JP2017523064A - 凹状磁力線を発生させる磁場発生デバイスによって生成された光学効果層を、磁場中硬化するための方法 - Google Patents
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Abstract
Description
a)複数の磁性顔料粒子又は磁化可能顔料粒子を含むコーティング組成物を、基材上に付着させて、第1の状態にあるコーティング層が形成されるようにするステップと、
b)b1)コーティング層の側に置かれた磁場発生デバイスの磁場にコーティング層を曝露し、それによって複数の磁性顔料粒子又は磁化可能顔料粒子を配向させるステップ、及びb2)同時に又は部分的に同時に、基材を通してコーティング層を第2の状態に硬化して、磁性顔料粒子又は磁化可能顔料粒子がそれらの採用された位置及び配向に固定されるようにするステップであり、上記硬化が、基材の側に置かれたUV−Vis照射源による照射によって行われるステップと、
を含み、
基材は、200nm〜500nmの範囲の照射源の放出スペクトルの1つ又は複数の波長の電磁放射線を透過させ、
複数の磁性顔料粒子又は磁化可能顔料粒子は、OELを保持する側から見たときに凹状曲面に従うように配向する。
a)本明細書に記載される複数の磁性粒子又は磁化可能粒子を含むコーティング組成物を、本明細書に記載される基材上に付着させて、第1の状態にあるコーティング層が形成されるようにするステップと、
b)
b1)コーティング層の側に置かれた第1の磁場発生デバイスの磁場に、コーティング層を保持する1つ又は複数の第1の基材領域を曝露し、それによって複数の磁性顔料粒子又は磁化可能顔料粒子を、コーティング層を保持する側から見たときに凹状曲面に従うように配向させるステップ、及びb2)本明細書に記載されるように、同時に又は部分的に同時に、基材を通してコーティング層を硬化するステップであり、上記硬化が、基材の側に置かれたUV−Vis照射源による照射によって行われ、上記UV−Vis照射源は、コーティング層を保持する1つ又は複数の第2の基材領域がUV−Vis照射に曝露されないようにフォトマスクを備えているステップと、
c)ステップb2)の下でのフォトマスクの存在により第1の状態にあるコーティング層を保持する少なくとも1つ又は複数の第2の基材領域を、第2の磁場発生デバイスの磁場に曝露し、それによって、複数の磁性顔料粒子又は磁化可能顔料粒子を、ランダム配向以外の任意の配向に従うように配向させ、同時に、部分的に同時に、又は逐次、好ましくは同時に又は部分的に同時に、コーティング層を保持する少なくとも1つ又は複数の第2の基材領域をUV−Vis照射源で照射することによって第2の状態に硬化して、磁性顔料粒子又は磁化可能顔料粒子がそれらの採用された位置及び配向に固定されるようにするステップと、
を含み、
ステップa)の下での基材は、200nm〜500nmの範囲の照射源の放出スペクトルの1つ又は複数の波長を透過させる。
a)複数の磁性粒子又は磁化可能粒子を含むコーティング組成物を、基材上に付着させて、第1の状態にあるコーティング層が形成されるようにするステップと、
b)
b1)第1の磁場発生デバイスの磁場に、コーティング層を保持する1つ又は複数の第1の基材領域を曝露し、それによって、複数の磁性顔料粒子又は磁化可能顔料粒子を、ランダム配向以外の任意の配向に従うように配向させるステップ、及び
b2)本明細書に記載されるように、同時に、部分的に同時に、又は逐次、コーティング層を硬化するステップであり、上記硬化が、コーティング層を保持する1つ又は複数の第2の基材領域がUV−Vis照射に曝露されないようにフォトマスクを備えているUV−Vis照射源で照射されることによって行われるステップと、
c)ステップb2)の下でのフォトマスクの存在により第1の状態にあるコーティング層を保持する少なくとも1つ又は複数の第2の基材領域を、コーティング層の側に置かれた第2の磁場発生デバイスの磁場に曝露し、それによって、複数の磁性顔料粒子又は磁化可能顔料粒子を、コーティング層を保持する側から見たときに凹状曲面に従うように配向させ、同時に又は部分的に同時に、コーティング層を保持する少なくとも1つ又は複数の第2の基材領域を、基材を通して硬化するステップであり、上記硬化は、基材の側に置かれたUV−Vis照射源で照射することによって行われるステップと、
を含み、
ステップa)の下での基材は、200nm〜500nmの範囲の上記照射源の放出スペクトルの1つ又は複数の波長を透過させる、
