JP2019189573A - 縮合複素環および縮合炭素環誘導体を含有する、疼痛の治療および／または予防用医薬組成物 - Google Patents

Abstract

【課題】ＴｒｋＡ阻害活性を有する化合物またはその製薬上許容される塩、およびそれらを含有する医薬組成物を提供する。【解決手段】ウレア基窒素の一方の窒素原子に縮合複素環あるいは縮合炭素環が置換され、他方の窒素原子にピラゾールが置換された化学構造を基本骨格とする化合物の提供。【選択図】なし

Description

本発明は、ＴｒｋＡの阻害活性を有し、ＴｒｋＡに起因する疾患の治療および／または予防において有用な化合物またはその製薬上許容される塩を含有する、疼痛の治療および／または予防用医薬組成物に関する。

Tropomyosin receptor kinase（Ｔｒｋ）ファミリーは、受容体型チロシンキナーゼに属し、神経栄養因子（ニューロトロフィン；ＮＴ）と総称される液性因子の受容体として機能する。Ｔｒｋファミリーとしては、神経成長因子（ＮＧＦ）の高親和性受容体であるＴｒｋＡ、脳由来栄養因子（ＢＤＮＦ）およびＮＴ−４／５の高親和性受容体であるＴｒｋＢ、ならびにＮＴ−３の高親和性受容体であるＴｒｋＣの３つのサブタイプが知られており、生体内で様々な機能を発揮することが知られている。ＴｒｋＡは、主に末梢神経や脳の神経細胞に発現し生体内においてニューロンの発生、分化、機能維持に重要な役割を担っていることが知られており、その遺伝的変異は無痛無汗症となることが知られている（特許文献１および２、非特許文献１−３）。ＮＧＦによって末梢神経のＴｒｋＡが活性化されると、痛覚過敏が惹起されることが知られている（非特許文献４−６）。抗ＮＧＦ抗体を用いた臨床および非臨床試験結果、あるいはＴｒｋ阻害剤を用いた非臨床試験の結果より、変形性関節炎、関節リウマチ、骨折、間質性膀胱炎、慢性膵炎、前立腺炎に伴う痛み、また、慢性腰痛、糖尿病性末梢神経障害痛、術後痛、骨盤痛、癌性疼痛などに代表される侵害受容性疼痛、神経障害性疼痛、急性痛、慢性疼痛の様々な痛みにＮＧＦ−ＴｒｋＡシグナル、またはＮＴ−Ｔｒｋシグナルが関与していることが報告されている（特許文献１および２、非特許文献７および８）。
また、Ｔｒｋは神経芽腫、前立腺がん、肺がん、乳がん、胃がん、および膵がんなどの種々のがん細胞に発現し、がん細胞の増殖や遊走に関連していることが報告されている。また、肺がんでは、ＴｒｋＡのキナーゼドメインが融合した蛋白ががん細胞の増殖に関与することが報告されている。さらに非臨床癌モデルでは、Ｔｒｋ阻害剤が癌の増殖と転移を抑制することが報告されている（特許文献１および２、非特許文献９−１２）。また、ＴｒｋＡは、肥満細胞、好酸球、Ｔ細胞やＢ細胞などの免疫担当細胞、ならびにケラチノサイ卜などにも発現しており、ＮＧＦ−ＴｒｋＡシグナル、またはＮＴ−Ｔｒｋシグナルが、潰瘍性大腸炎およびクローン病などの炎症性腸疾患、喘息、鼻炎、などのアレルギー性疾患、ならびに乾癬、アトピー性皮膚炎、掻痒などの皮膚疾患に関与する可能性が報告されている（特許文献１および２）。加えて、ＮＧＦ−ＴｒｋＡシグナル阻害によって膀胱炎による過活動膀胱が改善することが報告されている（特許文献１）。また、ＮＴ−Ｔｒｋシグナルは、シェーグレン症候群（特許文献１）、子宮内膜症（特許文献１）への関与が報告されている。また、ＴｒｋＡはクルーズ・トリパノソーマ感染症(シャーガス病)の感染過程に重要であると考えられている（特許文献１）。そのため、ＴｒｋＡのキナーゼ活性を阻害する化合物は、侵害受容性疼痛、神経障害性疼痛などの各種の疼痛や、がん、炎症性疾患、アレルギー性疾患、皮膚疾患などの様々な疾患の治療薬として有用である。
ＴｒｋＡ阻害作用を有する化合物が特許文献１−２０および非特許文献６、１３−１４に開示されている。しかしながら、いずれの文献にも、本発明に関連する化合物は記載も示唆もされていない。

国際公開第２０１４／０７８３２５号明細書 国際公開第２０１３／１６１９１９号明細書 国際公開第２０１２／１５８４１３号明細書 国際公開第２０１４／０７８４５４号明細書 国際公開第２０１４／０７８４１７号明細書 国際公開第２０１４／０７８４０８号明細書 国際公開第２０１４／０７８３７８号明細書 国際公開第２０１４／０７８３７２号明細書 国際公開第２０１４／０７８３３１号明細書 国際公開第２０１４／０７８３２８号明細書 国際公開第２０１４／０７８３２３号明細書 国際公開第２０１４／０７８３２２号明細書 国際公開第２０１４／０５３９６７号明細書 国際公開第２０１４／０５３９６５号明細書 国際公開第２０１４／０５３９６８号明細書 国際公開第２０１５／１７５７８８号明細書 国際公開第２０１６／１１６９００号明細書 国際公開第２０１６／０２１６２９号明細書 国際公開第２０１７／００６９５３号明細書 国際公開第２０１７／１３５３９９号明細書

Clinical Science、第110巻、175-191頁、2006年 Nature Reviews Neuroscience、第4巻、299-309頁、2003年 Clinical Genetics、第82巻、341-350頁、2012年 Anesthesiology、第115巻、189-204頁、2011年 Journal of Neurochemistry、第124巻、276-289頁、2013年 Expert Opinion on Therapeutic Patents、第24巻、731-744頁、2014年 Bone、第48巻、389-398頁、2011年 Molecular Pain、第6巻、87頁、2010年 Dermato-Endocrinology、第3巻、32-36頁、2011年 Leukemia、第21巻、2171-2180頁、2007年 Cancer Research、第62巻、986-989頁、2002年 Nature Medicine、第19巻、1469-1472頁、2013年 Journal of Medicinal Chemistry、第57巻、5800-5816頁、2014年 Expert Opinion on Therapeutic Patents、第19巻、305-319頁、2009年

本発明の目的は、ＴｒｋＡ阻害活性を有する化合物またはその製薬上許容される塩を含有する、疼痛の治療および／または予防用医薬組成物を提供することにある。

本発明は、ＴｒｋＡ阻害活性を有し、ＴｒｋＡに起因する疾患の治療および／または予防に有用な化合物またはその製薬上許容される塩を含有する医薬組成物に関する。

本発明は、以下の項目１）〜２４）および１０１）〜１０７）に関する。
１）一般式（Ｉ）：

（式中、式：

で示される基は、式：

（式中、Ｗは、窒素原子またはＣＲ^Ｗであり；
Ｒ^Ｗは、水素原子、ハロゲンまたは置換若しくは非置換のアルキルであり；
Ｒ^Ａは、置換若しくは非置換のアルキル、ハロゲン、置換若しくは非置換の芳香族炭素環式基、置換若しくは非置換の非芳香族炭素環式基、置換若しくは非置換の芳香族複素環式基または置換若しくは非置換の非芳香族複素環式基であり；
Ｒ^Ａ’は、置換若しくは非置換のアルキル、置換若しくは非置換の芳香族炭素環式基、置換若しくは非置換の非芳香族炭素環式基、置換若しくは非置換の芳香族複素環式基または置換若しくは非置換の非芳香族複素環式基であり；
Ｒ^３およびＲ^４は、それぞれ独立して、水素原子、置換若しくは非置換のアルキル、置換若しくは非置換のアルケニル、置換若しくは非置換のアルキニル、置換若しくは非置換のアルキルオキシカルボニル、置換若しくは非置換のカルバモイル、またはＲ^３およびＲ^４は一緒になって、オキソを形成してもよく；
環Ｄは、置換若しくは非置換のベンゼン環または置換若しくは非置換の６員芳香族複素環であり；
Ｕ^ＡおよびＵ^Ｂは、それぞれ独立して、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＮＲ^Ｂ−または−ＣＲ^ＣＲ^Ｄ−であり；
Ｕは、それぞれ独立して、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＮＲ^Ｂ−または−ＣＲ^ＣＲ^Ｄ−であり；
ｔは、１〜４の整数であり；
Ｒ^Ｂは、それぞれ独立して、水素原子、置換若しくは非置換のアルキルまたは置換若しくは非置換のアルキルオキシであり；
Ｒ^Ｃは、それぞれ独立して、水素原子、ハロゲン、置換若しくは非置換のアルキル、置換若しくは非置換のアルキルオキシであり；
Ｒ^Ｄは、それぞれ独立して、水素原子、ハロゲン、置換若しくは非置換のアルキル、置換若しくは非置換のアルキルオキシであり；またはＲ^ＣおよびＲ^Ｄは一緒になって、オキソ、置換若しくは非置換の非芳香族炭素環または置換若しくは非置換の非芳香族複素環を形成してもよく；
Ｂ^１は、置換若しくは非置換のフェニルまたは置換若しくは非置換の６員芳香族複素環式基であり；
Ｂ^２は、置換若しくは非置換の芳香族炭素環式基、置換若しくは非置換の芳香族複素環式基、置換若しくは非置換の非芳香族炭素環式基または置換若しくは非置換の非芳香族複素環式基であり；
Ｒ^２は、水素原子、シアノ、カルボキシ、ハロゲン、ヒドロキシ、置換若しくは非置換のアルキル、置換若しくは非置換のアルキルオキシ、置換若しくは非置換のアルキルオキシカルボニルまたは置換若しくは非置換のカルバモイル）で示される基であり；
−Ｚ−は、−ＮＲ^５−、−Ｏ−または−ＣＲ^６Ｒ^７−であり；
−Ｌ−は、−Ｃ（＝Ｘ）−または−ＳＯ_２−であり；
＝Ｘは、＝Ｏ、＝Ｓ、＝ＮＲ^１０または＝ＣＲ^１１Ｒ^１２であり；
−Ｚ^Ａ−は、−ＮＲ^５Ａ−または−ＣＲ^６ＡＲ^７Ａ−であり；
Ｒ^５およびＲ^５Ａは、それぞれ独立して、水素原子または置換若しくは非置換のアルキルであり；
Ｒ^６、Ｒ^６Ａ、Ｒ^７およびＲ^７Ａは、それぞれ独立して、水素原子、ハロゲン、ヒドロキシ、置換若しくは非置換のアルキル、置換若しくは非置換のアルケニル、置換若しくは非置換のアルキニル、置換若しくは非置換のアルキルオキシまたは置換若しくは非置換のアミノであり；
Ｒ^１０は、置換若しくは非置換のアルキル、置換若しくは非置換のアシル、置換若しくは非置換のアルキルオキシカルボニル、置換若しくは非置換のアルキルスルホニル、ニトロ、置換若しくは非置換のアルキルオキシまたはヒドロキシであり；
Ｒ^１１は、水素原子、シアノ、置換若しくは非置換のアシル、置換若しくは非置換のアルキルオキシカルボニル、置換若しくは非置換のカルバモイル、置換若しくは非置換のアルキルスルホニルまたはニトロであり；
Ｒ^１２は、水素原子またはシアノであり；
環Ｃは、置換若しくは非置換の芳香族複素環、置換若しくは非置換の非芳香族複素環、置換若しくは非置換の芳香族炭素環または置換若しくは非置換の非芳香族炭素環である）で示される化合物（ただし、以下に示される化合物：

を除く）またはその製薬上許容される塩、を含有する医薬組成物。
２）−Ｚ−が−ＮＲ^５−であり、−Ｌ−が−Ｃ（＝Ｏ）−であり、−Ｚ^Ａ−が−ＮＲ^５Ａ−である、上記項目１）記載の化合物またはその製薬上許容される塩、を含有する医薬組成物。
３）Ｒ^５およびＲ^５Ａが水素原子である、上記項目１）または２）記載の化合物またはその製薬上許容される塩、を含有する医薬組成物。
４）環Ｃが置換若しくは非置換の芳香族複素環または置換若しくは非置換の非芳香族複素環である、上記項目１）〜３）のいずれかに記載の化合物またはその製薬上許容される塩、を含有する医薬組成物。
５）環Ｃが、式：

（式中、Ｒ^１３は、水素原子、置換若しくは非置換のアルキル、置換若しくは非置換の芳香族炭素環式基、置換若しくは非置換の芳香族複素環式基、置換若しくは非置換の非芳香族炭素環式基または置換若しくは非置換の非芳香族複素環式基であり；
Ｒ^１４は、水素原子、ヒドロキシ、ハロゲン、シアノ、置換若しくは非置換のアルキル、置換若しくは非置換のアルケニル、置換若しくは非置換のアルキニル、置換若しくは非置換のアルキルオキシ、置換若しくは非置換のアルケニルオキシ、置換若しくは非置換のアルキニルオキシ、置換若しくは非置換のカルバモイル、置換若しくは非置換のアルキルスルホニル、置換若しくは非置換のアルケニルスルホニル、置換若しくは非置換のアルキニルスルホニル、置換若しくは非置換の芳香族炭素環スルホニル、置換若しくは非置換の非芳香族炭素環スルホニル、置換若しくは非置換の芳香族複素環スルホニル、置換若しくは非置換の非芳香族複素環スルホニル、置換若しくは非置換の芳香族炭素環カルボニルオキシ、置換若しくは非置換の非芳香族炭素環カルボニルオキシ、置換若しくは非置換の芳香族複素環カルボニルオキシ、置換若しくは非置換の非芳香族複素環カルボニルオキシ、置換若しくは非置換のアルキルオキシカルボニル、置換若しくは非置換のアルケニルオキシカルボニル、置換若しくは非置換のアルキニルオキシカルボニル、置換若しくは非置換の芳香族炭素環オキシ、置換若しくは非置換の非芳香族炭素環オキシ、置換若しくは非置換の芳香族複素環オキシ、置換若しくは非置換の非芳香族複素環オキシ、置換若しくは非置換の芳香族炭素環式基、置換若しくは非置換の芳香族複素環式基、置換若しくは非置換の非芳香族炭素環式基または置換若しくは非置換の非芳香族複素環式基であり；
Ｒ^１５は、水素原子、ハロゲン、シアノ、置換若しくは非置換のアルキル、置換若しくは非置換のアルキルオキシ、置換若しくは非置換のアルケニルオキシ、置換若しくは非置換のアルキニルオキシ、置換若しくは非置換のアルキルオキシカルボニル、置換若しくは非置換のアルケニルオキシカルボニル、置換若しくは非置換のアルキニルオキシカルボニル、置換若しくは非置換のアルキルスルファニル、置換若しくは非置換のアルケニルスルファニル、置換若しくは非置換のアルキニルスルファニル、置換若しくは非置換のアミノ、置換若しくは非置換のカルバモイル、置換若しくは非置換の芳香族炭素環式基、置換若しくは非置換の芳香族複素環式基、置換若しくは非置換の非芳香族炭素環式基または置換若しくは非置換の非芳香族複素環式基であり；
Ｒ^１４およびＲ^１５は一緒になって隣接する炭素原子と共に、置換若しくは非置換の芳香族炭素環、置換若しくは非置換の芳香族複素環、置換若しくは非置換の非芳香族炭素環または置換若しくは非置換の非芳香族複素環を形成していてもよい）で示される環である、上記項目１）〜４）のいずれかに記載の化合物またはその製薬上許容される塩、を含有する医薬組成物。
６）Ｒ^１３が置換若しくは非置換の芳香族炭素環式基、置換若しくは非置換のアルキルまたは置換若しくは非置換の非芳香族炭素環式基であり、Ｒ^１４が置換若しくは非置換の芳香族複素環式基、置換若しくは非置換のアルキルオキシ、置換若しくは非置換の芳香族炭素環式基または置換若しくは非置換の非芳香族複素環式基であり、Ｒ^１５が水素原子または置換若しくは非置換のアルキルである、上記項目５）記載の化合物またはその製薬上許容される塩、を含有する医薬組成物。
７）式：

で示される基が、式：

（式中、Ｒ^３、Ｒ^４、Ｒ^Ａ、Ｗ、Ｕ、ｔおよび環Ｄは、上記項目１）と同義）で示される基である、上記項目１）〜６）のいずれかに記載の化合物またはその製薬上許容される塩、を含有する医薬組成物。
８）Ｗが窒素原子である、上記項目７）記載の化合物またはその製薬上許容される塩、を含有する医薬組成物。
９）Ｒ^Ａが置換若しくは非置換のアルキルである、上記項目７）または８）記載の化合物またはその製薬上許容される塩、を含有する医薬組成物。
１０）式：

で示される基が、式：

（式中、Ｒ^３、Ｒ^４、Ｒ^Ａ’、Ｕ、ｔおよび環Ｄは、上記項目１）と同義）で示される基である、上記項目１）〜６）のいずれかに記載の化合物またはその製薬上許容される塩、を含有する医薬組成物。
１１）Ｒ^Ａ’が置換若しくは非置換のアルキルである、上記項目１０）記載の化合物またはその製薬上許容される塩、を含有する医薬組成物。
１２）Ｕが−ＣＲ^ＣＲ^Ｄ−であり、ｔが１〜３の整数である、上記項目７）〜１１）のいずれかに記載の化合物またはその製薬上許容される塩、を含有する医薬組成物。
１３）Ｒ^Ｃがそれぞれ独立して、水素原子またはハロゲンであり、Ｒ^Ｄがそれぞれ独立して、水素原子またはハロゲンである、上記項目１２）記載の化合物またはその製薬上許容される塩、を含有する医薬組成物。
１４）環Ｄが置換若しくは非置換のベンゼン環または置換若しくは非置換のピリジン環である、上記項目７）〜１３）のいずれかに記載の化合物またはその製薬上許容される塩、を含有する医薬組成物。
１５）Ｒ^３およびＲ^４がそれぞれ水素原子である、上記項目７）〜１４）のいずれかに記載の化合物またはその製薬上許容される塩、を含有する医薬組成物。
１６）式：

で示される基が、式：

（式中、Ｒ^２、Ｒ^３、Ｒ^４、Ｂ^１および環Ｄは、上記項目１）と同義）で示される基である、上記項目１）〜６）のいずれかに記載の化合物またはその製薬上許容される塩、を含有する医薬組成物。
１７）Ｂ^１が置換若しくは非置換のフェニルであり、Ｒ^２が水素原子であり、Ｒ^３が水素原子であり、Ｒ^４が水素原子であり、環Ｄが置換若しくは非置換のベンゼン環または置換若しくは非置換のピリジン環である、上記項目１６）記載の化合物またはその製薬上許容される塩、を含有する医薬組成物。
１８）式：

で示される基が、式：

（式中、Ｒ^２、Ｒ^３、Ｒ^４、Ｂ^２、Ｗ、Ｕ^Ａ、Ｕ^Ｂ、Ｕおよびｔは、上記項目１）と同義）で示される基である、上記項目１）〜６）のいずれかに記載の化合物またはその製薬上許容される塩、を含有する医薬組成物。
１９）Ｗが窒素原子であり、Ｕ^ＡおよびＵ^Ｂが、それぞれ−ＣＲ^ＣＲ^Ｄ−であり、ｔが２であり、Ｂ^２が置換若しくは非置換の芳香族炭素環式基または置換若しくは非置換の芳香族複素環式基であり、Ｒ^２が水素原子であり、Ｒ^３が水素原子であり、Ｒ^４が水素原子である、上記項目１８）に記載の化合物またはその製薬上許容される塩、を含有する医薬組成物。
２０）Ｕ^Ａが−ＣＲ^ＣＨ−であり、Ｒ^Ｃが置換若しくは非置換のアルキルであり、Ｕ^Ｂが−ＣＨ_２−である、上記項目１８）または１９）に記載の化合物またはその製薬上許容される塩、を含有する医薬組成物。
２１）−Ｕ^Ａ−（Ｕ）ｔ−Ｕ^Ｂ−が−ＣＲ^ＣＨ−Ｏ−ＣＨ_２−ＣＨ_２−であり、Ｒ^ｃが置換若しくは非置換のアルキルである、上記項目１８）または１９）記載の化合物またはその製薬上許容される塩、を含有する医薬組成物。
２２）実施例Ｉ−１２、Ｉ−１５、Ｉ−１７、Ｉ−２３、Ｉ−３０、Ｉ−３２、Ｉ−３４、Ｉ−３８、Ｉ−４３、Ｉ−５７、Ｉ−６３、Ｉ−６５、Ｉ−６６、Ｉ−７６、Ｉ−７８、Ｉ−１１５、Ｉ−１１９、Ｉ−１３８およびＩ−１４８からなる群から選択される、上記項目１）記載の化合物またはその製薬上許容される塩、を含有する医薬組成物。
２３）ＴｒｋＡ阻害剤である、上記項目１）〜２２）のいずれかに記載の医薬組成物。
２４）疼痛の治療用および／または予防用の、上記項目１）〜２２）のいずれかに記載の医薬組成物。
１０１）上記項目１）〜２２）のいずれかに記載の化合物、またはその製薬上許容される塩を含有する、経口投与のための医薬組成物。
１０２）錠剤、散剤、顆粒剤、カプセル剤、丸剤、フィルム剤、懸濁剤、乳剤、エリキシル剤、シロップ剤、リモナーデ剤、酒精剤、芳香水剤、エキス剤、煎剤またはチンキ剤である、上記項目１０１）記載の医薬組成物。
１０３）糖衣錠、フィルムコーティング錠、腸溶性コーティング錠、徐放錠、トローチ錠、舌下錠、バッカル錠、チュアブル錠、口腔内崩壊錠、ドライシロップ、ソフトカプセル剤、マイクロカプセル剤または徐放性カプセル剤である、上記項目１０２）記載の医薬組成物。
１０４）上記項目１）〜２２）のいずれかに記載の化合物、またはその製薬上許容される塩を含有する、非経口投与のための医薬組成物。
１０５）経皮、皮下、静脈内、動脈内、筋肉内、腹腔内、経粘膜、吸入、経鼻、点眼、点耳または膣内投与のための、上記項目１０４）記載の医薬組成物。
１０６）注射剤、点滴剤、点眼剤、点鼻剤、点耳剤、エアゾール剤、吸入剤、ローション剤、注入剤、塗布剤、含嗽剤、浣腸剤、軟膏剤、硬膏剤、ゼリー剤、クリーム剤、貼付剤、パップ剤、外用散剤または坐剤である、上記項目１０４）または１０５）記載の医薬組成物。
１０７）上記項目１）〜２２）のいずれかに記載の化合物、またはその製薬上許容される塩を含有する、小児用または高齢者用の医薬組成物。

本発明は、ＴｒｋＡ依存性疾患の治療および／または予防において有用な化合物またはその製薬上許容される塩を含有する医薬組成物を提供する。本発明に係る化合物は後述する試験例の記載の通り、優れたＴｒｋＡのキナーゼ活性阻害作用を示す。したがって、本発明に係る医薬組成物は、変形性関節炎、関節リウマチ、骨折、間質性膀胱炎、慢性膵炎、前立腺炎に伴う痛み、また、慢性腰痛、糖尿病性末梢神経障害痛、術後痛、骨盤痛、癌性疼痛などに代表される侵害受容性疼痛、神経障害性疼痛、急性痛、慢性疼痛、がん、炎症性疾患、アレルギー性疾患、皮膚疾患などの治療剤および／または予防剤として使用しうる。

本発明に係る化合物は、医薬としての有用性を備えた化合物である。ここで、医薬としての有用性としては、溶解性がよい点、代謝安定性がよい点、薬物代謝酵素の誘導が少ない点、他の薬剤を代謝する薬物代謝酵素の阻害が小さい点、経口吸収性の高い化合物である点、ｈＥＲＧ阻害が小さい点、クリアランスが小さい点、および／または、半減期が薬効を発現するために十分長い点などが含まれる。

以下、本発明について実施形態を示しながら説明する。本明細書の全体にわたり、単数形の表現は、特に言及しない限り、その複数形の概念をも含むことが理解されるべきである。従って、単数形の冠詞（例えば、英語の場合は「ａ」、「ａｎ」、「ｔｈｅ」など）は、特に言及しない限り、その複数形の概念をも含むことが理解されるべきである。また、本明細書において使用される用語は、特に言及しない限り、当上記分野で通常用いられる意味で用いられることが理解されるべきである。したがって、他に定義されない限り、本明細書中で使用される全ての専門用語および科学技術用語は、本発明の属する分野の当業者によって一般的に理解されるのと同じ意味を有する。矛盾する場合、本明細書（定義を含めて）が優先する。

以下に本明細書において用いられる各用語の意味を説明する。各用語は特に断りのない限り、単独で用いられる場合も、または他の用語と組み合わせて用いられる場合も、同一の意味で用いられる。
「からなる」という用語は、構成要件のみを有することを意味する。
「含む」という用語は、構成要件に限定されず、記載されていない要素を排除しないことを意味する。

「ハロゲン」とは、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、およびヨウ素原子を包含する。特にフッ素原子、および塩素原子が好ましい。

「アルキル」とは、炭素数１〜１５、好ましくは炭素数１〜１０、より好ましくは炭素数１〜６、さらに好ましくは炭素数１〜４の直鎖又は分枝状の炭化水素基を包含する。例えば、メチル、エチル、ｎ−プロピル、イソプロピル、ｎ−ブチル、イソブチル、ｓｅｃ−ブチル、ｔｅｒｔ−ブチル、ｎ−ペンチル、イソペンチル、ネオペンチル、ｎ−ヘキシル、イソヘキシル、ｎ−へプチル、イソヘプチル、ｎ−オクチル、イソオクチル、ｎ−ノニル、ｎ−デシル等が挙げられる。
「アルキル」の好ましい態様として、メチル、エチル、ｎ−プロピル、イソプロピル、ｎ−ブチル、イソブチル、ｓｅｃ−ブチル、ｔｅｒｔ−ブチル、ｎ−ペンチルが挙げられる。さらに好ましい態様として、メチル、エチル、ｎ−プロピル、イソプロピル、ｔｅｒｔ−ブチルが挙げられる。

「アルケニル」とは、任意の位置に１以上の二重結合を有する、炭素数２〜１５、好ましくは炭素数２〜１０、より好ましくは炭素数２〜６、さらに好ましくは炭素数２〜４の直鎖又は分枝状の炭化水素基を包含する。例えば、ビニル、アリル、プロペニル、イソプロペニル、ブテニル、イソブテニル、プレニル、ブタジエニル、ペンテニル、イソペンテニル、ペンタジエニル、ヘキセニル、イソヘキセニル、ヘキサジエニル、ヘプテニル、オクテニル、ノネニル、デセニル、ウンデセニル、ドデセニル、トリデセニル、テトラデセニル、ペンタデセニル等が挙げられる。
「アルケニル」の好ましい態様として、ビニル、アリル、プロペニル、イソプロペニル、ブテニルが挙げられる。

「アルキニル」とは、任意の位置に１以上の三重結合を有する、炭素数２〜１０、好ましくは炭素数２〜８、さらに好ましくは炭素数２〜６、さらに好ましくは炭素数２〜４の直鎖又は分枝状の炭化水素基を包含する。さらに任意の位置に二重結合を有していてもよい。例えば、エチニル、プロピニル、ブチニル、ペンチニル、ヘキシニル、ヘプチニル、オクチニル、ノニニル、デシニル等を包含する。
「アルキニル」の好ましい態様として、エチニル、プロピニル、ブチニル、ペンチニルが挙げられる。

「アルキレン」とは、炭素数１〜１５、好ましくは炭素数１〜１０、より好ましくは炭素数１〜６、さらに好ましくは炭素数１〜４の直鎖又は分枝状の２価の炭化水素基を包含する。例えば、メチレン、エチレン、トリメチレン、プロピレン、テトラメチレン、ペンタメチレン、ヘキサメチレン等が挙げられる。

「芳香族炭素環式基」とは、単環または２環以上の、環状芳香族炭化水素基を意味する。例えば、フェニル、ナフチル、アントリル、フェナントリル等が挙げられる。
「芳香族炭素環式基」の好ましい態様として、フェニルが挙げられる。

「芳香族炭素環」とは、単環または２環以上の、環状芳香族炭化水素環を意味する。例えば、ベンゼン環、ナフタレン環、アントラセン環、フェナントレン環等が挙げられる。
「芳香族炭素環」の好ましい態様として、ベンゼン環、ナフタレン環が挙げられる。

「非芳香族炭素環式基」とは、単環または２環以上の、環状飽和炭化水素基または環状非芳香族不飽和炭化水素基を意味する。２環以上の「非芳香族炭素環式基」は、単環または２環以上の非芳香族炭素環式基に、上記「芳香族炭素環式基」における環が縮合したものも包含する。
さらに、「非芳香族炭素環式基」は、以下のように架橋している基、またはスピロ環を形成する基も包含する。

単環の非芳香族炭素環式基としては、炭素数３〜１６が好ましく、より好ましくは炭素数３〜１２、さらに好ましくは炭素数４〜８である。例えば、シクロプロピル、シクロブチル、シクロペンチル、シクロヘキシル、シクロヘプチル、シクロオクチル、シクロノニル、シクロデシル、シクロプロペニル、シクロブテニル、シクロペンテニル、シクロヘキセニル、シクロヘプテニル、シクロヘキサジエニル等が挙げられる。
２環以上の非芳香族炭素環式基としては、例えば、インダニル、インデニル、アセナフチル、テトラヒドロナフチル、フルオレニル等が挙げられる。

「非芳香族炭素環」とは、単環または２環以上の、環状飽和炭化水素環または環状非芳香族不飽和炭化水素環を意味する。２環以上の非芳香族炭素環は、単環または２環以上の非芳香族炭素環に、上記「芳香族炭素環」における環が縮合したものも包含する。
さらに、「非芳香族炭素環」は、以下のように架橋している環、またはスピロ環も包含する。

単環の非芳香族炭素環としては、炭素数３〜１６が好ましく、より好ましくは炭素数３〜１２、さらに好ましくは炭素数４〜８である。例えば、シクロプロパン、シクロブタン、シクロペンタン、シクロヘキサン、シクロヘプタン、シクロオクタン、シクロノナン、シクロデカン、シクロプロペン、シクロブテン、シクロペンテン、シクロヘキセン、シクロヘプテン、シクロヘキサジエン等が挙げられる。
２環以上の非芳香族炭素環としては、例えば、インダン、インデン、アセナフタレン、テトラヒドロナフタレン、フルオレン等が挙げられる。

Ｒ^ＣおよびＲ^Ｄが一緒になって形成する非芳香族炭素環としては、例えば以下の環が挙げられる。

Ｒ^１４およびＲ^１５が一緒になって形成する非芳香族炭素環としては、例えば以下の環Ｑ^Ｂが挙げられる。

（ここで、環Ｑ^Ｂとしては、例えば５〜８員の非芳香族炭素環が挙げられる。）

「芳香族複素環式基」とは、Ｏ、ＳおよびＮから任意に選択される同一または異なるヘテロ原子を環内に１以上有する、単環または２環以上の、芳香族環式基を意味する。２環以上の芳香族複素環式基は、単環または２環以上の芳香族複素環式基に、上記「芳香族炭素環式基」における環が縮合したものも包含する。
単環の芳香族複素環式基としては、５〜８員が好ましく、より好ましくは５員または６員である。例えば、ピロリル、イミダゾリル、ピラゾリル、ピリジル、ピリダジニル、ピリミジニル、ピラジニル、トリアゾリル、トリアジニル、テトラゾリル、フリル、チエニル、イソオキサゾリル、オキサゾリル、オキサジアゾリル、イソチアゾリル、チアゾリル、チアジアゾリル等が挙げられる。
二環式芳香族複素環式基としては、例えば、インドリル、イソインドリル、インダゾリル、インドリジニル、キノリニル、イソキノリニル、シンノリニル、フタラジニル、キナゾリニル、ナフチリジニル、キノキサリニル、プリニル、プテリジニル、ベンズイミダゾリル、ベンズイソオキサゾリル、ベンズオキサゾリル、ベンズオキサジアゾリル、ベンズイソチアゾリル、ベンゾチアゾリル、ベンゾチアジアゾリル、ベンゾフリル、イソベンゾフリル、ベンゾチエニル、ベンゾトリアゾリル、イミダゾピリジル、トリアゾロピリジル、イミダゾチアゾリル、ピラジノピリダジニル、オキサゾロピリジル、チアゾロピリジル等が挙げられる。
例えば、以下の基が挙げられる。

（式中、Ｒは水素原子、ＣＨ_３，ＣＨ_２ＣＦ_３を表し、結合手の一方が一つの環に結合している場合は、該環の結合可能ないずれの環構成原子に結合手を有していてもよいことを表し、結合手の一方が２つの環に結合している場合は、該２つの環の結合可能ないずれの環構成原子に結合手を有していてもよいことを表す。）
３環以上の芳香族複素環式基としては、例えば、カルバゾリル、アクリジニル、キサンテニル、フェノチアジニル、フェノキサチイニル、フェノキサジニル、ジベンゾフリル等が挙げられる。

６員芳香族複素環式基とは、ピリジル、ピリダジニル、ピリミジニル、ピラジニル、トリアジニル等が挙げられる。

「芳香族複素環」とは、Ｏ、ＳおよびＮから任意に選択される同一または異なるヘテロ原子を環内に１以上有する、単環または２環以上の、芳香族環を意味する。
２環以上の芳香族複素環は、単環または２環以上の芳香族複素環に、上記「芳香族炭素環」における環が縮合したものも包含する。
単環の芳香族複素環としては、５〜８員が好ましく、より好ましくは５員または６員である。例えば、ピロール、イミダゾール、ピラゾール、ピリジン、ピリダジン、ピリミジン、ピラジン、トリアゾール、トリアジン、テトラゾール、フラン、チオフェン、イソオキサゾール、オキサゾール、オキサジアゾール、イソチアゾール、チアゾール、チアジアゾール等が挙げられる。
２環の芳香族複素環としては、例えば、インドール、イソインドール、インダゾール、インドリジン、キノリン、イソキノリン、シンノリン、フタラジン、キナゾリン、ナフチリジン、キノキサリン、プリン、プテリジン、ベンズイミダゾール、ベンズイソオキサゾール、ベンズオキサゾール、ベンズオキサジアゾール、ベンズイソチアゾール、ベンゾチアゾール、ベンゾチアジアゾール、ベンゾフラン、イソベンゾフラン、ベンゾチフォフェン、ベンゾトリアゾール、イミダゾピリジン、トリアゾロピリジン、イミダゾチアゾール、ピラジノピリダジン、オキサゾロピリジン、チアゾロピリジン等が挙げられる。
３環以上の芳香族複素環としては、例えば、カルバゾール、アクリジン、キサンテン、フェノチアジン、フェノキサチイン、フェノキサジン、ジベンゾフラン等が挙げられる。

