JP2019123200A

JP2019123200A - Manufacturing method for nozzle plate, manufacturing method for emission head, manufacturing method for emission unit, and manufacturing method for emission device

Info

Publication number: JP2019123200A
Application number: JP2018007000A
Authority: JP
Inventors: 伝青山; Den Aoyama; 黒田　隆彦; Takahiko Kuroda; 隆彦黒田
Original assignee: Ricoh Co Ltd
Current assignee: Ricoh Co Ltd
Priority date: 2018-01-19
Filing date: 2018-01-19
Publication date: 2019-07-25
Anticipated expiration: 2038-01-19
Also published as: JP7035553B2

Abstract

【課題】吐出特性を向上する。【解決手段】Ｓｉ基板を用いたノズル基材２０１の一面側から、イオンアシストを用いたドライエッチング法で、円環状の溝２０２を形成し、ノズル基材２０１の円環状の溝２０２を形成した面に粘着テープ２０３を貼り付けた後、ノズル基材２０１の他面側の研削を行い、所望のノズル板４の厚さｔ０まで加工し、ノズル基材２０１の研削後の他面側から、ボッシュプロセスを用いたドライエッチング法により、円環状の溝２０２に対向する位置で、円環状の溝２０２に到達する深さまで入口部４ｂとなる凹部２０４を形成し、粘着テープ２０３をノズル基材２０１から剥離することで、島状部分２０５を取り除き、ノズル基材２０１にノズル４となる出口穴４ａ及び入口穴４ｂが形成されたノズル板１を得る。【選択図】図１PROBLEM TO BE SOLVED: To improve discharge characteristics. SOLUTION: An annular groove 202 is formed from one surface side of a nozzle base material 201 using a Si substrate by a dry etching method using ion assist, and an annular groove 202 of the nozzle base material 201 is formed. After the adhesive tape 203 is attached to the surface, the other surface side of the nozzle base material 201 is ground, processed to the desired thickness t0 of the nozzle plate 4, and from the other surface side of the nozzle base material 201 after grinding. By a dry etching method using a bosh process, a recess 204 to be an inlet portion 4b is formed at a position facing the annular groove 202 to a depth reaching the annular groove 202, and the adhesive tape 203 is attached to the nozzle base material 201. The island-shaped portion 205 is removed from the nozzle base material 201 to obtain a nozzle plate 1 having an outlet hole 4a and an inlet hole 4b formed as a nozzle 4 on the nozzle base material 201. [Selection diagram] Fig. 1

Description

本発明はノズル板の製造方法、吐出ヘッドの製造方法、吐出ユニットの製造方法、吐出する装置の製造方法に関する。 The present invention relates to a method of manufacturing a nozzle plate, a method of manufacturing a discharge head, a method of manufacturing a discharge unit, and a method of manufacturing a discharge device.

ノズル板を製造する方法としては、例えば、ノズル基材の一面にノズル穴（吐出孔）となる第１ノズルをボッシュプロセスによるエッチングで形成し、他面から第１ノズルに連通する第２ノズルを形成して、第１ノズルと第２ノズルからなる貫通穴を形成する方法が知られている（特許文献１）。 As a method of manufacturing a nozzle plate, for example, a first nozzle to be a nozzle hole (discharge hole) is formed on one surface of a nozzle base material by etching by Bosch process, and a second nozzle communicating with the first nozzle from the other surface is used. There is known a method of forming a through hole consisting of a first nozzle and a second nozzle (Patent Document 1).

特開２０１１−０１１４２５号公報JP, 2011-011425, A

しかしながら、特許文献１に開示の方法にあっては、ノズル穴（第１ノズル）をボッシュプロセスで形成するためには、ノズル穴の内壁面の平滑性が損なわれ、吐出曲りなどが生じるという課題がある。 However, in the method disclosed in Patent Document 1, in order to form the nozzle hole (first nozzle) by the Bosch process, the smoothness of the inner wall surface of the nozzle hole is impaired, and a problem such as discharge bending occurs. There is.

本発明は上記の課題に鑑みてなされたものであり、吐出特性を向上することを目的とする。 The present invention has been made in view of the above problems, and an object thereof is to improve discharge characteristics.

上記の課題を解決するため、本発明に係るノズル板の製造方法は、
ノズルを有するノズル板の製造方法であって、
ノズル基材の一面側から環状の溝を形成する工程と、
前記ノズル基材の他面側から少なくとも前記環状の溝に到達する深さまで凹部を形成する工程と、を行い、
前記環状の溝で囲まれた部分を独立させ、前記独立した部分を除去することにより前記ノズルとなるノズル穴を形成する
構成とした。 In order to solve the above-mentioned subject, the manufacturing method of the nozzle board concerning the present invention is:
A method of manufacturing a nozzle plate having a nozzle, comprising:
Forming an annular groove from one side of the nozzle substrate;
Forming a recess to a depth reaching at least the annular groove from the other surface side of the nozzle base material;
The portion surrounded by the annular groove is made independent, and the independent portion is removed to form a nozzle hole to be the nozzle.

本発明によれば、吐出特性が向上する。 According to the present invention, the ejection characteristics are improved.

本発明の第１実施形態に係るノズル板の製造方法の説明に供する断面説明図である。It is cross-sectional explanatory drawing by which it uses for description of the manufacturing method of the nozzle plate which concerns on 1st Embodiment of this invention. 同じく平面説明図である。It is plane explanatory drawing similarly. ボッシュプロセスによるドライエッチング法による穴形状を説明する断面説明図である。It is cross-sectional explanatory drawing explaining the hole shape by the dry etching method by a Bosch process. イオンアシストによるドライエッチング法による穴形状を説明する断面説明図である。It is cross-sectional explanatory drawing explaining the hole shape by the dry etching method by ion assistance. 各ドライエッチング法を組み合わせた場合の穴形状を説明する断面説明図である。It is cross-sectional explanatory drawing explaining the hole shape at the time of combining each dry etching method. 実施例及び比較例の評価、測定結果の説明に供する説明図である。It is an explanatory view provided for evaluation of an example and a comparative example, and explanation of a measurement result. 本発明に係る吐出ヘッドの製造方法の一例で製造した吐出ヘッドのノズル配列方向と直交する方向の断面説明図である。FIG. 7 is a cross-sectional explanatory view of the discharge head manufactured by an example of the method of manufacturing a discharge head according to the present invention in a direction orthogonal to the nozzle array direction. 同じく同ヘッドの図７のＸ１−Ｘ１線におけるノズル配列方向と直交する方向の断面説明図である。FIG. 8 is a cross-sectional explanatory view of the same head taken along line X1-X1 in FIG. 7 in the direction orthogonal to the nozzle arrangement direction. 本発明に係る吐出ヘッドの製造方法の他の例で製造した吐出ヘッドのノズル配列方向と直交する方向の断面説明図である。It is cross-sectional explanatory drawing of the direction orthogonal to the nozzle array direction of the discharge head manufactured by the other example of the manufacturing method of the discharge head which concerns on this invention. 本発明に係る吐出する装置の製造方法の一例で製造した装置の要部平面説明図である。It is principal part plane explanatory drawing of the apparatus manufactured by an example of the manufacturing method of the apparatus to which it concerns on this invention. 同装置の要部側面説明図である。It is principal part side explanatory drawing of the same apparatus. 本発明に係る吐出ユニットの製造方法の他の例で製造した吐出ユニットの要部平面説明図である。It is principal part plane explanatory drawing of the discharge unit manufactured by the other example of the manufacturing method of the discharge unit which concerns on this invention. 本発明に係る吐出ユニットの製造方法の更に他の例で製造した吐出ユニットの正面説明図である。It is front explanatory drawing of the discharge unit manufactured by the further another example of the manufacturing method of the discharge unit which concerns on this invention. 本発明に係る吐出する装置の製造方法の他の例によって製造した装置の概略説明図である。It is a schematic explanatory drawing of the apparatus manufactured by the other example of the manufacturing method of the apparatus to which it concerns on this invention. 同装置のヘッドユニットの平面説明図である。It is plane explanatory drawing of the head unit of the same apparatus. 同装置における液体循環システムの一例の説明に供するブロック説明図である。FIG. 2 is a block diagram for explaining an example of a liquid circulation system in the same device.

以下、本発明の実施形態について添付図面を参照して説明する。本発明の第１実施形態に係るノズル板の製造方法について図１及び図２を参照して説明する。図１は同製造方法の説明に供する断面説明図、図２は同じく平面説明図である。 Hereinafter, embodiments of the present invention will be described with reference to the attached drawings. A method of manufacturing a nozzle plate according to a first embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS. 1 and 2. FIG. 1 is an explanatory sectional view for explaining the manufacturing method, and FIG. 2 is an explanatory plan view as well.

まず、本実施形態で製造するノズル板１について説明する。ノズル板１は、図１（ｅ）に示すように、ノズル基材２０１に、連続する出口穴４ａ及び入口穴４ｂで構成されるノズル４を有している。ノズル板１の厚さはｔ０とし、出口穴４ａの深さはＤ０とする。 First, the nozzle plate 1 manufactured in the present embodiment will be described. The nozzle plate 1 has, as shown in FIG. 1 (e), the nozzle base 201 having a nozzle 4 formed of a continuous outlet hole 4a and an inlet hole 4b. The thickness of the nozzle plate 1 is t0, and the depth of the outlet hole 4a is D0.