方法についても記載される。
以下の定義は、本明細書において論じられ特許請求の範囲に記載されている用語の意味を解釈するのに使用される。
a)好ましくはスクリーン印刷、輪転グラビア印刷、及びフレキソ印刷からなる群から選択される印刷プロセスによって、本明細書に記載される基材上に、本明細書に記載されるコーティング組成物を付着させて、本明細書に記載されるように第1の状態にあるコーティング層が形成されるようにするステップと;
b)b1)コーティング層側に置かれている第1の磁場発生デバイスの磁場に、コーティング層を曝露し、それによって複数の磁性顔料粒子又は磁化可能顔料粒子を、本明細書に記載されるコーティング層を保持する側から見たときに凹状曲面に従うように配向させるステップ、及びb2)同時に又は部分的に同時に、基材を通して本明細書に記載されるコーティング層を硬化するステップであり、上記硬化が、本明細書に記載される基材側に置かれたUV−Vis照射源で照射することによって行われるステップと;
c)好ましくはスクリーン印刷、輪転グラビア印刷、及びフレキソ印刷からなる群から選択される印刷プロセスによって、複数の磁性顔料粒子又は磁化可能顔料粒子を含む第2のコーティング組成物を、第1の状態にある第2のコーティング層が形成されるように付着させるステップであり、上記第2のコーティング組成物が、ステップa)の下で使用されたものと同じであってもよく又は異なっていてもよく、複数の磁性顔料粒子又は磁化可能顔料粒子がステップa)の下で使用されたものと同じであってもよく又は異なっていてもよいステップと;
d)第1の状態にある第2のコーティング層を、第2の磁場発生デバイスの磁場に曝露し、それによって複数の磁性顔料粒子又は磁化可能顔料粒子を、ランダム配向以外の任意のパターンに配向させ、好ましくはそれによって、複数の磁性顔料粒子又は磁化可能顔料粒子を、コーティング層を保持する側から見たときに凸状曲面に従うように配向させるステップと;
e)第2のコーティング層を、UV−Vis放射線によって第2の状態に硬化して、磁性顔料粒子又は磁化可能顔料粒子がそれらの採用された位置及び配向に固定されるようにするステップと、
を含む。
a)好ましくはスクリーン印刷、輪転グラビア印刷、及びフレキソ印刷からなる群から選択される印刷プロセスによって、本明細書に記載される基材上に、本明細書に記載されるコーティング組成物を付着させて、本明細書に記載されるように第1の状態にあるコーティング層が形成されるようにするステップと;
b)b1)第1の磁場発生デバイスの磁場にコーティング層を曝露し、それによって複数の磁性顔料粒子又は磁化可能顔料粒子を、ランダム配向以外の任意のパターンに配向させ、好ましくはそれによって複数の磁性顔料粒子又は磁化可能顔料粒子を、コーティング層を保持する側から見たときに凸状曲面に従うように配向させるステップ、及びb2)コーティング層を硬化するステップであり、上記硬化が、UV−Vis照射源で照射することによって行われるステップと;
c)好ましくはスクリーン印刷、輪転グラビア印刷、及びフレキソ印刷からなる群から選択される印刷プロセスによって、本明細書に記載されるような且つ基材を通して硬化することのできる、複数の磁性顔料粒子又は磁化可能顔料粒子を含む第2のコーティング組成物を、第1の状態にある第2のコーティング層が形成されるように付着させるステップであり、上記第2のコーティング組成物が、ステップa)の下で使用されたものと同じであってもよく又は異なっていてもよく、複数の磁性顔料粒子又は磁化可能顔料粒子がステップa)の下で使用されたものと同じであってもよく又は異なっていてもよいステップと;
d)第1の状態にある第2のコーティング層を、コーティング層の側に置かれた第2の磁場発生デバイスの磁場に曝露し、それによって複数の磁性顔料粒子又は磁化可能顔料粒子を、本明細書に記載されるコーティング層を保持する側から見たときに凹状曲面に従うように配向させるステップと;e)同時に又は部分的に同時に、本明細書に記載されるコーティング層を、基材を通して硬化するステップであり、上記硬化が、本明細書に記載される基材の側に置かれたUV−Vis照射源で照射することによって行われるステップとを含む。
i)好ましくはスクリーン印刷、輪転グラビア印刷、及びフレキソ印刷からなる群から選択される印刷プロセスによって、本明細書に記載される基材(S)上に、本明細書に記載されるコーティング組成物を、本明細書に記載されるように、本明細書に記載されるコーティング層(C1)が形成されるように付着させるステップと;
