JP2020002201A - 成型体の製造方法 - Google Patents

Abstract

【課題】（メタ）アクリル酸金属塩を用いる従来の製法よりも、得られる成型体が機械強度、金属との密着性及び外観均一性においていずれもバランス良く優れた性能を発揮する成型体の製造方法を提供する。【解決手段】下記式（１）で表されるアニオンと金属含有カチオンとを含む塩、及び／又は、該アニオンを生じさせる化合物及び該金属含有カチオンを生じさせる化合物と、ラジカルにより構造中に架橋可能な活性点が生じる樹脂とを含む組成物を混練する工程と、該混練工程後の組成物にラジカルを発生させて架橋処理を施す工程と、該架橋処理前の組成物及び／又は架橋処理後の架橋体を成型する工程とを含むことを特徴とする成型体の製造方法。【選択図】なし

Description

本発明は、成型体の製造方法に関する。より詳しくは、金属イオン結合による架橋構造を有する樹脂の成型体の製造方法であり、得られる成型体が機械強度、金属との密着性及び外観均一性においていずれもバランス良く優れた性能を発揮する成型体の製造方法に関する。

原料ゴムや熱可塑性樹脂等の原料樹脂を架橋することにより、機械強度や耐熱性、耐久性、耐油性等に優れたゴムやプラスチック等の非熱可塑性樹脂が得られる。このようなゴムやプラスチック等を得る方法として、例えば、ラジカルで架橋可能な樹脂について、ラジカルを発生させて多官能ビニル化合物により架橋する方法が知られている。このような方法について、特許文献１には、特定の水素化ニトリルゴムを多官能（メタ）アクリレートを用いて架橋して機械強度や耐油性、耐摩耗性を向上させた高耐久性ゴムを製造する方法が開示されている。特許文献２には、未加硫フッ素ゴムコンパウンドをトリアリルイソシアヌレートを用いて、活性エネルギー線の照射と加熱により架橋してフッ素ゴム成形体を製造する方法が開示されている。特許文献３には、エチレン・極性モノマー共重合体をトリアリルイソシアヌレートを用いて架橋することでゲル分率を向上させて絶縁性能を向上した絶縁電力ケーブルを製造する方法が開示されている。特許文献４には、ポリオレフィンをマレイミド基を２つ以上有する化合物を用いて押出被覆後、架橋することで電力ケーブルの絶縁体層とする方法が開示されている。
また、得られる非熱可塑性樹脂の機械強度、耐油性、密着性等を向上させるために、多官能ビニル化合物の中でも不飽和金属塩を用いて原料樹脂を架橋する技術が開発されている。例えば、特許文献５には、天然ゴム、ブタジエンゴム、ＳＢＲ、ＥＰＤＭを（メタ）アクリル酸亜鉛を用いて架橋して耐熱性や耐久性を改良する方法が開示されている。特許文献６には、難接着性のシリコーンゴムを（メタ）アクリル酸亜鉛を用いて架橋することで接着性を向上する方法が開示されているが、より充分な接着性を発現するには（メタ）アクリル酸亜鉛と多官能ラジカル反応性化合物と併用して架橋する必要があることが示されている。特許文献７には、ブタジエンゴムをアクリル酸亜鉛とステアリン酸亜鉛を用いて架橋することで硬度を向上する方法が開示されているが、充分に良好な分散状態とするには被覆用ゴムで被覆したアクリル酸亜鉛とステアリン酸亜鉛を混合する必要があることが示されている。非特許文献１には、各種原料ゴムの主な特徴と用途や各種ゴム配合剤の目的と種類が開示され、更に、加硫後しばらく放置した加硫ゴム表面にはステアリン酸亜鉛等がブルームしていることがある旨が開示されている。
ところで、特許文献８、９には、特定の構造のジエン系カルボン酸イオン及びこれを含む組成物やこれらの硬化物が開示されている。

特開２００６−１３１７００号公報 特開２００４−１６０９０２号公報 特開２００６−３６８７６号公報 特開２００６−６６１１０号公報 特開２０１１−５７７７６号公報 特開２０１６−７９３４７号公報 特開２００５−１７９５２２号公報 特開２０１２−１０７２０８号公報 特開２０１３−２３１１６４号公報

日本ゴム協会誌，第８８巻，第６号，２０１５年，ｐｐ１９２−１９７

上述のとおり、成型体の製造方法として、例えば（メタ）アクリル酸金属塩を用いて種々の樹脂を架橋する方法が開示されているが、（メタ）アクリル酸金属塩を用いる従来の製法では、得られる成型体の機械強度、金属との密着性及び外観均一性のバランスにおいて充分ではなかった。

本発明は、上記現状に鑑みてなされたものであり、（メタ）アクリル酸金属塩を用いる従来の製法よりも、得られる成型体が機械強度、金属との密着性及び外観均一性においていずれもバランス良く優れた性能を発揮する成型体の製造方法を提供することを目的とする。

本発明者は、成型体の製造方法について種々検討したところ、特定の構造のアニオンと金属含有カチオンとを含む塩及び／又はこのような塩を生じさせる化合物とラジカルで架橋可能な樹脂とを含む組成物を混練する工程と、混練工程後の組成物にラジカルを発生させて架橋処理を施す工程と、架橋処理前の組成物及び／又は架橋処理後の架橋体を成型する工程とを行うことにより、（メタ）アクリル酸金属塩を用いる従来の製法よりも、得られる成型体が機械強度、金属との密着性及び外観均一性においていずれもバランス良く優れた性能を発揮することを見いだした。
具体的には、上記特定の構造の塩及び／又は塩を生じさせる化合物が組成物中の樹脂と混ざりやすく、反応性（重合活性）が高いことに起因して、樹脂を効率よく架橋することができることを見出した。更にこのような組成物を架橋処理することにより、上記塩が環化重合し、架橋構造中に環構造と金属イオン結合とを有するものとなるため、得られる成型体が機械強度、金属との密着性及び外観均一性においていずれもバランス良く優れた性能を発揮することを見いだした。これにより、上記課題をみごとに解決することができることに想到し、本発明に到達したものである。

すなわち本発明は、下記式（１）；

（式中、Ｒは水素原子、又は、メチル基を表す。Ｘ^１、Ｙ^１及びＺ^１は、同一若しくは異なって、置換基を有していてもよいメチレン基、又は、酸素原子を表す。ただし、Ｘ^１、Ｙ^１及びＺ^１のうち、少なくとも１つは、酸素原子である。点線及び実線で表される酸素原子−炭素原子−酸素原子の結合は、この結合中に含まれる２つの炭素原子−酸素原子結合が等価であり、酸素原子−炭素原子−酸素原子の結合全体で１価のアニオンとなっていることを表す。）で表されるアニオンと金属含有カチオンとを含む塩、及び／又は、該アニオンを生じさせる化合物及び該金属含有カチオンを生じさせる化合物と、ラジカルにより構造中に架橋可能な活性点が生じる樹脂とを含む組成物を混練する工程と、上記混練工程後の組成物にラジカルを発生させて架橋処理を施す工程と、上記架橋処理前の組成物及び／又は架橋処理後の架橋体を成型する工程とを含む成型体の製造方法である。

本発明はまた、下記式（１）；

（式中、Ｒは水素原子、又は、メチル基を表す。Ｘ^１、Ｙ^１及びＺ^１は、同一若しくは異なって、置換基を有していてもよいメチレン基、又は、酸素原子を表す。ただし、Ｘ^１、Ｙ^１及びＺ^１のうち、少なくとも１つは、酸素原子である。点線及び実線で表される酸素原子−炭素原子−酸素原子の結合は、この結合中に含まれる２つの炭素原子−酸素原子結合が等価であり、酸素原子−炭素原子−酸素原子の結合全体で１価のアニオンとなっていることを表す。）で表されるアニオンと金属含有カチオンとを含む塩、及び／又は、該アニオンを生じさせる化合物及び該金属含有カチオンを生じさせる化合物と、ラジカルにより構造中に架橋可能な活性点が生じる樹脂とを含む組成物でもある。

更に本発明は、下記式（２）及び／又は式（３）；

（式中、Ｒは水素原子、又は、メチル基を表す。Ｘ^１、Ｙ^１及びＺ^１は、同一若しくは異なって、置換基を有していてもよいメチレン基、又は、酸素原子を表す。ただし、Ｘ^１、Ｙ^１及びＺ^１のうち、少なくとも１つは、酸素原子である。Ｍは、金属含有カチオンを表す。）で表される構造単位と、ラジカルにより構造中に架橋可能な活性点が生じるものであって、式（２）及び（３）で表される構造単位を有しない樹脂に由来する構造単位とを有する成型体でもある。

本発明の成型体の製造方法は、上述の構成を含み、得られる成型体が機械強度、金属との密着性及び外観均一性においていずれもバランス良く優れた性能を発揮するため、種々の用途に好適に用いることができる。

図１は、式（１）で表されるアニオンが環化重合する機構の概略を示す概念図である。

以下に本発明の好ましい形態について具体的に説明するが、本発明は以下の記載のみに限定されるものではなく、本発明の要旨を変更しない範囲において適宜変更して適用することができる。なお、以下に記載される本発明の個々の好ましい形態を２又は３以上組み合わせた形態も、本発明の好ましい形態に該当する。

１、成型体の製造方法
本発明の成型体の製造方法は、上記式（１）で表されるアニオンと金属含有カチオンとを含む塩（以下、ジエン系カルボン酸塩ともいう。）、及び／又は、該アニオンを生じさせる化合物及び該金属含有カチオンを生じさせる化合物と、ラジカルにより構造中に架橋可能な活性点が生じる樹脂（以下、ラジカルで架橋可能な樹脂ともいう。）とを含む組成物を混練する工程と、混練工程後の組成物にラジカルを発生させて架橋処理を施す工程と、架橋処理前の組成物及び／又は架橋処理後の架橋体を成型する工程とを含む。
上記成型工程は、混練工程と同時、又は、混練工程の後で且つ架橋処理工程の前に行ってもよく、この場合、架橋処理前の組成物を成型することになる。また、上記成型工程は、混練工程の後に成型工程と架橋処理工程を同時、又は、架橋処理工程後に行ってもよい。成型工程と架橋処理工程を同時に行う場合、架橋処理前の組成物及び／又は架橋処理後の架橋体を成型することとなり、架橋処理工程後に成型工程を行う場合、架橋処理後の架橋体を成型することとなる。
本発明の成型体の製造方法は、これらの工程を含む限りその他の工程を含んでいてもよい。

≪混練工程≫
上記混練工程は、ジエン系カルボン酸塩、及び／又は、式（１）で表されるアニオンを生じさせる化合物及び金属含有カチオンを生じさせる化合物と、ラジカルで架橋可能な樹脂とを含む組成物（以下、原料組成物ともいう。）中の成分を、架橋反応を抑制しながら混合、分散させる限り特に制限されない。
上記混練工程は、上記組成物中にジエン系カルボン酸塩を含んでいても、式（１）で表されるアニオンを生じさせる化合物及び金属含有カチオンを生じさせる化合物を含んでいてもよく、該アニオンを生じさせる化合物及び金属含有カチオンを生じさせる化合物を含む場合、これらの化合物を含む組成物についての混錬、成型、架橋処理工程中に、式（１）で表されるアニオン及び金属含有カチオンが生じることになる。すなわち、上記組成物中にジエン系カルボン酸塩を含まない場合であっても、これらの化合物を含む組成物についての混錬、成型、架橋処理工程中に、式（１）で表されるアニオン及び金属含有カチオンが生じる限り、得られる成型体が式（１）で表されるアニオン及び金属含有カチオンに由来する金属架橋構造を有することとなり、本発明の効果を奏することとなる。上記組成物中にアニオンを生じさせる化合物及び金属含有カチオンを生じさせる化合物を含む場合、混錬、成型、架橋処理工程の中でも、混練工程中に式（１）で表されるアニオン及び金属含有カチオンが生じることが好ましい。

以下では上記混練工程における原料組成物に含まれる必須成分（ジエン系カルボン酸塩及び／又は、式（１）で表されるアニオンを生じさせる化合物及び金属含有カチオンを生じさせる化合物、並びに、ラジカルで架橋可能な樹脂）及び任意成分（ジエン系カルボン酸塩及びラジカルで架橋可能な樹脂以外のその他の成分）について説明する。

＜ジエン系カルボン酸塩、及び／又は、該アニオンを生じさせる化合物及び該金属含有カチオンを生じさせる化合物＞
（１）ジエン系カルボン酸塩におけるアニオン（ジエン系カルボン酸陰イオン）
本願のジエン系カルボン酸塩におけるアニオンは、式（１）で表される１，６−ジエン−２−カルボン酸陰イオンである。式（１）の置換基を有していてもよいメチレン基の置換基としては、炭素数１〜６のアルキル基等が挙げられる。置換基として好ましくは、メチル基である。上記メチレン基としては置換基を有しないものであることが好ましい。
上記ジエン系カルボン酸陰イオンは、上記式（１）に示すように、酸素原子−炭素原子−酸素原子の結合全体で１価の陰イオンとなっている構造をとる。

