JP2017525725A - 3−フェニル/ヘテロアリール−6−フェノキシ−8−アルキルアミノ−イミダゾ[1,2−b]ピリダジン誘導体を調製する方法 - Google Patents
3−フェニル/ヘテロアリール−6−フェノキシ−8−アルキルアミノ−イミダゾ[1,2−b]ピリダジン誘導体を調製する方法 Download PDFInfo
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Abstract
3−フェニル/ヘテロアリール−6−フェノキシ−8−アルキルアミノ−イミダゾ[1,2−b]ピリダジン誘導体を調製する方法及びその調製方法における中間体。N−シクロプロピル−4−{6−(2,3−ジフルオロ−4−メトキシフェノキシ)−8−[(3,3,3−トリフルオロプロピル)アミノ]イミダゾ[1,2−b]ピリダジン−3−イル}−2−メチルベンズアミドの結晶質形態。該化合物は、Mps−1キナーゼ(単極紡錘体1キナーゼ;チロシントレオニンキナーゼ(TTK)としても知られている)の阻害物質である。
Description
本発明は、本明細書中において記載及び定義されている一般式(I)で表される置換イミダゾピリダジン化合物を調製する方法、及び、該化合物の調製において有用な中間体化合物に関する。
本発明は、Mps−1(単極紡錘体1)キナーゼ(チロシントレオニンキナーゼ(TTK)としても知られている)を阻害する置換イミダゾピリダジン化合物を調製する方法に関する。
イミダゾピリダジン誘導体は、Mps−1キナーゼを効果的に阻害することが分かっている。イミダゾピリダジン誘導体及びその調製方法は、例えば、EP2460805A1及びWO2012/032031A1に開示されている。
WO2012/032031A1に開示されている多くの種類の化合物は、以下のスキームに準じて調製された(例えば、実施例253、実施例254、実施例256、実施例257、実施例258、実施例259、実施例260及び実施例262を参照されたい):
ここで、R1及びR2は、置換されていてもよいフェニル基であり、R3は、置換されていてもよいアルキル基であり、及び、Xは、ボロン酸基又はボロン酸基のエステルである。
当該スキームの段階1において第1級アミンを導入することでイミダゾピリダジンコアが不活性化されるということが分かった。当該スキームの段階3においては、比較的厳格な反応条件下でヒドロキシ化合物R1−OHを導入しなければならず、それによって、望ましくない副生物が生じ、従って、全収率を上げなければならない。さらに、WO2012/032031A1に開示されている調製方法の場合、当該反応を完結させるためには、6モル当量(これは、5モルの過剰量を意味する)のフェノール誘導体R1−OHが必要であった。
〔式中、
R1は、フェニル基又はヘテロアリール基を表し、ここで、該フェニル基又はヘテロアリール基は、ハロゲン、−CN、C1−C3−アルキル−、C1−C3−アルコキシ−、ハロ−C1−C3−アルキル−、ハロ−C1−C3−アルコキシ−から選択される1、2又は3の置換基で同じように又は異なるように置換されていてもよく;
R2は、フェニル基を表し、ここで、該フェニル基は、C1−C3−アルキル−、−C(=O)N(H)R4、−C(=S)N(H)R4から選択される1、2又は3の置換基で同じように又は異なるように置換されていてもよく;
R3aは、C1−C6−アルキル基を表し、ここで、該アルキル基は、ハロゲン、−CN、C1−C3−アルコキシ−、ハロ−C1−C3−アルキル−、ハロ−C1−C3−アルコキシ−、3〜7員のヘテロシクロアルキルから選択される1、2又は3の置換基で同じように又は異なるように置換されていてもよく;
R3bは、水素原子又はC1−C6−アルキル基を表し、ここで、該アルキル基は、ハロゲン、−CN、C1−C3−アルコキシ−、ハロ−C1−C3−アルキル−、ハロ−C1−C3−アルコキシ−、3〜7員のヘテロシクロアルキルから選択される1、2又は3の置換基で同じように又は異なるように置換されていてもよく;
R4は、メチル基、エチル基又はシクロプロピル基を表し、ここで、該メチル基又はエチル基は、ハロゲン、−OH、−CN、C1−C3−アルコキシ−から選択される1、2、3又は4の基で同じように又は異なるように置換されていてもよく、該シクロプロピル基は、ハロゲン、−OH、−CN、C1−C3−アルコキシ−から選択される1、2、3又は4の基で同じように又は異なるように置換されていてもよい〕
で表される化合物を調製する方法を提供し、ここで、該方法は、以下の段階:
(a) 一般式(II):
R1は、フェニル基又はヘテロアリール基を表し、ここで、該フェニル基又はヘテロアリール基は、ハロゲン、−CN、C1−C3−アルキル−、C1−C3−アルコキシ−、ハロ−C1−C3−アルキル−、ハロ−C1−C3−アルコキシ−から選択される1、2又は3の置換基で同じように又は異なるように置換されていてもよく;
R2は、フェニル基を表し、ここで、該フェニル基は、C1−C3−アルキル−、−C(=O)N(H)R4、−C(=S)N(H)R4から選択される1、2又は3の置換基で同じように又は異なるように置換されていてもよく;
R3aは、C1−C6−アルキル基を表し、ここで、該アルキル基は、ハロゲン、−CN、C1−C3−アルコキシ−、ハロ−C1−C3−アルキル−、ハロ−C1−C3−アルコキシ−、3〜7員のヘテロシクロアルキルから選択される1、2又は3の置換基で同じように又は異なるように置換されていてもよく;
R3bは、水素原子又はC1−C6−アルキル基を表し、ここで、該アルキル基は、ハロゲン、−CN、C1−C3−アルコキシ−、ハロ−C1−C3−アルキル−、ハロ−C1−C3−アルコキシ−、3〜7員のヘテロシクロアルキルから選択される1、2又は3の置換基で同じように又は異なるように置換されていてもよく;
R4は、メチル基、エチル基又はシクロプロピル基を表し、ここで、該メチル基又はエチル基は、ハロゲン、−OH、−CN、C1−C3−アルコキシ−から選択される1、2、3又は4の基で同じように又は異なるように置換されていてもよく、該シクロプロピル基は、ハロゲン、−OH、−CN、C1−C3−アルコキシ−から選択される1、2、3又は4の基で同じように又は異なるように置換されていてもよい〕
で表される化合物を調製する方法を提供し、ここで、該方法は、以下の段階:
(a) 一般式(II):
〔式中、R2は、一般式(I)に関して定義されているとおりであり、及び、Yは、パラジウムが触媒するカップリング反応を可能にする基、例えば、ボロン酸基、ボロン酸基のエステル、MIDAボロネート及びカリウムフルオロボレートなどである〕
で表される化合物と反応させ、それによって、一般式(VI):
で表される化合物と反応させ、それによって、一般式(VI):
〔式中、R3a及びR3bは、一般式(I)に関して定義されているとおりである〕
で表される化合物と反応させ、それによって、一般式(I)で表される化合物を生成させる段階;
を含んでいる。
で表される化合物と反応させ、それによって、一般式(I)で表される化合物を生成させる段階;
を含んでいる。
本発明は、さらに、上記一般式(I)で表される化合物の調製において使用される化合物にも関する。
〔式中、R1は、上記一般式(I)に関して定義されているとおりであり、及び、LG3は、脱離基である〕
で表される化合物を包含する。
で表される化合物を包含する。
〔式中、R1及びR2は、上記一般式(I)に関して定義されているとおりである〕
で表される化合物も包含する。
で表される化合物も包含する。
〔式中、R1は、上記一般式(I)に関して定義されているとおりであり、及び、LG3は、脱離基である〕
で表される中間体化合物の使用も包含する。
で表される中間体化合物の使用も包含する。
〔式中、R1及びR2は、上記一般式(I)に関して定義されているとおりである〕
で表される中間体化合物の使用も包含する。
で表される中間体化合物の使用も包含する。
さらに別の態様によれば、本発明は、本発明による調製方法の生成物として得られるN−シクロプロピル−4−{6−(2,3−ジフルオロ−4−メトキシフェノキシ)−8−[(3,3,3−トリフルオロプロピル)アミノ]イミダゾ[1,2−b]ピリダジン−3−イル}−2−メチルベンズアミドの結晶形態を包含し、ここで、そのX線ディフラクトグラムが約3.7、17.4、21.3及び23.9において2シータ角のピーク最大値を示すことを特徴とする。
本明細書中において言及されている用語は、好ましくは、下記意味を有する。
用語「ハロゲン原子」又は「ハロ−」は、フッ素原子、塩素原子、臭素原子又はヨウ素原子を意味するものと理解される。
用語「C1−C6−アルキル」は、好ましくは、1個、2個、3個、4個、5個又は6個の炭素原子を有している直鎖又は分枝鎖の飽和一価炭化水素基、例えば、メチル、エチル、プロピル、ブチル、ペンチル、ヘキシル、イソ−プロピル、イソ−ブチル、sec−ブチル、tert−ブチル、イソ−ペンチル、2−メチルブチル、1−メチルブチル、1−エチルプロピル、1,2−ジメチルプロピル、ネオ−ペンチル、1,1−ジメチルプロピル、4−メチルペンチル、3−メチルペンチル、2−メチルペンチル、1−メチルペンチル、2−エチルブチル、1−エチルブチル、3,3−ジメチルブチル、2,2−ジメチルブチル、1,1−ジメチルブチル、2,3−ジメチルブチル、1,3−ジメチルブチル若しくは1,2−ジメチルブチル基、又は、それらの異性体を意味するものと理解される。特に、該基は、1個、2個、3個又は4個の炭素原子を有しており(「C1−C4−アルキル」)、例えば、メチル、エチル、プロピル、ブチル、イソ−プロピル、イソ−ブチル、sec−ブチル、tert−ブチル基であり、より特定的には、1個、2個又は3個の炭素原子を有しており(「C1−C3−アルキル」)、例えば、メチル、エチル、n−プロピル又はイソ−プロピル基である。
用語「C1−C6−アルキレン」は、好ましくは、1個、2個、3個、4個、5個又は6個の炭素原子を有している直鎖又は分枝鎖の飽和二価炭化水素鎖(「chain」、又は、「tether」)、例えば、−CH2−(「メチレン」又は「C1−アルキレン」)、又は、例えば、−CH2−CH2−(「エチレン」又は「C2−アルキレン」)、−CH2−CH2−CH2−、−C(H)(CH3)−CH2−、又は、−C(CH3)2−)(「プロピレン」又は「C3−アルキレン」)、又は、例えば、−CH2−C(H)(CH3)−CH2−、−CH2−C(CH3)2−)、−CH2−CH2−CH2−CH2−(「ブチレン」又は「C4−アルキレン」)、「−C5−アルキレン−」、例えば、−CH2−CH2−CH2−CH2−CH2−(「n−ペンチレン」)、又は、「C6−アルキレン」、例えば、CH2−CH2−CH2−CH2−CH2−CH2−(「n−ヘキシレン」)基を意味するものと理解される。特に、該アルキレン鎖は、1個、2個、3個、4個又は5個の炭素原子を有しており(「C1−C5−アルキレン」)、より特定的には、1個又は2個の炭素原子を有しており(「C1−C2−アルキレン」)、又は、3個、4個又は5個の炭素原子を有している(「C3−C5−アルキレン」)。
