JP2017519631A - パルス超音波周波数を有するメソ流体反応器 - Google Patents
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Abstract
Description
− 単分子及び二分子反応を、室温〜1000℃の温度範囲で、msの滞留時間で実施するために適し、反応器チューブの壁に沿った、導入される不活性ガスの螺旋流が材料の流れの方向を規定し、物質と反応器の壁との衝突を防ぐ。
− 内部寸法(すなわち円筒状の流れ断面の直径)は、数mm〜cmオーダーのサイズ範囲内にあり、難溶性又は不溶性固体物質も反応させることが可能でもあり、この場合、超音波源が、固体物質を昇華させるために必要とされる熱エネルギーを供給した後、導入されるガス/真空が、反応体積を通って物質を誘導する。
− 不活性ガスに加えて、他の試薬ガスも、キャリアガスとして、既知の制御された流速で導入できる。
− スプレーヘッドが、超音波ユニット及び気体ユニットと組み合わせられ、均一な粒径分布(>20μm)を許容する。
− スプレーヘッドの超音波ユニットの廃熱が好ましくは使用され、導入されるガスを予熱するので、超音波ユニットは、インプットガスの熱交換器として機能して、反応ゾーンの温度を維持すること、及び望ましくない冷却を防ぐことを助ける。
− 得られる生成物は、適切に冷却された生成物トラップ/生成物凝縮器で回収される。この冷却は、好ましくは、ドライアイス及びアセトンの混合物、若しくはこの混合物で満たされたチラー、液体窒素若しくは他の溶媒、ペルチェ素子、クエンチャ、還流冷却器、又は当業者に既知の任意の他の種類の熱交換器により達成される。生成物トラップは、水冷によっても構成できる。
− 出発材料の溶液の流速を変えることができ、技術的構成は、溶媒の種類の影響を受けにくい。
− 出発材料の溶液のスプレー圧が、大気圧〜400barの範囲である。
− 反応器の反応体積(好ましくは反応器チューブ12)の加熱は、少なくとも3つの別個の検出及び制御ゾーンT1、T2、T3を含む。炉ゾーンの異なる温度は、特にこの目的のために設計された分割器によって提供される。
− 装置の反応器チューブの加熱は、間接的な加熱原理に基づいており、これは、反応器チューブの長さ全体に沿って、ゾーンごとに、均一な温度分布を許容する。この構成は、非常に速い温度の調節が許容するので、反応混合物中の不利な温度勾配の形成を妨げる。
− 温度範囲:室温(すなわち約20〜25℃)〜1000℃
− 温度制御の精度:100℃以下では±3%、100℃超〜1000℃以下では±2%
− 公称圧力:10−3mbar〜3bar
− 不活性/試薬ガスの流速:1〜10000mL/分
− 溶液の流速:0.1〜1000mL/分
− 溶液の圧力:約1bar(大気圧)〜400bar
− 適用される超音波周波数:500kHz〜5MHz
− 反応器のサイズ:500×26mm
200mgの量の出発材料を、デバイスの蒸留フラスコ内へ秤量した。その後、予熱器の温度制御ユニットを150℃に設定し、反応器の温度制御ユニットを450℃に設定した。設定された値に達し、安定した後、10−3mbarの真空をシステム内に生成した。温度及び真空により、出発材料は昇華し始め、数秒後、反応器から得られた生成物が生成物トラップに現れる。この生成物トラップは、−78℃に予め冷却されており、500mmの長さの反応器チューブの出口に配置されている。得られた生成物を、トラップから、アルコール及び/又はジクロロメタンに溶解させた後、溶媒を蒸発させる。必要であれば、生成物を更に精製する。