上記ジエン系カルボン酸陰イオンは、配位構造としては複数の異なる構造を取ってもよく、複数の配位構造の混合物であってもよい。
配位構造は、例えば、単座（ｕｎｉｄｅｎｔａｔｅ）配位子、二座（ｂｉｄｅｎｔａｔｅ）配位子、架橋性（ｂｒｉｄｇｉｎｇ）配位子などが挙げられるが、かかる例示に限定されるものではない。また、同一の化学式であれば、異なる配位構造のものを、同一のものとして扱ってもよい。
例えば、上記ジエン系カルボン酸陰イオンは、（１）で表されるジエン系カルボン酸陰イオン以外のその他の陰イオンと複合していてもよい。

上記ジエン系カルボン酸陰イオンは、図１に示すような環化重合が可能であるため、電離状態にかかわらず、極めて優れた重合性を有する。
よって、幅広い種類の樹脂を効率よく変性することが可能であり、得られる成型体は環構造を有することから、該環構造の適度な柔軟性に起因して、機械強度や密着性に優れるものとなる。

上記ジエン系カルボン酸陰イオンとして好ましくは、Ｘ^１＝Ｚ^１＝メチレン基、Ｙ^１＝酸素原子である場合であり、該ジエン系カルボン酸陰イオンが下記式（４）で表される２−（（メタ）アリルオキシメチル）アクリル酸の陰イオンである場合である。すなわち、ジエン系カルボン酸塩としては、２−（（メタ）アリルオキシメチル）アクリル酸塩である形態が好ましい。

式中、Ｒは、水素原子、またはメチル基を表す。点線および実線で表される酸素原子−炭素原子−酸素原子の結合は、この結合中に含まれる２つの炭素原子−酸素原子結合が等価であり、酸素原子−炭素原子−酸素原子の結合全体で１価の陰イオンとなっていることを表す。

（２）ジエン系カルボン酸塩における対カチオン
本願のジエン系カルボン酸塩におけるカチオン（以下、対カチオンともいう。）としては、金属含有カチオンであれば特に制限されず、金属原子と非金属原子の両方を含む原子団であっても、金属原子あるいは金属原子のみからなる原子団であってもよい。なお、上記対カチオンが、金属原子と非金属原子の両方を含む原子団である場合は、金属原子と非金属原子を含む原子団全体を１つのカチオンとして捉えてもよいし金属原子あるいは金属原子のみからなる原子団がカチオンであって、それ以外の部分は陰イオンと捉えてもよい。（例えば、［ＺｒＯ］^２＋はＺｒ^４＋とＯ^２−、［（Ｃ_２Ｈ_５Ｏ）Ａｌ］^２＋はＡｌ^３＋とＣ_２Ｈ_５Ｏ⁻、［（ｎ−Ｃ_４Ｈ_９）_２Ｓｎ−Ｏ−Ｓｎ（ｎ−Ｃ_４Ｈ_９）_２］^２＋はＳｎ^４＋２個とＯ^２−とｎ−Ｃ_４Ｈ_９ ⁻２個）。

上記対カチオンは、金属原子または金属原子を含む原子団であるカチオンであるため、上記ジエン系カルボン酸塩由来の構造を有する成型体にイオン結合に由来する特性だけでなく、金属そのものに由来する特性も付与されることがある。上記ジエン系カルボン酸塩における対カチオンは、好ましくは金属イオンである。

対カチオンに含まれる金属としては、アルカリ金属、アルカリ土類金属、周期表１２〜１６族の典型金属、周期表３〜１１族の遷移金属が挙げられる。架橋性の観点から、２価以上の価数を取れる金属が好ましい。金属の入手性や、合成の容易さを考慮すれば、更に好ましくは、マグネシウム、カルシウム、ストロンチウム、バリウム、スカンジウム、イットリウム、ランタノイド、チタン、ジルコニウム、バナジウム、ニオブ、タンタル、クロム、モリブデン、タングステン、マンガン、鉄、ルテニウム、コバルト、ロジウム、イリジウム、ニッケル、パラジウム、白金、銅、銀、金、亜鉛、アルミニウム、ガリウム、インジウム、ケイ素、ゲルマニウム、スズ、鉛、アンチモン、ビスマスが挙げられる。クロム、マンガン、鉄、コバルト等、遷移金属元素は着色する場合が多いため、できるだけ着色させたくない場合は、マグネシウム、カルシウム、ストロンチウム、バリウム、亜鉛、アルミニウム、ガリウム、インジウム、ゲルマニウム、スズ、鉛、アンチモン、ビスマス等の典型金属、イットリウム、ランタンなどの３族、チタン、ジルコニウム等の４族の遷移金属が一層好ましく使用できる。特に好ましくは、マグネシウム、カルシウム、ストロンチウム、バリウム、亜鉛、アルミニウム、ガリウム、インジウム、ゲルマニウム、スズ、鉛、アンチモン、ビスマス等の典型金属であり、生体安全性の観点から更に好ましくは、マグネシウム、カルシウム、亜鉛、アルミニウムであり、最も好ましくは亜鉛である。

（３）ジエン系カルボン酸塩
本発明のジエン系カルボン酸塩は、上述のカルボン酸陰イオンと上述の対カチオンとを含む。

上記ジエン系カルボン酸塩は、通常のカルボン酸陰イオンと同様に、水などの高極性溶媒中の場合は、溶媒分子で溶媒和され電離した状態（いわゆる電解質溶液となっている状態）、低極性溶媒や貧溶媒中、或いは無溶媒の場合は、対カチオンとイオン結合で結合した塩の状態で存在する。上記原料組成物において、当量のジエン系カルボン酸陰イオンと金属含有カチオンとが含まれ、全体として電気的に中性であれば、該ジエン系カルボン酸陰イオンと対カチオンとは結合していてもよいし、電離した状態であってもよい。

上記ジエン系カルボン酸塩において、アニオン部が陰イオンの状態で存在することを確認するには、通常のカルボン酸陰イオンの同定に適用される方法と同様の方法で確認できるが、各種スペクトルによる同定や、各種クロマトグラフィー技術を用いて分析することが好ましい。

上記ジエン系カルボン酸陰イオンは、原料組成物中に電解質液を含む場合、電解質液中で電離した状態であってもよいが、低極性溶媒や貧溶媒中、或いは無溶媒の場合、塩の状態で存在する傾向にある。

また、上記ジエン系カルボン酸塩は、ジエン系カルボン酸陰イオンと同様、同一の化学式で表される塩であれば、複数の異なる配位構造を含んでいてもよい。
上記ジエン系カルボン酸塩は、上述のジエン系カルボン酸陰イオンと上述の対カチオン以外の構造を含んでもよく、対カチオンの価数のうち少なくとも１価が上記ジエン系カルボン酸陰イオンで占められていればよく、残りの価数はジエン系カルボン酸以外のその他の陰イオンや中性分子型配位子等で占められてもよい。
また、対カチオンの価数や取り得る配位数に応じて、ただ１種類だけ含んでもよいし、異なる種類のものを複数種類、複数個持ってもよい。その他の陰イオンとしては、例えば、酸化物イオン（Ｏ^２−）、ハロゲンイオン、水酸化物イオン、アルコキシドイオン、ジエン系カルボン酸陰イオン以外のカルボン酸陰イオン、アセチルアセトナートイオン、炭酸イオン、炭酸水素イオン、硝酸イオン、亜硝酸イオン、硫酸イオン、亜硫酸イオン、亜硫酸水素イオン、リン酸イオン、ケイ酸イオン、ホウ酸イオンなどを挙げることができる。中性分子型配位子としては、水、アルコール類、アンモニア、アミン類、ホスフィン類、β−ケトエステル類、シクロペンタジエン類などを挙げることができる。
以上より、上記ジエン系カルボン酸塩は、ジエン系カルボン酸塩を構成する成分（カルボン酸陰イオン、対カチオン、その他陰イオン、中性子分子型配位子等）を表す化学式から表される。
上記ジエン系カルボン酸塩の性状は特に制限されず、液状であっても固体であってもよく、例えばジエン系カルボン酸塩の性状に応じて混練装置、条件を選択して樹脂等の成分となじませることが好ましい。
ジエン系カルボン酸陰イオンが多くの有機基を含む場合、常温で液状となる傾向にあるが、特に、ジエン系カルボン酸陰イオンが式（１）で表される構造において、Ｘ^１、Ｚ^１が同一、もしくは異なって置換基を有していてもよいメチレン基、Ｙ^１＝酸素原子である場合、常温で液状となる傾向にある。

また、ジエン系カルボン酸塩は、上述のとおり、対カチオンとして金属原子又は金属原子を含む原子団を有するため、該塩におけるジエン系カルボン酸陰イオンと金属イオンとの金属イオン結合に由来する性質に基づき、得られる成型体は、機械強度や密着性により優れるものとなる。

本発明のジエン系カルボン酸塩におけるジエン系カルボン酸陰イオンと対カチオンとの好ましい組合せとしては、式（４）で表される２−（（メタ）アリルオキシメチル）アクリル酸の陰イオンと金属イオンとの組合せである。

以下にジエン系カルボン酸塩の好ましい形態を、例を挙げて説明する。ここで、ジエン系カルボン酸陰イオンとしては、前述の通り、２−（（メタ）アリルオキシメチル）アクリル酸陰イオンが好ましく、２−（アリルオキシメチル）アクリル酸陰イオン（以下、ＡＯＭＡイオン）が最も好ましい形態である。よって、以下のジエン系カルボン酸塩の好ましい形態においては、ジエン系カルボン酸陰イオンとしてＡＯＭＡイオンを含む場合のみを列挙するが、かかる例示に限定されるわけではなく、他のジエン系カルボン酸陰イオンを含む場合、あるいは、複数種のジエン系カルボン酸陰イオンを含む場合を否定するものではない。また、以下の例示において、（ＣＨ_３）_４Ｎはテトラメチルアンモニウムイオン、（Ｐｈ）_４Ｐテトラフェニルホスホニウムイオンを表し、さらに、各イオンの正負および価数は省略する。

ＡＯＭＡイオンと１種類の対カチオンのみとからなる例をとしては、Ｌｉ（ＡＯＭＡ），Ｎａ（ＡＯＭＡ），Ｋ（ＡＯＭＡ），（ＣＨ_３）_４Ｎ（ＡＯＭＡ），（Ｐｈ）_４Ｐ（ＡＯＭＡ），Ｍｇ（ＡＯＭＡ）_２，Ｃａ（ＡＯＭＡ）_２，Ｓｒ（ＡＯＭＡ）_２，Ｂａ（ＡＯＭＡ）_２，Ｙ（ＡＯＭＡ）_３，Ｌａ（ＡＯＭＡ）_３，Ｔｉ（ＡＯＭＡ）_４，Ｚｒ（ＡＯＭＡ）_４，Ｃｒ（ＡＯＭＡ）_３，Ｍｎ（ＡＯＭＡ）_２，Ｆｅ（ＡＯＭＡ）_３，Ｃｏ（ＡＯＭＡ）_２，Ｎｉ（ＡＯＭＡ）_２，Ｃｕ（ＡＯＭＡ）_２，Ａｇ（ＡＯＭＡ），Ｚｎ（ＡＯＭＡ）_２，Ａｌ（ＡＯＭＡ）_３，Ｉｎ（ＡＯＭＡ）_３，Ｂｉ（ＡＯＭＡ）_３が挙げられる。

陰イオンとして、ＡＯＭＡイオン以外に酸化物陰イオンと複合している例としては、Ｚｒ（Ｏ）（ＡＯＭＡ）_２，Ｖ（Ｏ）（ＡＯＭＡ）_２等が挙げられる。

陰イオンとして、ＡＯＭＡイオン以外に、酢酸陰イオン（以下、Ａｃ）、アクリル酸陰イオン（以下、ＡＡ）、メタクリル酸陰イオン（以下、ＭＡＡ）等のカルボン酸陰イオンと複合している例としては、
Ｃａ（ＡＯＭＡ）_１（Ａｃ）_１，Ｂａ（ＡＯＭＡ）_１（ＡＡ）_１，Ｚｒ（ＡＯＭＡ）_２（ＭＡＡ）_２，Ｚｎ（ＡＯＭＡ）_１（ＡＡ）_１，Ｉｎ（ＡＯＭＡ）_２（ＭＡＡ）_１等が挙げられる。

陰イオンとして、ＡＯＭＡイオン以外にｎ−ブチル陰イオン（以下、ｎ−Ｃ_４Ｈ_９）などの炭素陰イオンと複合している例としては、（ｎ−Ｃ_４Ｈ_９）_２Ｓｎ（ＡＯＭＡ）_２，（ｎ−Ｃ_４Ｈ_９）_２Ｐｂ（ＡＯＭＡ）_２等が挙げられる。

