために、本発明は、請求項1に記載の計時器用ムーブメントに関する。
以下において詳細に説明する本発明の特徴のおかげで、耐衝撃デバイスは、小さな衝撃に対して安定性が良好であることを確実にしつつ、比較的強い衝撃に対して小さな抵抗しか発生させない。実際に、このような本発明に係る耐衝撃デバイスのスチフネスは、受け石の軸方向の変位に実質的に比例する復原力を発生させる機械的なばねのようにふるまわないことを意味する。これとは対照的に、本発明に係る耐衝撃デバイスのスチフネスは、変位がゼロであるときには比較的大きな力を与える。この力は、受け石が運動することができる緩衝トラベルの少なくとも初期の部分にて減衰する。
主な実施形態において、前記第1及び第2の磁石及び前記高透磁性要素は、前記回転要素の回転軸と実質的に平行な方向に整列しており、前記第1及び第2の磁石は、この方向にて反対の極性を有する。
好ましい変種において、前記高透磁性要素は、第1の磁石に固定される。
以下、例として与える添付図面を参照しながら本発明について説明する。なお、これに限定されない。
本発明の第1の実施形態に係る耐衝撃デバイスを下方から見た斜視図である。 図1の耐衝撃デバイスを組み入れている計時器用ムーブメントにおけるこの耐衝撃デバイスを通る部分的な断面図である。 本発明の耐衝撃デバイスに組み入れられる磁性システムと同様な磁性システムについての側方から見た部分的な断面図である。 図3の磁性システムにおける強磁性ディスクからの距離に応じて可動磁石に与えられる磁力の全体的なグラフを示している。 図1の耐衝撃デバイスの板ばねによって回転要素のピボットに与えられる弾性力のグラフと、受け石に対向するように支持されるこのピボットの回転軸方向の変位に応じて耐衝撃デバイスが与える合計の力のグラフを示している。 本発明の第2の実施形態に係る耐衝撃デバイスの平面図である。 図6の耐衝撃デバイスを組み入れている計時器用ムーブメントにおける耐衝撃デバイスを通る部分的な断面図である。 図6及び7の耐衝撃デバイスのリラばねが回転要素のピボットに与える弾性力のグラフと、受け石に対向するように支えられているこのピボットの回転軸方向の変位に応じて耐衝撃デバイスが与える合計の力のグラフを示している。
以下、図1〜5を参照しながら、計時器用ムーブメント22の第1の実施形態について説明する。この計時器用ムーブメント22には、回転要素24と、この回転要素24のピボット26が内部に配置されたベアリング28と、及びこのベアリング28に関連づけられた耐衝撃デバイス30とが組み入れられている。
一般的には、耐衝撃デバイス30は、受け石36に力を与える弾性メンバー32を有し、この受け石36は、回転要素の回転軸の方向のピボット26用の止めを形成している。この耐衝撃デバイスは、衝撃を受けたときにピボット26が受け石を押すと、受け石を通してピボット26に対する復原力を発生させることができるように構成している。本発明によると、耐衝撃デバイスは、さらに、2つの磁石42、44と、及びこれらの2つの磁石の間に配置されそれらの一方に固定された高透磁性要素46とを有する磁性システム40を有する。これらの2つの磁石42、44はそれぞれ、耐衝撃デバイスの支持体48と、弾性メンバー32に固定されている。これによって、特に、特定の衝撃を受けたときにピボットが受け石に与える特定の圧力の下で弾性メンバーが瞬間的に弾性変形すると、特定の相対距離Dにわたる前記磁石の間の相対的運動が導入される(図3参照)。特に、弾性メンバーと一体化されている磁石44は、回転要素24が比較的強い軸方向の衝撃を受けると、双方向の矢によって図2に示した往復運動を行うように構成している。衝撃がなければ、弾性メンバーは、それが担持される磁石と同様に、所定の安定位置にある。なお、この安定位置において、弾性メンバーは、初期に弾性変形されていることに留意すべきである。この場合には、弾性メンバーに予応力が与えられているという。