このノズル板１を製造するには、図１（ａ）及び図２（ａ）に示すように、Ｓｉ基板を用いたノズル基材２０１の一面側から、イオンアシストを用いたドライエッチング法で、環状の溝、ここでは、円環状の溝２０２を形成する。ここで、円環状の溝２０２の深さＤ１は、出口穴４ａの深さＤ０よりも深くする（Ｄ１＞Ｄ０）。 In order to manufacture the nozzle plate 1, as shown in FIGS. 1A and 2A, the dry etching method using ion assist is performed from one side of the nozzle substrate 201 using a Si substrate, An annular groove, here an annular groove 202, is formed. Here, the depth D1 of the annular groove 202 is made deeper than the depth D0 of the exit hole 4a (D1> D0).

次いで、図１（ｂ）及び図２（ｂ）に示すように、ノズル基材２０１の円環状の溝２０２を形成した面に粘着テープ２０３を貼り付けた後、ノズル基材２０１の他面側の研削を行い、所望のノズル板１の厚さｔ０まで加工する。 Next, as shown in FIGS. 1B and 2B, after the adhesive tape 203 is attached to the surface of the nozzle base 201 on which the annular groove 202 is formed, the other side of the nozzle base 201 is obtained. And grinding to a desired thickness t 0 of the nozzle plate 1.

次いで、図１（ｃ）及び図２（ｃ）に示すように、ノズル基材２０１の研削後の他面側から、ボッシュプロセスを用いたドライエッチング法により、円環状の溝２０２に対向する位置で、円環状の溝２０２に到達する深さまで入口穴４ｂとなる凹部２０４を形成する。凹部２０４の深さＤ２は、厚さｔ０のノズル基材２０１の残存部分の厚さが出口穴４ａの深さＤ０になる深さとしている。 Next, as shown in FIGS. 1C and 2C, from the other surface side of the nozzle base 201 after grinding, a position facing the annular groove 202 by the dry etching method using the Bosch process. Then, the recess 204 to be the inlet hole 4 b is formed to a depth reaching the annular groove 202. The depth D2 of the concave portion 204 is a depth at which the thickness of the remaining portion of the nozzle base 201 having a thickness t0 becomes the depth D0 of the outlet hole 4a.

これにより、円環状の溝２０２で囲まれた内側の部分は、ノズル基材２０１から独立した島状部分２０５となる。 As a result, the inner portion surrounded by the annular groove 202 becomes an island portion 205 independent of the nozzle substrate 201.

その後、図１（ｄ）及び図２（ｄ）に示すように、粘着テープ２０３をノズル基材２０１から剥離することで、島状部分２０５が取り除かれる。 Thereafter, as shown in FIGS. 1D and 2D, the adhesive tape 203 is peeled off from the nozzle substrate 201, whereby the island-like portion 205 is removed.

これにより、図１（ｅ）及び図２（ｅ）に示すように、ノズル基材２０１にノズル４となる出口穴４ａ及び入口穴４ｂが形成されたノズル板１を得ることができる。 As a result, as shown in FIGS. 1E and 2E, it is possible to obtain the nozzle plate 1 in which the outlet hole 4a and the inlet hole 4b to be the nozzles 4 are formed in the nozzle base material 201.

本実施形態に係る製造方法で製造したノズル板１のノズル穴（出口穴４ａ）の壁面は滑らかな壁面となり、吐出特性が向上する。 The wall surface of the nozzle hole (outlet hole 4a) of the nozzle plate 1 manufactured by the manufacturing method according to the present embodiment is a smooth wall surface, and the discharge characteristic is improved.

つまり、液体をノズル面に対して垂直に吐出するためには、ノズル板に対してノズル穴が垂直に形成されていること、ノズル穴の穴径が真円であること、ノズル穴の壁面（内壁）が平滑であることが挙げられる。 That is, in order to discharge the liquid perpendicularly to the nozzle surface, the nozzle hole is formed perpendicularly to the nozzle plate, the hole diameter of the nozzle hole is a perfect circle, the wall surface of the nozzle hole ( It is mentioned that the inner wall is smooth.

Ｓｉ基板をノズル基材としてエッチングでノズル穴を形成する方法としては、形状の制御性の高さからドライエッチング法工法が主に用いられ、ドライエッチング法としてはイオンアシストによる異方性エッチングとボッシュプロセスを用いた異方性エッチングがある。 As a method of forming a nozzle hole by etching using a Si substrate as a nozzle base material, a dry etching method is mainly used because of high shape controllability, and as a dry etching method, anisotropic etching by ion assistance and Bosch There is anisotropic etching using a process.

イオンアシストによる異方性エッチングは穴が深くなるほど径が細くなってしまう特徴がある。一方、ボッシュプロセスを用いた異方性エッチングは径の寸法を保ったまま垂直に穴を形成できる特徴がある。そこで、ボッシュプロセスを用いた異方性エッチングが主流となっている。 Ion-assisted anisotropic etching is characterized in that the diameter decreases as the hole is deeper. On the other hand, anisotropic etching using the Bosch process is characterized in that vertical holes can be formed while maintaining the size of the diameter. Therefore, anisotropic etching using the Bosch process has become mainstream.

ここで、ドライエッチング法による穴形状について図３ないし図５を参照して説明する。図３はボッシュプロセスによるドライエッチング法による穴形状を説明する断面説明図、図４はイオンアシストによるドライエッチング法による穴形状を説明する断面説明図である。図５は各ドライエッチング法を組み合わせた場合の穴形状を説明する断面説明図である。 Here, the hole shape by the dry etching method will be described with reference to FIGS. 3 to 5. FIG. 3 is a cross-sectional view for explaining the hole shape by the dry etching method by the Bosch process, and FIG. 4 is a cross-sectional view for explaining the hole shape by the ion-assisted dry etching method. FIG. 5 is a cross-sectional explanatory view for explaining the hole shape in the case where the dry etching methods are combined.

図３に示すように、ボッシュプロセスによるドライエッチング法によってＳｉ基板からなるノズル基材２０１に穴２１１をあけると、穴径の制御性や直進性が高い一方、ガスの切り替えのため壁面に周期的な段差のあるスキャロップ形状２１１ａが発生し、穴の壁面の凹凸が大きくなるという特徴がある。 As shown in FIG. 3, when a hole 211 is made in the nozzle base material 201 made of a Si substrate by the dry etching method by the Bosch process, the controllability and straightness of the hole diameter are high, while periodical on the wall surface for gas switching. There is a feature that a scallop shape 211a having a certain level difference is generated, and the unevenness of the wall surface of the hole becomes large.

一方、図４に示すように、イオンアシストによるドライエッチング法によってＳｉ基板からなるノズル基材２０１に穴２１２をあけると、ボッシュプロセスに比べて壁面の凹凸が低減できる一方、穴２１２の途中から底部に向かって径が細くなる先細り形状２１２ａが生じるという特徴がある。この先細り形状２１２ａの角度は穴の径に比例し、溝の幅が細いほど角度は小さくなる。そのため、ノズル４に必要な径の穴を円筒形状で開ける場合、必要以上の深さを掘る必要がある。 On the other hand, as shown in FIG. 4, when the hole 212 is made in the nozzle base material 201 made of a Si substrate by the dry etching method by ion assist, the unevenness of the wall surface can be reduced compared to the Bosch process. Is characterized in that a tapered shape 212a is produced, the diameter of which decreases toward the end. The angle of the tapered shape 212a is proportional to the diameter of the hole, and the smaller the groove width, the smaller the angle. Therefore, in the case where a hole having a diameter necessary for the nozzle 4 is formed in a cylindrical shape, it is necessary to dig more than necessary.

ここで、出口穴４ａが深い場合、入口穴４ｂをイオンアシスト法で形成した場合は、図５（ａ）に示すように、出口穴４ａと入口穴４ｂの界面４ｃが歪になる。また、入口穴４ｂをボッシュプロセスで形成する場合は、壁面（側壁）保護膜の作用により、図５（ｂ）に示すように、フェンス４ｄが形成される。一方、出口穴４ａが浅い場合、図５（ｃ）に示すように、入口穴４ｂ側に狭窄部が生じて吐出精度に影響する。 Here, when the outlet hole 4a is deep, when the inlet hole 4b is formed by the ion assist method, the interface 4c between the outlet hole 4a and the inlet hole 4b is distorted as shown in FIG. 5A. Moreover, when forming the entrance hole 4b by a Bosch process, as shown in FIG.5 (b), the fence 4d is formed by the effect | action of a wall surface (side wall) protective film. On the other hand, when the exit hole 4a is shallow, as shown in FIG. 5 (c), a constricted portion is formed on the side of the entrance hole 4b to affect the discharge accuracy.

これに対して、本実施形態のように、出口穴４ａを形成するために開口幅の小さい円環上の溝２０２で刳り貫いて形成することにより、先細り角が低減できる。そのため、出口穴４ａは比較的垂直な形状を保ちつつ、かつ、浅い溝での形成が可能となり、出口穴４ａと入口穴４ｂ付近の界面の形状が保たれることとなる。 On the other hand, as in the present embodiment, the taper angle can be reduced by forming the outlet hole 4a by means of the annular groove 202 having a small opening width. Therefore, the outlet hole 4a can be formed in a shallow groove while maintaining a relatively vertical shape, and the shape of the interface in the vicinity of the outlet hole 4a and the inlet hole 4b can be maintained.

これにより、ノズル穴（出口穴４ａ）の壁面の凹凸を低減しつつ、垂直に連通したノズル４を得ることができる。 As a result, it is possible to obtain the vertically communicating nozzle 4 while reducing the unevenness of the wall surface of the nozzle hole (outlet hole 4a).

次に、具体的な実施例及び比較例について説明する。 Next, specific examples and comparative examples will be described.

