JP2018015214A - マッサージ機 - Google Patents

Abstract

【課題】使用者の踵の側部の形状に合わせて、踵の側部をしっかりと挟むことができ、又は踵の後部を下方からより持ち上げることができるマッサージ機を提供する。【解決手段】使用者の足部を支持する左右一対の足支持部４１を備えるマッサージ機１において、前記足支持部４１は、使用者の足裏を置く底壁４１ａと、前記底壁４１ａの左右両端から上方に向かって立設された側壁４１ｂと、前記底壁４１ａの左右中央から上方に向かって立設された中央壁４１ｃと、前記底壁４１ａと前記側壁４１ｂと前記中央壁４１ｃとの少なくとも１つに設けられ、使用者の足をマッサージする足マッサージ部ａ８と、を有し、前記足マッサージ部ａ８を制御する制御部９を有し、前記足マッサージ部ａ８は、前側を膨張支点として膨張収縮するエアセル２０で構成され、使用者の踵を押圧施療する足第１マッサージ部８１，８２を有するマッサージ機１である。【選択図】 図６

Description

本発明はマッサージ機に関する。

従来、マッサージバッグを対象者の足の踵周辺をマッサージするものとする場合には、マッサージバッグの内部空間を、対象者の足の踵の内側に配される踵部第一領域と、対象者の足の踵の外側に配される踵部第二領域と、対象者の足の踵の後側に配される踵部第三領域とに仕切るとともに、踵部第一領域と踵部第二領域を膨張領域とし、踵部第三領域を非膨張領域とする足マッサージ機において、足の踵に対してマッサージを行うものが知られている（特許文献１の図３及び図５参照）。

特開２０１５−０７３７７４号公報

上記特許文献１に開示されたマッサージ機は、使用者の足の踵の後部を膨張支点としている為、足の踵の側部の形状（前側から後側に行くに連れて左右幅が狭くなっている）に合わせてマッサージバッグを膨張させることができないという問題がある。また、踵の後部を下方から持ち上げることができないという問題がある。そこで、本発明は、上述した問題を解消するためになされたものであり、使用者の踵の側部の形状に合わせて、踵の側部をしっかりと挟むことができ、又は踵の後部を下方からより持ち上げることができるマッサージ機を提供することを目的とする。

使用者の足部を支持する左右一対の足支持部を備えるマッサージ機において、前記足支持部は、使用者の足裏を置く底壁と、前記底壁の左右両端から上方に向かって立設された側壁と、前記底壁の左右中央から上方に向かって立設された中央壁と、前記底壁と前記側壁と前記中央壁との少なくとも１つに設けられ、使用者の足をマッサージする足マッサージ部と、を有し、前記足マッサージ部を制御する制御部を有し、前記足マッサージ部は、前側を膨張支点として膨張収縮するエアセルで構成され、使用者の踵を押圧施療する足第１マッサージ部を有することを特徴とする。
このような構成とすることにより、使用者の踵の側部の形状に合わせて、踵の側部をしっかりと挟むことができ、又は踵の後部を下方からより持ち上げることができる。

また、前記足第１マッサージ部は、前記側壁と前記中央壁の少なくとも１つに設けられ、使用者の踵の側部を挟んで押圧施療することが好ましい。
このような構成とすることにより、踵の側部の形状は前側から後側にいくに連れて左右幅が狭くなっている。膨張支点を前側にすることで、踵の側部の後側までしっかりと挟んで押圧施療することができる。

また、前記足第１マッサージ部は、前記底壁に設けられ、使用者の踵の後部を下方から持ち上げるように押圧施療することが好ましい。
このような構成とすることにより、膨張支点が前側にすることで、踵の後部を下方からより持ち上げるように押圧施療することができる。

また、前記足マッサージ部は、前記底壁に設けられ、使用者の足の爪先を下方から持ち上げるように押圧施療する足第２マッサージ部を有することが好ましい。
このような構成とすることにより、足の爪先を下方から持ち上げるように押圧施療することができる。

また、前記足マッサージ部は、前記側壁と前記中央壁の少なくとも一方に設けられ、使用者の足の爪先を側方と上方の何れか一方又は両方から押圧施療する足第３マッサージ部を有することが好ましい。
このような構成とすることにより、足の爪先を側方と上方の何れか一方又は両方から押圧施療することができる。