陰イオンとして、ＡＯＭＡイオン以外に、酸化物陰イオン、炭素陰イオンと複合している例としては、（ＣＨ_３）_４Ｓｎ_２（Ｏ）（ＡＯＭＡ）_２等が挙げられる。

対カチオンとして、複数の種類が複合している例としては、（Ｌａ）_１（Ｃｕ）_２（ＡＯＭＡ）_７，（（Ｃ_２Ｈ_５）_３ＮＨ）_１（Ａｇ）_１（ＡＯＭＡ）_２等が挙げられる。
カルボン酸以外の陰イオン性配位子として、水酸化物イオン、あるいはアルコキシドイオン，ハロゲンイオンが含まれる例としては、
（Ｐｈ）_２Ｓｎ（ＯＨ）_１（ＡＯＭＡ）_１，（ｎ−Ｃ_４Ｈ_９Ｏ）_２Ｔｉ（ＡＯＭＡ）_２，Ｙ（Ｃｌ）（ＡＯＭＡ）_２等が挙げられる。
中性分子型配位子として、水、メタノール、２，２´−ビピリジン（以下、ｂｐｙ）が配位している例としては（Ｈ_２Ｏ）_２Ｚｎ（ＡＯＭＡ）_２，（Ｈ_２Ｏ）_１（ＣＨ_３ＯＨ）_１Ｚｎ（ＡＯＭＡ）_２，（ｂｐｙ）_２Ｓｍ（ＡＯＭＡ）_３等が挙げられる。
なお、水、メタノール、ジエチルエーテル、テトラヒドロフランなどのような溶媒として一般的に使用し得るものは、塩中に中性分子型配位子として含まれているのか、単に塩と残存溶媒との混合物であるのかを区別するものではない。

（４）ジエン系カルボン酸塩の製造方法
上記ジエン系カルボン酸塩の製造方法としては、（ｉ）ジエン系カルボン酸またはジエン系カルボン酸の無水物を、塩基性物質、及び／又は両性物質と反応させる方法（以下、直接法）、（ｉｉ）ジエン系カルボン酸エステルまたはジエン系カルボン酸ニトリルを塩基性物質で加水分解してジエン系カルボン酸塩とした後、必要に応じてさらに別のカチオンに交換する方法（以下、複分解法）等が挙げられる。また、上記ジエン系カルボン酸塩電解質液中で製造すると、電離した状態のジエン系カルボン酸陰イオンが得ることができ、非電解質液中で行ったり、電解質液中で行った後に溶媒除去、溶媒交換、抽出などの操作を行うと、ジエン系カルボン酸塩の状態を得ることができるが、上記ジエン系カルボン酸塩は、電離した状態で得ても、電離していない状態で得てもよい。
上記製造方法において、塩基性物質とは、水と反応させることで（加熱してもよい）水酸化物イオンを発生しうる物質を示し、例えば、アンモニア、アミン類などの有機塩基や、種々の金属単体、金属酸化物、金属水酸化物や金属アルコキシドが挙げられる。両性物質とは、酸とも塩基とも反応することができる物質を示し、例えば、アルミニウム、亜鉛、錫、鉛などの元素を含有する金属単体、金属酸化物、金属水酸化物や金属アルコキシドが挙げられる。
上記塩基性物質、両性物質に含まれる金属としては、上述の対カチオンに含まれる金属が好ましい。
上記直接法、複分解法の上記以外の点については、特許文献８に記載の方法を参照することができる。

（５）式（１）で表されるアニオンを生じさせる化合物及び金属含有カチオンを生じさせる化合物
上記混練工程における原料組成物は、式（１）で表されるアニオンを生じさせる化合物及び上記金属含有カチオンを生じさせる化合物を含んでいてもよい。
式（１）で表されるアニオンを生じさせる化合物としては、混錬、成型、架橋処理工程中に該アニオンを生じさせるものであれば特に制限されないが、式（１）で表されるアニオンをプロトン化させた酸等が挙げられる。
上記金属含有カチオンを生じさせる化合物としては、混錬、成型、架橋処理工程中に該カチオンを生じさせるものであれば特に制限されず、例えば、上記金属含有カチオンと式（１）で表されるアニオン以外のアニオンとを含む塩等が挙げられる。
上記金属含有カチオンの具体例及び好ましい例については、上記ジエン系カルボン酸塩において述べたとおりである。
上記式（１）で表されるアニオン以外のアニオンとしては、特に制限されないが、酸化物イオン（Ｏ^２−）、ハロゲンイオン、水酸化物イオン、アルコキシドイオン、ジエン系カルボン酸陰イオン以外のカルボン酸陰イオン、アセチルアセトナートイオン、炭酸イオン、炭酸水素イオン、硝酸イオン、亜硝酸イオン、硫酸イオン、亜硫酸イオン、亜硫酸水素イオン、リン酸イオン、ケイ酸イオン、ホウ酸イオンなどを挙げることができる。
式（１）で表されるアニオン以外のアニオンとして好ましくは酸化物イオン、水酸化物イオン、ジエン系カルボン酸陰イオン以外のカルボン酸陰イオン、炭酸イオン、炭酸水素イオンである。金属含有カチオンを生じさせる化合物として好ましくは、金属酸化物、金属水酸化物、金属アルコキシド、ジエン系カルボン酸陰イオン以外のカルボン酸金属塩、炭酸塩、炭酸水素塩であり、より好ましくは金属酸化物、金属水酸化物であり、特に好ましくは酸化亜鉛である。

（６）原料組成物中のジエン系カルボン酸塩、並びに、式（１）で表されるアニオンを生じさせる化合物及び金属含有カチオンを生じさせる化合物の含有割合
上記混練工程における原料組成物中のジエン系カルボン酸塩、並びに、式（１）で表されるアニオンを生じさせる化合物及び金属含有カチオンを生じさせる化合物の合計の含有割合としては、特に制限されないが、ラジカルで架橋可能な樹脂１００質量％に対して、好ましくは０．５質量％以上、より好ましくは１質量％以上、さらに好ましくは２質量％以上である。また７０質量％以下であることが好ましく、より好ましくは６０質量％以下、さらに好ましくは５０質量％以下であることが好ましい。上記好ましい範囲とすることにより、本発明の作用効果をより充分に発揮することが可能となる。
なお、上記割合を算出する際に、式（１）で表されるアニオンを生じさせる化合物及び金属含有カチオンを生じさせる化合物については、式（１）で表されるアニオン及び金属含有カチオンに換算して、上記割合を算出することとする。例えば、式（１）で表されるアニオンを生じさせる化合物及び金属含有カチオンを生じさせる化合物として、２−（アリルオキシメチル）アクリル酸と酸化亜鉛とを含む場合、２−（アリルオキシメチル）アクリル酸陰イオンと亜鉛イオンとして上記割合を算出する。
また、上記原料組成物がジエン系カルボン酸塩を含む形態は、本発明の好ましい実施形態であり、原料組成物中のジエン系カルボン酸塩の含有割合としては、特に制限されないが、ラジカルで架橋可能な樹脂１００質量％に対して、好ましくは０．５質量％以上、より好ましくは１質量％以上、さらに好ましくは２質量％以上である。また７０質量％以下であることが好ましく、より好ましくは６０質量％以下、さらに好ましくは５０質量％以下である。

＜ラジカルにより構造中に架橋可能な活性点が生じる樹脂＞
上記混練工程における原料組成物に含まれる樹脂は、ラジカルにより構造中に架橋可能な活性点が生じるものであり、架橋処理工程において架橋されるものである。上記樹脂としては、例えば、ゴムや熱可塑性樹脂（熱可塑性プラスチック、熱可塑性エラストマー）、ゴムにも熱可塑性樹脂にも分類され得るもの等が挙げられる。
上記ゴムは、未加硫の原料ゴムであっても、加硫ゴムであってもよい。
上記ゴムとして好ましくは未加硫の原料ゴムである。

原料ゴムとしては、例えばＪＩＳ Ｋ ６３９７：２００５に記載されたものが挙げられる。具体的には、Ｍグループ（ポリメチレンタイプの飽和主鎖をもつゴム）に属するものとして、アクリル酸エチル又は他のアクリル酸エステル類と加硫を可能にする少量の単量体とのゴム状共重合体（アクリルゴム：ＡＣＭ）、アクリル酸エチル又は他のアクリル酸エステル類とエチレンとのゴム状共重合体（ＡＥＭ）、アクリル酸エチル又は他のアクリル酸エステル類とアクリロニトリルとのゴム状共重合体（ＡＮＭ）、塩素化ポリエチレン（ＣＭ）、クロロスルホン化ポリエチレン（ＣＳＭ）、エチレンとブテンとのゴム状共重合体（ＥＢＭ）、エチレンとオクテンとのゴム状共重合体（ＥＯＭ）、エチレンとプロピレンとジエンとのゴム状共重合体（ＥＰＤＭ）、エチレンとプロピレンとのゴム状共重合体（ＥＰＭ）、エチレンと酢酸ビニルとのゴム状共重合体（ＥＶＭ）、四ふっ化エチレンとプロピレンとのゴム状共重合体（ＦＥＰＭ）、すべての側鎖がフルオロ及びパーフルオロアルキル又はパーフルオロアルコキシ基であるゴム状共重合体（ＦＦＫＭ）、フルオロ及びパーフルオロアルキル又はパーフルオロアルコキシ基を側鎖にもつゴム状共重合体（ＦＫＭ）、ポリイソブテン（ＩＭ）、主鎖が完全水素化されたアクリロニトリルとブタジエンとのゴム状共重合体（ＮＢＭ）、スチレンとエチレンとブテンとのゴム状共重合体（ＳＥＢＭ）、スチレンとエチレンとプロピレンとのゴム状共重合体（ＳＥＰＭ）；

Ｏグループ（主鎖に炭素及び酸素をもつゴム）に属するものとして、ポリクロロメチルオキシラン（エピクロロヒドリンゴム；ＣＯ）、エチレンオキシドとエピクロロヒドリンとのゴム状共重合体（ＥＣＯ）、エピクロロヒドリンとアリルグリシジルエーテルとのゴム状共重合体（ＧＣＯ）、エチレンオキシドとエピクロロヒドリンとアリルグリシジルエーテルとのゴム状共重合体（ＧＥＣＯ）、プロピレンオキシドとアリルグリシジルエーテルとのゴム状共重合体（ＧＰＯ）；

Ｑグループ（主鎖にけい素及び酸素をもつゴム）に属するものとして、ポリマー鎖にメチル置換基とフルオロ置換基とをもつシリコーンゴム（ＦＭＱ）、ポリマー鎖にメチル置換基とビニル置換基とフルオロ置換基とをもつシリコーンゴム（ＦＶＭＱ）、ポリマー鎖にメチル置換基をもつシリコーンゴム（ポリジメチルシロキサン：ＭＱ）、ポリマー鎖にメチル置換基とフェニル置換基とをもつシリコーンゴム（ＰＭＱ）、ポリマー鎖にメチル置換基とビニル置換基とフェニル置換基とをもつシリコーンゴム（ＰＶＭＱ）、ポリマー鎖にメチル置換基とビニル置換基とをもつシリコーンゴム（ＶＭＱ）；

Ｒグループ（主鎖に不飽和炭素結合をもつゴム）に属するものとして、アクリレートブタジエンゴム（ＡＢＲ）、ブタジエンゴム（ＢＲ）、クロロプレンゴム（ＣＲ）、エポキシ化天然ゴム（ＥＮＲ）、水素化されたアクリロニトリルとブタジエンとのゴム状共重合体（ＨＮＢＲ）、イソプレンゴム（合成天然ゴム：ＩＲ）、α−メチルスチレンとブタジエンとのゴム状共重合体（ＭＳＢＲ）、アクリロニトリルとブタジエンとイソプレンとのゴム状共重合体（ＮＢＩＲ）、アクリロニトリルとブタジエンとのゴム状共重合体（ニトリルゴム：ＮＢＲ）、アクリロニトリルとイソプレンとのゴム状共重合体（ＮＩＲ）、天然ゴム（ＮＲ）、ノルボルネンゴム（ＮＯＲ）、ビニルピリジンとブタジエンとのゴム状共重合体（ＰＢＲ）、ビニルピリジンとスチレンとブタジエンとのゴム状共重合体（ＰＳＢＲ）、スチレンとブタジエンとのゴム状共重合体（ＳＢＲ）、乳化重合で合成されたスチレンとブタジエンとのゴム状共重合体（Ｅ−ＳＢＲ）、溶液重合で合成されたスチレンとブタジエンとのゴム状共重合体（Ｓ−ＳＢＲ）、スチレンとイソプレンとブタジエンとのゴム状共重合体（ＳＩＢＲ）、カルボキシル化されたブタジエンゴム（ＸＢＲ）、カルボキシル化されたクロロプレンゴム（ＸＣＲ）、カルボキシル化されたアクリロニトリルとブタジエンとのゴム状共重合体（ＸＮＢＲ）、カルボキシル化されたスチレンとブタジエンとのゴム状共重合体（ＸＳＢＲ）；