図3及び4を参照しながら下に示すように、注目すべき非常に有利な形態で、2つの磁石42及び44は、これらの間に、高透磁性要素46と共同で、前記相対距離の第1の区画において全体的な磁気的引力を、そして、この相対距離の第2の区画において全体的な磁気的斥力を、発生させるように構成している。この第2の区画は、第1の区画に対応する離間距離よりも大きいような第1及び第2の磁石42及び44の間の離間距離(図3においてEと記載)に対応している。また、磁性システム40と弾性メンバー32は、衝撃を受けたときに耐衝撃デバイスがピボット26に与える合計の力が、相対距離の全体に対して復原力を維持するように構成している。
第1の実施形態のいくつかの特定の変種には、以下の特徴があり、これはすべて図2に示している。
− 高透磁性要素46は、支持体48と一体化されている磁石42に固定されている。
− 高透磁性要素46は、磁石42の磁化軸と実質的に一致している中心軸を有するプレートによって構成している。
− 弾性メンバーが安定位置にあるときに、2つの磁石42、44及び高透磁性磁石46は、回転要素24の回転軸50と実質的に平行な方向に整列している。
− 磁石42及び44は、整列の方向に沿った方向にて反対の極性を有する。
具体的には、図1及び2に示す変種によると、2つの磁石は円筒状であり、前記プレートは、例えば、強磁性体で作られたディスクの形態である。
以下、図3及び4を参照しながら、磁性システム40及びその動作について説明する。このために、図3には、磁性システム40と類似している磁性システム52を示している。磁性システム52は、第1の磁石4と、この第1の磁石と一体化されている高透磁性要素6と、及び第1の磁石4と要素6によって形成されるアセンブリーに対して変位の軸に沿って運動可能な第2の磁石8とを有する。上に示すように、要素6は、第1の磁石と第2の磁石の間に、第1の磁石と接するように又は第1の磁石の近くに、配置されている。具体的には、図3に示すように、要素6は、第1の磁石に接合されている。別の変種において、第1の磁石を高透磁性要素に押し込むことができ、この場合、この高透磁性要素は、例えば、第1の磁石を受けるように一端において開いている円筒状のケースの形態である。好ましい変種において、要素6と、この要素6と一体化された磁石4との間の距離は、磁化軸に沿った方向における磁石4の長さの10分の1よりも小さいか又は実質的に等しい。第1の磁石4及び要素6は、磁性システムの第1の部分を形成しており、第2の磁石8は、このシステムの第2の部分を形成している。要素6は、例えば、カーボン鋼、炭化タングステン、ニッケル、FeSi又はFeNi、又はVacozet(登録商標)(CoFeNi)やVacoflux(登録商標)(CoFe)のようなコバルトを含有する他の合金によって構成している。好ましい変種において、この高透磁性要素は、鉄又はコバルトベースの金属性ガラスによって構成している。要素6は、飽和磁場BS及び透磁率μによって特徴づけられる。磁石4及び8は、例えば、フェライト、FeCo又はPtCo、あるいはNdFeBやSmCoのような希土類によって作られている。これらの磁石は、それらの残留磁場Br1及びBr2によって特徴づけられる。
高透磁性要素6には、中心軸10がある。これは、第1の磁石4の磁化軸と、さらに、第2の磁石8の磁化軸と実質的に一致している。磁石4の磁化方向と磁石8の磁化方向は、反対方向である。このようにして、これらの第1及び第2の磁石は、反対の極性を有しており、これらの間に特定の相対距離Dにわたる相対運動を行うことができる。図3に示した例において、磁石4は固定されており、磁石8は運動可能であり、これによって、これらの間の相対運動の方向が実質的に中心軸10に沿っており、この中心軸10が変位の軸を定める。なお、軸10は線形であるが、この変種には限定されない。本発明の第1の実施形態の範囲内において、変位の軸は、実質的に円弧状であり、要素46の中心軸は、実質的にこの曲がった変位の軸の接線方向である。このような場合、第一次近似において、磁性システム40のふるまいは、磁性システム52のふるまいと同様である。このことは、本発明の第1の実施形態における場合のように曲率半径が要素46と磁石44の間の可能性のある最大距離と比べて大きい場合に一層いえる。図3に示す好ましい変種において、要素6は、中心軸10に対する直交平面において、この直交平面への射影において、第1の磁石4の寸法よりも大きく、第2の磁石8の寸法よりも大きい寸法を有する。なお、第2の磁石が磁気的引力のトラベルの端において要素6と当接するように動く場合、この第2の磁石は、好ましくは、その表面において、硬化された表面又は硬質材の細かい層を有する。