また、前記制御部は、前記足第１マッサージ部で踵の側部を挟持した後、前記足第２マッサージ部で足の爪先を持ち上げて足首ストレッチを行う制御をすることが好ましい。
このような構成とすることにより、足首ストレッチである足関節の背屈動作（足首を足の甲側に動かす）を行うことができる。

また、前記制御部は、前記足第３マッサージ部で足の爪先を側方と上方の何れか一方又は両方から押圧した後、前記足第１マッサージ部で踵の後部を下方から持ち上げて足首ストレッチを行う制御をすることが好ましい。
このような構成とすることにより、足首ストレッチである足関節の底屈動作（足首を足の裏側に動かす）を行うことができる。

本発明によれば、使用者の踵の側部の形状に合わせて、踵の側部をしっかりと挟むことができ、又は踵の後部を下方からより持ち上げることができる。

本発明の第１実施形態に係るマッサージ機の正面斜視図である。 本発明の第１実施形態に係るマッサージ機の模式図である。 マッサージ機の機能ブロック図である。 マッサージ機の姿勢を説明する側面図である。 マッサージユニットの正面図である。 本発明の第１実施形態に係るマッサージ機の足支持部の平面図である。 マッサージ機を簡略化して示す図である。 マッサージ機を簡略化して示す図である。 マッサージ機を簡略化して示す図である。

［第１実施形態に係るマッサージ機の構成］
以下、本発明の第１実施形態に係るマッサージ機１の全体構成について説明する。図１は本発明の第１実施形態に係るマッサージ機１の正面斜視図である。図２は本発明の第１実施形態に係るマッサージ機１の模式図である。図３はマッサージ機１のブロック図である。図４はマッサージ機１の姿勢を説明する側面図である。図５はマッサージユニット８の正面図である。
なお、以下の説明で用いる方向の概念は、図１に示すマッサージ機１に着座した使用者から見たときの方向の概念と一致するものとし、その他の場合は適宜説明するものとする。また、身体の表裏の定義については、起立した使用者の胸側を「表面」、背中側を「背面」として説明する。

［マッサージ機の全体構成］
図１〜図４に示すとおり、本発明の第１実施形態に係るマッサージ機１は、主として、使用者が着座する座部２と、座部２の後部にリクライニング可能に設けられた使用者が凭れる背凭れ部３と、座部２の前部に上下揺動可能に設けられた使用者の下肢を支持するフットレスト４と、背凭れ部３の上部前面に設けられた使用者の頭及び／又は首を支持する枕部５と、座部２の左右両側には肘掛け部６と、背凭れ部３の左右両側には側壁部７と、を有している。座部２、背凭れ部３、フットレスト４、枕部５、肘掛け部６、及び側壁部７は、使用者の身体を支持する身体支持部として機能する。身体支持部２〜７の各所には、使用者の身体に対してマッサージを行う後述するエアセル２０や後述するバイブレータ２１によるマッサージ部１５が設けられている。また、マッサージ機１は、背凭れ部３に揉みマッサージ及び／又は叩きマッサージを行うマッサージ部１５としてのマッサージユニット８と、マッサージ機１の各動作を制御する制御部９と、使用者に各種操作を行わせるコントローラ１０と、有している。

図１，図３及び図４に示すとおり、背凭れ部３は、座部２の下方に設けられた第１アクチュエータ１１（図３参照）により、座部２に対して前後にリクライニング可能に構成されており、図１に示す起立姿勢から背凭れ面が略水平となるリクライニング姿勢（図４参照）まで変更可能となっている。なお、肘掛け部６は背凭れ部３のリクライニングに連動して後方へ移動し、背凭れ部３の起立に連動して前方へ移動するよう構成されている。フットレスト４は、座部２の下方に設けられた第２アクチュエータ１２（図３参照）により、座部２に対して上下に揺動可能に構成されており、図１に示す垂下姿勢から膝を伸ばした状態で下腿及び足部が支持される上昇姿勢（図４参照）まで変更可能となっている。

図２，図３に示すとおり、座部２の下方には、エアセル２０よりなる各マッサージ部ａ１〜ａ８に対してエアを給排気するポンプ１３ａ及びバルブ１３ｂを有する給排気装置１３と、前述した制御部９と、が設けられている。各マッサージ部ａ１〜ａ８と同じ場所にモータにより駆動されるバイブレータ２１を設けてもよい。エアセル２０は、エアを給排気することで使用者を押圧することができる。バイブレータ２１は、偏心分銅が回転することで使用者に振動を与えることができる。制御部９は、プログラマブルなマイコン等を有しており、各アクチュエータ１１，１２、マッサージ部１５、及び給排気装置１３を駆動制御する。制御部９には、前述したコントローラ１０が電気的に接続されている。マッサージ機１は、予め定められたプログラム（マッサージコース）に従って動作する他、使用者によるコントローラ１０からの指示に従って動作する。