６員芳香族複素環とは、ピリジン、ピリダジン、ピリミジン、ピラジン、トリアジン等が挙げられる。

Ｒ^１４およびＲ^１５が一緒になって隣接する炭素原子と共に形成する芳香族複素環としては、例えば以下の環Ｑ^Ｃが挙げられる。

（ここで、環Ｑ^Ｃとしては、例えばＯ、ＳおよびＮから任意に選択される同一または異なるヘテロ原子を環内に１以上有する、５または６員の芳香族複素環が挙げられる。）

「非芳香族複素環式基」とは、Ｏ、ＳおよびＮから任意に選択される同一または異なるヘテロ原子を環内に１以上有する、単環または２環以上の、環状非芳香族環式基を意味する。２環以上の非芳香族複素環式基は、単環または２環以上の非芳香族複素環式基に、上記「芳香族炭素環式基」、「非芳香族炭素環式基」、および／または「芳香族複素環式基」におけるそれぞれの環が縮合したものも包含する。さらに、２環以上の非芳香族複素環式基は、単環または２環以上の芳香族複素環式基に、上記「非芳香族炭素環式基」および／または「非芳香族複素環式基」におけるそれぞれの環が縮合したものも包含する。
さらに、「非芳香族複素環式基」は、以下のように架橋している基、またはスピロ環を形成する基も包含する。

単環の非芳香族複素環式基としては、３〜８員が好ましく、より好ましくは５員または６員である。例えば、ジオキサニル、チイラニル、オキシラニル、オキセタニル、オキサチオラニル、アゼチジニル、チアニル、チアゾリジニル、ピロリジニル、ピロリニル、イミダゾリジニル、イミダゾリニル、ピラゾリジニル、ピラゾリニル、ピペリジル、ピペラジニル、モルホリニル、モルホリノ、チオモルホリニル、チオモルホリノ、ジヒドロピリジル、テトラヒドロピリジル、テトラヒドロフリル、テトラヒドロピラニル、ジヒドロチアゾリル、テトラヒドロチアゾリル、テトラヒドロイソチアゾリル、ジヒドロオキサジニル、ヘキサヒドロアゼピニル、テトラヒドロジアゼピニル、テトラヒドロピリダジニル、ヘキサヒドロピリミジニル、ジオキソラニル、ジオキサジニル、アジリジニル、ジオキソリニル、オキセパニル、チオラニル、チイニル、チアジニル、ピリドニル等が挙げられる。
２環以上の非芳香族複素環式基としては、例えば、インドリニル、イソインドリニル、クロマニル、イソクロマニル等が挙げられる。

「非芳香族複素環」とは、Ｏ、ＳおよびＮから任意に選択される同一または異なるヘテロ原子を環内に１以上有する、単環または２環以上の、環状非芳香族環を意味する。
２環以上の非芳香族複素環は、単環または２環以上の非芳香族複素環に、上記「芳香族炭素環」、「非芳香族炭素環」、および／または「芳香族複素環」におけるそれぞれの環が縮合したものも包含する。
さらに、「非芳香族複素環」は、以下のように架橋している環、またはスピロ環も包含する。

非架橋の非芳香族複素環としては、３〜８員が好ましく、４〜８員がより好ましく、さらに好ましくは５員または６員である。
架橋した非芳香族複素環としては、６〜１０員が好ましく、より好ましくは８員または９員である。ここで示される員数は、架橋した非芳香族複素環の全ての環構成原子数を意味する。
単環の非芳香族複素環としては、３〜８員が好ましく、より好ましくは５員または６員である。例えば、ジオキサン、チイラン、オキシラン、オキセタン、オキサチオラン、アゼチジン、チアン、チアゾリジン、ピロリジン、ピロリン、イミダゾリジン、イミダゾリン、ピラゾリジン、ピラゾリン、ピペリジン、ピペラジン、モルホリン、チオモルホリン、ジヒドロピリジン、テトラヒドロピリジン、テトラヒドロフラン、テトラヒドロピラン、ジヒドロチアゾール、テトラヒドロチアゾール、テトラヒドロイソチアゾール、ジヒドロオキサジン、ヘキサヒドロアゼピン、テトラヒドロジアゼピン、テトラヒドロピリダジン、ヘキサヒドロピリミジン、ジオキソラン、ジオキサジン、アジリジン、ジオキソリン、オキセパン、チオラン、チイン、チアジン、ピリドン等が挙げられる。
２環以上の非芳香族複素環としては、例えば、インドリン、イソインドリン、クロマン、イソクロマン等が挙げられる。

Ｒ^ＣおよびＲ^Ｄが一緒になって形成する非芳香族複素環としては、例えば以下の環が挙げられる。

（ここで、Ｒ^ＡＡとしては、置換若しくは非置換のアルキル、置換若しくは非置換のアルケニル、置換若しくは非置換のアルキルオキシカルボニルまたは置換若しくは非置換のアルキルカルボニルが挙げられる。）

Ｒ^１４およびＲ^１５が一緒になって隣接する炭素原子と共に形成する非芳香族複素環としては、例えば以下の環Ｑ^Ｄが挙げられる。

（ここで、環Ｑ^Ｄとしては、例えばＯ、ＳおよびＮから任意に選択される同一または異なるヘテロ原子を環内に１以上有する、５〜８員の非芳香族複素環が挙げられる。）

「ヒドロキシアルキル」とは、１以上のヒドロキシ基が、上記「アルキル」の炭素原子に結合している水素原子と置き換わった基を意味する。例えば、ヒドロキシメチル、１−ヒドロキシエチル、２−ヒドロキシエチル、１−ヒドロキシプロピル、２−ヒドロキシプロピル、１，２−ヒドロキシエチル等が挙げられる。
「ヒドロキシアルキル」の好ましい態様として、ヒドロキシメチルが挙げられる。

「アルキルオキシ」とは、上記「アルキル」が酸素原子に結合した基を意味する。例えば、メトキシ、エトキシ、ｎ−プロピルオキシ、イソプロピルオキシ、ｎ−ブチルオキシ、ｔｅｒｔ−ブチルオキシ、イソブチルオキシ、ｓｅｃ−ブチルオキシ、ペンチルオキシ、イソペンチルオキシ、へキシルオキシ等が挙げられる。
「アルキルオキシ」の好ましい態様として、メトキシ、エトキシ、ｎ−プロピルオキシ、イソプロピルオキシ、ｔｅｒｔ−ブチルオキシが挙げられる。

「アルケニルオキシ」とは、上記「アルケニル」が酸素原子に結合した基を意味する。例えば、ビニルオキシ、アリルオキシ、１−プロペニルオキシ、２−ブテニルオキシ、２−ペンテニルオキシ、２−ヘキセニルオキシ、２−ヘプテニルオキシ、２−オクテニルオキシ等が挙げられる。

「アルキニルオキシ」とは、上記「アルキニル」が酸素原子に結合した基を意味する。
例えば、エチニルオキシ、１−プロピニルオキシ、２−プロピニルオキシ、２−ブチニルオキシ、２−ペンチニルオキシ、２−ヘキシニルオキシ、２−ヘプチニルオキシ、２−オクチニルオキシ等が挙げられる。

「ハロアルキル」とは、１以上の上記「ハロゲン」が上記「アルキル」に結合した基を意味する。例えば、モノフルオロメチル、モノフルオロエチル、モノフルオロプロピル、２，２，３，３，３−ペンタフルオロプロピル、モノクロロメチル、トリフルオロメチル、トリクロロメチル、２，２，２−トリフルオロエチル、２，２，２−トリクロロエチル、１，２−ジブロモエチル、１，１，１−トリフルオロプロパン−２−イル等が挙げられる。
「ハロアルキル」の好ましい態様として、トリフルオロメチル、トリクロロメチルが挙げられる。

「ハロアルキルオキシ」とは、上記「ハロアルキル」が酸素原子に結合した基を意味する。例えば、モノフルオロメトキシ、モノフルオロエトキシ、トリフルオロメトキシ、トリクロロメトキシ、トリフルオロエトキシ、トリクロロエトキシ等が挙げられる。
「ハロアルキルオキシ」の好ましい態様として、トリフルオロメトキシ、トリクロロメトキシが挙げられる。

「アルキルオキシアルキル」とは、上記「アルキルオキシ」が上記「アルキル」に結合した基を意味する。例えば、メトキシメチル、メトキシエチル、エトキシメチル等が挙げられる。

「アルキルオキシアルキルオキシ」とは、上記「アルキルオキシ」が上記「アルキルオキシ」に結合した基を意味する。例えば、メトキシメトキシ、メトキシエトキシ、エトキシメトキシ、エトキシエトキシ等が挙げられる。

「アルキルカルボニル」とは、上記「アルキル」がカルボニル基に結合した基を意味する。例えば、メチルカルボニル、エチルカルボニル、プロピルカルボニル、イソプロピルカルボニル、ｔｅｒｔ−ブチルカルボニル、イソブチルカルボニル、ｓｅｃ−ブチルカルボニル、ペンチルカルボニル、イソペンチルカルボニル、へキシルカルボニル等が挙げられる。
「アルキルカルボニル」の好ましい態様として、メチルカルボニル、エチルカルボニル、ｎ−プロピルカルボニルが挙げられる。

「アルケニルカルボニル」とは、上記「アルケニル」がカルボニル基に結合した基を意味する。例えば、ビニルカルボニル、アリルカルボニル等が挙げられる。

「アルキニルカルボニル」とは、上記「アルキニル」がカルボニル基に結合した基を意味する。例えば、エチニルカルボニル、プロピニルカルボニル等が挙げられる。

「アルキルアミノ」とは、上記「アルキル」がアミノ基の窒素原子と結合している水素原子１個または２個と置き換わった基を意味する。例えば、メチルアミノ、ジメチルアミノ、エチルアミノ、ジエチルアミノ、イソプロピルアミノ、Ｎ，Ｎ−ジイソプロピルアミノ、Ｎ−メチル−Ｎ−エチルアミノ等が挙げられる。
「アルキルアミノ」の好ましい態様として、メチルアミノ、エチルアミノが挙げられる。

「アルケニルアミノ」とは、上記「アルケニル」がアミノ基の窒素原子と結合している水素原子１個または２個と置き換わった基を意味する。例えば、ビニルアミノ、アリルアミノ等が挙げられる。

「アルキニルアミノ」とは、上記「アルキニル」がアミノ基の窒素原子と結合している水素原子１個または２個と置き換わった基を意味する。例えば、エチニルアミノ等が挙げられる。

「アルキルスルホニル」とは、上記「アルキル」がスルホニル基に結合した基を意味する。例えば、メチルスルホニル、エチルスルホニル、プロピルスルホニル、イソプロピルスルホニル、ｔｅｒｔ−ブチルスルホニル、イソブチルスルホニル、ｓｅｃ−ブチルスルホニル等が挙げられる。
「アルキルスルホニル」の好ましい態様として、メチルスルホニル、エチルスルホニルが挙げられる。

「アルケニルスルホニル」とは、上記「アルケニル」がスルホニル基に結合した基を意味する。例えば、ビニルスルホニル、アリルスルホニル等が挙げられる。

「アルキニルスルホニル」とは、上記「アルキニル」がスルホニル基に結合した基を意味する。例えば、エチニルスルホニル、プロピニルスルホニル等が挙げられる。

「アルキルカルボニルアミノ」とは、上記「アルキルカルボニル」がアミノ基の窒素原子と結合している水素原子１個または２個と置き換わった基を意味する。例えば、メチルカルボニルアミノ、ジメチルカルボニルアミノ、エチルカルボニルアミノ、ジエチルカルボニルアミノ、プロピルカルボニルアミノ、イソプロピルカルボニルアミノ、Ｎ，Ｎ−ジイソプロピルカルボニルアミノ、ｔｅｒｔ−ブチルカルボニルアミノ、イソブチルカルボニルアミノ、ｓｅｃ−ブチルカルボニルアミノ等が挙げられる。

「アルケニルカルボニルアミノ」とは、上記「アルケニルカルボニル」がアミノ基の窒素原子と結合している水素原子１個または２個と置き換わった基を意味する。例えば、ビニルカルボニルアミノ、アリルカルボニルアミノ等が挙げられる。

「アルキニルカルボニルアミノ」とは、上記「アルキニルカルボニル」がアミノ基の窒素原子と結合している水素原子１個または２個と置き換わった基を意味する。例えば、エチニルカルボニルアミノ、プロピニルカルボニルアミノ等が挙げられる。

「アルキルスルホニルアミノ」とは、上記「アルキルスルホニル」がアミノ基の窒素原子と結合している水素原子１個または２個と置き換わった基を意味する。例えば、メチルスルホニルアミノ、ジメチルスルホニルアミノ、エチルスルホニルアミノ、ジエチルスルホニルアミノ、プロピルスルホニルアミノ、イソプロピルスルホニルアミノ、Ｎ，Ｎ−ジイソプロピルスルホニルアミノ、ｔｅｒｔ−ブチルスルホニルアミノ、イソブチルスルホニルアミノ、ｓｅｃ−ブチルスルホニルアミノ等が挙げられる。
「アルキルスルホニルアミノ」の好ましい態様としては、メチルスルホニルアミノ、エチルスルホニルアミノが挙げられる。

「アルケニルスルホニルアミノ」とは、上記「アルケニルスルホニル」がアミノ基の窒素原子と結合している水素原子１個または２個と置き換わった基を意味する。例えば、ビニルスルホニルアミノ、アリルスルホニルアミノ等が挙げられる。

「アルキニルスルホニルアミノ」とは、上記「アルキニルスルホニル」がアミノ基の窒素原子と結合している水素原子１個または２個と置き換わった基を意味する。例えば、エチニルスルホニルアミノ、プロピニルスルホニルアミノ等が挙げられる。

「アルキルイミノ」とは、上記「アルキル」がイミノ基の窒素原子と結合している水素原子と置き換わった基を意味する。例えば、メチルイミノ、エチルイミノ、ｎ−プロピルイミノ、イソプロピルイミノ等が挙げられる。

「アルケニルイミノ」とは、上記「アルケニル」がイミノ基の窒素原子と結合している水素原子と置き換わった基を意味する。例えば、エチレニルイミノ、プロペニルイミノ等が挙げられる。

「アルキニルイミノ」とは、上記「アルキニル」がイミノ基の窒素原子と結合している水素原子と置き換わった基を意味する。例えば、エチニルイミノ、プロピニルイミノ等が挙げられる。

「アルキルカルボニルイミノ」とは、上記「アルキルカルボニル」がイミノ基の窒素原子と結合している水素原子と置き換わった基を意味する。例えば、メチルカルボニルイミノ、エチルカルボニルイミノ、ｎ−プロピルカルボニルイミノ、イソプロピルカルボニルイミノ等が挙げられる。

「アルケニルカルボニルイミノ」とは、上記「アルケニルカルボニル」がイミノ基の窒素原子と結合している水素原子と置き換わった基を意味する。例えば、エチレニルカルボニルイミノ、プロペニルカルボニルイミノ等が挙げられる。

「アルキニルカルボニルイミノ」とは、上記「アルキニルカルボニル」がイミノ基の窒素原子と結合している水素原子と置き換わった基を意味する。例えば、エチニルカルボニルイミノ、プロピニルカルボニルイミノ等が挙げられる。

「アルキルオキシイミノ」とは、上記「アルキルオキシ」がイミノ基の窒素原子と結合している水素原子と置き換わった基を意味する。例えば、メチルオキシイミノ、エチルオキシイミノ、ｎ−プロピルオキシイミノ、イソプロピルオキシイミノ等が挙げられる。

「アルケニルオキシイミノ」とは、上記「アルケニルオキシ」がイミノ基の窒素原子と結合している水素原子と置き換わった基を意味する。例えば、エチレニルオキシイミノ、プロペニルオキシイミノ等が挙げられる。

「アルキニルオキシイミノ」とは、上記「アルキニルオキシ」がイミノ基の窒素原子と結合している水素原子と置き換わった基を意味する。例えば、エチニルオキシイミノ、プロピニルオキシイミノ等が挙げられる。

「アルキルカルボニルオキシ」とは、上記「アルキルカルボニル」が酸素原子に結合した基を意味する。例えば、メチルカルボニルオキシ、エチルカルボニルオキシ、プロピルカルボニルオキシ、イソプロピルカルボニルオキシ、ｔｅｒｔ−ブチルカルボニルオキシ、イソブチルカルボニルオキシ、ｓｅｃ−ブチルカルボニルオキシ等が挙げられる。
「アルキルカルボニルオキシ」の好ましい態様としては、メチルカルボニルオキシ、エチルカルボニルオキシが挙げられる。

「アルケニルカルボニルオキシ」とは、上記「アルケニルカルボニル」が酸素原子に結合した基を意味する。例えば、エチレニルカルボニルオキシ、プロペニルカルボニルオキシ等が挙げられる。

「アルキニルカルボニルオキシ」とは、上記「アルキニルカルボニル」が酸素原子に結合した基を意味する。例えば、エチニルカルボニルオキシ、プロピニルカルボニルオキシ等が挙げられる。

「アルキルオキシカルボニル」とは、上記「アルキルオキシ」がカルボニル基に結合した基を意味する。例えば、メチルオキシカルボニル、エチルオキシカルボニル、プロピルオキシカルボニル、イソプロピルオキシカルボニル、ｔｅｒｔ−ブチルオキシカルボニル、イソブチルオキシカルボニル、ｓｅｃ−ブチルオキシカルボニル、ペンチルオキシカルボニル、イソペンチルオキシカルボニル、へキシルオキシカルボニル等が挙げられる。
「アルキルオキシカルボニル」の好ましい態様としては、メチルオキシカルボニル、エチルオキシカルボニル、プロピルオキシカルボニルが挙げられる。

「アルケニルオキシカルボニル」とは、上記「アルケニルオキシ」がカルボニル基に結合した基を意味する。例えば、エチレニルオキシカルボニル、プロペニルオキシカルボニル等が挙げられる。

「アルキニルオキシカルボニル」とは、上記「アルキニルオキシ」がカルボニル基に結合した基を意味する。例えば、エチニルオキシカルボニル、プロピニルオキシカルボニル等が挙げられる。

「アルキルスルファニル」とは、上記「アルキル」がスルファニル基の硫黄原子と結合している水素原子と置き換わった基を意味する。例えば、メチルスルファニル、エチルスルファニル、ｎ−プロピルスルファニル、イソプロピルスルファニル等が挙げられる。

「アルケニルスルファニル」とは、上記「アルケニル」がスルファニル基の硫黄原子と結合している水素原子と置き換わった基を意味する。例えば、エチレニルスルファニル、プロペニルスルファニル等が挙げられる。

「アルキニルスルファニル」とは、上記「アルキニル」がスルファニル基の硫黄原子と結合している水素原子と置き換わった基を意味する。例えば、エチニルスルファニル、プロピニルスルファニル等が挙げられる。

「アルキルスルフィニル」とは、上記「アルキル」がスルフィニル基に結合した基を意味する。例えば、メチルスルフィニル、エチルスルフィニル、ｎ−プロピルスルフィニル、イソプロピルスルフィニル等が挙げられる。

「アルケニルスルフィニル」とは、上記「アルケニル」がスルフィニル基に結合した基を意味する。例えば、エチレニルスルフィニル、プロペニルスルフィニル等が挙げられる。

「アルキニルスルフィニル」とは、上記「アルキニル」がスルフィニル基に結合した基を意味する。例えば、エチニルスルフィニル、プロピニルスルフィニル等が挙げられる。

「アルキルカルバモイル」とは、上記「アルキル」がカルバモイル基の窒素原子と結合している水素原子１個または２個と置き換わった基を意味する。例えば、メチルカルバモイル、ジメチルカルバモイル、エチルカルバモイル、ジエチルカルバモイル等が挙げられる。

「アルケニルカルバモイル」とは、上記「アルケニル」がカルバモイル基の窒素原子と結合している水素原子１個または２個と置き換わった基を意味する。例えば、ビニルカルバモイル、アリルカルバモイル等が挙げられる。

「アルキニルカルバモイル」とは、上記「アルキニル」がカルバモイル基の窒素原子と結合している水素原子１個または２個と置き換わった基を意味する。例えば、エチニルカルバモイル、プロピニルカルバモイル等が挙げられる。

「アルキルスルファモイル」とは、上記「アルキル」がスルファモイル基の窒素原子と結合している水素原子１個または２個と置き換わった基を意味する。例えば、メチルスルファモイル、ジメチルスルファモイル、ジメチルスルファモイル、ジエチルスルファモイル等が挙げられる。

「アルケニルスルファモイル」とは、上記「アルケニル」がスルファモイル基の窒素原子と結合している水素原子１個または２個と置き換わった基を意味する。例えば、ビニルスルファモイル、アリルスルファモイル等が挙げられる。

「アルキニルスルファモイル」とは、上記「アルキニル」がスルファモイル基の窒素原子と結合している水素原子１個または２個と置き換わった基を意味する。例えば、エチニルスルファモイル、プロピニルスルファモイル等が挙げられる。

「トリアルキルシリル」とは、上記「アルキル」３個がケイ素原子に結合している基を意味する。３個のアルキル基は同一でも異なっていてもよい。例えば、トリメチルシリル、トリエチルシリル、ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリル等が挙げられる。

「芳香族炭素環アルキル」、「非芳香族炭素環アルキル」、「芳香族複素環アルキル」、および「非芳香族複素環アルキル」、
「芳香族炭素環アルキルオキシ」、「非芳香族炭素環アルキルオキシ」、「芳香族複素環アルキルオキシ」、および「非芳香族複素環アルキルオキシ」、
「芳香族炭素環アルキルオキシカルボニル」、「非芳香族炭素環アルキルオキシカルボニル」、「芳香族複素環アルキルオキシカルボニル」、および「非芳香族複素環アルキルオキシカルボニル」、
「芳香族炭素環アルキルオキシアルキル」、「非芳香族炭素環アルキルオキシアルキル」、「芳香族複素環アルキルオキシアルキル」、および「非芳香族複素環アルキルオキシアルキル」、ならびに
「芳香族炭素環アルキルアミノ」、「非芳香族炭素環アルキルアミノ」、「芳香族複素環アルキルアミノ」、および「非芳香族複素環アルキルアミノ」のアルキル部分も、上記「アルキル」と同様である。

「芳香族炭素環アルキル」とは、１以上の上記「芳香族炭素環式基」で置換されているアルキルを意味する。例えば、ベンジル、フェネチル、フェニルプロピル、ベンズヒドリル、トリチル、ナフチルメチル、以下に示される基

等が挙げられる。
「芳香族炭素環アルキル」の好ましい態様としては、ベンジル、フェネチル、ベンズヒドリルが挙げられる。

「非芳香族炭素環アルキル」とは、１以上の上記「非芳香族炭素環式基」で置換されているアルキルを意味する。また、「非芳香族炭素環アルキル」は、アルキル部分が上記「芳香族炭素環式基」で置換されている「非芳香族炭素環アルキル」も包含する。例えば、シクロプロピルメチル、シクロブチルメチル、シクロペンチルメチル、シクロへキシルメチル、以下に示される基

等が挙げられる。

「芳香族複素環アルキル」とは、１以上の上記「芳香族複素環式基」で置換されているアルキルを意味する。また、「芳香族複素環アルキル」は、アルキル部分が上記「芳香族炭素環式基」および／または「非芳香族炭素環式基」で置換されている「芳香族複素環アルキル」も包含する。例えば、ピリジルメチル、フラニルメチル、イミダゾリルメチル、インドリルメチル、ベンゾチオフェニルメチル、オキサゾリルメチル、イソキサゾリルメチル、チアゾリルメチル、イソチアゾリルメチル、ピラゾリルメチル、イソピラゾリルメチル、ピロリジニルメチル、ベンズオキサゾリルメチル、以下に示される基

等が挙げられる。

「非芳香族複素環アルキル」とは、１以上の上記「非芳香族複素環式基」で置換されているアルキルを意味する。また、「非芳香族複素環アルキル」は、アルキル部分が上記「芳香族炭素環式基」、「非芳香族炭素環式基」および／または「芳香族複素環式基」で置換されている「非芳香族複素環アルキル」も包含する。例えば、テトラヒドロピラニルメチル、モルホリニルエチル、ピペリジニルメチル、ピペラジニルメチル、以下に示される基

等が挙げられる。

「芳香族炭素環アルキルオキシ」とは、１以上の上記「芳香族炭素環式基」で置換されているアルキルオキシを意味する。例えば、ベンジルオキシ、フェネチルオキシ、フェニルプロピルオキシ、ベンズヒドリルオキシ、トリチルオキシ、ナフチルメチルオキシ、以下に示される基

等が挙げられる。

「非芳香族炭素環アルキルオキシ」とは、１以上の上記「非芳香族炭素環式基」で置換されているアルキルオキシを意味する。また、「非芳香族炭素環アルキルオキシ」は、アルキル部分が上記「芳香族炭素環式基」で置換されている「非芳香族炭素環アルキルオキシ」も包含する。例えば、シクロプロピルメチルオキシ、シクロブチルメチルオキシ、シクロペンチルメチルオキシ、シクロへキシルメチルオキシ、以下に示される基

等が挙げられる。

「芳香族複素環アルキルオキシ」とは、１以上の上記「芳香族複素環式基」で置換されているアルキルオキシを意味する。また、「芳香族複素環アルキルオキシ」は、アルキル部分が上記「芳香族炭素環式基」および／または「非芳香族炭素環式基」で置換されている「芳香族複素環アルキルオキシ」も包含する。例えば、ピリジルメチルオキシ、フラニルメチルオキシ、イミダゾリルメチルオキシ、インドリルメチルオキシ、ベンゾチオフェニルメチルオキシ、オキサゾリルメチルオキシ、イソキサゾリルメチルオキシ、チアゾリルメチルオキシ、イソチアゾリルメチルオキシ、ピラゾリルメチルオキシ、イソピラゾリルメチルオキシ、ピロリジニルメチルオキシ、ベンズオキサゾリルメチルオキシ、以下に示される基

等が挙げられる。

「非芳香族複素環アルキルオキシ」とは、１以上の上記「非芳香族複素環式基」で置換されているアルキルオキシを意味する。また、「非芳香族複素環アルキルオキシ」は、アルキル部分が上記「芳香族炭素環式基」、「非芳香族炭素環式基」および／または「芳香族複素環式基」で置換されている「非芳香族複素環アルキルオキシ」も包含する。例えば、テトラヒドロピラニルメチルオキシ、モルホリニルエチルオキシ、ピペリジニルメチルオキシ、ピペラジニルメチルオキシ、以下に示される基

等が挙げられる。

「芳香族炭素環アルキルオキシカルボニル」とは、１以上の上記「芳香族炭素環式基」で置換されているアルキルオキシカルボニルを意味する。例えば、ベンジルオキシカルボニル、フェネチルオキシカルボニル、フェニルプロピルオキシカルボニル、ベンズヒドリルオキシカルボニル、トリチルオキシカルボニル、ナフチルメチルオキシカルボニル、以下に示される基

等が挙げられる。

「非芳香族炭素環アルキルオキシカルボニル」とは、１以上の上記「非芳香族炭素環式基」で置換されているアルキルオキシカルボニルを意味する。また、「非芳香族炭素環アルキルオキシカルボニル」は、アルキル部分が上記「芳香族炭素環式基」で置換されている「非芳香族炭素環アルキルオキシカルボニル」も包含する。例えば、シクロプロピルメチルオキシカルボニル、シクロブチルメチルオキシカルボニル、シクロペンチルメチルオキシカルボニル、シクロへキシルメチルオキシカルボニル、以下に示される基

等が挙げられる。

「芳香族複素環アルキルオキシカルボニル」とは、１以上の上記「芳香族複素環式基」で置換されているアルキルオキシカルボニルを意味する。また、「芳香族複素環アルキルオキシカルボニル」は、アルキル部分が上記「芳香族炭素環式基」および／または「非芳香族炭素環式基」で置換されている「芳香族複素環アルキルオキシカルボニル」も包含する。例えば、ピリジルメチルオキシカルボニル、フラニルメチルオキシカルボニル、イミダゾリルメチルオキシカルボニル、インドリルメチルオキシカルボニル、ベンゾチオフェニルメチルオキシカルボニル、オキサゾリルメチルオキシカルボニル、イソキサゾリルメチルオキシカルボニル、チアゾリルメチルオキシカルボニル、イソチアゾリルメチルオキシカルボニル、ピラゾリルメチルオキシカルボニル、イソピラゾリルメチルオキシカルボニル、ピロリジニルメチルオキシカルボニル、ベンズオキサゾリルメチルオキシカルボニル、以下に示される基

等が挙げられる。

「非芳香族複素環アルキルオキシカルボニル」とは、１以上の上記「非芳香族複素環式基」で置換されているアルキルオキシカルボニルを意味する。また、「非芳香族複素環アルキルオキシカルボニル」は、アルキル部分が上記「芳香族炭素環式基」、「非芳香族炭素環式基」および／または「芳香族複素環式基」で置換されている「非芳香族複素環アルキルオキシカルボニル」も包含する。例えば、テトラヒドロピラニルメチルオキシカルボニル、モルホリニルエチルオキシカルボニル、ピペリジニルメチルオキシカルボニル、ピペラジニルメチルオキシカルボニル、以下に示される基

等が挙げられる。

「芳香族炭素環アルキルオキシアルキル」とは、１以上の上記「芳香族炭素環式基」で置換されているアルキルオキシアルキルを意味する。例えば、ベンジルオキシメチル、フェネチルオキシメチル、フェニルプロピルオキシメチル、ベンズヒドリルオキシメチル、トリチルオキシメチル、ナフチルメチルオキシメチル、以下に示される基

等が挙げられる。

「非芳香族炭素環アルキルオキシアルキル」とは、１以上の上記「非芳香族炭素環式基」で置換されているアルキルオキシアルキルを意味する。また、「非芳香族炭素環アルキルオキシアルキル」は、非芳香族炭素環が結合しているアルキル部分が上記「芳香族炭素環式基」で置換されている「非芳香族炭素環アルキルオキシアルキル」も包含する。例えば、シクロプロピルメチルオキシメチル、シクロブチルメチルオキシメチル、シクロペンチルメチルオキシメチル、シクロへキシルメチルオキシメチル、以下に示される基

等が挙げられる。

「芳香族複素環アルキルオキシアルキル」とは、１以上の上記「芳香族複素環式基」で置換されているアルキルオキシアルキルを意味する。また、「芳香族複素環アルキルオキシアルキル」は、芳香族複素環が結合しているアルキル部分が上記「芳香族炭素環式基」および／または「非芳香族炭素環式基」で置換されている「芳香族複素環アルキルオキシアルキル」も包含する。例えば、ピリジルメチルオキシメチル、フラニルメチルオキシメチル、イミダゾリルメチルオキシメチル、インドリルメチルオキシメチル、ベンゾチオフェニルメチルオキシメチル、オキサゾリルメチルオキシメチル、イソキサゾリルメチルオキシメチル、チアゾリルメチルオキシメチル、イソチアゾリルメチルオキシメチル、ピラゾリルメチルオキシメチル、イソピラゾリルメチルオキシメチル、ピロリジニルメチルオキシメチル、ベンズオキサゾリルメチルオキシメチル、以下に示される基

等が挙げられる。

「非芳香族複素環アルキルオキシアルキル」とは、１以上の上記「非芳香族複素環式基」で置換されているアルキルオキシアルキルを意味する。また、「非芳香族複素環アルキルオキシアルキル」は、非芳香族複素環が結合しているアルキル部分が上記「芳香族炭素環式基」、「非芳香族炭素環式基」および／または「芳香族複素環式基」で置換されている「非芳香族複素環アルキルオキシアルキル」も包含する。例えば、テトラヒドロピラニルメチルオキシメチル、モルホリニルエチルオキシメチル、ピペリジニルメチルオキシメチル、ピペラジニルメチルオキシメチル、以下に示される基

等が挙げられる。

「芳香族炭素環アルキルアミノ」とは、上記「芳香族炭素環アルキル」がアミノ基の窒素原子と結合している水素原子１個または２個と置き換わった基を意味する。例えば、ベンジルアミノ、フェネチルアミノ、フェニルプロピルアミノ、ベンズヒドリルアミノ、トリチルアミノ、ナフチルメチルアミノ、ジベンジルアミノ等が挙げられる。

「非芳香族炭素環アルキルアミノ」とは、上記「非芳香族炭素環アルキル」がアミノ基の窒素原子と結合している水素原子１個または２個と置き換わった基を意味する。例えば、シクロプロピルメチルアミノ、シクロブチルメチルアミノ、シクロペンチルメチルアミノ、シクロへキシルメチルアミノ等が挙げられる。

「芳香族複素環アルキルアミノ」とは、上記「芳香族複素環アルキル」がアミノ基の窒素原子と結合している水素原子１個または２個と置き換わった基を意味する。例えば、ピリジルメチルアミノ、フラニルメチルアミノ、イミダゾリルメチルアミノ、インドリルメチルアミノ、ベンゾチオフェニルメチルアミノ、オキサゾリルメチルアミノ、イソキサゾリルメチルアミノ、チアゾリルメチルアミノ、イソチアゾリルメチルアミノ、ピラゾリルメチルアミノ、イソピラゾリルメチルアミノ、ピロリジニルメチルアミノ、ベンズオキサゾリルメチルアミノ等が挙げられる。

「非芳香族複素環アルキルアミノ」とは、上記「非芳香族複素環アルキル」がアミノ基の窒素原子と結合している水素原子１個または２個と置き換わった基を意味する。例えば、テトラヒドロピラニルメチルアミノ、モルホリニルエチルアミノ、ピペリジニルメチルアミノ、ピペラジニルメチルアミノ等が挙げられる。