2つの磁石4及び8は、磁気的反発するように構成しており、高透磁性要素6がない場合に、反発力がこれらの2つの磁石を互いに遠ざけるように動かす傾向がある。しかし、驚くべきことに、これらの2つの磁石の間に要素6がある構成によって、これらの磁石の間の距離が短い場合、全体的な磁気的引力の力がこれらの2つの部分の間で発生するように、磁性システムの第1及び第2の部分の間の磁力の方向が逆転する。図4のグラフにおいては、曲線54が、2つの磁石の間の離間距離E、そして、可動磁石8と高透磁性要素6の間の相対距離Dに対する、磁性システム52の第1及び第2の部分の間の磁気的相互作用の力を示している。この相対距離Dの第1の区画D1において、要素6と磁石8が離れるように動くときに要素6に対して磁石8を保持したり要素6の方に磁石8を戻したりする傾向がある磁気的引力が磁石8の全体に与えられる。次に、要素6及び2つの磁石は、第2の磁石8の全体が前記相対距離の第2の区画D2上において磁気的反発力を受けるように構成している。この第2の区画は、第1及び第2の部分の間の離間距離に、そして、したがって、要素6と磁石8の間の距離Dに対応しており、この距離Dは相対距離の第1の区画に対応する離間距離よりも大きい。第2の区画は、最大距離Dmaxによって制限されている。これは、一般的には、可動磁石の離間距離を制限する止めによって定められる。
全体的な磁力は、これらの部分どうしの間の距離の連続関数であり、これは、距離Dinvにおいてゼロ値を有する。したがって、磁石8と要素6の間の距離が距離Dinvよりも大きい場合、この磁石は、要素6を離す傾向がある全体的な磁気的斥力を受ける。しかし、要素6と可動磁石8の間の距離が距離Dinv未満である場合、磁石8は、全体的な磁気的引力を受ける。これは、磁石8を要素6の近くに動かす傾向があり、抵抗がない場合、磁石8が要素6に接するようにし、そして、磁石8をこの位置に保持する。これは、磁性システム52の特徴的な機能である。これは、本発明に係る耐衝撃デバイスにおいて良好に用いることができる。反転距離Dinvは、磁性システムを形成する3つの磁性部分の幾何学的構成及びそれらの磁気特性によって決まる。
以下、本発明の第1の実施形態に係る耐衝撃デバイス30及び磁性システム40の組み入れによって発生するふるまいを詳細に説明する。弾性メンバー32は、第1の端56と第2の端58を有する板ばねによって形成され、この第1の端は、ねじ60によって支持体48に固定されており、第2の端は、第2の磁石44を担持する。好ましい変種によれば、受け石36は、板ばねの一般平面への射影において、前記第1及び第2の端の間に位置する。ベアリング28は、支持体48に形成された開口内にて固定配置された基礎62を有する。伝統的な形態で、この基礎の中心に穴があり、この穴の中をピボット26が通る。ここではバランススタッフ(図示せず)である回転要素24には、支持面70がある。これは、伝統的な形態で、軸50に沿った要素の変位を制限する。この支持面は、穴の周部において基礎によって定められる表面に当接して動く。ベアリング28は、さらに、セッティング64を有し、このセッティング64の中に受け石36が挿入される。図示した変種において、これは磁気ベアリングである。したがって、セッティングは、さらに、磁石66及び閉じジュエル68を担持する。また、このセッティングは、耐衝撃デバイスの一部である。このセッティングは、基礎62と、及び支持体48に固定された閉じプレート72とによって形成されているハウジング内に配置されている。これによって、支持面70が基礎に当接するように動くときに、少なくとも衝撃を受けたときにピボット26が動く最大の変位に対応する距離の軸方向の運動を行う。短管74は、セット又は閉じジュエルに対して安定的に配置されるように、板ばね32に、その端58の側で固定される。耐衝撃デバイスは、このパイプを介して、受け石と一体化されているアセンブリーに作用する。なお、本発明は、磁気ベアリングに限定されない。したがって、別の変種において、ジュエル穴及び受け石が組み入れられているセッティングを備えた伝統的なベアリングであって、セッティングがピボットに対向している平坦な面を有することができるものがある。