Ｔグループ（主鎖に炭素，酸素及び硫黄をもつゴム）に属するものとして、ポリマー鎖のポリスルフィド結合の間に−ＣＨ_２−ＣＨ_２−Ｏ−ＣＨ_２−Ｏ−ＣＨ_２−ＣＨ_２−基か又はＲ基（Ｒは脂肪族炭化水素）のいずれかをもち、通常−ＣＨ_２−ＣＨ_２−基をもたないゴム（ＯＴ）、ポリマー鎖のポリスルフィド結合の間に−ＣＨ_２−ＣＨ_２−Ｏ−ＣＨ_２−Ｏ−ＣＨ_２−ＣＨ_２−基及び通常−ＣＨ_２−ＣＨ_２−基（場合によっては他の脂肪族基）をもつゴム（ＥＯＴ）；

Ｕグループ（主鎖に炭素、酸素及び窒素をもつゴム）に属するものとして、四ふっ化エチレンと三ふっ化ニトロソメタンとニトロソパーフルオロ酪酸とのゴム状共重合体（ＡＦＭＵ）、ポリエステルウレタン（ＡＵ）、ポリエーテルウレタン（ＥＵ）；
Ｚグループ（主鎖にりん及び窒素をもつゴム）に属するものとして、＝Ｎ−鎖をもち連鎖中のりん原子に結合したフルオロアルコキシ基をもつゴム（ＦＺ−Ｐ）、＝Ｎ−鎖をもち連鎖中のりん原子に結合したアリロキシ（フェノキシ及び置換フェノキシ）をもつゴム（ＰＺ−Ｐ）が挙げられる。

耐久性に優れた成型体が得られる理由から、上記原料ゴムとして好ましくは上記Ｍグループ（ポリメチレンタイプの飽和主鎖をもつゴム）、Ｒグループ（主鎖に不飽和炭素結合をもつゴム）、Ｑグループ（主鎖にけい素及び酸素をもつゴム）に属するものであり、より好ましくはＭグループ、Ｒグループに属するものである。
Ｍグループの中でも、ＡＣＭ、ＥＰＭ，ＥＰＤＭ，ＥＶＭ，ＦＥＰＭ，ＥＯＭ，ＥＢＭ等のオレフィン系ゴムが好ましく、ＥＰＭ、ＥＰＤＭがより好ましい。
Ｒグループの中でも、ＢＲ，ＩＲ，ＮＲ，ＮＢＲ，ＳＢＲ，ＨＮＢＲ等のブタジエン系ゴムあるいはイソプレン系ゴムが好ましく、ＨＮＢＲ、ＮＢＲがより好ましい。

上記熱可塑性プラスチックとしては、例えば、ＪＩＳ Ｋ ６８９９−１：２０１５に記載されているプラスチックの中で熱可塑性のものが挙げられる。具体的には、アクリロニトリル−ブタジエンプラスチック（ＡＢ）、アクリロニトリル−ブタジエン−アクリル酸エステルプラスチック（ＡＢＡＫ）アクリロニトリル−ブタジエン−スチレンプラスチック（ＡＢＳ）、アクリロニトリル−塩素化ポリエチレン−スチレン（ＡＣＳ）、アクリロニトリル−(エチレン−プロピレン−ジエン)−スチレンプラスチック（ＡＥＰＤＳ）、アクリロニトリル−メタクリル酸メチルプラスチック（ＡＭＭＡ）、アクリロニトリル−スチレン−アクリル酸エステルプラスチック（ＡＳＡ）、酢酸セルロース（ＣＡ）、 酢酸酪酸セルロース（ＣＡＢ）、酢酸プロピオン酸セルロース（ＣＡＰ）、カルボキシメチルセルロース（ＣＭＣ）、硝酸セルロース（ＣＮ）、シクロオレフィンコポリマー（ＣＯＣ）、プロピオン酸セルロース（ＣＰ）、三酢酸セルロース（ＣＴＡ）、エチレン−アクリル酸プラスチック（ＥＡＡ）エチレン−アクリル酸ブチルプラスチック（ＥＢＡＫ）、エチルセルロース（ＥＣ）、エチレン−アクリル酸エチルプラスチック（ＥＥＡＫ）、エチレン−メタクリル酸プラスチック（ＥＭＡ）、エチレン−プロピレンプラスチック（Ｅ／Ｐ）、エチレン−テトラフルオロエチレンプラスチック（ＥＴＦＥ）、エチレン−酢酸ビニルプラスチック（ＥＶＡＣ）、エチレン−ビニルアルコールプラスチック（ＥＶＯＨ）、ペルフルオロ(エチレン−プロピレン)プラスチック（ＦＥＰ）；

ポリ［（３−ヒドロキシブチレート）−ｃｏ−（３−ヒドロキシバレレート）］（ＨＢＶ）、液晶ポリマー（ＬＣＰ）、メタクリル酸メチル−アクリロニトリル−ブタジエン−スチレンプラスチック（ＭＡＢＳ）、メタクリル酸メチル−ブタジエン−スチレンプラスチック（ＭＢＳ）、メチルセルロース（ＭＣ）、α−メチルスチレン−アクリロニトリルプラスチック（ＭＳＡＮ）、ポリアミド（ＰＡ）、ポリアクリル酸（ＰＡＡ）、ポリアリールエーテルケトン（ＰＡＥＫ）、ポリアミドイミド（ＰＡＩ）、ポリアクリル酸エステル（ＰＡＫ）、ポリアクリロニトリル（ＰＡＮ） 、ポリアリレート（ＰＡＲ）、ポリアリールアミド（ＰＡＲＡ）、ポリブテン（ＰＢ）、ポリアクリル酸ブチル（ＰＢＡＫ）、 １，２− ポリブタジエン（ＰＢＤ）、ポリブチレンナフタレート（ＰＢＮ）、ポリブチレンスクシネート（ＰＢＳ）、ポリブチレンスクシネート＝アジペート（ＰＢＳＡ）、ポリブチレンテレフタレート（ＰＢＴ）、ポリカーボネート（ＰＣ）、ポリシクロヘキシレンジメチレン＝シクロヘキサンジカルボキシレート（ＰＣＣＥ）、ポリシクロオレフィン（ＰＣＯ）、ポリカプロラクトン（ＰＣＬ）、ポリシクロヘキシレンジメチレン＝テレフタレート（ＰＣＴ）、ポリクロロトリフルオロエチレン（ＰＣＴＦＥ）、；

ポリエチレン（ＰＥ）、 ポリエチレン，塩素化（ＰＥ−Ｃ）、ポリエチレン，高密度（ＰＥ−ＨＤ）、ポリエチレン，低密度（ＰＥ−ＬＤ）、ポリエチレン，直鎖状低密度（ＰＥ−ＬＬＤ）、ポリエチレン，中密度（ＰＥ−ＭＤ）、ポリエチレン，超高分子量（ＰＥ−ＵＨＭＷ）、ポリエチレン，極低密度（ＰＥ−ＶＬＤ）、ポリエステルカーボネート（ＰＥＣ）、ポリエーテルエーテルケトン（ＰＥＥＫ）、ポリエーテルエステル（ＰＥＥＳＴ）、ポリエーテルケトン（ＰＥＫ）、ポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）、ポリエチレンオキシド（ＰＥＯＸ）、ポリエチレンスクシネート（ＰＥＳ）、ポリエーテルスルホン（ＰＥＳＵ）、 ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリエーテルウレタン（ＰＥＵＲ）、ペルフルオロ(アルキルビニルエーテル)-テトラフルオロエチレンプラスチック（ＰＦＡ）、ポリヒドロキシアルカノエート（ＰＨＡ）、ポリ（３−ヒドロキシブチレート） （ＰＨＢ）、ポリイソブチレン（ＰＩＢ）、ポリケトン（ＰＫ）、ポリ乳酸（ＰＬＡ）、ポリメタクリルイミド（ＰＭＩ）、ポリメタクリル酸メチル（ＰＭＭＡ）、ポリ（Ｎ−メチルメタクリルイミド）（ＰＭＭＩ）、ポリ（４−メチルペンタ−１−エン）（ＰＭＰ）、ポリ（α−メチルスチレン）（ＰＭＳ）、ポリオキシメチレン，ポリアセタール，ポリホルムアルデヒド（ＰＯＭ）、ポリプロピレン（ＰＰ）、ポリプロピレン，衝撃性（ＰＰ−ＨＩ）、ポリプロピレン，発泡性（ＰＰ−Ｅ）、ポリフェニレンエーテル（ＰＰＥ）、ポリプロピレンオキシド（ＰＰＯＸ）、ポリフェニレンスルフィド（ＰＰＳ）、ポリフェニレンスルホン（ＰＰＳＵ）；

ポリスチレン（ＰＳ）、ポリスチレン，発泡性（ＰＳ−Ｅ）、ポリスチレン，耐衝撃性（ＰＳ−ＨＩ）、ポリスチレン，スルホン化（ＰＳ−Ｓ）、ポリスチレン，シンジオタクチック（ＰＳ−ＳＴ）、ポリスルホン（ＰＳＵ）、ポリテトラフルオロエチレン（ＰＴＦＥ）、ポリトリメチレンテレフタレート（ＰＴＴ）、ポリ酢酸ビニル（ＰＶＡＣ）、ポリビニルアルコール（ＰＶＡＬ）、ポリビニルブチラール（ＰＶＢ）、ポリ塩化ビニル（ＰＶＣ）、ポリ塩化ビニル，塩素化（ＰＶＣ−Ｃ）、ポリ塩化ビニル，無可塑（ＰＶＣ−Ｕ）、ポリ塩化ビニリデン（ＰＶＤＣ）、ポリフッ化ビニリデン（ＰＶＤＦ）、ポリフッ化ビニル（ＰＶＦ）、ポリビニルホルマール（ＰＶＦＭ）、ポリ（Ｎ−ビニルカルバゾール）（ＰＶＫ）、ポリ（Ｎ−ビニルピロリドン）（ＰＶＰ）、スチレン−アクリロニトリルプラスチック（ＳＡＮ）、スチレン−ブタジエンプラスチック（ＳＢ）、スチレン−無水マレイン酸プラスチック（ＳＭＡＨ）、スチレン−α−メチルスチレンプラスチック（ＳＭＳ）、塩化ビニル−エチレンプラスチック（ＶＣＥ）、塩化ビニル−エチレン−アクリル酸メチルプラスチック（ＶＣＥＭＡＫ）、塩化ビニル−エチレン−酢酸ビニルプラスチック（ＶＣＥＶＡＣ）、塩化ビニル−アクリル酸メチルプラスチック（ＶＣＭＡＫ）、塩化ビニル−メタクリル酸メチルプラスチック（ＶＣＭＭＡ）、塩化ビニル−アクリル酸オクチルプラスチック（ＶＣＯＡＫ）、塩化ビニル−酢酸ビニルプラスチック（ＶＣＶＡＣ）、塩化ビニル−塩化ビニリデンプラスチック（ＶＣＶＤＣ）等が挙げられる。

上記熱可塑性エラストマーとしては、例えば、ＪＩＳ Ｋ ６４１８：２００７に記載されてものが挙げられる。具体的には、アミド系熱可塑性エラストマー（ＴＰＡ：ハードブロックはアミド結合から、ソフトブロックはエーテル及び／又はエステル結合からできており、かつ、交互にハードセグメント及びソフトセグメントからなるブロック共重合体で構成するもの）；エステル系熱可塑性エラストマー（ＴＰＣ：主鎖のハードブロックはエステル結合から、ソフトブロックはエーテル及び／又はエステル結合からできており、かつ、交互にハードセグメント及びソフトセグメントからなるブロック共重合体で構成するもの）；オレフィン系熱可塑性エラストマー（ＴＰＯ：ポリオレフィンと通常のゴムとのブレンドからなり、かつ、ブレンド物のゴム相は架橋点がないか又はほとんどないもの）；スチレン系熱可塑性エラストマー（ＴＰＳ：スチレンと特定のジエンとからなる、少なくとも３ブロックの共重合体であり、かつ、両端の２個のブロック（ハードブロック）はポリスチレンであり、内部ブロック（一つ又は複数のソフトブロック）は、ポリジエン又は水素化ポリジエンからなるもの）；ウレタン系熱可塑性エラストマー（ＴＰＵ：ハードブロックはウレタン結合から、ソフトブロックはエーテル、エステル、又はカーボネート結合、若しくはそれらの混合からできており、かつ、交互にハードセグメント及びソフトセグメントからなるブロック共重合体で構成するもの）；熱可塑性ゴム架橋体（ＴＰＶ：熱可塑性樹脂と，通常のゴムのブレンド物であり、かつ、このゴムは，ブレンド又は混練過程で動的加硫によって架橋しているもの）；その他の熱可塑性エラストマー（ＴＰＺ：ＴＰＡ、ＴＰＣ、ＴＰＯ、ＴＰＳ、ＴＰＵ及びＴＰＶの分類に入らない組成又は構造のもの）が挙げられる。