「芳香族炭素環オキシ」、「芳香族炭素環カルボニル」、「芳香族炭素環オキシカルボニル」、「芳香族炭素環カルボニルオキシ」、「芳香族炭素環スルファニル」、および「芳香族炭素環スルホニル」の「芳香族炭素環」部分も、上記「芳香族炭素環式基」と同様である。
「芳香族炭素環オキシ」とは、「芳香族炭素環」が酸素原子に結合した基を意味する。例えば、フェニルオキシ、ナフチルオキシ等が挙げられる。
「芳香族炭素環カルボニル」とは、「芳香族炭素環」がカルボニル基に結合した基を意味する。例えば、フェニルカルボニル、ナフチルカルボニル等が挙げられる。
「芳香族炭素環カルボニルオキシ」とは、上記「芳香族炭素環カルボニル」が酸素原子に結合した基を意味する。例えば、フェニルカルボニルオキシ、ナフチルカルボニルオキシ等が挙げられる。
「芳香族炭素環オキシカルボニル」とは、上記「芳香族炭素環オキシ」がカルボニル基に結合した基を意味する。例えば、フェニルオキシカルボニル、ナフチルオキシカルボニル等が挙げられる。
「芳香族炭素環スルファニル」とは、「芳香族炭素環」がスルファニル基の硫黄原子と結合している水素原子と置き換わった基を意味する。例えば、フェニルスルファニル、ナフチルスルファニル等が挙げられる。
「芳香族炭素環スルホニル」とは、「芳香族炭素環」がスルホニル基に結合した基を意味する。例えば、フェニルスルホニル、ナフチルスルホニル等が挙げられる。

「非芳香族炭素環オキシ」、「非芳香族炭素環カルボニル」、「非芳香族炭素環オキシカルボニル」、「非芳香族炭素環カルボニルオキシ」、「非芳香族炭素環スルファニル」、および「非芳香族炭素環スルホニル」の「非芳香族炭素環」部分も、上記「非芳香族炭素環式基」と同様である。
「非芳香族炭素環オキシ」とは、「非芳香族炭素環」が酸素原子に結合した基を意味する。例えば、シクロプロピルオキシ、シクロヘキシルオキシ、シクロへキセニルオキシ等が挙げられる。
「非芳香族炭素環カルボニル」とは、「非芳香族炭素環」がカルボニル基に結合した基を意味する。例えば、シクロプロピルカルボニル、シクロヘキシルカルボニル、シクロへキセニルカルボニル等が挙げられる。
「非芳香族炭素環カルボニルオキシ」とは、上記「非芳香族炭素環カルボニル」が酸素原子に結合した基を意味する。例えば、シクロプロピルカルボニルオキシ、シクロヘキシルカルボニルオキシ、シクロへキセニルカルボニルオキシ等が挙げられる。
「非芳香族炭素環オキシカルボニル」とは、上記「非芳香族炭素環オキシ」がカルボニル基に結合した基を意味する。例えば、シクロプロピルオキシカルボニル、シクロヘキシルオキシカルボニル、シクロへキセニルオキシカルボニル等が挙げられる。
「非芳香族炭素環スルファニル」とは、「非芳香族炭素環」がスルファニル基の硫黄原子と結合している水素原子と置き換わった基を意味する。例えば、シクロプロピルスルファニル、シクロヘキシルスルファニル、シクロヘキセニルスルファニル等が挙げられる。
「非芳香族炭素環スルホニル」とは、「非芳香族炭素環」がスルホニル基に結合した基を意味する。例えば、シクロプロピルスルホニル、シクロヘキシルスルホニル、シクロヘキセニルスルホニル等が挙げられる。

「芳香族複素環オキシ」、「芳香族複素環カルボニル」、「芳香族複素環オキシカルボニル」、「芳香族複素環カルボニルオキシ」、「芳香族複素環スルファニル」、および「芳香族複素環スルホニル」の「芳香族複素環」部分も、上記「芳香族複素環式基」と同様である。
「芳香族複素環オキシ」とは、「芳香族複素環」が酸素原子に結合した基を意味する。例えば、ピリジルオキシ、オキサゾリルオキシ等が挙げられる。
「芳香族複素環カルボニル」とは、「芳香族複素環」がカルボニル基に結合した基を意味する。例えば、ピリジルカルボニル、オキサゾリルカルボニル等が挙げられる。
「芳香族複素環カルボニルオキシ」とは、上記「芳香族複素環カルボニル」が酸素原子に結合した基を意味する。例えば、ピリジルカルボニルオキシ、オキサゾリルカルボニルオキシ等が挙げられる。
「芳香族複素環オキシカルボニル」とは、上記「芳香族複素環オキシ」がカルボニル基に結合した基を意味する。例えば、ピリジルオキシカルボニル、オキサゾリルオキシカルボニル等が挙げられる。
「芳香族複素環スルファニル」とは、「芳香族複素環」がスルファニル基の硫黄原子と結合している水素原子と置き換わった基を意味する。例えば、ピリジルスルファニル、オキサゾリルスルファニル等が挙げられる。
「芳香族複素環スルホニル」とは、「芳香族複素環」がスルホニル基に結合した基を意味する。例えば、ピリジルスルホニル、オキサゾリルスルホニル等が挙げられる。

「非芳香族複素環オキシ」、「非芳香族複素環カルボニル」、「非芳香族複素環オキシカルボニル」、「非芳香族複素環カルボニルオキシ」、「非芳香族複素環スルファニル」、および「非芳香族複素環スルホニル」の「非芳香族複素環」部分も、上記「非芳香族複素環式基」と同様である。
「非芳香族複素環オキシ」とは、「非芳香族複素環」が酸素原子に結合した基を意味する。例えば、ピペリジニルオキシ、テトラヒドロフリルオキシ等が挙げられる。
「非芳香族複素環カルボニル」とは、「非芳香族複素環」がカルボニル基に結合した基を意味する。例えば、ピペリジニルカルボニル、テトラヒドロフリルカルボニル等が挙げられる。
「非芳香族複素環カルボニルオキシ」とは、上記「非芳香族複素環カルボニル」が酸素原子に結合した基を意味する。例えば、ピペリジニルカルボニルオキシ、テトラヒドロフリルカルボニルオキシ等が挙げられる。
「非芳香族複素環オキシカルボニル」とは、上記「非芳香族複素環オキシ」がカルボニル基に結合した基を意味する。例えば、ピペリジニルオキシカルボニル、テトラヒドロフリルオキシカルボニル等が挙げられる。
「非芳香族複素環スルファニル」とは、「非芳香族複素環」がスルファニル基の硫黄原子と結合している水素原子と置き換わった基を意味する。例えば、ピペリジニルスルファニル、テトラヒドロフリルスルファニル等が挙げられる。
「非芳香族複素環スルホニル」とは、「非芳香族複素環」がスルホニル基に結合した基を意味する。例えば、ピペリジニルスルホニル、テトラヒドロフリルスルホニル等が挙げられる。

「アシル」とは、「ホルミル」、「アルキルカルボニル」、「アルケニルカルボニル」、「アルキニルカルボニル」、「芳香族複素環カルボニル」、「非芳香族複素環カルボニル」、「芳香族複素環カルボニル」および「非芳香族複素環カルボニル」を包含する。

「置換若しくは非置換のアルキル」、「置換若しくは非置換のアルケニル」、「置換若しくは非置換のアルキニル」、「置換若しくは非置換のアルキルオキシ」、「置換若しくは非置換のアルケニルオキシ」、「置換若しくは非置換のアルキニルオキシ」、「置換若しくは非置換のアルキルカルボニル」、「置換若しくは非置換のアルケニルカルボニル」、「置換若しくは非置換のアルキニルカルボニル」、「置換若しくは非置換のアルキルアミノ」、「置換若しくは非置換のアルケニルアミノ」、「置換若しくは非置換のアルキルスルホニル」、「置換若しくは非置換のアルケニルスルホニル」、「置換若しくは非置換のアルキニルスルホニル」、「置換若しくは非置換のアルキルカルボニルアミノ」、「置換若しくは非置換のアルケニルカルボニルアミノ」、「置換若しくは非置換のアルキルスルホニルアミノ」、「置換若しくは非置換のアルケニルスルホニルアミノ」、「置換若しくは非置換のアルキルイミノ」、「置換若しくは非置換のアルケニルイミノ」、「置換若しくは非置換のアルキニルイミノ」、「置換若しくは非置換のアルキルカルボニルイミノ」、「置換若しくは非置換のアルケニルカルボニルイミノ」、「置換若しくは非置換のアルキニルカルボニルイミノ」、「置換若しくは非置換のアルキルオキシイミノ」、「置換若しくは非置換のアルケニルオキシイミノ」、「置換若しくは非置換のアルキニルオキシイミノ」、「置換若しくは非置換のアルキルカルボニルオキシ」、「置換若しくは非置換のアルケニルカルボニルオキシ」、「置換若しくは非置換のアルキニルカルボニルオキシ」、「置換若しくは非置換のアルキルオキシカルボニル」、「置換若しくは非置換のアルケニルオキシカルボニル」、「置換若しくは非置換のアルキニルオキシカルボニル」、「置換若しくは非置換のアルキルスルファニル」、「置換若しくは非置換のアルケニルスルファニル」、「置換若しくは非置換のアルキニルスルファニル」、「置換若しくは非置換のアルキルスルフィニル」、「置換若しくは非置換のアルケニルスルフィニル」、「置換若しくは非置換のアルキニルスルフィニル」、「置換若しくは非置換のアルキルカルバモイル」、「置換若しくは非置換のアルケニルカルバモイル」、「置換若しくは非置換のアルキニルカルバモイル」、「置換若しくは非置換のアルキルスルファモイル」、「置換若しくは非置換のアルケニルスルファモイル」および「置換若しくは非置換のアルキニルスルファモイル」の置換基としては、次の置換基が挙げられる。任意の位置の炭素原子が次の置換基から選択される１以上の基と結合していてもよい。
置換基：ハロゲン、ヒドロキシ、カルボキシ、アミノ、イミノ、ヒドロキシアミノ、ヒドロキシイミノ、ホルミル、ホルミルオキシ、カルバモイル、スルファモイル、スルファニル、スルフィノ、スルホ、チオホルミル、チオカルボキシ、ジチオカルボキシ、チオカルバモイル、シアノ、ニトロ、ニトロソ、アジド、ヒドラジノ、ウレイド、アミジノ、グアニジノ、トリアルキルシリル、アルキルオキシ、アルケニルオキシ、アルキニルオキシ、ハロアルキルオキシ、アルキルカルボニル、アルケニルカルボニル、アルキニルカルボニル、アルキルアミノ、ジアルキルアミノ、アルキルスルホニル、アルケニルスルホニル、アルキニルスルホニル、アルキルカルボニルアミノ、アルキルカルボニルアミノ、アルキルスルホニルアミノ、アルキルスルホニルアミノ、アルキルイミノ、アルケニルイミノ、アルキニルイミノ、アルキルカルボニルイミノ、アルケニルカルボニルイミノ、アルキニルカルボニルイミノ、アルキルオキシイミノ、アルケニルオキシイミノ、アルキニルオキシイミノ、アルキルカルボニルオキシ、アルケニルカルボニルオキシ、アルキニルカルボニルオキシ、アルキルオキシカルボニル、アルケニルオキシカルボニル、アルキニルオキシカルボニル、アルキルスルファニル、アルケニルスルファニル、アルキニルスルファニル、アルキルスルフィニル、アルケニルスルフィニル、アルキニルスルフィニル、アルキルカルバモイル、アルケニルカルバモイル、アルキニルカルバモイル、アルキルスルファモイル、アルケニルスルファモイル、アルキニルスルファモイル、芳香族炭素環式基、非芳香族炭素環式基、芳香族複素環式基、非芳香族複素環式基、芳香族炭素環オキシ、非芳香族炭素環オキシ、芳香族複素環オキシ、非芳香族複素環オキシ、芳香族炭素環カルボニル、非芳香族炭素環カルボニル、芳香族複素環カルボニル、非芳香族複素環カルボニル、芳香族炭素環カルボニルオキシ、非芳香族炭素環カルボニルオキシ、芳香族複素環カルボニルオキシ、非芳香族複素環カルボニルオキシ、芳香族炭素環オキシカルボニル、非芳香族炭素環オキシカルボニル、芳香族複素環オキシカルボニル、非芳香族複素環オキシカルボニル、芳香族炭素環アルキルオキシ、非芳香族炭素環アルキルオキシ、芳香族複素環アルキルオキシ、非芳香族複素環アルキルオキシ、芳香族炭素環アルキルオキシカルボニル、非芳香族炭素環アルキルオキシカルボニル、芳香族複素環アルキルオキシカルボニル、非芳香族複素環アルキルオキシカルボニル、芳香族炭素環アルキルアミノ、非芳香族炭素環アルキルアミノ、芳香族複素環アルキルアミノ、非芳香族複素環アルキルアミノ、芳香族炭素環スルファニル、非芳香族炭素環スルファニル、芳香族複素環スルファニル、非芳香族複素環スルファニル、非芳香族炭素環スルホニル、芳香族炭素環スルホニル、芳香族複素環スルホニル、および非芳香族複素環スルホニル。

「置換若しくは非置換のアミノ」、「置換若しくは非置換のカルバモイル」および「置換若しくは非置換のスルファモイル」の置換基としては、次の置換基が挙げられる。アミノ基の窒素原子と結合している水素原子１個または２個が次の置換基から選択される基と置き換わっていてもよい。
置換基：アルキル、アルケニル、アルキニル、ハロゲン、ヒドロキシ、カルボキシ、アミノ、イミノ、ヒドロキシアミノ、ヒドロキシイミノ、ホルミル、ホルミルオキシ、カルバモイル、スルファモイル、スルファニル、スルフィノ、スルホ、チオホルミル、チオカルボキシ、ジチオカルボキシ、チオカルバモイル、シアノ、ニトロ、ニトロソ、アジド、ヒドラジノ、ウレイド、アミジノ、グアニジノ、トリアルキルシリル、アルキルオキシ、アルケニルオキシ、アルキニルオキシ、ハロアルキルオキシ、アルキルカルボニル、アルケニルカルボニル、アルキニルカルボニル、アルキルアミノ、ジアルキルアミノ、アルキルスルホニル、アルケニルスルホニル、アルキニルスルホニル、アルキルカルボニルアミノ、アルキルカルボニルアミノ、アルキルスルホニルアミノ、アルキルスルホニルアミノ、アルキルイミノ、アルケニルイミノ、アルキニルイミノ、アルキルカルボニルイミノ、アルケニルカルボニルイミノ、アルキニルカルボニルイミノ、アルキルオキシイミノ、アルケニルオキシイミノ、アルキニルオキシイミノ、アルキルカルボニルオキシ、アルケニルカルボニルオキシ、アルキニルカルボニルオキシ、アルキルオキシカルボニル、アルケニルオキシカルボニル、アルキニルオキシカルボニル、アルキルスルファニル、アルケニルスルファニル、アルキニルスルファニル、アルキルスルフィニル、アルケニルスルフィニル、アルキニルスルフィニル、アルキルカルバモイル、アルケニルカルバモイル、アルキニルカルバモイル、アルキルスルファモイル、アルケニルスルファモイル、アルキニルスルファモイル、芳香族炭素環式基、非芳香族炭素環式基、芳香族複素環式基、非芳香族複素環式基、芳香族炭素環オキシ、非芳香族炭素環オキシ、芳香族複素環オキシ、非芳香族複素環オキシ、芳香族炭素環カルボニル、非芳香族炭素環カルボニル、芳香族複素環カルボニル、非芳香族複素環カルボニル、芳香族炭素環カルボニルオキシ、非芳香族炭素環カルボニルオキシ、芳香族複素環カルボニルオキシ、非芳香族複素環カルボニルオキシ、芳香族炭素環オキシカルボニル、非芳香族炭素環オキシカルボニル、芳香族複素環オキシカルボニル、非芳香族複素環オキシカルボニル、芳香族炭素環アルキルオキシ、非芳香族炭素環アルキルオキシ、芳香族複素環アルキルオキシ、非芳香族複素環アルキルオキシ、芳香族炭素環アルキルオキシカルボニル、非芳香族炭素環アルキルオキシカルボニル、芳香族複素環アルキルオキシカルボニル、非芳香族複素環アルキルオキシカルボニル、芳香族炭素環アルキルアミノ、非芳香族炭素環アルキルアミノ、芳香族複素環アルキルアミノ、非芳香族複素環アルキルアミノ、芳香族炭素環スルファニル、非芳香族炭素環スルファニル、芳香族複素環スルファニル、非芳香族複素環スルファニル、非芳香族炭素環スルホニル、芳香族炭素環スルホニル、芳香族複素環スルホニル、および非芳香族複素環スルホニル。

「置換若しくは非置換の芳香族炭素環式基」、「置換若しくは非置換の非芳香族炭素環式基」、「置換若しくは非置換の芳香族複素環式基」および「置換若しくは非置換の非芳香族複素環式基」、
「置換若しくは非置換の芳香族炭素環オキシ」、「置換若しくは非置換の非芳香族炭素環オキシ」、「置換若しくは非置換の芳香族複素環オキシ」、および「置換若しくは非置換の非芳香族複素環オキシ」、
「置換若しくは非置換の芳香族炭素環カルボニル」、「置換若しくは非置換の非芳香族炭素環カルボニル」、「置換若しくは非置換の芳香族複素環カルボニル」、および「置換若しくは非置換の非芳香族複素環カルボニル」、
「置換若しくは非置換の芳香族炭素環カルボニルオキシ」、「置換若しくは非置換の非芳香族炭素環カルボニルオキシ」、「置換若しくは非置換の芳香族複素環カルボニルオキシ」および「置換若しくは非置換の非芳香族複素環カルボニルオキシ」、
「置換若しくは非置換の芳香族炭素環オキシカルボニル」、「置換若しくは非置換の非芳香族炭素環オキシカルボニル」、「置換若しくは非置換の芳香族複素環オキシカルボニル」、および「置換若しくは非置換の非芳香族複素環オキシカルボニル」、
「置換若しくは非置換の芳香族炭素環スルファニル」、「置換若しくは非置換の非芳香族炭素環スルファニル」、「置換若しくは非置換の芳香族複素環スルファニル」、および「置換若しくは非置換の非芳香族複素環スルファニル」、
「置換若しくは非置換の芳香族炭素環スルホニル」、「置換若しくは非置換の非芳香族炭素環スルホニル」、「置換若しくは非置換の芳香族複素環スルホニル」、および「置換若しくは非置換の非芳香族複素環スルホニル」の「芳香族炭素環」、「非芳香族炭素環」、「芳香族複素環」、および「非芳香族複素環」、
環Ｄにおける「置換若しくは非置換のベンゼン環」、「置換若しくは非置換の６員芳香族複素環」、「置換若しくは非置換のピリジン環」、「置換若しくは非置換のピリダジン環」、「置換若しくは非置換のピリミジン環」、「置換若しくは非置換のピラジン環」、「置換若しくは非置換のピリドン環」および「置換若しくは非置換のトリアジン環」、
Ｂ^１における「置換若しくは非置換のフェニル」、「置換若しくは非置換の６員芳香族複素環式基」、「置換若しくは非置換のピリジル」、「置換若しくは非置換のピリダジル」、「置換若しくは非置換のピリミジル」、「置換若しくは非置換のピラジル」、「置換若しくは非置換のピリドニル」および「置換若しくは非置換のトリアジニル」、ならびに、
Ｂ^２における「置換若しくは非置換の芳香族炭素環式基」、「置換若しくは非置換の芳香族複素環式基」、「置換若しくは非置換の非芳香族炭素環式基」および「置換若しくは非置換の非芳香族複素環式基」
の環上の置換基としては、次の置換基が挙げられる。環上の任意の位置の原子が次の置換基から選択される１以上の基と結合していてもよい。
置換基：ハロゲン、ヒドロキシ、カルボキシ、アミノ、イミノ、ヒドロキシアミノ、ヒドロキシイミノ、ホルミル、ホルミルオキシ、カルバモイル、スルファモイル、スルファニル、スルフィノ、スルホ、チオホルミル、チオカルボキシ、ジチオカルボキシ、チオカルバモイル、シアノ、ニトロ、ニトロソ、アジド、ヒドラジノ、ウレイド、アミジノ、グアニジノ、トリアルキルシリル、アルキル、アルケニル、アルキニル、ハロアルキル、アルキルオキシ、アルケニルオキシ、アルキニルオキシ、ハロアルキルオキシ、アルキルオキシアルキル、アルキルオキシアルキルオキシ、アルキルカルボニル、アルケニルカルボニル、アルキニルカルボニル、アルキルアミノ、ジアルキルアミノ、アルキルスルホニル、アルケニルスルホニル、アルキニルスルホニル、アルキルカルボニルアミノ、アルキルカルボニルアミノ、アルキルスルホニルアミノ、アルキルスルホニルアミノ、アルキルイミノ、アルケニルイミノ、アルキニルイミノ、アルキルカルボニルイミノ、アルケニルカルボニルイミノ、アルキニルカルボニルイミノ、アルキルオキシイミノ、アルケニルオキシイミノ、アルキニルオキシイミノ、アルキルカルボニルオキシ、アルケニルカルボニルオキシ、アルキニルカルボニルオキシ、アルキルオキシカルボニル、アルケニルオキシカルボニル、アルキニルオキシカルボニル、アルキルスルファニル、アルケニルスルファニル、アルキニルスルファニル、アルキルスルフィニル、アルケニルスルフィニル、アルキニルスルフィニル、アルキルカルバモイル、アルケニルカルバモイル、アルキニルカルバモイル、アルキルスルファモイル、アルケニルスルファモイル、アルキニルスルファモイル、芳香族炭素環式基、非芳香族炭素環式基、芳香族複素環式基、非芳香族複素環式基、芳香族炭素環オキシ、非芳香族炭素環オキシ、芳香族複素環オキシ、非芳香族複素環オキシ、芳香族炭素環カルボニル、非芳香族炭素環カルボニル、芳香族複素環カルボニル、非芳香族複素環カルボニル、芳香族炭素環カルボニルオキシ、非芳香族炭素環カルボニルオキシ、芳香族複素環カルボニルオキシ、非芳香族複素環カルボニルオキシ、芳香族炭素環オキシカルボニル、非芳香族炭素環オキシカルボニル、芳香族複素環オキシカルボニル、非芳香族複素環オキシカルボニル、芳香族炭素環アルキル、非芳香族炭素環アルキル、芳香族複素環アルキル、非芳香族複素環アルキル、芳香族炭素環アルキルオキシ、非芳香族炭素環アルキルオキシ、芳香族複素環アルキルオキシ、非芳香族複素環アルキルオキシ、芳香族炭素環アルキルオキシカルボニル、非芳香族炭素環アルキルオキシカルボニル、芳香族複素環アルキルオキシカルボニル、非芳香族複素環アルキルオキシカルボニル、芳香族炭素環アルキルオキシアルキル、非芳香族炭素環アルキルオキシアルキル、芳香族複素環アルキルオキシアルキル、非芳香族複素環アルキルオキシアルキル、芳香族炭素環アルキルアミノ、非芳香族炭素環アルキルアミノ、芳香族複素環アルキルアミノ、非芳香族複素環アルキルアミノ、芳香族炭素環スルファニル、非芳香族炭素環スルファニル、芳香族複素環スルファニル、非芳香族複素環スルファニル、非芳香族炭素環スルホニル、芳香族炭素環スルホニル、芳香族複素環スルホニル、および非芳香族複素環スルホニル。

また、「置換若しくは非置換の非芳香族炭素環式基」および「置換若しくは非置換の非芳香族複素環式基」は「オキソ」で置換されていてもよい。この場合、以下のように炭素原子上の２個の水素原子が置換されている基を意味する。

上記、「置換若しくは非置換の非芳香族炭素環オキシ」、「置換若しくは非置換の非芳香族複素環オキシ」、「置換若しくは非置換の非芳香族炭素環カルボニル」、「置換若しくは非置換の非芳香族複素環カルボニル」、「置換若しくは非置換の非芳香族炭素環カルボニルオキシ」、「置換若しくは非置換の非芳香族複素環カルボニルオキシ」、「置換若しくは非置換の非芳香族炭素環オキシカルボニル」、「置換若しくは非置換の非芳香族複素環オキシカルボニル」、「置換若しくは非置換の非芳香族炭素環スルファニル」、「置換若しくは非置換の非芳香族複素環スルファニル」、「置換若しくは非置換の非芳香族炭素環スルホニル」、および「置換若しくは非置換の非芳香族複素環スルホニル」の非芳香族炭素環、および非芳香族複素環部分も上記と同様に「オキソ」で置換されていてもよい。

Ｒ^Ａにおける「置換若しくは非置換のアルキル」の置換基としては、例えば、アルキルオキシ；ハロアルキルオキシ；シアノ；またはハロゲンが挙げられる。これらから選択される１以上の基で置換されていてもよい。

Ｒ^Ａ’における「置換若しくは非置換のアルキル」の置換基としては、例えば、アルキルオキシ；ハロアルキルオキシ；シアノ；またはハロゲンが挙げられる。これらから選択される１以上の基で置換されていてもよい。

環Ｄにおける「置換若しくは非置換のベンゼン環」の置換基としては、ハロゲン；アルキル；ヒドロキシ；ハロアルキル；ヒドロキシアルキル；またはアルキルオキシが挙げられる。これらから選択される１以上の基で置換されていてもよい。

環Ｄにおける「置換若しくは非置換の６員芳香族複素環」の置換基としては、ハロゲン；アルキル；ヒドロキシ；ハロアルキル；ヒドロキシアルキル；またはアルキルオキシが挙げられる。これらから選択される１以上の基で置換されていてもよい。

Ｂ^１における「置換若しくは非置換のフェニル」の置換基としては、ハロゲン；アルキル；ヒドロキシ；ハロアルキル；ヒドロキシアルキル；またはアルキルオキシが挙げられる。これらから選択される１以上の基で置換されていてもよい。

Ｂ^１における「置換若しくは非置換の６員芳香族複素環式基」の置換基としては、ハロゲン；アルキル；ヒドロキシ；ハロアルキル；ヒドロキシアルキル；またはアルキルオキシが挙げられる。これらから選択される１以上の基で置換されていてもよい。

Ｂ^２における「置換若しくは非置換の芳香族炭素環式基」の置換基としては、ハロゲン；アルキル；ヒドロキシ；ハロアルキル；ヒドロキシアルキル；またはアルキルオキシが挙げられる。これらから選択される１以上の基で置換されていてもよい。
Ｂ^２における「置換若しくは非置換の芳香族複素環式基」の置換基としては、ハロゲン；アルキル；ヒドロキシ；ハロアルキル；ヒドロキシアルキル；またはアルキルオキシが挙げられる。これらから選択される１以上の基で置換されていてもよい。
Ｂ^２における「置換若しくは非置換の非芳香族炭素環式基」の置換基としては、ハロゲン；アルキル；ヒドロキシ；ハロアルキル；ヒドロキシアルキル；またはアルキルオキシが挙げられる。これらから選択される１以上の基で置換されていてもよい。
Ｂ^２における「置換若しくは非置換の非芳香族複素環式基」の置換基としては、ハロゲン；アルキル；ヒドロキシ；ハロアルキル；ヒドロキシアルキル；またはアルキルオキシが挙げられる。これらから選択される１以上の基で置換されていてもよい。

環Ｃにおける「置換若しくは非置換の芳香族複素環」の置換基としては、例えば、
置換若しくは非置換の芳香族炭素環式基；
置換若しくは非置換の芳香族複素環式基；
置換若しくは非置換の非芳香族複素環式基；
置換若しくは非置換の非芳香族炭素環式基；
置換若しくは非置換のアルキル；または
置換若しくは非置換のアルキルオキシが挙げられる。これらから選択される１以上の基で置換されていてもよい。

Ｒ^１３における「置換若しくは非置換の芳香族炭素環式基」の置換基としては、例えば、ハロゲンまたはアルキルが挙げられる。これらから選択される１以上の基で置換されていてもよい。
Ｒ^１３における「置換若しくは非置換の芳香族複素環式基」の置換基としては、例えば、ハロゲンまたはアルキルが挙げられる。これらから選択される１以上の基で置換されていてもよい。

Ｒ^１５における「置換若しくは非置換のアルキル」の置換基としては、例えば、ハロゲンまたはヒドロキシが挙げられる。これらから選択される１以上の基で置換されていてもよい。

Ｒ^１４における「置換若しくは非置換の芳香族複素環式基」の置換基としては、例えば、アルキル；ハロアルキル；アルキルオキシ；アルキルカルバモイル；置換（置換基としてはアルキル）若しくは非置換の非芳香族複素環で置換されたカルバモイル；ヒドロキシアルキル；置換（置換基としてはアルキル）若しくは非置換の非芳香族複素環式基またはアルキルスルフィニルイミンが挙げられる。これらから選択される１以上の基で置換されていてもよい。

Ｒ^１４における「置換若しくは非置換の非芳香族炭素環式基」の置換基としては、例えば、アルキルまたはオキソが挙げられる。これらから選択される１以上の基で置換されていてもよい。

Ｒ^１４における「置換若しくは非置換の非芳香族複素環オキシ」の置換基としては、例えば、置換（置換基としては非芳香族複素環式基）若しくは非置換のアルキルオキシカルボニルが挙げられる。

Ｒ^１４における「置換若しくは非置換の芳香族炭素環式基」の置換基としては、例えば、アルキルオキシカルボニル；カルボキシまたは置換（置換基としては、アルキル）若しくは非置換の非芳香族複素環で置換されたカルバモイルが挙げられる。これらから選択される１以上の基で置換されていてもよい。

Ｒ^１４における「置換若しくは非置換の非芳香族複素環式基」の置換基としては、例えば、オキソまたはアルキルが挙げられる。これらから選択される１以上の基で置換されていてもよい。

Ｒ^１４における「置換若しくは非置換のアルキルオキシ」の置換基としては、例えば、ハロゲン；アルキルアミノ；置換（置換基としてはアルキル）若しくは非置換の非芳香族複素環式基；アルキルオキシ；アルキルオキシアルキルオキシ；ハロアルキルオキシ；ヒドロキシ；アミノ；アルキルスルホニルまたはアルキルスルフィニルイミンが挙げられる。これらから選択される１以上の基で置換されていてもよい。

Ｒ^１４における「置換若しくは非置換のアルキル」の置換基としては、例えば、ヒドロキシ；ハロゲンまたは置換若しくは非置換の非芳香族炭素環式基が挙げられる。これらから選択される１以上の基で置換されていてもよい。

Ｒ^１４における「置換若しくは非置換のカルバモイル」の置換基としては、例えば、置換（置換基としてはアルキル）若しくは非置換の非芳香族複素環式基が挙げられる。

本発明の具体的実施形態を、以下に例示する。
一般式（ＩＡ）：

（式中、各記号は上記と同義である）
で示される化合物またはその製薬上許容される塩、を含有する医薬組成物。
以下に環Ａおよび環Ｃの具体例を示す。式（ＩＡ）で示される化合物としては、これら具体例の全ての組み合わせが例示される。

環Ａとしては、

（ここで、Ｒ^３、Ｒ^４、Ｒ^Ａ、Ｒ^Ａ’、Ｗ、Ｕ、ｔおよび環Ｄは上記と同義）が挙げられる。（以下、Ａ−１とする）

環Ａとしては、

（ここで、Ｒ^Ａ、Ｒ^Ａ’、Ｗ、Ｕおよびｔは上記と同義であり、Ｒ^３およびＲ^４は水素原子であり、環Ｄが置換若しくは非置換のベンゼン環または置換若しくは非置換のピリジン環）が挙げられる。（以下、Ａ−２とする）

環Ａとしては、

（ここで、Ｒ^Ａ、Ｒ^Ａ’、Ｗ、Ｕおよびｔは上記と同義であり、Ｒ^Ｂはそれぞれ独立して、ハロゲン、置換若しくは非置換のアルキルまたは置換若しくは非置換のアルキルオキシであり、ｎは０〜４の整数であり、ベンゼン環の環構成原子に結合するｎ個の水素原子が、Ｒ^Ｂによって置き換わることができる。）が挙げられる。（以下、Ａ−３とする）

環Ａとしては、

（ここで、Ｒ^Ａ、Ｕ、ｔ、Ｒ^Ｂおよびｎは上記と同義）が挙げられる。（以下、Ａ−４とする）

環Ａとしては、

（ここで、Ｒ^Ａ’、Ｕ、ｔ、Ｒ^Ｂおよびｎは上記と同義）が挙げられる。（以下、Ａ−５とする）

Ｕとしては、−Ｏ−または−ＣＲ^ＣＲ^Ｄ−（ここで、Ｒ^ＣおよびＲ^Ｄは、それぞれ独立して、水素原子、ハロゲン、または置換若しくは非置換のアルキル）が挙げられる。（以下、Ｂ−１とする）
Ｕとしては、−ＣＲ^ＣＲ^Ｄ−（ここで、Ｒ^ＣおよびＲ^Ｄは、それぞれ独立して、水素原子、ハロゲン、または置換若しくは非置換のアルキル）が挙げられる。（以下、Ｂ−２とする）
Ｕとしては、−ＣＲ^ＣＲ^Ｄ−（ここで、Ｒ^ＣおよびＲ^Ｄは、それぞれ独立して、水素原子またはハロゲン）が挙げられる。（以下、Ｂ−３とする）
Ｕとしては、−ＣＲ^ＣＲ^Ｄ−（ここで、Ｒ^ＣおよびＲ^Ｄは、水素原子）が挙げられる。（以下、Ｂ−４とする）

ｔとしては、１〜３の整数が挙げられる。（以下、Ｃ−１とする）
ｔとしては、１または２の整数が挙げられる。（以下、Ｃ−２とする）
ｔとしては、２または３の整数が挙げられる。（以下、Ｃ−３とする）
ｔとしては、１が挙げられる。（以下、Ｃ−４とする）
ｔとしては、２が挙げられる。（以下、Ｃ−５とする）
ｔとしては、３が挙げられる。（以下、Ｃ−６とする）