1390mgの量の出発材料を、蒸留フラスコ内へ秤量した後、50mLのジメチルアセトアミド(DMA)に溶解させる。この方法で、濃度0.1Mの溶液を得た。反応器の温度制御ユニットを450℃に設定した。溶液の流速を0.5mL/分に設定し、窒素ガスフローを2L/分に設定し、超音波ユニットの周波数を1.7MHzに設定した。HPLCポンプによって、溶液が流れ始めてから数秒後、回収される生成物が、大きな表面積の生成物トラップに現れ、この生成物トラップは、−78℃に予め冷却されている。出発材料の溶液が入口で尽きるとすぐに、生成物をトラップから排出し、溶媒を蒸発させた。必要であれば、生成物を更に加工する。
200mgの量の出発材料を、デバイスの蒸留フラスコ内へ秤量した。その後、予熱器の温度制御ユニットを150℃に設定し、反応器の温度制御ユニットを450℃に設定した。設定された値に達し、安定した後、10−3mbarの真空をシステム内に生成した。温度及び真空により、出発材料は昇華し始め、数秒後、反応器から得られた生成物が生成物トラップに現れる。この生成物トラップは、−78℃に予め冷却されており、500mmの長さの反応器チューブの出口に配置されている。得られた生成物を、トラップから、アルコール及び/又はジクロロメタンに溶解させた後、溶媒を蒸発させる。必要であれば、生成物を更に精製する。
1050mgの量の出発材料を、蒸留フラスコ内へ秤量した後、50mLのジメチルアセトアミド(DMA)に溶解させる。この方法で、濃度0.1Mの溶液を得た。反応器の温度制御ユニットを450℃に設定した。溶液の流速を0.4mL/分に設定し、窒素ガスフローを2L/分に設定し、超音波ユニットの周波数を2.0MHzに設定した。HPLCポンプによって、溶液が流れ始めてから数秒後、回収される生成物が、大きな表面積の生成物トラップに現れ、この生成物トラップは、−78℃に予め冷却されている。出発材料の溶液が入口で尽きるとすぐに、生成物をトラップから排出し、溶媒を蒸発させた。必要であれば、生成物を更に加工する。
Claims (15)
- 出発材料の化学反応を行うメソ流体反応器であって、前記反応器の構成要素が、一緒に組み合わされ、前記出発材料の相状態に依存する下記のスキーム:
(i)液相出発材料の場合、前記出発材料が、容器(1)から、HPLCポンプ若しくは流体の輸送に適する任意の他のポンプ(2)により、流体の輸送に適するチュービング(3)を通って、高圧スプレーヘッド(4)内へ導入され、前記高圧スプレーヘッド(4)が、超音波発生圧電性結晶ユニットを備え、ノズルを有し、不活性/試薬ガスが、前記スプレーヘッド(4)内へ、不活性/試薬ガス導管(10)を通り、制御バルブ(7)、質量流量計(8)及び圧力計(9)を通って供給され、前記制御バルブ(7)、前記質量流量計(8)及び前記圧力計(9)が、前記導管(10)に、この順に挿入されており、前記スプレーヘッド(4)が、反応器チューブ(12)の入口に接続されており、前記反応器チューブ(12)が、断熱マルチゾーン加熱ユニット(11)内に配置されており、前記反応器チューブ(12)の出口が、冷却された生成物トラップ(13)に接続されて、変換された物質が回収され、前記生成物トラップ(13)の出口が、真空タップ(14)及び真空ポンプ(15)に接続され、真空の使用を容易にする、スキーム、又は
(ii)固相出発材料の場合、不活性/試薬ガスが、ガス源(6)から、制御バルブ(7)、質量流量計(8)及び圧力計(9)を通って、固体容器(5)内へ導入され、前記固体容器(5)が、下から、本質的に直角に、高圧スプレーヘッド(4)に接続されており、前記高圧スプレーヘッド(4)が、超音波発生圧電性結晶ユニットを備え、ノズルを有し、前記スプレーヘッド(4)が、反応器チューブ(12)の入口に接続されており、前記反応器チューブ(12)が、断熱マルチゾーン加熱ユニット(11)内に配置されており、前記反応器チューブ(12)の出口が、冷却された生成物トラップ(13)に接続されて、変換された物質が回収され、前記生成物トラップ(13)の出口が、真空タップ(14)及び真空ポンプ(15)に接続され、真空の使用を容易にする、スキーム