用語「ハロ−C1−C3−アルキル」は、好ましくは、用語「C1−C3−アルキル」は上記で定義されており且つ1個以上の水素原子がハロゲン原子で同じように又は異なるように(即ち、1個のハロゲン原子は別のハロゲン原子から独立している)置き換えられている直鎖又は分枝鎖の飽和一価炭化水素基を意味するものと理解される。特に、該ハロゲン原子は、Fである。該ハロ−C1−C3−アルキル基は、例えば、−CF3、−CHF2、−CH2F、−CF2CF3、−CH2CF3又は−CH2CH2CF3である。
用語「C1−C3−アルコキシ」は、好ましくは、式−O−(C1−C3−アルキル)〔式中、用語「C1−C3−アルキル」は、上記で定義されている〕で表される直鎖又は分枝鎖の飽和一価炭化水素基、例えば、メトキシ、エトキシ、n−プロポキシ又はイソ−プロポキシ基を意味するものと理解される。
用語「ハロ−C1−C3−アルコキシ」は、好ましくは、水素原子のうちの1個以上がハロゲン原子で同じように又は異なるように置き換えられている上記で定義されている直鎖又は分枝鎖の飽和一価C1−C3−アルコキシ基を意味するものと理解される。特に、該ハロゲン原子は、Fである。該ハロ−C1−C3−アルコキシ基は、例えば、−OCF3、−OCHF2、−OCH2F、−OCF2CF3又は−OCH2CF3である。
用語「3〜7員のヘテロシクロアルキル」は、2個、3個、4個、5個又は6個の炭素原子を含み且つ−C(=O)−、−O−、−S−、−S(=O)−、−S(=O)2−、−N(Ra)−〔ここで、Raは、水素原子又はC1−C3−アルキル基を表す〕から選択される1以上のヘテロ原子含有基を含んでいる飽和一価単環式炭化水素環を意味するものと理解され、ここで、該ヘテロシクロアルキル基は、当該分子の残部に対して、炭素原子のうちのいずれか1個を介して結合することが可能であるか、又は、窒素原子が存在する場合には、その窒素原子を介して結合することが可能である。
用語「C1−C6」は、本明細書全体を通して、例えば、「C1−C6−アルキル」の定義との関連で、使用される場合、1〜6個の限定された数の炭素原子(即ち、1個、2個、3個、4個、5個又は6個の炭素原子)を有するアルキル基を意味するものと理解される。さらに、該用語「C1−C6」は、その中に包含される任意の部分範囲(例えば、C1−C6、C2−C5、C3−C4、C1−C2、C1−C3、C1−C4、C1−C5、C1−C6;特に、C1−C2、C1−C3、C1−C4、C1−C5、C1−C6;さらに特定的には、C1−C4;「C1−C3−アルコキシ−」、「ハロ−C1−C3−アルキル−」又は「ハロ−C1−C3−アルコキシ−」の場合は、さらに一層特定的には、C1−C2)としても解釈されることは理解される。
用語「ヘテロアリール」は、好ましくは、5個又は6個の環原子を有し且つ同一であるか又は異なっていることが可能な少なくとも1個のヘテロ原子(ここで、該ヘテロ原子は、例えば、酸素、窒素又は硫黄である)を含んでいる一価単環式芳香族環系を意味するものと理解される。特に、ヘテロアリールは、チエニル、フラニル、ピロリル、オキサゾリル、チアゾリル、イミダゾリル、ピラゾリル、イソオキサゾリル、イソチアゾリル、オキサジアゾリル、トリアゾリル、チアジアゾリル、チア−4H−ピラゾリルなどから選択されるか、又は、ピリジニル、ピリダジニル、ピリミジニル、ピラジニル、トリアジニルなどから選択される。
一般に、及び、別途言及されていない限り、該ヘテロアリールラジカル又はヘテロアリーレンラジカルは、その全ての可能な異性体形態(例えば、その位置異性体)を包含する。かくして、幾つかの例証的な非限定的な例に関して、用語「ピリジル」は、ピリジン−2−イル、ピリジン−3−イル及びピリジン−4−イルを包含し;又は、用語「チエニル」は、チエン−2−イル及びチエン−3−イルを包含する。好ましくは、ヘテロアリール基は、ピリジニル基である。
用語「置換されている」は、存在する環境下で指定された原子の正常な原子価を超えず、且つ、置換が安定な化合物をもたらすという条件下において、指定された原子上の1以上の水素が示されている基から選択された基で置き換えられていることを意味する。置換基及び/又は可変部分の組み合わせは、そのような組み合わせが安定な化合物をもたらす場合のみ許容される。
用語「置換されていてもよい」は、特定の基、ラジカル又は部分構造で任意選択的に置換されることを意味する。
本明細書中で使用される場合、用語「脱離基」は、結合電子を受け取る安定な化学種として化学反応において除去される原子又は原子の群を意味する。好ましくは、脱離基は、以下のものを含む群から選択される:ハロ、特に、クロロ、ブロモ又はヨード、メタンスルホニルオキシ、p−トルエンスルホニルオキシ、トリフルオロメタンスルホニルオキシ、ノナフルオロブタンスルホニルオキシ、(4−ブロモ−ベンゼン)スルホニルオキシ、(4−ニトロ−ベンゼン)スルホニルオキシ、(2−ニトロ−ベンゼン)−スルホニルオキシ、(4−イソプロピル−ベンゼン)スルホニルオキシ、(2,4,6−トリ−イソプロピル−ベンゼン)−スルホニルオキシ、(2,4,6−トリメチル−ベンゼン)スルホニルオキシ、(4−tert−ブチル−ベンゼン)スルホニルオキシ、ベンゼンスルホニルオキシ、及び、(4−メトキシ−ベンゼン)スルホニルオキシ。
段階(a)、段階(b)及び段階(c)に従って製造された化合物及び中間体は、精製することが必要な場合がある。有機化合物の精製は、当業者にはよく知られており、そして、同一の化合物を精製する数種類の方法が存在し得る。場合によっては、精製することが必要ではないこともあり得る。場合によっては、該化合物は、結晶化によって精製し得る。場合によっては、該化合物は、アンチソルベントを添加することによって、又は、アンチソルベントに添加することによって、溶液から沈澱させ得る。該アンチソルベント(例えば、水)は、パラジウムに対する捕捉剤として、添加剤(例えば、N−アセチルシステイン)を含有し得る。場合によっては、該化合物は、クロマトグラフィー(特に、フラッシュクロマトグラフィー)で、例えば、予め充填されたシリカゲルカートリッジ〔例えば、Separtis製、例えば、Flashmaster II(Separtis)又はIsolera system(Biotage)などの適切なクロマトグラフィーシステムと組み合わされたIsolute(登録商標) Flash シリカゲル(シリカゲルクロマトグラフィー)又はIsolute(登録商標) Flash NH2 シリカゲル(アミノ相−シリカゲルクロマトグラフィー)〕と溶離液(例えば、ヘキサン/酢酸エチル又はDCM/メタノールの勾配)を使用するクロマトグラフィー(特に、フラッシュクロマトグラフィー)で、精製することができる。場合によっては、該化合物は、分取HPLCで、例えば、予め充填された適切な逆相カラムと組み合わされた、ダイオードアレイ検出器及び/又はオンラインエレクトロスプレーイオン化質量分析計を備えたWaters自動清浄器及び溶離液(例えば、水とアセトニトリル(これは、トリフルオロ酢酸、ギ酸又はアンモニア水などの添加剤を含有し得る)の勾配)を使用する分取HPLCで、精製することができる。
一般に、段階(a)、段階(b)及び段階(c)の反応の進行は、反応器からアリコートを取り出し、適切な方法〔既知技術の中でも、とりわけ、例えば、薄層クロマトグラフィー(TLC)、ガスクロマトグラフィー(GC)、液体クロマトグラフィー(LC)若しくは高性能液体クロマトグラフィー(HPLC)、又は、GC/質量分析(MS)の組合せ、LC/MSの組合せ〕で分析することによって、モニターすることができる。
で表される化合物を調製する方法に関する。
R1は、フェニル基又はヘテロアリール基を表し、ここで、該フェニル基又はヘテロアリール基は、ハロゲン、−CN、C1−C3−アルキル−、C1−C3−アルコキシ−、ハロ−C1−C3−アルキル−、ハロ−C1−C3−アルコキシ−から選択される1、2又は3の置換基で同じように又は異なるように置換されていてもよい。
好ましい実施形態では、R1は、ハロゲン、C1−C3−アルキル−、C1−C3−アルコキシ−、ハロ−C1−C3−アルキル−、ハロ−C1−C3−アルコキシ−から選択される1、2又は3の置換基で同じように又は異なるように置換されていてもよいフェニル基を表す。
好ましい別の実施形態では、R1は、ハロゲン、C1−C2−アルキル−、C1−C2−アルコキシ−、ハロ−C1−C2−アルキル−、ハロ−C1−C2−アルコキシ−から選択される1、2又は3の置換基で同じように又は異なるように置換されていてもよいフェニル基を表す。
好ましい別の実施形態では、R1は、フッ素、C1−C2−アルキル−、C1−C2−アルコキシ−、フルオロ−C1−C2−アルキル−、フルオロ−C1−C2−アルコキシ−から選択される1、2又は3の置換基で同じように又は異なるように置換されていてもよいフェニル基を表す。
好ましい別の実施形態では、R1は、フッ素、メトキシ−から選択される1、2又は3の置換基で同じように又は異なるように置換されているフェニル基を表す。
から選択される基を表し、ここで、*は、当該分子の残部に対する該基の結合点を示している。
から選択される基を表し、ここで、*は、当該分子の残部に対する該基の結合点を示している。
を表し、ここで、*は、当該分子の残部に対する該基の結合点を示している。
R2は、C1−C3−アルキル−、−C(=O)N(H)R4、−C(=S)N(H)R4から選択される1、2又は3の置換基で同じように又は異なるように置換されていてもよいフェニル基を表す。
から選択され、ここで、*は、当該分子の残部に対する該基の結合点を示している。
から選択され、ここで、*は、当該分子の残部に対する該基の結合点を示している。
を表し、ここで、*は、当該分子の残部に対する該基の結合点を示している。
R3aは、ハロゲン、−CN、C1−C3−アルコキシ−、ハロ−C1−C3−アルキル−、ハロ−C1−C3−アルコキシ−、3〜7員のヘテロシクロアルキルから選択される1、2又は3の置換基で同じように又は異なるように置換されていてもよいC1−C6−アルキル基を表す。
から選択される基を表し、ここで、*は、当該分子の残部に対する該基の結合点を示している。
から選択される基を表し、ここで、*は、当該分子の残部に対する該基の結合点を示している。
を表し、ここで、*は、当該分子の残部に対する該基の結合点を示している。
R3bは、水素原子を表すか、又は、ハロゲン、−CN、C1−C3−アルコキシ−、ハロ−C1−C3−アルキル−、ハロ−C1−C3−アルコキシ−、3〜7員のヘテロシクロアルキルから選択される1、2又は3の置換基で同じように又は異なるように置換されていてもよいC1−C6−アルキル基を表す。
好ましい実施形態では、R3bは、水素原子を表すか、又は、ハロゲン、−CN、C1−C3−アルコキシ−、ハロ−C1−C3−アルキル−、ハロ−C1−C3−アルコキシ−から選択される1、2又は3の置換基で同じように又は異なるように置換されていてもよいC1−C6−アルキル基を表す。