j)コーティング層(C1)を、コーティング層(C1)の側に置かれた第1の磁場発生デバイス(MD1)の磁場に曝露し、それによって、本明細書に記載されるコーティング層(C1)を保持する側から見たときに凹状曲面に従うように、複数の磁性顔料粒子又は磁化可能顔料粒子を配向させ、本明細書に記載されるコーティング層(C1)を、基材(S)を通して同時に又は部分的に同時に硬化するステップであり、上記硬化が、本明細書に記載される基材の側に置かれたUV−Vis照射源(L)で照射することによって行われるステップと;
k)好ましくはスクリーン印刷、輪転グラビア印刷、及びフレキソ印刷からなる群から選択される印刷プロセスによって、複数の磁性顔料粒子又は磁化可能顔料粒子を含む第2のコーティング組成物を、第1の状態にある第2のコーティング層(C2)が形成されるように付着させるステップであり、上記第2のコーティング組成物が、ステップi)の下で使用したものと同じであってもよく又は異なっていてもよく、複数の磁性顔料粒子又は磁化可能顔料粒子が、ステップi)の下で使用したものと同じであってもよく又は異なっていてもよいステップと;
l)第1の状態にある第2のコーティング層(C2)を、基材(S)の側に置かれている第2の磁場発生デバイス(MD2)の磁場に曝露し、それによって、複数の磁性顔料粒子又は磁化可能顔料粒子を、コーティング層を保持する側から見たときに凸状曲面に従うように配向させ;UV−Vis放射線(L)によって、第2のコーティング層(C2)を第2の状態に同時に又は少なくとも部分的に同時に硬化して、磁性顔料粒子又は磁化可能顔料粒子がそれらの採用された位置又は配向に固定されるようにしたステップと、
を含む。
a)好ましくはスクリーン印刷、輪転グラビア印刷、及びフレキソ印刷からなる群から選択される印刷プロセスによって、本明細書に記載される基材上に、本明細書に記載されるコーティング層組成物を、本明細書に記載されるように第1の状態にあるコーティング層が形成されるように付着させるステップと;
b)b1)コーティング層を保持する1つ又は複数の第1の基材領域を、コーティング層の側に置かれた第1の磁場発生デバイスの磁場に曝露し、それによって、本明細書に記載されるように、コーティング層を保持する側から見たときに凹状曲面に従うように複数の磁性顔料粒子又は磁化可能顔料粒子を配向させるステップ、及びb2)コーティング層を、基材を通して同時に又は部分的同時に硬化するステップであり、上記硬化が、本明細書に記載されるように基材の側に置かれたUV−Vis照射源で照射することによって行われ;上記UV−Vis照射源が、コーティング層を保持する1つ又は複数の第2の基材領域がUV−Vis照射に曝露されないようにフォトマスクを備えているステップと;
c)ステップb2)の下でのフォトマスクの存在により依然として第1の状態にあるコーティング層を保持する少なくとも1つ又は複数の第2の基材領域を、第2の磁場発生デバイスの磁場に曝露し、それによって複数の磁性顔料粒子又は磁化可能顔料粒子を、ランダム配向以外の任意の配向に従うように配向させ;コーティング層を保持する少なくとも1つ又は複数の第2の基材領域を、UV−Vis照射源で照射することによって、同時に、部分的に同時に、又は逐次、好ましくは同時に又は部分的に同時に第2の状態に硬化して、磁性顔料粒子又は磁化可能顔料粒子がそれらの採用された位置及び配向に固定されるようにするステップと、
を含む。
a)好ましくはスクリーン印刷、輪転グラビア印刷、及びフレキソ印刷からなる群から選択される印刷プロセスによって、本明細書に記載される基材上に、本明細書に記載されるコーティング層組成物を、本明細書に記載されるように第1の状態にあるコーティング層が形成されるように付着させるステップと;
b)b1)コーティング層を保持する1つ又は複数の第1の基材領域を、第1の磁場発生デバイスの磁場に曝露し、それによって、複数の磁性顔料粒子又は磁化可能顔料粒子を、ランダム配向以外の任意の配向に従うように配向させるステップ、及びb2)コーティング層を、同時に、部分的同時に、又は逐次、好ましくは同時に又は部分的に同時に硬化するステップであり、上記硬化が、コーティング層を保持する1つ又は複数の第2の基材領域がUV−Vis照射に曝露されないようにフォトマスクを備えているUV−Vis照射源で照射することによって行われるステップと;