上記熱可塑性樹脂の中でも、軟化点が低いものが好ましく、例えば、ＰＥ、Ｅ／Ｐ、ＥＶＡＣ、ＥＥＡＫなどのポリオレフィン系熱可塑性樹脂が好ましい。
熱可塑性樹脂の軟化点としては、作業性の観点から室温よりも高温が好ましく、より好ましくは３０℃以上であり、更に好ましくは４０℃以上であり、特に好ましくは５０℃以上である。また、上記軟化点は、架橋抑制の容易性の観点から、１５０℃以下が好ましく、より好ましくは１３０℃以下であり、さらに好ましくは１１０℃以下である。

上記ゴムや熱可塑性樹脂の具体例以外にも、例えば、フッ素ゴム；エチレンと上述した以外の（メタ）アクリル酸エステル、テトラシクロドデセン等のコモノマーとを共重合させたポリエチレン系共重合体、ポリブテン−１、ポリメチルペンテン等のその他のポリオレフィン樹脂；ヒドロキシ安息香酸ポリエステル等のその他のポリエステル樹脂；ポリメタクリルスチレン；等が挙げられる。
上記ラジカルで架橋可能な樹脂は２種以上のブレンドゴムやブレンド樹脂であってもよく、１種又は２種以上のゴム及び／又は樹脂を用いることができる。

上記原料組成物中のラジカルで架橋可能な樹脂の含有量は、原料組成物１００質量％に対して１０〜９９質量％であることが好ましい。より好ましくは２０〜９０質量％であり、更に好ましくは３０〜８０質量％である。

＜その他の成分（任意成分）＞
上記原料組成物は、ジエン系カルボン酸塩、及び／又は、式（１）で表されるアニオンを生じさせる化合物及び金属含有カチオンを生じさせる化合物並びにラジカルで架橋可能な樹脂に加え、必要に応じ、（１）ラジカル発生剤（ゴム分野では架橋剤と称されることが多い）、（２）ラジカル発生剤以外の架橋剤、架橋促進剤、架橋促進助剤、（３）ジエン系カルボン酸塩以外のビニル化合物（ゴム分野では共架橋剤と称されることが多い）、（４）充填剤（フィラー）、（５）軟化剤・可塑剤・溶剤等の加工助剤、（６）老化防止剤・酸化防止剤、光安定剤、紫外線吸収剤や（７）その他の添加剤等を含んでいてもよい。なお、これらは、それぞれ１種又は２種以上を用いることができる。

（１）ラジカル発生剤
上記原料組成物は、更にラジカル発生剤を含むことが好ましい。上記原料組成物が、ジエン系カルボン酸塩、及び／又は、式（１）で表されるアニオンを生じさせる化合物及び金属含有カチオンを生じさせる化合物並びにラジカルで架橋可能な樹脂と、ラジカル発生剤とを含む形態もまた、本発明の好ましい実施形態の１つである。
上記ラジカル発生剤（ゴム分野では架橋剤と称されることが多い）は、架橋処理工程において自己分解などにより、自らの構造中にラジカルを発生するものであれば特に制限されない。
本発明の成型体の製造方法において、原料組成物がラジカル発生剤を含む場合、ラジカル発生剤から発生したラジカルが、樹脂中から水素引抜くことで樹脂上にラジカルが生成し、続いてジエン系カルボン酸塩やその他の多官能ビニル化合物と反応することにより、及び／又は、樹脂中に生じたラジカルどうしがカップリングすること等により架橋構造を形成することが好ましい。

ラジカル発生剤としては例えば加熱によりラジカルを発生する熱ラジカル発生剤、活性エネルギー線の照射によりラジカルを発生する光ラジカル発生剤等が挙げられる。
上記熱ラジカル発生剤としては、混練温度よりも高い温度でラジカルを発生するものが好ましい。例えば、熱ラジカル発生剤の１分間半減期温度としては８０℃以上が好ましく、より好ましくは１００℃以上であり、さらに好ましくは１２０℃以上である。また、上記熱ラジカル発生剤の１分間半減期温度としては２７０℃以下が好ましく、より好ましくは２６０℃以下であり、さらに好ましくは２５０℃以下である。
上記熱ラジカル発生剤として具体的には有機過酸化物；硫黄；二塩化硫黄等のハロゲン化硫黄；アゾ化合物等が挙げられる。
これらのラジカル発生剤の１種を単独でまたは２種以上を併用して使用することができる。

上記有機過酸化物としては、例えば、メチルエチルケトンパーオキサイド、シクロヘキサノンパーオキサイド、メチルシクロヘキサノンパーオキサイド、メチルアセトアセテートパーオキサイド、アセチルアセテートパーオキサイド、１，１−ビス（ｔ−ヘキシルパーオキシ）−３，３，５−トリメチルシクロヘキサン、１，１−ビス（ｔ−ヘキシルパーオキシ）シクロヘキサン、１，１−ビス（ｔ−ブチルパーオキシ）−３，３，５−トリメチルシクロヘキサン、１，１−ビス（ｔ−ブチルパーオキシ）−２−メチルシクロヘキサン、１，１−ビス（ｔ−ブチルパーオキシ）シクロヘキサン、１，１−ビス（ｔ−ブチルパーオキシ）シクロドデカン、１，１−ビス（ｔ−ブチルパーオキシ）ブタン、２，２−ビス（４，４−ジ−ｔ−ブチルパーオキシシクロヘキシル）プロパン、ｐ−メンタンハイドロパーオキサイド、ジイソプロピルベンゼンハイドロパーオキサイド、１，１，３，３−テトラメチルブチルハイドロパーオキサイド、クメンハイドロパーオキサイド、ｔ−ヘキシルハイドロパーオキサイド、ｔ−ブチルハイドロパーオキサイド、α，α′−ビス（ｔ−ブチルパーオキシ）ジイソプロピルベンゼン、ジクミルパーオキサイド、２，５−ジメチル−２，５−ビス（ｔ−ブチルパーオキシ）ヘキサン、ｔ−ブチルクミルパーオキサイド、ジ−ｔ−ブチルパーオキサイド、２，５−ジメチル−２，５−ビス（ｔ−ブチルパーオキシ）ヘキシン−３、イソブチリルパーオキサイド、３，５，５−トリメチルヘキサノイルパーオキサイド、オクタノイルパーオキサイド、ラウロイルパーオキサイド、ステアロイルパーオキサイド、スクシン酸パーオキサイド、ｍ−トルオイルベンゾイルパーオキサイド、ベンゾイルパーオキサイド、ジ−ｎ−プロピルパーオキシジカーボネート、ジイソプロピルパーオキシジカーボネート、ビス（４−ｔ−ブチルシクロヘキシル）パーオキシジカーボネート、ジ−２−エトキシエチルパーオキシジカーボネート、ジ−２−エトキシヘキシルパーオキシジカーボネート、ジ−３−メトキシブチルパーオキシジカーボネート、ジ−ｓ−ブチルパーオキシジカーボネート、ジ（３−メチル−３−メトキシブチル）パーオキシジカーボネート、α，α′−ビス（ネオデカノイルパーオキシ）ジイソプロピルベンゼン、クミルパーオキシネオデカノエート、１，１，３，３，−テトラメチルブチルパーオキシネオデカノエート、１−シクロヘキシル−１−メチルエチルパーオキシネオデカノエート、ｔ−ヘキシルパーオキシネオデカノエート、ｔ−ブチルパーオキシネオデカノエート、ｔ−ヘキシルパーオキシピバレート、ｔ−ブチルパーオキシピバレート、１，１，３，３−テトラメチルブチルパーオキシ−２−エチルヘキサノエート、２，５−ジメチル−２，５−ビス（２−エチルヘキサノイルパーオキシ）ヘキサノエート、１−シクロヘキシル−１−メチルエチルパーオキシ−２−エチルヘキサノエート、ｔ−ヘキシルパーオキシ−２−エチルヘキサノエート、ｔ−ブチルパーオキシ−２−エチルヘキサノエート、ｔ−ヘキシルパーオキシイソプロピルモノカーボネート、ｔ−ブチルパーオキシイソブチレート、ｔ−ブチルパーオキシマレート、ｔ−ブチルパーオキシ−３，５，５−トリメチルヘキサノエート、ｔ−ブチルパーオキシラウレート、ｔ−ブチルパーオキシイソプロピルモノカーボネート、ｔ−ブチルパーオキシ−２−エチルヘキシルモノカーボネート、ｔ−ブチルパーオキシアセテート、ｔ−ブチルパーオキシ−ｍ−トルイルベンゾエート、ｔ−ブチルパーオキシベンゾエート、ビス（ｔ−ブチルパーオキシ）イソフタレート、２，５−ジメチル−２，５−ビス（ｍ−トルイルパーオキシ）ヘキサン、ｔ−ヘキシルパーオキシベンゾエート、２，５−ジメチル−２，５−ビス（ベンゾイルパーオキシ）ヘキサン、ｔ−ブチルパーオキシアリルモノカーボネート、ｔ−ブチルトリメチルシリルパーオキサイド、３，３′，４，４′−テトラ（ｔ−ブチルパーオキシカルボニル）ベンゾフェノン、２，３−ジメチル−２，３−ジフェニルブタン等が挙げられる。

上記アゾ化合物としては、２−フェニルアゾ−４−メトキシ−２，４−ジメチルバレロニトリル、１−［（１−シアノ−１−メチルエチル）アゾ］ホルムアミド、１，１′−アゾビス（シクロヘキサン−１−カルボニトリル）、２，２′−アゾビス（２−メチルブチロニトリル）、２，２′−アゾビスイソブチロニトリル、２，２′−アゾビス（２，４−ジメチルバレロニトリル）、２，２′−アゾビス（２，４−ジメチル−４−メトキシバレロニトリル）、２，２′−アゾビス（２−メチルプロピオンアミジン）ジヒドロクロリド、２，２′−アゾビス（２−メチル−Ｎ−フェニルプロピオンアミジン）ジヒドロクロリド、２，２′−アゾビス［Ｎ−（４−クロロフェニル）−２−メチルプロピオンアミジン］ジヒドロクロリド、２，２′−アゾビス［Ｎ−（４−ヒドロフェニル）−２−メチルプロピオンアミジン］ジヒドロクロリド、２，２′−アゾビス［２−メチル−Ｎ−（フェニルメチル）プロピオンアミジン］ジヒドロクロリド、２，２′−アゾビス［２−メチル−Ｎ−（２−プロペニル）プロピオンアミジン］ジヒドロクロリド、２，２′−アゾビス［Ｎ−（２−ヒドロキシエチル）−２−メチルプロピオンアミジン］ジヒドロクロリド、２，２′−アゾビス［２−（５−メチル−２−イミダゾリン−２−イル）プロパン］ジヒドロクロリド、２，２′−アゾビス［２−（２−イミダゾリン−２−イル）プロパン］ジヒドロクロリド、２，２′−アゾビス［２−（４，５，６，７−テトラヒドロ−１Ｈ−１，３−ジアゼピン−２−イル）プロパン］ジヒドロクロリド、２，２′−アゾビス［２−（３，４，５，６−テトラヒドロピリミジン−２−イル）プロパン］ジヒドロクロリド、２，２′−アゾビス［２−（５−ヒドロキシ−３，４，５，６−テトラヒドロピリミジン−２−イル）プロパン］ジヒドロクロリド、２，２′−アゾビス｛２−［１−（２−ヒドロキシエチル）−２−イミダゾリン−２−イル］プロパン｝ジヒドロクロリド、２，２′−アゾビス［２−（２−イミダゾリン−２−イル）プロパン］、２，２′−アゾビス｛２−メチル−Ｎ−［１，１−ビス（ヒドロキシメチル）−２−ヒドロキシエチル］プロピオンアミド｝、２，２′−アゾビス｛２−メチル−Ｎ−［１，１−ビス（ヒドロキシメチル）エチル］プロピオンアミド｝、２，２′−アゾビス［２−メチル−Ｎ−（２−ヒドロキシエチル）プロピオンアミド］、２，２′−アゾビス（２−メチルプロピオンアミド）、２，２′−アゾビス（２，４，４−トリメチルペンタン）、２，２′−アゾビス（２−メチルプロパン）、ジメチル−２，２−アゾビス（２−メチルプロピオネート）、４，４′−アゾビス（４−シアノペンタン酸）、２，２′−アゾビス［２−（ヒドロキシメチル）プロピオニトリル］等が挙げられる。