好ましい別の実施形態では、R3bは、水素原子を表す。
R4は、メチル基、エチル基又はシクロプロピル基を表し、ここで、該メチル基又はエチル基は、ハロ−、−OH、−CN、C1−C3−アルコキシ−から選択される1、2、3又は4の基で同じように又は異なるように置換されていてもよく、該シクロプロピル基は、ハロ−、−OH、−CN、C1−C3−アルコキシ−から選択される1、2、3又は4の基で同じように又は異なるように置換されていてもよい。
好ましい実施形態では、R4は、メチル−、エチル−、シクロプロピル−から選択される。
好ましい別の実施形態では、R4は、シクロプロピル−を表す。
で表される化合物を生成させる段階(a)を含んでいる。
好ましくは、LG1は、フルオロ−、クロロ−、ブロモ−、ヨード−、トリフルオロメタンスルホニルオキシ−、p−トルエンスルホニルオキシ−及びメタンスルホニルオキシ−から選択される。
さらに好ましい実施形態では、LG1は、臭素原子を表す。
好ましくは、LG2は、フルオロ−、クロロ−、ブロモ−、ヨード−、トリフルオロメタンスルホニルオキシ−、p−トルエンスルホニルオキシ−及びメタンスルホニルオキシ−から選択される。
さらに好ましい実施形態では、LG2は、臭素原子又は塩素原子を表す。
好ましくは、LG3は、ヨウ素原子又は臭素原子を表す。
さらに好ましい実施形態では、LG3は、ヨウ素原子を表す。
一層さらに好ましい実施形態では、LG1は臭素原子を表し、LG2は臭素原子又は塩素原子を表し、及び、LG3はヨウ素原子を表す。
式(II)及び式(III)で表される化合物は、市販されている可能性があるか、又は、当業者には知られている方法によって、例えば、WO2007/38314A2、WO2012/032031A1、EP2460805及び/又はWO2014/80633A1に記載されている方法を適用して、合成することができる。
式(II)で表される化合物と式(III)で表される化合物のカップリングは、原則として、適切な塩基(例えば、炭酸セシウム、炭酸カリウム、又は、リン酸カリウム)の存在下、適切な溶媒(例えば、N−メチルピロリジノン(NMP)、ジメチルスルホキシド(DMSO)、アセトン、アセトニトリル、N,N−ジメチルホルムアミド(DMF)、N,N−ジメチルアセトアミド(DMA)、酢酸エチル、酢酸イソプロピル、メチルイソブチルケトン(MIBK)、テトラヒドロフラン(THF)、1,4−ジオキサン、又は、スルホラン、又は、それら溶媒の混合物)の中での求核芳香族置換反応によって実施することができる。
好ましい実施形態では、段階(a)は、溶媒としてのN−メチルピロリジノン(NMP)の中で、塩基として炭酸セシウムを使用して、さらなる触媒及びリガンドの非存在下で、実施する。
好ましい別の実施形態では、段階(a)は、溶媒としてのジメチルスルホキシド(DMSO)の中で、塩基として炭酸カリウム又は炭酸セシウムを使用して、さらなる触媒及びリガンドの非存在下で、実施する。
式(II)で表される化合物から式(IIa)で表される化合物への変換は、通常、室温で既に起こる。
好ましくは、式(II)で表される化合物を式(IV)で表される化合物に変換するための反応混合物を、撹拌しながら、40℃〜110℃の範囲内の高温まで加熱する。
次いで、−LG1及び−LG2のR1−O−による置換を、比較的穏やかな条件下で、WO2012/032031A1に記載されている調製方法の場合と比較して少ない量のヒドロキシ化合物R1−OHを用いて、実施する。WO2012/032031A1の実施例253、実施例254、実施例256、実施例257、実施例258、実施例259、実施例260及び実施例262における−O−アリール基又は−O−ヘテロアリール基の対応する導入は、120℃〜130℃の遙かに高い温度で実施し、そして、極めて過剰な量のヒドロキシ化合物R1−OHを使用した。
好ましい実施形態では、NMP中における該反応は、60℃〜90℃の範囲内の温度で、好ましくは、65℃〜75℃の範囲内の温度で、実施する。
好ましい別の実施形態では、DMSO中における該反応は、80℃〜120℃の範囲内の温度で、好ましくは、95℃〜105℃の範囲内の温度で、実施する。
式(II)で表される化合物と式(III)で表される化合物のカップリングは、さらにまた、原則として、適切な触媒(例えば、銅系触媒、例えば、二酢酸銅(II)、ヨウ化銅(I)(NMP中でn−ブチルイミダゾール及びCs2CO3と組合せる)、CuI(DMSO中でテトラメチルエチレンジアミン及びK3PO4と組合せる)、又は、CuI(DMSO中でピコリン酸及びK3PO4と組合せる))の存在下、及び、適切な塩基(例えば、炭酸セシウム)の存在下、適切な溶媒(例えば、NMP、DMF、DMA、DMSO、アセトニトリル、水、1,4−ジオキサン、コリジン(特に、2,4,6−トリメチルピリジン、又は、2,3,5−トリメチルピリジン)、ジグリム、イソブチルアミド、NMPと1,1,3,3−テトラメチル尿素の混合物、又は、スルホラン、又は、それら溶媒の混合物)の中でのウルマン型のカップリング反応によって実施することも可能である。場合により、適切なリガンド(例えば、N,N−ジメチルグリシン、又は、ピロリドン−2−イルホスホン酸水素フェニル)を使用することができる。
式(II)で表される化合物と式(III)で表される化合物の反応が完了した後、その反応混合物を、好ましくは、50℃〜60℃の範囲内の温度まで冷却する。その後処理は、好ましくは、その(好ましくは、NMP又はDMSOを含んでいる)反応混合物にテトラヒドロフラン(THF)を添加することによって実施する。無機塩は、水(ここで、該水は、好ましくは、該反応混合物の温度(50℃〜60℃)まで加熱する)を添加することによって溶解させる。一般に、無機塩が溶解した後で、生成物が沈澱する。
次いで、母液中の生成物の含有量を低減させるための濾過による単離に先立って、THFを蒸留によって除去することができる。
THFを用いた後処理によって、極めて良好に濾過することが可能な生成物が得られる。
〔式中、R2は、上記で定義されているとおりであり、及び、Yは、パラジウムが触媒するカップリング反応を可能にする基、例えば、ボロン酸基、ボロン酸基のエステル、MIDAボロネート及びカリウムフルオロボレートなどである〕
で表される化合物と反応させ、それによって、一般式(VI):
で表される化合物と反応させ、それによって、一般式(VI):
で表される化合物を生成させる、段階(b)も含んでいる。
式(V)で表される化合物は、市販されている可能性があるか、又は、例えばハロゲン化アリールから、調製することができる[例えば、「K.L. Billingslay, T.E. Barde, S.L Buchwald, Angew. Chem. 2007, 119, 5455」又は「T. Graening, Nachrichten aus der Chemie, Jan 2009, 57, 34」を参照されたい]。式(V)で表される化合物の調製に関する例は、例えば、WO2012/032031A1、EP2460805及びWO2014/80633A1の中に見いだすこともできる。式(V)で表される化合物は、ハロゲン化アリールと試薬(例えば、テトラヒドロキシジボロン、又は、ビス(ピナコラト)ジボロン)から、その場で調製することもでき、そして、予め単離することなく、スズキカップリングに使用することができる。
〔ここで、
RB1及びRB2は、互いに独立して、水素原子、又は、C1−C6−アルキル基若しくはC3−C6−シクロアルキル基を表し;
又は、
RB1とRB2は、一緒に、C1−C6−アルキレン基を表す〕
から選択される。
RB1及びRB2は、互いに独立して、水素原子、又は、C1−C6−アルキル基若しくはC3−C6−シクロアルキル基を表し;
又は、
RB1とRB2は、一緒に、C1−C6−アルキレン基を表す〕
から選択される。
を表す。
を表す。
式(IV)で表される化合物は、適切な溶媒(例えば、アセトニトリル、DMF、NMP、1,4−ジオキサン、THF、2−メチルテトラヒドロフラン、DME、水、又は、これら溶媒の混合物)の中で、適切な触媒系〔例えば、パラジウム系触媒、例えば、Pd/C、Pd(OH)2、酢酸パラジウム(II)、Pd(dba)2、Pd2(dba)3、Pd2(dba)3−CHCl3、Pd(η3−1−PhC3H4)(η5−C5H5)(Organometallics 2012, 31, 2470−2475; J. Org. Chem. 2012, 77, 6908−6916)、テトラキス(トリフェニルホスフィン)パラジウム(0)、ビス(トリフェニルホスフィン)−パラジウム(II)クロリド、又は、(1,1,−ビス(ジフェニルホスフィノ)フェロセン)−ジクロロパラジウム(II)〕の存在下、及び、場合により適切な添加剤(例えば、ホスフィン類、例えば、P(oTol)3、又は、トリフェニルホスフィン)の存在下、及び、場合により適切な塩基(例えば、炭酸カリウム、フッ化セシウム、炭酸セシウム、炭酸水素ナトリウム、テトラブチルアンモニウムフルオリド、又は、三塩基性リン酸カリウム)を用いて、室温〜100℃の範囲内の温度(好ましくは、使用する溶媒の沸点)で、R2−Yと反応させることによって、一般式(VI)で表される化合物に変換させることが可能である。
好ましい実施形態では、段階(b)は、THF/水混合物(ここで、該混合物は、好ましくは、9:1〜4:6の範囲内のTHF/水体積比を有する)の中で、触媒としてビス(ジベンジリデンアセトン)パラジウム(0)を使用し、ホスフィンリガンドの非存在下、及び、塩基としてリン酸カリウムを使用して、60℃〜80℃の範囲内の温度(さらに好ましくは、65℃〜75℃の範囲内の温度、最も好ましくは、当該溶液の沸点)で、遊離体としての式(IV)〔式中、LG3はヨウ素原子である〕で表される化合物を使用して、実施する。驚くべきことに、Pd(0)が触媒する反応をホスフィンリガンドの非存在下で実施することで、ホスフィンリガンドの存在下における類似した反応と比較して高い収率がもたらされるということが分かった。
好ましい別の実施形態では、段階(b)は、THF/水混合物(ここで、該混合物は、好ましくは、9:1〜4:6の範囲内のTHF/水体積比を有する)の中で、触媒としてPd(η3−1−PhC3H4)(η5−C5H5)を使用し、及び、塩基としてK3PO4を使用して、60℃〜90℃の範囲内の温度(さらに好ましくは、65℃〜75℃の範囲内の温度)で、実施する。
好ましい別の実施形態では、段階(b)は、アセトニトリル/水混合物(ここで、該混合物は、好ましくは、2:1〜1:2の範囲内のアセトニトリル/水体積比を有する)の中で、触媒としてPd(η3−1−PhC3H4)(η5−C5H5)を使用し、及び、塩基としてK2CO3を使用して、60℃〜90℃の範囲内の温度(さらに好ましくは、65℃〜75℃の範囲内の温度)で、実施する。