磁性システム及び弾性要素は、耐衝撃デバイスの安定位置において、受け石、又は受け石が固定されるセッティングが、ベアリング支持体又はベアリングの基礎に対向するように安定的に保持されており、受け石に対して当該ピボットが与える力が限界値よりも小さいように構成しており、この力は、好ましくは、回転要素、特に、ばね仕掛けバランス、に作用する重力よりも大きい。特定の変種において、弾性要素は、受け石が、衝撃を受けたときに軸方向に加速する可動要素が与える力の値よりも大きな範囲にわたって不動のままであるように、耐衝撃デバイスの安定位置において予応力を与えられる。
したがって、図5は、受け石、したがって、この受け石に対向するように安定的に配置されるピボット26、の回転軸50に沿った変位DPに応じて、板ばね32が与える弾性力のグラフ76、及び耐衝撃デバイス30が与える合計の力のグラフ78を示している。なお、上記の磁性システム40の変位DPと距離Dの間には、線形的な関係(第一次近似において)がある。既知の手法で、弾性力は、変位DPに比例して変化する。そのグラフは、点線で示したアフィン線76である。曲線78に、変位DPに応じて、耐衝撃デバイスによって、受け石を担持するアセンブリーに、したがって、この受け石に対して安定的に配置されるピボット26に、与えられる合計の力のグラフを示した。この曲線78は、磁性システム40が発生させる弾性力と全体的な磁力との和に対応する。耐衝撃デバイスの安定位置に対応する距離DPRと、磁石44に与えられる全体的な磁力がゼロであるような受け石の位置に対応する距離DPinvとの間の第1の区画DP1においては、前記合計の力(復原力)が弾性力よりも大きい。次に、距離DPinvと、ベアリングの基礎に形成された穴の周部表面に対してバランススタッフ24が止められる距離DPmax、の間においては、前記合計の力が弾性力よりも小さい。なぜなら、このとき全体的な磁力が弾性力に抵抗するからである。この弾性力は、回転要素のピボットに与えられる合計の力を減少させる。
曲線78に示すように、本発明に係る耐衝撃デバイスは、注目すべきようにふるまう。受け石に対向するように安定的に配置されるピボットに与えられる力は、少なくとも、DPinvよりも小さい受け石の変位距離の範囲内において、耐衝撃デバイスの安定状態における距離DPRにおいて最大である。ピボットによって受け石に与えられる力が耐衝撃デバイスの安定位置に対応する最大値を超えて上昇するとすぐに、受け石は、その安定位置から離れ、そして、ピボット26に与えられる合計の力が比較的急速に減少する。このことによって、受け石の比較的大きな運動と、止め位置への良好な緩衝とが確実になる。図5に示す例において、板ばねは、標準スチフネスに近いスチフネスを有するが、その予応力は、約30%から40%の率で標準予応力と比較して減少し、かつ、その安定位置にある耐衝撃デバイスに対して標準的な安定性を与える。
バランスの軸方向の変位及び耐衝撃デバイスの対応する変位に応じた、ピボットに対する合計の力の従属性によって、以下の動作が可能になる(約40mgの重量を有するバランスと、及び磁性システムの2つの磁石の間の強磁性体によって作られた要素とを備えた変種に対して)。
(1)400gよりも小さい加速衝撃では、耐衝撃デバイスは、合計される磁気的引力及びばねの予応力のおかげで不動のままである。
(2)400gを超える衝撃、具体的には、1000gの衝撃では、ばねによって担持される可動磁石は、強磁性要素から分離し、磁力が急速に減少し、そして、逆となる。この場合、前記ばねが与える弾性力が抵抗するようになる。耐衝撃デバイスの軸方向の運動活性化しきい値の力を超過すると、発生する合計の力は、少なくともピボットのためのほとんどの可能性のある変位にわたって、減少する。なぜなら、耐衝撃デバイスの変形がすぐに非常に大きくなり、バランスが非常に迅速に機械的な止めに達することが可能になるからである。このことによって、バランスの運動エネルギーを吸収し、かつ、緩衝トラベル全体にわたってピボットに与えられる力を制限することが可能になる。