Ｒ^ＡおよびＲ^Ａ’としては、置換若しくは非置換のアルキルが挙げられる。（以下、Ｄ−１とする）
Ｒ^ＡおよびＲ^Ａ’としては、置換若しくは非置換のアルキルオキシで置換されたアルキルが挙げられる。（以下、Ｄ−２とする）
Ｒ^ＡおよびＲ^Ａ’としては、アルキルオキシで置換されたアルキルが挙げられる。（以下、Ｄ−３とする）
Ｒ^ＡおよびＲ^Ａ’としては、置換若しくは非置換のＣ１−Ｃ３アルキルオキシで置換されたＣ２−Ｃ６アルキルが挙げられる。（以下、Ｄ−４とする）
Ｒ^ＡおよびＲ^Ａ’としては、Ｃ１−Ｃ３アルキルオキシで置換されたＣ２−Ｃ６アルキルが挙げられる。（以下、Ｄ−５とする）
Ｒ^Ａとしては、置換若しくは非置換のアルキルが挙げられる。（以下、Ｄ−６とする）
Ｒ^Ａとしては、置換若しくは非置換のアルキルオキシで置換されたアルキルが挙げられる。（以下、Ｄ−７とする）
Ｒ^Ａとしては、アルキルオキシで置換されたアルキルが挙げられる。（以下、Ｄ−８とする）
Ｒ^Ａとしては、置換若しくは非置換のＣ１−Ｃ３アルキルオキシで置換されたＣ２−Ｃ６アルキルが挙げられる。（以下、Ｄ−９とする）
Ｒ^Ａとしては、Ｃ１−Ｃ３アルキルオキシで置換されたＣ２−Ｃ６アルキルが挙げられる。（以下、Ｄ−１０とする）
Ｒ^Ａ’としては、置換若しくは非置換のアルキルが挙げられる。（以下、Ｄ−１１とする）
Ｒ^Ａ’としては、置換若しくは非置換のアルキルオキシで置換されたアルキルが挙げられる。（以下、Ｄ−１２とする）
Ｒ^Ａ’としては、アルキルオキシで置換されたアルキルが挙げられる。（以下、Ｄ−１３とする）
Ｒ^Ａ’としては、置換若しくは非置換のＣ１−Ｃ３アルキルオキシで置換されたＣ２−Ｃ６アルキルが挙げられる。（以下、Ｄ−１４とする）
Ｒ^Ａ’としては、Ｃ１−Ｃ３アルキルオキシで置換されたＣ２−Ｃ６アルキルが挙げられる。（以下、Ｄ−１５とする）

Ｒ^Ｂとしては、ハロゲンが挙げられる。（以下、Ｆ−１とする）

ｎとしては、０〜３の整数が挙げられる。（以下、Ｇ−１とする）
ｎとしては、０〜２の整数が挙げられる。（以下、Ｇ−２とする）
ｎとしては、０が挙げられる。（以下、Ｇ−３とする）
ｎとしては、１が挙げられる。（以下、Ｇ−４とする）
ｎとしては、２が挙げられる。（以下、Ｇ−５とする）

環Ｃとしては、置換若しくは非置換の芳香族複素環または置換若しくは非置換の非芳香族複素環が挙げられる。（以下、Ｅ−１とする）
環Ｃとしては、置換若しくは非置換の芳香族複素環が挙げられる。（以下、Ｅ−２とする）
環Ｃとしては、置換若しくは非置換のピラゾールが挙げられる。（以下、Ｅ−３とする）
環Ｃとしては、置換若しくは非置換のフェニルで置換されたピラゾールが挙げられる。（以下、Ｅ−４とする）
環Ｃとしては、置換若しくは非置換のアルキルで置換されたピラゾールが挙げられる。（以下、Ｅ−５とする）
環Ｃとしては、置換若しくは非置換のピラゾリルで置換されたピラゾールが挙げられる。（以下、Ｅ−６とする）
環Ｃとしては、

（ここで、Ｒ^１３は置換若しくは非置換の芳香族炭素環式基、置換若しくは非置換のアルキルまたは置換若しくは非置換の非芳香族炭素環式基であり、Ｒ^１４は置換若しくは非置換の芳香族複素環式基、置換若しくは非置換のアルキルオキシ、置換若しくは非置換の芳香族炭素環式基または置換若しくは非置換の非芳香族複素環式基であり、Ｒ^１５は水素原子、置換若しくは非置換のアルキルまたはハロゲンである。）が挙げられる。（以下、Ｅ−７とする）
環Ｃとしては、

（ここで、Ｒ^１３は置換若しくは非置換の芳香族炭素環式基であり、Ｒ^１４は置換若しくは非置換の芳香族複素環式基または置換若しくは非置換のアルキルオキシであり、Ｒ^１５は置換若しくは非置換のアルキルである。）が挙げられる。（以下、Ｅ−８とする）
環Ｃとしては、

（ここで、Ｒ^１３は置換若しくは非置換のフェニルであり、Ｒ^１４は置換若しくは非置換のピラゾリルであり、Ｒ^１５は置換若しくは非置換のアルキルである。）が挙げられる。（以下、Ｅ−９とする）
環Ｃとしては、

（ここで、Ｒ^１３は置換若しくは非置換のフェニルであり、Ｒ^１４はＣ１−Ｃ３アルキルまたはＣ１−Ｃ３ハロアルキルで置換されたピラゾリル若しくは非置換のピラゾリルであり、Ｒ^１５は置換若しくは非置換のアルキルである。）が挙げられる。（以下、Ｅ−１０とする）
環Ｃとしては、

（ここで、Ｒ^１３は非置換のフェニルであり、Ｒ^１４はＣ１−Ｃ３アルキルで置換されたピラゾリルであり、Ｒ^１５は非置換のＣ１−Ｃ３アルキルである。）が挙げられる。（以下、Ｅ−１１とする）
環Ｃとしては、

（ここで、Ｒ^１３は置換若しくは非置換のフェニルであり、Ｒ^１４は置換若しくは非置換のピリミジルであり、Ｒ^１５は置換若しくは非置換のアルキルである。）が挙げられる。（以下、Ｅ−１２とする）
環Ｃとしては、

（ここで、Ｒ^１３は置換若しくは非置換のフェニルであり、Ｒ^１４はアルキルオキシ、アルキルまたはヒドロキシアルキルで置換されたピリミジル若しくは非置換のピリミジルであり、Ｒ^１５は置換若しくは非置換のアルキルである。）が挙げられる。（以下、Ｅ−１３とする）
環Ｃとしては、

（ここで、Ｒ^１３は非置換のフェニルであり、Ｒ^１４はメチルオキシ、エチルオキシ、メチルまたはヒドロキシメチルで置換されたピリミジルであり、Ｒ^１５は非置換のＣ１−Ｃ３アルキルである。）が挙げられる。（以下、Ｅ−１４とする）
環Ｃとしては、

（ここで、Ｒ^１３は置換若しくは非置換のフェニルであり、Ｒ^１４は置換若しくは非置換のアルキルオキシであり、Ｒ^１５は置換若しくは非置換のアルキルである。）が挙げられる。（以下、Ｅ−１５とする）
環Ｃとしては、

（ここで、Ｒ^１３は置換若しくは非置換のフェニルであり、Ｒ^１４はメチルピペリジルで置換されたＣ１−Ｃ３アルキルオキシであり、Ｒ^１５は置換若しくは非置換のＣ１−Ｃ３アルキルである。）が挙げられる。（以下、Ｅ−１６とする）

式（Ｉ）または式（ＩＡ）で示される化合物は、特定の異性体に限定するものではなく、全ての可能な異性体（例えば、ケト−エノール異性体、イミン−エナミン異性体、ジアステレオ異性体、光学異性体、回転異性体等）、ラセミ体またはそれらの混合物を含む。
式（Ｉ）または式（ＩＡ）で示される化合物の一つ以上の水素、炭素および／または他の原子は、それぞれ水素、炭素および／または他の原子の同位体で置換され得る。そのような同位体の例としては、それぞれ^２Ｈ、^３Ｈ、^１１Ｃ、^１３Ｃ、^１４Ｃ、^１５Ｎ、^１８Ｏ、^１７Ｏ、^３１Ｐ、^３２Ｐ、^３５Ｓ、^１８Ｆ、¹²³Ｉおよび^３６Ｃｌのように、水素、炭素、窒素、酸素、リン、硫黄、フッ素、ヨウ素および塩素が包含される。式（Ｉ）または式（ＩＡ）で示される化合物は、そのような同位体で置換された化合物も包含する。該同位体で置換された化合物は、医薬品としても有用であり、式（Ｉ）または式（ＩＡ）で示される化合物のすべての放射性標識体を包含する。また該「放射性標識体」を製造するための「放射性標識化方法」も本発明に包含され、該「放射性標識体」は、代謝薬物動態研究、結合アッセイにおける研究および／または診断のツールとして有用である。

式（Ｉ）または式（ＩＡ）で示される化合物の放射性標識体は、当該技術分野で周知の方法で調製できる。例えば、式（Ｉ）または式（ＩＡ）で示されるトリチウム標識化合物は、トリチウムを用いた触媒的脱ハロゲン化反応によって、式（Ｉ）または式（ＩＡ）で示される特定の化合物にトリチウムを導入することで調製できる。この方法は、適切な触媒、例えばＰｄ／Ｃの存在下、塩基の存在下または非存在下で、式（Ｉ）または式（ＩＡ）で示される化合物が適切にハロゲン置換された前駆体とトリチウムガスとを反応させることを包含する。トリチウム標識化合物を調製するための他の適切な方法は、“Ｉｓｏｔｏｐｅｓ ｉｎ ｔｈｅ Ｐｈｙｓｉｃａｌ ａｎｄ Ｂｉｏｍｅｄｉｃａｌ Ｓｃｉｅｎｃｅｓ，Ｖｏｌ．１，Ｌａｂｅｌｅｄ Ｃｏｍｐｏｕｎｄｓ （Ｐａｒｔ Ａ），Ｃｈａｐｔｅｒ ６ （１９８７年）”を参照することができる。^１４Ｃ−標識化合物は、^１４Ｃ炭素を有する原料を用いることによって調製できる。

式（Ｉ）または式（ＩＡ）で示される化合物の製薬上許容される塩としては、例えば、式（Ｉ）または式（ＩＡ）で示される化合物と、アルカリ金属（例えば、リチウム、ナトリウム、カリウム等）、アルカリ土類金属（例えば、カルシウム、バリウム等）、マグネシウム、遷移金属（例えば、亜鉛、鉄等）、アンモニア、有機塩基（例えば、トリメチルアミン、トリエチルアミン、ジシクロヘキシルアミン、エタノールアミン、ジエタノールアミン、トリエタノールアミン、メグルミン、エチレンジアミン、ピリジン、ピコリン、キノリン等）およびアミノ酸との塩、または無機酸（例えば、塩酸、硫酸、硝酸、炭酸、臭化水素酸、リン酸、ヨウ化水素酸等）、および有機酸（例えば、ギ酸、酢酸、プロピオン酸、トリフルオロ酢酸、クエン酸、乳酸、酒石酸、シュウ酸、マレイン酸、フマル酸、マンデル酸、グルタル酸、リンゴ酸、安息香酸、フタル酸、アスコルビン酸、ベンゼンスルホン酸、ｐ−トルエンスルホン酸、メタンスルホン酸、エタンスルホン酸等）との塩が挙げられる。特に塩酸、硫酸、リン酸、酒石酸、メタンスルホン酸との塩等が挙げられる。これらの塩は、通常行われる方法によって形成させることができる。

式（Ｉ）または式（ＩＡ）で示される化合物またはその製薬上許容される塩は、溶媒和物（例えば、水和物等）、共結晶および／または結晶多形を形成する場合があり、本発明はそのような各種の溶媒和物、共結晶および結晶多形も包含する。「溶媒和物」は、式（Ｉ）または式（ＩＡ）で示される化合物に対し、任意の数の溶媒分子（例えば、水分子等）と配位していてもよい。式（Ｉ）または式（ＩＡ）で示される化合物またはその製薬上許容される塩を、大気中に放置することにより、水分を吸収し、吸着水が付着する場合や、水和物を形成する場合がある。また、式（Ｉ）または式（ＩＡ）で示される化合物またはその製薬上許容される塩を、再結晶することで結晶多形を形成する場合がある。「共結晶」は、式（Ｉ）または式（ＩＡ）で示される化合物または塩とカウンター分子が同一結晶格子内に存在することを意味し、任意の数のカウンター分子と形成していてもよい。

式（Ｉ）または式（ＩＡ）で示される化合物またはその製薬上許容される塩は、プロドラッグを形成する場合があり、本発明はそのような各種のプロドラッグを含有する医薬組成物も包含する。プロドラッグは、化学的又は代謝的に分解できる基を有する、本発明に係る化合物の誘導体であり、加溶媒分解により又は生理学的条件下でインビボにおいて薬学的に活性な本発明に係る化合物となる化合物である。プロドラッグは、生体内における生理条件下で酵素的に酸化、還元、加水分解等を受けて式（Ｉ）または式（ＩＡ）で示される化合物に変換される化合物、胃酸等により加水分解されて式（Ｉ）または式（ＩＡ）で示される化合物に変換される化合物等を包含する。適当なプロドラッグ誘導体を選択する方法および製造する方法は、例えば “Ｄｅｓｉｇｎ ｏｆ Ｐｒｏｄｒｕｇｓ， Ｅｌｓｅｖｉｅｒ， Ａｍｓｔｅｒｄａｍ， １９８５”に記載されている。プロドラッグは、それ自身が活性を有する場合がある。

式（Ｉ）または式（ＩＡ）で示される化合物またはその製薬上許容される塩がヒドロキシル基を有する場合は、例えば、ヒドロキシル基を有する化合物と適当なアシルハライド、適当な酸無水物、適当なスルホニルクロライド、適当なスルホニルアンハイドライド及びミックスドアンハイドライドとを反応させることにより或いは縮合剤を用いて反応させることにより製造されるアシルオキシ誘導体やスルホニルオキシ誘導体のようなプロドラッグが例示される。例えば、ＣＨ_３ＣＯＯ−、Ｃ_２Ｈ_５ＣＯＯ−、ｔｅｒｔ−ＢｕＣＯＯ−、Ｃ_１５Ｈ_３１ＣＯＯ−、ＰｈＣＯＯ−、（ｍ−ＮａＯＯＣＰｈ）ＣＯＯ−、ＮａＯＯＣＣＨ_２ＣＨ_２ＣＯＯ−、ＣＨ_３ＣＨ（ＮＨ_２）ＣＯＯ−、ＣＨ_２Ｎ（ＣＨ_３）_２ＣＯＯ−、ＣＨ_３ＳＯ_３−、ＣＨ_３ＣＨ_２ＳＯ_３−、ＣＦ_３ＳＯ_３−、ＣＨ_２ＦＳＯ_３−、ＣＦ_３ＣＨ_２ＳＯ_３−、ｐ−ＣＨ_３Ｏ−ＰｈＳＯ_３−、ＰｈＳＯ_３−、ｐ−ＣＨ_３ＰｈＳＯ_３−が挙げられる。

本発明に係る化合物の一般的合成方法を以下に示す。これら合成に用いる出発物質および反応試薬はいずれも、商業的に入手可能であるか、または商業的に入手可能な化合物を用いて当分野で周知の方法にしたがって製造することができる。また、抽出、精製等は、有機化学の実験で行う通常の処理を行えばよい。
下記の工程において、反応の障害となる置換基（例えば、ヒドロキシ、メルカプト、アミノ、ホルミル、カルボニル、カルボキシル等）を有する場合には、Protective Groups in Organic Synthesis, Theodora W Greene(John Wiley & Sons（以下、文献Ａとする）等に記載の方法で予め保護し、望ましい段階でその保護基を除去してもよい。また、下記すべての工程について、実施する工程の順序を適宜変更することができ、各中間体を単離して次の工程に用いてもよい。反応時間、反応温度、溶媒、試薬、保護基等は全て単なる例示であり、反応に支障が無い限り、特に限定されない。

本発明の一般式（Ｉ）で表される化合物は、例えば、以下に示す合成ルートによって製造することができる。

（式中、各記号は上記と同義であり、Ｒ’はＣ１−Ｃ４アルキルであり、Ｌｅａは脱離基（ハロゲン、トシラート、メシラート等）である。）
（Ａ法）
（工程１）
ピロリジン存在下、化合物（Ａ−１）を化合物（Ａ−２）と反応させることにより、化合物（Ａ−３）を得ることができる。
化合物（Ａ−１）は、市販または既知の方法で合成することができる。
化合物（Ａ−２）は、市販または既知の方法で合成することができる。（Ａ−１）に対して、１−３モル等量用いることができる。
ピロリジンは、化合物（Ａ−１）に対して、１〜１．５モル当量用いることができる。
反応温度は、−２０℃〜溶媒の還流温度、好ましくは室温〜５０℃である。
反応時間は、８〜９６時間、好ましくは１０〜４８時間である。
反応溶媒としては、メタノール、トルエン等が挙げられ、単独または混合して用いることができる。

（工程２）
酸および還元剤存在下、化合物（Ａ−３）を化合物（Ａ−４）と反応させることにより、化合物（Ａ−５）を得ることができる。
化合物（Ａ−４）は、市販または既知の方法で合成することができる。（Ａ−３）に対して、１〜３モル当量用いることができる。
酸としては、酢酸等が挙げられ、（Ａ−３）に対して、１〜３モル当量用いることができる。
反応温度は、０℃〜５０℃、好ましくは１０℃〜室温である。
反応時間は、０．５〜２４時間、好ましくは６〜１２時間である。
反応溶媒としては、メタノール、ＴＨＦ、ジクロロメタン等が挙げられ、単独または混合して用いることができる。

（工程３）
塩基存在下、化合物（Ａ−５）を化合物（Ａ−６）と反応させることにより、化合物（Ａ−７）を得ることができる。
化合物（Ａ−６）は、市販または既知の方法で合成することができる。（Ａ−５）に対して、１〜３モル当量用いることができる。
塩基としては、リチウムジイソプロピルアミド、リチウムビス(トリメチルシリル)アミド等が挙げられ、（Ａ−５）に対して、１〜３モル当量用いることができる。
反応温度は、−７８℃〜−４５℃、好ましくは−７８℃〜−６５℃である。
反応時間は、０．５〜２４時間、好ましくは０．５〜６時間である。
反応溶媒としては、テトラヒドロフラン等が挙げられる。

（工程４）
上記工程３で得られた化合物（Ａ−７）のカルボン酸保護基を脱保護することにより、化合物（Ａ−８）を得ることができる。例えば、上記文献Ａ等に記載の方法を用いることができる。

（工程５）
ベンジルアルコール存在下、化合物（Ａ−８）をＣｕｒｔｉｕｓ転位により化合物（Ａ−９）へと変換する事ができる。
Ｃｕｒｔｉｕｓ転位に用いる試薬としては、ＤＰＰＡ等が挙げられ、（Ａ−８）に対して、１〜５モル当量用いることができる。
ベンジルアルコールは（Ａ−８）に対して、１〜１０モル当量用いることができる。
反応温度は、室温〜溶媒の還流温度、好ましくは５０〜１００℃である。
反応時間は、０．１〜２４時間、好ましくは０．５〜１２時間である。
反応溶媒としては、トルエン、キシレン等が挙げられ、単独または混合して用いることができる。

（工程６）
化合物（Ａ−９）を還元剤と反応させることにより、化合物（Ａ−１０）を得ることができる。
還元剤としては、ボラン−ＴＨＦ錯体、水素化アルミニウムリチウム等が挙げられ、（Ａ−９）に対して、１〜５モル当量用いることができる。
反応温度は、室温〜溶媒の還流温度、好ましくは５０℃〜溶媒の還流温度である。
反応時間は、０．５〜２４時間、好ましくは０．５〜６時間である。
反応溶媒としては、テトラヒドロフラン等が挙げられる。

（工程７）
上記工程６で得られた化合物（Ａ−１０）のアミン保護基を脱保護することにより、化合物（Ａ−１１）を得ることができる。例えば、上記文献Ａ等に記載の方法を用いることができる。

（工程８）
塩基存在下、化合物（Ａ−１１）と化合物（Ａ−１２）を反応させることで、化合物（Ｉ−Ａ）を得ることができる。
化合物（Ａ−１２）は、ＷＯ２０１２／１５８４１３に記載の方法により合成することができる。化合物（Ａ−１１）に対して、１〜１．５モル当量用いることができる。
塩基としては、ピリジン、トリエチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン、Ｎ−メチルモルホリン等が挙げられ、化合物（Ａ−１１）に対して、１〜５モル当量用いることができる。
反応温度は、０℃〜溶媒の還流温度、好ましくは室温〜５０℃である。
反応時間は、０．１〜２４時間、好ましくは０．５〜１２時間である。
反応溶媒としては、ジクロロメタン、クロロホルム、ＴＨＦ、トルエン、ＤＭＦ、ＤＭＳＯ、ジオキサン等が挙げられ、単独または混合して用いることができる。

（式中、各記号は上記と同義であり、Ｌｅａは脱離基（ハロゲン、トシラート、メシラート等）である。）
（Ｂ法）
（工程１）
脱水剤存在下で、化合物（Ｂ−１）を２−メチルプロパン−２−スルフィンアミドと反応させることにより、化合物（Ｂ−２）を得ることができる。
化合物（Ｂ−１）は、市販または既知の方法で合成することができる。
２−メチルプロパン−２−スルフィンアミドは、化合物（Ｂ−１）に対して、１〜１．５モル等量用いることができる。
脱水剤としては、硫酸マグネシウム、硫酸銅などが挙げられ、（Ｂ−１）に対して、１〜３モル当量用いることができる。
反応温度は、−２０℃〜溶媒の還流温度、好ましくは室温〜５０℃である。
反応時間は、１２〜９６時間、好ましくは２４〜４８時間である。
反応溶媒としては、クロロホルム、ジクロロメタン、トルエン等が挙げられ、単独または混合して用いることができる。

（工程２）
塩基存在下、化合物（Ｂ−２）をエチニルトリメチルシランと反応させることにより、化合物（Ｂ−３）を得ることができる。
エチニルトリメチルシランは、（Ｂ−２）に対して、１〜３モル当量用いることができる。
塩基としては、リチウムビス(トリメチルシリル)アミド、ナトリウムビス(トリメチルシリル)アミド、リチウムジイソプロピルアミドなどが挙げられ、（Ｂ−２）に対して、１〜３モル当量用いることができる。
反応温度は、−７８℃〜４０℃、好ましくは−７８℃〜室温である。
反応時間は、０．５〜２４時間、好ましくは０．５〜６時間である。
反応溶媒としては、テトラヒドロフラン、ヘキサン、トルエン等が挙げられ、単独または混合して用いることができる。

（工程３）
化合物（Ｂ−３）をＴＢＡＦと反応させることにより、化合物（Ｂ−４）を得ることができる。
ＴＢＡＦは、（Ｂ−３）に対して、１〜３モル当量用いることができる。
反応温度は、−２０℃〜溶媒の還流温度、好ましくは室温〜５０℃である。
反応時間は、０．５〜２４時間、好ましくは０．５〜６時間である。
反応溶媒としては、テトラヒドロフラン等が挙げられる。

（工程４）
キノリンおよびリンドラー触媒存在下、化合物（Ｂ−４）を接触水素化反応に付すことにより、化合物（Ｂ−５）を得ることができる。
キノリンは、（Ｂ−４）に対して、０．０１〜０．１モル当量用いることができる。
リンドラー触媒は、（Ｂ−４）に対して、０．０１〜０．１モル当量用いることができる。
反応温度は、−２０℃〜溶媒の還流温度、好ましくは室温〜５０℃である。
反応時間は、０．５〜７２時間、好ましくは０．５〜２４時間である。
反応溶媒としては、テトラヒドロフラン、メタノール、酢酸エチル等が挙げられ、単独または混合して用いることができる。

（工程５）
化合物（Ｂ−５）を酸と反応させることにより、化合物（Ｂ−６）を得ることができる。
酸としては、塩酸（ジオキサン溶液）、トリフルオロ酢酸等が挙げられ、（Ｂ−５）に対して、３〜２０モル当量用いることができる。
反応温度は、−２０℃〜溶媒の還流温度、好ましくは室温〜５０℃である。
反応時間は、０．５〜７２時間、好ましくは０．５〜６時間である。
反応溶媒としては、テトラヒドロフラン、メタノール、酢酸エチル等が挙げられ、単独または混合して用いることができる。

（工程６）
塩基存在下、化合物（Ｂ−６）を二炭酸ジ−ｔｅｒｔ−ブチルと反応させることにより、化合物（Ｂ−７）を得ることができる。
二炭酸ジ−ｔｅｒｔ−ブチルは、（Ｂ−６）に対して、１〜２モル当量用いることができる。
塩基としては、炭酸ナトリウム、炭酸カリウムなどが挙げられ、（Ｂ−６）に対して、１〜１０モル当量用いることができる。
反応温度は、−２０℃〜溶媒の還流温度、好ましくは室温〜５０℃である。
反応時間は、０．５〜２４時間、好ましくは０．５〜１２時間である。
反応溶媒としては、テトラヒドロフラン、メタノール、水等が挙げられ、単独または混合して用いることができる。

（工程７）
化合物（Ｂ−７）を９−ボラビシクロ［３．３．１］ノナンと反応させた後に、水酸化ナトリウムおよび過酸化水素水で処理することにより、化合物（Ｂ−８）を得ることができる。
９−ボラビシクロ［３．３．１］ノナンは、（Ｂ−７）に対して、１〜３モル当量用いることができる。
水酸化ナトリウムは（Ｂ−７）に対して、５〜１０モル当量用いることができる。
過酸化水素水は（Ｂ−７）に対して、５〜１５０モル当量用いることができる。
反応温度は、−２０℃〜溶媒の還流温度、好ましくは−２０℃〜室温である。
反応時間は、０．５〜２４時間、好ましくは０．５〜１２時間である。
反応溶媒としては、テトラヒドロフラン、水等が挙げられ、単独または混合して用いることができる。

（工程８）
イミダゾール存在下、化合物（Ｂ−８）をトリフェニルホスフィンおよびヨウ素と反応させることにより、化合物（Ｂ−９）を得ることができる。
トリフェニルホスフィンは、（Ｂ−８）に対して、１〜２モル当量用いることができる。
ヨウ素は、（Ｂ−８）に対して、１〜２モル当量用いることができる。
イミダゾールは（Ｂ−８）に対して、１〜３モル当量用いることができる。
反応温度は、−２０℃〜溶媒の還流温度、好ましくは−２０℃〜室温である。
反応時間は、０．５〜２４時間、好ましくは０．５〜１２時間である。
反応溶媒としては、ジクロロメタン、テトラヒドロフラン、トルエン等が挙げられ、単独または混合して用いることができる。

（工程９）
化合物（Ｂ−９）を亜硝酸ナトリウムと反応させることにより、化合物（Ｂ−１０）を得ることができる。
亜硝酸ナトリウムは、（Ｂ−９）に対して、１〜１０モル当量用いることができる。
反応温度は、−２０℃〜溶媒の還流温度、好ましくは−２０℃〜室温である。
反応時間は、０．５〜２４時間、好ましくは０．５〜１２時間である。
反応溶媒としては、ＤＭＦ、ＮＭＰ等が挙げられ、単独または混合して用いることができる。

（工程１０）
上記工程９で得られた化合物（Ｂ−１０）のアミン保護基を脱保護することにより、化合物（Ｂ−１１）を得ることができる。例えば、上記文献Ａ等に記載の方法を用いることができる。

（工程１１）
脱水剤および塩基存在下、化合物（Ｂ−１１）を化合物（Ｂ−１２）と反応させることにより、化合物（Ｂ−１３）を得ることができる。
化合物（Ｂ−１２）は、市販または既知の方法で合成することができ、（Ｂ−１１）に対して、１〜２モル等量用いることができる。
脱水剤としては、硫酸マグネシウム、硫酸ナトリウム等が挙げられ、（Ｂ−１１）に対して、１〜３モル等量用いることができる。
塩基としては、トリエチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン等が挙げられ、（Ｂ−１１）に対して、０．１〜３モル等量用いることができる。
反応温度は、−２０℃〜溶媒の還流温度、好ましくは室温〜溶媒の還流温度である。
反応時間は、０．５〜９６時間、好ましくは０．５〜２４時間である。
反応溶媒としては、ジクロロメタン、トルエン等が挙げられ、単独または混合して用いることができる。

（工程１２）
塩基存在下、化合物（Ｂ−１３）を化合物（Ｂ−１４）と反応させることにより、化合物（Ｂ−１５）を得ることができる。
化合物（Ｂ−１４）は、市販または既知の方法で合成することができ、（Ｂ−１３）に対して、１〜５モル等量用いることができる。
塩基としては、トリエチルアミン、ジイソプロピルエチルアミンが挙げられ、（Ｂ−１３）に対して、１〜１０モル等量用いることができる。
反応温度は、−２０℃〜溶媒の還流温度、好ましくは０℃〜溶媒の還流温度である。
反応時間は、０．５〜２４時間、好ましくは０．５〜５時間である。
反応溶媒としては、トルエン、ジクロロメタン、アセトニトリル等が挙げられ、単独または混合して用いることができる。

（工程１３）
化合物（Ｂ−１５）を第２世代Ｇｒｕｂｂｓ触媒と反応させることにより、化合物（Ｂ−１６）を得ることができる。
第２世代Ｇｒｕｂｂｓ触媒は、（Ｂ−１６）に対して、０．０１−０．１モル等量用いることができる。
反応温度は、５０℃〜溶媒の還流温度、好ましくは８０℃〜溶媒の還流温度である。
反応時間は、０．５〜２４時間、好ましくは０．５〜１２時間である。
反応溶媒としては、トルエン、キシレン等が挙げられ、単独または混合して用いることができる。

（工程１４）
塩化アンモニウム存在下、化合物（Ｂ−１６）を亜鉛と反応させることにより、化合物（Ｂ−１７）を得ることができる。
亜鉛は、（Ｂ−１６）に対して、５〜２０モル等量用いることができる。
塩化アンモニウムは、（Ｂ−１６）に対して、１０〜１００モル等量用いることができる。
反応温度は、−２０℃〜溶媒の還流温度、好ましくは室温〜溶媒の還流温度である。
反応時間は、０．５〜２４時間、好ましくは０．５〜６時間である。
反応溶媒としては、メタノール、エタノール、テトラヒドロフラン等が挙げられ、単独または混合して用いることができる。

（工程１５）
水素雰囲気下、化合物（Ｂ−１７）を触媒存在下で撹拌することにより、化合物（Ｂ−１８）を得ることができる。
触媒としては、パラジウム−炭素、酸化白金、水酸化パラジウム等が挙げられ、（Ｂ−１８）に対して、０．０１〜０．１モル等量用いることができる。
反応温度は、室温〜溶媒の還流温度、好ましくは室温〜５０℃である。
反応時間は、０．５〜９６時間、好ましくは０．５〜１８時間である。
反応溶媒としては、テトラヒドロフラン、メタノール、エタノール等が挙げられ、単独または混合して用いることができる。

（工程１６）
上記工程１５で得られた化合物（Ｂ−１８）から、上記Ａ法の工程８に従い、化合物（Ｉ−Ｂ）を得ることができる。

（式中、各記号は上記と同義であり、Ｌｅａは脱離基（ハロゲン、トシラート、メシラート等）である。）
（Ｃ法）
（工程１）
市販または既知の方法で合成することができる化合物（Ｃ−１）のヒドロキシル基をＴＨＰ基で保護することにより、化合物（Ｃ−２）を得ることができる。例えば、上記文献Ａ等に記載の方法を用いることができる。

（工程２）
化合物（Ｃ−２）をマグネシウムおよびヨウ素で処理した後、化合物（Ｃ−３）と反応させることにより、化合物（Ｃ−４）を得ることができる。
マグネシウムは、（Ｃ−２）に対して、１〜２モル当量用いることができる。
ヨウ素は、化合物（Ｃ−２）に対して、０．００１〜０．０１モル当量用いることができる。
化合物（Ｃ−３）は、市販または既知の方法で合成することができる。化合物（Ｃ−２）に対して、１〜５モル当量用いることができる。
反応温度は、−２０℃〜溶媒の還流温度、好ましくは０℃〜６０℃である。
反応時間は、０．５〜２４時間、好ましくは０．５〜２時間である。
反応溶媒としては、ＴＨＦ等が挙げられる。

（工程３）
塩基存在下、化合物（Ｃ−４）を塩化パラトルエンスルホニルと反応させることにより、化合物（Ｃ−５）を得ることができる。
塩化パラトルエンスルホニルは、（Ｃ−４）に対して、１〜３モル当量用いることができる。
塩基としては、トリエチルアミン、ピリジン等が挙げられ、（Ｃ−４）に対して、１〜３モル当量用いることができる。DMAPを０．０１〜０．１モル等量添加する事もできる。
反応温度は、−２０℃〜室温、好ましくは−１０℃〜１０℃である。
反応時間は、０．５〜２４時間、好ましくは０．５〜１２時間である。
反応溶媒としては、ジクロロメタン、ジクロロエタン等が挙げられる。

（工程４）
上記工程３で得られた化合物（Ｃ−５）のＴＨＰ基を脱保護することにより、化合物（Ｃ−６）を得ることができる。例えば、上記文献Ａ等に記載の方法を用いることができる。

（工程５）
化合物（Ｃ−６）を二酸化マンガンで処理することにより、化合物（Ｃ−７）を得る事ができる。
二酸化マンガンは（Ｃ−６）に対して、５〜３０モル当量用いることができる。
反応温度は、室温〜溶媒の還流温度、好ましくは室温〜５０℃である。
反応時間は、０．１〜２４時間、好ましくは０．５〜１２時間である。
反応溶媒としては、ジクロロメタン等が挙げられる。

（工程６）
上記工程５で得られた化合物（Ｃ−７）および上記Ｂ法の工程１０で得られる化合物（Ｂ−１１）から、上記Ｂ法の工程１１に従い、化合物（Ｃ−８）を得ることができる。

（工程７）
上記工程６で得られた化合物（Ｃ−８）から、上記Ｂ法の工程１４に従い、化合物（Ｃ−９）を得ることができる。

（工程８）
上記工程７で得られた化合物（Ｃ−９）から、上記Ａ法の工程８に従い、化合物（Ｉ−Ｃ）を得ることができる。

（式中、各記号は上記と同義であり、Ｒ’はＣ１−Ｃ４アルキルまたは置換スルホニルである。）
（Ｄ法）
（工程１）
パラジウム触媒および塩基存在下、化合物（Ｄ−１）をアクリル酸エステルと反応させることにより、化合物（Ｄ−２）を得ることができる。リガンドを添加することもできる。
化合物（Ｄ−１）は、市販または既知の方法で合成することができる。
パラジウム触媒としては、酢酸パラジウム、ビス（トリ−ｔｅｒｔ−ブチルホスフィン）パラジウム等が挙げられ、化合物（Ｄ−１）に対して、０．０１〜０．１モル当量用いることができる。
リガンドとしては、トリフェニルホスフィン、トリ（ｏ-トリル）ホスフィン等が挙げられ、化合物（Ｄ−１）に対して、０．０２〜０．２モル当量用いることができる。
塩基としては、トリエチルアミン、炭酸カリウム、酢酸ナトリウム等が挙げられ、化合物（Ｄ−１）に対して、１〜５モル当量用いることができる。
反応温度は、室温〜溶媒の還流温度、好ましくは８０℃〜溶媒の還流温度である。
反応時間は、１〜９６時間、好ましくは３〜１２時間である。
反応溶媒としては、Ｎ−メチルピロリドン、ジメチルアセトアミド等が挙げられ、単独または混合して用いることができる。