好ましい別の実施形態では、段階(b)は、THF/水混合物(ここで、該混合物は、好ましくは、2:1〜1:2の範囲内のTHF/水体積比を有する)の中で、触媒としてジクロロ[1,1’−ビス(ジフェニルホスフィノ)フェロセン]パラジウムジクロロメタン付加体を使用し、及び、塩基としてK3PO4を使用して、60℃〜90℃の範囲内の温度(さらに好ましくは、65℃〜75℃の範囲内の温度)で、実施する。
該反応が完了した後、Pdを除去するために、その反応混合物に、N−アセチルシステインを添加することができる。驚くべきことに、THF/水混合物の中に存在している反応段階(b)の生成物がN−アセチルシステインの求核的な攻撃に対して極めて安定であるということが分かった。
該粗製生成物は、完成した混合物を濾過することによって、単離することができる。その生成物は、THF/水混合物で洗浄し、NMP(55℃〜75℃の範囲内の温度で)に溶解させることによって、不要物を除去することができる。残留するパラジウムの量は、活性炭を添加して撹拌することによって、又は、活性炭を含んでいるフィルターを通してその溶液を濾過することによって、低減させることができる。水又はN−アセチル−システインの水溶液(約1重量%、Pd含有量をさらに低減させることを目的としている)を添加することによって、不要物が除去された生成物を当該溶液から沈澱させる。
〔式中、R3a及びR3bは、上記で定義されているとおりである〕
で表される化合物と反応させ、それによって、一般式(I)で表される化合物を生成させる、段階(c)も含んでいる。
で表される化合物と反応させ、それによって、一般式(I)で表される化合物を生成させる、段階(c)も含んでいる。
式(VI)におけるR1−O−基のうちの1つを−N(R3b)R3a基で選択的に置換することは、適切な溶媒(例えば、DMA、N,N−ジメチルホルムアミド、DMSO、スルホラン、又は、1−メチルピロリジン−2−オン)の中で、室温からその溶媒の沸点までの範囲内の温度で、実施することができる。
好ましい実施形態では、段階(c)は、溶媒としてのNMP(ここで、該溶媒は、1〜20重量%の水も含んでいてよい)の中で、60℃〜70℃の範囲内の温度で、好ましくは、さらなる添加剤の非存在下で実施する。
好ましい別の実施形態では、段階(c)は、溶媒としてのジメチルスルホキシド(DMSO)の中で、90℃〜110℃の範囲内の温度(好ましくは、95℃〜105℃の範囲内の温度で)、さらなる添加剤の非存在下で実施する。
驚くべきことに、当該置換が極めて選択的であるということが分かった:当該置換は、イミダゾピリダジンコアの8位においてのみ起こる。
段階(c)の反応をNMPの中で約65℃の温度で実施する場合、約6〜9当量の該アミンが必要である。該反応をDMSOの中で90℃〜110℃の範囲内の温度で実施する場合、式(VI)で表される化合物を式(I)で表される化合物に完全に変換させるためには、1.5当量の当該アミンで充分である。好ましい実施形態では、段階(c)は、式(VI)で表される化合物の量に対して1.3〜2.5モル当量の式(VII)で表される化合物を用いて実施する。このことは、1モルの式(VI)で表される化合物を式(I)で表される化合物に変換させるために、1.3〜2.5モルの式(VII)で表される化合物を使用することを意味する。
当該生成物は、その反応混合物を水に添加することによって単離することができる。その沈澱した生成物を濾過し、不要物を除去することができる。
好ましい実施形態では、段階(c)で得られた粗製生成物を含んでいる当該反応混合物を45℃〜55℃の範囲内の温度まで冷却し、次いで、その粘性を低減させるためにTHFで稀釈する。活性炭を使用してPd残渣を除去することができる。
本発明が本明細書中に記載されている好ましい実施形態の任意の組合せにも関するということは理解されるべきである。
より特定的には、本発明は、本明細書の下記実施例のセクションに開示されている一般式(I)で表される化合物を調製する方法を包含する。
好ましい実施形態では、本発明は、以下のものから選択される化合物を調製する方法に関する:
N−シクロプロピル−4−{6−(3−フルオロ−4−メトキシフェノキシ)−8−[(オキセタン−3−イルメチル)アミノ]イミダゾ[1,2−b]ピリダジン−3−イル}−2−メチルベンズアミド(化合物(A));
N−シクロプロピル−4−{6−(2,3−ジフルオロ−4−メトキシフェノキシ)−8−[(3,3,3−トリフルオロプロピル)アミノ]イミダゾ[1,2−b]ピリダジン−3−イル}−2−メチルベンズアミド(化合物(B));及び、
N−シクロプロピル−4−{6−(2,3−ジフルオロ−4−メトキシフェノキシ)−8−[(テトラヒドロ−2H−ピラン−4−イルメチル)アミノ]イミダゾ[1,2−b]ピリダジン−3−イル}−2−メチルベンズアミド(化合物(C))。
N−シクロプロピル−4−{6−(3−フルオロ−4−メトキシフェノキシ)−8−[(オキセタン−3−イルメチル)アミノ]イミダゾ[1,2−b]ピリダジン−3−イル}−2−メチルベンズアミド(化合物(A));
N−シクロプロピル−4−{6−(2,3−ジフルオロ−4−メトキシフェノキシ)−8−[(3,3,3−トリフルオロプロピル)アミノ]イミダゾ[1,2−b]ピリダジン−3−イル}−2−メチルベンズアミド(化合物(B));及び、
N−シクロプロピル−4−{6−(2,3−ジフルオロ−4−メトキシフェノキシ)−8−[(テトラヒドロ−2H−ピラン−4−イルメチル)アミノ]イミダゾ[1,2−b]ピリダジン−3−イル}−2−メチルベンズアミド(化合物(C))。
WO 2014/131739に記載されているように、化合物(A)、化合物(B)及び化合物(C)は、驚くべきことに、機能的アッセイ(紡錘体集合チェックポイントアッセイ)、抗増殖活性(HeLa細胞を用いた増殖アッセイ)、代謝安定性(ラット肝細胞におけるインビトロ代謝安定性)及び薬物−薬物相互作用可能性(肝臓酵素CYP3A4の阻害)において、Mps−1−キナーゼ関連阻害活性に関して優れた総体的プロフィールを示す。
さらに別の好ましい実施形態では、本発明は、N−シクロプロピル−4−{6−(2,3−ジフルオロ−4−メトキシフェノキシ)−8−[(3,3,3−トリフルオロプロピル)アミノ]イミダゾ[1,2−b]ピリダジン−3−イル}−2−メチルベンズアミドを調製する方法に関し、ここで、該調製方法は、以下の段階:
(a) 8−ブロモ−6−クロロ−3−ヨードイミダゾ[1,2−b]ピリダジン又は6,8−ジブロモ−3−ヨードイミダゾ[1,2−b]ピリダジンを2,3−ジフルオロ−4−メトキシフェノールと反応させ;それによって、6,8−ビス(2,3−ジフルオロ−4−メトキシフェノキシ)−3−ヨードイミダゾ[1,2−b]ピリダジンを生成させる段階;
(b) 6,8−ビス(2,3−ジフルオロ−4−メトキシフェノキシ)−3−ヨードイミダゾ[1,2−b]ピリダジンを[4−(シクロプロピルカルバモイル)−3−メチルフェニル]ボロン酸と反応させ;それによって、4−[6,8−ビス(2,3−ジフルオロ−4−メトキシフェノキシ)イミダゾ[1,2−b]ピリダジン−3−イル]−N−シクロプロピル−2−メチルベンズアミドを生成させる段階;
(c) 4−[6,8−ビス(2,3−ジフルオロ−4−メトキシフェノキシ)イミダゾ[1,2−b]ピリダジン−3−イル]−N−シクロプロピル−2−メチルベンズアミドを3,3,3−トリフルオロプロパン−1−アミンと反応させ;それによって、N−シクロプロピル−4−{6−(2,3−ジフルオロ−4−メトキシフェノキシ)−8−[(3,3,3−トリフルオロプロピル)アミノ]イミダゾ[1,2−b]ピリダジン−3−イル}−2−メチルベンズアミドを生成させる段階;
を含んでいる。
(a) 8−ブロモ−6−クロロ−3−ヨードイミダゾ[1,2−b]ピリダジン又は6,8−ジブロモ−3−ヨードイミダゾ[1,2−b]ピリダジンを2,3−ジフルオロ−4−メトキシフェノールと反応させ;それによって、6,8−ビス(2,3−ジフルオロ−4−メトキシフェノキシ)−3−ヨードイミダゾ[1,2−b]ピリダジンを生成させる段階;
(b) 6,8−ビス(2,3−ジフルオロ−4−メトキシフェノキシ)−3−ヨードイミダゾ[1,2−b]ピリダジンを[4−(シクロプロピルカルバモイル)−3−メチルフェニル]ボロン酸と反応させ;それによって、4−[6,8−ビス(2,3−ジフルオロ−4−メトキシフェノキシ)イミダゾ[1,2−b]ピリダジン−3−イル]−N−シクロプロピル−2−メチルベンズアミドを生成させる段階;
(c) 4−[6,8−ビス(2,3−ジフルオロ−4−メトキシフェノキシ)イミダゾ[1,2−b]ピリダジン−3−イル]−N−シクロプロピル−2−メチルベンズアミドを3,3,3−トリフルオロプロパン−1−アミンと反応させ;それによって、N−シクロプロピル−4−{6−(2,3−ジフルオロ−4−メトキシフェノキシ)−8−[(3,3,3−トリフルオロプロピル)アミノ]イミダゾ[1,2−b]ピリダジン−3−イル}−2−メチルベンズアミドを生成させる段階;
を含んでいる。
好ましい実施形態では、段階(a)は、溶媒としてのN−メチルピロリジノン(NMP)の中で、塩基として炭酸セシウムを使用し、60℃〜90℃の範囲内の温度(さたに好ましくは、65℃〜75℃の範囲内の温度)で、実施する。
好ましい別の実施形態では、段階(a)は、溶媒としてのDMSOの中で、塩基として炭酸カリウム又は炭酸セシウムを使用し、60℃〜100℃の範囲内の温度(さらに好ましくは、65℃〜75℃の範囲内の温度)で、実施する。
好ましい実施形態では、段階(b)は、THF/水混合物の中で、触媒としてビス(ジベンジリデンアセトン)パラジウム(0)を使用し、及び、塩基としてリン酸カリウムを使用し、60℃〜80℃の範囲内の温度(さらに好ましくは、65℃〜75℃の範囲内の温度)で、実施する。
好ましい別の実施形態では、段階(b)は、THF/水混合物の中で、触媒としてPd(η3−1−PhC3H4)(η5−C5H5)を使用し、及び、塩基としてK3PO4を使用し、60℃〜90℃の範囲内の温度(さらに好ましくは、65℃〜75℃の範囲内の温度)で、実施する。
好ましい別の実施形態では、段階(b)は、アセトニトリル/水混合物の中で、触媒としてPd(η3−1−PhC3H4)(η5−C5H5)を使用し、及び、塩基としてK2CO3を使用し、60℃〜90℃の範囲内の温度(さらに好ましくは、65℃〜75℃の範囲内の温度)で、実施する。
好ましい別の実施形態では、段階(b)は、THF/水混合物の中で、触媒としてジクロロ[1,1’−ビス(ジフェニルホスフィノ)フェロセン]パラジウムジクロロメタン付加体を使用し、及び、塩基としてK3PO4を使用し、60℃〜90℃の範囲内の温度(さらに好ましくは、65℃〜75℃の範囲内の温度)で、実施する。
好ましくは、段階(c)は、溶媒としてのジメチルスルホキシド(DMSO)の中で、90℃〜110℃の範囲内の温度(好ましくは、95℃〜105℃の範囲内の温度)で、それ以上の添加剤を加えることなく実施する。