コントローラ１０を操作することにより、リクライニングさせて背凭れ部３の姿勢を変更することができ、上下に揺動させてフットレスト４の姿勢を変更することができる。また、動作させるマッサージユニット８，各マッサージ部ａ１〜ａ８を選択したり、マッサージユニット８，各マッサージ部ａ１〜ａ８の動作（手技又は強さ等）を変更したりすることもできる。

［座部の構成］
図１〜３に示すとおり、座部２の左右両側には、使用者の臀部及び／又は大腿部の外側面に対向して設けられた壁部２２が設けられている。この壁部２２は、座部の側方において上方へ立設されている。そして、壁部２２の内側面には、臀部及び／又は大腿部の外側面をマッサージする臀部マッサージ部ａ４が設けられている。座部２の左右両側の肘掛け部６の内側壁を壁部２２として利用してもよく、臀部マッサージ部ａ４を肘掛け部の内側壁に設ければよい。また、座部２には、使用者の臀部及び／又は大腿部を下方（背面）からマッサージする臀部マッサージ部ａ５が設けられていてもよい。臀部マッサージ部ａ４，ａ５は、エアの給排気により膨張収縮するエアセル２０により構成されている。このように、臀部マッサージ部ａ４は左右で対をなしてマッサージ部群Ａ４を構成し、臀部マッサージ部ａ５は左右で対をなしてマッサージ部群Ａ５を構成している。

［背凭れ部の構成］
図１〜図３に示すとおり、背凭れ部３は、硬質の背フレーム３ａと、背フレーム３ａに組み付けられたマッサージ部１５であるマッサージユニット８の昇降をガイドするガイドレール１８と、背フレーム３ａを被覆するカバー部材３ｃと、により構成されている。背フレーム３ａは、金属部材及び／又は樹脂部材により構成されている。また、背フレーム３ａは、左右中央に形成された前後方向に開口する開口部３ｂを有し、正面視で略門型をなしている。また、カバー部材３ｃは、開口部３ｂを前方から覆っている。マッサージユニット８の施療子６２（図５参照）が開口部３ｂより前方へ突出しており、カバー部材３ｃを介して使用者の胴体を後方からマッサージできるようになっている。

［マッサージユニットの構成］
以下、マッサージユニット８の構成について説明する。
図１〜図３，図５に示すとおり、背凭れ部３には、使用者の上半身を後方（背面）からマッサージするマッサージユニット８が設けられている。このマッサージユニット８は、身長方向に沿って複数（本実施形態では１つ）設けられていてもよい。このマッサージユニット８は、左右で対をなすアーム６１と、アーム６１の上下両端部に設けられた施療子６２と、により構成されており、マッサージモータＭ１，Ｍ２の駆動により左右の施療子６２が近接離反する揉みマッサージ、及び左右の施療子６２が交互に使用者側へ進退する叩きマッサージを行わせることができる。また、マッサージユニット８は、昇降モータＭ３の駆動により身長方向に沿って上方又は下方へ移動して、身体に対する位置を変更したり、ローリングマッサージを行わせたりすることができる。背フレーム３ａには、身長方向に延設された左右で対をなすガイドレール１８が設けられており、マッサージユニット８はガイドレール１８に沿って移動する。マッサージユニット８が身長方向に移動可能であるため、使用者の首から腰の間を施療子６２でマッサージすることができる。

図５に示すとおり、マッサージユニット８は、ベースフレーム６０ａと、ベースフレーム６０ａに支持された可動フレーム６０ｂと、を有している。ベースフレーム６０ａは、その左右両側においてガイドレール１８に嵌合するガイドローラ６３を有している。そして、ラックピニオン等よりなる昇降機構（図示せず）によって、身長方向に沿って移動することができる。可動フレーム６０ｂは、左右方向の揺動軸６４を介してベースフレーム６０ａに支持されている。ベースフレーム６０ａと可動フレーム６０ｂの間には、エアセル等よりなる進退駆動部６５が設けられている。進退駆動部６５の駆動により、可動フレーム６０ｂは揺動軸６４を中心として前後方向に進退することができる。なお、可動フレーム６０ｂを進退させる構造でなくてもよく、アーム６１に進退駆動部６５を設けてアーム６１のみを進退させる構造であってもよい。