（工程２）
ロジウム触媒および塩基存在下、化合物（Ｄ−２）を化合物（Ｄ−３）と反応させることにより、化合物（Ｄ−４）を得ることができる。
化合物（Ｄ−３）は、市販または既知の方法で合成することができる。（Ｄ−２）に対して、１〜３モル当量用いることができる。
ロジウム触媒としては、クロロ（１、５−シクロオクタジエン）ロジウムダイマー等が挙げられ、（Ｄ−２）に対して、０．０１〜０．１モル当量用いることができる。
反応温度は、室温〜１２０℃、好ましくは４０〜８０℃である。
反応時間は、０．５〜２４時間、好ましくは１〜５時間である。
反応溶媒としては、メタノール、エタノール等が挙げられ、単独または混合して用いることができる。

（工程３）
化合物（Ｄ−４）を塩基で処理することにより、化合物（Ｄ−５）を得ることができる。
塩基としては、リチウムジイソプロピルアミド、リチウムビス(トリメチルシリル)アミド等が挙げられ、（Ｄ−４）に対して、１〜３モル当量用いることができる。
反応温度は、−７８℃〜室温、好ましくは−２０〜０℃である。
反応時間は、０．５〜２４時間、好ましくは０．５〜６時間である。
反応溶媒としては、テトラヒドロフラン等が挙げられる。

（工程４）
上記工程３で得られた化合物（Ｄ−５）のカルボン酸保護基を脱保護することにより、化合物（Ｄ−６）を得ることができる。例えば、上記文献Ａ等に記載の方法を用いることができる。

（工程５）
上記工程４で得られた化合物（Ｄ−６）のカルボキシル基をＣｕｒｔｉｕｓ転位により、アミノ基へ変換する工程である。
Ｃｕｒｔｉｕｓ転位に用いる試薬としては、ＤＰＰＡ等が挙げられ、（Ｄ−６）に対して、１〜５モル当量用いることができる。
反応温度は、室温〜溶媒の還流温度、好ましくは５０〜１００℃である。
反応時間は、０．１〜２４時間、好ましくは０．５〜１２時間である。
反応溶媒としては、２−（トリメチルシリル）エタノール、ｔ−ＢｕＯＨ、ベンジルアルコール等を用いることができる。
反応溶媒としてトルエン、ベンゼン等を用いることもできる。この場合イソシアネートを合成した後に、上記アルコールを加えることでカルバメートを得ることができる。
上記アルコールは、（Ｄ−６）に対して、１〜５モル当量用いることができる。
得られたカルバメート体は、上記文献Ａ等に記載の方法に従って脱保護を行い、化合物（Ｄ−７）を得ることができる。

（工程６）
上記工程５で得られた化合物（Ｄ−７）から、上記Ａ法の工程８に従い、化合物（Ｉ−Ｄ）を得ることができる。

（式中、各記号は上記と同義であり、Ｒは置換もしくは非置換のアルキル、Ｌｅａは脱離基（ハロゲン、トシラート、メシラート等）である。）
（Ｅ法）
（工程１）
触媒存在下、化合物（Ｅ−１）を化合物（Ｅ−２）と反応させることにより、化合物（Ｅ−３）を得ることができる。
化合物（Ｅ−１）は、市販または既知の方法で合成することができる。
化合物（Ｅ−２）は、市販または既知の方法で合成することができ、（Ｅ−１）に対して、１〜３モル等量用いることができる。
触媒としては、３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−Ｎ（（Ｓ−（（１Ｓ，２Ｓ，４Ｓ，５Ｒ）−５−メチルキヌクリジン−２−イル）（６−メチルキノリン−４−イル）メチル）ベンズアミドなどが挙げられ、（Ｅ−１）に対して、０．０５〜０．１５モル当量用いることができる。
反応温度は、０℃〜溶媒の還流温度、好ましくは室温〜５０℃である。
反応時間は、１２〜９６時間、好ましくは２４〜４８時間である。
反応溶媒としては、トルエン等が挙げられる。

（工程２）
化合物（Ｅ−３）をラネーニッケルと反応させることにより、化合物（Ｅ−４）を得ることができる。
ラネーニッケルは、（Ｅ−３）に対して、１〜５モル当量用いることができる。
反応温度は、−２０℃〜溶媒の還流温度、好ましくは室温〜溶媒の還流温度である。
反応時間は、０．５〜２４時間、好ましくは０．５〜６時間である。
反応溶媒としては、テトラヒドロフラン、メタノール、エタノール等が挙げられ、単独または混合して用いることができる。

（工程３）
塩基存在下、化合物（Ｅ−４）を二炭酸ジ−ｔｅｒｔ−ブチルと反応させることにより、化合物（Ｅ−５）を得ることができる。
二炭酸ジ−ｔｅｒｔ−ブチルは、（Ｅ−４）に対して、１〜２モル当量用いることができる。
塩基としては、炭酸ナトリウム、炭酸カリウムなどが挙げられ、（Ｅ−４）に対して、１〜１０モル当量用いることができる。
反応温度は、−２０℃〜溶媒の還流温度、好ましくは室温〜５０℃である。
反応時間は、０．５〜２４時間、好ましくは０．５〜１２時間である。
反応溶媒としては、テトラヒドロフラン、ジクロロメタン、メタノール、水等が挙げられ、単独または混合して用いることができる。

（工程４）
化合物（Ｅ−５）を還元剤と反応させることにより、化合物（Ｅ−６）を得ることができる。
還元剤としては、水素化アルミニウムリチウム、水素化ホウ素リチウム等が挙げられ、（Ｅ−５）に対して、１〜３モル当量用いることができる。
反応温度は、−２０℃〜溶媒の還流温度、好ましくは０℃〜５０℃である。
反応時間は、０．５〜７２時間、好ましくは０．５〜２４時間である。
反応溶媒としては、テトラヒドロフラン等が挙げられる。

（工程５）
化合物（Ｅ−６）をセレノシアン酸２−ニトロフェニルおよびトリブチルホスフィンと反応させることにより、化合物（Ｅ−７）を得ることができる。
セレノシアン酸２−ニトロフェニルは、（Ｅ−６）に対して、１〜３モル当量用いることができる。
トリブチルホスフィンは、（Ｅ−６）に対して、１〜３モル当量用いることができる。
反応温度は、−２０℃〜５０℃、好ましくは０℃〜室温である。
反応時間は、０．５〜７２時間、好ましくは０．５〜１８時間である。
反応溶媒としては、テトラヒドロフラン等が挙げられる。

（工程６）
化合物（Ｅ−７）を過酸化物と反応させることにより、化合物（Ｅ−８）を得ることができる。
過酸化物としては、過酸化水素水およびメタクロロ過安息香酸等が挙げられ、（Ｅ−７）に対して、５〜３０モル当量用いることができる。
反応温度は、−２０℃〜５０℃、好ましくは０℃〜室温である。
反応時間は、０．５〜７２時間、好ましくは０．５〜１８時間である。
反応溶媒としては、テトラヒドロフラン等が挙げられる。

（工程７）
上記工程６で得られた化合物（Ｅ−８）のアミン保護基を脱保護することにより、化合物（Ｅ−９）を得ることができる。例えば、上記文献Ａ等に記載の方法を用いることができる。

（工程８）
上記工程７で得られた化合物（Ｅ−９）から、上記Ａ法の工程８に従い、化合物（Ｅ−１０）を得ることができる。

（工程９）
再酸化剤存在下、化合物（Ｅ−１０）を、オスミウム(ＶＩ）酸カリウム二水和物と反応させることにより、化合物（Ｅ−１１）を得ることができる。
オスミウム(ＶＩ）酸カリウム二水和物は、（Ｅ−１０）に対して、０．０１〜０．１モル当量用いることができる。
再酸化剤としてはＮＭＯ等が挙げられ、（Ｅ−１０）に対して、１〜３モル当量用いることができる。
反応温度は、−２０℃〜５０℃、好ましくは０℃〜室温である。
反応時間は、０．５〜７２時間、好ましくは０．５〜１８時間である。
反応溶媒としては、テトラヒドロフラン、アセトン、ｔ−ブタノール、水等が挙げられ、単独または混合して用いることができる。

（工程１０）
塩基存在下、化合物（Ｅ−１１）を、塩化メタンスルホニルと反応させることにより、化合物（Ｅ−１２）を得ることができる。
塩化メタンスルホニルは、（Ｅ−１１）に対して、１〜２モル当量用いることができる。
塩基としてはトリエチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン等が挙げられ、（Ｅ−１１）に対して、１〜３モル当量用いることができる。
反応温度は、−２０℃〜５０℃、好ましくは０℃〜室温である。
反応時間は、０．５〜７２時間、好ましくは０．５〜３時間である。
反応溶媒としては、テトラヒドロフラン、ジクロロメタン等が挙げられ、単独または混合して用いることができる。

（工程１１）
化合物（Ｅ−１２）を、化合物（Ｅ−１３）と反応させることにより、化合物（Ｅ−１４）を得ることができる。
化合物（Ｅ−１３）は、市販または既知の方法で合成することができ、（Ｅ−１２）に対して、１〜５モル当量用いることができる。
反応温度は、−２０℃〜溶媒の還流温度、好ましくは０℃〜室温である。
反応時間は、０．５〜７２時間、好ましくは０．５〜３時間である。
反応溶媒としては、テトラヒドロフラン、ＤＭＦ等が挙げられ、単独または混合して用いることができる。

（工程１２）
超音波照射下で、化合物（Ｅ−１４）を、マグネシウムと反応させることにより、化合物（Ｅ−１５）を得ることができる。
マグネシウムは、（Ｅ−１４）に対して、５〜２０モル当量用いることができる。
反応温度は、０℃〜溶媒の還流温度、好ましくは０℃〜室温である。
反応時間は、０．５〜７２時間、好ましくは０．５〜３時間である。
反応溶媒としては、メタノール等が挙げられる。

（工程１３）
酸および還元剤存在下、化合物（Ｅ−１５）を化合物（Ｅ−１６）と反応させることにより、化合物（Ｅ−１７）を得ることができる。
化合物（Ｅ−１６）は、市販または既知の方法で合成することができ、（Ｅ−１５）に対して、１〜３モル等量用いることができる。
還元剤としては、水素化トリアセトキシホウ素ナトリウム、シアノ水素化ホウ素ナトリウムが挙げられ、（Ｅ−１５）に対して、１〜１０モル等量用いることができる。
酸としては、酢酸等が挙げられ、（Ｅ−１５）に対して、０．１〜１モル等量用いることができる。
反応温度は、−２０℃〜５０℃、好ましくは０℃〜室温である。
反応時間は、０．５〜２４時間、好ましくは０．５〜１２時間である。
反応溶媒としては、テトラヒドロフラン、ジクロロメタン、メタノール等が挙げられ、単独または混合して用いることができる。

（工程１４）
化合物（Ｅ−１７）をヨウ化ナトリウムと反応させることにより、化合物（Ｉ−Ｅ）を得ることができる。
ヨウ化ナトリウムは、（Ｅ−１７）に対して、１−３０モル等量用いることができる。
反応温度は、室温〜溶媒の還流温度、好ましくは５０℃〜１００℃である。
反応時間は、０．５〜２４時間、好ましくは０．５〜１２時間である。
反応溶媒としては、ＤＭＦ、ＮＭＰ等が挙げられ、単独または混合して用いることができる。

（式中、各記号は上記と同義であり、Ｒ’は置換もしくは非置換のアルキルであり、Ｌｅａは脱離基（ハロゲン、トシラート、メシラート等）である。）
（Ｆ法）
（工程１）
塩基存在下、化合物（Ｆ−１）を化合物（Ｆ−２）と反応させることにより、化合物（Ｆ−３）を得ることができる。
化合物（Ｆ−１）は、市販または既知の方法で合成することができる。
化合物（Ｆ−２）は、市販または既知の方法で合成することができ、（Ｆ−１）に対して、１〜３モル等量用いることができる。
塩基としては、水素化ナトリウム、ナトリウムメトキシドなどが挙げられ、（Ｆ−１）に対して、１〜３モル当量用いることができる。
反応温度は、０℃〜溶媒の還流温度、好ましくは４０℃〜７０℃である。
反応時間は、１〜２４時間、好ましくは２〜８時間である。
反応溶媒としては、テトラヒドロフラン、ＤＭＦ等が挙げられ、単独または混合して用いることができる。

（工程２）
化合物（Ｆ−３）をヨウ化サマリウムと反応させることにより、化合物（Ｆ−４）を得ることができる。
ヨウ化サマリウムは、（Ｆ−３）に対して、１〜５モル当量用いることができる。
反応温度は、−２０℃〜溶媒の還流温度、好ましくは０℃〜室温である。
反応時間は、０．５〜２４時間、好ましくは０．５〜６時間である。
反応溶媒としては、テトラヒドロフランが挙げられる。

（工程３）
化合物（Ｆ−４）をトリメチルオキソニウムテトラフルオロボラートと反応させ，次いで還元剤と反応させることにより、化合物（Ｆ−５）を得ることができる。
トリメチルオキソニウムテトラフルオロボラートは、（Ｆ−４）に対して、１〜２モル当量用いることができる。
還元剤としては、シアノ水素化ホウ素ナトリウム、ジボランなどが挙げられ、（Ｆ−４）に対して、１〜１０モル当量用いることができる。
反応温度は、−２０℃〜溶媒の還流温度、好ましくは室温〜５０℃である。
反応時間は、０．５〜２４時間、好ましくは０．５〜１２時間である。
反応溶媒としては、テトラヒドロフラン、メタノール等が挙げられ、単独または混合して用いることができる。

（工程４）
塩基存在下、化合物（Ｆ−５）を化合物（Ｆ−６）と反応させることにより、化合物（Ｆ−７）を得ることができる。
化合物（Ｆ−６）は、市販または既知の方法で合成することができ、（Ｆ−５）に対して、１〜２モル当量用いることができる。
塩基としては、ジイソプロピルエチルアミン、炭酸カリウムなどが挙げられ、（Ｆ−５）に対して、１〜５モル当量用いることができる。
反応温度は、−２０℃〜溶媒の還流温度、好ましくは室温〜８０℃である。
反応時間は、０．５〜２４時間、好ましくは０．５〜１２時間である。
反応溶媒としては、テトラヒドロフラン、アセトニトリル、ＤＭＦ等が挙げられ、単独または混合して用いることができる。

（工程５）
上記工程４で得られた化合物（Ｆ−７）のカルボン酸保護基を脱保護することにより、化合物（Ｆ−８）を得ることができる。例えば、上記文献Ａ等に記載の方法を用いることができる。

（工程６）
ベンジルアルコール存在下、化合物（Ｆ−８）をＣｕｒｔｉｕｓ転位により化合物（Ｆ−９）へと変換する事ができる。
Ｃｕｒｔｉｕｓ転位に用いる試薬としては、ＤＰＰＡ等が挙げられ、（Ｆ−８）に対して、１〜５モル当量用いることができる。
ベンジルアルコールは（Ｆ−８）に対して、１〜１０モル当量用いることができる。
反応温度は、室温〜溶媒の還流温度、好ましくは５０〜１００℃である。
反応時間は、０．１〜２４時間、好ましくは０．５〜１２時間である。
反応溶媒としては、トルエン、キシレン等が挙げられ、単独または混合して用いることができる。

（工程７）
上記工程６で得られた化合物（Ｆ−９）から、上記Ａ法の工程７、８に従い、化合物（Ｉ−Ｆ）を得ることができる。

上記一般合成法により、得られた式（Ｉ）または式（ＩＡ）で示される化合物は、公知の手段（例えば、クロマトグラフィー、再結晶など）によって単離精製することができる。

本発明に係る化合物は、ＴｒｋＡ阻害作用を有するため、変形性関節炎、関節リウマチ、骨折、間質性膀胱炎、慢性膵炎、および前立腺炎に伴う痛み；また、慢性腰痛、糖尿病性末梢神経障害痛、術後痛、骨盤痛、癌性疼痛などに代表される侵害受容性疼痛、神経障害性疼痛、急性痛および慢性疼痛；並びに、がん、炎症性疾患、アレルギー性疾患および皮膚疾患などの治療剤及び／又は予防剤として有用である。
本発明に係る化合物は、ＴｒｋＡ阻害作用のみならず、医薬としての有用性を備えており、下記いずれか、あるいは全ての優れた特徴を有している。
ａ）ＣＹＰ酵素（例えば、ＣＹＰ１Ａ２、ＣＹＰ２Ｃ９、ＣＹＰ２Ｃ１９、ＣＹＰ２Ｄ６、ＣＹＰ３Ａ４等）に対する阻害作用が弱い。
ｂ）高いバイオアベイラビリティー、適度なクリアランス等良好な薬物動態を示す。
ｃ）代謝安定性が高い。
ｄ）ＣＹＰ酵素（例えば、ＣＹＰ３Ａ４）に対し、本明細書に記載する測定条件の濃度範囲内で不可逆的阻害作用を示さない。
ｅ）変異原性を有さない。
ｆ）心血管系のリスクが低い。
ｇ）高い溶解性を示す。
ｈ）高いＴｒｋＡ受容体選択性を有している。

本発明の医薬組成物は、経口的、非経口的のいずれの方法でも投与することができる。非経口投与の方法としては、経皮、皮下、静脈内、動脈内、筋肉内、腹腔内、経粘膜、吸入、経鼻、点眼、点耳、膣内投与等が挙げられる。

本発明の医薬組成物を経口投与する場合は、常法に従って、内用固形製剤（例えば、錠剤、散剤、顆粒剤、カプセル剤、丸剤、フィルム剤等）、内用液剤（例えば、懸濁剤、乳剤、エリキシル剤、シロップ剤、リモナーデ剤、酒精剤、芳香水剤、エキス剤、煎剤、チンキ剤等）等の通常用いられるいずれの剤型に調製して投与すればよい。錠剤は、糖衣錠、フィルムコーティング錠、腸溶性コーティング錠、徐放錠、トローチ錠、舌下錠、バッカル錠、チュアブル錠または口腔内崩壊錠であってもよく、散剤および顆粒剤はドライシロップであってもよく、カプセル剤は、ソフトカプセル剤、マイクロカプセル剤または徐放性カプセル剤であってもよい。

本発明の医薬組成物を非経口投与する場合は、注射剤、点滴剤、外用剤（例えば、点眼剤、点鼻剤、点耳剤、エアゾール剤、吸入剤、ローション剤、注入剤、塗布剤、含嗽剤、浣腸剤、軟膏剤、硬膏剤、ゼリー剤、クリーム剤、貼付剤、パップ剤、外用散剤、坐剤等）等の通常用いられるいずれの剤型でも好適に投与することができる。注射剤は、Ｏ／Ｗ、Ｗ／Ｏ、Ｏ／Ｗ／Ｏ、Ｗ／Ｏ／Ｗ型等のエマルジョンであってもよい。

本発明に係る化合物の有効量にその剤型に適した賦形剤、結合剤、崩壊剤、滑沢剤等の各種医薬用添加剤を必要に応じて混合し、医薬組成物とすることができる。さらに、該医薬組成物は、本発明に係る化合物の有効量、剤型および／または各種医薬用添加剤を適宜変更することにより、小児用、高齢者用、重症患者用または手術用の医薬組成物とすることもできる。小児用医薬組成物は、１２歳または１５歳未満の患者に投与するのが好ましい。また、小児用医薬組成物は、出生後２７日未満、出生後２８日〜２３か月、２歳〜１１歳または１２歳〜１７歳若しくは１８歳の患者に投与されうる。高齢者用医薬組成物は、６５歳以上の患者に投与するのが好ましい。

本発明に係る化合物の投与量は、患者の年齢、体重、疾病の種類や程度、投与経路等を考慮した上で設定することが望ましいが、経口投与する場合、通常０．０５〜１００ｍｇ／ｋｇ／日であり、好ましくは０．１〜１０ｍｇ／ｋｇ／日の範囲内である。非経口投与の場合には投与経路により大きく異なるが、通常０．００５〜１０ｍｇ／ｋｇ／日であり、好ましくは０．０１〜１ｍｇ／ｋｇ／日の範囲内である。これを１日１回〜数回に分けて投与すれば良い。

本発明に係る化合物は、該化合物の作用の増強または該化合物の投与量の低減等を目的として、疼痛治療剤、抗炎症剤、抗がん剤等（以下、併用薬剤と称する）と組み合わせて用いることができる。この際、本発明に係る化合物と併用薬剤の投与時期は限定されず、これらを投与対象に対し、同時に投与してもよいし、時間差をおいて投与してもよい。さらに、本発明に係る化合物と併用薬剤とは、それぞれの活性成分を含む２種類の製剤として投与されてもよいし、両方の活性成分を含む単一の製剤として投与されてもよい。

併用薬剤の投与量は、臨床上用いられている用量を基準として適宜選択することができる。また、本発明に係る化合物と併用薬剤の配合比は、投与対象、投与ルート、対象疾患、症状、組み合わせ等により適宜選択することができる。例えば、投与対象がヒトである場合、本発明に係る化合物１重量部に対し、併用薬剤を０．０１〜１００重量部用いればよい。

疼痛治療剤としては、例えば、シクロオキシゲナーゼ阻害剤（例、ケトプロフェン、セレコキシブ）、神経障害治療剤（例、プレガバリン）、抗うつ剤（例、デュロキセチン、アミトリプチリン）、オピオイド受容体作動剤（例、モルヒネ、トラマドール）、局所麻酔剤（例、リドカイン）、ケタミン、アセタミノフェン等が挙げられる。
抗炎症剤としては、例えば、ステロイド剤（例、プレドニゾロン）、抗ヒスタミン剤（例、ロラタジン）等が挙げられる。

抗がん剤としては、例えば、分子標的剤（例、ラパチニブ、リツキシマブ）、アルキル化剤（例、シクロホスファミド）、代謝拮抗剤（例、メトトレキサート）、アルカロイド剤（例、パクリタキセル）、プラチナ剤（例、オキサリプラチン）、ホルモン剤（例、タモキシフェン、リュープロレリン）等が挙げられる。

以下に実施例および参考例、ならびに試験例を挙げて本発明をさらに詳しく説明するが、本発明はこれらにより限定されるものではない。

また、本明細書中で用いる略語は以下の意味を表す。
９−ＢＢＮ：９−ボラビシクロ［３．３．１］ノナン
Ｂｏｃ：ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル
ＣＤＣｌ_３：重クロロホルム
ＣＨ_２Ｃｌ_２：ジクロロメタン
ＤＡＢＣＯ：１、４−ジアザビシクロ［２、２、２］オクタン
ＤＭＡＰ：Ｎ，Ｎ−ジメチル−４−アミノピリジン
ＤＭＦ：Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド
ＤＭＳＯ：ジメチルスルホキシド
ＤＰＰＡ：ジフェニルリン酸アジド
Ｅｔ：エチル
ＨＰＬＣ：高速液体クロマトグラフィー
ＬＨＭＤＳ：リチウムビス(トリメチルシリル)アミド
Ｍｅ：メチル
ＭｅＯＨ：メタノール
Ｍｓ：メタンスルホニル
Ｎａ_２ＣＯ_３：炭酸ナトリウム
ＮＨ_４Ｃｌ：塩化アンモニウム
ＮＭＯ：Ｎ−メチルモルホリン Ｎ−オキシド
ＮＭＰ：Ｎ−メチル−２−ピロリドン
ＮＯ_２：ニトロ
Ｐｈ：フェニル
ＴＢＡＦ：フッ化テトラ−ｎ−ブチルアンモニウム
ＴＦＡ：トリフルオロ酢酸
ＴＨＦ：テトラヒドロフラン
ＴＨＰ：テトラヒドロピラニル
ＴＬＣ：薄層クロマトグラフィー
ＴＭＳ：トリメチルシリル
Ｔｓ：パラトルエンスルホニル

各実施例で得られたＮＭＲ分析は４００ＭＨｚで行い、ＤＭＳＯ−ｄ_６、ＣＤＣｌ_３を用いて測定した。また、ＮＭＲデータを示す場合は、測定した全てのピークを記載していない場合が存在する。
明細書中にＲＴとあるのは、ＬＣ／ＭＳ：液体クロマトグラフィー／質量分析でのリテンションタイムを表し、以下の条件で測定した。
（メソッド１）
カラム：Ｓｈｉｍ−ｐａｃｋ ＸＲ−ＯＤＳ （２．２μｍ、ｉ．ｄ．５０ｘ３．０ｍｍ） （Ｓｈｉｍａｄｚｕ）
流速：１．６ｍＬ／分
ＵＶ検出波長：２５４ｎｍ
移動相：［Ａ］は０．１％ギ酸含有水溶液、［Ｂ］は０．１％ギ酸含有アセトニトリル溶液
グラジエント：３分間で１０％−１００％溶媒［Ｂ］のリニアグラジエントを行い、０．５分間、１００％溶媒［Ｂ］を維持した。
（メソッド２）
カラム：ＡＣＱＵＩＴＹ ＵＰＬＣ（登録商標）ＢＥＨ Ｃ１８ （１．７μｍ ｉ．ｄ．２．１ｘ５０ｍｍ） （Ｗａｔｅｒｓ）
流速：０．８ｍＬ／分
ＵＶ検出波長：２５４ｎｍ
移動相：［Ａ］は０．１％ギ酸含有水溶液、［Ｂ］は０．１％ギ酸含有アセトニトリル溶液
グラジエント：３．５分間で５％−１００％溶媒［Ｂ］のリニアグラジエントを行った後、０．５分間、１００％溶媒［Ｂ］を維持した。
なお、明細書中、ＭＳ（ｍ／ｚ）との記載は、質量分析で観測された値を示す。
（メソッド３）
カラム：ＡＣＱＵＩＴＹ ＵＰＬＣ（登録商標）ＢＥＨ Ｃ１８ （１．７μｍ ｉ．ｄ．２．１ｘ５０ｍｍ） （Ｗａｔｅｒｓ）
流速：０．８ｍＬ／分
ＵＶ検出波長：２５４ｎｍ
移動相：［Ａ］は１０ｍＭ炭酸アンモニウム含有水溶液、［Ｂ］はアセトニトリル
グラジエント：３．５分間で５％−１００％溶媒［Ｂ］のリニアグラジエントを行った後、０．５分間、１００％溶媒［Ｂ］を維持した。
なお、明細書中、ＭＳ（ｍ／ｚ）との記載は、質量分析で観測された値を示す。

（参考例１） 化合物Ｚの合成

工程１ 化合物２の合成
窒素雰囲気下、化合物１（５ｇ，５６．７ｍｍｏｌ）をジクロロメタン（１２５ｍＬ）に溶解し、（Ｒ）−２−メチルプロパン−２−スルフィンアミド（６．８８ｇ，５６．７ｍｍｏｌ）、無水硫酸銅（１９．９ｇ、１２５ｍｍｏｌ）を加え、室温で２日間撹拌した。
混合物をセライトで濾過し、ろ液を濃縮して、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン−酢酸エチル）により精製して化合物２（１０．９ｇ、収率９２％）を得た。
¹H-NMR (CDCl₃) δ: 1.20 (s, 9H), 2.78 (q, J = 5.5 Hz, 2H), 3.35 (s, 3H), 3.69 (t, J = 6.3 Hz, 2H), 8.07-8.11 (br m, 1H).
ＬＣ／ＭＳ（メソッド１） ＲＴ＝１．２１、ＭＳ（ｍ／ｚ）＝１９２．００

工程２ 化合物３の合成
ＬＨＭＤＳ （１ｍｏｌ／Ｌ、ＴＨＦ溶液、５２．３ｍＬ、５２．３ｍｍｏｌ）を無水ヘキサン（２５０ｍＬ）の混合溶液とし、その混合液に対してエチニルトリメチルシラン（５．１３ｇ，５２．３ｍｍｏｌ）を−７８度で滴下した。滴下終了後、室温まで反応液温度を上昇させさらに１０分間撹拌後、再び、反応温度を−７８度まで低下させた。その反応液に、化合物２（５ｇ，２６．１ｍｍｏｌ）のヘキサン（５０ｍＬ）／ＴＨＦ（１０ｍＬ）溶液（温度０度）を滴下した。滴下終了後、室温まで昇温させさらに終夜で撹拌した。反応液を飽和塩化アンモニウム溶液で希釈後、酢酸エチルで抽出した。有機層を水洗した後、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。溶媒を減圧留去し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン−酢酸エチル−１０％トリエチルアミン含）により精製し、化合物３（５．６７ｇ、収率７５％）を得た。
¹H-NMR (CDCl₃) δ: 0.00 (s, 9H), 1.04 (s, 9H), 1.77-1.82 (m, 2H), 3.17 (s, 3H), 3.35 (dt, J = 10.9, 4.9 Hz, 1H), 3.45 (dt, J = 11.4, 4.9 Hz, 1H), 3.50 (d, J = 6.5 Hz, 1H), 4.07 (q, J = 6.5 Hz, 1H).
ＬＣ／ＭＳ（メソッド１） ＲＴ＝２．０７、ＭＳ（ｍ／ｚ）＝２８９．９０

工程３ 化合物４の合成
化合物３（５．６７ｇ、１９．６ｍｍｏｌ）のＴＨＦ（２８ｍＬ）溶液にＴＢＡＦ（１ｍｏｌ／Ｌ，１９．６ｍＬ）を加えて、室温で３時間撹拌した。反応液を飽和塩化アンモニウム溶液で希釈後、酢酸エチルで抽出した。有機層をさらに、飽和塩化アンモニウム溶液次いで飽和食塩水で洗浄した後、無水硫酸ナトリウムで乾燥し化合物４（４．２６ｇ、収率１００％）を得た。
¹H-NMR (CDCl₃) δ: 1.21 (s, 9H), 1.90-2.05 (m, 2H), 2.44 (br s, 1H), 3.34 (s, 3H), 3.50-3.58 (m, 1H), 3.61-3.69 (m, 1H), 3.78 (d, J = 7.5 Hz, 1H), 4.23 (q, J = 6.8 Hz, 1H).

工程４ 化合物５の合成
化合物４（４．２６ｇ、１９．６０ｍｍｏｌ）のＴＨＦ（８０ｍＬ）溶液に対してキノリン（０．１１６ｍＬ，０．９８０ｍｍｏｌ）とリンドラー触媒（２．０９ｇ，０．９８０ｍｍｏｌ）を加えて、接触水素添加反応をした。反応終了後、反応液をセライト濾過し、その炉液を濃縮して化合物５（４．１２ｇ、収率９６％）を得た。
¹H-NMR (CDCl₃) δ: 1.14 (s, 9H), 1.68 (br s, 1H), 1.79 (q, J = 6.2 Hz, 2H), 3.25 (s, 3H), 3.34-3.46 (m, 2H), 3.82-3.89 (m, 1H), 5.12 (d, J = 10.3 Hz,1H), 5.23 (d, J = 17.1 Hz, 1H), 5.78-5.87 (m, 1H).

工程５ 化合物６の合成
化合物５（８０１ｍｇ，３．６５ｍｍｏｌ）のジクロロメタン（２ｍＬ）溶液に塩酸５ｍＬ（４ｍｏｌ／Ｌ，１，４−ジオキサン溶液）を加えて室温で撹拌した。反応液を濃縮して化合物６（４２１ｍｇ、収率１００％）を得た。

工程６ 化合物７の合成
化合物６（５．１１ｇ，３３．７ｍｍｏｌ）と炭酸ナトリウム（１７．８６ｇ，１６９ｍｍｏｌ）をＴＨＦ（２０ｍＬ）および水（２０ｍＬ）に溶解し、その溶液に氷冷下二炭酸ジ−ｔｅｒｔ−ブチル（８．６１ｍＬ，３７．１ｍｍｏｌ）を加えた。混合物を室温で終夜撹拌した。飽和炭酸水素ナトリウム水溶液を加え、ジクロロメタンで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄した後、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。溶媒を減圧留去し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン−酢酸エチル）により精製して化合物７（６．５１ｇ、収率９０％）を得た。
¹H-NMR (CDCl₃) δ: 1.46 (br s, 10H), 1.63-1.76 (m, 1H), 1.83-1.95 (m, 1H), 3.32 (s, 3H), 3.41-3.51 (m, 2H), 4.25 (br s, 1H), 4.96 (br s, 1H), 5.12 (d, J = 10.3 Hz, 1H), 5.18 (d, J = 17.3 Hz, 1H), 5.71-5.84 (m, 1H).

工程７ 化合物８の合成
化合物７（６．５ｇ，３０．２ｍｍｏｌ）のＴＨＦ（６５ｍＬ）溶液に氷冷下９−ＢＢＮ（１６９ｍＬ，８５ｍｍｏｌ）を滴下後、室温で４時間半撹拌した。反応液に、氷冷下２ｍｏｌ／Ｌ水酸化ナトリウム（１０６ｍＬ，２１１ｍｍｏｌ）、次いで３０％過酸化水素水（１００ｍＬ，３２６３ｍｍｏｌ）を加え、さらに１．５時間撹拌した。反応液に飽和チオ硫酸ナトリウム溶液を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和チオ硫酸ナトリウム溶液、次いで飽和食塩水で洗浄した後、無水硫酸ナトリウムで乾燥、溶媒を減圧留去した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン−酢酸エチル）により精製して化合物８（５．９２ｇ、収率８４％）を得た。
ＬＣ／ＭＳ（メソッド１） ＲＴ＝１．１８、ＭＳ（ｍ／ｚ）＝１７８．２５（Ｍ−５５）

工程８ 化合物９の合成
イミダゾール（２４４ｍｇ，３．５８ｍｍｏｌ）、トリフェニルホスフィン（８４１ｍｇ，３．２１ｍｍｏｌ）、ヨウ素（８６２ｍｇ，３．３９ｍｍｏｌ）のジクロロメタン溶液に、氷冷下、化合物８（４４０ｍｇ，１．８８６ｍｍｏｌ）のジクロロメタン溶液（４ｍＬ）を加えた。５時間撹拌後、反応液にチオ硫酸ナトリウム溶液を加え、ジクロロメタンで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄した後、無水硫酸ナトリウムで乾燥、溶媒を減圧留去した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン−酢酸エチル）により精製して化合物９（３９０ｍｇ、収率６０％）を得た。
¹H-NMR (CDCl₃) δ: 1.44 (s, 9H), 1.60-1.70 (m, 1H), 1.76-1.87 (m, 1H), 2.00-2.10 (m, 2H), 3.13-3.24 (m, 2H), 3.33 (s, 3H), 3.40-3.52 (m, 2H), 3.70-3.80 (m, 1H), 4.65-4.80 (br m, 1H).