c)ステップb2)の下でのフォトマスクの存在により依然として第1の状態にあるコーティング層を保持する少なくとも1つ又は複数の第2の基材領域を、コーティング層の側に置かれた第2の磁場発生デバイスの磁場に曝露し、それによって、複数の磁性顔料粒子又は磁化可能顔料粒子を、本明細書に記載されるようにコーティング層を保持する側から見たときに凹状曲面に従うように配向させ;コーティング層を保持する少なくとも1つ又は複数の第2の基材領域を、基材の側に置かれたUV−Vis照射源で照射することによって同時に又は部分的に同時に第2の状態に硬化して、磁性顔料粒子又は磁化可能顔料粒子がそれらの採用された位置及び配向に固定されるようにするステップと、
を含んでいてもよい。
a)好ましくはスクリーン印刷、輪転グラビア印刷、及びフレキソ印刷からなる群から選択される印刷プロセスによって、本明細書に記載される基材上に、本明細書に記載されるコーティング層組成物を、本明細書に記載されるように第1の状態にあるコーティング層が形成されるように付着させるステップと;
b)b1)コーティング層を保持する1つ又は複数の第1の基材領域を、コーティング層の側に置かれた第1の磁場発生デバイスの磁場に曝露し、それによって、本明細書に記載されるように、コーティング層を保持する側から見たときに凹状曲面に従うように複数の磁性顔料粒子又は磁化可能顔料粒子を配向させるステップ、及びb2)コーティング層を、基材を通して同時に又は部分的同時に硬化するステップであり、上記硬化が、本明細書に記載されるように基材の側に置かれたUV−Vis照射源で照射することによって行われ;上記UV−Vis照射源が、コーティング層を保持する1つ又は複数の第2の基材領域がUV−Vis照射に曝露されないようにフォトマスクを備えているステップと;
c)ステップb2)の下でのフォトマスクの存在により依然として第1の状態にあるコーティング層を保持する少なくとも1つ又は複数の第2の基材領域を、コーティング層の側に置かれた第2の磁場発生デバイスの磁場に曝露し、それによって、複数の磁性顔料粒子又は磁化可能顔料粒子を、本明細書に記載されるようにコーティング層を保持する側から見たときに凹状曲面に従うように配向させ;コーティング層を保持する少なくとも1つ又は複数の第2の基材領域を、UV−Vis照射源で照射することによって、同時に又は部分的に同時に第2の状態に硬化して、磁性顔料粒子又は磁化可能顔料粒子がそれらの採用された位置及び配向に固定されるようにするステップと、
を含み、
ステップb1)の下で得られた凹状曲面は、ステップc)の下で得られた凹状曲面とは異なっている。
a)好ましくはスクリーン印刷、輪転グラビア印刷、及びフレキソ印刷からなる群から選択される印刷プロセスによって、本明細書に記載される基材上に、本明細書に記載されるコーティング層組成物を、本明細書に記載されるように第1の状態にあるコーティング層が形成されるように付着させるステップと;
b)b1)コーティング層を保持する1つ又は複数の第1の基材領域を、コーティング層の側に置かれた第1の磁場発生デバイスの磁場に曝露し、それによって、本明細書に記載されるように、コーティング層を保持する側から見たときに凹状曲面に従うように複数の磁性顔料粒子又は磁化可能顔料粒子を配向させるステップ、及びb2)コーティング層を、基材を通して同時に又は部分的同時に硬化するステップであり、上記硬化が、本明細書に記載されるように基材の側に置かれたUV−Vis照射源で照射することによって行われ;上記UV−Vis照射源が、コーティング層を保持する1つ又は複数の第2の基材領域がUV−Vis照射に曝露されないようにフォトマスクを備えているステップと;
c)ステップb2)の下でのフォトマスクの存在により依然として第1の状態にあるコーティング層を保持する少なくとも1つ又は複数の第2の基材領域を、基材の側に置かれた第2の磁場発生デバイスの磁場に曝露し、それによって、複数の磁性顔料粒子又は磁化可能顔料粒子を、コーティング層を保持する側から見たときに凸状曲面に従うように配向させ;コーティング層を保持する少なくとも1つ又は複数の第2の基材領域を、UV−Vis照射源で照射することによって、同時に又は部分的に同時に第2の状態に硬化して、磁性顔料粒子又は磁化可能顔料粒子がそれらの採用された位置及び配向に固定されるようにするステップと、
を含む。
a)好ましくはスクリーン印刷、輪転グラビア印刷、及びフレキソ印刷からなる群から選択される印刷プロセスによって、本明細書に記載される基材上に、本明細書に記載されるコーティング層組成物を、本明細書に記載されるように第1の状態にあるコーティング層が形成されるように付着させるステップと;