驚くべきことに、生成物を沈澱させるために、段階(c)で得られた反応混合物を水に添加し、次いで、その沈澱した生成物を(その沈澱した生成物を場合により乾燥させた後で)トルエンに懸濁させ、残留している水を共沸除去するために、その懸濁液をその懸濁液の沸点まで加熱し、次いで、その懸濁液を50℃未満の温度まで(好ましくは、19℃〜26℃の範囲内の温度まで)冷却することによって、N−シクロプロピル−4−{6−(2,3−ジフルオロ−4−メトキシフェノキシ)−8−[(3,3,3−トリフルオロプロピル)アミノ]イミダゾ[1,2−b]ピリダジン−3−イル}−2−メチルベンズアミドの結晶形態を得ることができるということが分かった。
あるいは、段階(c)で得られた反応混合物をTHFで稀釈し、次いで、水を添加する。THFを留去し、沈澱した生成物を濾過する。次いで、その生成物をトルエンに懸濁させ、残留している水を共沸除去するために、その懸濁液をその懸濁液の沸点まで加熱し、次いで、その懸濁液を50℃未満の温度まで(好ましくは、19℃〜26℃の範囲内の温度まで)冷却する。
従って、さらに別の好ましい実施形態では、上記で記載した方法は、さらに、以下の段階:
(d) 段階(c)で得られた生成物N−シクロプロピル−4−{6−(2,3−ジフルオロ−4−メトキシフェノキシ)−8−[(3,3,3−トリフルオロプロピル)アミノ]イミダゾ[1,2−b]ピリダジン−3−イル}−2−メチルベンズアミドを沈澱させるために、その生成物を水に添加する段階;
(e) 段階(d)で得られた沈澱した生成物を、場合により、減圧下で乾燥させる段階;
(f) 段階(d)又は段階(e)で得られた沈澱した生成物をトルエンに懸濁させ、及び、残留している水を共沸除去するために、その懸濁液をその懸濁液の沸点まで加熱する段階;
(g) 段階(f)で得られた懸濁液を50℃未満の温度まで(好ましくは、19℃〜26℃の範囲内の温度まで)冷却し;それによって、結晶形態にあるN−シクロプロピル−4−{6−(2,3−ジフルオロ−4−メトキシフェノキシ)−8−[(3,3,3−トリフルオロプロピル)アミノ]イミダゾ[1,2−b]ピリダジン−3−イル}−2−メチルベンズアミドを得る段階;
を含んでいる。
(d) 段階(c)で得られた生成物N−シクロプロピル−4−{6−(2,3−ジフルオロ−4−メトキシフェノキシ)−8−[(3,3,3−トリフルオロプロピル)アミノ]イミダゾ[1,2−b]ピリダジン−3−イル}−2−メチルベンズアミドを沈澱させるために、その生成物を水に添加する段階;
(e) 段階(d)で得られた沈澱した生成物を、場合により、減圧下で乾燥させる段階;
(f) 段階(d)又は段階(e)で得られた沈澱した生成物をトルエンに懸濁させ、及び、残留している水を共沸除去するために、その懸濁液をその懸濁液の沸点まで加熱する段階;
(g) 段階(f)で得られた懸濁液を50℃未満の温度まで(好ましくは、19℃〜26℃の範囲内の温度まで)冷却し;それによって、結晶形態にあるN−シクロプロピル−4−{6−(2,3−ジフルオロ−4−メトキシフェノキシ)−8−[(3,3,3−トリフルオロプロピル)アミノ]イミダゾ[1,2−b]ピリダジン−3−イル}−2−メチルベンズアミドを得る段階;
を含んでいる。
N−シクロプロピル−4−{6−(2,3−ジフルオロ−4−メトキシフェノキシ)−8−[(3,3,3−トリフルオロプロピル)アミノ]イミダゾ[1,2−b]ピリダジン−3−イル}−2−メチルベンズアミドの結晶形態は、容易に濾過することが可能である;トルエン母液の中に残留する物質の損失は、ごく僅かである。
WO 2014/131739には、N−シクロプロピル−4−{6−(2,3−ジフルオロ−4−メトキシフェノキシ)−8−[(3,3,3−トリフルオロプロピル)アミノ]イミダゾ[1,2−b]ピリダジン−3−イル}−2−メチルベンズアミドを調製する方法が記載されているが、その方法は、非晶質物質をもたらす。上記で記載した調製方法で得られたN−シクロプロピル−4−{6−(2,3−ジフルオロ−4−メトキシフェノキシ)−8−[(3,3,3−トリフルオロプロピル)アミノ]イミダゾ[1,2−b]ピリダジン−3−イル}−2−メチルベンズアミドの結晶形態は、これまで開示されていない。
X線粉末回折データ(XRPD)に関するデータの収集は、ゲルマニウム−単色CuKα1−放射を使用する自動化STOE粉末回折計において、転送方式で実施した。銅製アノードを有するX線管を、40kv及び40mAで作動させた。2θ走査は、2°≦2θ≦40° 2θ≦35°の間で実施した(ステップ幅0.5°)。データの取得及び評価は、STOE WinXpow ソフトウェアパッケージを用いて実施した。
本発明は、さらに、結晶質形態にあるN−シクロプロピル−4−{6−(2,3−ジフルオロ−4−メトキシフェノキシ)−8−[(3,3,3−トリフルオロプロピル)アミノ]イミダゾ[1,2−b]ピリダジン−3−イル}−2−メチルベンズアミドを提供し、ここで、そのX線ディフラクトグラムが約3.7、17.4、21.3及び23.9において2シータ角のピーク最大値を示すことを特徴とする。
当業者は、X線回折パターンが、使用する測定条件に依存する測定誤差を伴って得られ得るということを理解する。特に、X線回折パターンの強度が、当該物質の結晶形態及び使用する測定条件に応じて変動し得るということは、一般に知られている。さらに、相対的強度も実験条件に依存して変動し得ることも理解され、従って、強度の正確な順位は考慮に入れるべきではない。さらに、所与の温度における慣習的なX線回折パターンに関する回折角シータの測定誤差は、典型的には約±0.1であり、そして、そのような程度の測定誤差は、上記で記載した回折角に付随するものとして考慮に入れるべきである。従って、用語「約(about)」は、本明細書中でX線粉末回折パターンに関連して使用される場合、本発明の結晶形態が本明細書中に開示されている添付図面において表されているX線回折パターンに完全に一致するX線回折パターンを与える結晶形態に限定されないということを意味する。添付図面において開示されているX線回折パターンと実質的に同一であるX線回折パターンを与える全ての結晶形態は、本発明の範囲内に含まれる。ある化合物の多形形態のX線回折パターンが完全には同一ではないにもかかわらず、その多形形態が同一で有ることを確認する能力は、当業者の範囲内である。
上記で記載した段階(a)〜段階(g)を含んでいる本発明の方法によって調製されたN−シクロプロピル−4−{6−(2,3−ジフルオロ−4−メトキシフェノキシ)−8−[(3,3,3−トリフルオロプロピル)アミノ]イミダゾ[1,2−b]ピリダジン−3−イル}−2−メチルベンズアミドの結晶形態は、有利な粒度分布によって特徴付けられるということが分かった。表2は、N−シクロプロピル−4−{6−(2,3−ジフルオロ−4−メトキシフェノキシ)−8−[(3,3,3−トリフルオロプロピル)アミノ]イミダゾ[1,2−b]ピリダジン−3−イル}−2−メチルベンズアミドの6つの異なるバッチの、X90値、X50値及びX10値によって表される粒度分布を示している。その粒度分布は、機器「Sympatec Helos」及び方法「AM−PE 69」(Pharmdoss)を使用して、乾式分散で測定した。
バッチNo.1〜No.5は、上記で記載した段階(a)〜段階(c)を含んでいる本発明の方法で調製した。バッチNo.2〜No.5の場合は、その調製方法は、付加的な段階(d)〜段階(g)を含んでいた(バッチNo.1の場合には、段階(d)〜段階(g)は、適用しなかった)。
バッチNo.2〜No.5の粒子はバッチNo.1の粒子と比較して小さく、そして、その分布はより均一であるということが、明瞭に認識され得る。バッチNo.2〜No.5の場合は、最終的な薬物の溶解性又は生物学的利用能を高めるために、粒子のさらなる微粉化は不要で有ることもあり得る。
さらなる態様によれば、本発明は、一般式(I)で表される本発明化合物の調製において有用な、特に、本明細書中に記載されている方法において有用な、中間体化合物を包含する。
〔式中、R1及びLG3は、上記で定義されているとおりである〕
で表される化合物を包含する。
で表される化合物を包含する。
から選択される。
〔式中、R1及びR2は、上記一般式(I)に関して定義されているとおりである〕
で表される化合物も包含する。
で表される化合物も包含する。
から選択される。
方法A(LC−MS):
機器:Waters ACQUITY SQD UPLC System; カラム:Waters Acquity UPLC HSS T3 1.8μ 50×1mm; 溶離液A:1Lの水+0.25mLの99%ギ酸、溶離液B:1Lのアセトニトリル+0.25mLの99%ギ酸; 勾配:0.0分 90%A → 1.2分 5%A → 2.0分 5%A; オーブン:50℃; 流量:0.40mL/分; UV−検出: 208−400nm。
機器:Waters ACQUITY SQD UPLC System; カラム:Waters Acquity UPLC HSS T3 1.8μ 50×1mm; 溶離液A:1Lの水+0.25mLの99%ギ酸、溶離液B:1Lのアセトニトリル+0.25mLの99%ギ酸; 勾配:0.0分 90%A → 1.2分 5%A → 2.0分 5%A; オーブン:50℃; 流量:0.40mL/分; UV−検出: 208−400nm。
方法B(LC−MS):
機器:Waters ACQUITY SQD UPLC System; カラム:Waters Acquity UPLC HSS T3 1.8μ 50×1mm; 溶離液A:1Lの水+0.25mLの99%強ギ酸、溶離液B:1Lのアセトニトリル+0.25mLの99%強ギ酸; 勾配:0.0分 95%A → 6.0分 5%A → 7.5分 5%A; オーブン:50℃; 流量:0.35mL/分; UV−検出:210−400nm。
機器:Waters ACQUITY SQD UPLC System; カラム:Waters Acquity UPLC HSS T3 1.8μ 50×1mm; 溶離液A:1Lの水+0.25mLの99%強ギ酸、溶離液B:1Lのアセトニトリル+0.25mLの99%強ギ酸; 勾配:0.0分 95%A → 6.0分 5%A → 7.5分 5%A; オーブン:50℃; 流量:0.35mL/分; UV−検出:210−400nm。
方法C(LC−MS): TOF−M2
機器:MS:Waters Synapt G2S; UPLC:Waters Acquity I−CLASS; カラム:Waters,HSST3、2.1×50mm、C18 1.8μm; 溶離液A:1Lの水+0.01%ギ酸;溶離液B:1Lのアセトニトリル+0.01%ギ酸; 勾配:0.0分 2%B → 2.0分 2%B → 13.0分 90%B → 15.0分 90%B; オーブン:50℃; 流量:1.20mL/分; UV−検出:210nm。