工程９ 化合物１０の合成
化合物９（３８５ｍｇ，１．１２ｍｍｏｌ）のＤＭＦ（０．５ｍＬ）溶液に亜硝酸ナトリウム（６１９ｍｇ，８．９７ｍｍｏｌ）を加え、遮光下室温で一時間撹拌した。反応液に水を加えジクロロメタンで抽出した。
有機層を飽和食塩水で洗浄した後、無水硫酸ナトリウムで乾燥、溶媒を減圧留去した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン−酢酸エチル）により精製して化合物１０（１９７ｍｇ、収率６７％）を得た。
¹H-NMR (CDCl₃) δ: 1.44 (s, 9H), 1.62-1.76 (m, 1H), 1.81-1.90 (m, 1H), 2.08-2.20 (m, 1H), 2.19-2.30 (m, 1H), 3.33 (s, 3H), 3.40-3.55 (m, 2H), 3.76-3.88 (m, 1H), 4.38-4.57 (m, 2H), 4.75-4.92 (m, 1H).

工程１０ 化合物Ｚの合成
化合物１０（２．１５ｇ，８．２０ｍｍｏｌ）のジクロロメタン（１０ｍＬ）溶液に塩酸２０ｍＬ（４ｍｏｌ／Ｌ，１，４−ジオキサン溶液）を加えて室温で撹拌した。反応液に酢酸エチルを加え、析出した白色固形物をろ取し、乾燥して化合物Ｚ（４２１ｍｇ、収率１００％）を得た。
ＬＣ／ＭＳ（メソッド１） ＲＴ＝０．３８、ＭＳ（ｍ／ｚ）＝１６２．６０

（参考例２） 化合物Ｚ’の合成

工程１ 化合物Ｚ’の合成
化合物Ｚをインジェクトカラム（アミノ）に通し（ＭｅＯＨで溶出）脱塩することにより、化合物Ｚ’を得た。
¹H-NMR (CDCl₃) δ: 1.11-1.38 (br m, 2H), 1.50-1.62 (m, 1H), 1.68-1.79 (m, 1H), 1.84-1.97 (m, 1H), 2.13-2.26 (m, 1H), 2.90-3.04 (m, 1H), 3.33 (s, 3H), 3.42-3.56 (m, 2H), 4.48-4.63 (m, 2H).

（参考例３） 化合物Ｗの合成

工程１ 化合物１２の合成
化合物１１（６．０ｇ、３２ｍｍｏｌ）をＣＨ_２Ｃｌ_２（４０ｍＬ）に溶解し、３，４−ジヒドロ−２Ｈ−ピラン（４．０５ｇ、４８ｍｍｏｌ）を加えた。この溶液に、パラトルエンスルホン酸ピリジニウム（ＰＰＴＳ、０．８０６ｇ、３．２１ｍｍｏｌ）を加え、室温で終夜撹拌した。飽和炭酸ナトリウム水溶液（約４０ｍＬ）を加え、３０分撹拌した。ジクロロメタン層を分離し、有機層を飽和炭酸ナトリウム水溶液、飽和食塩水で順次洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥、溶媒を減圧留去した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン−酢酸エチル;１０：１）により精製して化合物１２（８．３ｇ、収率９５％）を得た。
¹H-NMR（CDCl₃）δ：1.57-1.93 (m, 6H), 3.56-3.59 (m, 1H), 3.91-3.95 (m, 1H), 4.58 (d, J=13.3 Hz, 1H), 4,73 (brs, 1H), 4.83 (d, J=13.3 Hz, 1H), 7.13-7.16 (m, 1H) , 7.30-7.34 (m, 1H), 7.51-7.55 (m, 2H).

工程２ 化合物１３の合成
窒素気流下、粒状マグネシウム（０．４０１ｇ、１６．５ｍｍｏｌ）とヨウ素（１９ｍｇ、０．０７５ｍｍｏｌ）を混合し、化合物１２（４．０７ｇ、１５ｍｍｏｌ）の無水ＴＨＦ溶液（２０ｍＬ）を約５ｍＬ滴下した。反応液を５５℃に加温し、反応の開始を確認した後、残りの化合物１２のＴＨＦ溶液を滴下した。滴下終了後、反応液を５５℃に保ち、２時間撹拌した。０℃に冷却し、エチレンオキサイド（１．１ｍｏｌ／Ｌ ＴＨＦ溶液、５４．５ｍＬ、６０ｍｍｏｌ）を滴下した。滴下終了後、再び５５℃で３０分間撹拌した。室温に冷却後、飽和ＮＨ_４Ｃｌ溶液（４０ｍＬ）を加えた。分離した水層を、酢酸エチルで抽出した。全有機層を、水、飽和食塩水で順次洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。溶媒を減圧留去して得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン−酢酸エチル;３：１）により精製して化合物１３（３．５４ｇ、収率４４％）を得た。
¹H-NMR (CDCl₃) δ: 1.50-1.90 (m, 6H), 2.38 (brs, 1H), 2.95-2.98 (m, 2H), 3.55-3.60 (m, 1H), 3.85-3.95 (m, 3H), 4.52 (d, J = 11.4 Hz, 1H), 4.74-4.76 (m, 1H), 4.84 (d, J = 11.4 Hz, 1H), 7.20-7.37 (m, 4H).
ＬＣ／ＭＳ（メソッド２） ＲＴ＝１．５７、ＭＳ（ｍ／ｚ）＝２３７．００

工程３ 化合物１４の合成
化合物１３（１．５５ｇ、６．６ｍｍｏｌ）のジクロロメタン（２０ｍＬ）溶液を氷冷下撹拌した。ここに、トリエチルアミン（１．８ｍＬ、１３．１ｍｍｏｌ）、塩化パラトルエンスルホニル（１．３８ｇ、７．２ｍｍｏｌ）、ＤＭＡＰ（８ｍｇ、０．０６ｍｍｏｌ）を順次加えた。このまま２時間撹拌し、さらに終夜で５℃で静置した。反応終了後、反応液に飽和炭酸水素ナトリウム水溶液を加え、ジクロロメタンで抽出した。有機層を飽和ＮＨ_４Ｃｌ水溶液、水、飽和食塩水で順次洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥、乾固した。得られた残差をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン−酢酸エチル;３：１〜１：１）により精製して化合物1４（２．１６ｇ、収率８４％）を得た。
¹H-NMR (CDCl₃) δ: 1.42-1.82 (m, 8H), 2.47 (s, 3H), 3.06 (t, J = 7.3 Hz, 3H), 3.51-3.56 (m, 1H), 3.83-3.88 (m, 1H), 4.23 (t, J = 7.3 Hz, 3H), 4.41 (d, J = 11.7 Hz, 1H), 4.62 (m, 1H), 4.72 (d, J = 11.7 Hz, 1H), 7.12-7.33 (m, 6H), 7.69-7.71 (m, 2H).
ＬＣ／ＭＳ（メソッド２） ＲＴ＝２．６８、ＭＳ（ｍ／ｚ）＝３９１．００

工程４ 化合物Ｗの合成
化合物１４（２．２９ｇ、５．９ｍｍｏｌ）のメタノール（７０ｍＬ）溶液に、マクロ多孔質のポリスチレンスルホン酸（Ｂｉｏｔａｇｅ、 ２．３ｇ、 ４．３０ｍｍｏｌ／ｇ）を加え、緩やかに撹拌した。４時間後反応液をセライトでろ過し、溶媒を減圧留去し化合物１５を粗生成物として得た。得られた残差を、ジクロロメタン（１００ｍＬ）に溶解し、二酸化マンガン（１０ｇ）を加え、室温で撹拌した。２時間半後、反応液をセライトでろ過しジクロロメタンで洗浄し、溶媒を減圧留去し化合物Ｗを粗生成物として得た。得られた化合物Ｗは、速やかに次の反応に用いた。
ＬＣ／ＭＳ（メソッド２） ＲＴ＝２．２１、ＭＳ（ｍ／ｚ） ＝３０５．００

化合物（Ｉ−９）の合成

工程１ 化合物１７の合成
化合物Ｗ（１．７７ｇ、５．８２ｍｍｏｌ）を無水メタノール（３０ｍＬ）に溶解し、モレキュラーシーブス３Ａ（３ｇ）を加えた。反応液に氷冷下、化合物Ｚ’（０．９４３ｇ、５．８２ｍｍｏｌ）とトリエチルアミン（１．２９ｍＬ、９．３ｍｍｏｌ）を加え、５℃で終夜静置した後、室温で３時間静置した。反応液をセライトでろ過しメタノールで洗浄した。溶媒を減圧留去し得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン−酢酸エチル;１：１）により精製し、粗精製物質として化合物１６を得た。得られた化合物１６を、メタノール（５５ｍＬ）、ＴＨＦ（９０ｍＬ）に溶解し、ＮＨ_４Ｃｌ（９．３４ｇ、１７５ｍｍｏｌ）、亜鉛粉末（１１．４２ｇ、１７５ｍｍｏｌ）を順次加え、室温で終夜撹拌した。反応液をセライトでろ過しメタノールで洗浄し、溶媒を減圧留去した。得られた残差に、ジクロロメタン（１００ｍＬ）、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液（１５０ｍＬ）を加え、ジクロロメタンで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄、無水硫酸ナトリウムで乾燥後、減圧留去し、粗製性物質として化合物１７を得た。
ＬＣ／ＭＳ（メソッド３） ＲＴ＝１．１０、ＭＳ（ｍ／ｚ） ＝２４７．００

工程２ 化合物（Ｉ−９）の合成
化合物１７（１５８ｍｇ、０．６４ｍｍоｌ）をジクロロメタン（５ｍＬ）に溶解し、トリエチルアミン（２６６μＬ、１．９２ｍｍｏｌ）、既知の方法（ＷＯ２０１２１５８４１３）で合成できる化合物Ｙ（４７８ｍｇ、１．２８ｍｍоｌ）を加えた。終夜で撹拌後、反応液を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、飽和食塩水で順次洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥、溶媒を減圧留去した。得られた残差を、逆相ＨＰＬＣ（水−アセトニトリル）で精製し、化合物（Ｉ−９）（３３ｍｇ、収率９．８％）を得た。
¹H-NMR (CDCl₃) δ: 1.46-1.60 (m, 2H), 2.01-2.17 (m, 1H), 2.19 (s, 3H), 2.28-2.35 (m, 1H), 2.48-2.54 (m, 1H), 2.81-2.86 (m, 1H), 2.95-2.97 (m, 1H), 3.03-3.15 (m, 1H), 3.26-3.45 (m, 7H), 3.95 (s, 3H), 4.31-4.39 (m, 1H), 4.89-4.91 (m, 1H), 6.31 (s, 1H), 7.01-7.15 (m, 4H), 7.32 (m, 1H), 7.42-7.46 (m, 2H), 7.56-7.59 (m, 2H), 7.75 (s, 1H), 7.87 (s, 1H).
ＬＣ／ＭＳ（メソッド１） ＲＴ＝１．２３、ＭＳ（ｍ／ｚ） ＝５２６．００

化合物（Ｉ−２９）の合成

工程１ 化合物１８の合成
既知の方法（Ｏｒｇａｎｏｍｅｔａｌｌｉｃｓ、２００４、２３、３６２２−３６２６）で合成できる化合物Ｘ（６９．９ｍｇ、０．５２９ｍｍоｌ）をジクロロメタン（１ｍＬ）に溶解し、化合物Ｚ（１００ｍｇ、０．５０３ｍｍоｌ）、無水硫酸マグネシウム（６３．３ｍｇ、０．５２９ｍｍоｌ）およびトリエチルアミン（０．０８４ｍＬ、０．６０４ｍｍｏｌ）を加え、室温で４時間撹拌した。塩化アクリロイル（０．０４９ｍＬ、０．６０４ｍｍｏｌ）およびトリエチルアミン（０．０８４ｍＬ、０．６０４ｍｍｏｌ）を加え、２０分間撹拌した。塩化アクリロイル（０．０１６ｍＬ、０．２０１ｍｍｏｌ）およびトリエチルアミン（０．０２８ｍＬ、０．２０１ｍｍｏｌ）を加え、４０分間撹拌した。反応液に０．２ｍｏｌ／Ｌ塩酸を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液および飽和食塩水で順に洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を減圧留去し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン−酢酸エチル）により精製して化合物１８（８６．３ｍｇ、収率５２％）を得た。
¹H-NMR (CDCl₃) δ: 1.74-1.88 (m, 1H), 2.00-2.15 (m, 1H), 2.82-3.03 (m, 2H), 3.35 (s, 3H), 3.47-3.69 (m, 2H), 4.31-4.46 (m, 1H), 4.73-5.01 (m, 1H), 5.50 (d, J = 10.8 Hz, 1H), 5.54-5.64 (m, 1H), 5.67-5.82 (m, 1H), 5.85-6.05 (m, 2H), 6.29-6.43 (m, 1H), 6.98-7.11 (m, 1H), 7.29-7.44 (m, 3H), 7.47-7.63 (m, 1H).

工程２ 化合物１９の合成
化合物１８（１．９４ｇ、５．８７ｍｍоｌ）をトルエン（７７．６ｍＬ）に溶解し、第２世代Ｇｒｕｂｂｓ触媒（２４９ｍｇ、０．２９４ｍｍоｌ）を加えた。窒素雰囲気下、加熱還流下、５時間撹拌した。反応液をオイルバスから外し、第２世代Ｇｒｕｂｂｓ触媒（１００ｍｇ、０．１１７ｍｍоｌ）を加え、窒素雰囲気下、加熱還流下、４．５時間撹拌した。反応液を室温に戻し、溶媒を減圧留去し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン−酢酸エチル）により精製して化合物１９（９１８ｍｇ、収率５２％）を得た。
¹H-NMR (CDCl₃) δ: 1.62-1.74 (m, 1H), 2.06-2.16 (m, 1H), 2.70-2.80 (m, 1H), 2.94-3.04 (m, 1H), 3.06-3.15 (m, 1H), 3.08 (s, 3H), 3.21-3.28 (m, 1H), 4.44-4.53 (m, 1H), 5.18-5.22 (m, 1H), 5.73-5.80 (m, 1H), 6.42 (d, J = 12.3 Hz, 1H), 7.19 (d, J = 12.3 Hz, 1H), 7.25 (s, 1H), 7.41-7.50 (m, 3H).

工程３ 化合物２０の合成
化合物１９（５９．７ｍｇ、０．１９７ｍｍоｌ）をＴＨＦ（１．２ｍＬ）およびメタノール（０．６ｍＬ）に溶解し、亜鉛（１９４ｍｇ、２．９６ｍｍоｌ）および塩化ナトリウム（１５８ｍｇ、２．９６ｍＬ）を加え、室温にて、９．５時間撹拌した後、終夜静置した。反応液に飽和炭酸水素ナトリウム水溶液および酢酸エチルを加え、不溶物を濾別し、固体を酢酸エチルおよび水で洗浄した。ろ液を酢酸エチルで抽出し、有機層を飽和食塩水で洗浄した。水層を減圧下で濃縮し、析出した固体を酢酸エチルに懸濁し、濾別した。ろ液を減圧下で濃縮し、残渣にクロロホルムを加え、不溶物を濾別した。ろ液を減圧下で濃縮して化合物２０（３０．８ｍｇ、５７．３％）を得た。
¹H-NMR (CDCl₃) δ: 1.59-1.66 (m, 1H), 1.93-2.10 (m, 2H), 2.27-2.35 (m, 1H), 3.16-3.36 (m, 2H), 3.18 (s, 3H), 4.19 (d, J = 5.1 Hz, 1H), 4.35-4.49 (m, 2H), 6.35 (d, J = 12.2 Hz, 1H), 7.10 (d, J = 12.2 Hz, 1H), 7.35-7.47 (m, 4H).

工程４ 化合物２１の合成
化合物２０（３０ｍｇ、０．１１０ｍｍоｌ）をエタノール（２ｍＬ）に溶解し、１０％パラジウム炭素（５０％含水品、２４．８ｍｇ、０．００５ｍｍоｌ）を加え、水素雰囲気下、室温にて、５．５時間撹拌した。反応液に酢酸エチルを加え、不溶物を濾別した。ろ液を減圧下で濃縮して化合物２１（２３．９ｍｇ、７９．１％）を得た。
¹H-NMR (CDCl₃) δ: 1.47-1.58 (m, 1H), 1.97-2.07 (m, 1H), 2.28-2.50 (m, 3H), 2.83-2.93 (m, 1H), 3.04-3.32 (m, 6H), 3.14 (s, 3H), 4.40-4.57 (m, 2H), 5.45 (s, 1H), 7.19-7.26 (m, 4H).

工程５ 化合物２２の合成
化合物２１（２３ｍｇ、０．０８４ｍｍоｌ）をＴＨＦ（２ｍＬ）に溶解し、窒素雰囲気下、水素化アルミニウムリチウム（４．７７ｍｇ、０．１２６ｍｍоｌ）を加え、加熱還流下、１．５時間撹拌した。水素化アルミニウムリチウム（４．７７ｍｇ、０．１２６ｍｍоｌ）を加え、窒素雰囲気下、加熱還流下、３．５時間撹拌した。反応液を室温に戻し、硫酸ナトリウム１０水和物（５４０ｍｇ、１．６８ｍｍｏｌ）、酢酸エチルを加え、９０分間撹拌した。不溶物を濾別した後、ろ液を減圧下で濃縮して化合物２２（１９．５ｍｇ、８９％）を得た。
ＬＣ／ＭＳ（メソッド２） ＲＴ＝０．３７、ＭＳ（ｍ／ｚ） ＝２６１

工程６ 化合物（Ｉ−２９）の合成
化合物１６（１８．７ｍｇ、０．０７２ｍｍоｌ）をＮ、Ｎ−ジメチルアセトアミド（１ｍＬ）に溶解し、トリエチルアミン（０．０１２ｍＬ、０．０８６ｍｍоｌ）、既知の方法（ＷＯ２０１２１５８４１３）で合成できる化合物Ｙ（３２．２ｍｇ、０．０８６ｍｍоｌ）を加え、窒素雰囲気下、室温で２０分間撹拌した。反応液に飽和炭酸水素ナトリウム水溶液を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を水および飽和食塩水で順に洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を減圧留去し、得られた残渣を逆相ＨＰＬＣ（水−アセトニトリル、添加物としてギ酸を含む）により精製して化合物（Ｉ−２９）（６．２ｍｇ、収率１５％）を得た。
¹H-NMR (DMSO-D₆) δ: 1.38-1.51 (m, 2H), 1.51-1.63 (m, 1H), 1.73-1.94 (m, 3H), 1.96 (s, 3H), 2.69-2.89 (m, 4H), 3.11-3.21 (m, 1H), 3.18 (s, 3H), 3.24-3.32 (m, 1H), 3.73 (d, J = 8.8 Hz, 1H), 3.89 (s, 3H), 4.63-4.74 (m, 1H), 6.91 (s, 1H), 7.09-7.19 (m, 3H), 7.26-7.40 (m, 4H), 7.48 (d, J = 7.5 Hz, 2H), 7.74 (s, 1H), 8.04 (s, 1H), 8.08 (br s, 1H), 8.36 (s, 2H).

化合物（Ｉ−２７）の合成

工程１ 化合物２４の合成
化合物２３（５．６０ｇ、３８．３ｍｍоｌ）をメタノール（３８ｍＬ）に溶解し、ピロリジン（３．４８ｍＬ、４２．１ｍｍоｌ）を加えた。窒素雰囲気下、一晩撹拌した。反応液を濃縮し、トルエンを加えて再度濃縮した。得られた残渣をメタノール（５５ｍＬ）に溶解した。ブロモ酢酸メチル（７．０６ｍＬ、７７ｍｍоｌ）を加え、８０℃で１時間撹拌した。水（２０ｍＬ）を加え、８０℃で２時間撹拌した。
反応液を室温に戻し、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄した後、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。溶媒を減圧留去し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン−酢酸エチル）により精製して化合物２４（７．１９ｇ、収率８６％）を得た。
ＬＣ／ＭＳ（メソッド１） ＲＴ＝１．６３、ＭＳ（ｍ／ｚ） ＝２１９．２０

工程２ 化合物２５の合成
化合物２４（７．１９ｇ、３２．９ｍｍоｌ）をメタノール（３３ｍＬ）に溶解した。２−メトキシエチルアミン（５．７３ｍＬ、６５．９ｍｍоｌ）、酢酸（３．７７ｍＬ、６５．９ｍｍоｌ）、シアノ水素化ホウ素ナトリウム（３．１１ｇ、４９．４ｍｍоｌ）を加え、室温で一晩撹拌した。
反応液を濃縮し、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄した後、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。溶媒を減圧留去し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン−酢酸エチル）により精製して化合物２５（３．５０ｇ、収率４３％）を得た。
ＬＣ／ＭＳ（メソッド１） ＲＴ＝１．５２、ＭＳ（ｍ／ｚ） ＝２４６．２０

工程３ 化合物２６の合成
ジイソプロピルアミン（３．１５ｍＬ、２２．１ｍｍоｌ）をＴＨＦ（１８ｍＬ）に溶解し、窒素雰囲気下、−７８℃に冷却した。１．６４ｍоｌ／Ｌ ｎ−ブチルリチウム−ヘキサン溶液（１１．９ｍＬ、１９．４ｍｍоｌ）を加え、１５分かけて０℃まで昇温した。再び−７８℃に冷却し、化合物２５（２．１７ｇ、８．８４ｍｍоｌ）をＴＨＦ（４ｍＬ）に溶かして加えた。−７８℃で１時間撹拌し、クロロギ酸メチル（０．７５３ｍＬ、９．７２ｍｍоｌ）を加えた。−７８℃で１時間撹拌した後、飽和塩化アンモニウム水溶液を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄した後、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。溶媒を減圧留去し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン−酢酸エチル）により精製して化合物２６（１．３０ｇ、収率４９％）を得た。
ＬＣ／ＭＳ（メソッド１） ＲＴ＝１．６６、ＭＳ（ｍ／ｚ） ＝３０４．１５

工程４ 化合物２７の合成
化合物２６（１．３０ｇ、４．３０ｍｍоｌ）をＴＨＦ（３ｍＬ）とメタノール（３ｍＬ）の混合溶媒に溶解した。１ｍоｌ／Ｌ 水酸化ナトリウム水溶液（５．１６ｍＬ、５．１６ｍｍоｌ）を加え、室温で４時間撹拌した。
２ｍоｌ／Ｌ 塩酸（２．５８ｍＬ、５．１６ｍｍоｌ）を加え、クロロホルムで抽出し、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。溶媒を減圧留去して化合物２７（１．１３ｇ、収率９１％）を得た。
ＬＣ／ＭＳ（メソッド１） ＲＴ＝１．４０、ＭＳ（ｍ／ｚ） ＝２９０．２０

工程５ 化合物２８の合成
化合物２７（１．１３ｇ、３．９０ｍｍоｌ）をトルエン（７．８ｍＬ）に溶解した。トリエチルアミン（０．８１２ｍＬ、５．８６ｍｍоｌ）とＤＰＰＡ（１．０１ｍＬ、４．６８ｍｍоｌ）を加え、室温で３０分撹拌した。８０℃に昇温して３０分撹拌した後、ベンジルアルコール（２．０３ｍＬ、１９．５ｍｍоｌ）を加え、８０℃で一晩撹拌した。
反応液を室温に戻し、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄した後、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。溶媒を減圧留去し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン−酢酸エチル）により精製して化合物２８（８２３ｍｇ、収率５４％）を得た。
ＬＣ／ＭＳ（メソッド１） ＲＴ＝１．９０、ＭＳ（ｍ／ｚ） ＝３９５．３０

工程６ 化合物２９の合成
化合物２８（８２３ｍｇ、２．０９ｍｍоｌ）をＴＨＦ（１４ｍＬ）に溶解した。０．９２ｍоｌ／Ｌ ボラン−ＴＨＦ錯体−ＴＨＦ溶液（６．８１ｍＬ、６．２６ｍｍоｌ）を加え、６０℃で２時間撹拌した。エタノール（９ｍＬ）、トリエチルアミン（３ｍＬ）、水（３ｍＬ）を加え、７０℃で２時間撹拌した。
反応液を室温に戻して濃縮した。飽和炭酸水素ナトリウム水溶液を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄した後、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。溶媒を減圧留去し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン−酢酸エチル）により精製して化合物２９（４４５ｍｇ、収率５６％）を得た。
ＬＣ／ＭＳ（メソッド１） ＲＴ＝１．３８、ＭＳ（ｍ／ｚ） ＝３８１．３０

工程７ 化合物（Ｉ−２７）の合成
化合物２９（２４２ｍｇ、０．６３６ｍｍｏｌ）をＴＨＦ（３ｍＬ）とメタノール（３ｍＬ）の混合溶媒に溶解した。１０％パラジウム−炭素（６０ｍｇ）を加え、水素雰囲気下２時間撹拌した。反応液をろ過し、ろ液を濃縮した。
得られた残渣をジクロロメタン（３．２ｍＬ）に溶解した。トリエチルアミン（０．１７６ｍＬ、１．２７ｍｍоｌ）と既知の方法（ＷＯ２０１２１５８４１３）で合成できる化合物Ｙ（２３７ｍｇ、０．６３６ｍｍｏｌ）を加え、室温で一晩撹拌した。反応液をそのままシリカゲルカラムクロマトグラフィー（クロロホルム−メタノール）により精製して化合物（Ｉ−２７）（ｒａｃｅｍａｔｅ、２９０ｍｇ、収率８７％）を得た。
¹H-NMR (CDCl₃) δ: 1.65-1.78 (br s, 1H), 2.20 (s, 3H), 2.15-2.33 (br s, 1H), 2.44-2.61 (m, 2H), 2.75-2.92 (m, 2H), 2.98 (br s, 1H), 3.00-3.10 (m, 1H), 3.25-3.29 (m, 1H), 3.29 (s, 3H), 3.45 (m, 2H), 3.98 (s, 3H), 3.96-4.05 (m, 1H), 5.01 (br s, 1H), 6.95 (br s, 1H), 7.01-7.11 (m, 3H), 7.35 (t, J = 7.7 Hz, 1H), 7.45 (t, J = 7.7 Hz, 2H), 7.58 (d, J = 7.7 Hz, 2H), 7.79 (s, 1H), 7.90 (s, 1H)．

化合物（Ｉ−２）の合成

工程１ 化合物３１の合成
化合物３０（１．１６ｇ、３．７７ｍｍоｌ）をＴＨＦ（７．５ｍＬ）に溶解した。１．０ｍоｌ／Ｌ ナトリウムメトキシド−メタノール溶液（４．５２ｍＬ、４．５２ｍｍоｌ）を加え、室温で一晩撹拌した。
飽和塩化アンモニウム水溶液を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄した後、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。溶媒を減圧留去し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン−酢酸エチル）により精製して化合物３１（７１５ｍｇ、収率７３％）を得た。
ＬＣ／ＭＳ（メソッド１） ＲＴ＝１．８０、ＭＳ（ｍ／ｚ） ＝２５８．９５

工程２ 化合物３２の合成
化合物３１（７１５ｍｇ、２．７６ｍｍоｌ）をＮＭＰ（５．５ｍＬ）に溶解し、トリエチルアミン（０．７６５ｍＬ、５．５２ｍｍоｌ）とアクリル酸ｔｅｒｔ−ブチル（０．６０７ｍＬ、４．１４ｍｍоｌ）を加えた。窒素雰囲気下、ビス（トリ−ｔｅｒｔ−ブチルホスフィン）パラジウム（２８．２ｍｇ、０．０５５ｍｍоｌ）を加え、１００℃で４時間撹拌した。
反応液を室温に戻し、水を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を水および飽和食塩水で順に洗浄した後、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。溶媒を減圧留去し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン−酢酸エチル）により精製して化合物３２（７３７ｍｇ、収率８７％）を得た。
ＬＣ／ＭＳ（メソッド１） ＲＴ＝２．３０、ＭＳ（ｍ／ｚ） ＝２５１．２０（Ｍ−５５）

工程３ 化合物３３の合成
化合物３２（２８９ｍｇ、０．９４３ｍｍоｌ）をメタノール（４．７ｍＬ）に溶解した。フェニルボロン酸（２３０ｍｇ、１．８９ｍｍоｌ）、トリエチルアミン（０．７８５ｍＬ、５．６６ｍｍоｌ）、クロロ（１，５−シクロオクタジエン）ロジウムダイマー（１１．６ｍｇ、０．０２４ｍｍоｌ）を加え、６０℃で２時間撹拌した。
反応液を室温に戻し、水を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄した後、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。溶媒を減圧留去し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン−酢酸エチル）により精製して化合物３３（３３８ｍｇ、収率９３％）を得た。
ＬＣ／ＭＳ（メソッド１） ＲＴ＝２．５１、ＭＳ（ｍ／ｚ） ＝３８５．２０

工程４ 化合物３４の合成
化合物３３（１６２ｍｇ、０．４２１ｍｍоｌ）をＴＨＦ（４．２ｍＬ）に溶解した。氷冷下、１．１ｍоｌ／Ｌ ナトリウムビス（トリメチルシリル）アミド−ＴＨＦ溶液（０．７６６ｍＬ、０．８４３ｍｍоｌ）を加え、０℃で１時間撹拌した。
飽和塩化アンモニウム水溶液を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄した後、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。溶媒を減圧留去し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン−酢酸エチル）により精製して化合物３４（１３０ｍｇ、収率８８％）を得た。
ＬＣ／ＭＳ（メソッド１） ＲＴ＝２．５９、ＭＳ（ｍ／ｚ） ＝３５３．２５

工程５ 化合物３５の合成
化合物３４（１３０ｍｇ、０．３６９ｍｍоｌ）をＴＦＡ（３．７ｍＬ）に溶解した。トリエチルシラン（０．５９０ｍＬ、３．６９ｍｍоｌ）を加え、室温で一晩撹拌した。
反応液を濃縮し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン−酢酸エチル）により精製して化合物３５（１０４ｍｇ、収率１００％）を得た。
ＬＣ／ＭＳ（メソッド１） ＲＴ＝１．９２、ＭＳ（ｍ／ｚ） ＝３０５．１５（Ｍ＋２３）

工程６ 化合物３６の合成
化合物３５（１０４ｍｇ、０．３６９ｍｍоｌ）をトルエン（１．８ｍＬ）に溶解した。トリエチルアミン（０．１０２ｍＬ、０．７３８ｍｍоｌ）とＤＰＰＡ（０．０９５ｍＬ、０．４４３ｍｍоｌ）を加え、室温で１時間撹拌した。８０℃に昇温して３０分撹拌した後、２−トリメチルシリルエタノール（０．１５８ｍＬ、１．１１ｍｍоｌ）を加え、８０℃で一晩撹拌した。
反応液を室温に戻し、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄した後、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。溶媒を減圧留去し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン−酢酸エチル）により精製して化合物３６（１０９ｍｇ、収率７４％）を得た。
ＬＣ／ＭＳ（メソッド１） ＲＴ＝２．７５、ＭＳ（ｍ／ｚ） ＝３９８．３０

工程７ 化合物（Ｉ−２）の合成
化合物３６（１９．５ｍｇ、０．０４９ｍｍｏｌ）をジクロロメタン（１ｍＬ）に溶解し、ＴＦＡ（０．５ｍＬ）を加えて一晩撹拌した。反応液を濃縮後、得られた残渣をＴＨＦ（１ｍＬ）に溶解した。トリエチルアミン（０．０３４ｍＬ、０．２４５ｍｍоｌ）と既知の方法（ＷＯ２０１２１５８４１３）で合成できる化合物Ｙ（１８．３ｍｇ、０．０４９ｍｍｏｌ）を加えて３時間撹拌した。
反応溶液に飽和炭酸水素ナトリウム水溶液を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄した後、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。溶媒を減圧留去し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン−酢酸エチル）により精製して化合物（Ｉ−２）（ｒａｃｅｍａｔｅ、１６．２ｍｇ、収率６２％）を得た。
¹H-NMR (CDCl₃) δ: 2.02 (s, 3H), 2.69 (dd, J = 15.7, 7.8 Hz, 1H), 3.39 (s, 3H), 3.46 (dd, J = 15.7, 7.3 Hz, 1H), 3.97 (s, 3H), 4.06 (d, J = 8.0 Hz, 1H), 4.36-4.57 (m, 3H), 4.99 (d, J = 7.3 Hz, 1H), 5.81 (s, 1H), 6.82 (d, J = 7.3 Hz, 1H), 7.07-7.45 (m, 12H), 7.75 (s, 1H), 7.85 (s, 1H).