b)b1)コーティング層を保持する1つ又は複数の第1の基材領域を、基材の側に置かれた第1の磁場発生デバイスの磁場に曝露し、それによって、複数の磁性顔料粒子又は磁化可能顔料粒子を、コーティング層を保持する側から見たときに凸状曲面に従うように配向させるステップ、及びb2)コーティング層を、同時に又は部分的に同時に硬化するステップであり、上記硬化が、コーティング層を保持する1つ又は複数の第2の基材領域がUV−Vis照射に曝露されないようにフォトマスクを備えているUV−Vis照射源で照射することによって行われるステップと;
c)ステップb2)の下でのフォトマスクの存在により依然として第1の状態にあるコーティング層を保持する少なくとも1つ又は複数の第2の基材領域を、コーティング層の側に置かれた第2の磁場発生デバイスの磁場に曝露し、それによって、複数の磁性顔料粒子又は磁化可能顔料粒子を、本明細書に記載されるようにコーティング層を保持する側から見たときに凹状曲面に従うように配向させ;コーティング層を保持する少なくとも1つ又は複数の第2の基材領域を、基材を通して同時に又は部分的に同時に第2の状態に硬化して、磁性顔料粒子又は磁化可能顔料粒子がそれらの採用された位置及び配向に固定されるようにするステップであり、上記硬化が、本明細書に記載されるように基材の側に置かれたUV−Vis照射源で照射することによって行われるステップと、
を含んでいてもよい。
i)磁性顔料粒子又は磁化可能顔料粒子を含むコーティング組成物を基材(S)上に付着させて、コーティング層(C)が形成されるようにするステップと;
j)コーティング層(C)内の磁性顔料粒子又は磁化可能顔料粒子を、コーティング層(C)を保持する側に置かれた磁場発生デバイス(M)で配向させ、同時に基材(S)を通してコーティング層(C)を硬化するステップであり、上記硬化が、基材(S)の側に置かれたUV−Vis照射源(L)で照射することによって行われ、上記UV−Vis照射源(L)がフォトマスク(W)を備えているステップと;
k)コーティング層を、基材(S)の側に置かれた第2の磁場発生デバイス(M2)の磁場に曝露し、それによって、硬化コーティングを保持する側から見たときに凸状曲面に従うように、複数の磁性顔料粒子又は磁化可能顔料粒子を配向させ;同時に、コーティング層をUV−Vis照射源(L)で照射することによって第2の状態に硬化して、磁性顔料粒子又は磁化可能顔料粒子がそれらの採用された位置及び配向に固定されるようにするステップと、
を含む。
(*)JDS−Uniphase(サンタローザ、カリフォルニア州)から得た、直径d50が約9.3μmであり厚さが約1μmの薄片形状を有する、小板形状の金から緑に光学的に可変の磁性顔料粒子。
表1のコーティング組成物で作製された、付着したコーティング層(C)を保持する紙基材(ルイゼンタールベリン)を、表面にリセス部(L×l=20×20 深さ1mm)を備えるポリマープラスチック(PPS)で作製された磁気デバイスハウジング(K’)(L×l×h=40×40×15mm)に埋め込まれた磁石(M)(NdFeB N48永久磁石棒LMB×lMB×hMB=30×18×6mm)を備える磁場発生デバイス(MD)上に配置し、この磁石(M)は、リセス部とは反対側の磁気デバイスハウジング表面から6mmの所で磁気デバイスハウジング(K’)の中央に埋め込まれて、そのN−S軸がコーティング層に実質的に平行になっている。基材は、図4Aに示されるようにその表面が、磁場発生デバイス(MD)に面するコーティング組成物(C)を保持した状態で配置され、磁石(M)とコーティング組成物(C)との間の距離は6mmであった。磁場発生デバイスを、紙基材から除去した。コーティング組成物を、図4Aに示されるように、コーティング組成物(CC)の側に置かれたUV−LEDランプでのUV−Vis照射によって硬化した。3つの異なる視野角で得られたOELの写真を、図4Bに示す。