＜実施例１＞
結晶面方位（１００）のＳｉ基板をノズル基材２０１として、外径３０μｍ、内径２４μｍ、高さ（深さＤ１）１０μｍの円環状の溝２０２をイオンアシスト法によるドライエッチング法により形成した。そして、Ｓｉ基板を厚さｔ０＝６０μｍまで研削した。次いで、円環状の溝２０２に対向する位置で、直径４０μｍ、高さ（深さ）４５μｍの円筒穴である凹部２０４を、ボッシュプロセスを用いたドライエッチング法により形成した。その後、円環状の溝２０２の内側を除去して形成したノズル４を有するノズル板１を作製した。 Example 1
An annular groove 202 having an outer diameter of 30 μm, an inner diameter of 24 μm, and a height (depth D1) of 10 μm was formed by a dry etching method using an ion assist method, using a Si substrate of crystal plane orientation (100) as the nozzle substrate 201. Then, the Si substrate was ground to a thickness t0 = 60 μm. Then, a concave portion 204 which is a cylindrical hole having a diameter of 40 μm and a height (depth) of 45 μm was formed by a dry etching method using the Bosch process at a position facing the annular groove 202. Thereafter, a nozzle plate 1 having a nozzle 4 formed by removing the inside of the annular groove 202 was produced.

＜比較例１＞
結晶面方位（１００）のＳｉ基板をノズル基材２０１として、直径３０μｍ、深さ１０μｍの円筒穴（出口穴４ａ）を、ボッシュプロセスを用いたドライエッチング法により形成した。そして、Ｓｉ基板を厚さｔ０＝６０μｍまで研削した。次いで、円筒穴（出口穴４ａ）に対向する位置で、直径６０μｍ、高さ５５μｍの円筒穴（入口穴４ｂ）を、ボッシュプロセスを用いたドライエッチング法により形成したノズル４を有するノズル板１を作製した。 Comparative Example 1
Using a Si substrate of crystal plane orientation (100) as the nozzle base 201, a cylindrical hole (exit hole 4a) with a diameter of 30 μm and a depth of 10 μm was formed by a dry etching method using the Bosch process. Then, the Si substrate was ground to a thickness t0 = 60 μm. Then, at a position facing the cylindrical hole (outlet hole 4a), a nozzle plate 1 having a nozzle 4 having a cylindrical hole (inlet hole 4b) of 60 μm in diameter and 55 μm in height formed by dry etching using Bosch process Made.

＜比較例２＞
結晶面方位（１００）のＳｉ基板をノズル基材２０１として、外径３０μｍ、内径２４μｍ、高さ（深さＤ１）１０μｍの円環状の溝２０２を、ボッシュプロセスを用いたドライエッチング法により形成した。そして、Ｓｉ基板を厚さｔ０＝６０μｍまで研削した。次いで、円環状の溝２０２に対向する位置で、直径６０μｍ、高さ５５μｍの円筒穴（入口穴４ｂ）を、ボッシュプロセスを用いたドライエッチング法により形成した。その後、円環状の溝２０２の内側を除去して形成したノズル４を有するノズル板１を作製した。 Comparative Example 2
An annular groove 202 having an outer diameter of 30 μm, an inner diameter of 24 μm, and a height (depth D1) of 10 μm was formed by a dry etching method using the Bosch process, using a Si substrate of crystal plane orientation (100) as the nozzle substrate 201 . Then, the Si substrate was ground to a thickness t0 = 60 μm. Next, a cylindrical hole (inlet hole 4b) having a diameter of 60 μm and a height of 55 μm was formed at a position facing the annular groove 202 by a dry etching method using the Bosch process. Thereafter, a nozzle plate 1 having a nozzle 4 formed by removing the inside of the annular groove 202 was produced.

＜比較例３＞
結晶面方位（１００）のＳｉ基板をノズル基材２０１として、直径３０μｍ、深さ４０μｍの円筒穴（出口穴４ａ）を、イオンアシストを用いたドライエッチング法により形成した。そして、Ｓｉ基板を厚さｔ０＝６０μｍまで研削した。次いで、円筒穴（出口穴４ａ）に対向する位置で、直径６０μｍ、高さ５５μｍの円筒穴（入口穴４ｂ）を、イオンアシストを用いたドライエッチング法により形成したノズル４を有するノズル板１を作製した。 Comparative Example 3
Using a Si substrate of crystal plane orientation (100) as the nozzle substrate 201, a cylindrical hole (exit hole 4a) with a diameter of 30 μm and a depth of 40 μm was formed by dry etching using ion assist. Then, the Si substrate was ground to a thickness t0 = 60 μm. Then, at a position facing the cylindrical hole (outlet hole 4a), a nozzle plate 1 having a nozzle 4 having a cylindrical hole (inlet hole 4b) of 60 μm in diameter and 55 μm in height formed by dry etching using ion assist Made.

＜比較例４＞
結晶面方位（１００）のＳｉ基板をノズル基材２０１として、直径３０μｍ、深さ４０μｍの円筒穴（出口穴４ａ）を、イオンアシストを用いたドライエッチング法により形成した。そして、Ｓｉ基板を厚さｔ０＝６０μｍまで研削した。次いで、円筒穴（出口穴４ａ）に対向する位置で、直径６０μｍ、高さ５５μｍの円筒穴（入口穴４ｂ）を、ボッシュプロセスを用いたドライエッチング法により形成したノズル４を有するノズル板１を作製した。 Comparative Example 4
Using a Si substrate of crystal plane orientation (100) as the nozzle substrate 201, a cylindrical hole (exit hole 4a) with a diameter of 30 μm and a depth of 40 μm was formed by dry etching using ion assist. Then, the Si substrate was ground to a thickness t0 = 60 μm. Then, at a position facing the cylindrical hole (outlet hole 4a), a nozzle plate 1 having a nozzle 4 having a cylindrical hole (inlet hole 4b) of 60 μm in diameter and 55 μm in height formed by dry etching using Bosch process Made.

＜比較例５＞
結晶面方位（１００）のＳｉ基板をノズル基材２０１として、直径３０μｍ、深さ１０μｍの円筒穴（出口穴４ａ）を、イオンアシストを用いたドライエッチング法により形成した。そして、Ｓｉ基板を厚さｔ０＝６０μｍまで研削した。次いで、円筒穴（出口穴４ａ）に対向する位置で、直径６０μｍ、高さ５５μｍの円筒穴（入口穴４ｂ）を、イオンアシストを用いたドライエッチング法により形成したノズル４を有するノズル板１を作製した。 Comparative Example 5
Using a Si substrate with a crystal plane orientation (100) as the nozzle substrate 201, a cylindrical hole (exit hole 4a) with a diameter of 30 μm and a depth of 10 μm was formed by dry etching using ion assistance. Then, the Si substrate was ground to a thickness t0 = 60 μm. Then, at a position facing the cylindrical hole (outlet hole 4a), a nozzle plate 1 having a nozzle 4 having a cylindrical hole (inlet hole 4b) of 60 μm in diameter and 55 μm in height formed by dry etching using ion assist Made.

上記実施例１及び比較例１〜５で作製したノズル板１の出口穴４ａの壁面の粗さＲａをＡＦＭ（原子間顕微鏡）によって計測した。 Roughness Ra of the wall surface of the exit hole 4a of the nozzle plate 1 manufactured in the above-mentioned Example 1 and Comparative Examples 1 to 5 was measured by AFM (atomic force microscope).

また、実施例１及び比較例１〜５で作製したノズル板１を使用した液体吐出ヘッドを作製し、吐出位置精度を確認した。吐出精度の判断基準は、目標位置に対し、±０．２μｍ以内の位置に着弾したときを合格とする。 Moreover, the liquid discharge head using the nozzle plate 1 manufactured by Example 1 and Comparative Examples 1-5 was produced, and discharge position accuracy was confirmed. The judgment standard of the ejection accuracy is regarded as passing when the ink droplet lands on a position within ± 0.2 μm with respect to the target position.

さらに、ノズル４の出口穴４ａの径、及び出口穴４ａと入口穴４ｂとの界面の径をそれぞれ測定し、フェンスの発生の有無を確認した。 Furthermore, the diameter of the outlet hole 4a of the nozzle 4 and the diameter of the interface between the outlet hole 4a and the inlet hole 4b were each measured to confirm the presence or absence of the occurrence of a fence.

以上の評価、測定結果を図６に示している。 The above evaluation and measurement results are shown in FIG.

この結果、出口穴４ａをイオンアシスト法による円環状の溝２０２を用いて形成した実施例１は、出口穴４ａの壁面の表面粗さＲａが０．０３μｍと小さく、吐出位置精度も±０．１８μｍと基準内に入っている。 As a result, in Example 1 in which the outlet hole 4a was formed using the annular groove 202 by the ion assist method, the surface roughness Ra of the wall surface of the outlet hole 4a was as small as 0.03 μm, and the discharge position accuracy was ± 0. It is within the standard of 18 μm.

これに対し、ボッシュプロセスを用いたドライエッチング法により出口穴４ａを形成した比較例１、２は、出口穴４ａの表面粗さＲａが大きく、それに対応して吐出位置精度も悪化している。 On the other hand, in Comparative Examples 1 and 2 in which the outlet holes 4a are formed by the dry etching method using the Bosch process, the surface roughness Ra of the outlet holes 4a is large, and the discharge position accuracy is correspondingly deteriorated.

また、出口穴４ａの加工はイオンアシストによるドライエッチング法であるが、円環状の溝ではなく、直接、円筒穴を形成した比較例３、４、５は、それぞれ、表面粗さＲａは良好であるが、吐出位置精度が低下している。 In addition, although the processing of the exit hole 4a is a dry etching method by ion assist, in Comparative Examples 3, 4 and 5 in which cylindrical holes are directly formed instead of annular grooves, the surface roughness Ra is good. Although there is a problem, the discharge position accuracy is decreasing.