化合物（Ｉ−１）の合成

工程１ 化合物３８の合成
窒素雰囲気下、４−メチルベンゼンスルホンアミド（１３．３ｇ、７７ｍｍｏｌ）、化合物３７（７．７４ｍＬ、７０．４ｍｍｏｌ）をテトラエチルオルトシリケート（１７．３ｍＬ、７７ｍｍｏｌ）に加え、１６０℃で１２時間撹拌した。放冷後、反応溶液にヘキサン、酢酸エチルを加え放置すると、結晶が析出した。結晶を炉別後に乾燥して化合物３８（２０．３ｇ、収率９７％）を得た。
ＬＣ／ＭＳ（メソッド１）ＲＴ＝２．１５、ＭＳ（ｍ／ｚ）＝２９５．９５

工程２ 化合物３９の合成
化合物３８（１３．９ ｇ， ４７．１ｍｍｏｌ）、（Ｅ）−エチル−５−ニトロペンタ−２−エノエート（８．１５ ｇ， ４７．１ｍｍｏｌ）をトルエン（１００ｍｌ）に溶解し、氷冷下、３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−Ｎ（（Ｓ−（（１Ｓ， ２Ｓ， ４Ｓ， ５Ｒ）−５−メチルキヌクリジン−２−イル）（６−メチルキノリン−４−イル）メチル）ベンズアミド（２．０４ ｇ， ３．７７ｍｍｏｌ）を加え、室温で４日間撹拌した。反応液を濃縮後、水を加え、酢酸エチルで抽出した後、有機層を水洗し、硫酸ナトリウムで乾燥した。溶媒を減圧留去し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン−酢酸エチル）により精製することにより、化合物３９（１．９ｇ、７０．２％）を得た。
1H-NMR（CDCl3） δ:1.31（t， J = 7.2 Hz， 3H）， 2.05-2.14（m， 1H）， 2.47（s， 3H）， 2.70（dd， J = 16.4， 9.3 Hz， 1H）， 2.75-2.85（m， 1H）， 3.49（dd， J = 16.3， 3.9 Hz， 1H）， 4.14-4.31（m， 1H）， 4.20（dd， J = 7.2， 5.1 Hz， 2H）， 4.68-4.74（m， 1H）， 5.36（s， 1H）， 7.17-7.22（m， 2H）， 7.27-7.34（m， 1H）， 7.36（d， J = 8.0 Hz， 2H）， 7.69（d， J = 8.3 Hz， 2H）.
ＬＣ／ＭＳ（メソッド１） ＲＴ＝２．３８、ＭＳ（ｍ／ｚ）＝４６９．０５

工程３ 化合物４０の合成
化合物３９（７．００ ｇ， １４．９ｍｍｏｌ）をＴＨＦ（２０ｍＬ）およびＭｅＯＨ（１４０ｍｌ）に溶解しラネーニッケル触媒（０．８７７ ｇ， １４．９ｍｍｏｌ）を加えて、接触水素添加反応をした。反応終了後、反応液をセライト濾過し、その炉液を濃縮して化合物４０（６．４５ｇ、収率９８％）を得た。
ＬＣ／ＭＳ（メソッド１）ＲＴ＝１．４７、ＭＳ（ｍ／ｚ）＝４３９．１５

工程４ 化合物４１の合成
化合物４０（８．３９ ｇ， １９．１ｍｍｏｌ）のジクロロメタン（１６８ｍｌ）溶液にトリエチルアミン（５．３０ｍｌ， ３８．３ｍｍｏｌ）を加えた。溶液に氷冷下、二炭酸ジ−ｔｅｒｔ−ブチル（１３．９２ｍｌ， １９．１３ｍｍｏｌ）を加え、室温で終夜撹拌した。水を加え、ジクロロメタンで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄した後、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。溶媒を減圧留去し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン−酢酸エチル）により精製して化合物４１（６．４７ ｇ、収率６３％）を得た。
ＬＣ／ＭＳ（メソッド１）ＲＴ＝２．３５、ＭＳ（ｍ／ｚ）＝４８３．１５（Ｍ−５５）

工程５ 化合物４２の合成
化合物４１（３．５３ｇ， ６．５５ｍｍｏｌ）のＴＨＦ（３０ｍｌ）溶液に氷冷下、水素化アルミニウムリチウム（０．３７３ ｇ， ９．８３ｍｍｏｌ）を加えた。混合物を室温で３０分間撹拌した。水酸化ナトリウム溶液（１ｍｏｌ／Ｌ）加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄した後、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。溶媒を減圧留去し、白色固体、化合物４２（３．０ ｇ、収率９２％）を得た。
ＬＣ／ＭＳ（メソッド１）ＲＴ＝２．１７、ＭＳ（ｍ／ｚ）＝４４１．１０（Ｍ−５５）

工程６ 化合物４３の合成
化合物４２（１．００ｇ， ２．０１ｍｍｏｌ）のＴＨＦ（１０ｍｌ）溶液に氷冷下セレノシアン酸２−ニトロフェニル（０．５３ ｇ， ２．３２ｍｍｏｌ）、トリブチルホスフィン（０．５７ｍｌ， ２．３２ｍｍｏｌ）を加えた。混合物を室温で１２時間撹拌した。溶媒を減圧留去し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン−酢酸エチル）により精製して中間粗生成物（１．０６ ｇ、収率１０７％）を得た。その粗精製物をＴＨＦ（１０ｍｌ）に溶解し、氷冷下３０％過酸化水素水溶液（３．２ｍｌ）を加え３日間撹拌した。析出した個体を炉別し、さらに炉液に飽和炭酸水素ナトリウム溶液（１ｍｏｌ／Ｌ）加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄した後、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。溶媒を減圧留去し得た白色個体に先の個体を合わせて、化合物４３（０．８５ ｇ、収率８８％）を得た。
1H-NMR（CDCl3） δ:1.42（s， 9H）， 1.73-1.85（m， 1H）， 1.90-2.00（m， 1H）， 2.45（s， 3H）， 3.92（br s， 1H）， 4.14-4.28（m， 2H）， 4.83（br s， 1H）， 5.22-5.35（m， 2H）， 6.04（ddd， J = 34.4， 17.2， 8.6 Hz， 17.11（dd， J = 18.0， 8.3 Hz， 1H）， 7.19-7.29（m， 1H）， 7.32（d， J = 20.6 Hz， 6H）， 7.69（d， J = 7.8 Hz， 2H）．ＬＣ／ＭＳ（メソッド１）ＲＴ＝２．５５、ＭＳ（ｍ／ｚ）＝４２３．０５（Ｍ−５５）

工程７ 化合物４４の合成
化合物４３（４４０ｍｇ， ０．９１９ｍｍｏｌ）のジクロロメタン（１ｍｌ）溶液に氷冷下ＴＦＡ（０．０７１ｍｌ， ０．９１９ｍｍｏｌ）を加えた。混合物を室温で１時間撹拌した。溶媒を減圧留去し、化合物４４（３４８ｍｇ、収率１００％）を得た。
ＬＣ／ＭＳ（メソッド１）ＲＴ＝１．３３、ＭＳ（ｍ／ｚ）＝３７９．３５

工程８ 化合物４５の合成
窒素雰囲気下、化合物４４（３４８ｍｇ， ０．９２０ｍｍｏｌ）および、既知の方法（ＷＯ２０１２１５８４１３）で合成できる化合物Ｙ（３４３ｍｇ， ０．９２０ｍｍｏｌ）をジクロロメタン（１０ｍｌ）に溶解し、氷冷下、トリエチルアミン（１．２８ｍｌ， ９．２０ｍｍｏｌ）を加え、室温で１時間撹拌した。飽和塩化アンモニウム水溶液を加え酢酸エチルで抽出した。有機層を水洗した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を減圧留去し、得られた残渣をアミノシリカゲルカラムクロマトグラフィー（クロロホルム−ＭｅＯＨ）により精製して化合物４５（５８１ｍｇ、収率９６％）を得た。
ＬＣ／ＭＳ（メソッド１）ＲＴ＝２．１３、ＭＳ（ｍ／ｚ）＝ ６５８．２５

工程９ 化合物４６の合成
化合物４５（３７１ｍｇ， ０．５６４ｍｍｏｌ）のＴＨＦ（１ｍｌ）および水（０．５ｍｌ）溶液に、ＮＭＯ（１３２ｍｇ， １．１３ｍｍｏｌ）、ＤＡＢＣＯ（１２７ｍｇ， １．１３ｍｍｏｌ）、オスミウム(ＶＩ）酸カリウム二水和物（１０．４ｍｇ， ０．０２８ｍｍｏｌ）を加え、室温で１２時間撹拌した。飽和チオ硫酸ナトリウム水溶液を加えクロロホルムで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を減圧留去し、化合物４６粗精製物（４３７ｍｇ、収率１１２％）を得た。
ＬＣ／ＭＳ（メソッド１）ＲＴ＝１．７７、ＭＳ（ｍ／ｚ）＝ ６９２．７０

工程１０ 化合物４７の合成
化合物４６（３９０ｍｇ， ０．５６４ｍｍｏｌ）のジクロロメタン（８ｍｌ）およびＴＨＦ（１ｍｌ）溶液に、トリエチルアミン（０．１１７ｍｌ， ０．８４６ｍｍｏｌ）、メタンスルホニルクロライド（０．０４６ｍｌ， ０．５９２ｍｍｏｌ）を加え、室温で１０分間撹拌した。水を加え酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を減圧留去し、化合物４７粗精製物（４２０ｍｇ、収率９７％）を得た。
ＬＣ／ＭＳ（メソッド１）ＲＴ＝１．８８、ＭＳ（ｍ／ｚ）＝ ７７０．２０

工程１１ 化合物４８の合成
化合物４７（４２０ｍｇ， ０．５４６ｍｍｏｌ）のＤＭＦ（２．１００ｍｌ）溶液に、ナトリウムメトキシド（２１１ｍｇ， １．０９ｍｍｏｌ）を加え、室温で２０分間撹拌した。さらにナトリウムメトキシド（２１１ｍｇ， １．０９ｍｍｏｌ）を加え２時間の撹拌後、飽和塩化アンモニウム水を加え酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を減圧留去し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（クロロホルム−ＭｅＯＨ）により精製して化合物４８（２２０ｍｇ、収率５７％）を得た。
ＬＣ／ＭＳ（メソッド１）ＲＴ＝１．９５、ＭＳ（ｍ／ｚ）＝ ７０６．２５

工程１２ 化合物４９の合成
化合物４８（６０ｍｇ， ０．０８５ｍｍｏｌ）、マグネシウム粉末（３１．０ｍｇ， １．２８ｍｍｏｌ）、ＭｅＯＨ（２．４ｍｌ）を入れた試験管（５ｍｌ）に対し、室温で１時間超音波をかけた。飽和塩化アンモニウム水を加えクロロホルムで抽出した。有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を減圧留去し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（クロロホルム−ＭｅＯＨ）により精製して化合物４９（２０ｍｇ、収率４３％）を得た。
ＬＣ／ＭＳ（メソッド１）ＲＴ＝１．０８、ＭＳ（ｍ／ｚ）＝５５２．２０

工程１３ 化合物５０の合成
化合物４９（３３ｍｇ， ０．０６０ｍｍｏｌ）のＭｅＯＨ（２ｍｌ）溶液に、クロロアセトアルデヒド（５ μＬ， ０．０６０ｍｍｏｌ）酢酸（４ μＬ， ０．０６０ｍｍｏｌ）、シアノ水素化ホウ素ナトリウム（１１．２８ｍｇ， ０．１７９ｍｍｏｌ）を加え、室温で３日間撹拌した。水を加えクロロホルムで抽出した。有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を減圧留去し、化合物５０粗精製物（３１ｍｇ、収率９７％）を得た。
ＬＣ／ＭＳ（メソッド１）ＲＴ＝１．８３、ＭＳ（ｍ／ｚ）＝ ６１４．２５

工程１４ 化合物（Ｉ−１）の合成
化合物５０（３１ｍｇ， ０．０５０ｍｍｏｌ）のＤＭＦ（２ｍｌ）溶液に、ヨウ化ナトリウム（１５１ｍｇ， １．０１０ｍｍｏｌ）を加えた。混合物を８３度で１２時間撹拌した。水を加えクロロホルムで抽出した。有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を減圧留去し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（クロロホルム−ＭｅＯＨ）により精製して化合物（Ｉ−１）（６ｍｇ、収率２０％）を得た。
ＬＣ／ＭＳ（メソッド１）ＲＴ＝１．６１、ＭＳ（ｍ／ｚ）＝ ５７８．３０

化合物（Ｉ−４０）の合成

工程１ 化合物５２の合成
水素化ナトリウム（４０１ｍｇ、１０．０ｍｍоｌ）をＴＨＦ（１０ｍＬ）に懸濁させた。氷冷下、マロン酸ジエチル（１．５３ｍＬ、１０．０ｍｍоｌ）を加え、室温にて１０分間撹拌した。化合物５１（１．５０ｇ、５．０１ｍｍоｌ）を加え、６０℃にて３時間撹拌した。
反応液を室温に戻し、塩化アンモニウム水溶液を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄した後、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。溶媒を減圧留去し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン−酢酸エチル）により精製して化合物５２（１．６７ｇ、収率８１％）を得た。
ＬＣ／ＭＳ（メソッド１） ＲＴ＝２．６１、ＭＳ（ｍ／ｚ）＝４１４．２０

工程２ 化合物５３の合成
化合物５２（７８７ｍｇ、１．９０ｍｍоｌ）をＴＨＦ（１０ｍＬ）に溶解し、反応容器を窒素ガスで置換した。氷冷下、０．１ｍоｌ／Ｌヨウ化サマリウム−ＴＨＦ溶液（５７．１ｍＬ、５．７１ｍｍоｌ）を加え、２０分間撹拌した。室温に昇温し、さらに４０分間撹拌した。
１ｍоｌ／Ｌ塩酸を加え、クロロホルムで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄した後、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。溶媒を減圧留去し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン−酢酸エチル）により精製して化合物５３（３１０ｍｇ、収率６３％）を得た。
ＬＣ／ＭＳ（メソッド１） ＲＴ＝１．６３、ＭＳ（ｍ／ｚ）＝２６０．１５

工程３ 化合物５４の合成
化合物５３（３１０ｍｇ、１．１９ｍｍоｌ）をジクロロメタン（６ｍＬ）に溶解した。トリメチルオキソニウムテトラフルオロボラート（２１２ｍｇ、１．４３ｍｍоｌ）を加え、室温にて一晩撹拌した。反応溶液を濃縮後、メタノール（４ｍＬ）に溶解し、シアノ水素化ホウ素ナトリウム（２２５ｍｇ、３．５８ｍｍоｌ）を加えた。ｐＨ指示薬としてブロモクレゾールグリーンを加えておき、反応溶液が酸性に保てるように２ｍоｌ／Ｌ塩化水素−メタノール溶液を適宜追加しながら２時間撹拌した。
炭酸水素ナトリウム水溶液を加え、クロロホルムで抽出した後、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。溶媒を減圧留去し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（クロロホルム−メタノール）により精製して化合物５４（２６１ｍｇ、収率８９％）を得た。
ＬＣ／ＭＳ（メソッド１） ＲＴ＝１．０６、ＭＳ（ｍ／ｚ）＝２４６．２０

工程４ 化合物５５の合成
化合物５４（２６１ｍｇ、１．０７ｍｍоｌ）をアセトニトリル（５．３ｍＬ）に溶解した。ジイソプロピルエチルアミン（０．５５８ｍＬ、３．２０ｍｍоｌ）と１−ブロモ−２−メトキシエタン（０．１１２ｍＬ、１．１７ｍｍоｌ）を加え、６０℃にて一晩撹拌した。
反応液を室温に戻し、炭酸水素ナトリウム水溶液を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄した後、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。溶媒を減圧留去し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン−酢酸エチル）により精製して化合物５５（２３０ｍｇ、収率７１％）を得た。
ＬＣ／ＭＳ（メソッド１） ＲＴ＝１．１２、ＭＳ（ｍ／ｚ）＝３０４．２５

工程５ 化合物５６の合成
化合物５５（２３０ｍｇ、０．７５７ｍｍоｌ）をＴＨＦ（２ｍＬ）とメタノール（２ｍＬ）の混合溶媒に溶解した。１ｍоｌ／Ｌ水酸化ナトリウム水溶液（０．９０８ｍＬ、０．９０８ｍｍоｌ）を加え、室温で一晩撹拌した。２ｍоｌ／Ｌ塩酸（０．４５４ｍＬ、０．９０８ｍｍоｌ）を加え、反応溶液を濃縮した。
得られた残渣をトルエン（２．５ｍＬ）に溶解した。トリエチルアミン（０．１５７ｍＬ、１．１４ｍｍоｌ）とＤＰＰＡ（０．１９５ｍＬ、０．９０８ｍｍоｌ）を加え、室温で３０分撹拌した。８０℃に昇温して３０分撹拌した後、ベンジルアルコール（０．７８７ｍＬ、７．５７ｍｍоｌ）を加え、８０℃で一晩撹拌した。
反応液を室温に戻し、炭酸水素ナトリウム水溶液を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄した後、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。溶媒を減圧留去し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン−酢酸エチル）により精製して化合物５６（２２７ｍｇ、収率７９％）を得た。
ＬＣ／ＭＳ（メソッド１） ＲＴ＝１．４２、ＭＳ（ｍ／ｚ）＝３８１．３０

工程６ 化合物（Ｉ−４０）の合成
化合物５６（５８ｍｇ、０．１５２ｍｍｏｌ）をＴＨＦ（１ｍＬ）とメタノール（１ｍＬ）の混合溶媒に溶解した。１０％パラジウム−炭素（２０ｍｇ）を加え、水素雰囲気下２時間撹拌した。反応液をろ過し、ろ液を濃縮した。
得られた残渣をジクロロメタン（１ｍＬ）に溶解した。トリエチルアミン（０．０４２ｍＬ、０．１５２ｍｍоｌ）と既知の方法（ＷＯ２０１２１５８４１３）で合成できる化合物Ｙ（５６．８ｍｇ、０．１５２ｍｍｏｌ）を加え、室温で一晩撹拌した。反応液をそのままシリカゲルカラムクロマトグラフィー（クロロホルム−メタノール）により精製して化合物（Ｉ−４０）（ｒａｃｅｍａｔｅ、４６．７ｍｇ、収率５８％）を得た。
¹H-NMR (CDCl₃) δ: 2.16 (s, 3H), 2.13-2.26 (m, 3H), 2.65-2.96 (m, 3H), 2.96-3.17 (m, 3H), 3.33 (s, 3H), 3.38-3.54 (m, 2H), 3.96 (s, 3H), 4.57 (s, 1H), 5.23 (d, J = 8.2 Hz, 1H), 5.96 (br s, 1H), 7.05-7.20 (m, 4H), 7.31 (t, J = 7.7 Hz, 1H), 7.40 (t, J = 7.7 Hz, 2H), 7.53 (d, J = 7.7 Hz, 2H), 7.74 (s, 1H), 7.84 (s, 1H).

（参考例４） 化合物６０の合成

工程１ 化合物５８の合成
化合物５７（合成法はＷＯ２０１２／１２５７４６に記載）（４．３２ｇ、１５．８ｍｍｏｌ）、ビス（ピナコラート）ジボロン（８．０３ｇ、３１．６ｍｍоｌ）、酢酸カリウム（４．６６ｇ、４７．４ｍｍｏｌ）および[1,1'-ビス(ジフェニルホスフィノ)フェロセン]ジクロロパラジウム(II)ジクロロメタン錯体（０．６４６ｇ、０．７９１ｍｍｏｌ）をＤＭＦ（４０ｍＬ）に溶解し、９０℃で４時間撹拌した。
反応溶液に酢酸エチル（１００ｍＬ）と水（１００ｍＬ）を加え不溶物をセライトろ過した後、酢酸エチルで２回抽出した。有機層を水で２回洗浄し、溶媒を減圧留去することで化合物５８を粗生成物として得た。

工程２ 化合物５９の合成
上記工程１で得られた残渣を１，４−ジオキサン（５０ｍＬ）に溶解し、化合物Ｖ（合成法はＷＯ２０１２／１５８４１３に記載）（５．０８ｇ、１５．８ｍｍｏｌ）、リン酸三カリウム（６．７１ｇ、３１．６ｍｍｏｌ）、ＸＰｈｏｓアミノビフェニルパラジウムジクロリド前触媒（０．６２２ｇ、０．７９０ｍｍｏｌ）および水（２５ｍＬ）を加え、９０℃で４時間撹拌した。
反応溶液に飽和食塩水を加え、酢酸エチルで２回抽出した後、有機層を硫酸ナトリウムで乾燥し溶媒を減圧留去した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン−酢酸エチル）により精製して化合物５９を得た。
ＬＣ／ＭＳ（メソッド１） ＲＴ＝１．９９、ＭＳ（ｍ／ｚ） ＝３６６
¹H-NMR（CDCl3）δ：1.30 (s, 9H),2.15 (s, 3H), 3.72 (s, 2H), 5.35 (s, 2H), 7.40 (t, J = 7.6Hz, 1H), 7.52 (t, J = 8.4Hz, 2H), 7.62 (dd, J = 8.4 and 1.2Hz, 2H), 9.05 (s, 2H).

工程３ 化合物６０の合成
化合物５９（１．６０ｇ、４．３８ｍｍｏｌ）をジクロロメタン（４．４ｍＬ）に溶解した。ピリジン（０．６３７ｍＬ、７．８９ｍｍｏｌ）とクロロギ酸フェニル（０．６８８ｍＬ、５．４８ｍｍｏｌ）を加え、室温で３０分間撹拌した。
反応溶液をそのままシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン−酢酸エチル）により精製して化合物６０（１．５８ｇ、収率７５％）を得た。
ＬＣ／ＭＳ（メソッド１） ＲＴ＝２．３３、ＭＳ（ｍ／ｚ） ＝４８６．３０

化合物（Ｉ−５１）の合成

工程１ 化合物（Ｉ−５１）の合成
化合物２９（２９０ｍｇ、０．７６１ｍｍｏｌ）をＴＨＦ（３ｍＬ）とメタノール（３ｍＬ）の混合溶媒に溶解した。１０％パラジウム−炭素（６０ｍｇ）を加え、水素雰囲気下１時間撹拌した。反応液をろ過し、ろ液を濃縮した。
得られた残渣をジクロロメタン（３ｍＬ）に溶解した。トリエチルアミン（０．２１１ｍＬ、１．５２ｍｍоｌ）と化合物６０（３６９ｍｇ、０．７６１ｍｍｏｌ）を加え、室温で一晩撹拌した。反応液をそのままシリカゲルカラムクロマトグラフィー（クロロホルム−メタノール）により精製して化合物（Ｉ−１５７）（３７０ｍｇ、収率７６％）を得た。
ＬＣ／ＭＳ（メソッド１） ＲＴ＝１．９３、ＭＳ（ｍ／ｚ） ＝６３８．４０

工程２ 化合物（Ｉ−５１）の合成
化合物（Ｉ−１５７）（３７０ｍｇ、０．５８０ｍｍｏｌ）をテトラヒドロフラン（２ｍＬ）とメタノール（２ｍＬ）の混合溶媒に溶解した。１ｍоｌ／Ｌ 水酸化ナトリウム水溶液（１．７４ｍＬ、１．７４ｍｍоｌ）を加え、室温で一晩撹拌した。
飽和塩化アンモニウム水溶液を加え、クロロホルムで抽出した。有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥した。溶媒を減圧留去し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（クロロホルム−メタノール）により精製してＩ−５１（ｒａｃｅｍａｔｅ、２８７ｍｇ、収率８９％）を得た。
¹H-NMR (CDCl₃) δ: 2.27 (s, 3H), 2.40-2.58 (m, 2H), 2.65 (br s, 1H), 2.72-2.89 (m, 2H), 2.98-3.34 (m, 6H), 3.34-3.52 (m, 2H), 3.68 (br s, 1H), 3.94 (br s, 1H), 4.91 (s, 2H), 5.14 (br s, 1H), 6.99-7.16 (m, 4H), 7.40 (t, J = 7.3 Hz, 1H), 7.49 (t, J = 7.3 Hz, 2H), 7.61 (d, J = 7.3 Hz, 2H), 9.15 (s, 2H).

一般的製造法および実施例に記載の方法に準じて以下の化合物を得た。構造および物性（ＬＣ／ＭＳデータ）を以下の表に示す。
「LCMS method No.」はLC/MSの測定条件を意味する。
以下の表において、化学構造式に隣接して「ＨＣＯＯＨ」を意味する化学式が記載されている場合は、該化合物が「ＨＣＯＯＨ塩」を形成していることを意味する。
なお、構造式中、「くさび形」および「破線」は立体配置を示す。特に、立体配置が記載された化合物において、「立体」の項目に「ｒａｃｅｍａｔｅ」と記載されている化合物は相対立体配置が特定されたラセミ体化合物であり、「ｓｉｎｇｌｅ ｉｓｏｍｅｒ」と記載されている化合物は、単一の立体異性体である。
さらに、化合物Ｉ−１００およびＩ−１０１は、互いにジアステレオマーの関係にあり、化合物Ｉ−１３７およびＩ−１３８、並びに、化合物Ｉ−１４３およびＩ−１４４は、互いにエナンチオマーの関係にある。

試験例１ 細胞増殖阻害活性（ＴＦ−１アッセイ）
ヒト赤白血病細胞株であるＴＦ−１細胞（ＡＴＣＣ Ｎｕｍｂｅｒ：ＣＲＬ−２００３）にレトロウイルスベクターを用いて各神経栄養因子に対するヒト受容体遺伝子（ＴｒｋＡ、ＴｒｋＢ、ＴｒｋＣ、ｐ７５）を導入し、それらの受容体を安定的に高発現する細胞を作製する。なお、ＮＧＦへの阻害活性評価にはＴｒｋＡおよびｐ７５を導入したＴＦ−１細胞、ＢＤＮＦへの阻害活性評価にはＴｒｋＢおよびｐ７５を導入したＴＦ−１細胞、ＮＴ−３に対する評価にはＴｒｋＣおよびｐ７５を導入したＴＦ−１細胞を使用する。白色の３８４ウェル平底プレートに２００ｎＬＤＭＳＯに調製した被験物質（最終濃度２０μｍｏｌ／Ｌ〜０．０５ｎｍｏｌ／Ｌ）を添加する。各ＴＦ−１細胞と各リガンドを１０％の胎児ウシ血清を含むＲＰＭＩ−１６４０培地に、１ウェルあたりＴｒｋＡおよびｐ７５発現細胞およびＴｒｋＣおよびｐ７５発現細胞は４００個、ＴｒｋＢおよびｐ７５発現細胞は８００個となるように、また、それぞれのリガンドとしてヒトＮＧＦは最終濃度４ｎｇ／ｍＬ、ヒトＢＤＮＦおよびヒトＮＴ−３は最終濃度８ｎｇ／ｍＬとなるように調整し、４０μＬを各ウェルに添加する。３日後にＣｅｌｌＴｉｔｅｒ−Ｇｌｏ Ｌｕｍｉｎｅｓｃｅｎｔ Ｃｅｌｌ Ｖｉａｂｉｌｉｔｙ Ａｓｓａｙ（Ｐｒｏｍｅｇａ社製）のＣｅｌｌＴｉｔｅｒ−Ｇｌｏ試薬を各ウェルに２０μＬ添加後、マイクロプレートリーダーにより化学発光を測定し、各神経栄養因子刺激によるＴＦ−１細胞の増殖を評価する。各神経栄養因子のみの添加で細胞を３日間培養して得られた１ウェルあたりの発光量を阻害活性０％発光量、神経栄養因子無添加で３日間培養して得られた１ウェルあたりの発光量を阻害活性１００％発光量として、化合物の抑制率を次式にて算出する。

抑制率（％）＝(１−(被験物質添加時の発光量−阻害活性１００％発光量)／(阻害活性０％発光量−阻害活性１００％発光量）)×１００
化合物濃度２０μｍｏｌ／Ｌから３倍希釈系列１ｎｍｏｌ／Ｌまでの１０点、または１μｍｏｌ／Ｌから３倍希釈系列０．０５ｎｍｏｌ／Ｌまでの１０点について抑制率を求め、ロジスティック近似法によりＩＣ５０値（ｎｍｏｌ／Ｌ)を算出する。

試験例１−１
Brennan術後痛モデルによる薬効評価
モデル作製
ラットをイソフルラン麻酔下で後肢底の皮膚および筋膜を切開後、屈筋を垂直に二分し、皮膚を縫合した。左後肢踵より約0.5cmの部位から足先に向かって約1cmにわたってメスを用いて皮膚を切開し、足底筋を持ち上げてメスを用いて縦に切開後、5-0ナイロン糸で皮膚を2箇所縫合した。
評価(1)
Randall-Selitto試験
analgesiometerにより機械痛覚過敏に対する作用を評価した。手術後、analgesiometerにより1秒当り16gずつ刺激圧が増加するようにラッ卜後肢を圧迫し、ラッ卜が逃避行動を示した際の圧を疼痛閾値とした。左右の後肢について疼痛閾値を評価し、処置前疼痛閾値とした。手術側の疼痛閾値が80g以下、かつ手術前の疼痛閾値が100〜160gの動物を採用した。なお、動物の訓練のため、処置前疼痛閾値測定前に同様の操作を実施した。採用した動物に本発明に係る化合物を投与した。本発明に係る化合物は懸濁液、または溶液を調製し、静脈投与あるいは皮下投与した。投与後、左右後肢の疼痛閾値を評価し、処置後疼痛閾値とした。下記の方法により%reversal値を計算し、化合物の鎮痛作用を比較した。
%reversal =１００×(処置後疼痛閾値一処置前疼痛閾値）/ (手術前疼痛閾値-処置前疼痛閾値）

（結果）
化合物Ｉ−１５：３１％reversal（４mg/kg）
化合物Ｉ−６３：３３％reversal（６mg/kg）

評価(2)
電動von Frey試験
手術後、電動von Frey装置を用いて機械痛覚過敏に対する作用を評価する。手術後、金網上に載せたプラスチック製ケージにラッ卜を入れ、馴化させる。金網側からラッ卜足裏にbluntなフィラメントを押し当て、ラッ卜が逃避行動を示す圧値を疼痛閾値とする。左右の後肢について疼痛閾値を評価し、処置前疼痛閾値とした。手術側の疼痛閾値が0.6〜10gの動物を採用する。なお、動物の訓練のため、処置前疼痛閾値測定前に同様の操作を実施する。採用した動物に本発明に係る化合物を投与する。本発明に係る化合物は懸濁液、または溶液を調製し、静脈投与あるいは皮下投与する。投与後、左右後肢の疼痛閾値を評価し、処置後疼痛閾値とする。投与後、左右後肢の疼痛閾値を評価し、処置後疼痛閾値とする。下記の方法により%reversal値を計算し、化合物の鎮痛作用を比較する。
%reversal =１００×(処置後疼痛閾値一処置前疼痛閾値）/ (手術前疼痛閾値-処置前疼痛閾値）

本発明に係る式（Ｉ）または式（ＩＡ）で示される化合物は、ＴｒｋＡ受容体阻害作用を有し、ヒトＴｒｋＡ受容体を阻害するものであればよい。
具体的には、以下に記載する評価方法において、ＩＣ５０は５０００ｎＭ以下が好ましく、より好ましくは、１０００ｎＭ以下、さらにより好ましくは１００ｎＭ以下である。

試験例２ ヒ卜ＴｒｋＡ阻害活性の測定
３８４ウェルプレー卜に、０．４μＬのＤＭＳＯに溶解した被験物質(最終濃度２００μＭ〜１ｐＭ)を添加した。そこにアッセイバッファー［１００ ｍｍｏｌ／Ｌ ４−（２−ヒドロキシエチル）−１−ピぺラジンエタンスルホン酸（ＨＥＰＥＳ）、１０ ｍｍｏｌ／Ｌ塩化マグネシウム、０．００３ ｖｏｌ％ Ｂｒｉｊ−３５、０．００４ ｖｏｌ％ Ｔｗｅｅｎ２０および１ ｍｍｏｌ／Ｌ ジチオスレイ卜ール］にて希釈したＴｒｋＡ （ＴｒｋＡ、ＰＶ３１４４、ライフテクノロジーズ社、最終濃度１ｎＭ）７．５μＬを添加し、室温で１５分間前処理した。そこにアッセイバッファーに調製した蛍光標識基質（ＦＬ−Ｐｅｐｔｉｄｅ ２７、７６０４２４、パーキンエルマー社、最終濃度１．５μＭ）、ＡＴＰ（最終濃度５００μＭ）を添加して、全量１５ μＬにて、３７度で１２０分間反応させた。次に、このプレー卜にターミネーションバッファー［１００ ｍｍｏｌ／Ｌ ＨＥＰＥＳ、４０ ｍｍｏｌ／Ｌエチレンジアミン四酢酸（ＥＤＴＡ）、１０ ｍｍｏｌ／Ｌ塩化マグネシウム、０．００３ ｖｏｌ％ Ｂｒｉｊ−３５、０．００４ ｖｏｌ％ Ｔｗｅｅｎ２０、１ ｍｍｏｌ／Ｌ ジチオスレイ卜ール、および０．１６ ｖｏｌ ％ Ｃｏａｔｉｎｇ Ｒｅａｇｅｎｔ ３］を１５ μＬ添加して酵素反応を停止させた。次に、モビリティーシフ卜アッセイ装置（ＬａｂＣｈｉｐ ＥＺ Ｒｅａｄｅｒ ＩＩ、Ｃａｌｉｐｅｒ Ｌｉｆｅ Ｓｃｉｅｎｃｅｓ社）を用いて、蛍光標識基質およびリン酸化された蛍光標識基質の蛍光強度を測定し、以下の式１に基づき、変換率を算出した。次に、溶媒であるＤＭＳＯを添加したウェルを陰性対照とし、ＴｒｋＡ未添加のウェルを陽性対照として、以下の式２により被検物質のリン酸化阻害率を求めた。

（式１） 変換率（％）＝（リン酸化基質蛍光強度／（リン酸化基質蛍光強度＋未リン酸化基質蛍光強度））ｘ１００

（式２） リン酸化阻害率（％）＝（１−（被検物質添加時の変換率−陽性対照の変換率）／（陰性対照の変換率−陽性対象の変換率））ｘ１００
被検物質濃度２０ｎｍｏｌ／Ｌから３倍希釈系列１ｐｍｏｌ／Ｌまでの１０点、または２μｍｏｌ／Ｌから３倍希釈系列０．１ｎｍｏｌ／Ｌまでの１０点、または２００μｍｏｌ／Ｌから３倍希釈系列１０ｎｍｏｌ／Ｌまでの１０点、または２００μｍｏｌ／Ｌから３倍希釈系列０．０４ｎｍｏｌ／Ｌまでの１５点について抑制率を求め、ロジスティック近似法によりＩＣ５０値（ ｎｍｏｌ／Ｌ ) を算出した。
（結果）
本発明に係る化合物のＴｒｋＡ阻害活性に関する評価結果を以下に示す。なお、ＩＣ５０値は、０ｎＭ以上１００ｎＭ未満を「Ａ」、１００ｎＭ以上１０００ｎＭ未満を「Ｂ」、１０００ｎＭ以上を「Ｃ」とする。