コーティング組成物で作製された、付着したコーティング層(C)を保持する紙基材(ルイゼンタールベリン)を、表面にリセス部(L×l=20×20 深さ1mm)を備えるポリマープラスチック(PPS)で作製された磁気デバイスハウジング(K’)(L×l×h=40×40×15mm)に埋め込まれた磁石(M)(NdFeB N48永久磁石棒LMB×lMB×hMB=30×18×6mm)を備える磁場発生デバイス(MD)(比較例1で使用したものと同じ磁場発生デバイス(MD))上に配置し、この磁石(M)は、リセス部とは反対側の磁気デバイスハウジング表面から6mmの所で磁気デバイスハウジング(K’)の中央に埋め込まれて、そのN−S軸がコーティング層に実質的に平行になっている。基材は、図5Aに示されるようにその表面が、磁場発生デバイス(MD)に面するコーティング組成物(C)を保持した状態で配置され、磁石(M)とコーティング層(C)との間の距離は6mmであった。基材は、図5Aに示されるようにその表面が、磁場発生デバイス(MD)に面するコーティング層(C)を保持する状態で配置される。配向ステップと同時に、コーティング組成物を、図5Aに示されるようにコーティング層を保持する側に置かれたUV−LEDランプでのUV−Vis照射によってキュアした。3つの異なる視野角で得られた光学効果層の写真を、図5Bに示す。
コーティング組成物(CC)の、付着したコーティング層(C1)を保持する紙基材(ルイゼンタールベリン)を、表面にリセス部(L×l=20×20 深さ1mm)を備えるポリマープラスチック(PPS)で作製された磁気デバイスハウジング(K’)(L×l×h=40×40×15mm)に埋め込まれた磁石(M)(NdFeB N48永久磁石棒LMB×lMB×hMB=30×18×6mm)を備える磁場発生デバイス(MD1)(比較例C1で使用されたものと同じ磁気デバイス(MD))上に配置し、この磁石(M)は、リセス部とは反対側の磁気デバイスハウジング表面から6mmの所で磁気デバイスハウジング(K’)の中央に埋め込まれて、そのN−S軸がコーティング組成物層に実質的に平行になっている。基材は、図6A j)に示されるようにその表面が、磁場発生デバイス(MD)に面するコーティング組成物(C1)を保持した状態で配置され、磁石(M1)とコーティング層(C1)との間の距離は6mmであった。コーティング層(C1)を、配向ステップに続けて、図6A k)に示されるようにコーティング組成物を保持する側に置かれたUV−LEDランプ(L)でのUV−Vis照射によって硬化した。
コーティング組成物で作製された、付着したコーティング層(C1)を保持する紙基材(ルイゼンタールベリン)を、表面にリセス部(L×l=20×20 深さ1mm)を備えるポリマープラスチック(PPS)で作製された磁気デバイスハウジング(K’)(L×l×h=40×40×15mm)に埋め込まれた磁石(M1)(NdFeB N48永久磁石棒LMB×lMB×hMB=30×18×6mm)を備える磁場発生デバイス(MD1)(実施例E1で使用されたものと同じ磁場発生デバイス(MD))上に配置し、この磁石(M1)は、リセス部とは反対側の磁気デバイスハウジング表面から6mmの所で磁気デバイスハウジング(K’)の中央に埋め込まれて、そのN−S軸がコーティング層に実質的に平行になっている。基材は、図7A jに示されるようにその表面が、磁場発生デバイス(MD1)に面するコーティング組成物(C1)を保持した状態で配置した。配向ステップと同時に、コーティング層(C1)を、図7A jに示されるようにコーティング層を保持する側に置かれたUV−LEDランプでのUV−Vis照射によって硬化した。
Claims (15)
- 基材上に、光学効果層(OEL)を生成するための方法であって、
a)複数の磁性顔料粒子又は磁化可能顔料粒子を含むコーティング組成物を、前記基材上に付着させて、第1の状態にあるコーティング層が形成されるようにするステップと、
b)b1)前記コーティング層の側に置かれた磁場発生デバイスの磁場に、前記コーティング層を曝露し、それによって前記複数の磁性顔料粒子又は磁化可能顔料粒子を配向させるステップ、及びb2)同時に又は部分的に同時に、前記基材を通して前記コーティング層を第2の状態に硬化して、前記磁性顔料粒子又は磁化可能顔料粒子がそれらの採用された位置及び配向に固定されるようにするステップであり、前記硬化が、前記基材の側に置かれたUV−Vis放射線源による照射によって行われるステップと、
を含み、
前記基材が、200nm〜500nmの範囲の照射源の放出スペクトルの1つ又は複数の波長を透過させ、
前記複数の磁性顔料粒子又は磁化可能顔料粒子が、前記OELを保持する側から見たときに、凹状曲面に従うように配向する、方法。 - 付着させる前記ステップa)が、スクリーン印刷、輪転グラビア印刷、及びフレキソ印刷からなる群から選択される印刷プロセスである、請求項1に記載の方法。
- 前記複数の磁性顔料粒子又は磁化可能顔料粒子の少なくとも一部が、磁性薄膜干渉顔料、磁性コレステリック液晶顔料、1種又は複数種の磁性材料を含む干渉コーティング付き顔料、及びこれらの混合物によって構成されている、請求項1又は2に記載の方法。