機器:MS:Waters Synapt G2S; UPLC:Waters Acquity I−CLASS; カラム:Waters,HSST3、2.1×50mm、C18 1.8μm; 溶離液A:1Lの水+0.01%ギ酸;溶離液B:1Lのアセトニトリル+0.01%ギ酸; 勾配:0.0分 2%B → 2.0分 2%B → 13.0分 90%B → 15.0分 90%B; オーブン:50℃; 流量:1.20mL/分; UV−検出:210nm。
方法D(LC−MS): MCW−LTQ−POROSHELL−TFA98−10min
機器:MS:ThermoFisherScientific LTQ−Orbitrap−XL; 機器HPLC:Agilent 1200SL; カラム:Agilent,POROSHELL 120、3×150mm、SB−C18 2.7μm; 溶離液A:1Lの水+0.1%トリフルオロ酢酸;溶離液B:1Lのアセトニトリル+0.1%トリフルオロ酢酸; 勾配:0.0分 2%B → 0.3分 2%B → 5.0分 95%B → 10.0分 95%B; オーブン:40℃; 流量:0.75mL/分; UV−検出:210nm。
機器:MS:ThermoFisherScientific LTQ−Orbitrap−XL; 機器HPLC:Agilent 1200SL; カラム:Agilent,POROSHELL 120、3×150mm、SB−C18 2.7μm; 溶離液A:1Lの水+0.1%トリフルオロ酢酸;溶離液B:1Lのアセトニトリル+0.1%トリフルオロ酢酸; 勾配:0.0分 2%B → 0.3分 2%B → 5.0分 95%B → 10.0分 95%B; オーブン:40℃; 流量:0.75mL/分; UV−検出:210nm。
1.00kgの6,8−ジブロモ−3−ヨードイミダゾ[1,2−b]ピリダジン(2.48mol)、0.87kgの2,3−ジフルオロ−4−メトキシフェノール(5.46mol)及び2.43kgの炭酸セシウム(7.45mol)を5.0LのNMPの中で撹拌し、70℃まで加熱した。70℃で4時間経過した後、その反応混合物を50−60℃まで冷却し、5.0LのTHFを添加した。20.0Lの水を55℃まで加熱し、そして、上記懸濁液に12分以内で添加した。その無機塩が溶解した後、透明な溶液から生成物が沈澱した。その温度を約87℃まで上昇させ、約4Lの溶媒(主に、THF)を蒸留によって除去した。その混合物を2時間以内で20−22℃まで冷却し、その温度で14時間撹拌した。吸引濾過することによってその生成物を単離し、水(毎回2.0L)で洗浄し、質量が不変になるまで、減圧下、40℃で20時間乾燥させた。1.38kg(99%)の標題化合物が僅かに灰色の固体として得られた。
1H−NMR(DMSO−d6):δ=3.91(3H),3.94(3H),6.58(1H),7.06−7.21(2H),7.24−7.32(1H),7.35−7.43(1H),7.76(1H)ppm。
LC−MS(方法A):RT=1.21分;m/z(ES+)562.0g/mol[M+H]+;所要MW=560.98(正確な質量)。
10.0gの6−クロロ−8−ブロモ−3−ヨードイミダゾ[1,2−b]ピリダジン(27.9mmol)、9.83gの2,3−ジフルオロ−4−メトキシフェノール(61.4mmol)及び11.6gの炭酸カリウム(83.7mmol)を50mLのDMSOの中で撹拌し、100℃まで加熱した。100℃で5時間経過した後、その反応混合物を50℃まで冷却し、50mLのTHFを添加した。その懸濁液に、50℃で、200mLの水をゆっくりと添加した。その無機塩が溶解した後、透明な溶液から生成物が沈澱した。その混合物を、内部温度が約87℃になるまで、ジャケット温度100℃で加熱し、38mLの溶媒(主に、THF)を蒸留によって除去した。その混合物を20℃まで冷却し、その温度で3時間撹拌した。吸引濾過することによってその生成物を単離し、水(毎回5mL)で3回洗浄し、減圧下、50℃で一晩乾燥させた。15.6g(99.6%)の標題化合物が純度97%(HPLCによる)で得られた。
実施例1に記載されているようにして調製した1.5kgの6,8−ビス(2,3−ジフルオロ−4−メトキシフェノキシ)−3−ヨードイミダゾ[1,2−b]ピリダジン(2.67mol)及び1.14kgのリン酸カリウム(5.35mol)を、室温で、7.5LのTHFと7.5Lの水に懸濁させ、撹拌した。その混合物に0.64kgの[4−(シクロプロピルカルバモイル)−3−メチルフェニル]ボロン酸(2.94mol)を添加して、褐色の懸濁液になった。その温度が30℃まで上昇した。排気し、窒素を流すことによって、その反応混合物を3回不活性かした。その懸濁液に、15.4gのビス(ジベンジリデンアセトン)パラジウム(0)(26.7mmol)を添加し、その反応容器を再度不活性化した。その反応混合物を70℃まで加熱し、その温度で5時間撹拌した。0.22kgのN−アセチルシステイン(1.35mol)を添加し、撹拌を1時間続けた。20℃まで冷却し、その温度で30分間撹拌した後、その完成した混合物を濾過することによって、粗製生成物を単離した。その粗製生成物をフィルタープレート上で毎回2.88Lの水/THF(1:1)で2回洗浄し、毎回1.44Lの水/THF(1:1)でさらに4回洗浄し、次いで、減圧下、50℃で17時間乾燥させた。その粗製生成物(1.38kg)を室温で12.3LのNMPに溶解させ、60℃まで加熱した。その溶液を予め加熱しておいたフィルタープレート(50℃)で濾過し、1.4LのNMPで洗浄した。その濾液を合し、それに、2.74kgのN−アセチルシステイン水溶液(1重量%)を50℃で1時間かけて添加して、生成物を沈澱させた。その懸濁液を3時間以内で室温まで冷却し、一晩撹拌した。吸引濾過することによって生成物を単離した。水で洗浄し(毎回2.87Lで2回)、THF/水(1:1)(2L)で洗浄し、及び、水(2.87L)で再度洗浄した後、その生成物を、減圧下、50℃で乾燥させた。1.26kg(78%)の標題化合物が白色から僅かに灰色までの粉末として得られた。
1H−NMR(DMSO−d6):δ=0.48−0.55(2H),0.65−0.72(2H),2.14(3H),2.78−2.86(1H),3.93(3H),3.95(3H),6.62(1H),7.13−7.22(2H),7.22−7.26(1H),7.30−7.37(1H),7.39−7.46(1H),7.65−7.70(1H),7.72(1H),8.22(1H),8.28−8.31(1H)ppm。
LC−MS(方法A):RT=1.16分;m/z(ES+)609.2g/mol[M+H]+;所要MW=608.17(正確な質量)。
5.0gの6,8−ビス(2,3−ジフルオロ−4−メトキシフェノキシ)−3−ヨードイミダゾ[1,2−b]ピリダジン(8.9mmol)、2.1gの[4−(シクロプロピルカルバモイル)−3−メチルフェニル]ボロン酸(9.8mmol)、51mgのビス(ジベンジリデンアセトン)パラジウム(0)(0.089mmol)及び2.5gの炭酸カリウム(17.8mmol)を、アルゴン下、室温で、アセトニトリル(25mL)と水(25mL)の脱ガスした混合物に懸濁させた。その反応混合物をジャケット温度70℃で加熱し、その温度で4時間撹拌した。0.73gのN−アセチルシステイン(4.5mmol)を添加し、撹拌を1時間続けた。30分間かけて20℃まで冷却した後、その粗製生成物を濾過によって単離した。その粗製生成物を、フィルタープレート上で、アセトニトリル/水(1:1)(毎回10mL)で3回洗浄した。その残渣を、減圧下(約60mbar)、45℃で一晩乾燥させた。4.8g(89%)の粗製生成物が得られた。4.3gを50℃で43mLのNMPに溶解させ、1.2gの木炭を添加し、15分間撹拌した。その溶液を濾過し、その濾液を毎回10mLのNMPで2回洗浄した。その濾液に、50℃で、1重量%のN−アセチルシステインを含んでいる20mLの水溶液を1時間かけて添加した。得られた懸濁液を3時間かけて23℃まで冷却し、一晩撹拌した。その生成物を濾過し、水(毎回10mL)で3回洗浄し、<200mbarで、45℃で3日間乾燥させた。3.4g(63%)の標題化合物が得られた。
10.0gの6,8−ビス(2,3−ジフルオロ−4−メトキシフェノキシ)−3−ヨードイミダゾ[1,2−b]ピリダジン(17.8mmol)、4.3gの[4−(シクロプロピルカルバモイル)−3−メチルフェニル]ボロン酸(19.6mmol)、51mg(0.18mmol)のPd(η3−1−PhC3H4)(η5−C5H5)及び7.6gのリン酸カリウム(35.6mmol)を、アルゴン下、室温で、THF(50mL)と水(50mL)の脱ガスした混合物に懸濁させた。その反応混合物をジャケット温度70℃で加熱し、その温度で6時間撹拌した。1.45gのN−アセチルシステイン(8.9mmol)を添加し、撹拌を1時間続けた。30分間かけて20℃まで冷却した後、その粗製生成物を濾過によって単離した。その粗製生成物を、フィルタープレート上で、水/THF(1:1)(毎回25mL)で3回洗浄した。その残渣を、減圧下(約60mbar)、45℃で一晩乾燥させた。8.5g(78%)の生成物が、HPLCによる純度96面積%で得られた。
5.0gの6,8−ビス(2,3−ジフルオロ−4−メトキシフェノキシ)−3−ヨードイミダゾ[1,2−b]ピリダジン(8.9mmol)、2.1gの[4−(シクロプロピルカルバモイル)−3−メチルフェニル]ボロン酸(9.8mmol)及び3.8gのリン酸カリウム(17.8mmol)を、アルゴン下、室温で、THF(25mL)と水(25mL)の脱ガスした混合物に懸濁させた。18mgのジクロロ[1,1’−ビス(ジフェニルホスフィノ)フェロセン]パラジウムジクロロメタン付加体(0.022mmol)を添加し、その反応混合物をジャケット温度70℃で加熱し、その温度で10時間撹拌し、その後、室温で一晩撹拌した。70℃(ジャケット温度)まで再度加熱した後、0.73gのN−アセチルシステイン(4.5mmol)を添加し、1時間撹拌を続けた。30分間かけて20℃まで冷却し、1時間撹拌した後、粗製生成物を吸引濾過によって単離した。その粗製生成物を、フィルタープレート上で、水/THF(1:1)(毎回10mL)で3回洗浄した。その残渣を、減圧下(約60mbar)、45℃で一晩乾燥させた。4.5g(83%)の生成物が、HPLCによる純度98.5面積%で得られた。その生成物をNMP(45mL)に懸濁させ、50℃で溶解させた。N−アセチルシステインの1%水溶液(9mL)を1時間かけて添加した。その混合物を1時間かけて23℃まで冷却し、室温で1時間撹拌を続けた。その沈澱物を吸引濾過によって単離し、水(毎回10mL)で3回洗浄し、減圧下、45℃で一晩乾燥させた。3,7g(68%)の標題化合物が、99.5面積%を超えるHPLCによる純度で単離された。