衝撃が終わると、耐衝撃デバイスはその初期位置に戻ることができる。なぜなら、合計の力が、正(復原力)のまま維持され、摩擦力を超えるからである。磁力反転は、可動磁石が強磁性要素の十分に近くに動くと発生し、この磁力反転によって、衝撃を受けた後に機械的ヒステリシス及びベアリングの再度のセンタリングが完全にないことが確実になる。
本発明に係る耐衝撃デバイスの特徴には、以下の利点がある。
− 耐衝撃デバイスは、(伝統的な耐衝撃デバイスと異なり)真のショックアブソーバーのように動作する。
− 予応力を最適化することによって耐衝撃デバイス(これによって、ベアリング安定性が望まれる場合に小さな衝撃に対する動作も)、そして、大きな衝撃を受けたときの減衰応答の大きさを定めることができる。
− 大きな衝撃を受けた後に、耐衝撃デバイスのその所与の安定位置への再度の位置合わせと、セッティングの再度のセンタリング(バランスの回転軸を定める)が、磁気的引力によって確実になる。
− 大きな衝撃を受けたときにバランスピボットに与えられる力が減少する。なぜなら、最大の力が、好ましくは、安定位置にて発生する耐衝撃デバイスの合計の力であるからである。
以下、図6〜8を参照しながら、本発明に係る耐衝撃デバイスの第2の実施形態が組み入れられている計時器用ムーブメント82について説明する。ベアリングと、及びこれに関連づけられた耐衝撃デバイス86とは、プレート84に形成された開口内に配置されている。弾性メンバー88は、受け石36Aに圧力を与えるように構成している2つのブランチ89及び90を有するリラばねである。変種の1つ(図示せず)において、2つのブランチは、前記受け石が固定されているセッティングを押す。耐衝撃デバイスは、第1の磁性システム40A及び第2の磁性システム40Bを有し、これらはそれぞれ、第1の実施形態に関連して説明した磁性システム40と同様である。したがって、これらの2つの磁性システムの注目すべき動作をここで再び説明しない。
2つの磁性システムはそれぞれ、2つの構造92及び94に関連づけられている。これらの構造92及び94はそれぞれ、実質的にそれらの正中領域において2つのブランチ89及び90に固定されている。これらの2つの構造はそれぞれ、2つの磁石44A及び44Bを担持しており、これらの磁石44A及び44Bはそれぞれ、対応する磁性システムの可動磁石を形成している。したがって、2つのブランチ89及び90はそれぞれ、第1及び第2の磁性システムと関連づけられており、それぞれが、構造92及び94を介して、固定磁石42A又は42Bと連係している可動磁石44A又は44Bを担持している。磁性システムはそれぞれ、さらに、高透磁性要素46A又は46Bを有する。これは、対応する磁性システムの固定磁石と一体化されている。
なお、リラばねの各ブランチ89及び90は、その2つの端において、伝統的な手法で、ベアリングの基礎62Aの上側リングの角度的に突出している部分によって、軸方向に保持されている。したがって、応力が与えられたときにリラばねが最大の弾性変形を行うのは、前記ブランチの正中領域である。また、各ブランチが、実質的にその中央部にて受け石を押すことには注目すべきである。好ましくは、2つの構造92及び94は、リラばねと一体化されており、特に、図に示すように、厚みが大きいことによって、対応するブランチのスチフネスよりも大きなスチフネスを有する。しかし、これに限定されない。しかし、別の変種において、前記構造は、製造を促進するためにリラばねブランチと同じ厚みを有するが、より大きな断面を有する。しかし、別の変種において、可動磁石の担持構造のスチフネスは、ブランチのスチフネスよりも大きくない。なぜなら、大きな衝撃を受けたときに、可動磁石が受け石よりも長いトラベルの運動を行うからである。