上記活性エネルギー線の照射によりラジカルを発生するラジカル発生剤としては、アルキルフェノン系化合物、ベンゾフェノン系化合物、ベンゾイン系化合物、チオキサントン系化合物、ハロメチル化トリアジン系化合物、ハロメチル化オキサジアゾール系化合物、ビイミダゾール系化合物、オキシムエステル系化合物、チタノセン系化合物、安息香酸エステル系化合物、アクリジン系化合物等が挙げられる。

上記アルキルフェノン系化合物としては、２，２−ジエトキシアセトフェノン、２，２−ジメトキシー２−フェニルアセトフェノン、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニルプロパン−１−オン、１−〔４−（２−ヒドロキシエトキシ）フェニル〕−２−ヒドロキシ−２−メチル−１−プロパン−１−オン、２−ヒドロキシ−１−｛４−〔４−（２−ヒドロキシ−２−メチルプロピオニル）ベンジル〕フェニル｝−２−メチルプロパン−１−オン、２−メチル−１−（４−メチルチオフェニル）−２−モルフォリノプロパン１−オン、２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルフォリノフェニル）−ブタノン−１、２−（ジメチルアミノ）−２−〔（４−メチルフェニル）メチル〕−１−〔４−（４−モルホリニル）フェニル〕−１−ブタノン等が挙げられる。

上記ベンゾフェノン系化合物としては、ベンゾフェノン、４，４’−ビス（ジメチルアミノ）ベンゾフェノン、２−カルボキシベンゾフェノン等が挙げられる。
上記ベンゾイン系化合物としては、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、ベンゾインイソブチルエーテ等が挙げられる。
上記チオキサントン系化合物としては、チオキサントン、２−エチルチオキサントン、２−イソプロピルチオキサントン、２−クロロチオキサントン、２，４−ジメチルチオキサントン、２，４−ジエチルチオキサントン等が挙げられる。
上記ハロメチル化トリアジン系化合物としては、２−（４−メトキシフェニル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−（４−メトキシナフチル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−（４−エトキシナフチル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−（４−エトキシカルボキニルナフチル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン等が挙げられる。

上記ハロメチル化オキサジアゾール系化合物としては、２−トリクロロメチル−５−（２’−ベンゾフリル）−１，３，４−オキサジアゾール、２−トリクロロメチル−５−〔β−（２’−ベンゾフリル）ビニル〕−１，３，４−オキサジアゾール、４−オキサジアゾール、２−トリクロロメチル−５−フリル−１，３，４−オキサジアゾール等が挙げられる。
上記ビイミダゾール系化合物としては、２，２’−ビス（２−クロロフェニル）−４，４’，５，５’−テトラフェニル−１，２’−ビイミダゾール、２，２’−ビス（２，４−ジクロロフェニル）−４，４’，５，５’ −テトラフェニル−１，２’−ビイミダゾール、２，２’−ビス（２，４，６−トリクロロフェニル）−４，４’，５，５’ −テトラフェニル−１，２’−ビイミダゾール等が挙げられる。
上記オキシムエステル系化合物としては、１，２−オクタンジオン，１−〔４−（フェニルチオ）−，２−（Ｏ−ベンゾイルオキシム）〕、エタノン，１−〔９−エチル−６−（２−メチルベンゾイル）−９Ｈ−カルバゾール−３−イル〕−，１−（Ｏ−アセチルオキシム）等が挙げられる。
上記チタノセン系化合物としては、ビス（η５−２，４−シクロペンタジエン−１−イル）−ビス（２，６−ジフルオロ−３−（１Ｈ−ピロール−１−イル）−フェニル）チタニウム等のチタノセン系化合物；ｐ−ジメチルアミノ安息香酸、ｐ−ジエチルアミノ安息香酸等の安息香酸エステル系化合物；９−フェニルアクリジン等が挙げられる。

上記ラジカル発生剤として好ましくは有機過酸化物、硫黄であり、より好ましくは有機過酸化物であり、有機過酸化物の中でも更に好ましくはジクミルパーオキサイド、１，１−ジ（ｔ−ヘキシルパーオキシ）シクロヘキサン、１，１−ジ（ｔ−ヘキシルパーオキシ）−３，３，５−トリメチルシクロヘキサン、１，１−ジ（ｔ−ブチルパーオキシ）シクロヘキサン、ｎ−ブチル−４，４−ジ−（ｔ−ブチルパーオキシ）バレレート、１，１−ジ（ｔ−ブチルパーオキシ）−２−メチルシクロヘキサン、２，５−ジメチル−２，５−ジ（ｔ−ブチルパーオキシ）ヘキサン、ジ（２−ｔ−ブチルパーオキシイソプロピル）ベンゼン、ｔ−ブチルクミルパーオキサイド、ジ−ｔ−ヘキシルパーオキサイド、ジ−ｔ−ブチルパーオキサイド、２，５−ジメチル−２，５−ジ（ｔ−ブチルパーオキシ）ヘキシン−３、ジ（３−メチルベンゾイル）パーオキサイド、ベンゾイル（３−メチルベンゾイル）パーオキサイド、ジベンゾイルパーオキサイド、ジ（４−メチルベンゾイル）パーオキサイド、２，５−ジ−メチル−２，５−ジ（ベンゾイルパーオキシ）ヘキサン、ｔ−ヘキシルパーオキシベンゾエート、ｔ−ブチルパーオキシベンゾエート、ジ（２−メチルベンゾイル）パーオキサイドであり、特に好ましくはジクミルパーオキサイドである。

上記原料組成物中のラジカル発生剤の含有割合としては、上記ラジカルで架橋可能な樹脂１００質量％に対して、０質量％以上、７０質量％以下であることが好ましい。
上記原料組成物中に有機過酸化物を含む場合の有機過酸化物の含有割合としては、上記ラジカルで架橋可能な樹脂１００質量％に対して、０質量％以上であることが好ましく、より好ましくは０．１質量％以上であり、さらに好ましくは０．５質量％以上である。また、上記原料組成物中の有機過酸化物の含有割合としては、上記ラジカルで架橋可能な樹脂１００％に対して、１５質量％以下であることが好ましい。より好ましくは１２質量％以下であり、更に好ましくは１０質量％以下である。

（２）ラジカル発生剤以外の架橋剤、架橋促進剤、架橋促進助剤
上記ラジカル発生剤以外の架橋剤としては、特に制限されないが、例えば、ｐ−キノンジオキシム、ｐ，ｐ’−ジベンゾイルキノンジオキシム、テトラクロロ−ｐ−ベンゾキノン、ポリ−ｐ−ジニトロベンゼン等のキノイド類；アルキルフェノール・ホルムアルデヒド樹脂、メラミンーホルムアルデヒド縮合物、トリアジン−ホルムアルデヒド縮合物、オクチルフェノール・ホルムアルデヒド樹脂、アルキルフェノール・スルフィド樹脂、ヘキサメトキシメチル・メラミン樹脂等の樹脂；ヘキサメチレンジアミンカルバメ−ト、ヘキサメチレンジアミン、トリエチレン・テトラミン、テトラエチレン・ペンタミン、４，４’−メチレンビス（シクロヘキシルアミン）カルバメ−ト、Ｎ，Ｎ’−ジシンナミリデン−１，６−ヘキサンジアミン、アンモニウムベンゾエ−ト等のアミン類；酸化亜鉛、酸化マグネシウム、酸化鉛、酸化カルシウム等の金属酸化物；２，４，６−トリメルカプト−ｓ−トリアジン、２−ジ−ｎ−ブチルアミノ−４，６−ジメルカプト−ｓ−トリアジン等のトリアジンチオール類；ビスフェノ−ルＡ、ビスフェノ−ルＡＦ、ハイドロキノン、ペンタエリトリト−ル等のポリオール類等が挙げられる。

上記架橋促進剤としては、通常用いられるものを使用することができ、具体的には、Ｎ−シクロヘキシル−２−ベンゾチアジルスルフェンアミド、Ｎ−ｔ−ブチル−２−ベンゾチアゾールスルフェンアミド、Ｎ−オキシエチレン−２−ベンゾチアゾールスルフェンアミド、Ｎ−オキシエチレン−２−ベンゾチアゾールスルフェンアミド、Ｎ，Ｎ’−ジイソプロピル−２−ベンゾチアゾールスルフェンアミドなどのスルフェンアミド系加硫促進剤；ジフェニルグアニジン、ジオルトトリルグアニジン、オルトトリルビグアニジンなどのグアニジン系加硫促進剤；チオウレア系加硫促進剤；チアゾール系加硫促進剤；チウラム系加硫促進剤；ジチオカルバミン酸系加硫促進剤；キサントゲン酸系加硫促進剤等が挙げられる。
上記架橋促進助剤としては、通常用いられるものを使用することができ、具体的には、酸化亜鉛、ステアリン酸、ステアリン酸亜鉛等が挙げられる

上記原料組成物中のラジカル発生剤以外の架橋剤、架橋促進剤及び架橋促進助剤の合計の含有割合としては、上記ラジカルで架橋可能な樹脂１００質量％に対して、０〜１５質量％であることが好ましい。より好ましくは１〜１０質量％である。

（３）ジエン系カルボン酸塩以外のビニル化合物
ジエン系カルボン酸塩以外のビニル化合物としては、特に制限されないが、アクリル酸、メタクリル酸、フマル酸、マレイン酸、クロトン酸等の不飽和カルボン酸及びこれらの亜鉛、マグネシウム等の金属塩；ジビニルベンゼンやジビニルナフタレン等の多官能芳香族ビニル化合物；トリアリルイソシアヌレート、トリメタリルイソシアヌレートなどのイソシアヌレート類；トリアリルシアヌレート等のシアヌレート類；Ｎ，Ｎ'‐ｍ‐フェニレンジマレイミド等のマレイミド類；ジアリルフタレート、ジアリルイソフタレート、ジアリルマレエート、ジアリルフマレート、ジアリルセバケート、トリアリルホスフェート等のポリアリルエステル；ジエチレングリコールビスアリルカーボネート；エチレングリコールジアリルエーテル、トリメチロールプロパンをアリル化してなるトリアリルエーテル、ペンタエリスリトールを部分的にアリル化してなるアリルエーテル等のポリアリルエーテル類；トリメチロールプロパントリメタクリレートやトリメチロールプロパントリアクリレート等の多官能（メタ）アクリレート化合物等が挙げられる。

上記原料組成物中のジエン系カルボン酸塩以外のビニル化合物の含有割合としては、上記ラジカルで架橋可能な樹脂１００質量％に対して、０〜５質量％であることが好ましい。より好ましくは０〜３質量％であり、最も好ましくは０〜１質量％である。

（４）充填剤（フィラー）
上記フィラーとしては、通常用いられるものを使用することができ、具体的には、カーボンブラック、シリカ等の補強性フィラー；炭酸カルシウム、ケイ酸カルシウム、酸化マグネシウム、酸化アルミニウム、硫酸バリウム、タルク、マイカ等の非補強性フィラーが挙げられる。
その他にも、石膏繊維、ガラスバルン、シリカバルン、ハイドロタルサイト、フライアシュバルン、シラスバルン、カーボン系バルン、アルミナ、硫酸バリウム、硫酸アルミニウム、硫酸カルシウム、二硫化モリブデン、ガラス繊維、カットファイバー、ロックファイバー、ミクロファイバー、炭素繊維、芳香族ポリアミド繊維、チタン酸カリウム繊維、再生ゴム、ゴム粉末、エボナイト粉末、セラック、木粉、セルロースナノファイバー等を挙げることができる。
上記原料組成物中のフィラーの含有割合としては、上記ラジカルで架橋可能な樹脂１００質量％に対して、０〜５００質量％であることが好ましい。より好ましくは５〜３００質量％であり、更に好ましくは３０〜２００質量％である。

（５）軟化剤・可塑剤・溶剤等の加工助剤
上記原料組成物中の成分の混合・分散や加工性を向上させるために、軟化剤・可塑剤・溶剤・加工助剤を用いてもよい。
上記軟化剤・可塑剤としては、通常用いられるものを使用することができ、具体的には、プロセスオイル、潤滑油、パラフィン、流動パラフィン、ワセリン等の石油系軟化剤、ヒマシ油、アマニ油、ナタネ油、ヤシ油等の脂肪油系軟化剤、トール油、サブ、蜜ロウ、カルナバロウ、ラノリン等のワックス類、リノール酸、パルミチン酸、ステアリン酸、ラウリン酸、フタル酸エステル系化合物、ポリエステル化合物、(メタ)アクリルオリゴマー等が挙げられる。
上記溶剤としては、通常用いられるものを使用することができ、具体的には、トルエン、キシレン、エチルベンゼン、シクロヘキサン、トリメチルシクロヘキサン、メチルイソブチルケトン等が挙げられる。
上記原料組成物中の軟化剤・可塑剤・溶剤等の加工助剤の合計の含有割合としては、上記ラジカルで架橋可能な樹脂１００質量％に対して、０〜１００質量％であることが好ましい。より好ましくは５〜５０質量％であり、更に好ましくは１０〜３０質量％である。