- c)複数の磁性顔料粒子又は磁化可能顔料粒子を含む第2のコーティング組成物層を付着させて、第2のコーティング層が形成されるようにするステップであり、前記第2のコーティング組成物が第1の状態にあるステップと、
d)第1の状態にある前記第2のコーティング層を、第2の磁場発生デバイスの磁場に曝露し、それによって、前記複数の磁性顔料粒子又は磁化可能顔料粒子を、ランダム配向以外の任意のパターンに配向させるステップと、
e)前記第2のコーティング層を、UV−Vis放射線によって、同時に、部分的に同時に、又は逐次、第2の状態に硬化して、前記磁性顔料粒子又は磁化可能顔料粒子がそれらの採用された位置及び配向に固定されるようにするステップと、
をさらに含む、請求項1〜3のいずれか一項に記載の方法。 - i)複数の磁性顔料粒子又は磁化可能顔料粒子を含む第2のコーティング組成物層を付着させて、第2のコーティング層が形成されるようにするステップであり、前記第2のコーティング組成物が第1の状態にあるステップと、
ii)第1の状態にある前記第2のコーティング層を、第2の磁場発生デバイスの磁場に曝露し、それによって、前記複数の磁性顔料粒子又は磁化可能顔料粒子を、ランダム配向以外の任意のパターンに配向させるステップと、
iii)前記第2のコーティング層を、UV−Vis放射線によって、同時に、部分的に同時に、又は逐次、第2の状態に硬化して、前記磁性顔料粒子又は磁化可能顔料粒子がそれらの採用された位置及び配向に固定されるようにするステップと、
をさらに含み、
前記ステップi)、ii)、iii)が前記ステップa)及びb)の前に実施される、請求項1〜3のいずれか一項に記載の方法。 - 請求項4のステップd)が、前記第2の磁場発生デバイスにより実施され、それによって、前記複数の磁性顔料粒子又は磁化可能顔料粒子を、前記コーティング層を保持する側から見たときに凸状曲面に従うように配向させ、又は
請求項5のステップii)が、前記第2の磁場発生デバイスにより実施され、それによって、前記複数の磁性顔料粒子又は磁化可能顔料粒子を、前記コーティング層を保持する側からみたときに凸状曲面に従うように配向させる、
請求項4又は5に記載の方法。 - 基材上に、単一硬化層で作製された少なくとも2つの隣接するパターンで作製されたモチーフを含む光学効果層(OEL)を生成するための方法であって、
a)複数の磁性粒子又は磁化可能粒子を含むコーティング組成物を、前記基材上に付着させて、第1の状態にあるコーティング層が形成されるようにするステップと、
b)
b1)前記コーティング層の側に置かれた第1の磁場発生デバイスの磁場に、前記コーティング層を保持する1つ又は複数の第1の基材領域を曝露し、それによって、前記複数の磁性顔料粒子又は磁化可能顔料粒子を、前記コーティング層を保持する側から見たときに凹状曲面に従うように配向させるステップ、及び
b2)同時に又は部分的に同時に、前記基材を通して前記コーティング層を硬化するステップであり、前記硬化が、前記基材の側に置かれたUV−Vis照射源による照射によって行われ、前記UV−Vis照射源は、前記コーティング層を保持する1つ又は複数の第2の基材領域がUV−Vis照射に曝露されないようにフォトマスクを備えているステップと、
c)ステップb2)の下での前記フォトマスクの存在により第1の状態にある前記コーティング層を保持する少なくとも前記1つ又は複数の第2の基材領域を、第2の磁場発生デバイスの磁場に曝露し、それによって、前記複数の磁性顔料粒子又は磁化可能顔料粒子を、ランダム配向以外の任意の配向に従うように配向させ、同時に、部分的に同時に、又は逐次、前記コーティング層を保持する少なくとも前記1つ又は複数の第2の基材領域をUV−Vis照射源で照射することによって第2の状態に硬化して、前記磁性顔料粒子又は磁化可能顔料粒子がそれらの採用された位置及び配向に固定されるようにするステップと、
を含み、
ステップa)の下での前記基材が、200nm〜500nmの範囲の照射源の放出スペクトルの1つ又は複数の波長を透過させる、方法。 - 基材上に、単一硬化層で作製された少なくとも2つの隣接するパターンで作製されたモチーフを含む光学効果層(OEL)を生成するための方法であって、
a)複数の磁性粒子又は磁化可能粒子を含むコーティング組成物を、前記基材上に付着させて、第1の状態にあるコーティング層が形成されるようにするステップと、
b)