比較例３では出入口界面径の拡大が吐出精度を低下させている。また、比較例４では出入口界面端部にフェンスが発生し、これが吐出精度を低下させている。比較例５ではイオンアシストによるドライエッチング法の特徴である底部の先細りにより出入口界面の貫通部の径が狭窄しており、これが流体抵抗となって吐出位置精度を低下させている。 In Comparative Example 3, the expansion of the inlet / outlet interface diameter reduces the discharge accuracy. Moreover, in the comparative example 4, a fence generate | occur | produces in the entrance / exit interface edge part, and this is reducing the discharge precision. In Comparative Example 5, the diameter of the penetrating portion at the inlet / outlet interface is narrowed due to the tapering of the bottom portion, which is a feature of the dry etching method by ion assistance, and this becomes fluid resistance to lower the discharge position accuracy.

このように、本実施形態に係るノズル板の製造方法によれば、ノズル穴の壁面の平滑性が向上し、特出特性が向上する。 As described above, according to the method for manufacturing a nozzle plate according to the present embodiment, the smoothness of the wall surface of the nozzle hole is improved, and the characteristic of appearance is improved.

なお、ここでは、環状の溝が円環状の溝である例で説明しているが、吐出物によっては、ノズル形状が円形状でなくとも良い場合があるので、円環状の溝に限定されるものではない。要するに、環状の溝を形成して内側の島状部を刳り抜くことでノズル穴を形成すればよい。 Here, although the example in which the annular groove is an annular groove is described, the nozzle shape may not have to be circular depending on the discharged matter, so the invention is limited to the annular groove. It is not a thing. In short, the nozzle hole may be formed by forming an annular groove and cutting out the inner island portion.

次に、本発明に係る吐出ヘッドの製造方法の一例について図７及び図８を参照して説明する。図７は同製造方法で製造した吐出ヘッドのノズル配列方向と直交する方向の断面説明図、図８は同じく同ヘッドの図７のＸ１−Ｘ１線におけるノズル配列方向と直交する方向の断面説明図である。 Next, an example of a method of manufacturing a discharge head according to the present invention will be described with reference to FIGS. 7 and 8. 7 is a cross-sectional explanatory view of the discharge head manufactured by the same manufacturing method in the direction orthogonal to the nozzle array direction, and FIG. 8 is a cross-sectional explanatory view of the same head in the direction perpendicular to the nozzle array direction in line X1-X1 of FIG. It is.

この吐出ヘッドは、本発明に係るノズル板の製造方法によって製造したノズル板１と、流路板２と、壁面部材としての振動板部材３とを積層接合している。そして、振動板部材３の振動領域（振動板）３０を変位させる圧電アクチュエータ１１と、ヘッドのフレーム部材を兼ねている共通液室部材２０とを備えている。 The discharge head laminates and joins the nozzle plate 1 manufactured by the method for manufacturing a nozzle plate according to the present invention, the flow path plate 2 and the diaphragm member 3 as a wall surface member. A piezoelectric actuator 11 for displacing a vibration area (diaphragm) 30 of the diaphragm member 3 and a common liquid chamber member 20 also serving as a frame member of the head are provided.

ノズル板１は、液体を吐出する複数のノズル４を有している。 The nozzle plate 1 has a plurality of nozzles 4 for discharging a liquid.

流路板２は、複数のノズル４にそれぞれ通じる複数の個別液室６、複数の個別液室６にそれぞれ通じる供給流路を構成する複数の流体抵抗部７、１又は複数の流体抵抗部７に通じる１又は複数の液導入部８を形成している。なお、流路板２は、３枚の板状部材２Ａ〜２Ｃを積層して構成している。 The flow passage plate 2 is provided with a plurality of individual liquid chambers 6 respectively communicating with the plurality of nozzles 4 and a plurality of fluid resistance portions 7 forming one or more supply flow paths respectively communicating with the plurality of individual liquid chambers 6 Form one or more liquid introduction portions 8 leading to the The flow channel plate 2 is configured by laminating three plate members 2A to 2C.

振動板部材３は、流路板２の個別液室６の壁面を形成する変形可能な振動領域３０を有する。ここでは、振動板部材３は２層構造（限定されない）とし、流路板２側から薄肉部を形成する第１層３Ａと、厚肉部を形成する第２層３Ｂで形成され、第１層３Ａで個別液室６に対応する部分に変形可能な振動領域３０を形成している。 The diaphragm member 3 has a deformable vibration area 30 which forms a wall surface of the individual liquid chamber 6 of the flow channel plate 2. Here, the diaphragm member 3 has a two-layer structure (not limited), and is formed of a first layer 3A forming a thin portion from the flow path plate 2 side and a second layer 3B forming a thick portion, A deformable vibration area 30 is formed in a portion corresponding to the individual liquid chamber 6 in the layer 3A.

そして、振動板部材３の個別液室６とは反対側に、振動板部材３の振動領域３０を変形させる駆動手段（アクチュエータ手段、圧力発生手段）としての電気機械変換素子を含む圧電アクチュエータ１１を配置している。 Then, on the opposite side of the diaphragm member 3 to the individual liquid chamber 6, a piezoelectric actuator 11 including an electromechanical transducer as a drive unit (actuator unit, pressure generation unit) for deforming the vibration area 30 of the diaphragm member 3 is It is arranged.

この圧電アクチュエータ１１は、ベース部材１３上に接合した圧電部材にハーフカットダイシングによって溝加工をして、ノズル配列方向において、所要数の柱状の圧電素子１２を所定の間隔で櫛歯状に形成している。 The piezoelectric actuator 11 is grooved by half-cut dicing on the piezoelectric member joined on the base member 13 to form a required number of columnar piezoelectric elements 12 in a comb-tooth shape at predetermined intervals in the nozzle arrangement direction. ing.

そして、圧電素子１２を振動板部材３の振動領域（振動板）３０に形成した島状の厚肉部である凸部３０ａに接合している。 Then, the piezoelectric element 12 is joined to a convex portion 30 a which is an island-shaped thick portion formed in the vibration area (diaphragm) 30 of the diaphragm member 3.

この圧電素子１２は、圧電層と内部電極とを交互に積層したものであり、内部電極がそれぞれ端面に引き出されて外部電極が設けられ、外部電極にフレキシブル配線部材１５が接続されている。 The piezoelectric element 12 is formed by alternately laminating a piezoelectric layer and an internal electrode, and the internal electrode is drawn to the end face to provide an external electrode, and the flexible wiring member 15 is connected to the external electrode.

共通液室部材２０は、共通液室１０を形成し、共通液室１０には外部から液体を供給する供給口２１が通じている。 The common liquid chamber member 20 forms a common liquid chamber 10, and a supply port 21 for supplying liquid from the outside is in communication with the common liquid chamber 10.

共通液室１０は、振動板部材３に設けた流路である開口９を介して液導入部８に通じており、液導入部８を介して複数の個別液室６に通じている。 The common liquid chamber 10 is in communication with the liquid introducing portion 8 through the opening 9 which is a flow path provided in the diaphragm member 3 and is in communication with the plurality of individual liquid chambers 6 through the liquid introducing portion 8.

このように構成した吐出ヘッドにおいては、例えば圧電素子１２に与える電圧を基準電位（中間電位）から下げることによって圧電素子１２が収縮し、振動板部材３の振動領域３０が引かれて個別液室６の容積が膨張することで、個別液室６内に液体が流入する。 In the discharge head configured in this manner, for example, the voltage applied to the piezoelectric element 12 is lowered from the reference potential (intermediate potential) so that the piezoelectric element 12 contracts and the vibration area 30 of the diaphragm member 3 is pulled to separate the liquid chambers. The expansion of the volume 6 causes the liquid to flow into the individual liquid chamber 6.

その後、圧電素子１２に印加する電圧を上げて圧電素子１２を積層方向に伸長させ、振動板部材３の振動領域３０をノズル４に向かう方向に変形させて個別液室６の容積を収縮させることにより、個別液室６内の液体が加圧され、ノズル４から液体が吐出される。 Thereafter, the voltage applied to the piezoelectric element 12 is increased to elongate the piezoelectric element 12 in the stacking direction, and the vibration area 30 of the diaphragm member 3 is deformed in the direction toward the nozzle 4 to shrink the volume of the individual liquid chamber 6. Thus, the liquid in the individual liquid chamber 6 is pressurized, and the liquid is discharged from the nozzle 4.

なお、ヘッドの駆動方法については上記の例（引き−押し打ち）に限るものではなく、駆動波形の与えた方によって引き打ちや押し打ちなどを行なうこともできる。 The method of driving the head is not limited to the above-described example (pull-push), and depending on the drive waveform, it is possible to perform pull or push.

本実施形態の液体吐出ヘッドを製造するときには、本発明に係るノズル板の製造方法でノズル板１を製造する工程と、製造したノズル板１と、ノズル４が通じる流路である個別液室などを形成する流路板２及び振動板部材３で構成される流路部材４０と、ノズル４から液体を吐出させる圧力を発生する圧力発生手段としての圧電アクチュエータ１１とを組み付ける工程を行う。さらに、本実施形態では、流路部材４０に共通液室部材２０を組み付ける工程も行っている。 When manufacturing the liquid discharge head according to the present embodiment, the process of manufacturing the nozzle plate 1 by the method of manufacturing a nozzle plate according to the present invention, the manufactured nozzle plate 1 and the individual liquid chamber which is a flow path through which the nozzles 4 communicate The process of assembling the flow path member 40 composed of the flow path plate 2 and the vibration plate member 3 forming the first and the piezoelectric actuator 11 as pressure generating means for generating pressure for discharging the liquid from the nozzle 4 is performed. Furthermore, in the present embodiment, a step of assembling the common liquid chamber member 20 to the flow path member 40 is also performed.