（６）老化防止剤・酸化防止剤、光安定剤、紫外線吸収剤
本発明の製造方法により得られる成型体の劣化等をより充分に防止するために、老化防止剤・酸化防止剤、光安定剤、紫外線吸収剤を用いてもよい。
老化防止剤・酸化防止剤として、例えば各種ヒンダードフェノール系やホスファイト系のものが挙げられる。
光安定剤としては、例えばヒンダードアミン系のものが挙げられる。
紫外線吸収剤としては例えばベンゾフエノン系、のベンゾトリアゾール系、サリチル酸エステル系のもの等が挙げられる。
上記原料組成物中の老化防止剤・酸化防止剤、光安定剤、紫外線吸収剤の合計の含有割合としては、上記ラジカルで架橋可能な樹脂１００質量％に対して、０〜１０質量％であることが好ましい。より好ましくは０〜５質量％であり、更に好ましくは０〜０．５３質量％である。
（７）その他の添加剤
その他の添加剤としては、通常用いられるものを使用することができ、例えば、しゃく解剤、滑材、スコーチ防止剤、着色剤、離型剤、分散剤、発泡剤、発泡助剤、難燃剤、粘着付与剤、接着増進剤、ワックス、カップリング剤、導電剤、受酸剤、上述のラジカルで架橋可能な樹脂以外の樹脂等が挙げられる。

＜混練条件＞
本発明の混練工程では、上記原料組成物中の全ての成分を一度に配合して混練してもよいし、２段階以上に分けて配合・混練を行ってもよい。また、樹脂の種類等に応じて、樹脂を素練りする工程を行ってもよい。
上記混練工程では、混練機として、原料の形態や得られる成型体の用途等に応じて混合ロール、ミキサー、ニーダー、押出機等を用いることが好ましい（用いてもよい）。
上記混練工程では、多量にラジカルが発生しない温度、すなわち、ラジカルで架橋可能な樹脂において架橋反応が生じないような温度で混練されることが好ましい。上記原料組成物がラジカル発生剤を含む場合には、ラジカル発生剤が反応しない温度で混練されることが好ましい。混練温度としては樹脂の種類（融点やムーニー粘度）に応じて設定すればよいが、２００℃以下であることがより好ましく、より好ましくは１８０℃以下であり、更に好ましくは１６０℃以下である。また、混練温度は通常３０℃以上であることが好ましく、さらに好ましくは５０℃以上である。
上記混練温度の制御は、例えば、混練する装置のロールの回転数、混練用の羽の回転数、冷却水などを制御することにより行うことが好ましい。

≪成型工程≫
本発明の成型体の製造方法は、架橋処理前の組成物及び／又は架橋処理後の架橋体を成型する工程を含む。
ここで、成型とは、形状を整えることを意味し、上記成型工程では、混練工程で得られた混練組成物を、例えば、シート状、フィルム状、ペレット状、層状、棒状、球状、粒子状、紛体状、各種用途の部材状、等の形状に加工することを意味する。

上記成型工程において上記組成物及び／又は架橋体の成型方法は特に制限されないが、例えば、押出、射出、加圧、圧延、離型処理、切断、切削、研磨することにより、所望の形状に加工してもよい。
上記成型には、例えば押出成型機、射出成型機、加圧成型機等の通常用いられる成型機や、金型等を用いてもよい。

≪架橋処理工程≫
本発明の成型体の製造方法は、上記混練工程後の組成物にラジカルを発生させて架橋処理を施す工程を含む。架橋処理を施す組成物は、混練工程後の組成物であれば、成型工程前の組成物であっても成型工程後の組成物であってもよい。
上記架橋処理工程において、ラジカルを発生させる方法は特に制限されず、例えば、加熱、活性エネルギー線の照射等が挙げられる。また、上記ラジカルの発生は、上述のラジカル発生剤を使用せずに、活性エネルギー線の照射のみで行ってもよい。混練工程においてラジカル発生剤を使用する場合、使用するラジカル発生剤に応じて、適宜選択すればよく、上記の方法を併用してもよい。

上記活性エネルギー線としては、通常用いられるものを使用することができ、ガンマ線、Ｘ線、紫外線、可視光線、赤外線等の電磁波や、電子線、中性子線、陽子線等の粒子線等が挙げられる。

上記架橋処理工程において、ラジカルを発生させる方法として好ましくは加熱による方法である。
上記加熱温度は、ラジカルを発生させる限り特に制限されないが、１００℃以上であることが好ましい。より好ましくは１２０℃以上であり、更に好ましくは１４０℃以上である。また、３００℃以下であることが好ましく、より好ましくは２６０℃以下である。
上記加熱による架橋処理は、１段階で行ってもよく、加熱温度を変化させて２段階以上に分けて行ってもよい。
上記加熱時間は、特に制限されないが、例えば、１０秒〜１００時間であることが好ましい。より好ましくは１分間〜２４時間である。
また、ＪＩＳ Ｋ ６３００−２：２００１に準拠して、９０％加硫時間を求め、これに基づき加熱時間を設定してもよい。

上記架橋処理工程は、上述のとおり、成型工程と同時に行われてもよく、例えば、成型工程において成型機により成型を行いながら加熱をすることにより、成型と架橋処理とを同時に行うことになる。

２、ジエン系カルボン酸塩、及び／又は、式（１）で表されるアニオンを生じさせる化合物及び金属含有カチオンを生じさせる化合物、並びに、ラジカルにより構造中に架橋可能な活性点が生じる樹脂を含む組成物
本発明はまた、上記式（１）で表されるアニオンと金属含有カチオンとを含む塩（ジエン系カルボン酸塩）、及び／又は、上記アニオンを生じさせる化合物及び上記金属含有カチオンを生じさせる化合物と、ラジカルにより構造中に架橋可能な活性点が生じる樹脂とを含む組成物でもある。
上記組成物は、ジエン系カルボン酸塩、上記アニオンを生じさせる化合物及び上記金属含有カチオンを生じさせる化合物、並びに、上記樹脂以外のその他の成分を含んでいてもよく、更にラジカル発生剤を含むことが好ましい。
上記組成物中の各成分については、成型体の製造方法の混練工程における原料組成物において述べたとおりである。また上記組成物中の各成分の好ましい割合についても、上記原料組成物中の各成分の好ましい割合と同様である。

３、成型体（架橋体）
本発明はまた、上記式（２）及び／又は式（３）で表される構造単位と、ラジカルにより構造中に架橋可能な活性点が生じるものであって、式（２）及び（３）で表される構造単位を有しない樹脂に由来する構造単位とを有する成型体（架橋体）でもある。
ここで架橋体とは、樹脂が三次元的に架橋されたゴム又は樹脂をいう。

上記式（２）及び／又は式（３）で表される構造単位は、式（１）で表されるアニオンと金属含有カチオンとを含む塩（ジエン系カルボン酸塩）に由来する構造単位であり、ジエン系カルボン酸塩が重合して形成される構造と同じ構造を有する構造単位である。
ただし、ジエン系カルボン酸塩に由来する構造単位は、実際にジエン系カルボン酸塩が重合して形成された構造単位に限定されない。ジエン系カルボン酸塩が重合して形成される構造と同じ構造を有すれば、他の方法により形成させた構造単位も、ジエン系カルボン酸塩に由来する構造単位に含まれる。
上記ジエン系カルボン酸塩は、成型体の製造方法において述べたとおりである。
例えば、上記ジエン系カルボン酸塩が２−（（メタ）アリルオキシメチル）アクリル酸塩である場合、該塩に由来する構造単位は、下記式（５）及び／又は（６）；

（式中、Ｍは、金属含有カチオンである。）で表される。

ラジカルにより構造中に架橋可能な活性点が生じるものであって、式（２）及び（３）で表される構造単位（上記ジエン系カルボン酸塩由来の構造単位）を有しない樹脂としては、成型体の製造方法において述べたゴムや熱可塑性樹脂等が挙げられる。具体例及び好ましい例は、上述のとおりである。

上記架橋体において、上記式（２）及び／又は式（３）で表される構造単位の割合は、ラジカルにより構造中に架橋可能な活性点が生じるものであって、式（２）及び（３）で表される構造単位（上記ジエン系カルボン酸塩由来の構造単位）を有しない樹脂に由来する構造単位１００質量％に対して、０．５質量％以上であることが好ましい。また、７０質量％以下であることが好ましい。これにより、上記架橋体の外観均一性、機械強度及び密着性がより向上することとなる。より好ましくは２質量％以上である。また、より好ましくは６０質量％以下であり、更に好ましくは５０質量％以下であり、一層好ましくは４０質量％以下であり、より一層好ましくは３０質量％以下であり、特に好ましくは２０質量％以下である。

上記架橋体は、式（２）及び／又は式（３）で表される構造単位及びラジカルにより構造中に架橋可能な活性点が生じるものであって、式（２）及び（３）で表される構造単位を有しない樹脂に由来する構造単位以外のその他の構造単位を有していてもよい。
その他の構造単位としては、特に制限されないが、例えば、上記成型体の製造方法におけるラジカル発生剤に由来する構造単位、ラジカル発生剤以外の架橋剤に由来する構造単位、ジエン系カルボン酸塩以外のビニル化合物に由来する構造単位等が挙げられる。

上記架橋体において、上記その他の構造単位の割合は、ラジカルにより構造中に架橋可能な活性点が生じるものであって、式（２）及び（３）で表される構造単位を有しない樹脂に由来する構造単位１００質量％に対して、０〜１０００質量％であることが好ましい。より好ましくは０〜５００質量％であり、更に好ましくは０〜１００質量％であり、一層好ましくは０〜５０質量％であり、特に好ましくは０〜１０質量％であり、最も好ましくは０質量％である。

上記架橋体の製造方法は、特に制限されないが、上述の成型体の製造方法により製造することが好ましい。すなわち、上記架橋体は、本発明の製造方法により得られた成型体であることが好ましい。

本発明の架橋体及び本発明の製造方法により得られた成型体は、種々の用途に用いることができ、例えば、電気絶縁材、封止材、シール材、防振ゴム、自動車等の構造部材、等の工業用途に好適に使用される。

以下に実施例を掲げて本発明を更に詳細に説明するが、本発明はこれらの実施例のみに限定されるものではない。なお、特に断りのない限り、「部」は「質量部」を、「％」は「質量％」を意味するものとする。

＜合成例１＞
２−（アリルオキシメチル）アクリル酸イオン（ＡＯＭＡ⁻）と亜鉛イオン（Ｚｎ^２＋）
との塩（２−（アリルオキシメチル）アクリル酸亜鉛：ＡＯＭＡ−Ｚｎ）
［２−（アリルオキシメチル）アクリル酸ナトリウム水溶液の合成］
反応液中のメタノール濃度が３％を超えないよう、計８４．０部の２−（アリルオキシメチル）アクリル酸メチル（ＡＯＭＡ−Ｍ）及び計２１．３部のＮａＯＨを１２回に分割して投入し、且つメタノールを除去しながら加水分解を行った。
攪拌装置、温度センサー、ガス導入管、トの字管、冷却管、留出受器を付した反応器に、イオン交換水１００．０部を仕込み、攪拌しながら、酸素／窒素混合ガス（酸素濃度７％、体積／体積）を通じつつ、オイルバスにより４０℃まで昇温させた。
（１分割目の加水分解）
ＡＯＭＡ−Ｍ７．０部、４８％ＮａＯＨ水溶液３．７部（ＡＯＭＡ−Ｍに対して０．９９当量）を順に投入し、５分間撹拌した後、反応器内の圧力が６．７ｋＰａになるよう徐々に減圧し、内温が４０〜４５℃になるようにオイルバスによる加熱を調整しながらメタノールを含む水を留出させた。留出受器の液量がおよそ２７部となったところで解圧し、オイルバスを下げ加熱を中断し、留出液量を秤量した。
（２分割目の加水分解）
４８％ＮａＯＨ水溶液３．７部を、１分割目の留出液量と同重量のＮａＯＨ水溶液となるようにイオン交換水で希釈した。ＡＯＭＡ−Ｍ７．０部、ＮａＯＨ水溶液を順に投入し、５分間撹拌した後、反応器内の圧力が６．７ｋＰａになるまで徐々に減圧し、内温が４０〜４５℃になるようにオイルバスによる加熱を調整しながらメタノールを含む水を留出させた。留出量がおよそ２７部となったところで解圧し、オイルバスを下げ加熱を中断し、留出液量を秤量した。
（３分割目〜１２分割目の加水分解）
２分割目の加水分解と同様に操作した。