8.5gの6,8−ビス(2,3−ジフルオロ−4−メトキシフェノキシ)−3−ヨードイミダゾ[1,2−b]ピリダジン(15.1mmol)、5.0gのN−シクロプロピル−2−メチル−4−(4,4,5,5−テトラメチル−1,3,2−ジオキサボロラン−2−イル)ベンズアミド、87mgのビス(ジベンジリデンアセトン)パラジウム(0)(0.15mmol)及び6.4gのリン酸カリウム(30.2mmol)を、アルゴン下、室温で、THF(42mL)と水(42mL)の脱ガスした混合物に懸濁させた。その反応混合物をジャケット温度70℃で加熱し、その温度で7時間撹拌し、及び、室温で一晩撹拌した。その混合物を再度70℃まで加熱し、2.5gのN−アセチルシステイン(15.1mmol)を添加し、1時間撹拌を続けた。室温まで冷却した後、その粗製生成物を吸引濾過によって単離し、フィルタープレート上で、水/THF(1:1)(毎回20mL)で3回洗浄した。その粗製生成物を50℃で90mLのNMPに溶解させた。1%のN−アセチルシステインを含んでいる18mLの水を1時間かけて添加する。その混合物を3時間かけて室温まで冷却し、一晩撹拌する。吸引濾過し、水(3×、毎回18mL)で洗浄することによって標題化合物を単離する。45℃及び約100mbarで乾燥させた後、6.8g(74%)の生成物が得られる。
5.0gの6,8−ビス(2,3−ジフルオロ−4−メトキシフェノキシ)−3−ヨードイミダゾ[1,2−b]ピリダジン(8.9mmol)、3.2gのN−シクロプロピル−2−メチル−4−(6−メチル−4,8−ジオキソ−1,3,6,2−ジオキサアザボロカン−2−イル)ベンズアミド(9.8mmol)、51mgのビス(ジベンジリデンアセトン)パラジウム(0)(0.089mmol)及び3.8gのリン酸カリウム(17.8mmol)を、アルゴン下、室温で、THF(25mL)と水(25mL)の脱ガスした混合物に懸濁させた。その反応混合物をジャケット温度70℃で加熱し、その温度で23時間撹拌した。追加の51mgの触媒を添加し、2時間反応させた。0.73gのN−アセチルシステイン(4.5mmol)を添加し、1時間撹拌を続けた。その反応混合物を室温まで冷却した。濾過し、THF/水(1:1)(毎回15mL)で3回洗浄することによって生成物を単離した。2.9g(53%)の標題化合物がHPLCによる純度92面積%で単離された。
10gのボロン酸(45.7mmol)及び6.7gの2,2’−(メチルイミノ)二酢酸(MIDA)(45.7mmol)を、300mLのトルエンと70mLのDMSOに懸濁させた。その混合物をジャケット温度120℃で18時間加熱環流した。Dean−Stark−トラップを用いて水を除去した。その反応混合物を室温まで冷却し、240mLのブライン(10重量%水溶液)及び700mLの酢酸エチルを添加した。生成物が水相中で沈澱した。その有機相を毎回240mLのブラインで2回洗浄した。その有機相を脱水し、蒸発乾燥させて、ボロン酸(1/3)と標題化合物(2/3)を含んでいる1.9gの混合物を得た。その水相を合し、それを濾過することによって、標題化合物をHPLCによる純度95%で単離した。65mbar、45℃で一晩乾燥させた後、10.3g(68%)の標題化合物が得られた。
1H−NMR(DMSO−d6):δ=0.48−0.55(2H),0.63−0.70(2H),2.51(3H − 溶媒のシグナルと重複),2.31(3H),2.78−2.86(1H),4.08−4.16(2H),4.30−4.37(2H),7.22−7.29(3H),8.24(1H)ppm。
LC−MS(方法D):RT=4.10分;m/z(ES+)331.14g/mol[M+H]+;所要MW=330.14(正確な質量)。
実施例8
N−シクロプロピル−4−{6−(2,3−ジフルオロ−4−メトキシフェノキシ)−8−[(3,3,3−トリフルオロプロピル)アミノ]イミダゾ[1,2−b]ピリダジン−3−イル}−2−メチルベンズアミド
N−シクロプロピル−4−{6−(2,3−ジフルオロ−4−メトキシフェノキシ)−8−[(3,3,3−トリフルオロプロピル)アミノ]イミダゾ[1,2−b]ピリダジン−3−イル}−2−メチルベンズアミド
標題化合物の合成及び単離は、窒素雰囲気下、極めて強力な活性成分のための閉じ込め条件下で実施した。
5.5kgのジメチルスルホキシドの中の実施例3に記載されているようにして調製した1.00kg(1.64mol)の4−[6,8−ビス(2,3−ジフルオロ−4−メトキシフェノキシ)イミダゾ[1,2−b]ピリダジン−3−イル]−N−シクロプロピル−2−メチルベンズアミド及び0.37kgのトリフルオロプロパンアミン(3.29mol)を、50分間以内で100℃まで加熱した。その温度で20時間撹拌を続けた。その反応混合物を50℃まで冷却し、フィルタープレートと2μmスチールフィルターカートリッジで濾過した。その濾過された溶液を、5℃−28℃で、13.8kgの水に8時間かけて直接添加して、生成物を沈澱させた。0.7kgのDMSOで洗浄した。その水性混合物を、約2:45時間、80℃に加熱し、次いで、25℃まで冷却し、室温で約12時間撹拌した。その粗製生成物を濾過によって単離し、水(毎回4.3L)で洗浄した。その生成物を、減圧下(最終減圧 27mbar)、50−55℃で約22:40時間乾燥させた。その粗製生成物を10.5kgのトルエンに懸濁させ、110℃まで加熱して、残留水(存在している場合には)を共沸除去した。環流温度で3時間経過した後、その混合物を20−25℃まで冷却し、そして、濾過し、トルエン(毎回1kg)で3回洗浄することによって、その結晶質の生成物を単離した。窒素を流しながら、減圧下、45−55℃で22:30時間乾燥させた後(最終減圧 3mbar)、0.82kg(88%)の白色の固体が得られた。
実施例9
N−シクロプロピル−4−{6−(2,3−ジフルオロ−4−メトキシフェノキシ)−8−[(3,3,3−トリフルオロプロピル)アミノ]イミダゾ[1,2−b]ピリダジン−3−イル}−2−メチルベンズアミド
N−シクロプロピル−4−{6−(2,3−ジフルオロ−4−メトキシフェノキシ)−8−[(3,3,3−トリフルオロプロピル)アミノ]イミダゾ[1,2−b]ピリダジン−3−イル}−2−メチルベンズアミド
250mLのジメチルスルホキシドの中の実施例3に記載されているようにして調製した50.0g(82.2mmol)の4−[6,8−ビス(2,3−ジフルオロ−4−メトキシフェノキシ)イミダゾ[1,2−b]ピリダジン−3−イル]−N−シクロプロピル−2−メチルベンズアミド及び18.6gのトリフルオロプロパンアミン(164.3mmol)を100℃まで加熱した。その温度で20時間撹拌を続けた。その反応混合物を50℃まで冷却し、250mLのTHFで稀釈した。1gの木炭(Norit A Supra(登録商標))を添加し、その混合物を50℃で30分間撹拌した。濾過(Seitz filter plate K100)し、20mLのTHFで洗浄した後、その濾液に、50℃で、30分間かけて水(610mL)を添加して、希薄懸濁液とした。その混合物をマントル温度120℃で加熱して、約240mLの溶媒を蒸留した。蒸留中に、その混合物の温度は、65℃から89℃まで上昇した。室温まで冷却した後、その懸濁液を一晩撹拌した。その沈澱物を吸引濾過によって単離し、水(毎回100mL)で4回洗浄した。その粗製生成物をトルエン(610mL)に懸濁させ、その混合物の最終的な温度が108℃に達するまでマントル温度140℃で加熱して、水(約25mL)を共沸除去した。その混合物を室温まで冷却し、30分間撹拌した。その生成物を吸引濾過することによって単離し、トルエン(毎回60mL)で3回洗浄した。減圧下、40℃で乾燥させて、43.1g(93%)の標題化合物が得られた。
1H−NMR(DMSO−d6+D2O):δ=0.47−0.53(2H),0.63−0.72(2H),2.10(3H),2.63−2.75(2H),2.79(1H),3.65(2H),3.90(3H),6.20(1H),7.10(1H),7.19(1H),7.24(1H),7.61(1H),7.70(1H),7.94(1H)ppm。
7.75−7.81ppm(1H)及び8.24ppm(1H)における2種類の交換可能なN−H−プロトン(比較: PCT/EP2014/053573)は、D2Oとのプロトン交換によって抑制された。
LC−MS(方法A):RT=1.16分;m/z(ES+)562.3g/mol[M+H]+;所要MW=561.18。
3.30gの3,6,8−トリブロモ−3−ヨードイミダゾ[1,2−b]ピリダジン(9.27mmol)、3.27gの2,3−ジフルオロ−4−メトキシフェノール(20.40mmol)及び9.07gの炭酸セシウム(27.82mmol)を33mLのNMPの中で撹拌し、60℃まで加熱した。60℃で19時間経過した後、その反応混合物を50℃まで冷却し、33mLのTHFを添加した。その懸濁液を、室温で、165mLの水に添加した。蒸留によってTHF(26mL)を除去し、その懸濁液を20℃まで冷却した。20℃で2時間撹拌した後、その生成物を吸引濾過によって単離し、水(毎回25mL)で3回洗浄した。その生成物を、減圧下、45℃で一晩乾燥させた。4.4g(理論値の92%)の標題化合物が得られた。
1H−NMR(DMSO−d6):δ=3.91(3H),3.94(3H),6.61(1H),7.06−7.14(1H),7.14−7.21(1H),7.25−7.32(1H),7.36−7.43(1H),7.80(1H)ppm。
LC−MS(方法B):RT=3.86分;m/z(ES+)514.0g/mol[M+H]+;所要MW=512.99(正確な質量)。
12gの6,8−ジブロモ−3−ヨードイミダゾ[1,2−b]ピリダジン(29.8)、11.4gの2,3−ジフルオロ−4−エトキシフェノール(65.5mmol)及び29.1gの炭酸セシウム(89.4mmol)を60mLのNMPの中で撹拌し、70℃まで加熱した。70℃で2時間経過した後、その反応混合物を50℃まで冷却し、60mLのTHFを添加した。その懸濁液に、50℃で、240mLの水をゆっくりと添加した。その混合物を、内部温度が約87℃に達すするまでジャケット温度100℃で加熱し、46mLの溶媒(主に、THF)を蒸留によって除去した。その混合物を20℃まで冷却し、その温度で一晩撹拌した。その生成物を吸引濾過によって単離し、水(毎回12mL)で3回洗浄し、減圧下、40℃で一晩乾燥させた。16.6g(95%)の標題化合物が得られた。
1H−NMR(DMSO−d6):δ=1.35−1.43(6H),4.14−4.24(4H),6.57(1H),7.05−7.19(2H),7.21−7.30(1H),7.32−7.41(1H),7.76(1H)ppm。
LC−MS(方法C):RT=9.91分;m/z(ES+)590.0g/mol[M+H]+;所要MW=589.01(正確な質量)。