アーム６１は、左右方向に延設された揉み軸６６及び叩き軸６７に連結されている。揉み軸６６の左右両側には、傾斜軸部６６ｂを有する傾斜カム６６ａが設けられており、この傾斜カム６６ａにアーム６１が取り付けられている。左右の傾斜軸部６６ｂは、正面視で略ハの字型となるように揉み軸６６の軸心に対して傾斜している。叩き軸６７の左右両側には、叩き軸６７の軸心に対して偏心した偏心軸部６７ｂを有する偏心カム６７ａが設けられており、この偏心カム６７ａにアーム６１がコンロッド６８を介して取り付けられている。左右の偏心軸部６７ｂは、叩き軸６７の軸心に対する位相が互いに異なっており、具体的には１８０度だけ異なっている。揉み軸６６及び叩き軸６７は、それぞれマッサージモータＭ１，Ｍ２の駆動により回転する。施療子６２は、揉み軸６６の回転により揉みマッサージを行い、叩き軸６７の回転により叩きマッサージを行う。なお、施療子６２が設けられたアーム６１、揉み軸６６、及び叩き軸６７は、可動フレーム６０ｂに支持されている。従って、施療子６２は、可動フレーム６０ｂの移動を介して使用者に対して進退可能である。

アーム６１は、前後方向に揺動自在であり、上側の施療子６２が前方へ突出するようにバネ等よりなる付勢手段（図示せず）により付勢されている。また、マッサージユニット８は、使用者の身体情報を検出するセンサ６９（図３参照）を有している。このセンサ６９は、アーム６１が所定の揺動位置となったことを検出することで身体情報を得ることができる。具体的に説明すると、マッサージユニット８を身長方向に沿って上昇させる過程で、上側の施療子６２が肩の上方に到達すると、施療子６２に作用する負荷が解除されて、アーム６１が前方へ揺動して所定の揺動位置となる。アーム６１が所定の揺動位置となったことをセンサ６９が検出し、その際のマッサージユニット８の上下位置に基づいて肩の位置を検出する。肩の位置を基準として、その他の部位（首、背中、腰等）の位置を計算により求める。検出された身体情報は制御部９に記憶される。

［側壁部の構成］
図１〜図２に示すとおり、背フレーム３ａ（背凭れ部３）の左右両側には、使用者の肩又は上腕の外側面に対向して設けられた側壁部７が設けられている。この側壁部７は、背凭れ部３の側方において前方へ立設されている。そして、側壁部７の内側面には、肩又は上腕の外側面をマッサージする肩側マッサージ部ａ２が設けられている。肩側マッサージ部ａ２は、エアの給排気により膨張収縮するエアセル２０により構成されている。このように、肩側マッサージ部ａ２は左右で対をなしてマッサージ部群Ａ２を構成している。

［枕部の構成］
図１〜図３に示すとおり、背凭れ部３の上部前面には、使用者の頭及び／又は首を支持する枕部５が設けられている。枕部５の前面には、頭及び／又は首の後面に対向して設けられた左右で対をなす頭部マッサージ部ａ１が設けられている。頭部マッサージ部ａ１は、エアの給排気により膨張収縮するエアセル２０により構成されている。このように、頭部マッサージ部ａ１は、左右で対をなしてマッサージ部群Ａ１を構成している。この頭部マッサージ部ａ１は、頭及び／又は首の外側面に対向して設けてもよい。この場合は、前方へ立設された壁部（図示せず）の内側面に設けるとよい。また、頭部マッサージ部ａ１は、枕部５に設けるのではなく、背凭れ部３の上部前面に直接設けてもよい。

［肘掛け部の構成］
図１〜図３に示すとおり、座部２の左右両側には、使用者の手先と前腕を支持する肘掛け部６が設けられている。肘掛け部６の手先と前腕の上下方向には、腕マッサージ部ａ３が設けられている。腕マッサージ部ａ３は、エアの給排気により膨張収縮するエアセル２０により構成されている。このように、腕マッサージ部ａ３は、左右で対をなしてマッサージ部群Ａ３を構成している。