のうちの1つに従って、前記反応器を形成する、メソ流体反応器において、
前記スプレーヘッド(4)が、前記液相出発材料の場合、ナノ及びマイクロサイズの粒子の粒径分布を生成し、前記固相出発材料の場合、ナノ、マイクロ又は更にそれよりも大きいサイズの粒子の粒径分布を生成するように構成されており、前記不活性/試薬ガスが、前記圧電性結晶ユニットの表面で予熱されることを特徴とする、メソ流体反応器。 - 前記スプレーヘッド(4)が、溶媒及び溶液を、圧力下で、好ましくは0.5mm、より好ましくは0.2mm、最も好ましくは約0.1mmの内径のスプレーチップを通じてアトマイズするために適することを特徴とする、請求項1に記載の反応器。
- 前記不活性/試薬ガスが、前記スプレーヘッド(4)内へ、キャリアガスとして、圧力下で、反応器チューブ(6)の壁に沿って螺旋流で導入され得ることを特徴とする、請求項1又は2に記載の反応器。
- 前記スプレーヘッド(4)が、前記ノズルとしてのアトマイザ、及び前記アトマイザと組み合わせられる超音波ユニットを更に備えることを特徴とする、請求項1から3のいずれか一項に記載の反応器。
- 前記スプレーヘッド(4)が、固体物質の供給を許容するように適合した拡張デバイスを更に備えることを特徴とする、請求項1から4のいずれか一項に記載の反応器。
- 前記スプレーヘッド(4)、特にアトマイザが、好ましくは耐食鋼、石英、ホウケイ酸塩、Pyrexガラス、Hastelloy材料、PEEK材料、及びTeflonの群から選択される構造材で作られていることを特徴とする、請求項1から5のいずれか一項に記載の反応器。
- 前記出発材料が、前記固体容器(5)内に、固体微粉物質の形態で配置されることを特徴とする、請求項1から6のいずれか一項に記載の反応器。
- 前記反応器チューブ(12)の平均直径が、少なくとも10mm、好ましくは少なくとも15mm又は15mmよりも大きいサイズであることを特徴とする、請求項1から7のいずれか一項に記載の反応器。
- 1本より多い反応器チューブ(12)が互いに平行に延び、前記加熱ユニット(11)内に配置されていることを特徴とする、請求項1から8のいずれか一項に記載の反応器。
- 前記1本より多い反応器チューブ(12)が、ホウケイ酸塩、石英、Pyrexガラス、耐食鋼及びHastelloy材料の群から選択される材料で作られていることを特徴とする、請求項1から9のいずれか一項に記載の反応器。
- 前記1本より多い反応器チューブ(12)の長さが、10mm〜2000mmの範囲であることを特徴とする、請求項1から10のいずれか一項に記載の反応器。
- 前記1本より多い反応器チューブ(12)が、真空ポンプ(15)により減圧され、減圧下で化学反応が行われるように構成されていることを特徴とする、請求項1から11のいずれか一項に記載の反応器。
- 前記出発材料の溶液の可変のアトマイズ時間を許容するように構成されていることを特徴とする、請求項1から12のいずれか一項に記載の反応器。
- 前記反応器が、生成物を捕捉するための生成物トラップ(13)又は生成物凝縮器を更に備え、前記生成物トラップ(13)又は生成物凝縮器が、水冷チラー、若しくはドライアイス及びアセトンの混合物で満たされたチラー、液体窒素、還流冷却器、ペルチェ素子、又は任意の他の種類の熱交換器の形態で設けられていることを特徴とする、請求項1から13のいずれか一項に記載の反応器。
- 可変の物質導入長さ及び/又は可変の材料流速を許容するように構成されていることを特徴とする、請求項1から14のいずれか一項に記載の反応器。
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