次に、本発明に係る吐出ヘッドの製造方法に他の例について図９を参照して説明する。図９は同製造方法で製造した吐出ヘッドのノズル配列方向と直交する方向の断面説明図である。 Next, another example of the method of manufacturing a discharge head according to the present invention will be described with reference to FIG. FIG. 9 is a cross-sectional explanatory view of the discharge head manufactured by the same manufacturing method in the direction orthogonal to the nozzle arrangement direction.

この液体吐出ヘッドは、循環型ヘッドであり、本発明に係るノズル板の製造方法で製造したノズル板１と、流路板２と、壁面部材としての振動板部材３と、圧電アクチュエータ１１と、共通液室部材２０とを備えている。 The liquid discharge head is a circulation type head, and the nozzle plate 1 manufactured by the method of manufacturing a nozzle plate according to the present invention, the flow path plate 2, the diaphragm member 3 as a wall member, the piezoelectric actuator 11; A common liquid chamber member 20 is provided.

流路板２は、複数のノズル４にそれぞれノズル連通路５を介して通じる複数の個別液室６と、複数の供給側の流体抵抗部７と、１又は複数の液導入部８とを形成している。また、流路板２は、複数の個別液室６にそれぞれノズル連通路５を介して通じる排出側個別流路５６と、排出側個別流路５６に通じる１又は複数の液導出部５８を形成している。 The flow path plate 2 forms a plurality of individual liquid chambers 6 respectively communicating with the plurality of nozzles 4 via the nozzle communication path 5, a plurality of fluid resistance sections 7 on the supply side, and one or a plurality of liquid introduction sections 8 doing. Further, the flow channel plate 2 forms a discharge-side individual flow passage 56 communicating with the plurality of individual liquid chambers 6 via the nozzle communication passage 5 and one or more liquid lead-out portions 58 communicating with the discharge-side individual flow passage 56. doing.

共通液室部材２０は、供給側の共通液室１０と、排出側の共通液室５０を形成している。供給側の共通液室１０は、振動板部材３に設けた供給側の開口９を通じて液導入部８に通じている。排出側の共通液室５０は、振動板部材３に設けた排出側の開口５９を通じて液導出部５８に通じている。 The common liquid chamber member 20 forms a common liquid chamber 10 on the supply side and a common liquid chamber 50 on the discharge side. The common liquid chamber 10 on the supply side communicates with the liquid introduction unit 8 through the opening 9 on the supply side provided in the diaphragm member 3. The common liquid chamber 50 on the discharge side communicates with the liquid lead-out portion 58 through an opening 59 on the discharge side provided in the diaphragm member 3.

また、供給側の共通液室１０は供給口２１を介して外部の循環経路に接続され、排出側の共通液室５０は排出口２２を介して外部の循環経路に接続されている。 Further, the common liquid chamber 10 on the supply side is connected to the external circulation path via the supply port 21, and the common liquid chamber 50 on the discharge side is connected to the external circulation path via the discharge port 22.

この循環型液体吐出ヘッドにおいては、圧電素子１２を駆動することによって個別液室６内の液体が加圧されて、ノズル４から液体が吐出される。 In the circulation type liquid discharge head, the liquid in the individual liquid chamber 6 is pressurized by driving the piezoelectric element 12, and the liquid is discharged from the nozzle 4.

このとき、ノズル４から吐出されない液体は、排出側個別流路５６、液導出部５８、排出側の開口５９から排出側の共通液室５０に排出され、排出側の共通液室５０から外部の循環経路を通じて供給側の共通液室１０に再度供給される。 At this time, the liquid not discharged from the nozzle 4 is discharged from the discharge-side individual flow passage 56, the liquid lead-out portion 58, and the discharge-side opening 59 into the common liquid chamber 50 on the discharge side. It is again supplied to the common liquid chamber 10 on the supply side through the circulation path.

また、ノズル４から液体を吐出する液体吐出動作を行っていないときにも、供給側の共通液室１０から供給側の開口９、液導入部８、流体抵抗部７、個別液室６、ノズル連通路５、排出側個別流路５６、液導出部５８、排出側の開口５９を経て排出側の共通液室５０に排出され、排出側の共通液室５０から外部の循環経路を通じて供給側の共通液室１０に再度供給される。 Further, even when the liquid discharge operation for discharging the liquid from the nozzle 4 is not performed, the opening 9 on the supply side from the common liquid chamber 10 on the supply side, the liquid introduction unit 8, the fluid resistance unit 7, the individual liquid chamber 6, the nozzle It is discharged to the common liquid chamber 50 on the discharge side through the communication passage 5, the discharge side individual flow passage 56, the liquid lead-out portion 58, and the opening 59 on the discharge side, and from the common liquid chamber 50 on the discharge side to the supply side through the external circulation path. It is again supplied to the common liquid chamber 10.

次に、本発明に係る吐出する装置の製造方法の一例について図１０及び図１１を参照して説明する。図１０は同製造方法で製造した装置の要部平面説明図、図１１は同装置の要部側面説明図である。 Next, an example of a method of manufacturing the discharge device according to the present invention will be described with reference to FIGS. 10 and 11. FIG. FIG. 10 is an explanatory plan view of an essential part of an apparatus manufactured by the same manufacturing method, and FIG. 11 is an explanatory side view of an essential part of the apparatus.

この装置は、シリアル型装置であり、主走査移動機構４９３によって、キャリッジ４０３は主走査方向に往復移動する。主走査移動機構４９３は、ガイド部材４０１、主走査モータ４０５、タイミングベルト４０８等を含む。ガイド部材４０１は、左右の側板４９１Ａ、４９１Ｂに架け渡されてキャリッジ４０３を移動可能に保持している。そして、主走査モータ４０５によって、駆動プーリ４０６と従動プーリ４０７間に架け渡したタイミングベルト４０８を介して、キャリッジ４０３は主走査方向に往復移動される。 This apparatus is a serial type apparatus, and the carriage 403 reciprocally moves in the main scanning direction by the main scanning movement mechanism 493. The main scanning movement mechanism 493 includes a guide member 401, a main scanning motor 405, a timing belt 408, and the like. The guide member 401 is bridged by the left and right side plates 491A and 491B and holds the carriage 403 movably. Then, the carriage 403 is reciprocated in the main scanning direction via the timing belt 408 bridged between the drive pulley 406 and the driven pulley 407 by the main scanning motor 405.

このキャリッジ４０３には、本発明に係る吐出ヘッドの製造方法で製造した液体吐出ヘッド４０４及びヘッドタンク４４１を一体にした本発明に係る吐出ユニットの製造方法で製造した液体吐出ユニット４４０を搭載している。 The carriage 403 is mounted with a liquid discharge unit 440 manufactured by the method of manufacturing the discharge unit according to the present invention in which the liquid discharge head 404 manufactured by the method of manufacturing the discharge head according to the present invention and the head tank 441 are integrated. There is.

液体吐出ユニット４４０の液体吐出ヘッド４０４は、例えば、イエロー（Ｙ）、シアン（Ｃ）、マゼンタ（Ｍ）、ブラック（Ｋ）の各色の液体を吐出する。また、液体吐出ヘッド４０４は、複数のノズルからなるノズル列を主走査方向と直交する副走査方向に配置し、吐出方向を下方に向けて装着している。 The liquid ejection head 404 of the liquid ejection unit 440 ejects, for example, liquid of each color of yellow (Y), cyan (C), magenta (M), and black (K). Further, the liquid discharge head 404 has a nozzle row consisting of a plurality of nozzles arranged in the sub-scanning direction orthogonal to the main scanning direction, and is mounted with the discharge direction downward.

液体吐出ヘッド４０４の外部に貯留されている液体を液体吐出ヘッド４０４に供給するための供給機構４９４により、ヘッドタンク４４１には、液体カートリッジ４５０に貯留されている液体が供給される。 The liquid stored in the liquid cartridge 450 is supplied to the head tank 441 by the supply mechanism 494 for supplying the liquid stored in the outside of the liquid discharge head 404 to the liquid discharge head 404.

供給機構４９４は、液体カートリッジ４５０を装着する充填部であるカートリッジホルダ４５１、チューブ４５６、送液ポンプを含む送液ユニット４５２等で構成される。液体カートリッジ４５０はカートリッジホルダ４５１に着脱可能に装着される。ヘッドタンク４４１には、チューブ４５６を介して送液ユニット４５２によって、液体カートリッジ４５０から液体が送液される。 The supply mechanism 494 includes a cartridge holder 451 as a filling unit for mounting the liquid cartridge 450, a tube 456, a liquid feeding unit 452 including a liquid feeding pump, and the like. The liquid cartridge 450 is detachably mounted to the cartridge holder 451. The liquid is fed from the liquid cartridge 450 to the head tank 441 by the liquid feeding unit 452 via the tube 456.

この装置は、用紙４１０を搬送するための搬送機構４９５を備えている。搬送機構４９５は、搬送手段である搬送ベルト４１２、搬送ベルト４１２を駆動するための副走査モータ４１６を含む。 The apparatus includes a transport mechanism 495 for transporting the sheet 410. The transport mechanism 495 includes a transport belt 412 which is transport means, and a sub scanning motor 416 for driving the transport belt 412.

搬送ベルト４１２は用紙４１０を吸着して液体吐出ヘッド４０４に対向する位置で搬送する。この搬送ベルト４１２は、無端状ベルトであり、搬送ローラ４１３と、テンションローラ４１４との間に掛け渡されている。吸着は静電吸着、あるいは、エアー吸引などで行うことができる。 The conveyance belt 412 adsorbs the sheet 410 and conveys the sheet 410 at a position facing the liquid discharge head 404. The conveyance belt 412 is an endless belt and is stretched between the conveyance roller 413 and the tension roller 414. The adsorption can be performed by electrostatic adsorption or air suction.