［フットレストの構成］
以下フットレスト４の構成について説明する。図６は本発明の第１実施形態に係るマッサージ機１のフットレスト４の足支持部４１の平面図である。

図１〜図３に示すとおり、フットレスト４は、使用者の下腿を支持する左右一対の脚支持部４０と、使用者の足部を支持する左右一対の足支持部４１と、を有している。脚支持部４０は、使用者の下腿の背面に対向して設けられた底壁４０ａと、底壁４０ａの左右両端から前方に向かって立設された側壁４０ｂと、底壁４０ａの左右中央から前方に向かって立設された中央壁４０ｃと、を有している。

側壁４０ｂの内側面には、下腿の外側面をマッサージする脚マッサージ部ａ６が設けられている。中央壁４０ｃの両外側面には、下腿の内側面をマッサージする脚マッサージ部ａ６が設けられている。また、底壁４０ａには、使用者の下腿の背面からマッサージする脚マッサージ部ａ７が設けられている。脚マッサージ部ａ６，ａ７は、エアの給排気により膨張収縮するエアセル２０により構成されている。脚マッサージ部ａ６は、下腿の内側面に対向する脚マッサージ部ａ６と、下腿の外側面に対向する脚マッサージ部ａ６、により左右で対をなしてマッサージ部群Ａ６を構成している。脚マッサージ部ａ７は、中央壁４０ｃを挟んで左側の下腿の背面に対向する脚マッサージ部ａ７と、中央壁４０ｃを挟んで右側の下腿の背面に対向する脚マッサージ部ａ７と、により左右で対をなしてマッサージ部群Ａ７を構成している。

図１〜図３及び図６に示すとおり、足支持部４１は、使用者の足裏を置く底壁４１ａと、底壁４１ａの左右両端から上方に向かって立設された側壁４１ｂと、底壁４１ａの左右中央から上方に向かって立設された中央壁４１ｃと、底壁４１ａの後部から上方へ立設された足部の背面（踵付近）に対向する後壁４１ｄと、を有している。各壁４１ａ〜４１ｄより上方及び前方が開口した凹部４２が形成されており、凹部４２に足部を収容できるようになっている。

各壁４１ａ〜４１ｃには、使用者の足をマッサージする足マッサージ部ａ８が設けられ、左右で対をなしてマッサージ群Ａ８を構成している。足マッサージ部ａ８は、前側を膨張支点としてエアの給排気により膨張収縮するエアセル２０で構成され、使用者の踵を押圧施療する後述する足第１マッサージ部８１，８２と、使用者の足の爪先を下方から持ち上げるように押圧施療する後述する足第２マッサージ部８３と、使用者の足の爪先を側方と上方の何れか一方又は両方から押圧施療する後述する足第３マッサージ部８４と、を有している。

足第１マッサージ部８１は、側壁４１ｂの後側（踵付近）と中央壁４１ｃの後側（踵付近）とに設けられ、前側を膨張支点として膨張収縮するエアセル２０で使用者の踵の側部を挟んで押圧施療することができる。使用者の踵の側部の形状は、前側から後側にいくに連れて左右幅が狭くなっている。この様に構成することで、膨張支点が前側にあるためエアセル２０の後側が１番膨張することになる。それにより踵の側部の形状に合わせてエアセル２０を膨張させることができ、踵の側部の後側までしっかりと挟むことができる。また、側壁４１ｂの後側（踵付近）と中央壁４１ｃの後側（踵付近）とに設けられたエアセル２０は、いずれか一方に設けられてもよいし、両方に設けられてもよい。例えば、側壁４１ｂだけにエアセル２０を設けた場合、エアセル２０と中央壁４１ｃとで踵の側部を挟むことができる。

足第１マッサージ部８２は、底壁４１ａの後側に設けられ、前側を膨張支点として膨張収縮するエアセル２０で使用者の踵の後部を下方から持ち上げるように押圧施療することができる。この様に構成することで、膨張支点が前側にあるためエアセル２０の後側が１番膨張することになる。それにより踵の後部を下方から１番膨張させることができ、踵の後部を下方からより持ち上げることができる。

足第２マッサージ部８３は、底壁４１ａの前側に設けられ、エアの給排気により膨張収縮するエアセル２０で構成されている。この様に構成することで、使用者の足の爪先を下方から持ち上げるように押圧施療することができる。また、底壁４１ａの前側に設けられるエアセル２０の膨張支点を後側にしてもよい。そうすることでエアセル２０の前側が１番膨張し、足の爪先を下方からより持ち上がることができる。