このような2つの弾性リラばねブランチによって対称的な形態で関連づけられた2つの磁性システムの構成は、有利である。なぜなら、この構成によって、2つのブランチの同じ弾性変形に対して、各ブランチからの、受け石に対する圧力、又はより一般的には、可動ベアリングアセンブリー96に対する圧力、が同じになるからである。このようにして、耐衝撃デバイス、特に、受け石36Aの均質なふるまいが、軸方向の衝撃を受けたときに、バランスの回転軸に垂直な一般平面内に維持される。
図8は、受け石の軸方向の変位の関数として、リラばねによって受け石に、したがって、受け石に対向するように安定的に配置されるピボット26に、与えられる弾性力の曲線76Aと、及び前記軸方向の変位の関数として、耐衝撃デバイス86によってピボットに与えられる合計の力の曲線100とを示している。なお、図示した変種においては、特に、安定位置において耐衝撃デバイスの機械的な予応力がないようにされている。静的な動作範囲(ここで、ゼロである変位DPに対応する安定位置)における耐衝撃デバイスの不動を、この耐衝撃デバイスの特定の最大の静的な力に対して確実にするのは、磁気的引力のみである。したがって、安定位置における磁力の大半によって、耐衝撃デバイスがその動的な動作範囲に入るとすぐに、そして、耐衝撃デバイスがコックされるとすぐに、合計の力を静的な状況の最大の力よりも下に落とすことが可能になる。このことによって、受け石に対して安定的に配置されるピボットに与えられる最大の力が、コックされていない状態の耐衝撃デバイスの最大の力であることを確実にすることが可能になる。したがって、大きな軸方向の衝撃に起因してピボットが急な運動をすると、受ける抵抗がより小さくなって、バランスは、ベアリングの基礎によって形成された止めに遭遇するまで、シフトする。なお、この止めは、バランススタッフ24の環状の支持面に作用することによって、急激な衝撃を受けたときにバランスピボットを保護することができる。
最後に、リラばねのスチフネス及び2つの磁性システムの寸法構成は、結果として耐衝撃デバイスが与える合計の力が、摩擦力よりも大きい復原力であるように維持され、これによって、可動ベアリングアセンブリー96に対する静的な状況において発生する最大の力よりも大きな力を発生させる衝撃を受けた後に、耐衝撃デバイスがその初期位置に戻ること及びこの可動組立体の適切な再センタリングが確実になる(計時器用ムーブメントの良好なクロノメトリーを確実にするためには重要な性質である)。
なお、第2の実施形態において、好ましいことに、ばね仕掛けバランスの2つのベアリングは、上記のタイプのショックアブソーバーデバイスを装備している。
22、82 計時器用ムーブメント
24 回転要素
26 ピボット
28 ベアリング
30、86 耐衝撃デバイス
32、88 弾性メンバー
36、36A 受け石
40、40A、40B 磁性システム
42、44 磁石
46 高透磁性要素
48 支持体
50 回転軸
88 リラばね
89、90 ブランチ

Claims (11)

  1. 回転要素(24)と、前記回転要素のピボット(26)が内部に配置されるベアリング(28)と、及び前記ベアリングに関連づけられた耐衝撃デバイス(30、86)とを有する計時器用ムーブメント(22、82)であって、
    前記耐衝撃デバイスは、前記回転要素の回転軸(50)の方向にて、前記ピボットに対する止めを形成する少なくとも1つの受け石(36、36A)に圧力を与えることができるように構成している弾性メンバー(32、88)を有し、
    この耐衝撃デバイスは、衝撃を受けたときにピボットが受け石を押すと、その受け石によって、復原力を前記ピボットに発生させることができるように構成しており、
    前記耐衝撃デバイスは、さらに、2つの磁石(42、44)と、及びこれらの2つの磁石の間にこれらの磁石の一方と一体化されているように配置されている高透磁性要素(46)とを有する磁性システム(40、40A、40B)を有し、
    前記第1及び第2の磁石はそれぞれ、前記耐衝撃デバイスの支持体(48)及び前記弾性メンバーに固定されており、