試験例３ ｈＥＲＧ試験
本発明に係る化合物の心電図ＱＴ間隔延長リスク評価を目的として、ｈｕｍａｎ ｅｔｈｅｒ−ａ−ｇｏ−ｇｏ ｒｅｌａｔｅｄ ｇｅｎｅ （ｈＥＲＧ）チャネルを発現させたチャイニーズハムスター卵巣細胞（ＣＨＯ）細胞を用いて、心室再分極過程に重要な役割を果たす遅延整流Ｋ^＋電流（Ｉ_Ｋｒ）への本発明に係る化合物の作用を検討する。
全自動パッチクランプシステム（ＱＰａｔｃｈ；Ｓｏｐｈｉｏｎ Ｂｉｏｓｃｉｅｎｃｅ Ａ／Ｓ）を用い、ホールセルパッチクランプ法により、細胞を−８０ｍＶの膜電位に保持し、−５０ｍＶのリーク電位を与えた後、＋２０ｍＶの脱分極刺激を２秒間、さらに−５０ｍＶの再分極刺激を２秒間与えた際に誘発されるＩ_Ｋｒを記録する。ジメチルスルホキシドを最終濃度として0.1%から0.3%の範囲内に調整した細胞外液（ＮａＣｌ：１４５ ｍｍｏｌ／Ｌ、ＫＣｌ：４ ｍｍｏｌ／Ｌ、ＣａＣｌ２：２ ｍｍｏｌ／Ｌ、ＭｇＣｌ２：１ ｍｍｏｌ／Ｌ、グルコース：１０ ｍｍｏｌ／Ｌ、ＨＥＰＥＳ（４−（２−ｈｙｄｒｏｘｙｅｔｈｙｌ）−１−ｐｉｐｅｒａｚｉｎｅｅｔｈａｎｅｓｕｌｆｏｎｉｃ ａｃｉｄ、４−（２−ヒドロキシエチル）−１−ピペラジンエタンスルホン酸）：１０ ｍｍｏｌ／Ｌ、ｐＨ＝７．４）を媒体とし、媒体及び本発明に係る化合物を目的の濃度で溶解させた細胞外液をそれぞれ室温条件下で、７分以上細胞に適用させる。得られたＩ_Ｋｒから、解析ソフト（ＱＰａｔｃｈ Ａｓｓａｙ ｓｏｆｔｗａｒｅ；Ｓｏｐｈｉｏｎ Ｂｉｏｓｃｉｅｎｃｅ Ａ／Ｓ）を使用して、保持膜電位における電流値を基準に最大テール電流の絶対値を計測する。さらに、媒体適用後の最大テール電流に対する本発明に係る化合物適用後の最大テール電流を阻害率として算出し、本発明に係る化合物のＩ_Ｋｒへの影響を評価する。

試験例４ ＣＹＰ阻害試験
市販のプールドヒト肝ミクロソームを用いて、ヒト主要ＣＹＰ５分子種（ＣＹＰ１Ａ２、２Ｃ９、２Ｃ１９、２Ｄ６、３Ａ４）の典型的基質代謝反応として７−エトキシレゾルフィンのＯ−脱エチル化（ＣＹＰ１Ａ２）、トルブタミドのメチル−水酸化（ＣＹＰ２Ｃ９）、メフェニトインの４’−水酸化（ＣＹＰ２Ｃ１９）、デキストロメトルファンのＯ脱メチル化（ＣＹＰ２Ｄ６）、テルフェナジンの水酸化（ＣＹＰ３Ａ４）を指標とし、それぞれの代謝物生成量が本発明に係る化合物によって阻害される程度を評価する。

反応条件は以下のとおり：基質、０．５μｍｏｌ／Ｌ エトキシレゾルフィン（ＣＹＰ１Ａ２）、１００μｍｏｌ／Ｌ トルブタミド（ＣＹＰ２Ｃ９）、５０μｍｏｌ／Ｌ Ｓ−メフェニトイン（ＣＹＰ２Ｃ１９）、５μｍｏｌ／Ｌ デキストロメトルファン（ＣＹＰ２Ｄ６）、１μｍｏｌ／Ｌ テルフェナジン（ＣＹＰ３Ａ４）；反応時間、１５分；反応温度、３７℃；酵素、プールドヒト肝ミクロソーム０．２ｍｇ タンパク質／ｍＬ；本発明に係る化合物濃度、１、５、１０、２０μｍｏｌ／Ｌ（４点）。

９６穴プレートに反応溶液として、５０ｍｍｏｌ／Ｌ Ｈｅｐｅｓ緩衝液中に各５種の基質、ヒト肝ミクロソーム、本発明に係る化合物を上記組成で加え、補酵素であるＮＡＤＰＨを添加して、指標とする代謝反応を開始する。３７℃、１５分間反応した後、メタノール／アセトニトリル＝１／１（Ｖ／Ｖ）溶液を添加することで反応を停止する。３０００ｒｐｍ、１５分間の遠心後、遠心上清中のレゾルフィン（ＣＹＰ１Ａ２代謝物）を蛍光マルチラベルカウンタあるいはＬＣ／ＭＳ／ＭＳで定量し、トルブタミド水酸化体（ＣＹＰ２Ｃ９代謝物）、メフェニトイン４’水酸化体（ＣＹＰ２Ｃ１９代謝物）、デキストロルファン（ＣＹＰ２Ｄ６代謝物）、テルフェナジンアルコール体（ＣＹＰ３Ａ４代謝物）をＬＣ／ＭＳ／ＭＳで定量する。

薬物を溶解した溶媒であるＤＭＳＯのみを反応系に添加したものをコントロール（１００％）とし、残存活性（％）を算出し、濃度と抑制率を用いて、ロジスティックモデルによる逆推定によりＩＣ_５０を算出する。

試験例５ ＣＹＰ３Ａ４（ＭＤＺ）ＭＢＩ試験
本発明に係る化合物のＣＹＰ３Ａ４阻害に関して代謝反応による増強からＭｅｃｈａｎｉｓｍ ｂａｓｅｄ ｉｎｈｉｂｉｔｉｏｎ（ＭＢＩ）能を評価する試験である。プールドヒト肝ミクロソームを用いてミダゾラム（ＭＤＺ）の１−水酸化反応を指標としてＣＹＰ３Ａ４阻害を評価した。

反応条件は以下のとおり：基質、１０μｍｏｌ／Ｌ ＭＤＺ；プレ反応時間、０または３０分；反応時間、２分；反応温度、３７℃；プールドヒト肝ミクロソーム、プレ反応時０．５ｍｇ／ｍＬ、反応時０．０５ｍｇ／ｍＬ（１０倍希釈時）；本発明に係る化合物プレ反応時の濃度、１、５、１０、２０μｍｏｌ／Ｌ（４点）。

９６穴プレートにプレ反応液としてＫ−Ｐｉ緩衝液（ｐＨ７．４）中にプールドヒト肝ミクロソーム、本発明に係る化合物溶液を上記のプレ反応の組成で加え、別の９６穴プレートに基質とＫ−Ｐｉ緩衝液で１／１０希釈されるようにその一部を移行し、補酵素であるＮＡＤＰＨを添加して指標とする反応を開始し（プレ反応無）、所定の時間反応後、メタノール／アセトニトリル＝１／１（Ｖ／Ｖ）溶液を加えることによって反応を停止した。また残りのプレ反応液にもＮＡＤＰＨを添加しプレ反応を開始し（プレ反応有）、所定時間プレ反応後、別のプレートに基質とＫ−Ｐｉ緩衝液で１／１０希釈されるように一部を移行し指標とする反応を開始した。所定の時間反応後、メタノール／アセトニトリル＝１／１（Ｖ／Ｖ）溶液を加えることによって反応を停止した。それぞれの指標反応を行ったプレートを３０００ｒｐｍ、１５分間の遠心後、遠心上清中の１−水酸化ミダゾラム をＬＣ／ＭＳ／ＭＳで定量した。

本発明に係る化合物を溶解した溶媒であるＤＭＳＯのみを反応系に添加したものをコントロール（１００％）とし、本発明に係る化合物をそれぞれの濃度添加したときの残存活性（％）を算出し、濃度と阻害率を用いて、ロジスティックモデルによる逆推定によりＩＣを算出した。Ｐｒｅｉｎｃｕｂａｔａｉｏｎ ０ｍｉｎのＩＣ／Ｐｒｅｉｎｃｕｂａｔａｉｏｎ ３０ｍｉｎのＩＣをＳｈｉｆｔｅｄ ＩＣ値とし，Ｓｈｉｆｔｅｄ ＩＣが１．５以上であればＰｏｓｉｔｉｖｅ、Ｓｈｉｆｔｅｄ ＩＣが１．０以下であればＮｅｇａｔｉｖｅとした。
（結果）
化合物Ｉ−１５：Ｎｅｇａｔｉｖｅ
化合物Ｉ−１７：Ｎｅｇａｔｉｖｅ
化合物Ｉ−３０：Ｎｅｇａｔｉｖｅ
化合物Ｉ−３２：Ｎｅｇａｔｉｖｅ
化合物Ｉ−３４：Ｎｅｇａｔｉｖｅ
化合物Ｉ−６３：Ｎｅｇａｔｉｖｅ
化合物Ｉ−７２：Ｎｅｇａｔｉｖｅ
化合物Ｉ−７６：Ｎｅｇａｔｉｖｅ
化合物Ｉ−１３８：Ｎｅｇａｔｉｖｅ

試験例６ ＢＡ試験
経口吸収性の検討実験材料と方法
（１）使用動物：ＳＤラットを使用する。
（２）飼育条件：ＳＤラットは、固形飼料および滅菌水道水を自由摂取させる。
（３）投与量、群分けの設定：経口投与、静脈内投与を所定の投与量により投与する。以下のように群を設定する。
経口投与 ２μｍｏｌ／ｋｇ（ｎ＝２）
静脈内投与 １μｍｏｌ／ｋｇ（ｎ＝２）
（４）投与液の調製：経口投与はジメチルスルホキシド／０．５％メチルセルロース溶液＝１／４溶液を用いて溶液として投与する。静脈内投与はジメチルスルホキシド／プロピレングリコール＝１／１溶媒を用いて可溶化して投与する。
（５）投与方法：経口投与は、経口ゾンデにより強制的に胃内に投与する。静脈内投与は、注射針を付けたシリンジにより尾静脈から投与する。
（６）評価項目：経時的に採血し、血漿中本発明に係る化合物濃度をＬＣ／ＭＳ／ＭＳを用いて測定する。
（７）統計解析：血漿中本発明に係る化合物濃度推移について、モーメント解析法により血漿中濃度‐時間曲線下面積（ＡＵＣ）を算出し、経口投与群と静脈内投与群のＡＵＣから本発明に係る化合物のバイオアベイラビリティ（ＢＡ）を算出する。

試験例７ クリアランス評価試験
実験材料と方法
（１）使用動物：ＳＤラットを使用した。
（２）飼育条件：ＳＤラットは、固形飼料および滅菌水道水を自由摂取させた。
（３）投与量、群分けの設定：静脈内投与を所定の投与量により投与した。以下のように群を設定した。
静脈内投与 １μｍｏｌ／ｋｇ（ｎ＝２）
（４）投与液の調製：ジメチルスルホキシド／プロピレングリコール＝１／１溶媒を用いて可溶化して投与した。
（５）投与方法：注射針を付けたシリンジにより尾静脈から投与した。
（６）評価項目：経時的に採血し、血漿中本発明に係る化合物濃度をＬＣ／ＭＳ／ＭＳを用いて測定した。
（７）統計解析：血漿中本発明に係る化合物濃度推移について、モーメント解析法により全身クリアランス（CLtot）を算出した。
（結果）
化合物Ｉ−１２：９．９９ｍＬ／ｍｉｎ／ｋｇ
化合物Ｉ−３０：１８．２ｍＬ／ｍｉｎ／ｋｇ
化合物Ｉ−５７：１２．５ｍＬ／ｍｉｎ／ｋｇ
化合物Ｉ−１１５：１６．４ｍＬ／ｍｉｎ／ｋｇ
化合物Ｉ−１１９：１４．０ｍＬ／ｍｉｎ／ｋｇ

試験例８ Ｆｌｕｃｔｕａｔｉｏｎ Ａｍｅｓ Ｔｅｓｔ
本発明に係る化合物の変異原性を評価する。
凍結保存しているネズミチフス菌（Ｓａｌｍｏｎｅｌｌａ ｔｙｐｈｉｍｕｒｉｕｍ ＴＡ９８株、ＴＡ１００株）２０μＬを１０ｍＬ液体栄養培地（２．５％ Ｏｘｏｉｄ ｎｕｔｒｉｅｎｔ ｂｒｏｔｈ Ｎｏ．２）に接種し３７℃にて１０時間、振盪前培養する。ＴＡ９８株は７．７〜８．０ｍＬの範囲内で調整した菌液を遠心（２０００×ｇ、１０分間）して培養液を除去する。遠心に用いた菌液と同容量のＭｉｃｒｏ Ｆ緩衝液（Ｋ_２ＨＰＯ_４：３．５ｇ／Ｌ、ＫＨ_２ＰＯ_４：１ｇ／Ｌ、（ＮＨ_４）_２ＳＯ_４：１ｇ／Ｌ、クエン酸三ナトリウム二水和物：０．２５ｇ／Ｌ、ＭｇＳＯ_４・７Ｈ_２０：０．１ｇ／Ｌ）に菌を懸濁し、１２０ｍＬのＥｘｐｏｓｕｒｅ培地（ビオチン：８μｇ／ｍＬ、ヒスチジン：０．２μｇ／ｍＬ、グルコース：８ｍｇ／ｍＬを含むＭｉｃｒｏＦ緩衝液）に添加する。ＴＡ１００株は３．１〜３．４２ｍＬの範囲内で調整した菌液を１２０〜１３０ｍＬの範囲内で調整したＥｘｐｏｓｕｒｅ培地１３０ｍＬに添加し試験菌液を調製する。本発明に係る化合物ＤＭＳＯ溶液（最高用量５０ｍｇ／ｍＬから２〜３倍公比で数段階希釈）、陰性対照としてＤＭＳＯ、陽性対照として非代謝活性化条件ではＴＡ９８株に対しては５０μｇ／ｍＬの４−ニトロキノリン−１−オキシドＤＭＳＯ溶液、ＴＡ１００株に対しては０．２５μｇ／ｍＬの２−（２−フリル）−３−（５−ニトロ−２−フリル）アクリルアミドＤＭＳＯ溶液、代謝活性化条件ではＴＡ９８株に対して４０μｇ／ｍＬの２−アミノアントラセンＤＭＳＯ溶液、ＴＡ１００株に対しては２０μｇ／ｍＬの２−アミノアントラセンＤＭＳＯ溶液それぞれ１２μＬと試験菌液５８８μＬ（代謝活性化条件では試験菌液４９８μＬとＳ９ ｍｉｘ ９０μＬの混合液）を混和し、３７℃にて９０分間、振盪培養する。本発明に係る化合物を暴露した菌液２３０μＬを、Ｉｎｄｉｃａｔｏｒ培地（ビオチン：８μｇ／ｍＬ、ヒスチジン：０．２μｇ／ｍＬ、グルコース：８ｍｇ／ｍＬ、ブロモクレゾールパープル：３７．５μｇ／ｍＬを含むＭｉｃｒｏＦ緩衝液）１１５０μＬに混和し、５０μＬずつマイクロプレート４８ウェル／用量に分注し、３７℃にて３日間、静置培養する。アミノ酸（ヒスチジン）合成酵素遺伝子の突然変異によって増殖能を獲得した菌を含むウェルは、ｐＨ変化により紫色から黄色に変色するため、１用量あたり４８ウェル中の黄色に変色した菌増殖ウェルを計数し、陰性対照群と比較して評価する。変異原性が陰性のものを（−）、陽性のものを（＋）として示す。

試験例９ 代謝安定性試験
市販のプールドヒト肝ミクロソームと本発明に係る化合物を一定時間反応させ、反応サンプルと未反応サンプルの比較により残存率を算出し、本発明に係る化合物が肝で代謝される程度を評価した。

ヒト肝ミクロソーム０．５ｍｇタンパク質／ｍＬを含む０．２ｍＬの緩衝液（５０ｍｍｏｌ／Ｌ Ｔｒｉｓ−ＨＣｌ ｐＨ７．４、１５０ｍｍｏｌ／Ｌ 塩化カリウム、１０ｍｍｏｌ／Ｌ 塩化マグネシウム）中で、１ｍｍｏｌ／Ｌ ＮＡＤＰＨ存在下で３７℃、０分あるいは３０分間反応した（酸化的反応）。反応後、メタノール／アセトニトリル＝１／１（ｖ／ｖ）溶液の１００μＬに反応液５０μＬを添加、混合し、３０００ｒｐｍで１５分間遠心した。その遠心上清中の本発明に係る化合物をＬＣ／ＭＳ／ＭＳまたは固相抽出(ＳＰＥ)／ＭＳにて定量し、反応後の本発明に係る化合物の残存量を０分反応時の化合物量を１００％として計算した。
（結果）
化合物Ｉ−１５：４９％
化合物Ｉ−９７：１０３％

試験例１０ 粉末溶解度試験
適当な容器に本発明に係る化合物を適量入れ、各容器にｐＨ４クエン酸緩衝液（１００ｍｍｏｌ／Ｌクエン酸・一水和物水溶液と１００ｍｍｏｌ／Ｌクエン酸三ナトリウム・二水和物水溶液を適量混合し、ｐＨ４に調整）、ＪＰ−２液（リン酸二水素カリウム３．４０ｇおよび無水リン酸水素二ナトリウム３．５５ｇを水に溶かし１０００ｍＬとしたもの１容量に水１容量を加える）を２００μＬずつ添加する。試験液添加後に全量溶解した場合には、適宜、本発明に係る化合物を追加する。密閉して２５℃または３７℃で１時間振とう後に濾過し、各濾液１００μＬにメタノール１００μＬを添加して２倍希釈を行う。希釈倍率は、必要に応じて変更する。気泡および析出物がないかを確認し、密閉して振とうする。絶対検量線法によりＨＰＬＣを用いて本発明に係る化合物を定量する。

試験例１１ 溶解性試験
本発明に係る化合物の溶解度は、１％ＤＭＳＯ添加条件下で決定する。ＤＭＳＯにて１０ｍｍｏｌ／Ｌ化合物溶液を調製し、本発明に係る化合物溶液２ μＬをＪＰ−２液（下記参照）１９８μＬに添加する。室温で１時間振盪させた後、混液を吸引濾過する。濾液をメタノール／水＝１／１（Ｖ／Ｖ）またはアセトニトリル／メタノール／水＝１／１／２（Ｖ／Ｖ／Ｖ）にて１０または１００倍希釈し、絶対検量線法によりＬＣ／ＭＳまたは固相抽出(ＳＰＥ)／ＭＳを用いて濾液中濃度（Ｃ）を測定する。
ＪＰ−２液組成：
Ａ：リン酸二水素カリウム３．４０ｇおよび無水リン酸水素二ナトリウム３．５５ｇを水に溶かし１０００ｍＬとする。
Ｂ：リン酸二水素カリウム３．４０ｇおよび無水リン酸水素二ナトリウム３．５５ｇを水に溶かし１０００ｍＬとしたもの１容量に水１容量を加える。

製剤例
以下に示す製剤例は例示にすぎないものであり、発明の範囲を何ら限定することを意図するものではない。
製剤例１： 錠剤
本発明に係る化合物、乳糖およびステアリン酸カルシウムを混合し、破砕造粒して乾燥し、適当な大きさの顆粒剤とする。次にステアリン酸カルシウムを添加して圧縮成形して錠剤とする。

製剤例２： カプセル剤
本発明に係る化合物、乳糖およびステアリン酸カルシウムを均一に混合して粉末または細粒状として散剤をつくる。それをカプセル容器に充填してカプセル剤とする。

製剤例３： 顆粒剤
本発明に係る化合物、乳糖およびステアリン酸カルシウムを均一に混合し、圧縮成型した後、粉砕、整粒し、篩別して適当な大きさの顆粒剤とする。

製剤例４： 口腔内崩壊錠
本発明に係る化合物および結晶セルロースを混合し、造粒後打錠して口腔内崩壊錠とする。

製剤例５： ドライシロップ
本発明に係る化合物および乳糖を混合し、粉砕、整粒、篩別して適当な大きさのドライシロップとする。

製剤例６： 注射剤
本発明に係る化合物およびリン酸緩衝液を混合し、注射剤とする。

製剤例７： 点滴剤
本発明に係る化合物およびリン酸緩衝液を混合し、点滴剤とする。

製剤例８： 吸入剤
本発明に係る化合物および乳糖を混合し細かく粉砕することにより、吸入剤とする。

製剤例９： 軟膏剤
本発明に係る化合物およびワセリンを混合し、軟膏剤とする。

製剤例１０： 貼付剤
本発明に係る化合物および粘着プラスターなどの基剤を混合し、貼付剤とする。

本発明に係る医薬組成物は、ＴｒｋＡ阻害活性を有し、ＴｒｋＡに起因する疾患、例えば、変形性関節炎、関節リウマチ、骨折、間質性膀胱炎、慢性膵炎および前立腺炎に伴う痛み；また、慢性腰痛、糖尿病性末梢神経障害痛、術後痛、骨盤痛、癌性疼痛などに代表される侵害受容性疼痛、神経障害性疼痛、急性痛および慢性疼痛；並びに、がん、炎症性疾患、アレルギー性疾患および皮膚疾患などに対して有用である。

Claims (24)

1. 一般式（Ｉ）：
   

   

   
   （式中、式：
   

   

   
   で示される基は、式：
   

   

   
   （式中、Ｗは、窒素原子またはＣＲ^Ｗであり；
   Ｒ^Ｗは、水素原子、ハロゲンまたは置換若しくは非置換のアルキルであり；
   Ｒ^Ａは、置換若しくは非置換のアルキル、ハロゲン、置換若しくは非置換の芳香族炭素環式基、置換若しくは非置換の非芳香族炭素環式基、置換若しくは非置換の芳香族複素環式基または置換若しくは非置換の非芳香族複素環式基であり；
   Ｒ^Ａ’は、置換若しくは非置換のアルキル、置換若しくは非置換の芳香族炭素環式基、置換若しくは非置換の非芳香族炭素環式基、置換若しくは非置換の芳香族複素環式基または置換若しくは非置換の非芳香族複素環式基であり；
   Ｒ^３およびＲ^４は、それぞれ独立して、水素原子、置換若しくは非置換のアルキル、置換若しくは非置換のアルケニル、置換若しくは非置換のアルキニル、置換若しくは非置換のアルキルオキシカルボニル、置換若しくは非置換のカルバモイル、またはＲ^３およびＲ^４は一緒になって、オキソを形成してもよく；
   環Ｄは、置換若しくは非置換のベンゼン環または置換若しくは非置換の６員芳香族複素環であり；
   Ｕ^ＡおよびＵ^Ｂは、それぞれ独立して、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＮＲ^Ｂ−または−ＣＲ^ＣＲ^Ｄ−であり；
   Ｕは、それぞれ独立して、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＮＲ^Ｂ−または−ＣＲ^ＣＲ^Ｄ−であり；
   ｔは、１〜４の整数であり；
   Ｒ^Ｂは、それぞれ独立して、水素原子、置換若しくは非置換のアルキルまたは置換若しくは非置換のアルキルオキシであり；
   Ｒ^Ｃは、それぞれ独立して、水素原子、ハロゲン、置換若しくは非置換のアルキル、置換若しくは非置換のアルキルオキシであり；
   Ｒ^Ｄは、それぞれ独立して、水素原子、ハロゲン、置換若しくは非置換のアルキル、置換若しくは非置換のアルキルオキシであり；またはＲ^ＣおよびＲ^Ｄは一緒になって、オキソ、置換若しくは非置換の非芳香族炭素環または置換若しくは非置換の非芳香族複素環を形成してもよく；
   Ｂ^１は、置換若しくは非置換のフェニルまたは置換若しくは非置換の６員芳香族複素環式基であり；
   Ｂ^２は、置換若しくは非置換の芳香族炭素環式基、置換若しくは非置換の芳香族複素環式基、置換若しくは非置換の非芳香族炭素環式基または置換若しくは非置換の非芳香族複素環式基であり；
   Ｒ^２は、水素原子、シアノ、カルボキシ、ハロゲン、ヒドロキシ、置換若しくは非置換のアルキル、置換若しくは非置換のアルキルオキシ、置換若しくは非置換のアルキルオキシカルボニルまたは置換若しくは非置換のカルバモイル）で示される基であり；
   −Ｚ−は、−ＮＲ^５−、−Ｏ−または−ＣＲ^６Ｒ^７−であり；
   −Ｌ−は、−Ｃ（＝Ｘ）−または−ＳＯ_２−であり；
   ＝Ｘは、＝Ｏ、＝Ｓ、＝ＮＲ^１０または＝ＣＲ^１１Ｒ^１２であり；
   −Ｚ^Ａ−は、−ＮＲ^５Ａ−または−ＣＲ^６ＡＲ^７Ａ−であり；
   Ｒ^５およびＲ^５Ａは、それぞれ独立して、水素原子または置換若しくは非置換のアルキルであり；
   Ｒ^６、Ｒ^６Ａ、Ｒ^７およびＲ^７Ａは、それぞれ独立して、水素原子、ハロゲン、ヒドロキシ、置換若しくは非置換のアルキル、置換若しくは非置換のアルケニル、置換若しくは非置換のアルキニル、置換若しくは非置換のアルキルオキシまたは置換若しくは非置換のアミノであり；
   Ｒ^１０は、置換若しくは非置換のアルキル、置換若しくは非置換のアシル、置換若しくは非置換のアルキルオキシカルボニル、置換若しくは非置換のアルキルスルホニル、ニトロ、置換若しくは非置換のアルキルオキシまたはヒドロキシであり；
   Ｒ^１１は、水素原子、シアノ、置換若しくは非置換のアシル、置換若しくは非置換のアルキルオキシカルボニル、置換若しくは非置換のカルバモイル、置換若しくは非置換のアルキルスルホニルまたはニトロであり；
   Ｒ^１２は、水素原子またはシアノであり；
   環Ｃは、置換若しくは非置換の芳香族複素環、置換若しくは非置換の非芳香族複素環、置換若しくは非置換の芳香族炭素環または置換若しくは非置換の非芳香族炭素環である）で示される化合物（ただし、以下に示される化合物：
   

   

   
   を除く）またはその製薬上許容される塩、を含有する医薬組成物。
2. −Ｚ−が−ＮＲ^５−であり、−Ｌ−が−Ｃ（＝Ｏ）−であり、−Ｚ^Ａ−が−ＮＲ^５Ａ−である、請求項１記載の化合物またはその製薬上許容される塩、を含有する医薬組成物。
3. Ｒ^５およびＲ^５Ａが水素原子である、請求項１または２記載の化合物またはその製薬上許容される塩、を含有する医薬組成物。
4. 環Ｃが置換若しくは非置換の芳香族複素環または置換若しくは非置換の非芳香族複素環である、請求項１〜３のいずれかに記載の化合物またはその製薬上許容される塩、を含有する医薬組成物。
5. 環Ｃが、式：
   

   

   
   （式中、Ｒ^１３は、水素原子、置換若しくは非置換のアルキル、置換若しくは非置換の芳香族炭素環式基、置換若しくは非置換の芳香族複素環式基、置換若しくは非置換の非芳香族炭素環式基または置換若しくは非置換の非芳香族複素環式基であり；
   Ｒ^１４は、水素原子、ヒドロキシ、ハロゲン、シアノ、置換若しくは非置換のアルキル、置換若しくは非置換のアルケニル、置換若しくは非置換のアルキニル、置換若しくは非置換のアルキルオキシ、置換若しくは非置換のアルケニルオキシ、置換若しくは非置換のアルキニルオキシ、置換若しくは非置換のカルバモイル、置換若しくは非置換のアルキルスルホニル、置換若しくは非置換のアルケニルスルホニル、置換若しくは非置換のアルキニルスルホニル、置換若しくは非置換の芳香族炭素環スルホニル、置換若しくは非置換の非芳香族炭素環スルホニル、置換若しくは非置換の芳香族複素環スルホニル、置換若しくは非置換の非芳香族複素環スルホニル、置換若しくは非置換の芳香族炭素環カルボニルオキシ、置換若しくは非置換の非芳香族炭素環カルボニルオキシ、置換若しくは非置換の芳香族複素環カルボニルオキシ、置換若しくは非置換の非芳香族複素環カルボニルオキシ、置換若しくは非置換のアルキルオキシカルボニル、置換若しくは非置換のアルケニルオキシカルボニル、置換若しくは非置換のアルキニルオキシカルボニル、置換若しくは非置換の芳香族炭素環オキシ、置換若しくは非置換の非芳香族炭素環オキシ、置換若しくは非置換の芳香族複素環オキシ、置換若しくは非置換の非芳香族複素環オキシ、置換若しくは非置換の芳香族炭素環式基、置換若しくは非置換の芳香族複素環式基、置換若しくは非置換の非芳香族炭素環式基または置換若しくは非置換の非芳香族複素環式基であり；
   Ｒ^１５は、水素原子、ハロゲン、シアノ、置換若しくは非置換のアルキル、置換若しくは非置換のアルキルオキシ、置換若しくは非置換のアルケニルオキシ、置換若しくは非置換のアルキニルオキシ、置換若しくは非置換のアルキルオキシカルボニル、置換若しくは非置換のアルケニルオキシカルボニル、置換若しくは非置換のアルキニルオキシカルボニル、置換若しくは非置換のアルキルスルファニル、置換若しくは非置換のアルケニルスルファニル、置換若しくは非置換のアルキニルスルファニル、置換若しくは非置換のアミノ、置換若しくは非置換のカルバモイル、置換若しくは非置換の芳香族炭素環式基、置換若しくは非置換の芳香族複素環式基、置換若しくは非置換の非芳香族炭素環式基または置換若しくは非置換の非芳香族複素環式基であり；
   Ｒ^１４およびＲ^１５は一緒になって隣接する炭素原子と共に、置換若しくは非置換の芳香族炭素環、置換若しくは非置換の芳香族複素環、置換若しくは非置換の非芳香族炭素環または置換若しくは非置換の非芳香族複素環を形成していてもよい）で示される環である、請求項１〜４のいずれかに記載の化合物またはその製薬上許容される塩、を含有する医薬組成物。
6. Ｒ^１３が置換若しくは非置換の芳香族炭素環式基、置換若しくは非置換のアルキルまたは置換若しくは非置換の非芳香族炭素環式基であり、Ｒ^１４が置換若しくは非置換の芳香族複素環式基、置換若しくは非置換のアルキルオキシ、置換若しくは非置換の芳香族炭素環式基または置換若しくは非置換の非芳香族複素環式基であり、Ｒ^１５が水素原子または置換若しくは非置換のアルキルである、請求項５記載の化合物またはその製薬上許容される塩、を含有する医薬組成物。
7. 式：
   

   

   
   で示される基が、式：
   

   

   
   （式中、Ｒ^３、Ｒ^４、Ｒ^Ａ、Ｗ、Ｕ、ｔおよび環Ｄは、請求項１と同義）で示される基である、請求項１〜６のいずれかに記載の化合物またはその製薬上許容される塩、を含有する医薬組成物。
8. Ｗが窒素原子である、請求項７記載の化合物またはその製薬上許容される塩、を含有する医薬組成物。
9. Ｒ^Ａが置換若しくは非置換のアルキルである、請求項７または８記載の化合物またはその製薬上許容される塩、を含有する医薬組成物。
10. 式：
    

    

    
    で示される基が、式：
    

    

    
    （式中、Ｒ^３、Ｒ^４、Ｒ^Ａ’、Ｕ、ｔおよび環Ｄは、請求項１と同義）で示される基である、請求項１〜６のいずれかに記載の化合物またはその製薬上許容される塩、を含有する医薬組成物。
11. Ｒ^Ａ’が置換若しくは非置換のアルキルである、請求項１０記載の化合物またはその製薬上許容される塩、を含有する医薬組成物。
12. Ｕが−ＣＲ^ＣＲ^Ｄ−であり、ｔが１〜３の整数である、請求項７〜１１のいずれかに記載の化合物またはその製薬上許容される塩、を含有する医薬組成物。
13. Ｒ^Ｃがそれぞれ独立して、水素原子またはハロゲンであり、Ｒ^Ｄがそれぞれ独立して、水素原子またはハロゲンである、請求項１２記載の化合物またはその製薬上許容される塩、を含有する医薬組成物。
14. 環Ｄが置換若しくは非置換のベンゼン環または置換若しくは非置換のピリジン環である、請求項７〜１３のいずれかに記載の化合物またはその製薬上許容される塩、を含有する医薬組成物。
15. Ｒ^３およびＲ^４がそれぞれ水素原子である、請求項７〜１４のいずれかに記載の化合物またはその製薬上許容される塩、を含有する医薬組成物。
16. 式：
    

    

    
    で示される基が、式：
    

    

    
    （式中、Ｒ^２、Ｒ^３、Ｒ^４、Ｂ^１および環Ｄは、請求項１と同義）で示される基である、請求項１〜６のいずれかに記載の化合物またはその製薬上許容される塩、を含有する医薬組成物。
17. Ｂ^１が置換若しくは非置換のフェニルであり、Ｒ^２が水素原子であり、Ｒ^３が水素原子であり、Ｒ^４が水素原子であり、環Ｄが置換若しくは非置換のベンゼン環または置換若しくは非置換のピリジン環である、請求項１６記載の化合物またはその製薬上許容される塩、を含有する医薬組成物。
18. 式：
    

    

    
    で示される基が、式：
    

    

    
    （式中、Ｒ^２、Ｒ^３、Ｒ^４、Ｂ^２、Ｗ、Ｕ^Ａ、Ｕ^Ｂ、Ｕおよびｔは、請求項１と同義）で示される基である、請求項１〜６のいずれかに記載の化合物またはその製薬上許容される塩、を含有する医薬組成物。
19. Ｗが窒素原子であり、Ｕ^ＡおよびＵ^Ｂが、それぞれ−ＣＲ^ＣＲ^Ｄ−であり、ｔが２であり、Ｂ^２が置換若しくは非置換の芳香族炭素環式基または置換若しくは非置換の芳香族複素環式基であり、Ｒ^２が水素原子であり、Ｒ^３が水素原子であり、Ｒ^４が水素原子である、請求項１８に記載の化合物またはその製薬上許容される塩、を含有する医薬組成物。
20. Ｕ^Ａが−ＣＲ^ＣＨ−であり、Ｒ^Ｃが置換若しくは非置換のアルキルであり、Ｕ^Ｂが−ＣＨ_２−である、請求項１８または１９に記載の化合物またはその製薬上許容される塩、を含有する医薬組成物。
21. −Ｕ^Ａ−（Ｕ）ｔ−Ｕ^Ｂ−が−ＣＲ^ＣＨ−Ｏ−ＣＨ_２−ＣＨ_２−であり、Ｒ^ｃが置換若しくは非置換のアルキルである、請求項１８または１９記載の化合物またはその製薬上許容される塩、を含有する医薬組成物。
22. 化合物Ｉ−１２、Ｉ−１５、Ｉ−１７、Ｉ−２３、Ｉ−３０、Ｉ−３２、Ｉ−３４、Ｉ−３８、Ｉ−４３、Ｉ−５７、Ｉ−６３、Ｉ−６５、Ｉ−６６、Ｉ−７６、Ｉ−７８、Ｉ−１１５、Ｉ−１１９、Ｉ−１３８およびＩ−１４８からなる群から選択される、請求項１記載の化合物またはその製薬上許容される塩、を含有する医薬組成物。
23. ＴｒｋＡ阻害剤である、請求項１〜２２のいずれかに記載の医薬組成物。
24. 疼痛治療用および／または予防用の、請求項１〜２３のいずれかに記載の医薬組成物。