足第３マッサージ部８４は、側壁４１ｂの前側と中央壁４１ｃの前側に設けられ、エアの給排気により膨張収縮するエアセル２０で構成されている。この様に構成することで、使用者の足の爪先を側方と上方から押圧施療することができる。側壁４１ｂの前側と中央壁４１ｃの前側に設けられたエアセル２０は、膨張支点を下方とすることで足の爪先を上方から押圧施療することができ、膨張支点がなくても足の爪先を側方から押圧施療することができる。また、側壁４１ｂの前側と中央壁４１ｃの前側に設けられたエアセル２０は、いずれか一方に設けられてもよいし、両方に設けられてもよい。例えば、側壁４１ｂだけにエアセル２０を設けた場合でも、使用者の足の爪先を側方と上方から押圧施療することができる。

以下、マッサージ機１の制御について説明する。
図７は、側面から見た足支持部４１の足マッサージ部ａ８の動作を示す図である。
図７（ａ），図７（ｂ），図７（ｃ）は、足支持部４１に使用者の足を載せた状態での足マッサージ部ａ８との位置関係を示しており、図７（ａ）は足支持部４１に使用者の足を載せた状態の図であり、図７（ｂ）は、足首ストレッチである足関節の背屈動作（足首を足の甲側に動かす）を行う第１ステップの図である。図７（ｃ）は、足首ストレッチである足関節の背屈動作（足首を足の甲側に動かす）を行う第２ステップの図である。
図８（ａ），図８（ｂ），図８（ｃ）は、足支持部４１に使用者の足を載せた状態での足マッサージ部ａ８との位置関係を示しており、図８（ａ）は足支持部４１に使用者の足を載せた状態の図であり、図８（ｂ）は、足首ストレッチである足関節の底屈動作（足首を足の裏側に動かす）を行う第１ステップの図である。図８（ｃ）は、足首ストレッチである足関節の底屈動作（足首を足の裏側に動かす）を行う第２ステップの図である。

［動作１について］
以下、使用者の足に対して足首ストレッチである足関節の背屈動作の一例について、図７（ａ），図７（ｂ），図７（ｃ）に基づいて説明する。
制御部９は、足第１マッサージ部８１と足第２マッサージ部８３を駆動させることで、足の踵の側部を挟持した状態で足の爪先を下方から持ち上げて足首ストレッチである足関節の背屈動作を行うことができる。まず、制御部９は、足支持部４１に足を載せた状態（図７（ａ）参照）から第１ステップ（図７（ｂ）参照）において、足第１マッサージ部８１を駆動させて足の踵の側部を挟持し、足の踵を固定させる。第２ステップ（図７（ｃ）参照）において、第１ステップにより足の踵の側部を挟持した状態で足第２マッサージ部８３を駆動させて、足の爪先を下方から持ち上げる。このように制御することで、使用者の足全体が浮き上がることなく、足の爪先の前側だけを下方から持ち上げることができ、足に対して背屈動作をさせ、足首ストレッチを行うことができる。なお、第１ステップと第２ステップの動作を同時に行うように足第１マッサージ部８１と足第２マッサージ部８３を制御してもよい。

［動作２について］
以下、使用者の足に対して足首ストレッチである足関節の底屈動作の一例について、図８（ａ），図８（ｂ），図８（ｃ）に基づいて説明する。
制御部９は、足第１マッサージ部８２と足第３マッサージ部８４を駆動させることで、足の爪先を側方と上方から押圧した状態で足の踵の後部を下方から持ち上げて足首ストレッチである足関節の底屈動作を行うことができる。まず、制御部９は、足支持部４１に足を載せた状態（図８（ａ）参照）から第１ステップ（図８（ｂ）参照）において、足第３マッサージ部８４を駆動させて足の爪先を側方と上方から押圧し、足の爪先を固定させる。第２ステップ（図８（ｃ）参照）において、第１ステップにより足の爪先を側方と上方から押圧した状態で足第１マッサージ部８２を駆動させて、足の踵の後部を下方から持ち上げる。このように制御することで、使用者の足全体が浮き上がることなく、足の踵の後部だけを下方から持ち上げることができ、足に対して底屈動作をさせ、足首ストレッチを行うことができる。なお、第１ステップと第２ステップの動作を同時に行うように足第１マッサージ部８２と足第３マッサージ部８４を制御してもよい。