そして、搬送ベルト４１２は、副走査モータ４１６によってタイミングベルト４１７及びタイミングプーリ４１８を介して搬送ローラ４１３が回転駆動されることによって、副走査方向に周回移動する。 The conveyance belt 412 rotates in the sub-scanning direction as the conveyance roller 413 is rotationally driven by the sub-scanning motor 416 via the timing belt 417 and the timing pulley 418.

さらに、キャリッジ４０３の主走査方向の一方側には搬送ベルト４１２の側方に液体吐出ヘッド４０４の維持回復を行う維持回復機構４２０が配置されている。 Further, on one side of the carriage 403 in the main scanning direction, a maintenance recovery mechanism 420 for maintaining and recovering the liquid discharge head 404 is disposed on the side of the transport belt 412.

維持回復機構４２０は、例えば液体吐出ヘッド４０４のノズル面（ノズルが形成された面）をキャッピングするキャップ部材４２１、ノズル面を払拭するワイパ部材４２２などで構成されている。 The maintenance and recovery mechanism 420 includes, for example, a cap member 421 for capping the nozzle surface (surface on which the nozzle is formed) of the liquid discharge head 404, a wiper member 422 for wiping the nozzle surface, and the like.

主走査移動機構４９３、供給機構４９４、維持回復機構４２０、搬送機構４９５は、側板４９１Ａ，４９１Ｂ、背板４９１Ｃを含む筐体に取り付けられている。 The main scanning movement mechanism 493, the supply mechanism 494, the maintenance recovery mechanism 420, and the transport mechanism 495 are attached to a housing including the side plates 491A and 491B and the back plate 491C.

このように構成したこの装置においては、用紙４１０が搬送ベルト４１２上に給紙されて吸着され、搬送ベルト４１２の周回移動によって用紙４１０が副走査方向に搬送される。 In this apparatus configured as described above, the sheet 410 is fed and adsorbed onto the conveyance belt 412, and the sheet 410 is conveyed in the sub-scanning direction by the circumferential movement of the conveyance belt 412.

そこで、キャリッジ４０３を主走査方向に移動させながら画像信号に応じて液体吐出ヘッド４０４を駆動することにより、停止している用紙４１０に液体を吐出して画像を形成
する。 Therefore, the liquid ejection head 404 is driven according to the image signal while moving the carriage 403 in the main scanning direction, thereby ejecting the liquid onto the stopped sheet 410 to form an image.

このように、この装置では、本発明に係る製造方法で製造したノズル板を含む吐出ヘッドを備えているので、高画質画像を安定して形成することができる。 As described above, in this apparatus, since the discharge head including the nozzle plate manufactured by the manufacturing method according to the present invention is provided, a high quality image can be stably formed.

この吐出する装置を製造するには、本発明に係る吐出ヘッドの製造方法で吐出ヘッド４０４を製造する工程、又は、本発明に係る吐出ユニットの製造方法で吐出ヘッド４とヘッドタンク４４１を一体化する工程を行って吐出ユニット４４０を製造する工程と、吐出ヘッド４０４又は吐出ユニット４４０を装置本体４００のキャリッジ４０３に搭載する工程とを行う。 In order to manufacture this discharge device, the step of manufacturing the discharge head 404 by the method of manufacturing a discharge head according to the present invention, or the method of manufacturing the discharge unit according to the present invention integrates the discharge head 4 and the head tank 441. The following processes are performed to manufacture the discharge unit 440, and the process of mounting the discharge head 404 or the discharge unit 440 on the carriage 403 of the apparatus main body 400.

次に、本発明に係る吐出ユニットの製造方法の他の例について図１２を参照して説明する。図１２は同製造方法で製造した吐出ユニットの要部平面説明図である。 Next, another example of the method of manufacturing the discharge unit according to the present invention will be described with reference to FIG. FIG. 12 is an explanatory plan view of an essential part of a discharge unit manufactured by the same manufacturing method.

この吐出ユニットは、前記吐出する装置を構成している部材のうち、側板４９１Ａ、４９１Ｂ及び背板４９１Ｃで構成される筐体部分と、主走査移動機構４９３と、キャリッジ４０３と、液体吐出ヘッド４０４で構成されている。 Among the members constituting the apparatus for discharging the discharge unit, the discharge unit includes a housing portion constituted by the side plates 491A and 491B and the back plate 491C, the main scanning movement mechanism 493, the carriage 403, and the liquid discharge head 404. It consists of

なお、この吐出ユニットの例えば側板４９１Ｂに、前述した維持回復機構４２０、及び供給機構４９４の少なくともいずれかを更に取り付けた吐出ユニットを構成することもできる。 In addition, it is also possible to configure a discharge unit in which at least one of the aforementioned maintenance and recovery mechanism 420 and the supply mechanism 494 is further attached to, for example, the side plate 491B of this discharge unit.

次に、本発明に係る吐出ユニットの製造方法の更に他の例について図１３を参照して説明する。図１３は同製造方法で製造した吐出ユニットの正面説明図である。 Next, still another example of the method of manufacturing a discharge unit according to the present invention will be described with reference to FIG. FIG. 13 is a front view showing a discharge unit manufactured by the same manufacturing method.

この吐出ユニットは、流路部品４４４が取付けられた液体吐出ヘッド４０４と、流路部品４４４に接続されたチューブ４５６で構成されている。 The discharge unit is composed of a liquid discharge head 404 to which a flow path component 444 is attached, and a tube 456 connected to the flow path component 444.

なお、流路部品４４４はカバー４４２の内部に配置されている。流路部品４４４に代えてヘッドタンク４４１を含むこともできる。また、流路部品４４４の上部には液体吐出ヘッド４０４と電気的接続を行うコネクタ４４３が設けられている。 The channel component 444 is disposed inside the cover 442. A head tank 441 may be included instead of the flow path component 444. Further, a connector 443 electrically connected to the liquid discharge head 404 is provided on the upper portion of the flow path component 444.

このように、本発明に係る吐出ユニットの製造方法においては、吐出ヘッド４０４に供給する吐出物を貯留するヘッドタンク４４１、吐出ヘッド４０４を搭載するキャリッジ４０３、吐出ヘッド４０４に吐出物を供給する供給機構４９４、吐出ヘッド４０４の維持回復を行う維持回復機構４２０、吐出ヘッド４０４を主走査方向に移動させる主走査移動機構４９３の少なくともいずれか一つと一体化する工程を行う。 As described above, in the method of manufacturing the discharge unit according to the present invention, the head tank 441 for storing the discharge material supplied to the discharge head 404, the carriage 403 for mounting the discharge head 404, and the supply for supplying the discharge material to the discharge head 404 A step of unifying at least one of the mechanism 494, the maintenance recovery mechanism 420 for maintaining and recovering the ejection head 404, and the main scanning movement mechanism 493 for moving the ejection head 404 in the main scanning direction is performed.

次に、本発明に係る吐出する装置の製造方法の他の例について図１４及び図１５を参照して説明する。図１４は同製造方法によって製造した装置の概略説明図、図１５は同装置のヘッドユニットの平面説明図である。 Next, another example of the method of manufacturing the discharge device according to the present invention will be described with reference to FIGS. 14 and 15. FIG. FIG. 14 is a schematic explanatory view of an apparatus manufactured by the same manufacturing method, and FIG. 15 is a plan explanatory view of a head unit of the same apparatus.

この吐出する装置は、連続媒体５１０を搬入する搬入手段５０１と、搬入手段５０１から搬入された連続媒体５１０を印刷手段５０５に案内搬送する案内搬送手段５０３と、連続媒体５１０に対して液体を吐出して画像を形成する印刷を行う印刷手段５０５と、連続媒体５１０を乾燥する乾燥手段５０７と、連続媒体５１０を排出する排出手段５０９などを備えている。 The apparatus for discharging the liquid includes a carrying-in means 501 for carrying in the continuous medium 510, a guiding and conveying means 503 for guiding and carrying the continuous medium 510 carried in from the carrying-in means 501 to the printing means 505, and discharging the liquid to the continuous medium 510. And printing means 505 for printing an image, drying means 507 for drying the continuous medium 510, and discharge means 509 for discharging the continuous medium 510.

連続媒体５１０は搬入手段５０１の元巻きローラ５１１から送り出され、搬入手段５０１、案内搬送手段５０３、乾燥手段５０７、排出手段５０９の各ローラによって案内、搬送されて、排出手段５０９の巻取りローラ５９１にて巻き取られる。 The continuous medium 510 is delivered from the original winding roller 511 of the loading means 501, guided and transported by the loading means 501, the guide transporting means 503, the drying means 507, and the discharging means 509, and the winding roller 591 of the discharging means 509. It is rolled up at

この連続媒体５１０は、印刷手段５０５において、搬送ガイド部材５５９上をヘッドユニット５５０及びヘッドユニット５５５に対向して搬送され、ヘッドユニット５５０から吐出される液体によって画像が形成され、ヘッドユニット５５から吐出される処理液で後処理が行われる。 The continuous medium 510 is conveyed by the printing unit 505 on the conveyance guide member 559 so as to face the head unit 550 and the head unit 555, and an image is formed by the liquid ejected from the head unit 550. Post-treatment is carried out with the processing solution to be treated.