    これによって、衝撃を受けたときに前記弾性メンバーが前記ピボットによって前記受け石に与えられる圧力の下で弾性変形を行うと、前記第1及び第2の磁石の間で、特定の相対距離にわたる相対的運動が行われ、
    前記第1及び第2の磁石は、これらの間に、前記高透磁性要素と共同で、前記相対距離の第1の区画において全体的な磁気的引力と、及びこの相対距離の第2の区画において全体的な磁気的斥力とを発生させるように構成しており、
    この第2の区画は、前記第1の区画に対応する離間距離よりも大きい前記第1及び第2の磁石の間の離間距離に対応しており、
    前記磁性システム及び前記弾性メンバーは、衝撃を受けたときに前記耐衝撃デバイスによって前記ピボットに与えられる合計の力が、前記相対距離の全体において復原力を維持する
    ことを特徴とする計時器用ムーブメント。
  2. 前記第1及び第2の磁石及び前記高透磁性要素は、前記回転要素の回転軸(50)と実質的に平行な方向にて整列しており、
    前記第1及び第2の磁石は、この方向にて反対の極性を有する
    ことを特徴とする請求項1に記載の計時器用ムーブメント。
  3. 前記高透磁性要素は、前記第1の磁石の磁化軸と実質的に一致している中心軸を有するプレートによって構成している
    ことを特徴とする請求項2に記載の計時器用ムーブメント。
  4. 前記高透磁性要素と、この要素と一体化されている磁石との間の距離は、この磁石の磁化軸に沿った長さの10分の1よりも小さいか又はこれと実質的に等しい
    ことを特徴とする請求項2又は3に記載の計時器用ムーブメント。
  5. 前記高透磁性要素は、前記第1の磁石に固定される
    ことを特徴とする請求項1〜4のいずれかに記載の計時器用ムーブメント。
  6. 前記磁性システム及び前記弾性メンバーは、前記耐衝撃デバイスの安定位置において、前記受け石に前記ピボットが与える力が、前記回転要素に作用する重力よりも大きい限界値よりも小さくありつつ、前記弾性メンバーが、受け石又は受け石が固定されるセッティングを保持し、この受け石又はセッティングが、前記支持体又は前記支持体と一体化されている基礎に対して安定的に配置されるように構成している
    ことを特徴とする請求項5に記載の計時器用ムーブメント。
  7. 前記弾性メンバー(32)には、前記耐衝撃デバイスの前記安定位置において予応力を与えられる
    ことを特徴とする請求項6に記載の計時器用ムーブメント。
  8. 前記高透磁性要素は、鉄又はコバルトベースの金属性ガラスによって形成されている
    ことを特徴とする請求項1〜7のいずれかに記載の計時器用ムーブメント。
  9. 前記弾性メンバーは、第1の端及び第2の端を有する板ばね(32)であり、
    前記第1の端は、前記支持体に固定されており、前記第2の端(58)は、前記第2の磁石を担持しており、
    前記受け石は、前記板ばねの一般平面上への射影において、前記第1の端と第2の端の間に位置している
    ことを特徴とする請求項1〜8のいずれかに記載の計時器用ムーブメント。
  10. 前記弾性メンバーは、前記受け石又は前記受け石に固定されているセッティングに圧力を与えるように構成している2つのブランチ(89、90)を有するリラばね(88)であり、
    前記磁性システムは、第1の磁性システムを定め、
    前記耐衝撃デバイスは、さらに、前記磁性システムである第2の磁性システムを有し、
    前記2つのブランチはそれぞれ、前記第1及び第2の磁性システムに関連づけられており、前記第1及び第2の磁性システムはそれぞれ、前記第2の磁石に対応する磁石又は前記耐衝撃入出力装置サポートに固定されている前記第1の磁石に対応する磁石を担持しており、これらの磁石どうしは互いに連係する
    ことを特徴とする請求項1〜8のいずれかに記載の計時器用ムーブメント。
  11. 前記回転要素は、バランスである
    ことを特徴とする請求項1〜10のいずれかに記載の計時器用ムーブメント。
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