［他の実施形態］
また、本発明のマッサージ機１は、図示する形態に限らず、この発明の範囲内において他の形態のものであってもよい。例えば、前述した実施形態では足支持部４１で説明したが、肘掛け部６の手支持部６０の構成であった場合、以下の様になる。
図９は、使用者の前腕から手先が図示されており、肘掛け部６の手支持部６０が簡略化して図示されている。
図９に示すとおり、肘掛け部６は、使用者の手先を支持する手支持部６０を有している。手支持部６０は、手の平が前側に向くようにした状態の手の平と対向する前壁６０ａと、前壁６０ａの左右両端から後方に立設した側壁６０ｂ（図示せず）と、前壁６０ａの下端から後方に立設した使用者の前腕を置く下壁６０ｃと、を有している。前壁６０ａには、手の爪先を後方に移動させるエアセル２０からなる腕マッサージ部３０と、手の平の後部を後方に移動させるエアセル２０からなる腕マッサージ部３１と、が設けられている。側壁６０ｂには、手の甲を側方と後方から押圧するエアセル２０からなる腕マッサージ部３２と、手首を側方と上方から押圧するエアセル２０からなる腕マッサージ部３３と、が設けられている。

制御部９は、腕マッサージ部３０〜３３の駆動を制御することで、手首に対して底屈運動及び背屈運動の手首ストレッチを行うことができる。

本発明は、使用者の踵の側部の形状に合わせて、踵の側部をしっかりと挟むことができ、又は踵の後部を下方からより持ち上げることができるマッサージ機に適用することができる。

１ マッサージ機
９ 制御部
１５ マッサージ部
２０ エアセル（マッサージ部）
４１ 足支持部
４１ａ 底壁
４１ｂ 側壁
４１ｃ 中央壁
８１ａ 足第１マッサージ部（足マッサージ部）
８２ａ 足第１マッサージ部（足マッサージ部）
８３ａ 足第２マッサージ部（足マッサージ部）
８４ａ 足第３マッサージ部（足マッサージ部）
ａ８ 足マッサージ部（マッサージ部）

Claims (7)

1. 使用者の足部を支持する左右一対の足支持部を備えるマッサージ機において、
   前記足支持部は、
   使用者の足裏を置く底壁と、
   前記底壁の左右両端から上方に向かって立設された側壁と、
   前記底壁の左右中央から上方に向かって立設された中央壁と、
   前記底壁と前記側壁と前記中央壁との少なくとも１つに設けられ、使用者の足をマッサージする足マッサージ部と、を有し、
   前記足マッサージ部を制御する制御部を有し、
   前記足マッサージ部は、前側を膨張支点として膨張収縮するエアセルで構成され、使用者の踵を押圧施療する足第１マッサージ部を有することを特徴とするマッサージ機。
2. 前記足第１マッサージ部は、前記側壁と前記中央壁の少なくとも１つに設けられ、使用者の踵の側部を挟んで押圧施療することを特徴とする請求項１に記載のマッサージ機。
3. 前記足第１マッサージ部は、前記底壁に設けられ、使用者の踵の後部を下方から持ち上げるように押圧施療することを特徴とする請求項１又は２に記載のマッサージ機。
4. 前記足マッサージ部は、前記底壁に設けられ、使用者の足の爪先を下方から持ち上げるように押圧施療する足第２マッサージ部を有することを特徴とする請求項１〜３にいずれかに記載のマッサージ機。
5. 前記足マッサージ部は、前記側壁と前記中央壁の少なくとも一方に設けられ、使用者の足の爪先を側方と上方の何れか一方又は両方から押圧施療する足第３マッサージ部を有することを特徴とする請求項１〜４にいずれかに記載のマッサージ機。
6. 前記制御部は、前記足第１マッサージ部で踵の側部を挟持した後、前記足第２マッサージ部で足の爪先を持ち上げて足首ストレッチを行う制御をすることを特徴とする請求項４に記載のマッサージ機。
7. 前記制御部は、前記足第３マッサージ部で足の爪先を側方と上方の何れか一方又は両方から押圧した後、前記足第１マッサージ部で踵の後部を下方から持ち上げて足首ストレッチを行う制御をすることを特徴とする請求項５に記載のマッサージ機。
   

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