b1)第1の磁場発生デバイスの磁場に、前記コーティング層を保持する1つ又は複数の第1の基材領域を曝露し、それによって、前記複数の磁性顔料粒子又は磁化可能顔料粒子を、ランダム配向以外の任意の配向に従うように配向させるステップ、及び
b2)同時に、部分的に同時に、又は逐次、本明細書に記載されるように前記コーティング層を硬化するステップであり、前記硬化が、前記コーティング層を保持する1つ又は複数の第2の基材領域がUV−Vis照射に曝露されないようにフォトマスクを備えているUV−Vis照射源で照射することによって行われるステップと、
c)ステップb2)の下での前記フォトマスクの存在により第1の状態にある前記コーティング層を保持する少なくとも前記1つ又は複数の第2の基材領域を、前記コーティング層の側に置かれた第2の磁場発生デバイスの磁場に曝露し、それによって、前記複数の磁性顔料粒子又は磁化可能顔料粒子を、前記コーティング層を保持する側から見たときに凹状曲面に従うように配向させ、同時に又は部分的に同時に、前記コーティング層を保持する少なくとも前記1つ又は複数の第2の基材領域を、前記基材を通して硬化するステップであり、前記硬化が、前記基材の側に置かれたUV−Vis照射源で照射することによって行われるステップと、
を含み、
ステップa)の下での前記基材が、200nm〜500nmの範囲の前記照射源の放出スペクトルの1つ又は複数の波長を透過させる、方法。 - 請求項7のステップc)が、第2の磁場発生デバイスにより実施され、それによって、前記複数の磁性顔料粒子又は磁化可能顔料粒子を、前記コーティング層を保持する側から見たときに凸状曲面に従うように配向させ、又は
請求項8のステップb1)が、第1の磁場発生デバイスにより実施され、それによって、前記複数の磁性顔料粒子又は磁化可能顔料粒子を、前記コーティング層を保持する側から見たときに凸状曲面に従うように配向させる、請求項7又は8に記載の方法。 - 付着させる前記ステップa)が、スクリーン印刷、グラビア印刷、及びフレキソ印刷からなる群から選択される印刷プロセスである、請求項7〜9のいずれか一項に記載の方法。
- 前記複数の磁性顔料粒子又は磁化可能顔料粒子の少なくとも一部が、磁性薄膜干渉顔料、磁性コレステリック液晶顔料、1種又は複数種の磁性材料を含む干渉コーティング付き顔料、及びこれらの混合物によって構成されている、請求項7〜10のいずれか一項に記載の方法。
- 前記第2の磁場発生デバイスが前記基材側に置かれ、前記第2のコーティング組成物に照射されるUV−Vis放射線用のUV−Vis照射源が前記コーティング層上に置かれている、請求項4〜6のいずれか一項に記載の方法、或いは、
ステップc)が、c)ステップb2)の下での前記フォトマスクの存在により第1の状態にある前記コーティング層を保持する少なくとも前記1つ又は複数の第2の基材領域を、前記基材側に置かれた第2の磁場発生デバイスの磁場に曝露し、それによって、前記複数の磁性顔料粒子又は磁化可能顔料粒子を、ランダム配向以外の任意の配向に従うように配向させ、同時に、部分的に同時に、又は逐次、前記コーティング層側に置かれたUV−Vis照射源での照射によって、前記コーティング層を保持する少なくとも前記1つ又は複数の第2の基材領域を第2の状態に硬化して、前記磁性顔料粒子又は磁化可能顔料粒子がそれらの採用された位置及び配向で固定されるようにすることを含む、請求項7、又は請求項7に従属する場合の請求項9に記載の方法、或いは、
ステップb)が、b1)前記コーティング層を保持する1つ又は複数の第1の基材領域を、前記基材側に置かれた第1の磁場発生デバイスの磁場に曝露し、それによって、前記複数の磁性顔料粒子又は磁化可能顔料粒子を、ランダム配向以外の任意の配向に従うように配向させるステップ、及びb2)同時に、部分的に同時に、又は逐次、前記コーティング層側に置かれたUV−Vis照射源での照射によって前記コーティング層を硬化し、前記照射源が、前記コーティング層を保持する1つ又は複数の第2の基材領域が前記UV−Vis照射に曝露されないようにフォトマスクを備えているステップ、を含む、請求項8、又は請求項8に従属する場合の請求項9に記載の方法。 - 請求項1〜12のいずれか一項に記載の方法により調製された、光学効果層(OEL)。
- 偽造若しくは不正からセキュリティ文書を保護するための、又は装飾付与のための、請求項13に記載の光学効果層(OEL)の使用。
- 請求項13に記載の光学効果層(OEL)を1つ又は複数含む、セキュリティ文書。
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