ここで、ヘッドユニット５５０には、例えば、媒体搬送方向上流側から、４色分のフルライン型ヘッドアレイ５５１Ｋ、５５１Ｃ、５５１Ｍ、５５１Ｙ（以下、色の区別しないときは「ヘッドアレイ５５１」という。）が配置されている。 Here, the head unit 550 is, for example, a full line type head array 551K, 551C, 551M, 551Y for four colors from the upstream side in the medium conveyance direction (hereinafter referred to as “head array 551” when color is not distinguished. ) Are arranged.

各ヘッドアレイ５５１は、液体吐出手段であり、それぞれ、搬送される連続媒体５１０に対してブラックＫ，シアンＣ、マゼンタＭ、イエローＹの液体を吐出する。なお、色の種類及び数はこれに限るものではない。 Each head array 551 is a liquid ejection unit, and ejects the liquids of black K, cyan C, magenta M, and yellow Y to the continuous medium 510 conveyed. The type and number of colors are not limited to this.

ヘッドアレイ５５１は、例えば、本発明に係る吐出ヘッドの製造方法で製造した複数の吐出ヘッド１０００をベース部材５５２上に千鳥状に並べて配置したものであるが、これに限らない。 The head array 551 is, for example, the one in which the plurality of ejection heads 1000 manufactured by the method of manufacturing the ejection head according to the present invention are arranged in a zigzag on the base member 552.

この吐出する装置を製造するには、本発明に係る吐出ヘッドの製造方法で吐出ヘッド４０４を製造する工程、又は、本発明に係る吐出ユニットの製造方法で吐出ヘッドとヘッドタンク等を一体化する工程を行って吐出ユニットを製造する工程と、吐出ヘッド４０４又は吐出ユニットを装置本体に搭載する工程とを行う。 In order to manufacture the apparatus for discharging, the step of manufacturing the discharge head 404 by the method of manufacturing the discharge head according to the present invention, or the discharge head and the head tank are integrated by the method of manufacturing the discharge unit according to the present invention. A process of manufacturing a discharge unit by performing a process and a process of mounting the discharge head 404 or the discharge unit on the apparatus main body are performed.

次に、この装置における液体循環システムの一例について図１６を参照して説明する。図１６は同システムの説明に供するブロック説明図である。 Next, an example of a liquid circulation system in this device will be described with reference to FIG. FIG. 16 is a block diagram for explaining the system.

液体循環システム６３０は、メインタンク６０２、ヘッド１０００、供給タンク６３１、循環タンク６３２、コンプレッサ６３３、真空ポンプ６３４、第１送液ポンプ６３５、第２送液ポンプ６３６、供給側圧力センサ６３７、循環側圧力センサ６３８、レギュレータ（Ｒ）６３９ａ，６３９ｂなどで構成されている。 The liquid circulation system 630 includes a main tank 602, a head 1000, a supply tank 631, a circulation tank 632, a compressor 633, a vacuum pump 634, a first liquid feed pump 635, a second liquid feed pump 636, a supply side pressure sensor 637, and a circulation side. The pressure sensor 638 includes regulators (R) 639a and 639b.

供給側圧力センサ６３７は、供給タンク６３１とヘッド１０００との間であって、ヘッド１０００の供給ポートに繋がった供給側流路に接続されている。循環側圧力センサ６３８は、ヘッド１０００と循環タンク６３２との間であって、ヘッド１０００の排出ポートに繋がった排出側流路に接続されている。 The supply-side pressure sensor 637 is connected between the supply tank 631 and the head 1000 and to a supply-side flow path connected to the supply port of the head 1000. The circulation side pressure sensor 638 is connected between the head 1000 and the circulation tank 632 and in the discharge side flow path connected to the discharge port of the head 1000.

循環タンク６３２の一方は、第１送液ポンプ６３５を介して供給タンク６３１と接続されており、循環タンク６３２の他方は第２送液ポンプ６３６を介してメインタンク６０２と接続されている。 One of the circulation tanks 632 is connected to the supply tank 631 via the first liquid feed pump 635, and the other one of the circulation tanks 632 is connected to the main tank 602 via the second liquid feed pump 636.

これにより、供給タンク６３１から供給ポート７１を通ってヘッド１０００内に液体が流入し、排出ポート７２から排出されて循環タンク６３２へ排出される。そして、さらに第１送液ポンプ６３５によって循環タンク６３２から供給タンク６３１へ液体が送られることによって液体が循環する。 As a result, liquid flows from the supply tank 631 into the head 1000 through the supply port 71, is discharged from the discharge port 72, and is discharged to the circulation tank 632. Then, the liquid is circulated by the liquid being sent from the circulation tank 632 to the supply tank 631 by the first liquid feeding pump 635.

また、供給タンク６３１にはコンプレッサ６３３がつなげられており、供給側圧力センサ６３７で所定の正圧が検知されるように制御される。一方、循環タンク６３２には真空ポンプ６３４がつなげられており、循環側圧力センサ６３８で所定の負圧が検知されるよう制御される。 Further, a compressor 633 is connected to the supply tank 631 and is controlled so that a predetermined positive pressure is detected by the supply side pressure sensor 637. On the other hand, a vacuum pump 634 is connected to the circulation tank 632 and is controlled so that a predetermined negative pressure is detected by the circulation side pressure sensor 638.

これにより、ヘッド１０００内を通って液体を循環させつつ、メニスカスの負圧を一定に保つことができる。 This allows the negative pressure of the meniscus to be kept constant while circulating the liquid through the head 1000.

また、ヘッド１０００のノズル４から液体を吐出すると、供給タンク６３１及び循環タンク６３２内の液体量が減少していく。そのため、適宜、第２送液ポンプ６３６を用いて、メインタンク６０２から循環タンク６３２に液体を補充する。メインタンク６０２から循環タンク６３２への液体補充のタイミングは、循環タンク６３２内の液体の液面高さが所定高さよりも下がったときに液体補充を行うなど、循環タンク６３２内に設けた液面センサなどの検知結果によって制御することができる。 In addition, when the liquid is discharged from the nozzle 4 of the head 1000, the amount of liquid in the supply tank 631 and the circulation tank 632 decreases. Therefore, the second liquid feed pump 636 is used to replenish the liquid from the main tank 602 to the circulation tank 632 as appropriate. The timing of liquid replenishment from the main tank 602 to the circulation tank 632 is such that the liquid level provided in the circulation tank 632 is such that liquid replenishment is performed when the liquid level in the circulation tank 632 falls below a predetermined height. It can control by the detection result of a sensor etc.

本願において、吐出物は、吐出ヘッドから吐出可能な粘度や表面張力を有するものであればよく、特に限定されないが、常温、常圧下において、または加熱、冷却により粘度が３０ｍＰａ・ｓ以下となるものであることが好ましい。より具体的には、水や有機溶媒等の溶媒、染料や顔料等の着色剤、重合性化合物、樹脂、界面活性剤等の機能性付与材料、ＤＮＡ、アミノ酸やたんぱく質、カルシウム等の生体適合材料、天然色素等の可食材料、などを含む溶液、懸濁液、エマルジョンなどであり、これらは例えば、インクジェット用インク、表面処理液、電子素子や発光素子の構成要素や電子回路レジストパターンの形成用液などの液体、光硬化性樹脂等の３次元造形用材料等の用途で用いることができる。 In the present application, the discharge material is not particularly limited as long as it has a viscosity and surface tension that can be discharged from the discharge head, and the viscosity is 30 mPa · s or less at normal temperature or normal pressure, or by heating and cooling. Is preferred. More specifically, solvents such as water and organic solvents, colorants such as dyes and pigments, polymerizable compounds, functionalizing materials such as resins and surfactants, and biocompatible materials such as DNA, amino acids, proteins and calcium Solutions, suspensions, emulsions, etc. containing edible materials such as natural pigments, etc. These are, for example, ink jet inks, surface treatment liquids, components of electronic devices and light emitting devices, and formation of electronic circuit resist patterns It can be used in applications such as liquids such as liquids and materials for three-dimensional modeling such as photocurable resins.

液体を吐出するエネルギー発生源として、圧電アクチュエータ（積層型圧電素子及び薄膜型圧電素子）、発熱抵抗体などの電気熱変換素子を用いるサーマルアクチュエータ、振動板と対向電極からなる静電アクチュエータなどを使用するものが含まれる。 Use a piezoelectric actuator (laminated piezoelectric element and thin film piezoelectric element), a thermal actuator using an electrothermal transducer such as a heating resistor, an electrostatic actuator consisting of a diaphragm and a counter electrode, etc. as an energy source to discharge liquid It includes what you do.

「吐出ユニット」は、吐出ヘッドに機能部品、機構が一体化したものであり、液体の吐出に関連する部品の集合体が含まれる。例えば、「吐出ユニット」は、ヘッドタンク、キャリッジ、供給機構、維持回復機構、主走査移動機構の構成の少なくとも一つを液体吐出ヘッドと組み合わせたものなどが含まれる。 The “discharge unit” is a combination of functional components and mechanisms in a discharge head, and includes an assembly of components related to the discharge of a liquid. For example, the “discharge unit” includes a combination of at least one of the head tank, the carriage, the supply mechanism, the maintenance and recovery mechanism, and the main scanning and moving mechanism with the liquid discharge head.

ここで、一体化とは、例えば、吐出ヘッドと機能部品、機構が、締結、接着、係合などで互いに固定されているもの、一方が他方に対して移動可能に保持されているものを含む。また、液体吐出ヘッドと、機能部品、機構が互いに着脱可能に構成されていても良い。 Here, the term “integral” includes, for example, one in which the discharge head and the functional components and mechanisms are fixed to each other by fastening, bonding, engagement, etc., and one in which one is held movably with respect to the other. . In addition, the liquid discharge head, the functional components, and the mechanism may be configured to be removable from each other.