10.0gの6,8−ビス(2,3−ジフルオロ−4−エトキシフェノキシ)−3−ヨードイミダゾ[1,2−b]ピリダジン(17.0mmol)、4.1gの[4−(シクロプロピルカルバモイル)−3−メチルフェニル]ボロン酸(18.7mmol)、98mgのビス(ジベンジリデンアセトン)パラジウム(0)(0.17mmol)及び7.2gのリン酸カリウム(33.9mmol)を、アルゴン下、室温で、THF(50mL)と水(50mL)の脱ガスした混合物に懸濁させた。その反応混合物をジャケット温度70℃で加熱し、その温度で9時間撹拌した。室温で14時間撹拌した後、その混合物をジャケット温度70℃で再度加熱し、1.39gのN−アセチルシステイン(8.5mmol)を添加し、1時間撹拌を続けた。30分間かけて23℃まで冷却した後、その粗製生成物を濾過によって単離した。その粗製生成物を、フィルタープレート上で、毎回25mLの水/THF(1:1)で、3回洗浄した。その残渣を、減圧下(約60mbar)、45℃で一晩乾燥させた。5.4g(50%)の標題化合物が得られた。
1H−NMR(DMSO−d6):δ=0.48−0.55(2H),0.65−0.72(2H),1.35−1.45(6H),2.15(3H),2.78−2.86(1H),4.15−4.26(4H),6.62(1H),7.11−7.21(2H),7.21−7.26(1H),7.27−7.34(1H),7.36−7.44(1H),7.65−7.70(1H),7.72(1H),8.22(1H),8.27−8.32(1H)ppm。
LC−MS(方法D):RT=6.38分;m/z(ES+)637.20g/mol[M+H]+;所要MW=636.20(正確な質量)。
実施例13
N−シクロプロピル−4−{6−(2,3−ジフルオロ−4−エトキシフェノキシ)−8−[(3,3,3−トリフルオロプロピル)アミノ]イミダゾ[1,2−b]ピリダジン−3−イル}−2−メチルベンズアミド
N−シクロプロピル−4−{6−(2,3−ジフルオロ−4−エトキシフェノキシ)−8−[(3,3,3−トリフルオロプロピル)アミノ]イミダゾ[1,2−b]ピリダジン−3−イル}−2−メチルベンズアミド
200mgの4−[6,8−ビス(2,3−ジフルオロ−4−エトキシフェノキシ)イミダゾ[1,2−b]ピリダジン−3−イル]−N−シクロプロピル−2−メチルベンズアミド(0.31mmol)及び71mgの3,3,3−トリフルオロプロパンアミン(0.63mmol)を1mLのDMSOの中で100℃まで加熱した。その温度で20時間撹拌した後、LC−MSによる分析は、標題化合物へ完全に変換されたこと、及び、対応して、エトキシジフルオロフェノール−脱離基が遊離されたことを示した。
LC−MS(方法D):RT=5.97分;m/z(ES+)576.20g/mol[M+H]+;所要MW=575.20(正確な質量)。
Claims (21)
- 一般式(I):
〔式中、
R1は、フェニル基又はヘテロアリール基を表し、ここで、該フェニル基又はヘテロアリール基は、ハロゲン、−CN、C1−C3−アルキル−、C1−C3−アルコキシ−、ハロ−C1−C3−アルキル−、ハロ−C1−C3−アルコキシ−から選択される1、2又は3の置換基で同じように又は異なるように置換されていてもよく;
R2は、フェニル基を表し、ここで、該フェニル基は、C1−C3−アルキル−、−C(=O)N(H)R4、−C(=S)N(H)R4から選択される1、2又は3の置換基で同じように又は異なるように置換されていてもよく;
R3aは、C1−C6−アルキル基を表し、ここで、該アルキル基は、ハロゲン、−CN、C1−C3−アルコキシ−、ハロ−C1−C3−アルキル−、ハロ−C1−C3−アルコキシ−、3〜7員のヘテロシクロアルキルから選択される1、2又は3の置換基で同じように又は異なるように置換されていてもよく;
R3bは、水素原子又はC1−C6−アルキル基を表し、ここで、該アルキル基は、ハロゲン、−CN、C1−C3−アルコキシ−、ハロ−C1−C3−アルキル−、ハロ−C1−C3−アルコキシ−、3〜7員のヘテロシクロアルキルから選択される1、2又は3の置換基で同じように又は異なるように置換されていてもよく;
R4は、メチル基、エチル基又はシクロプロピル基を表し、ここで、該メチル基又はエチル基は、ハロゲン、−OH、−CN、C1−C3−アルコキシ−から選択される1、2、3又は4の置換基で同じように又は異なるように置換されていてもよく、該シクロプロピル基は、ハロゲン、−OH、−CN、C1−C3−アルコキシ−から選択される1、2、3又は4の置換基で同じように又は異なるように置換されていてもよい〕
で表される化合物を調製する方法であって、
(a) 一般式(II):
〔式中、
LG1は、脱離基(好ましくは、臭素原子)を表し;
LG2は、脱離基(好ましくは、臭素原子又は塩素原子)を表し;及び、
LG3は、脱離基(好ましくは、ヨウ素原子)を表す〕
で表される化合物を一般式(III):
〔式中、R1は、一般式(I)に関して定義されているとおりである〕
で表される化合物と反応させ、それによって、一般式(IV):
で表される化合物を生成させる段階;
(b) 一般式(IV):
で表される化合物を一般式(V):
〔式中、R2は、一般式(I)に関して定義されているとおりであり、及び、Yは、パラジウムが触媒するカップリング反応を可能にする基、例えば、ボロン酸基、ボロン酸基のエステル、MIDAボロネート及びカリウムフルオロボレートである〕
で表される化合物と反応させ、それによって、一般式(VI):
で表される化合物を生成させる段階;
(c) 一般式(VI):
で表される化合物を一般式(VII):
〔式中、R3a及びR3bは、一般式(I)に関して定義されているとおりである〕
で表される化合物と反応させ、それによって、一般式(I)で表される化合物を生成させる段階;
を含む、前記方法。 - LG1は、臭素原子を表し;
LG2は、臭素原子又は塩素原子を表し;及び、
LG3は、ヨウ素原子を表す;
ことを特徴とする、請求項1に記載の方法。 - 段階(a)を、溶媒としてのN−メチルピロリジノンの中で、塩基として炭酸セシウムを使用して、さらなる触媒及びリガンドの非存在下で実施することを特徴とする、請求項1又は2に記載の方法。
- 段階(a)を、溶媒としてのジメチルスルホキシドの中で、塩基として炭酸カリウム又は炭酸セシウムを使用して、さらなる触媒及びリガンドの非存在下で実施することを特徴とする、請求項1又は2に記載の方法。
- 段階(b)を、THF/水混合物の中で、触媒としてビス(ジベンジリデンアセトン)パラジウム(0)を使用し、ホスフィンリガンドの非存在下で、塩基としてリン酸カリウムを使用して実施することを特徴とする、請求項2〜4のいずれか1項に記載の方法。
- 段階(b)を、THF/水混合物の中で、触媒としてPd(η3−1−PhC3H4)(η5−C5H5)を使用し、及び、塩基としてK3PO4を使用して、60℃〜90℃の範囲内の温度(さらに好ましくは、65℃〜75℃の範囲内の温度)で実施することを特徴とする、請求項2〜4のいずれか1項に記載の方法。
- 段階(b)を、THF/水混合物の中で、触媒としてジクロロ[1,1’−ビス(ジフェニルホスフィノ)フェロセン]パラジウムジクロロメタン付加体を使用し、及び、塩基としてK3PO4を使用して、60℃〜90℃の範囲内の温度(さらに好ましくは、65℃〜75℃の範囲内の温度)で実施することを特徴とする、請求項2〜4のいずれか1項に記載の方法。
- 段階(c)を、ジメチルスルホキシドの中で、式(VI)で表される化合物の量に対して1.3〜2.5モル当量の式(VII)で表される化合物を用いて実施することを特徴とする、請求項1〜7のいずれか1項に記載の方法。
- 以下の段階:
(a) 8−ブロモ−6−クロロ−3−ヨードイミダゾ[1,2−b]ピリダジン又は6,8−ジブロモ−3−ヨードイミダゾ[1,2−b]ピリダジンを2,3−ジフルオロ−4−メトキシフェノールと反応させ;それによって、6,8−ビス(2,3−ジフルオロ−4−メトキシフェノキシ)−3−ヨードイミダゾ[1,2−b]ピリダジンを生成させる段階;
(b) 6,8−ビス(2,3−ジフルオロ−4−メトキシフェノキシ)−3−ヨードイミダゾ[1,2−b]ピリダジンを[4−(シクロプロピルカルバモイル)−3−メチルフェニル]ボロン酸と反応させ;それによって、4−[6,8−ビス(2,3−ジフルオロ−4−メトキシフェノキシ)イミダゾ[1,2−b]ピリダジン−3−イル]−N−シクロプロピル−2−メチルベンズアミドを生成させる段階;
(c) 4−[6,8−ビス(2,3−ジフルオロ−4−メトキシフェノキシ)イミダゾ[1,2−b]ピリダジン−3−イル]−N−シクロプロピル−2−メチルベンズアミドを3,3,3−トリフルオロプロパン−1−アミンと反応させ;それによって、N−シクロプロピル−4−{6−(2,3−ジフルオロ−4−メトキシフェノキシ)−8−[(3,3,3−トリフルオロプロピル)アミノ]イミダゾ[1,2−b]ピリダジン−3−イル}−2−メチルベンズアミドを生成させる段階;
を含む、請求項1〜8のいずれか1項に記載の方法。 - さらに、以下の段階:
(d) 段階(c)で得られた生成物N−シクロプロピル−4−{6−(2,3−ジフルオロ−4−メトキシフェノキシ)−8−[(3,3,3−トリフルオロプロピル)アミノ]イミダゾ[1,2−b]ピリダジン−3−イル}−2−メチルベンズアミドを沈澱させるために、その生成物を水に添加する段階;
(e) 段階(d)で得られた沈澱した生成物を、場合により、減圧下で乾燥させる段階;
(f) 段階(d)又は段階(e)で得られた沈澱した生成物をトルエンに懸濁させ、及び、その懸濁液をその懸濁液の沸点まで加熱する段階;
(g) 段階(f)で得られた懸濁液を50℃未満の温度まで(好ましくは、19℃〜26℃の範囲内の温度まで)冷却し;それによって、結晶形態にあるN−シクロプロピル−4−{6−(2,3−ジフルオロ−4−メトキシフェノキシ)−8−[(3,3,3−トリフルオロプロピル)アミノ]イミダゾ[1,2−b]ピリダジン−3−イル}−2−メチルベンズアミドを得る段階;
を含む、請求項13に記載の方法。 - 請求項13の方法に従って調製された、N−シクロプロピル−4−{6−(2,3−ジフルオロ−4−メトキシフェノキシ)−8−[(3,3,3−トリフルオロプロピル)アミノ]イミダゾ[1,2−b]ピリダジン−3−イル}−2−メチルベンズアミド。
- X線ディフラクトグラムが約3.7、17.4、21.3及び23.9において2シータ角のピーク最大値を示すことを特徴とする、結晶質形態にあるN−シクロプロピル−4−{6−(2,3−ジフルオロ−4−メトキシフェノキシ)−8−[(3,3,3−トリフルオロプロピル)アミノ]イミダゾ[1,2−b]ピリダジン−3−イル}−2−メチルベンズアミド。
- 6,8−ビス(2,3−ジフルオロ−4−メトキシフェノキシ)−3−ヨードイミダゾ[1,2−b]ピリダジンである、請求項16に記載の化合物。
- 4−[6,8−ビス(2,3−ジフルオロ−4−メトキシフェノキシ)イミダゾ[1,2−b]ピリダジン−3−イル]−N−シクロプロピル−2−メチルベンズアミドである、請求項19に記載の化合物。
- 請求項1において定義されている一般式(I)で表される化合物を調製するための、請求項17〜19のいずれかに記載の化合物の使用。
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