［２−（アリルオキシメチル）アクリル酸の合成］
１２分割目の操作が終了した反応液を室温まで冷却し、水浴で冷却しながら硫酸２７．０部を１時間かけて滴下した。滴下終了後、分液漏斗に内容液を移し１時間静置した。下層の水層を捨て、上層の有機層（水を含む２−（アリルオキシメチル）アクリル酸）を分離した。
［２−（アリルオキシメチル）アクリル酸亜鉛の合成］
温度計を付した反応容器に、撹拌子、分離した有機層、酢酸エチル２２０．０部、６−ｔ−ブチル−２，４−キシレノール０．０５部を入れ、マグネチックスターラーで撹拌した。水浴で冷却しながら、内温が４０℃を超えないように酸化亜鉛粉末２１．７部を少しずつ添加した。全ての酸化亜鉛粉末を添加した後、２時間撹拌した。反応液を孔径０．４５μｍのフィルターで濾過し、濾液を攪拌装置、温度センサー、ガス導入管、トの字管、冷却管、留出受器を付した容器に入れ、内温が５０℃を超えないよう用に加熱しながら減圧し、酢酸エチルおよび水を留去した。粘稠な内容物を温かいうちにポリ容器に移し、８０．０部の２−（アリルオキシメチル）アクリル酸亜鉛を得た。

＜実施例１〜３、比較例１〜３＞
樹脂としてＥＰＤＭ（ＪＩＳ Ｋ ６３９７：２００５におけるＭグループ（ポリメチレンタイプの飽和主鎖を持つ原料ゴム）に分類される）を用い、下記のとおり架橋性樹脂組成物の調製、混練、成型、架橋処理を行い、成型体を得た。
（架橋性樹脂組成物の調製及び混錬）
原料の合計質量が６００部となるよう、表１に示す配合比で各原料を用意し、オープンロール機（高室鉄工所社製、ロールサイズ：直径８インチ×幅１８インチ）を用い、前ロール回転数１８ｒｐｍ、前後ロール回転比１：１．２５で混練した。

（加硫シート（成型体）の作製（成型及び架橋））
ＪＩＳ Ｋ ６３００−２：２００１「未加硫ゴム−物理特性−第２部：振動式加硫試験機による加硫特性の求め方」に準拠して、ダイ加硫試験Ａ法（試験温度：１６０℃，振幅角度：±１°，振動数：１．６７Ｈｚ）により、架橋性樹脂組成物の９０％加硫時間を求め、これを加硫時間とした。結果を表１に示す。
設定した加硫時間、１６０℃でプレス成型し、１５ｃｍ角、２ｍｍ厚の加硫シートを作製した。
得られた成型体の外観均一性、機械強度、密着性について下記の方法により評価した。

（外観均一性の評価）
加硫シートの表面を目視で観察し、下記基準で外観均一性を評価した。結果を表１に示す。
○：全面的に均一で光沢あり
△：表面に白化が見られるが、光沢は部分的に残っている
×：全面的に白化が見られ、光沢がない

（機械強度の評価）
・デュロメータ硬さ
ＪＩＳ Ｋ ６２５３−３：２０１２「加硫ゴム及び熱可塑性ゴム−硬さの求め方−第３部：デュロメータ硬さ」に準拠して、加硫シートを打抜き加工して得たダンベル状３号形のダンベル試験片を３枚積層し、タイプＡデュロメータを用いてデュロメータ硬さを測定した。結果を表１に示す。
・引張強さ，切断時伸び
ＪＩＳ Ｋ ６２５１：２０１０「加硫ゴム及び熱可塑性ゴム−引張特性の求め方」に準拠し、加硫シートを打抜き加工してダンベル状３号形のダンベル試験片を作製し、引張試験機を用いて引張強さ、切断時伸びを測定した。結果を表１に示す。
・引裂強さ
ＪＩＳ Ｋ ６２５２−１：２０１５「加硫ゴム及び熱可塑性ゴム−引裂強さの求め方−第１部：トラウザ形，アングル形及びクレセント形試験片を用いる方法」に準拠し、加硫シートを打抜き加工して切込みなしアングル形試験片を作製し、引張試験機を用いて引裂強さを測定した。結果を表１に示す。

（密着性の評価）
ＪＩＳ Ｋ ６２５６−２：２０１３「加硫ゴム及び熱可塑性ゴム−接着性の求め方−第２部：剛板との９０°剥離強さ」に準拠し、架橋性樹脂組成物を金属板に加硫接着（直接接着）させて試験片を作製し、引張試験機で剥離強さを測定した。加硫接着は、加硫シート作製と同じ温度・時間で行った。金属板としては、アルミ板（Ａ１０５０Ｐ）、ステンレス板（ＳＵＳ３０４）、圧延鋼板（ＳＳ４００）の３種類について評価を行った。結果を表１に示す。なお、加硫接着で金属板に全く密着せず、試験片を作製できなかったものについては「試験不能」とした。

＜実施例４〜５、比較例４〜７＞
樹脂としてＮＢＲ（ＪＩＳ Ｋ ６３９７：２００５におけるＲグループ（主鎖に不飽和炭素結合を持つ原料ゴム）に分類される）を用い、下記のとおり架橋性樹脂組成物の調製、混練、成型、架橋処理を行い、成型体を得た。
（架橋性樹脂組成物の調製及び混錬）
原料の合計質量が６００部となるよう、表２に示す配合比で各原料を用意した。ニーダー（ナニワ機械製造社製）を用い、架橋剤と共架橋剤と加硫促進剤以外の原料を前ブレード回転数５０ｒｐｍ、前後ブレード回転比１．６：１．３、缶体温度１１０℃、混練時間２０分の条件で混練した。次にオープンロール機（池田機械工業社製、ロールサイズ：直径６インチ×幅１５インチ）を用い、ニーダーで混練した樹脂組成物、架橋剤、共架橋剤を、前ロール回転数１９ｒｐｍ、前後ロール回転比１：１．２５で混練した。

（加硫シート（成型体）の作製（成型及び架橋）
上記実施例１〜３、比較例１〜３と同様にして加硫シートの作製を行った。
（物性評価）
得られた成型体について、上記実施例１〜３、比較例１〜３と同様にして外観均一性、機械強度、密着性を評価した。結果を表２に示す。

下記表１及び２に記載の各成分の詳細は、以下のとおりである。
樹脂：
エチレン・プロピレン・ジエンゴム（ＥＰＤＭ）、ＪＳＲ社製、ＥＰ２１（中ＥＮＢ）
中高ニトリルＮＢＲ（中高ＮＢＲ）、ＪＳＲ社製、Ｎ２３０Ｓ（中高ニトリル）
低ニトリルＮＢＲ（低ＮＢＲ）、ＪＳＲ社製、Ｎ２５０Ｓ（低ニトリル）
充填剤：
カーボンブラック（ＣＢ）、旭カーボン社製、ＨＡＦカーボンブラック
シリカ（ＳｉＯ_２）、東ソー・シリカ社製
軟化・可塑剤：
ナフテン系オイル（ＮＯＬ）、ＪＸＴＧエネルギー社製
フタル酸ジ２−エチルヘキシル（ＤＯＰ）、新日本理化社製
架橋剤：
ジクミルパーオキサイド（ＤＣＰＯ）、日油社製、パークミルＤ−４０
架橋促進・促進助剤：
酸化亜鉛ＩＩ種（ＺｎＯ）、ハクスイテック社製
ステアリン酸（ＳＴＡ）、日油社製
共架橋剤：
合成例１で得られたジエン系カルボン酸塩（ＡＯＭＡ−Ｚｎ）
アクリル酸亜鉛（ＺｎＤＡ）、日触テクノファインケミカル社製
メタクリル酸亜鉛（ＺｎＤＭＡ）、日触テクノファインケミカル社製

比較例１及び２と比較例３との対比から分かるとおり、ＺｎＤＡ及びＺｎＤＭＡを添加することにより硬さ、引張強さ、引裂強さが向上し、金属板に対するする密着性が発現する。しかしながら、ＺｎＤＡを添加することにより密着性が向上するものの切断時伸びの低下が著しく、硬脆い機械強度特性となるとともに外観均一性に著しく劣ることとなる。また、ＺｎＤＭＡを添加した場合、バランスの良い機械強度を示すが、密着性が充分とはいえない。これに対して、ＡＯＭＡ−Ｚｎを添加することにより、硬さと切断時伸びとを両立し、引裂強さも強く優れた機械強度を有するとともに、密着性、外観均一性も良好となる。特にＡＯＭＡ−Ｚｎ添加量を増やした実施例３においては、非常に高い密着性を発揮しながらも共架橋剤無添加（比較例３）と同等の高い伸びを示す。このような結果は、ＡＯＭＡ−Ｚｎが原料樹脂となじみやすく且つ重合活性が高く、また重合で主鎖に環構造が生じることによるものと考えられる。

比較例４及び５と比較例６との対比から、ＺｎＤＡおよびＺｎＤＭＡを添加することにより硬さと引張強さが向上するものの伸びが大幅に低下しており、特にＺｎＤＡでは伸びの低下が著しいことが分かる。これに対し、ＡＯＭＡ−Ｚｎ（実施例４）は、高い硬さと引張強さを示しながら、高い伸びも示し、バランスの良い機械強度を有する。さらに実施例５と比較例７との対比から、ニトリル含有量が低く低極性の原料樹脂（低ＮＢＲ）を用いた場合でも、ＡＯＭＡ−Ｚｎを添加することにより良好な外観一性を発揮することが分かる。このような結果は、ＡＯＭＡ−Ｚｎが低極性の原料樹脂にもよくなじむことを示唆していると考えられる。

Claims (7)

1. 下記式（１）；
   

   

   （式中、Ｒは水素原子、又は、メチル基を表す。Ｘ^１、Ｙ^１及びＺ^１は、同一若しくは異なって、置換基を有していてもよいメチレン基、又は、酸素原子を表す。ただし、Ｘ^１、Ｙ^１及びＺ^１のうち、少なくとも１つは、酸素原子である。点線及び実線で表される酸素原子−炭素原子−酸素原子の結合は、この結合中に含まれる２つの炭素原子−酸素原子結合が等価であり、酸素原子−炭素原子−酸素原子の結合全体で１価のアニオンとなっていることを表す。）で表されるアニオンと金属含有カチオンとを含む塩、及び／又は、該アニオンを生じさせる化合物及び該金属含有カチオンを生じさせる化合物と、ラジカルにより構造中に架橋可能な活性点が生じる樹脂とを含む組成物を混練する工程と、
   該混練工程後の組成物にラジカルを発生させて架橋処理を施す工程と、
   該架橋処理前の組成物及び／又は架橋処理後の架橋体を成型する工程とを含むことを特徴とする成型体の製造方法。
2. 前記組成物は、更にラジカル発生剤を含むものであることを特徴とする請求項１に記載の成型体の製造方法。
3. 前記樹脂は、ゴム及び／又は熱可塑性樹脂を含むものであることを特徴とする請求項１又は２に記載の成型体の製造方法。
4. 前記金属含有カチオンは、金属イオンであることを特徴とする請求項１〜３のいずれかに記載の成型体の製造方法。
5. 下記式（１）；
   

   

   （式中、Ｒは水素原子、又は、メチル基を表す。Ｘ^１、Ｙ^１及びＺ^１は、同一若しくは異なって、置換基を有していてもよいメチレン基、又は、酸素原子を表す。ただし、Ｘ^１、Ｙ^１及びＺ^１のうち、少なくとも１つは、酸素原子である。点線及び実線で表される酸素原子−炭素原子−酸素原子の結合は、この結合中に含まれる２つの炭素原子−酸素原子結合が等価であり、酸素原子−炭素原子−酸素原子の結合全体で１価のアニオンとなっていることを表す。）で表されるアニオンと金属含有カチオンとを含む塩、及び／又は、該アニオンを生じさせる化合物及び該金属含有カチオンを生じさせる化合物と、ラジカルにより構造中に架橋可能な活性点が生じる樹脂とを含むことを特徴とする組成物。
6. 前記組成物は、更にラジカル発生剤を含むものであることを特徴とする請求項５に記載の組成物。
7. 下記式（２）及び／又は式（３）；
   

   

   （式中、Ｒは水素原子、又は、メチル基を表す。Ｘ^１、Ｙ^１及びＺ^１は、同一若しくは異なって、置換基を有していてもよいメチレン基、又は、酸素原子を表す。ただし、Ｘ^１、Ｙ^１及びＺ^１のうち、少なくとも１つは、酸素原子である。Ｍは、金属含有カチオンを表す。）で表される構造単位と、ラジカルにより構造中に架橋可能な活性点が生じるものであって、式（２）及び（３）で表される構造単位を有しない樹脂に由来する構造単位とを有することを特徴とする成型体。
   

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