例えば、液体吐出ユニットとして、吐出ヘッドとヘッドタンクが一体化されているものがある。また、チューブなどで互いに接続されて、吐出ヘッドとヘッドタンクが一体化されているものがある。ここで、これらの吐出ユニットのヘッドタンクと吐出ヘッドとの間にフィルタを含むユニットを追加することもできる。 For example, there is a liquid discharge unit in which a discharge head and a head tank are integrated. In addition, there is one in which the discharge head and the head tank are integrated by being connected to each other by a tube or the like. Here, it is also possible to add a unit including a filter between the head tank of these discharge units and the discharge head.

また、吐出ユニットとして、吐出ヘッドとキャリッジが一体化されているものがある。 Further, as a discharge unit, there is one in which a discharge head and a carriage are integrated.

また、吐出ユニットとして、吐出ヘッドを走査移動機構の一部を構成するガイド部材に移動可能に保持させて、吐出ヘッドと走査移動機構が一体化されているものがある。また、液体吐出ヘッドとキャリッジと主走査移動機構が一体化されているものがある。 Further, there is a discharge unit in which the discharge head is movably held by a guide member which constitutes a part of the scanning movement mechanism, and the discharge head and the scanning movement mechanism are integrated. In addition, there is one in which the liquid discharge head, the carriage, and the main scanning movement mechanism are integrated.

また、吐出ユニットとして、吐出ヘッドが取り付けられたキャリッジに、維持回復機構の一部であるキャップ部材を固定させて、吐出ヘッドとキャリッジと維持回復機構が一体化されているものがある。 Further, as a discharge unit, there is one in which a cap member which is a part of the maintenance and recovery mechanism is fixed to a carriage to which the discharge head is attached, and the discharge head, the carriage and the maintenance and recovery mechanism are integrated.

また、吐出ユニットとして、ヘッドタンク若しくは流路部品が取付けられた吐出ヘッドにチューブが接続されて、吐出ヘッドと供給機構が一体化されているものがある。このチューブを介して、液体貯留源の液体が吐出ヘッドに供給される。 Further, as a discharge unit, there is one in which a tube is connected to a discharge head to which a head tank or a flow path part is attached, and the discharge head and the supply mechanism are integrated. The liquid of the liquid storage source is supplied to the discharge head through the tube.

主走査移動機構は、ガイド部材単体も含むものとする。また、供給機構は、チューブ単体、装填部単体も含むものする。 The main scanning movement mechanism also includes a single guide member. The supply mechanism also includes a single tube and a single loading unit.

「吐出する装置」には、吐出ヘッド又は吐出ユニットを備え、吐出ヘッドを駆動させて吐出させる装置が含まれる。吐出する装置には、液体が付着可能なものに対して吐出することが可能な装置だけでなく、液体などの吐出物を気中や液中に向けて吐出する装置も含まれる。 The “ejection apparatus” includes an ejection head or an ejection unit, and includes an apparatus for driving and ejecting the ejection head. The device for discharging includes not only a device capable of discharging the liquid to which the liquid can adhere but also a device for discharging a discharge substance such as a liquid into the air or the liquid.

この「吐出する装置」は、吐出物が付着可能なものの給送、搬送、排紙に係わる手段、その他、前処理装置、後処理装置なども含むことができる。 The "ejection device" can include means related to feeding, conveyance, and discharging of the matter to which the ejection material can adhere, and a pretreatment device, a post-treatment device, and the like.

例えば、「吐出する装置」として、インクを吐出させて用紙に画像を形成する装置である画像形成装置、立体造形物（三次元造形物）を造形するために、粉体を層状に形成した粉体層に造形液を吐出させる立体造形装置（三次元造形装置）がある。 For example, an image forming apparatus that discharges ink to form an image on a sheet as a “discharging apparatus”, a powder in which powder is formed in a layer to form a three-dimensional object (three-dimensional object) There is a three-dimensional modeling apparatus (three-dimensional modeling apparatus) which discharges a modeling liquid to a body layer.

また、「吐出する装置」は、吐出された液体によって文字、図形等の有意な画像が可視化されるものに限定されるものではない。例えば、それ自体意味を持たないパターン等を形成するもの、三次元像を造形するものも含まれる。 Further, the “dispensing device” is not limited to a device in which a significant image such as characters and figures is visualized by the discharged liquid. For example, those which form patterns having no meaning per se and those which form three-dimensional images are included.

上記「吐出物が付着可能なもの」とは、吐出物が少なくとも一時的に付着可能なものであって、付着して固着するもの、付着して浸透するものなどを意味する。具体例としては、用紙、記録紙、記録用紙、フィルム、布などの被記録媒体、電子基板、圧電素子などの電子部品、粉体層（粉末層）、臓器モデル、検査用セルなどの媒体であり、特に限定しない限り、吐出物が付着するすべてのものが含まれる。 The above-mentioned "thing to which the discharge material can adhere" means one that the discharge material can adhere at least temporarily, adheres and adheres, adheres and penetrates, and the like. Specific examples include recording media such as paper, recording paper, recording paper, film, cloth, electronic substrates, electronic components such as piezoelectric elements, and media such as powder layers (powder layers), organ models, and inspection cells. Yes, and all things to which the discharge adheres are included unless specifically limited.

上記「吐出物が付着可能なもの」の材質は、紙、糸、繊維、布帛、皮革、金属、プラスチック、ガラス、木材、セラミックスなど吐出物が一時的でも付着可能であればよい。 The material of the above-mentioned “thing to which the discharge material can adhere” may be any material as long as discharge material such as paper, yarn, fiber, fabric, leather, metal, plastic, glass, wood, ceramics can be temporarily attached.

また、「吐出する装置」は、吐出ヘッドと吐出物が付着可能なものとが相対的に移動する装置があるが、これに限定するものではない。具体例としては、吐出ヘッドを移動させるシリアル型装置、吐出ヘッドを移動させないライン型装置などが含まれる。 Moreover, although there exists an apparatus in which the thing which can adhere an ejection head and the thing to which an ejection thing can move relatively moves "the apparatus to discharge", it is not limited to this. Specific examples include a serial type device that moves the ejection head, a line type device that does not move the ejection head, and the like.

また、「吐出する装置」としては、他にも、用紙の表面を改質するなどの目的で用紙の表面に処理液を塗布するために処理液を用紙に吐出する処理液塗布装置、原材料を溶液中に分散した組成液を、ノズルを介して噴射させて原材料の微粒子を造粒する噴射造粒装置などがある。 In addition, as the “ejection apparatus”, a treatment liquid application apparatus that ejects the treatment liquid onto the sheet to apply the treatment liquid to the surface of the sheet for the purpose of reforming the surface of the sheet, etc. There is an injection granulator which granulates the fine particles of the raw material by injecting the composition liquid dispersed in the solution through a nozzle.

なお、本願の用語における、画像形成、記録、印字、印写、印刷、造形等はいずれも同義語とする。 In the terms of the present application, image formation, recording, printing, printing, printing, modeling and the like are all synonymous.

１ノズル板
２流路板
３振動板部材
４ノズル
４ａ出口穴
４ｂ入口穴
５ノズル連通路
６個別液室
７流体抵抗部
８液導入部
９開口（供給側の開口）
１０共通液室（供給側の共通液室）
１１圧電アクチュエータ
２０共通液室部材
５０排出側の共通液室
４００装置本体
４０３キャリッジ
４０４吐出ヘッド
４４０吐出ユニット
６３０液体循環システム
１０００吐出ヘッド 1 nozzle plate 2 flow path plate 3 diaphragm member 4 nozzle 4a outlet hole 4b inlet hole 5 nozzle communication passage 6 individual liquid chamber 7 fluid resistance portion 8 liquid introduction portion 9 opening (opening on the supply side)
10 Common liquid chamber (Common liquid chamber on the supply side)
11 Piezoelectric actuator 20 Common liquid chamber member 50 Common liquid chamber 400 on discharge side Device main body 403 Carriage 404 Discharge head 440 Discharge unit 630 Liquid circulation system 1000 Discharge head

Claims

A method of manufacturing a nozzle plate having a nozzle, comprising:
Forming an annular groove from one side of the nozzle substrate;
Forming a recess to a depth reaching at least the annular groove from the other surface side of the nozzle base material;
A method for manufacturing a nozzle plate, comprising forming a nozzle hole to be the nozzle by making the portion surrounded by the annular groove independent and removing the independent portion.

The method for manufacturing a nozzle plate according to claim 1, wherein the annular groove is an annular groove.

The method for manufacturing a nozzle plate according to claim 1 or 2, wherein the annular groove is formed by dry etching using ion assist from one surface of the nozzle base material.

The method for manufacturing a nozzle plate according to any one of claims 1 to 3, wherein the concave portion is formed from the other surface of the nozzle base material by a dry etching method by a Bosch process.

A process of manufacturing the nozzle plate according to any one of claims 1 to 4.
An assembling step of assembling the nozzle plate, a flow path member forming a flow path communicating with the nozzle, and pressure generating means for generating a pressure for discharging the discharge material from the nozzle; Production method.

A head tank for storing the discharge material to be supplied to the discharge head, a carriage for mounting the discharge head, a supply mechanism for supplying the discharge material to the discharge head, maintenance and recovery of the discharge head A method of manufacturing a discharge unit, comprising the step of integrating with at least one of a maintenance recovery mechanism for moving the discharge head and a main scanning movement mechanism for moving the discharge head in the main scanning direction.

A process of manufacturing a discharge head by the method of manufacturing a discharge head according to claim 5 or
A process of manufacturing the discharge unit by the method of manufacturing a discharge unit according to claim 6;
And a step of mounting the discharge head or the discharge unit on an apparatus main body.